JPH1098112A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPH1098112A
JPH1098112A JP8249604A JP24960496A JPH1098112A JP H1098112 A JPH1098112 A JP H1098112A JP 8249604 A JP8249604 A JP 8249604A JP 24960496 A JP24960496 A JP 24960496A JP H1098112 A JPH1098112 A JP H1098112A
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JP
Japan
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current
semiconductor
integrated circuit
semiconductor element
electromagnetic wave
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JP8249604A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Nagashima
賢一 長島
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce unwanted radiated electromagnetic waves by providing an electromagnetic wave reducing means, for flowing a current reverse to a current flowing a current path in parallel to current paths in a semiconductor element near which this reducing means is disposed. SOLUTION: When an input signal voltage turns from L to H or vice versa, a pMOS101 and nMOS102 turn on transiently simultaneously to flow a through- current 107, causing an electromagnetic wave 108 to be radiated. A current 110 also flows at the same intensity as that of the through-current 107 flowing in a semiconductor element and in the reverse direction thereto in a conductor 109 disposed near this element, so as to flow the current 110 in reverse to the current 107, resulting in radiation of electromagnetic wave 111 which has the same intensity as that of the current 107 but reverse in phase thereto. Hence the electromagnetic waves 108 and 111 are mutually cancelled as being radiated nearby. This reduces the electromagnetic waves radiated from a semiconductor integrated circuit.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路に係
り、特に半導体集積回路から放射される電磁波を低減す
る技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a technique for reducing electromagnetic waves radiated from a semiconductor integrated circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】電磁波の放射を低減した半導体集積回路
としては、例えば特開平4−113653号に示される
ものがある。
2. Description of the Related Art A semiconductor integrated circuit with reduced electromagnetic wave radiation is disclosed, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-113653.

【0003】この従来技術は、半導体基板上に配置され
た半導体集積回路の出力トランジスタ回路と、この出力
トランジスタ回路の出力信号配線部と、出力トランジス
タ回路に接続された電源用配線部およびGND用配線部
とを含む半導体装置において、出力信号配線部の側に、
電源用配線部およびGND用配線部を、延長して並行に
配置せしめたものであり、信号の切り替え時に、それぞ
れ電源用配線と出力信号配線、出力信号配線とGND用
配線とから互いに打ち消し合う電磁波を発生させること
により、配線部からの電磁波を軽減している。
[0003] This prior art discloses an output transistor circuit of a semiconductor integrated circuit arranged on a semiconductor substrate, an output signal wiring portion of the output transistor circuit, a power supply wiring portion connected to the output transistor circuit, and a GND wiring. In the semiconductor device including the part, on the side of the output signal wiring part,
The power supply wiring section and the GND wiring section are extended and arranged in parallel. When signals are switched, electromagnetic waves cancel each other out of the power supply wiring and the output signal wiring, and the output signal wiring and the GND wiring. , Electromagnetic waves from the wiring section are reduced.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来技術
は、半導体集積回路に実装される半導体素子内部に流れ
る貫通電流が発する電磁波の低減について考慮されてい
ない。
However, the above prior art does not consider reduction of electromagnetic waves generated by a through current flowing inside a semiconductor element mounted on a semiconductor integrated circuit.

【0005】この問題点について図8を用いて詳述す
る。
[0005] This problem will be described in detail with reference to FIG.

【0006】半導体集積回路に使用される代表的な素子
CMOS(Complementary MOS)は、
入力信号電圧が”L”(”0”)レベル時にオンとなる
pチャネルMOSトランジスタ(以降pMOSと表記)
と、入力信号電圧が”H”(”1”)レベル時にオンと
なるnチャネルMOSトランジスタ(以降nMOSと表
記)を組み合わせて形成される。
A typical element CMOS (Complementary MOS) used for a semiconductor integrated circuit is as follows.
A p-channel MOS transistor that is turned on when the input signal voltage is at “L” (“0”) level (hereinafter referred to as pMOS)
And an n-channel MOS transistor (hereinafter referred to as nMOS) which is turned on when the input signal voltage is at the “H” (“1”) level.

【0007】図8は最も基本的なCMOSインバータを
示す。その動作を簡単に説明すれば、すなわち入力信号
端子1001に印加される入力信号電圧が”H”レベル
時にはpMOS1002がオフ、nMOS1003がオ
ンとなり、出力信号端子1004は大地(以降GNDと
表記)1006に電気的に接続され出力信号電圧は”
L”レベルとなる。逆に入力信号端子1001に印加さ
れる入力信号電圧が”L”レベル時にはpMOS100
2がオン、nMOS1003がオフとなり、出力信号端
子1004は電源(以降Vccと表記)1005と電気
的に接続され出力信号電圧は”H”レベルとなる、とい
うものである。
FIG. 8 shows the most basic CMOS inverter. In brief, the operation is as follows. When the input signal voltage applied to the input signal terminal 1001 is at “H” level, the pMOS 1002 is turned off, the nMOS 1003 is turned on, and the output signal terminal 1004 is connected to the ground (hereinafter referred to as GND) 1006. It is electrically connected and the output signal voltage is "
On the contrary, when the input signal voltage applied to the input signal terminal 1001 is at "L" level, the pMOS 100
2 is turned on, the nMOS 1003 is turned off, the output signal terminal 1004 is electrically connected to a power supply (hereinafter, referred to as Vcc) 1005, and the output signal voltage becomes "H" level.

【0008】このように、CMOSインバータでは、ど
ちらかのMOSトランジスタが絶えずオフになっている
ため、Vcc1005から電流が両MOSトランジスタ
を通ってGND1006に流れない。入力信号端子10
01の電圧の高低に応じてどちらかのMOSトランジス
タをオンにして、出力信号端子1004の電圧を切り替
えているだけである。
As described above, in the CMOS inverter, since one of the MOS transistors is constantly turned off, no current flows from Vcc 1005 to GND 1006 through both MOS transistors. Input signal terminal 10
It is merely that one of the MOS transistors is turned on in accordance with the level of the voltage 01, and the voltage of the output signal terminal 1004 is switched.

【0009】これらVccからGNDに電流が流れない
という特徴は、NAND回路、NOR回路等他のCMO
S素子でも同様である。従って、CMOS素子は消費電
力が極めて少ないという大きな利点をもっており、広く
半導体集積回路に利用されている。
A feature that no current flows from Vcc to GND is that other CMOs such as NAND circuits and NOR circuits
The same applies to the S element. Therefore, the CMOS device has a great advantage that power consumption is extremely small, and is widely used in semiconductor integrated circuits.

【0010】しかしながら、図8に示す従来の回路で
は、現実には入力信号端子1001の電圧レベルが”
H”レベルから”L”レベルへ、”L”レベルから”
H”レベルへと変化するスイッチング時に一瞬pMOS
1002とnMOS1003が同時にオンとなり、Vc
c1005からpMOS1002、nMOS1003を
介してGND1006へ貫通電流1007と呼ばれる電
流が流れる。
However, in the conventional circuit shown in FIG. 8, the voltage level of the input signal terminal 1001 is actually "
From "H" level to "L" level, from "L" level to "
When switching to H level, pMOS
1002 and nMOS 1003 are simultaneously turned on, and Vc
A current called through current 1007 flows from c1005 to GND 1006 via pMOS 1002 and nMOS 1003.

【0011】この貫通電流1007は、すなわち短絡電
流であるため大電流かつ高調波成分を多く含んでおり、
この貫通電流1007が流れることにより、不要かつ大
きな電磁波1008が放射されてしまうという問題があ
った。この貫通電流による電磁波は、電源用配線、GN
D用配線、及び半導体回路素子からそれぞれ発生する。
This through current 1007 is a short-circuit current, and therefore contains a large current and a large amount of harmonic components.
When the through current 1007 flows, there is a problem that unnecessary and large electromagnetic waves 1008 are radiated. The electromagnetic wave due to this through current is supplied to the power supply wiring, GN
It is generated from the D wiring and the semiconductor circuit element, respectively.

【0012】最近は半導体集積回路が動作するクロック
周波数は増大の一途であり、また日本におけるVCC
I、米国におけるFCCなど装置から放射される不要な
電磁波の強度を制限する規制が制定されており、これら
規制を満たすため電磁波発生源から放射される不要な電
磁波を低減することが重要である。
[0012] Recently, the clock frequency at which the semiconductor integrated circuit operates is steadily increasing.
I. In the United States, regulations have been established to limit the intensity of unnecessary electromagnetic waves radiated from devices such as the FCC, and it is important to reduce unnecessary electromagnetic waves radiated from an electromagnetic wave source in order to satisfy these regulations.

【0013】本発明の目的は、貫通電流により、半導体
集積回路から放射される不要な電磁波を低減する手段を
提供することにある。
An object of the present invention is to provide means for reducing unnecessary electromagnetic waves radiated from a semiconductor integrated circuit by a through current.

【0014】本発明の他の目的は、情報処理装置等の半
導体集積回路応用装置から放射される不要な電磁波を低
減する手段を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide means for reducing unnecessary electromagnetic waves radiated from a semiconductor integrated circuit application device such as an information processing device.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本願発明は、半導体素子と、該半導体素子が設置さ
れる半導体チップとからなる半導体集積回路において、
前記半導体素子の近傍に設置され、該半導体素子内部を
流れる電流経路と平行でかつ前記電流経路を流れる電流
と反対向きの電流を流す電磁波低減手段を備えた。
To achieve the above object, the present invention provides a semiconductor integrated circuit comprising a semiconductor element and a semiconductor chip on which the semiconductor element is mounted.
An electromagnetic wave reduction means is provided near the semiconductor element and flows a current parallel to a current path flowing inside the semiconductor element and in a direction opposite to the current flowing through the current path.

【0016】電磁波低減手段は、半導体チップ内部を流
れる貫通電流と電磁波低減手段内部を流れる電流とによ
り発生するそれぞれの電磁波が互いに干渉し合う距離
に、配置されることが望ましい。また、電磁波低減手段
と半導体チップとの間には他の信号配線を配置しないこ
とが望ましい。
The electromagnetic wave reducing means is preferably arranged at a distance where the electromagnetic waves generated by the through current flowing inside the semiconductor chip and the current flowing inside the electromagnetic wave reducing means interfere with each other. Further, it is desirable that no other signal wiring be arranged between the electromagnetic wave reducing means and the semiconductor chip.

【0017】単純な構成で目的を達成するために、前記
電磁波低減手段は、前記電流経路と平行かつ流れる電流
が反対向きの前記電源配線又は前記グランド配線のいず
れかで構成することとした。
In order to achieve the object with a simple configuration, the electromagnetic wave reducing means is configured by either the power supply wiring or the ground wiring in which the current flowing in parallel with the current path is in the opposite direction.

【0018】電磁波低減のための配線は、半導体チップ
の片側のみのパターン処理で済ませるために、前記半導
体素子が設置される面と同一の面の上に配置する。
The wiring for reducing the electromagnetic wave is arranged on the same surface as the surface on which the semiconductor element is installed, so that the pattern processing is performed only on one side of the semiconductor chip.

【0019】一方、電磁波低減のための配線を、前記半
導体チップの、前記半導体素子が設置される面と、異な
る面上に配置して、実装面積を確保することも望まし
い。
On the other hand, it is preferable that the wiring for reducing the electromagnetic wave is arranged on a different surface of the semiconductor chip from the surface on which the semiconductor element is provided, to secure a mounting area.

【0020】更に、前記電源配線と前記グランド配線と
を、互いに近傍かつ流れる電流が反対方向になるように
配置することにより、半導体素子、と電源及びグランド
配線とから発生する全ての電磁波を低減できるので、よ
り望ましい。
Further, by arranging the power supply wiring and the ground wiring so as to be close to each other and to allow currents to flow in opposite directions, all electromagnetic waves generated from the semiconductor element and the power and ground wirings can be reduced. So more desirable.

【0021】また、本願発明は、該半導体素子内部を流
れる貫通電流と反対向きの電流を流す電磁波低減手段を
備えたことでも達成され、それは、半導体素子と、該半
導体素子が設置される半導体チップと、前記半導体素子
と接続する電源供給配線及びグランド配線と、前記半導
体素子に備えられる前記電源供給配線との第1の接続部
と、前記半導体素子に備えられる前記グランド配線との
第2の接続部とを備えた半導体集積回路において、前記
電源供給配線又は前記グランド配線の一方を前記半導体
素子の近傍で、かつ前記第1及び第2の接続部で作られ
る線分と平行に配設することともいえる。
Further, the present invention is also achieved by providing an electromagnetic wave reducing means for flowing a current in a direction opposite to a through current flowing in the inside of the semiconductor element, which comprises a semiconductor element and a semiconductor chip on which the semiconductor element is mounted. A power supply wiring and a ground wiring connected to the semiconductor element; a first connection part to the power supply wiring provided in the semiconductor element; and a second connection to the ground wiring provided to the semiconductor element. The power supply wiring or the ground wiring is disposed in the vicinity of the semiconductor element and in parallel with a line segment formed by the first and second connection parts. It can also be said.

【0022】更に、本願発明は、同一の課題を解決する
ために、同一の入力信号に応じて出力信号を切り替える
少なくとも2個の半導体素子を、信号切り替え時に各々
の半導体素子に流れる電流が反対方向に流れる関係の近
傍の位置に配置することも開示する。
Further, in order to solve the same problem, according to the present invention, at least two semiconductor elements for switching an output signal in response to the same input signal are supplied with a current flowing through each semiconductor element in the opposite direction when the signal is switched. It is also disclosed that it is arranged at a position in the vicinity of the relationship that flows through.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面を用
いて詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0024】(実施例1)図1は本発明の一実施例であ
る半導体集積回路の概念を示す図である。
Embodiment 1 FIG. 1 is a diagram showing the concept of a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention.

【0025】図1において、101はpMOS、102
はnMOS、103は入力信号端子、104はVcc、
105はGND、106は出力信号端子を示す。107
は半導体素子を流れる貫通電流、108は貫通電流10
7により放射される電磁波、109は半導体素子の近傍
かつ半導体素子に流れる貫通電流107と反対の方向に
電流が流れるように配置された導体、110は導体10
9を流れる電流、111は電流110により放射される
電磁波を示す。点線で囲まれた部分(112)が、半導体
素子であり、113が電源配線との接続部、114がグ
ランド配線との接続部である。
In FIG. 1, reference numeral 101 denotes a pMOS;
Is an nMOS, 103 is an input signal terminal, 104 is Vcc,
105 is GND, and 106 is an output signal terminal. 107
Is a through current flowing through the semiconductor element, and 108 is a through current 10
7, a conductor disposed so as to allow current to flow in the vicinity of the semiconductor element and in a direction opposite to the through current 107 flowing through the semiconductor element;
A current flowing through 9, 111 indicates an electromagnetic wave radiated by the current 110. A portion (112) surrounded by a dotted line is a semiconductor element, 113 is a connection portion with a power supply wiring, and 114 is a connection portion with a ground wiring.

【0026】以下、図1を用いて、本実施例の半導体集
積回路の動作の概要について説明する。
The outline of the operation of the semiconductor integrated circuit of this embodiment will be described below with reference to FIG.

【0027】図1では、pMOS101とnMOS10
2が組み合わされてCMOSインバータが構成されてい
る。入力信号端子103に印加される入力信号電圧が”
L”レベルであった場合、pMOS101はオン、nM
OS102はオフとなり出力信号端子106はVcc1
04と電気的に接続され、出力信号端子106の電圧レ
ベルは”H”レベルとなる。この状態の時はnMOS1
02がオフとなっているため、Vcc104からGND
105へは電流が流れず電磁波108が放射されること
はない。
In FIG. 1, pMOS 101 and nMOS 10
2 are combined to form a CMOS inverter. The input signal voltage applied to the input signal terminal 103 is "
If it is at the L level, the pMOS 101 is turned on and nM
The OS 102 is turned off and the output signal terminal 106 is connected to Vcc1.
04, and the voltage level of the output signal terminal 106 becomes “H” level. In this state, nMOS1
02 is off, so GND from Vcc104
No current flows to 105 and no electromagnetic wave 108 is emitted.

【0028】逆に、入力信号端子103に印加される入
力信号電圧が”H”レベルであった場合、pMOS10
1はオフ、nMOS102はオンとなり出力信号端子1
06はGND105と電気的に接続され、出力信号端子
106の電圧レベルは”L”レベルとなる。この状態の
時はpMOS101がオフとなっているため、前述の場
合と同様にVcc104からGND105へは電流が流
れず電磁波108が放射されることはない。
Conversely, when the input signal voltage applied to the input signal terminal 103 is at "H" level, the pMOS 10
1 is off, the nMOS 102 is on, and the output signal terminal 1
Reference numeral 06 is electrically connected to the GND 105, and the voltage level of the output signal terminal 106 is at "L" level. In this state, since the pMOS 101 is off, no current flows from the Vcc 104 to the GND 105 as in the case described above, and the electromagnetic wave 108 is not emitted.

【0029】しかし、入力信号端子103に印加される
入力信号電圧が”L”レベルから”H”レベルへ、逆
に”H”レベルから”L”レベルへと変化した場合、p
MOS101とnMOS102が一瞬同時にオンとな
り、貫通電流107が流れる。この貫通電流107によ
り電磁波108が放射される。
However, when the input signal voltage applied to the input signal terminal 103 changes from "L" level to "H" level and conversely from "H" level to "L" level, p
The MOS 101 and the nMOS 102 are simultaneously turned on for a moment, and a through current 107 flows. An electromagnetic wave 108 is radiated by the through current 107.

【0030】また同時に、半導体素子の近傍かつ半導体
素子に流れる貫通電流107と反対方向に電流が流れる
ように配置した導体109にも、貫通電流107と同量
かつ反対方向の電流110が流れる。この電流110に
より電磁波111が放射される。電磁波108と電磁波
111は、同じ強度かつ位相が反対の電磁波であり、こ
れら電磁波108と電磁波111が近傍から放射される
ことにより、互いに打ち消し合う。
At the same time, a current 110 in the same amount and opposite direction as the through current 107 also flows through the conductor 109 arranged near the semiconductor element and in a direction opposite to the through current 107 flowing through the semiconductor element. This current 110 radiates an electromagnetic wave 111. The electromagnetic wave 108 and the electromagnetic wave 111 are electromagnetic waves having the same intensity and opposite phases, and cancel each other by radiating the electromagnetic wave 108 and the electromagnetic wave 111 from the vicinity.

【0031】このように本実施例においては、これら半
導体素子を具備する半導体集積回路から放射される電磁
波を低減させることができる。
As described above, in this embodiment, the electromagnetic waves radiated from the semiconductor integrated circuit having these semiconductor elements can be reduced.

【0032】導体109と半導体素子の間には他の配線
が入ってもある程度の効果はあるが、配線を近づける点
と電磁波低減の点から他の配線を配置しない方が望まし
い。
Although there is a certain effect even if another wiring is inserted between the conductor 109 and the semiconductor element, it is desirable not to dispose another wiring in terms of bringing the wiring closer and reducing electromagnetic waves.

【0033】また、本実施例はインバータに限らず、A
ND回路、OR回路、NAND回路、NOR回路等他の
論理回路にも適用可能である。
The present embodiment is not limited to the inverter, but
The present invention can be applied to other logic circuits such as an ND circuit, an OR circuit, a NAND circuit, and a NOR circuit.

【0034】(実施例2)図2は図1と異なる半導体素
子を用いた場合の一実施例である半導体集積回路の配線
構造の概略を示す図である。
(Embodiment 2) FIG. 2 is a diagram schematically showing a wiring structure of a semiconductor integrated circuit according to an embodiment in which a semiconductor element different from that of FIG. 1 is used.

【0035】図2において、201は入力信号端子、2
02はnpn型バイポーラ・トランジスタ(以降バイポ
ーラ・トランジスタと表記)、203はバイポーラ・ト
ランジスタ202のベース電流量を決定する抵抗、20
4はバイポーラ・トランジスタ202のコレクタ電流量
を決定する抵抗、205はVcc、206はGND、2
07は半導体素子を流れる電流、208は電流207に
より放射される電磁波、209は半導体素子の近傍かつ
半導体素子に流れる電流207と反対の方向に電流が流
れるように配置された導体、210は導体209を流れ
る電流、211は電流210により放射される電磁波、
212は出力信号端子、を示す。点線で囲まれた部分
(213)が半導体素子であり、214は電源配線との接
続部、215はグランド配線との接続部である。
In FIG. 2, reference numeral 201 denotes an input signal terminal;
02 is an npn-type bipolar transistor (hereinafter referred to as a bipolar transistor), 203 is a resistor for determining the base current amount of the bipolar transistor 202, 20
4 is a resistor that determines the amount of collector current of the bipolar transistor 202, 205 is Vcc, 206 is GND, 2
07 is a current flowing through the semiconductor element, 208 is an electromagnetic wave radiated by the current 207, 209 is a conductor arranged in the vicinity of the semiconductor element and in a direction opposite to the current 207 flowing through the semiconductor element, 210 is a conductor 209 Current, 211 is an electromagnetic wave radiated by the current 210,
Reference numeral 212 denotes an output signal terminal. Part enclosed by dotted line
Reference numeral (213) denotes a semiconductor element, 214 denotes a connection part to a power supply wiring, and 215 denotes a connection part to a ground wiring.

【0036】以下、図2を用いて、本実施例の半導体集
積回路の動作の概要について説明する。
The outline of the operation of the semiconductor integrated circuit of this embodiment will be described below with reference to FIG.

【0037】図2では、バイポーラ・トランジスタ20
2と抵抗203、抵抗204が組み合わされてバイポー
ラ・トランジスタを用いたインバータが構成されてい
る。入力信号端子201に印加される入力信号電圧が”
L”レベルであった場合、バイポーラ・トランジスタ2
02はオフとなり出力信号端子212はVcc205の
電圧が印加され、出力信号端子212の電圧レベルは”
H”レベルとなる。
In FIG. 2, the bipolar transistor 20
2 and a resistor 203 and a resistor 204 are combined to constitute an inverter using a bipolar transistor. When the input signal voltage applied to the input signal terminal 201 is “
If L level, the bipolar transistor 2
02 is turned off, the voltage of Vcc 205 is applied to the output signal terminal 212, and the voltage level of the output signal terminal 212 becomes "
H "level.

【0038】逆に、入力信号端子201に印加される入
力信号電圧が”H”レベルであった場合、バイポーラ・
トランジスタ202はオンとなり出力信号端子212は
GND206と電気的に接続され、出力信号端子212
の電圧レベルは”L”レベルとなる。この時、バイポー
ラ・トランジスタ202がオンになったことにより、V
cc205から抵抗204とバイポーラ・トランジスタ
202を介して、電流207が流れる。この電流207
により、電磁波208が放射される。
Conversely, when the input signal voltage applied to the input signal terminal 201 is at "H" level,
The transistor 202 is turned on, the output signal terminal 212 is electrically connected to the GND 206, and the output signal terminal 212
Becomes the "L" level. At this time, since the bipolar transistor 202 is turned on, V
A current 207 flows from the cc 205 via the resistor 204 and the bipolar transistor 202. This current 207
As a result, an electromagnetic wave 208 is emitted.

【0039】また同時に、半導体素子の近傍かつ半導体
素子に流れる電流207と反対方向に電流が流れるよう
に配置した導体209にも、電流207と同量かつ反対
方向の電流210が流れる。この電流210により電磁
波211が放射される。電磁波208と電磁波211は
位相が反対の電磁波であり、これら電磁波208と電磁
波211が近傍から放射されることにより、互いに打ち
消し合う。
At the same time, a current 210 in the same amount and opposite direction as the current 207 also flows through the conductor 209 arranged near the semiconductor element and in a direction opposite to the current 207 flowing through the semiconductor element. This current 210 radiates an electromagnetic wave 211. The electromagnetic wave 208 and the electromagnetic wave 211 are electromagnetic waves having opposite phases, and the electromagnetic wave 208 and the electromagnetic wave 211 cancel each other by being radiated from the vicinity.

【0040】このように本実施例においては、これら半
導体素子を具備する半導体集積回路から放射される電磁
波を低減させることができる。
As described above, in this embodiment, the electromagnetic waves radiated from the semiconductor integrated circuit having these semiconductor elements can be reduced.

【0041】前記、実施例1、本実施例2に示した実施
例は、CMOS素子、バイポーラ素子に限らず、Bi−
CMOS等その他の半導体素子にも適用可能である。
The embodiments shown in the first embodiment and the second embodiment are not limited to the CMOS device and the bipolar device, but may be a Bi-type device.
The present invention is also applicable to other semiconductor devices such as CMOS.

【0042】(実施例3)図3は本発明の一実施例であ
る半導体集積回路の概略を示す図である。図3の上側の
図は、本実施例における半導体集積回路を上方から見た
図を示している。また図3の下側の図は、本実施例にお
ける半導体集積回路のA−A'断面を示している。
(Embodiment 3) FIG. 3 is a diagram schematically showing a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention. The upper part of FIG. 3 shows the semiconductor integrated circuit according to the present embodiment as viewed from above. The lower part of FIG. 3 shows a section taken along the line AA ′ of the semiconductor integrated circuit according to the present embodiment.

【0043】図3において、301はVcc、302は
GND、303はn+ポリSiゲート、304はゲート
酸化膜、305は絶縁膜、306はフィールド酸化膜、
307はn+、308はn+、309はpウェル、31
0はp+、311はp+、312はn+ポリSiゲー
ト、313はゲート酸化膜、314はn基板である。
In FIG. 3, 301 is Vcc, 302 is GND, 303 is an n + poly Si gate, 304 is a gate oxide film, 305 is an insulating film, 306 is a field oxide film,
307 is n +, 308 is n +, 309 is p-well, 31
0 is p +, 311 is p +, 312 is n + poly Si gate, 313 is a gate oxide film, and 314 is an n substrate.

【0044】315はnMOS、316はpMOS、3
17はnMOS315のゲート端子、318はnMOS
315のソース端子、319はnMOS315のドレイ
ン端子、320はpMOS316のゲート端子、321
はpMOS316のソース端子、322はpMOS31
6のドレイン端子、323はnMOS315のゲート端
子317とpMOS316のゲート端子320への信号
を印加する入力信号端子、324はnMOS315とp
MOS316から構成されるCMOSインバータの出力
信号端子である。
315 is an nMOS, 316 is a pMOS, 3
17 is a gate terminal of the nMOS 315, and 318 is an nMOS
315 is a source terminal, 319 is a drain terminal of the nMOS 315, 320 is a gate terminal of the pMOS 316, 321
Is the source terminal of the pMOS 316 and 322 is the pMOS 31
6, an input signal terminal for applying a signal to the gate terminal 317 of the nMOS 315 and a gate terminal 320 of the pMOS 316;
This is an output signal terminal of a CMOS inverter composed of the MOS 316.

【0045】325はnMOS315とpMOS316
から構成されるCMOS素子に流れる貫通電流、326
は貫通電流325により放射される電磁波、327はn
MOS315とpMOS316から構成されるCMOS
素子の近傍かつCMOS素子に流れる貫通電流325と
反対の方向に電流が流れるように配置された導体、32
8は導体327を流れる貫通電流、329は貫通電流3
28により放射される電磁波を示す。
325 is an nMOS 315 and a pMOS 316
Current flowing through the CMOS device composed of
Is an electromagnetic wave radiated by the through current 325, and 327 is n
CMOS composed of MOS 315 and pMOS 316
32, a conductor arranged so that current flows in the vicinity of the device and in the direction opposite to the through current 325 flowing through the CMOS device;
8 is a through current flowing through the conductor 327, and 329 is a through current 3.
2 shows the electromagnetic waves emitted by 28.

【0046】以下、図3を用いて、本実施例の半導体集
積回路の動作の概要について説明する。
The outline of the operation of the semiconductor integrated circuit of this embodiment will be described below with reference to FIG.

【0047】図3では、n基板314上に、n+ポリS
iゲート303、ゲート酸化膜304、n+307と3
08、pウェル309、ゲート端子317、ソース端子
318、ドレイン端子319からnMOS315が形成
されている。同様に、n+ポリSiゲート312、ゲー
ト酸化膜313、p+310と311、ゲート端子32
0、ソース端子321、ドレイン端子322からpMO
S316が形成されている。これらnMOS315とp
MOS316が組み合わされて、n基板314上にCM
OSインバータを構成している。
In FIG. 3, n + poly S
i-gate 303, gate oxide film 304, n + 307 and 3
08, a p-well 309, a gate terminal 317, a source terminal 318, and a drain terminal 319 form an nMOS 315. Similarly, n + poly-Si gate 312, gate oxide film 313, p + 310 and 311 and gate terminal 32
0, pMO from source terminal 321 and drain terminal 322
S316 is formed. These nMOS 315 and p
The MOS 316 is combined to form a CM on the n-substrate 314.
It constitutes an OS inverter.

【0048】入力信号端子323に印加される信号電圧
が”L”レベルであった場合、その電圧はゲート端子3
20を介して、電気良導体であるn+ポリSiゲート3
12に印加される。この電圧により、絶縁体であるゲー
ト酸化膜313の下に正のホールが誘起され、n基板3
14のゲート酸化膜313直下部分がpチャネルに変化
し、反転層を形成する。従って、この反転層によりp+
310とp+311は電気的に導通し、pMOS316
はオンとなる。
When the signal voltage applied to the input signal terminal 323 is at "L" level, the voltage is applied to the gate terminal 3
20, an n + poly-Si gate 3 which is a good electrical conductor
12 is applied. This voltage induces a positive hole under the gate oxide film 313 which is an insulator, and
The portion immediately below the gate oxide film 314 changes to a p-channel, forming an inversion layer. Therefore, p +
310 and p + 311 are electrically connected, and the pMOS 316
Turns on.

【0049】nMOS315においても、入力信号端子
323に印加された”L”レベルの信号電圧がゲート端
子317を介して、電気良導体であるn+ポリSiゲー
ト303に印加される。この電圧により、絶縁体である
ゲート酸化膜304の下に正のホールが誘起されるが、
pウェル309のゲート酸化膜304直下部分がnチャ
ネルに反転するわけではないので、n+307とn+3
08は電気的に導通することはなく、nMOS315は
オフとなる。
Also in the nMOS 315, the “L” level signal voltage applied to the input signal terminal 323 is applied via the gate terminal 317 to the n + poly-Si gate 303, which is a good electrical conductor. This voltage induces a positive hole under the gate oxide film 304 which is an insulator.
Since the portion of the p well 309 immediately below the gate oxide film 304 is not inverted to the n channel, n + 307 and n + 3
08 does not conduct electrically, and the nMOS 315 is turned off.

【0050】従って、出力信号端子324には、Vcc
301の電圧がpMOS316を介して印加され、出力
信号は”H”レベルとなる。
Therefore, the output signal terminal 324 is connected to Vcc
The voltage of 301 is applied via the pMOS 316, and the output signal becomes “H” level.

【0051】逆に、入力信号端子323に印加される信
号電圧が”H”レベルであった場合、その電圧はゲート
端子317を介して、電気良導体であるn+ポリSiゲ
ート303に印加される。この電圧により、絶縁体であ
るゲート酸化膜304の下に負の電子が誘起され、pウ
ェル309のゲート酸化膜304直下部分がnチャネル
に変化し、反転層を形成する。従って、この反転層によ
りn+307とp+308は電気的に導通し、nMOS
315はオンとなる。
On the other hand, when the signal voltage applied to the input signal terminal 323 is at the “H” level, the voltage is applied to the n + poly-Si gate 303, which is an electric conductor, via the gate terminal 317. This voltage induces negative electrons below the gate oxide film 304 as an insulator, and the portion of the p-well 309 immediately below the gate oxide film 304 changes to an n-channel, forming an inversion layer. Therefore, the n + 307 and p + 308 are electrically conducted by the inversion layer, and the nMOS
315 is turned on.

【0052】pMOS316においても、入力信号端子
323に印加された”H”レベルの信号電圧がゲート端
子320を介して、電気良導体であるn+ポリSiゲー
ト312に印加される。この電圧により、絶縁体である
ゲート酸化膜313の下に負の電子が誘起されるが、n
基板314のゲート酸化膜313直下部分がpチャネル
に反転するわけではないので、p+310とp+311
は電気的に導通することはなく、pMOS316はオフ
となる。
Also in the pMOS 316, the “H” level signal voltage applied to the input signal terminal 323 is applied via the gate terminal 320 to the n + poly-Si gate 312 which is a good electrical conductor. This voltage induces negative electrons below the gate oxide film 313 which is an insulator.
Since the portion of the substrate 314 immediately below the gate oxide film 313 is not inverted to the p-channel, p + 310 and p + 311
Does not conduct, and the pMOS 316 is turned off.

【0053】従って、出力信号端子324には、GND
302の電圧がnMOS315を介して印加され、出力
信号は”L”レベルとなる。
Therefore, the output signal terminal 324 is connected to GND.
The voltage of 302 is applied via the nMOS 315, and the output signal becomes “L” level.

【0054】ここで、入力信号端子323に印加される
信号電圧が、”L”から”H”、または”H”から”
L”へと変化した場合、nMOS315とpMOS31
6は一瞬同時にオンとなり、Vcc301からpMOS
316、nMOS315を介して貫通電流325が流れ
る。この貫通電流325により、電磁波326が放射さ
れる。同時に、nMOS315とpMOS316から構
成されるCMOS素子の近傍かつCMOS素子に流れる
貫通電流325と反対の方向に電流が流れるように配置
された導体327にも、貫通電流325と同量かつ反対
方向の貫通電流328が流れる。この貫通電流328に
より電磁波329が放射される。
Here, the signal voltage applied to the input signal terminal 323 changes from "L" to "H" or from "H" to "H".
L ", the nMOS 315 and the pMOS 31
6 are turned on simultaneously for a moment, and pMOS
316, a through current 325 flows through the nMOS 315. This through current 325 radiates an electromagnetic wave 326. At the same time, a conductor 327 arranged near the CMOS device composed of the nMOS 315 and the pMOS 316 and arranged so that a current flows in the direction opposite to the through current 325 flowing in the CMOS device flows through the same amount and in the opposite direction as the through current 325. A current 328 flows. An electromagnetic wave 329 is emitted by this through current 328.

【0055】電磁波326と電磁波329は、同じ強度
かつ位相が反対の電磁波であり、これら電磁波326と
電磁波329が近傍から放射されることにより、互いに
打ち消し合う。
The electromagnetic wave 326 and the electromagnetic wave 329 are electromagnetic waves having the same intensity and opposite phases. The electromagnetic waves 326 and the electromagnetic waves 329 cancel each other by being radiated from the vicinity.

【0056】このように本実施例においては、これら半
導体素子を具備する半導体集積回路から放射される電磁
波を低減させることができる。また、本実施例はCMO
S素子に限らず、バイポーラ素子、Bi−CMOS素子
等他の半導体素子にも適用可能である。また、本実施例
はインバータに限らず、AND等他の論理回路にも適用
可能である。
As described above, in this embodiment, the electromagnetic waves radiated from the semiconductor integrated circuit having these semiconductor elements can be reduced. Further, the present embodiment is a CMO
The present invention can be applied to not only the S element but also other semiconductor elements such as a bipolar element and a Bi-CMOS element. In addition, the present embodiment is not limited to an inverter, and can be applied to other logic circuits such as an AND circuit.

【0057】(実施例4)図4は本発明の一実施例であ
る半導体集積回路の概略を示す図である。図4の上側の
図は、本実施例における半導体集積回路を上方から見た
図を示している。また図4の下側の図は、本実施例にお
ける半導体集積回路の断面を示している。
(Embodiment 4) FIG. 4 is a diagram schematically showing a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention. The upper part of FIG. 4 is a view of the semiconductor integrated circuit according to the present embodiment as viewed from above. The lower part of FIG. 4 shows a cross section of the semiconductor integrated circuit in this embodiment.

【0058】図3において、401はVcc、402は
GND、403はn+ポリSiゲート、404はゲート
酸化膜、405は絶縁膜、406はフィールド酸化膜、
407はn+、408はn+、409はpウェル、41
0はp+、411はp+、412はn+ポリSiゲー
ト、413はゲート酸化膜、414はn基板、415は
nMOS、416はpMOS、417はnMOS415
のゲート端子、418はnMOS415のソース端子、
419はnMOS415のドレイン端子、420はpM
OS416のゲート端子、421はpMOS416のソ
ース端子、422はpMOS416のドレイン端子、4
23はnMOS415のゲート端子417とpMOS4
16のゲート端子420への信号を印加する入力信号端
子、424はnMOS415とpMOS416から構成
されるCMOSインバータの出力信号端子、425はn
MOS415とpMOS416から構成されるCMOS
素子に流れる貫通電流、426は貫通電流425により
放射される電磁波、427はnMOS415とpMOS
416から構成されるCMOS素子の近傍かつn基板4
14の裏面側にCMOS素子に流れる貫通電流425と
反対の方向に電流が流れるように配置された導体、42
8は導体427を流れる貫通電流、429は貫通電流4
28により放射される電磁波、を示す。
In FIG. 3, 401 is Vcc, 402 is GND, 403 is an n + poly Si gate, 404 is a gate oxide film, 405 is an insulating film, 406 is a field oxide film,
407 is n +, 408 is n +, 409 is p-well, 41
0 is p +, 411 is p +, 412 is an n + poly Si gate, 413 is a gate oxide film, 414 is an n substrate, 415 is an nMOS, 416 is a pMOS, and 417 is an nMOS 415
418 is a source terminal of the nMOS 415,
419 is a drain terminal of the nMOS 415, and 420 is pM
A gate terminal of the OS 416; a source terminal 421 of the pMOS 416; a drain terminal 422 of the pMOS 416;
23 is a gate terminal 417 of the nMOS 415 and the pMOS 4
An input signal terminal 424 for applying a signal to the 16 gate terminals 420 is an output signal terminal of a CMOS inverter composed of an nMOS 415 and a pMOS 416.
CMOS composed of MOS 415 and pMOS 416
The through current 426 flowing through the element is an electromagnetic wave radiated by the through current 425, and 427 is an nMOS 415 and a pMOS
416 and n substrate 4
42, a conductor arranged on the back side of 14 so that a current flows in a direction opposite to a through current 425 flowing through the CMOS element;
8 is a through current flowing through the conductor 427, and 429 is a through current 4
FIG.

【0059】以下、図4を用いて、本実施例の半導体集
積回路の動作の概要について説明する。
The outline of the operation of the semiconductor integrated circuit of this embodiment will be described below with reference to FIG.

【0060】図4では、n基板414上に、n+ポリS
iゲート403、ゲート酸化膜404、n+407と4
08、pウェル409、ゲート端子417、ソース端子
418、ドレイン端子419からnMOS415が形成
されている。同様に、n+ポリSiゲート412、ゲー
ト酸化膜413、p+410と411、ゲート端子42
0、ソース端子421、ドレイン端子422からpMO
S416が形成されている。これらnMOS415とp
MOS416が組み合わされて、n基板414上にCM
OSインバータを構成している。
In FIG. 4, n + poly S
i-gate 403, gate oxide film 404, n + 407 and 4
08, a p well 409, a gate terminal 417, a source terminal 418, and a drain terminal 419 form an nMOS 415. Similarly, n + poly Si gate 412, gate oxide film 413, p + 410 and 411, gate terminal 42
0, pMO from source terminal 421, drain terminal 422
S416 is formed. These nMOS 415 and p
The MOS 416 is combined to form a CM on the n-substrate 414.
It constitutes an OS inverter.

【0061】入力信号端子423に印加される信号電圧
が”L”レベルであった場合、その電圧はゲート端子4
20を介して、電気良導体であるn+ポリSiゲート4
12に印加される。この電圧により、絶縁体であるゲー
ト酸化膜413の下に正のホールが誘起され、n基板4
14のゲート酸化膜413直下部分がpチャネルに変化
し、反転層を形成する。従って、この反転層によりp+
410とp+411は電気的に導通し、pMOS416
はオンとなる。
When the signal voltage applied to input signal terminal 423 is at "L" level, the voltage is applied to gate terminal 4
20, an n + poly-Si gate 4 which is a good electrical conductor
12 is applied. This voltage induces a positive hole under the gate oxide film 413 which is an insulator,
The portion immediately below the gate oxide film 413 changes to a p-channel, forming an inversion layer. Therefore, p +
410 and p + 411 conduct electrically, and the pMOS 416
Turns on.

【0062】nMOS415においても、入力信号端子
423に印加された”L”レベルの信号電圧がゲート端
子417を介して、電気良導体であるn+ポリSiゲー
ト403に印加される。この電圧により、絶縁体である
ゲート酸化膜404の下に正のホールが誘起されるが、
pウェル409のゲート酸化膜404直下部分がnチャ
ネルに反転するわけではないので、n+407とn+4
08は電気的に導通することはなく、nMOS415は
オフとなる。
Also in the nMOS 415, the “L” level signal voltage applied to the input signal terminal 423 is applied via the gate terminal 417 to the n + poly-Si gate 403 which is an electric conductor. This voltage induces a positive hole under the gate oxide film 404 which is an insulator.
Since the portion of the p well 409 immediately below the gate oxide film 404 is not inverted to the n channel, n + 407 and n + 4
08 does not conduct electrically, and the nMOS 415 is turned off.

【0063】従って、出力信号端子424には、Vcc
401の電圧がpMOS416を介して印加され、出力
信号は”H”レベルとなる。
Therefore, the output signal terminal 424 is connected to Vcc
The voltage of 401 is applied via the pMOS 416, and the output signal becomes “H” level.

【0064】逆に、入力信号端子423に印加される信
号電圧が”H”レベルであった場合、その電圧はゲート
端子417を介して、電気良導体であるn+ポリSiゲ
ート403に印加される。この電圧により、絶縁体であ
るゲート酸化膜404の下に負の電子が誘起され、pウ
ェル409のゲート酸化膜404直下部分がnチャネル
に変化し、反転層を形成する。従って、この反転層によ
りn+407とp+408は電気的に導通し、nMOS
415はオンとなる。
Conversely, when the signal voltage applied to the input signal terminal 423 is at the “H” level, the voltage is applied to the n + poly-Si gate 403 as a good conductor via the gate terminal 417. This voltage induces negative electrons below the gate oxide film 404, which is an insulator, and the portion of the p-well 409 immediately below the gate oxide film 404 changes to an n-channel to form an inversion layer. Therefore, the n + 407 and p + 408 are electrically conducted by this inversion layer, and the nMOS
415 is turned on.

【0065】pMOS416においても、入力信号端子
423に印加された”H”レベルの信号電圧がゲート端
子420を介して、電気良導体であるn+ポリSiゲー
ト412に印加される。この電圧により、絶縁体である
ゲート酸化膜413の下に負の電子が誘起されるが、n
基板414のゲート酸化膜413直下部分がpチャネル
に反転するわけではないので、p+410とp+411
は電気的に導通することはなく、pMOS416はオフ
となる。
Also in the pMOS 416, the “H” level signal voltage applied to the input signal terminal 423 is applied via the gate terminal 420 to the n + poly-Si gate 412 which is an electric conductor. This voltage induces negative electrons below the gate oxide film 413 which is an insulator.
Since the portion of the substrate 414 immediately below the gate oxide film 413 is not inverted to the p-channel, p + 410 and p + 411
Does not conduct, and the pMOS 416 is turned off.

【0066】従って、出力信号端子424には、GND
402の電圧がnMOS415を介して印加され、出力
信号は”L”レベルとなる。
Therefore, the output signal terminal 424 is connected to GND
The voltage of 402 is applied via the nMOS 415, and the output signal becomes “L” level.

【0067】ここで、入力信号端子423に印加される
信号電圧が、”L”から”H”、または”H”から”
L”へと変化した場合、nMOS415とpMOS41
6は一瞬同時にオンとなり、Vcc401からpMOS
416、nMOS415を介して貫通電流425が流れ
る。この貫通電流425により、電磁波426が放射さ
れる。同時に、nMOS415とpMOS416から構
成されるCMOS素子の近傍かつn基板414の裏面側
にCMOS素子に流れる貫通電流425と反対の方向に
電流が流れるように配置された導体327にも、貫通電
流425と同量かつ反対方向の貫通電流428が流れ
る。この貫通電流428により電磁波429が放射され
る。
Here, the signal voltage applied to the input signal terminal 423 changes from “L” to “H” or from “H” to “H”.
L ”, the nMOS 415 and the pMOS 41
6 are turned on simultaneously for a moment, and pMOS
416, a through current 425 flows through the nMOS 415. Electromagnetic wave 426 is emitted by this through current 425. At the same time, the through current 425 is also applied to the conductor 327 arranged near the CMOS device composed of the nMOS 415 and the pMOS 416 and on the back side of the n substrate 414 so that the current flows in the direction opposite to the through current 425 flowing through the CMOS device. A through current 428 flows in the same amount and in the opposite direction. An electromagnetic wave 429 is emitted by this through current 428.

【0068】電磁波426と電磁波429は、同じ強度
かつ位相が反対の電磁波であり、これら電磁波426と
電磁波429が近傍から放射されることにより、互いに
打ち消し合う。
The electromagnetic wave 426 and the electromagnetic wave 429 are electromagnetic waves having the same intensity and opposite phases. The electromagnetic waves 426 and 429 cancel each other out when they are radiated from the vicinity.

【0069】このように本実施例においては、これら半
導体素子を具備する半導体集積回路から放射される電磁
波を低減させることができる。また、本実施例はCMO
S素子に限らず、バイポーラ素子、Bi−CMOS素子
等他の半導体素子にも適用可能である。また、本実施例
はインバータに限らず、AND等他の論理回路にも適用
可能である。
As described above, in this embodiment, the electromagnetic waves radiated from the semiconductor integrated circuit having these semiconductor elements can be reduced. Further, the present embodiment is a CMO
The present invention can be applied to not only the S element but also other semiconductor elements such as a bipolar element and a Bi-CMOS element. In addition, the present embodiment is not limited to an inverter, and can be applied to other logic circuits such as an AND circuit.

【0070】(実施例5)図5は本発明の一実施例であ
る半導体集積回路の概略を示す回路図である。
(Embodiment 5) FIG. 5 is a circuit diagram schematically showing a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention.

【0071】図5において、501と503はpMO
S、502と504はnMOS、505は入力信号端子
である。506はpMOS501とnMOS502から
構成されるCMOSインバータの出力に接続された出力
信号端子、507はpMOS503とnMOS504か
ら構成されるCMOSインバータの出力に接続された出
力信号端子、508はVcc、509はGNDである。
510はVcc508からpMOS501、nMOS5
02を介してGND509に流れる貫通電流、511は
貫通電流510により放射される電磁波、512はVc
c508からpMOS503、nMOS504を介して
GND509に流れる貫通電流、513は貫通電流51
2により放射される電磁波を示す。
In FIG. 5, 501 and 503 are pMO
S, 502 and 504 are nMOS, and 505 is an input signal terminal. 506 is an output signal terminal connected to the output of the CMOS inverter composed of pMOS 501 and nMOS 502, 507 is the output signal terminal connected to the output of the CMOS inverter composed of pMOS 503 and nMOS 504, 508 is Vcc, and 509 is GND. is there.
Reference numeral 510 denotes a pMOS 501 and an nMOS 5 from Vcc 508.
02, a through current flowing through the GND 509 through the GND 511, an electromagnetic wave radiated by the through current 510, and 512 a Vc
The through current 513 flows from c508 through the pMOS 503 and the nMOS 504 to the GND 509, and the through current 513 is the through current 51.
2 shows an electromagnetic wave radiated by 2.

【0072】以下、図5を用いて、本実施例の半導体集
積回路の動作の概要について説明する。
The outline of the operation of the semiconductor integrated circuit of this embodiment will be described below with reference to FIG.

【0073】図5では、pMOS501とnMOS50
2が組み合わされて、CMOSインバータが構成されて
いる。また、本CMOSインバータの近傍かつ流れる貫
通電流が反対方向に流れるように配置されたCMOSイ
ンバータが、pMOS503とnMOS504により構
成されている。
In FIG. 5, pMOS 501 and nMOS 50
2 are combined to form a CMOS inverter. Further, a pMOS 503 and an nMOS 504 constitute a CMOS inverter which is arranged near the present CMOS inverter and arranged so that a flowing current flows in the opposite direction.

【0074】入力信号端子505に印加される入力信号
電圧が”L”レベルであった場合、pMOS501はオ
ン、nMOS502はオフとなり出力信号端子506は
Vcc508と電気的に接続され、出力信号端子506
の電圧レベルは”H”レベルとなる。この状態の時はn
MOS502がオフとなっているため、Vcc508か
らGND509へ貫通電流510は流れず電磁波511
が放射されることはない。同様に、pMOS503はオ
ン、nMOS504はオフとなり出力信号端子507は
Vcc508と電気的に接続され、出力信号端子507
の電圧レベルは”H”レベルとなる。nMOS504が
オフとなっているため、Vcc508からGND509
へ貫通電流512は流れず電磁波513が放射されるこ
とはない。
When the input signal voltage applied to input signal terminal 505 is at "L" level, pMOS 501 is turned on, nMOS 502 is turned off, output signal terminal 506 is electrically connected to Vcc 508, and output signal terminal 506 is output.
Becomes the "H" level. In this state, n
Since the MOS 502 is off, the through current 510 does not flow from Vcc 508 to GND 509 and the electromagnetic wave 511 does not flow.
Is not emitted. Similarly, the pMOS 503 is turned on, the nMOS 504 is turned off, the output signal terminal 507 is electrically connected to the Vcc 508, and the output signal terminal 507 is turned on.
Becomes the "H" level. Since nMOS 504 is off, Vcc 508 to GND 509
No through current 512 flows and no electromagnetic wave 513 is radiated.

【0075】逆に、入力信号端子505に印加される入
力信号電圧が”H”レベルであった場合、pMOS50
1はオフ、nMOS502はオンとなり出力信号端子5
06はGND509と電気的に接続され、出力信号端子
506の電圧レベルは”L”レベルとなる。この状態の
時はpMOS501がオフとなっているため、前述の場
合と同様に、Vcc508からGND509へは電流が
流れず電磁波511が放射されることはない。
Conversely, when the input signal voltage applied to the input signal terminal 505 is at the “H” level, the pMOS 50
1 is off, nMOS 502 is on and output signal terminal 5
Reference numeral 06 is electrically connected to the GND 509, and the voltage level of the output signal terminal 506 becomes "L" level. In this state, since the pMOS 501 is off, no current flows from the Vcc 508 to the GND 509 and the electromagnetic wave 511 is not radiated as in the case described above.

【0076】同様に、pMOS503はオフ、nMOS
504はオンとなり出力信号端子507はGND509
と電気的に接続され、出力信号端子507の電圧レベル
は”L”レベルとなる。pMOS503がオフとなって
いるため、Vcc508からGND509へ貫通電流5
12は流れず電磁波513が放射されることはない。
Similarly, pMOS 503 is off, nMOS
504 is turned on and the output signal terminal 507 is connected to GND 509.
And the voltage level of the output signal terminal 507 becomes “L” level. Since the pMOS 503 is off, the through current 5 from Vcc 508 to GND 509
12 does not flow and the electromagnetic wave 513 is not emitted.

【0077】しかし、入力信号端子505に印加される
入力信号電圧が”L”レベルから”H”レベルへ、逆
に”H”レベルから”L”レベルへと変化した場合、p
MOS501とnMOS502が一瞬同時にオンとな
り、貫通電流510が流れる。この貫通電流510によ
り電磁波511が放射される。
However, when the input signal voltage applied to the input signal terminal 505 changes from “L” level to “H” level, and conversely, from “H” level to “L” level, p
The MOS 501 and the nMOS 502 are simultaneously turned on for a moment, and a through current 510 flows. Electromagnetic wave 511 is emitted by this through current 510.

【0078】また同時に、pMOS501とnMOS5
02から構成されるCMOSインバータの近傍かつ流れ
る貫通電流の方向が反対方向になるように配置された、
pMOS503とnMOS504から構成されるCMO
Sインバータにおいても、pMOS503とnMOS5
04が一瞬同時にオンとなり、貫通電流512が流れ
る。この貫通電流512により電磁波513が放射され
る。
At the same time, the pMOS 501 and the nMOS 5
02, and arranged so that the direction of the through current flowing therethrough is opposite to that of the CMOS inverter composed of
CMO composed of pMOS 503 and nMOS 504
Also in the S inverter, the pMOS 503 and the nMOS 5
04 turns on simultaneously for a moment, and a through current 512 flows. An electromagnetic wave 513 is emitted by this through current 512.

【0079】電磁波511と電磁波513は位相が反対
の電磁波であり、これら電磁波511と電磁波513が
近傍から放射されることにより、互いに打ち消し合う。
The electromagnetic wave 511 and the electromagnetic wave 513 are electromagnetic waves having opposite phases. The electromagnetic wave 511 and the electromagnetic wave 513 cancel each other by being radiated from the vicinity.

【0080】このように本実施例においては、これら複
数の半導体素子を具備する半導体集積回路から放射され
る電磁波を低減させることができる。また、本実施例は
CMOS素子に限らず、バイポーラ素子、Bi−CMO
S素子等他の半導体素子にも適用可能である。また、本
実施例はインバータに限らず、AND等他の論理回路に
も適用可能である。
As described above, in the present embodiment, the electromagnetic waves radiated from the semiconductor integrated circuit having the plurality of semiconductor elements can be reduced. Further, the present embodiment is not limited to the CMOS device, but may be a bipolar device, a Bi-CMO
The present invention is also applicable to other semiconductor elements such as S elements. In addition, the present embodiment is not limited to an inverter, and can be applied to other logic circuits such as an AND circuit.

【0081】(実施例6)図7は本発明の一実施例であ
る半導体集積回路の概略を示す回路図である。
(Embodiment 6) FIG. 7 is a circuit diagram schematically showing a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention.

【0082】図7において、801はpMOS、802
はpMOS801の近傍かつ流れる貫通電流がpMOS
801に流れる貫通電流の方向と反対方向になるように
配置したnMOS、803はVcc、804はGND、
805はpMOS801とnMOS802から構成され
るCMOSインバータの入力信号端子、806はpMO
S801とnMOS802から構成されるCMOSイン
バータの出力信号端子、807はpMOS801を流れ
る貫通電流、808は貫通電流807により放射される
電磁波、809はnMOS802を流れる貫通電流、8
10は貫通電流809により放射される電磁波を示す。
In FIG. 7, reference numeral 801 denotes a pMOS;
Is a pMOS near the pMOS 801 and the through current is pMOS
NMOS arranged so as to be in the direction opposite to the direction of the through current flowing through 801, Vcc 803, GND 804,
805 is an input signal terminal of a CMOS inverter composed of pMOS 801 and nMOS 802, and 806 is pMO
An output signal terminal of a CMOS inverter composed of S801 and nMOS 802; 807, a through current flowing through pMOS 801; 808, an electromagnetic wave radiated by through current 807; 809, a through current flowing through nMOS 802;
Reference numeral 10 denotes an electromagnetic wave radiated by the through current 809.

【0083】以下、図7を用いて、本実施例の半導体集
積回路の動作の概要について説明する。
The outline of the operation of the semiconductor integrated circuit of this embodiment will be described below with reference to FIG.

【0084】図7では、pMOS801とnMOS80
2が組み合わされてCMOSインバータが構成されてい
る。入力信号端子805に印加される入力信号電圧が”
L”レベルであった場合、pMOS801はオン、nM
OS802はオフとなり出力信号端子806はVcc8
03と電気的に接続され、出力信号端子806の電圧レ
ベルは”H”レベルとなる。この状態の時はnMOS8
02がオフとなっているため、Vcc803からGND
804へは電流が流れず電磁波が放射されることはな
い。
In FIG. 7, pMOS 801 and nMOS 80
2 are combined to form a CMOS inverter. The input signal voltage applied to the input signal terminal 805 is "
If it is at the L level, the pMOS 801 is turned on and nM
The OS 802 is turned off and the output signal terminal 806 is connected to Vcc8
03, and the voltage level of the output signal terminal 806 becomes “H” level. In this state, the nMOS8
02 is off, so GND from Vcc 803
No current flows to 804, and no electromagnetic wave is emitted.

【0085】逆に、入力信号端子805に印加される入
力信号電圧が”H”レベルであった場合、pMOS80
1はオフ、nMOS802はオンとなり出力信号端子8
06はGND804と電気的に接続され、出力信号端子
806の電圧レベルは”L”レベルとなる。この状態の
時はpMOS801がオフとなっているため、前述の場
合と同様にVcc803からGND804へは電流が流
れず電磁波が放射されることはない。
Conversely, when the input signal voltage applied to the input signal terminal 805 is at “H” level, the pMOS 80
1 is off, nMOS 802 is on and output signal terminal 8
Reference numeral 06 is electrically connected to the GND 804, and the voltage level of the output signal terminal 806 becomes "L" level. In this state, since the pMOS 801 is off, no current flows from the Vcc 803 to the GND 804 and no electromagnetic wave is radiated as in the case described above.

【0086】しかし、入力信号端子805に印加される
入力信号電圧が”L”レベルから”H”レベルへ、逆
に”H”レベルから”L”レベルへと変化した場合、p
MOS801とnMOS802が一瞬同時にオンとな
り、pMOS801に貫通電流807が流れる。この貫
通電流807により電磁波808が放射される。
However, when the input signal voltage applied to the input signal terminal 805 changes from “L” level to “H” level and conversely from “H” level to “L” level, p
The MOS 801 and the nMOS 802 are simultaneously turned on for a moment, and a through current 807 flows through the pMOS 801. An electromagnetic wave 808 is radiated by the through current 807.

【0087】また同時に、pMOS801の近傍かつ流
れる貫通電流がpMOS801に流れる貫通電流807
の方向と反対方向になるように配置したnMOS802
にも、貫通電流807と同量かつ反対方向の貫通電流8
09が流れる。この貫通電流809により電磁波810
が放射される。
At the same time, the through current flowing near pMOS 801 and flowing through pMOS 801
NMOS 802 arranged in a direction opposite to the direction of
Also, the through current 8 in the same direction as the through current 807 and in the opposite direction
09 flows. This through current 809 causes electromagnetic waves 810
Is emitted.

【0088】電磁波808と電磁波810は、同じ強度
かつ位相が反対の電磁波であり、これら電磁波808と
電磁波810が近傍から放射されることにより、互いに
打ち消し合う。
The electromagnetic wave 808 and the electromagnetic wave 810 are electromagnetic waves having the same intensity and opposite phases. The electromagnetic waves 808 and 810 cancel each other out when they are radiated from the vicinity.

【0089】このように本実施例においては、これら半
導体素子を具備する半導体集積回路から放射される電磁
波を低減させることができる。
As described above, in this embodiment, the electromagnetic waves radiated from the semiconductor integrated circuit having these semiconductor elements can be reduced.

【0090】本実施例は、CMOS素子に限らず、バイ
ポーラ素子、Bi−CMOS等その他の半導体素子にも
適用可能である。また、本実施例はインバータに限ら
ず、AND等他の論理回路にも適用可能である。
This embodiment can be applied not only to CMOS devices but also to other semiconductor devices such as bipolar devices and Bi-CMOS. In addition, the present embodiment is not limited to an inverter, and can be applied to other logic circuits such as an AND circuit.

【0091】(実施例7)図6は図1の半導体集積回路
を更に具体化した半導体集積回路の一実施例を示す図で
ある。
(Embodiment 7) FIG. 6 is a diagram showing an embodiment of a semiconductor integrated circuit which further embodies the semiconductor integrated circuit of FIG.

【0092】図6において、601はpMOS、602
はnMOS、603は、pMOS601とnMOS60
2から構成されるCMOSインバータの入力信号端子、
604は前述のCMOSインバータの出力に接続された
出力信号端子である。
In FIG. 6, reference numeral 601 denotes a pMOS;
Is an nMOS, and 603 is a pMOS 601 and an nMOS 60
2, an input signal terminal of a CMOS inverter composed of
An output signal terminal 604 is connected to the output of the above-described CMOS inverter.

【0093】605はpMOS、606はnMOS、6
07は、pMOS605とnMOS606から構成され
るCMOSインバータの入力信号端子、608は前述の
CMOSインバータの出力に接続された出力信号端子で
ある。
605 is a pMOS, 606 is an nMOS, 6
07 is an input signal terminal of a CMOS inverter composed of a pMOS 605 and an nMOS 606, and 608 is an output signal terminal connected to the output of the CMOS inverter.

【0094】609は、外部の電源供給手段と接続し、
半導体集積回路内部のpMOS601とnMOS60
2、pMOS605とnMOS606から構成される2
つのCMOSインバータへ電源を供給するための端子、
610は前述の2つのCMOSインバータが半導体集積
回路外部のグランドと接続するための端子である。
609 is connected to an external power supply means,
PMOS 601 and nMOS 60 inside a semiconductor integrated circuit
2, composed of pMOS 605 and nMOS 606
Terminal for supplying power to two CMOS inverters,
Reference numeral 610 denotes a terminal for connecting the two CMOS inverters to a ground outside the semiconductor integrated circuit.

【0095】611はVcc、612はGND、613
は、前述の2つのCMOSインバータが形成されている
半導体チップである。614は、Vcc611から端子
609を介して、半導体集積回路内部に電源を供給する
メイン電源ライン、620,621はそれぞれ、メイン
電源ライン614と、前述の2つのCMOSインバータ
(半導体素子)とを接続し、電源を半導体素子に供給する
電源供給用配線である。
611 is Vcc, 612 is GND, 613
Is a semiconductor chip on which the above two CMOS inverters are formed. Reference numeral 614 denotes a main power supply line for supplying power from the Vcc 611 to the inside of the semiconductor integrated circuit via the terminal 609. Reference numerals 620 and 621 denote main power supply lines 614 and the two CMOS inverters, respectively.
(Semiconductor element) to supply power to the semiconductor element.

【0096】半導体チップ613上に形成された導体6
15は、端子610を介して半導体集積回路内部と外部
のグランドとを結ぶメイングランドライン。622,6
23はメイングランドライン615と前述の2つのCM
OSインバータ(半導体素子)とを接続するグランド用配
線である。メイングランドラインはメイン電源ラインの
近傍かつ流れる電流の方向が反対方向になるように、半
導体チップ613上に形成される。
The conductor 6 formed on the semiconductor chip 613
Reference numeral 15 denotes a main ground line connecting the inside of the semiconductor integrated circuit and an external ground via the terminal 610. 622,6
23 is a main ground line 615 and the two CMs described above.
This is a ground wiring for connecting to an OS inverter (semiconductor element). The main ground line is formed on the semiconductor chip 613 such that the direction of the current flowing in the vicinity of the main power supply line is opposite to that of the main power supply line.

【0097】また、各半導体素子に接続する電源供給用
配線620、621とグランド用配線622、623と
もそれぞれが近接して電流方向が反対方向になるように
半導体チップ613上に形成される。
Further, the power supply wirings 620 and 621 and the ground wirings 622 and 623 connected to the respective semiconductor elements are formed on the semiconductor chip 613 so that the current directions are opposite to each other.

【0098】グランド用配線は、図1で示したように、
CMOSインバータに流れる貫通電流と反対方向の電流
が流れるようにCMOSインバータに近接して配設され
る。
The ground wiring is, as shown in FIG.
It is arranged close to the CMOS inverter so that a current in the opposite direction to the through current flowing in the CMOS inverter flows.

【0099】616は、メイン電源ライン614を介し
て、pMOS601とnMOS602から構成されるC
MOSインバータに流れ込む貫通電流、617は貫通電
流616により放射される電磁波、618は、pMOS
601とnMOS602から構成されるCMOSインバ
ータから、導体615を介してGND612へ流れる貫
通電流、619は貫通電流618により放射される電磁
波を示す。
Reference numeral 616 denotes a C composed of a pMOS 601 and an nMOS 602 via a main power supply line 614.
The through current flowing into the MOS inverter, 617 is an electromagnetic wave radiated by the through current 616, and 618 is a pMOS
Reference numeral 619 denotes an electromagnetic wave radiated by the through current 618 from the CMOS inverter including the 601 and the nMOS 602 to the GND 612 via the conductor 615.

【0100】以下、図6を用いて、本実施例の半導体集
積回路の動作の概要について説明する。
The outline of the operation of the semiconductor integrated circuit of this embodiment will be described below with reference to FIG.

【0101】入力信号端子603に印加される入力信号
が、”L”レベルから”H”レベルへ、または”H”レ
ベルから”L”レベルへと変化すると、pMOS601
とnMOS602から構成されるCMOSインバータ
は、出力信号端子604に印加する出力信号を変化すべ
くスイッチング動作を行う。このスイッチング動作時
に、pMOS601とnMOS602は一瞬同時にオン
となり、メイン電源供給ライン614に貫通電流616
が流れる。この貫通電流616により、電磁波617が
放射される。また、同時にメイングランドライン615
にも貫通電流618が流れ、この貫通電流618によ
り、電磁波619が放射される。
When the input signal applied to the input signal terminal 603 changes from “L” level to “H” level or from “H” level to “L” level, the pMOS 601
And the nMOS 602 performs a switching operation to change the output signal applied to the output signal terminal 604. During this switching operation, the pMOS 601 and the nMOS 602 are simultaneously turned on for a moment, and the through current 616 is supplied to the main power supply line 614.
Flows. An electromagnetic wave 617 is radiated by the through current 616. At the same time, the main ground line 615
A through current 618 also flows through the device, and an electromagnetic wave 619 is radiated by the through current 618.

【0102】電磁波617と電磁波619は位相が反対
の電磁波であり、これら電磁波617と電磁波619が
近傍から放射されることにより、互いに打ち消し合う。
The electromagnetic wave 617 and the electromagnetic wave 619 are electromagnetic waves having opposite phases. The electromagnetic wave 617 and the electromagnetic wave 619 cancel each other by being radiated from the vicinity.

【0103】本実施例によれば、図1に示したように、
半導体素子内部を流れる貫通電流による電磁放射も、他
の配線を流れる電磁放射も抑えられるため、半導体集積
回路から発する電磁放射を極低く抑えることができる。
According to the present embodiment, as shown in FIG.
Since both the electromagnetic radiation caused by the through current flowing inside the semiconductor element and the electromagnetic radiation flowing through other wirings can be suppressed, the electromagnetic radiation emitted from the semiconductor integrated circuit can be suppressed to an extremely low level.

【0104】上記では、pMOS601とnMOS60
2から構成されるCMOSインバータが動作した場合に
ついて記述したが、pMOS605とnMOS606か
ら構成されるCMOSインバータについても同様であ
る。
In the above description, the pMOS 601 and the nMOS 60
2 has been described, the same applies to a CMOS inverter composed of pMOS 605 and nMOS 606.

【0105】本実施例は、CMOS素子に限らず、バイ
ポーラ素子、Bi−CMOS等その他の半導体素子にも
適用可能である。また、本実施例はインバータに限ら
ず、AND等他の論理回路にも適用可能である。
This embodiment can be applied not only to CMOS devices but also to other semiconductor devices such as bipolar devices and Bi-CMOS. In addition, the present embodiment is not limited to an inverter, and can be applied to other logic circuits such as an AND circuit.

【0106】[0106]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下の通りである。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described.
It is as follows.

【0107】すなわち、本発明の半導体集積回路によれ
ば、半導体集積回路から放射される不要な電磁波を低減
させることができる、という効果が得られる。
That is, according to the semiconductor integrated circuit of the present invention, an effect is obtained that unnecessary electromagnetic waves radiated from the semiconductor integrated circuit can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例である半導体集積回路の概略
を示す回路図。
FIG. 1 is a circuit diagram schematically showing a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の他の実施例一実施例である半導体集積
回路の概略を示す回路図。
FIG. 2 is a circuit diagram schematically showing a semiconductor integrated circuit according to another embodiment of the present invention.

【図3】図1に示す実施例の実際の配線例を示す図。FIG. 3 is a diagram showing an actual wiring example of the embodiment shown in FIG. 1;

【図4】図1に示す実施例の配線例の他の例を示す図。FIG. 4 is a diagram showing another example of the wiring example of the embodiment shown in FIG. 1;

【図5】本発明の他の実施例をである半導体集積回路の
概略を示す回路図。
FIG. 5 is a circuit diagram schematically showing a semiconductor integrated circuit according to another embodiment of the present invention.

【図6】図1に示す実施例を更に具体的に示した半導体
集積回路の概略構造を示す図。
FIG. 6 is a diagram showing a schematic structure of a semiconductor integrated circuit in which the embodiment shown in FIG. 1 is shown more specifically;

【図7】本発明の更に他の実施例である半導体集積回路
の概略構造を示す図。
FIG. 7 is a diagram showing a schematic structure of a semiconductor integrated circuit according to still another embodiment of the present invention.

【図8】従来の技術の問題点を説明するための図。FIG. 8 is a diagram for explaining a problem of the related art.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101…pMOS(pチャネルMOSトランジスタ)、
102…nMOS(nチャネルMOSトランジスタ)、
103…入力信号端子、104…Vcc(電源)、10
5…GND(大地)、106…出力信号端子、107…
貫通電流、108…電磁波、109…導体、110…電
流、111…電磁波 201…入力信号端子、202…
バイポーラ・トランジスタ(npn型)、203…抵
抗、204…抵抗、205…Vcc、206…GND、
207…電流、208…電磁波、209…導体、210
…電流、211…電磁波、212…出力信号端子 301…Vcc、302…GND、303…n+ポリS
iゲート、304…ゲート酸化膜、305…絶縁膜、3
06…フィールド酸化膜、307…n+、308…n
+、309…pウェル、310…p+、311…p+、
312…n+ポリSiゲート、313…ゲート酸化膜、
314…n基板、315…nMOS、316…pMO
S、317…ゲート端子、318…ソース端子、319
…ドレイン端子、320…ゲート端子、321…ソース
端子、322…ドレイン端子、323…入力信号端子、
324…出力信号端子、325…貫通電流、326…電
磁波、327…導体、328…貫通電流、329…電磁
波 401…Vcc、402…GND、403…n+ポリS
iゲート、404…ゲート酸化膜、405…絶縁膜、4
06…フィールド酸化膜、407…n+、408…n
+、409…pウェル、410…p+、411…p+、
412…n+ポリSiゲート、413…ゲート酸化膜、
414…n基板、415…nMOS、416…pMO
S、417…ゲート端子、418…ソース端子、419
…ドレイン端子、420…ゲート端子、421…ソース
端子、422…ドレイン端子、423…入力信号端子、
424…出力信号端子、425…貫通電流、426…電
磁波、427…導体、428…貫通電流、429…電磁
波 501…pMOS、502…nMOS、503…pMO
S、504…nMOS、505…入力信号端子、506
…出力信号端子、507…出力信号端子、508…Vc
c、509…GND、510…貫通電流、511…電磁
波、512…貫通電流、513…電磁波 601…pMOS、602…nMOS、603…入力信
号端子、604…出力信号端子、605…pMOS、6
06…nMOS、607…入力信号端子、608…出力
信号端子、609…端子、610…端子、611…Vc
c、612…GND、613…半導体チップ、614…
導体、615…導体、616…貫通電流、617…電磁
波、618…貫通電流、619…電磁波 701…pMOS、702…nMOS、703…入力信
号端子、704…出力信号端子、705…端子、706
…端子、707…Vcc、708…GND、709…リ
ード、710…リード、711…リード、712…リー
ド、713…ボンディングワイヤ、714…ボンディン
グワイヤ、715…ボンディングワイヤ、716…ボン
ディングワイヤ、717…貫通電流、718…電磁波、
719…貫通電流、720…電磁波、721…半導体チ
ップ、722…封止材 801…pMOS、802…nMOS、803…Vc
c、804…GND、805…入力信号端子、806…
出力信号端子、807…貫通電流、808…電磁波、8
09…貫通電流、810…電磁波 1001…入力信号
端子、1002…pMOS、1003…nMOS、10
04…出力信号端子、1005…GND、1006…V
cc、1007…貫通電流、1008…電磁波
101 ... pMOS (p-channel MOS transistor),
102 ... nMOS (n-channel MOS transistor),
103: input signal terminal, 104: Vcc (power supply), 10
5: GND (earth), 106: output signal terminal, 107:
Penetration current, 108: electromagnetic wave, 109: conductor, 110: current, 111: electromagnetic wave 201: input signal terminal, 202:
Bipolar transistor (npn type), 203: resistor, 204: resistor, 205: Vcc, 206: GND,
207: current, 208: electromagnetic wave, 209: conductor, 210
... current, 211 ... electromagnetic wave, 212 ... output signal terminal 301 ... Vcc, 302 ... GND, 303 ... n + poly S
i-gate, 304: gate oxide film, 305: insulating film, 3
06 ... field oxide film, 307 ... n +, 308 ... n
+, 309 ... p well, 310 ... p +, 311 ... p +,
312 ... n + poly Si gate, 313 ... gate oxide film,
314 ... n substrate, 315 ... nMOS, 316 ... pMO
S, 317: Gate terminal, 318: Source terminal, 319
... Drain terminal, 320 ... Gate terminal, 321 ... Source terminal, 322 ... Drain terminal, 323 ... Input signal terminal,
324 ... output signal terminal, 325 ... through current, 326 ... electromagnetic wave, 327 ... conductor, 328 ... through current, 329 ... electromagnetic wave 401 ... Vcc, 402 ... GND, 403 ... n + poly S
i-gate, 404: gate oxide film, 405: insulating film, 4
06 ... field oxide film, 407 ... n +, 408 ... n
+, 409 ... p well, 410 ... p +, 411 ... p +,
412: n + poly Si gate, 413: gate oxide film,
414 ... n substrate, 415 ... nMOS, 416 ... pMO
S, 417: gate terminal, 418: source terminal, 419
... Drain terminal, 420 ... Gate terminal, 421 ... Source terminal, 422 ... Drain terminal, 423 ... Input signal terminal
424: output signal terminal, 425: through current, 426: electromagnetic wave, 427: conductor, 428: through current, 429: electromagnetic wave 501: pMOS, 502: nMOS, 503: pMO
S, 504... NMOS, 505... Input signal terminal, 506
... output signal terminal, 507 ... output signal terminal, 508 ... Vc
c, 509 GND, 510 through current, 511 electromagnetic wave, 512 through current, 513 electromagnetic wave 601 pMOS, 602 nMOS, 603 input signal terminal, 604 output signal terminal, 605 pMOS, 6
06 nMOS, 607 input signal terminal, 608 output signal terminal, 609 terminal, 610 terminal, 611 Vc
c, 612 ... GND, 613 ... semiconductor chip, 614 ...
Conductor, 615: Conductor, 616: Through current, 617: Electromagnetic wave, 618: Through current, 619: Electromagnetic wave 701: pMOS, 702: nMOS, 703: Input signal terminal, 704: Output signal terminal, 705: Terminal, 706
... terminal, 707 ... Vcc, 708 ... GND, 709 ... lead, 710 ... lead, 711 ... lead, 712 ... lead, 713 ... bonding wire, 714 ... bonding wire, 715 ... bonding wire, 716 ... bonding wire, 717 ... penetrating Current, 718 ... electromagnetic wave,
719: Through current, 720: electromagnetic wave, 721: semiconductor chip, 722: sealing material 801: pMOS, 802: nMOS, 803: Vc
c, 804 ... GND, 805 ... input signal terminal, 806 ...
Output signal terminal, 807: through current, 808: electromagnetic wave, 8
09: through current, 810: electromagnetic wave 1001, input signal terminal, 1002: pMOS, 1003: nMOS, 10
04 ... output signal terminal, 1005 ... GND, 1006 ... V
cc, 1007: through current, 1008: electromagnetic wave

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】半導体素子と、該半導体素子が設置される
半導体チップとからなる半導体集積回路において、前記
半導体素子の近傍に設置され、該半導体素子内部を流れ
る電流経路と平行でかつ前記電流経路を流れる電流と反
対向きの電流を流す電磁波低減手段を備えたことを特徴
とする半導体集積回路。
1. A semiconductor integrated circuit comprising a semiconductor element and a semiconductor chip on which the semiconductor element is mounted, wherein the current path is provided near the semiconductor element and parallel to a current path flowing inside the semiconductor element. A semiconductor integrated circuit comprising: an electromagnetic wave reduction unit that causes a current flowing in a direction opposite to a current flowing through the semiconductor integrated circuit.
【請求項2】前記半導体素子とメイン電源供給ラインと
を結ぶ電源配線と、前記半導体素子とメイングランドラ
インとを結ぶグランド配線とを備え、前記電磁波低減手
段は、前記電流経路と平行かつ流れる電流が反対向きの
前記電源配線又は前記グランド配線のいずれかであるこ
とを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路。
A power supply line connecting the semiconductor element and a main power supply line; and a ground line connecting the semiconductor element and a main ground line. 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein? Is one of the power supply wiring and the ground wiring in the opposite direction.
【請求項3】前記電磁波低減手段は、前記半導体チップ
の、前記半導体素子が設置される面と同一の面の上に配
置されることを特徴とする請求項1又は2記載の半導体
集積回路。
3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein said electromagnetic wave reducing means is arranged on the same surface of said semiconductor chip as said surface on which said semiconductor element is installed.
【請求項4】前記電磁波低減手段は、前記半導体チップ
の、前記半導体素子が設置される面と、異なる面上に配
置されることを特徴とする請求項1又は2記載の半導体
集積回路。
4. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein said electromagnetic wave reducing means is arranged on a different surface of said semiconductor chip from a surface on which said semiconductor element is provided.
【請求項5】前記電源配線と前記グランド配線とは、互
いに近傍かつ流れる電流が反対方向になるように配置さ
れることを特徴とする請求項2記載の半導体集積回路。
5. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein said power supply wiring and said ground wiring are arranged near each other and such that flowing currents are in opposite directions.
【請求項6】半導体素子と、該半導体素子が設置される
半導体チップとからなる半導体集積回路において、前記
半導体素子の近傍に設置され、該半導体素子内部を流れ
る貫通電流と反対向きの電流を流す電磁波低減手段を備
えたことを特徴とする半導体集積回路。
6. A semiconductor integrated circuit comprising a semiconductor element and a semiconductor chip on which the semiconductor element is mounted, wherein a current is provided near the semiconductor element and flows in a direction opposite to a through current flowing through the inside of the semiconductor element. A semiconductor integrated circuit comprising an electromagnetic wave reduction unit.
【請求項7】半導体素子と、該半導体素子が設置される
半導体チップと、前記半導体素子と接続する電源供給配
線及びグランド配線と、前記半導体素子に備えられる前
記電源供給配線との第1の接続部と、前記半導体素子に
備えられる前記グランド配線との第2の接続部とを備え
た半導体集積回路において、前記電源供給配線又は前記
グランド配線の一方を前記半導体素子の近傍で、かつ前
記第1及び第2の接続部で作られる線分と平行に配設し
たことを特徴とする半導体集積回路。
7. A first connection between a semiconductor element, a semiconductor chip on which the semiconductor element is mounted, a power supply wiring and a ground wiring connected to the semiconductor element, and a power supply wiring provided in the semiconductor element. And a second connection part for connecting the ground wiring provided in the semiconductor element to the semiconductor element, wherein one of the power supply wiring and the ground wiring is provided near the semiconductor element and the first And a semiconductor integrated circuit arranged in parallel with a line segment formed by the second connection portion.
【請求項8】同一の入力信号に応じて出力信号を切り替
える少なくとも2個の半導体素子を、信号切り替え時に
各々の半導体素子に流れる電流が反対方向に流れる関係
の近傍の位置に配置したことを特徴とする半導体集積回
路。
8. At least two semiconductor elements for switching an output signal in response to the same input signal are arranged at positions near a relationship where currents flowing in the respective semiconductor elements flow in opposite directions during signal switching. Semiconductor integrated circuit.
【請求項9】pMOSとnMOSが組み合わされたCM
OSインバータにおいて、前記pMOSと前記nMOSとが対向
するように折り返して直列に接続したことを特徴とする
半導体素子。
9. A CM in which pMOS and nMOS are combined
A semiconductor device in an OS inverter, wherein the pMOS and the nMOS are turned back so as to face each other and connected in series.
【請求項10】請求項1記載の半導体集積回路におい
て、前記電磁波低減手段と前記半導体チップとの間には
他の配線が配置されないことを特徴とする半導体集積回
路。
10. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein no other wiring is arranged between said electromagnetic wave reducing means and said semiconductor chip.
JP8249604A 1996-09-20 1996-09-20 Semiconductor integrated circuit Pending JPH1098112A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100323452B1 (en) * 1999-12-30 2002-02-06 박종섭 Eletromagnetic Interference prevention circuit
CN101903930A (en) * 2007-12-21 2010-12-01 苹果公司 Method and apparatus for providing high speed, low EMI switching circuits
JP2019216492A (en) * 2018-06-11 2019-12-19 三菱電機株式会社 Electric power conversion system

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100323452B1 (en) * 1999-12-30 2002-02-06 박종섭 Eletromagnetic Interference prevention circuit
CN101903930A (en) * 2007-12-21 2010-12-01 苹果公司 Method and apparatus for providing high speed, low EMI switching circuits
JP2011508902A (en) * 2007-12-21 2011-03-17 アップル インコーポレイテッド Method and apparatus for forming a high speed, low EMI switching circuit
KR101354267B1 (en) * 2007-12-21 2014-01-22 애플 인크. Method and apparatus for providing high speed, low emi switching circuits
JP2019216492A (en) * 2018-06-11 2019-12-19 三菱電機株式会社 Electric power conversion system

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