JPH1092027A - 光記録媒体、その作製方法、および光記録媒体の記録方法 - Google Patents
光記録媒体、その作製方法、および光記録媒体の記録方法Info
- Publication number
- JPH1092027A JPH1092027A JP8246518A JP24651896A JPH1092027A JP H1092027 A JPH1092027 A JP H1092027A JP 8246518 A JP8246518 A JP 8246518A JP 24651896 A JP24651896 A JP 24651896A JP H1092027 A JPH1092027 A JP H1092027A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical recording
- oxygen
- recording medium
- gallium
- bismuth
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/08—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers
- H01F10/10—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
- H01F10/18—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being compounds
- H01F10/20—Ferrites
- H01F10/24—Garnets
- H01F10/245—Modifications for enhancing interaction with electromagnetic wave energy
Abstract
(57)【要約】
【課題】 書換可能な光磁気記録と追記型光記録の両記
録方式で記録できる光記録媒体を提供する。 【解決手段】 光磁気記録、および追記型光記録の両方
式の記録を可能とする光記録媒体であって、記録層３と
して、酸素（Ｏ）を除いたときのビスマス（Ｂｉ）の組
成比が１５at.%から４５at.%の間の値で、ビスマス（Ｂ
ｉ）、希土類元素、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸
素（Ｏ）を含むターゲットを用いて基板上に製膜された
ガーネット膜、または、酸素（Ｏ）を除いたときのビス
マス（Ｂｉ）の組成比が１５at.%から７０at.%で、ビス
マス（Ｂｉ）、希土類元素、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆ
ｅ）、酸素（Ｏ）を含むターゲットを用いて基板上に製
膜された非晶質膜を用いる。
録方式で記録できる光記録媒体を提供する。 【解決手段】 光磁気記録、および追記型光記録の両方
式の記録を可能とする光記録媒体であって、記録層３と
して、酸素（Ｏ）を除いたときのビスマス（Ｂｉ）の組
成比が１５at.%から４５at.%の間の値で、ビスマス（Ｂ
ｉ）、希土類元素、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸
素（Ｏ）を含むターゲットを用いて基板上に製膜された
ガーネット膜、または、酸素（Ｏ）を除いたときのビス
マス（Ｂｉ）の組成比が１５at.%から７０at.%で、ビス
マス（Ｂｉ）、希土類元素、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆ
ｅ）、酸素（Ｏ）を含むターゲットを用いて基板上に製
膜された非晶質膜を用いる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光記録技術に係わ
り、特に同じ記録媒体、および同じ光源を用いて、光磁
気記録、および追記型光記録の両方式による光記録を可
能にするための光記録媒体、光記録媒体の作製方法、お
よび光記録媒体の記録方法に関するものである。
り、特に同じ記録媒体、および同じ光源を用いて、光磁
気記録、および追記型光記録の両方式による光記録を可
能にするための光記録媒体、光記録媒体の作製方法、お
よび光記録媒体の記録方法に関するものである。
【０００２】［発明の概要］本発明は、映像、音声、若
しくはデータ情報などを、ディスク、カードなどの記録
媒体に記録するための、光記録に係わるもので、光吸収
率または光学密度がＢｉ無添加膜の１．５倍以上になる
様に、記録材料のビスマス（Ｂｉ）組成比と光源として
使用するレーザの波長を調整し、かつ、行おうとする記
録方式によってレーザ照射パワーを決定することによ
り、書換可能な光磁気記録と追記型光記録の両記録方
式、若しくは、追記型光記録方式による記録、および使
用する光記録媒体の作製を可能にするものである。
しくはデータ情報などを、ディスク、カードなどの記録
媒体に記録するための、光記録に係わるもので、光吸収
率または光学密度がＢｉ無添加膜の１．５倍以上になる
様に、記録材料のビスマス（Ｂｉ）組成比と光源として
使用するレーザの波長を調整し、かつ、行おうとする記
録方式によってレーザ照射パワーを決定することによ
り、書換可能な光磁気記録と追記型光記録の両記録方
式、若しくは、追記型光記録方式による記録、および使
用する光記録媒体の作製を可能にするものである。
【０００３】
【従来の技術】これまでに実用化されている光記録方式
は、書換可能な光磁気記録、書換可能な相変化記録、追
記型光記録の３種類に大別される。方式によって異なる
記録材料は以下のとおりである。
は、書換可能な光磁気記録、書換可能な相変化記録、追
記型光記録の３種類に大別される。方式によって異なる
記録材料は以下のとおりである。
【０００４】書換可能な光磁気記録用の記録材料として
は、マンガン・ビスマス（ＭｎＢｉ）、白金・マンガン
・アンチモン（ＰｔＭｎＳｂ）、ガドリニウム・テルビ
ウム・コバルト（ＧｄＴｂＣｏ）、テルビウム・鉄・コ
バルト（ＴｂＦｅＣｏ）などの合金膜や、白金／コバル
ト（Ｐｔ／Ｃｏ）多層膜、およびＢｉ添加磁性ガーネッ
ト膜などが研究されている。現在、市場に供給されてい
る光磁気記録媒体にはＴｂＦｅＣｏ非晶質合金膜が使わ
れている。
は、マンガン・ビスマス（ＭｎＢｉ）、白金・マンガン
・アンチモン（ＰｔＭｎＳｂ）、ガドリニウム・テルビ
ウム・コバルト（ＧｄＴｂＣｏ）、テルビウム・鉄・コ
バルト（ＴｂＦｅＣｏ）などの合金膜や、白金／コバル
ト（Ｐｔ／Ｃｏ）多層膜、およびＢｉ添加磁性ガーネッ
ト膜などが研究されている。現在、市場に供給されてい
る光磁気記録媒体にはＴｂＦｅＣｏ非晶質合金膜が使わ
れている。
【０００５】実用化されている相変化記録材料は、ゲル
マニウム−テルル−アンチモン（Ｇｅ−Ｔｅ−Ｓｂ）合
金である。また、追記型光記録用の記録材料としては、
有機材料のシアニン系色素や、パラジウム（Ｐｄ）を添
加した、金属テルル（Ｔｅ）とテルル酸化物（ＴｅＯ
ｘ）の複合膜が知られている（参照：「イレーザブル光
ディスク技術」 283頁、（株）トリケップス、1991
年）。
マニウム−テルル−アンチモン（Ｇｅ−Ｔｅ−Ｓｂ）合
金である。また、追記型光記録用の記録材料としては、
有機材料のシアニン系色素や、パラジウム（Ｐｄ）を添
加した、金属テルル（Ｔｅ）とテルル酸化物（ＴｅＯ
ｘ）の複合膜が知られている（参照：「イレーザブル光
ディスク技術」 283頁、（株）トリケップス、1991
年）。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】前述したように、従来
より、光磁気記録、相変化記録、および追記型光記録の
各記録方式ごとに何種類かの記録材料が知られている
が、光磁気記録方式、および追記型光記録方式で共通に
使用される記録材料は、これまでのところ存在しない。
また、ひとつの材料に異なる方式で記録するための方法
も存在しない。
より、光磁気記録、相変化記録、および追記型光記録の
各記録方式ごとに何種類かの記録材料が知られている
が、光磁気記録方式、および追記型光記録方式で共通に
使用される記録材料は、これまでのところ存在しない。
また、ひとつの材料に異なる方式で記録するための方法
も存在しない。
【０００７】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
あり、その目的は、光磁気記録方式、および追記型光記
録方式という２つの方式で記録できる記録媒体ならびに
記録方法、および書換型の相変化記録方式の２／３以下
のレーザパワーによる追記型光記録を可能にする記録媒
体を提供することにある。
あり、その目的は、光磁気記録方式、および追記型光記
録方式という２つの方式で記録できる記録媒体ならびに
記録方法、および書換型の相変化記録方式の２／３以下
のレーザパワーによる追記型光記録を可能にする記録媒
体を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項１の発明は、光磁気記録、および追記型光
記録の両方式の記録を可能とする光記録媒体であって、
その記録層として、酸素（Ｏ）を除いたときのビスマス
（Ｂｉ）の組成比が１５at.%から４５at.%の間の値で、
ビスマス（Ｂｉ）、希土類元素、ガリウム（Ｇａ）、鉄
（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含むターゲットを用いて基板上
に製膜されたガーネット膜、または、同じ組成の非晶質
膜を用いることを特徴とするものである。
めに、請求項１の発明は、光磁気記録、および追記型光
記録の両方式の記録を可能とする光記録媒体であって、
その記録層として、酸素（Ｏ）を除いたときのビスマス
（Ｂｉ）の組成比が１５at.%から４５at.%の間の値で、
ビスマス（Ｂｉ）、希土類元素、ガリウム（Ｇａ）、鉄
（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含むターゲットを用いて基板上
に製膜されたガーネット膜、または、同じ組成の非晶質
膜を用いることを特徴とするものである。
【０００９】請求項２の発明は、請求項１記載の光記録
媒体において、ガーネットとして結晶化させる前の前記
記録層における光吸収率または光学密度は、イットリウ
ム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、および酸素
（Ｏ）から構成され、酸素（Ｏ）を除いたときの組成比
が、Ｙ＝４６at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%で
あるようなターゲットを用いて製膜されたＢｉ無添加膜
の１．５倍以上であることを特徴とするものである。
媒体において、ガーネットとして結晶化させる前の前記
記録層における光吸収率または光学密度は、イットリウ
ム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、および酸素
（Ｏ）から構成され、酸素（Ｏ）を除いたときの組成比
が、Ｙ＝４６at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%で
あるようなターゲットを用いて製膜されたＢｉ無添加膜
の１．５倍以上であることを特徴とするものである。
【００１０】請求項３の発明は、請求項１記載の光記録
媒体において、前記記録層が積層される基板として、石
英ガラス、無アルカリガラス、コーニング７０５９、コ
ーニング０３１７などのガラス、またはこれらのガラス
に非磁性のガーネットを積層したもの、またはガドリニ
ウム・ガリウム・ガーネット（ＧＧＧ）、ネオジム・ガ
リウム・ガーネット（ＮＧＧ）などの単結晶材料を使用
することを特徴とするものである。
媒体において、前記記録層が積層される基板として、石
英ガラス、無アルカリガラス、コーニング７０５９、コ
ーニング０３１７などのガラス、またはこれらのガラス
に非磁性のガーネットを積層したもの、またはガドリニ
ウム・ガリウム・ガーネット（ＧＧＧ）、ネオジム・ガ
リウム・ガーネット（ＮＧＧ）などの単結晶材料を使用
することを特徴とするものである。
【００１１】請求項４の発明は、追記型光記録方式のみ
で記録を行う光記録媒体であって、その記録層として、
酸素（Ｏ）を除いたときのビスマス（Ｂｉ）の組成比が
１５at.%から４５at.%の間の値で、ビスマス（Ｂｉ）、
希土類元素、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素
（Ｏ）を含むターゲットを用いて基板上に製膜されたガ
ーネット膜、または、酸素（Ｏ）を除いたときのビスマ
ス（Ｂｉ）の組成比が１５at.%から７０at.%で、ビスマ
ス（Ｂｉ）、希土類元素、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆ
ｅ）、酸素（Ｏ）を含むターゲットを用いて基板上に製
膜された非晶質膜を用いることを特徴とするものであ
る。
で記録を行う光記録媒体であって、その記録層として、
酸素（Ｏ）を除いたときのビスマス（Ｂｉ）の組成比が
１５at.%から４５at.%の間の値で、ビスマス（Ｂｉ）、
希土類元素、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素
（Ｏ）を含むターゲットを用いて基板上に製膜されたガ
ーネット膜、または、酸素（Ｏ）を除いたときのビスマ
ス（Ｂｉ）の組成比が１５at.%から７０at.%で、ビスマ
ス（Ｂｉ）、希土類元素、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆ
ｅ）、酸素（Ｏ）を含むターゲットを用いて基板上に製
膜された非晶質膜を用いることを特徴とするものであ
る。
【００１２】請求項５の発明は、請求項４記載の光記録
媒体において、前記記録層が積層される基板として、石
英ガラス、無アルカリガラス、コーニング７０５９、コ
ーニング０３１７などのガラス、またはこれらのガラス
に非磁性ガーネットを積層したもの、またはガドリニウ
ム・ガリウム・ガーネット（ＧＧＧ）、ネオジム・ガリ
ウム・ガーネット（ＮＧＧ）などの単結晶材料、または
ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレー
ト（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、
ポリイミドなどの樹脂材料を使用することを特徴とする
ものである。
媒体において、前記記録層が積層される基板として、石
英ガラス、無アルカリガラス、コーニング７０５９、コ
ーニング０３１７などのガラス、またはこれらのガラス
に非磁性ガーネットを積層したもの、またはガドリニウ
ム・ガリウム・ガーネット（ＧＧＧ）、ネオジム・ガリ
ウム・ガーネット（ＮＧＧ）などの単結晶材料、または
ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレー
ト（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、
ポリイミドなどの樹脂材料を使用することを特徴とする
ものである。
【００１３】請求項６の発明は、光磁気記録、および追
記型光記録の両方式の記録を可能とする光記録媒体の作
製方法であって、基板上にビスマス（Ｂｉ）、イットリ
ウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素
（Ｏ）を含む非磁性のガーネット下地膜を積層し、次
に、所定の製膜条件で、前記下地膜上に、ビスマス（Ｂ
ｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄
（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含み、酸素（Ｏ）を除いたとき
の各元素の組成比がＢｉ＝３８at.%、Ｄｙ＝８at.%、Ｇ
ａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%であるような焼結ターゲ
ットから、高周波スパッタ法により、ビスマス（Ｂ
ｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄
（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）から成る非晶質膜を製膜し、その
後、この非晶質膜を所定の熱処理条件で結晶化させて、
ビスマス添加磁性ガーネット膜から成る記録層を作製す
ることを特徴とするものである。
記型光記録の両方式の記録を可能とする光記録媒体の作
製方法であって、基板上にビスマス（Ｂｉ）、イットリ
ウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素
（Ｏ）を含む非磁性のガーネット下地膜を積層し、次
に、所定の製膜条件で、前記下地膜上に、ビスマス（Ｂ
ｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄
（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含み、酸素（Ｏ）を除いたとき
の各元素の組成比がＢｉ＝３８at.%、Ｄｙ＝８at.%、Ｇ
ａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%であるような焼結ターゲ
ットから、高周波スパッタ法により、ビスマス（Ｂ
ｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄
（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）から成る非晶質膜を製膜し、その
後、この非晶質膜を所定の熱処理条件で結晶化させて、
ビスマス添加磁性ガーネット膜から成る記録層を作製す
ることを特徴とするものである。
【００１４】請求項７の発明は、光磁気記録、および追
記型光記録の両方式の記録を可能とする光記録媒体の作
製方法であって、所定の製膜条件で、基板上に、ビスマ
ス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇ
ａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含み、酸素（Ｏ）を除
いたときの各元素の組成比がＢｉ＝３２at.%、Ｄｙ＝１
４at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%であるような
焼結ターゲットから、高周波スパッタ法により、ビスマ
ス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇ
ａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）から成る非晶質膜の記録
層を作製すること、を特徴とするものである。
記型光記録の両方式の記録を可能とする光記録媒体の作
製方法であって、所定の製膜条件で、基板上に、ビスマ
ス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇ
ａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含み、酸素（Ｏ）を除
いたときの各元素の組成比がＢｉ＝３２at.%、Ｄｙ＝１
４at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%であるような
焼結ターゲットから、高周波スパッタ法により、ビスマ
ス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇ
ａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）から成る非晶質膜の記録
層を作製すること、を特徴とするものである。
【００１５】請求項８の発明は、請求項１記載の光記録
媒体の記録に使用するレーザ光源の波長は、ガーネット
として結晶化させる前の前記記録層の光吸収率または光
学密度が、イットリウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄
（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）から構成され、酸素（Ｏ）を除い
たときの組成比が、Ｙ＝４６at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆ
ｅ＝４１at.%であるようなターゲットを用いて製膜され
たＢｉ無添加膜の１．５倍以上になる波長、若しくは６
５０ｎｍ以下の波長であり、かつ記録媒体の盤面に照射
されるレーザパワーが０．１ｍＷから３０ｍＷであるこ
とを特徴とするものである。
媒体の記録に使用するレーザ光源の波長は、ガーネット
として結晶化させる前の前記記録層の光吸収率または光
学密度が、イットリウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄
（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）から構成され、酸素（Ｏ）を除い
たときの組成比が、Ｙ＝４６at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆ
ｅ＝４１at.%であるようなターゲットを用いて製膜され
たＢｉ無添加膜の１．５倍以上になる波長、若しくは６
５０ｎｍ以下の波長であり、かつ記録媒体の盤面に照射
されるレーザパワーが０．１ｍＷから３０ｍＷであるこ
とを特徴とするものである。
【００１６】課題を解決するために本発明で具体的に用
いている方法を以下に述べる。記録材料の、レーザによ
って照射された部分の結晶構造や組成を、熱によって変
化させるために、記録材料の組成比を調整して光吸収率
または光学密度を大きくする。例えば、波長が５１４．
５ｎｍの光に対する光吸収率または光学密度が、イット
リウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素
（Ｏ）から構成され、酸素（Ｏ）を除いたときの組成比
が、Ｙ＝４６at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%で
あるようなターゲットを用いて製膜された膜の１．５倍
以上であるような膜を結晶化させたＢｉ添加ガーネット
膜、または同じ組成の非晶質膜を、記録材料に用いる。
いている方法を以下に述べる。記録材料の、レーザによ
って照射された部分の結晶構造や組成を、熱によって変
化させるために、記録材料の組成比を調整して光吸収率
または光学密度を大きくする。例えば、波長が５１４．
５ｎｍの光に対する光吸収率または光学密度が、イット
リウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素
（Ｏ）から構成され、酸素（Ｏ）を除いたときの組成比
が、Ｙ＝４６at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%で
あるようなターゲットを用いて製膜された膜の１．５倍
以上であるような膜を結晶化させたＢｉ添加ガーネット
膜、または同じ組成の非晶質膜を、記録材料に用いる。
【００１７】光源については、未結晶化状態の光吸収率
または光学密度が、イットリウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇ
ａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）から構成され、酸素
（Ｏ）を除いたときの組成比が、Ｙ＝４６at.%、Ｇａ＝
１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%であるようなターゲットを用
いて製膜された膜の１．５倍以上になるような波長を選
択する。また、行おうとする記録方式が、光磁気記録
か、または追記型光記録であるかによって、レーザパワ
ーを調整する。
または光学密度が、イットリウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇ
ａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）から構成され、酸素
（Ｏ）を除いたときの組成比が、Ｙ＝４６at.%、Ｇａ＝
１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%であるようなターゲットを用
いて製膜された膜の１．５倍以上になるような波長を選
択する。また、行おうとする記録方式が、光磁気記録
か、または追記型光記録であるかによって、レーザパワ
ーを調整する。
【００１８】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の一形態につ
いて、図面、および表を参照して説明する。
いて、図面、および表を参照して説明する。
【００１９】＜第１の実施の形態＞図１は、本発明に係
わる第１の実施の形態において用いられる記録媒体の構
成を示す図である。無アルカリガラスを使用した基板１
と、その基板１上に積層したビスマス（Ｂｉ）、イット
リウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素
（Ｏ）を含む非磁性のガーネット下地膜２、およびビス
マス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇ
ａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含み、酸素（Ｏ）を除
いたときの各元素の組成比がＢｉ＝３８at.%、Ｄｙ＝８
at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%であるような焼
結ターゲットから、高周波スパッタ法で製膜し、その後
ガーネットとして結晶化させた記録層３から構成され
る。
わる第１の実施の形態において用いられる記録媒体の構
成を示す図である。無アルカリガラスを使用した基板１
と、その基板１上に積層したビスマス（Ｂｉ）、イット
リウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素
（Ｏ）を含む非磁性のガーネット下地膜２、およびビス
マス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇ
ａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含み、酸素（Ｏ）を除
いたときの各元素の組成比がＢｉ＝３８at.%、Ｄｙ＝８
at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%であるような焼
結ターゲットから、高周波スパッタ法で製膜し、その後
ガーネットとして結晶化させた記録層３から構成され
る。
【００２０】《光記録媒体の作製方法》次に、図１に示
した記録媒体の作製方法について表１、表２を参照して
説明する。表１は、基板１上に記録層３を製膜するとき
のスパッタ条件を示し、表２は、記録層３を結晶化させ
るときの熱処理条件を示している。
した記録媒体の作製方法について表１、表２を参照して
説明する。表１は、基板１上に記録層３を製膜するとき
のスパッタ条件を示し、表２は、記録層３を結晶化させ
るときの熱処理条件を示している。
【００２１】
【表１】
【表２】 まず、基板１として無アルカリガラスを用い、この無ア
ルカリガラス基板１上にビスマス（Ｂｉ）、イットリウ
ム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）
を含む非磁性のガーネット下地膜２を積層した。
ルカリガラス基板１上にビスマス（Ｂｉ）、イットリウ
ム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）
を含む非磁性のガーネット下地膜２を積層した。
【００２２】次に、表１に示した製膜条件（スパッタ条
件）で下地膜２が積層された無アルカリガラス基板１上
に、ビスマス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリ
ウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含み、酸素
（Ｏ）を除いたときの各元素の組成比がＢｉ＝３８at.
%、Ｄｙ＝８at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%で
あるような焼結ターゲットから、高周波スパッタ法によ
り、ビスマス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリ
ウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）から成る非晶質
膜を製膜した。その後、表２に示した熱処理条件で結晶
化させビスマス添加磁性ガーネット膜３を作製した。
件）で下地膜２が積層された無アルカリガラス基板１上
に、ビスマス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリ
ウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含み、酸素
（Ｏ）を除いたときの各元素の組成比がＢｉ＝３８at.
%、Ｄｙ＝８at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%で
あるような焼結ターゲットから、高周波スパッタ法によ
り、ビスマス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリ
ウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）から成る非晶質
膜を製膜した。その後、表２に示した熱処理条件で結晶
化させビスマス添加磁性ガーネット膜３を作製した。
【００２３】《光記録媒体の記録方法》次に、このよう
にして作製された光記録媒体の光磁気記録方法について
説明する。
にして作製された光記録媒体の光磁気記録方法について
説明する。
【００２４】先ず、光磁気記録を行うために、１ＭＨｚ
の周波数で変調した波長が５１４．５ｎｍのレーザを、
媒体面でのパワーが４．８ｍＷになるように照射した。
これにより、光磁気記録を行うことができた。このとき
のビット長は１．５μｍ、ビット幅は１μｍであった。
の周波数で変調した波長が５１４．５ｎｍのレーザを、
媒体面でのパワーが４．８ｍＷになるように照射した。
これにより、光磁気記録を行うことができた。このとき
のビット長は１．５μｍ、ビット幅は１μｍであった。
【００２５】次に、図１に示した光記録媒体で追記型光
記録を行う方法について表３を参照して説明する。
記録を行う方法について表３を参照して説明する。
【００２６】
【表３】 表３に示す条件により、レーザーパワーが１３ｍＷ，波
長が５１４．５ｎｍのレーザ光を記録層３に照射したと
ころ、消去できないビットが形成された。また、記録層
３を構成するガーネット膜を偏光顕微鏡で観察したとこ
ろ、検光子を回転してもビット部のコントラストは変化
しなかった。したがって、ビット部は垂直磁化成分を持
っていないことが確認された。次に、表面の凹凸を原子
間力顕微鏡（ＡＦＭ）で評価したところ、ビット部は周
辺部（未記録部）より凸になっていた。このとき形成さ
れたビット部の幅は１．５μｍ、長さは３μｍであっ
た。
長が５１４．５ｎｍのレーザ光を記録層３に照射したと
ころ、消去できないビットが形成された。また、記録層
３を構成するガーネット膜を偏光顕微鏡で観察したとこ
ろ、検光子を回転してもビット部のコントラストは変化
しなかった。したがって、ビット部は垂直磁化成分を持
っていないことが確認された。次に、表面の凹凸を原子
間力顕微鏡（ＡＦＭ）で評価したところ、ビット部は周
辺部（未記録部）より凸になっていた。このとき形成さ
れたビット部の幅は１．５μｍ、長さは３μｍであっ
た。
【００２７】このように、記録層３におけるレーザを照
射した部分の結晶構造や組成が熱のために変化し、垂直
磁化成分を持たないビットが追記的に形成されたことが
確認された。
射した部分の結晶構造や組成が熱のために変化し、垂直
磁化成分を持たないビットが追記的に形成されたことが
確認された。
【００２８】＜第２の実施の形態＞図２は、本発明に係
わる第２の実施の形態において用いられる、記録媒体の
構成を示す図である。この光記録媒体は、無アルカリガ
ラスを使用した基板４と、ビスマス（Ｂｉ）、ジスプロ
シウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素
（Ｏ）を含み、酸素（Ｏ）を除いたときの各元素の組成
比が、Ｂｉ＝３２at.%、Ｄｙ＝１４at.%、Ｇａ＝１３a
t.%、Ｆｅ＝４１at.%であるような焼結ターゲットから
高周波スパッタ法で製膜された非晶質膜５から構成され
る。
わる第２の実施の形態において用いられる、記録媒体の
構成を示す図である。この光記録媒体は、無アルカリガ
ラスを使用した基板４と、ビスマス（Ｂｉ）、ジスプロ
シウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素
（Ｏ）を含み、酸素（Ｏ）を除いたときの各元素の組成
比が、Ｂｉ＝３２at.%、Ｄｙ＝１４at.%、Ｇａ＝１３a
t.%、Ｆｅ＝４１at.%であるような焼結ターゲットから
高周波スパッタ法で製膜された非晶質膜５から構成され
る。
【００２９】《光記録媒体の作製方法》次に、図２に示
した記録媒体の作製方法について説明すると、記録層５
を構成する非晶質膜の成膜条件は、表１に示したものと
同じである。
した記録媒体の作製方法について説明すると、記録層５
を構成する非晶質膜の成膜条件は、表１に示したものと
同じである。
【００３０】すなわち、基板１として無アルカリガラス
を用い、この無アルカリガラス基板１上に、表１に示し
た製膜条件（スパッタ条件）で、ビスマス（Ｂｉ）、ジ
スプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆ
ｅ）、酸素（Ｏ）を含み、酸素（Ｏ）を除いたときの各
元素の組成比がＢｉ＝３２at.%、Ｄｙ＝１４at.%、Ｇａ
＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%であるような焼結ターゲッ
トから、高周波スパッタ法により、ビスマス（Ｂｉ）、
ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆ
ｅ）、酸素（Ｏ）から成る非晶質膜を製膜して記録層５
とした。
を用い、この無アルカリガラス基板１上に、表１に示し
た製膜条件（スパッタ条件）で、ビスマス（Ｂｉ）、ジ
スプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆ
ｅ）、酸素（Ｏ）を含み、酸素（Ｏ）を除いたときの各
元素の組成比がＢｉ＝３２at.%、Ｄｙ＝１４at.%、Ｇａ
＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%であるような焼結ターゲッ
トから、高周波スパッタ法により、ビスマス（Ｂｉ）、
ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆ
ｅ）、酸素（Ｏ）から成る非晶質膜を製膜して記録層５
とした。
【００３１】《光記録媒体の記録方法》次に、図２に示
した光記録媒体で追記型光記録を行う方法について表
４、表５を参照して説明する。表４は、第２の実施の形
態に対する追記型光記録におけるレーザに関する条件を
示し、表５は、第２の実施の形態で追記型光記録を行っ
た後に、結晶化の為の熱処理を行う条件を示している。
した光記録媒体で追記型光記録を行う方法について表
４、表５を参照して説明する。表４は、第２の実施の形
態に対する追記型光記録におけるレーザに関する条件を
示し、表５は、第２の実施の形態で追記型光記録を行っ
た後に、結晶化の為の熱処理を行う条件を示している。
【００３２】
【表４】
【表５】 波長が５１４．５ｎｍで、パワーが第１の実施の形態よ
り低い７ｍＷのレーザを記録層３に照射したところ、未
記録部より凸になった、長さ３μｍ、幅１μｍの消去で
きないビットが追記的に形成された。
り低い７ｍＷのレーザを記録層３に照射したところ、未
記録部より凸になった、長さ３μｍ、幅１μｍの消去で
きないビットが追記的に形成された。
【００３３】また、表５に示した条件で、熱処理温度が
７２０℃で６０分の熱処理を行ったところ、未記録部
は、光磁気記録が可能なガーネットとして結晶化する
が、追記的に記録されたビットは残ることが確認され
た。
７２０℃で６０分の熱処理を行ったところ、未記録部
は、光磁気記録が可能なガーネットとして結晶化する
が、追記的に記録されたビットは残ることが確認され
た。
【００３４】なお、第１の実施の形態、および第２の実
施の形態において、光磁気記録、および追記型光記録の
用いるレーザの波長を５１４．５ｎｍとしたが、図３に
示すように、ビスマス（Ｂｉ）、希土類元素、ガリウム
（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含む非晶質膜の、
熱発生のもとになる光学密度は短波長になるほど大きく
なるので、記録するために照射するレーザの波長は５１
４．５ｎｍ以下の波長でもよく、そのときのレーザパワ
ーは、表３の値すなわち１３ｍＷ、または表４の値すな
わち７ｍＷ以下でもよい。また、照射するレーザのパワ
ーが１３ｍＷ、または７ｍＷ以上の場合、図３に示すよ
うにビスマス（Ｂｉ）、希土類元素、ガリウム（Ｇ
ａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含む膜の光学密度が、
イットリウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、
酸素（Ｏ）を含む膜の２倍以下、１．５倍以上になる、
５１４．５ｎｍから６５０ｎｍの間の波長のレーザを使
用してもよい。
施の形態において、光磁気記録、および追記型光記録の
用いるレーザの波長を５１４．５ｎｍとしたが、図３に
示すように、ビスマス（Ｂｉ）、希土類元素、ガリウム
（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含む非晶質膜の、
熱発生のもとになる光学密度は短波長になるほど大きく
なるので、記録するために照射するレーザの波長は５１
４．５ｎｍ以下の波長でもよく、そのときのレーザパワ
ーは、表３の値すなわち１３ｍＷ、または表４の値すな
わち７ｍＷ以下でもよい。また、照射するレーザのパワ
ーが１３ｍＷ、または７ｍＷ以上の場合、図３に示すよ
うにビスマス（Ｂｉ）、希土類元素、ガリウム（Ｇ
ａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含む膜の光学密度が、
イットリウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、
酸素（Ｏ）を含む膜の２倍以下、１．５倍以上になる、
５１４．５ｎｍから６５０ｎｍの間の波長のレーザを使
用してもよい。
【００３５】次に、これらの根拠について述べる。図４
に示すように非晶質膜の追記型光記録に必要なレーザの
パワーは、Ｂｉ濃度が高く、光学密度が大きい膜ほど低
い。従って、Ｂｉ添加膜の光学密度がさらに大きくなる
５１４．５ｎｍ以下の波長のレーザを用いる場合は、レ
ーザパワーは低くてすむが、Ｂｉ添加膜と無添加膜の光
学密度の差が縮まる５１４．５ｎｍから６５０ｎｍの間
の波長のレーザを用いる場合は、レーザパワーを高くし
なければならない。
に示すように非晶質膜の追記型光記録に必要なレーザの
パワーは、Ｂｉ濃度が高く、光学密度が大きい膜ほど低
い。従って、Ｂｉ添加膜の光学密度がさらに大きくなる
５１４．５ｎｍ以下の波長のレーザを用いる場合は、レ
ーザパワーは低くてすむが、Ｂｉ添加膜と無添加膜の光
学密度の差が縮まる５１４．５ｎｍから６５０ｎｍの間
の波長のレーザを用いる場合は、レーザパワーを高くし
なければならない。
【００３６】第１の実施の形態、および第２の実施の形
態において、光磁気記録、および追記型光記録の両方式
で記録する記録媒体の、記録層３、５の製膜に用いるタ
ーゲットのＢｉの組成比を、３８at.%、および３２at.%
としたが、ビスマスＢ（ｉ）の組成比は１５at.%から４
５at.%の範囲でもよい。Ｂｉ組成比が０at.%だと、上に
述べたように、追記的なビット形成に必要な発熱量が得
られない。また、ターゲット中のＢｉ組成比が１５at.%
未満の場合、結晶化に必要な熱処理温度が８００℃以上
になり、ガラス基板の耐熱温度を越えてしまうおそれが
ある。本発明者の実験結果によれば、ターゲットにおけ
るＢｉの組成比が２５at.%のとき、７５０℃、１時間の
熱処理で無アルカリガラス基板に損傷を与えずにガーネ
ット単相膜を得ている。
態において、光磁気記録、および追記型光記録の両方式
で記録する記録媒体の、記録層３、５の製膜に用いるタ
ーゲットのＢｉの組成比を、３８at.%、および３２at.%
としたが、ビスマスＢ（ｉ）の組成比は１５at.%から４
５at.%の範囲でもよい。Ｂｉ組成比が０at.%だと、上に
述べたように、追記的なビット形成に必要な発熱量が得
られない。また、ターゲット中のＢｉ組成比が１５at.%
未満の場合、結晶化に必要な熱処理温度が８００℃以上
になり、ガラス基板の耐熱温度を越えてしまうおそれが
ある。本発明者の実験結果によれば、ターゲットにおけ
るＢｉの組成比が２５at.%のとき、７５０℃、１時間の
熱処理で無アルカリガラス基板に損傷を与えずにガーネ
ット単相膜を得ている。
【００３７】これらの結果を考慮し、ターゲットにおけ
るＢｉ組成比の下限を１５at.%とする。また、非晶質膜
で追記型光記録を行う場合は、Ｂｉ量を多くするほど記
録に必要なレーザパワーを小さくできること、および結
晶化のための熱処理が必要ないことから、Ｂｉ組成比の
上限を、図３にデータを示した膜におけるＢｉ組成比の
最大値４６at.%より２４at.%大きな、７０at.%とする。
るＢｉ組成比の下限を１５at.%とする。また、非晶質膜
で追記型光記録を行う場合は、Ｂｉ量を多くするほど記
録に必要なレーザパワーを小さくできること、および結
晶化のための熱処理が必要ないことから、Ｂｉ組成比の
上限を、図３にデータを示した膜におけるＢｉ組成比の
最大値４６at.%より２４at.%大きな、７０at.%とする。
【００３８】第２の実施の形態において使用した記録媒
体は、ガラス基板上に直接非晶質膜を積層したものであ
るが、非磁性ガーネット膜を下地膜として積層した基板
上に非晶質膜を製膜したものでもよい。
体は、ガラス基板上に直接非晶質膜を積層したものであ
るが、非磁性ガーネット膜を下地膜として積層した基板
上に非晶質膜を製膜したものでもよい。
【００３９】第１の実施の形態において下地膜を積層す
る基板に用いるのは、無アルカリガラスのみならず、石
英ガラス、コーニング０３１７、コーニング７０５９な
どのガラス、またはガドリニウム・ガリウム・ガーネッ
ト（ＧＧＧ）、ネオジム・ガリウム・ガーネット（ＮＧ
Ｇ）などの単結晶材料のうちのいずれかでよい。
る基板に用いるのは、無アルカリガラスのみならず、石
英ガラス、コーニング０３１７、コーニング７０５９な
どのガラス、またはガドリニウム・ガリウム・ガーネッ
ト（ＧＧＧ）、ネオジム・ガリウム・ガーネット（ＮＧ
Ｇ）などの単結晶材料のうちのいずれかでよい。
【００４０】なお、第２の実施の形態においては、追記
型光記録を行った後に結晶化のための熱処理をし、追記
的に記録した情報を保持したうえで光磁気記録も可能な
記録媒体を作製したが、追記的光記録のみを可能とす
る、非晶質膜を用いた記録媒体を作製する場合は、熱処
理を行う必要はない。従って、基板４を構成する材料と
しては、無アルカリガラス、石英ガラス、コーニング０
３１７、コーニング７０５９などのガラスや、ガドリニ
ウム・ガリウム・ガーネット（ＧＧＧ）、ネオジム・ガ
リウム・ガーネット（ＮＧＧ）などの単結晶材料のみな
らず、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフ
タレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥ
Ｎ）、ポリイミドなどの樹脂材料でもよい。また、この
場合は光磁気記録を行わないので、使用する希土類元素
はジスプロシウム（Ｄｙ）である必要はない。
型光記録を行った後に結晶化のための熱処理をし、追記
的に記録した情報を保持したうえで光磁気記録も可能な
記録媒体を作製したが、追記的光記録のみを可能とす
る、非晶質膜を用いた記録媒体を作製する場合は、熱処
理を行う必要はない。従って、基板４を構成する材料と
しては、無アルカリガラス、石英ガラス、コーニング０
３１７、コーニング７０５９などのガラスや、ガドリニ
ウム・ガリウム・ガーネット（ＧＧＧ）、ネオジム・ガ
リウム・ガーネット（ＮＧＧ）などの単結晶材料のみな
らず、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフ
タレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥ
Ｎ）、ポリイミドなどの樹脂材料でもよい。また、この
場合は光磁気記録を行わないので、使用する希土類元素
はジスプロシウム（Ｄｙ）である必要はない。
【００４１】以上説明したように、上述した各実施の形
態によれば、酸素を除いたときのＢｉ組成比が、１５a
t.%から４５at.%の間であるような、ビスマス（Ｂ
ｉ）、希土類元素、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸
素（Ｏ）から構成されるターゲットを用いて、基板上に
製膜された、光学密度が、イットリウム（Ｙ）、ガリウ
ム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、および酸素（Ｏ）を含む膜の
１．５倍以上であるような膜を結晶化させた、ガーネッ
ト膜、または同じ組成の非晶質膜を記録材料とし、レー
ザパワーを調整することによって、書換可能な光磁気記
録、および追記型光記録の両記録方式が一枚の記録媒体
で行える。
態によれば、酸素を除いたときのＢｉ組成比が、１５a
t.%から４５at.%の間であるような、ビスマス（Ｂ
ｉ）、希土類元素、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸
素（Ｏ）から構成されるターゲットを用いて、基板上に
製膜された、光学密度が、イットリウム（Ｙ）、ガリウ
ム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、および酸素（Ｏ）を含む膜の
１．５倍以上であるような膜を結晶化させた、ガーネッ
ト膜、または同じ組成の非晶質膜を記録材料とし、レー
ザパワーを調整することによって、書換可能な光磁気記
録、および追記型光記録の両記録方式が一枚の記録媒体
で行える。
【００４２】また、ターゲット、および製膜装置は光磁
気記録媒体用と共通であり、結晶化のための熱処理条件
も光磁気記録媒体を作製する条件と同じであるため、経
済的であり、生産性も高い。
気記録媒体用と共通であり、結晶化のための熱処理条件
も光磁気記録媒体を作製する条件と同じであるため、経
済的であり、生産性も高い。
【００４３】さらに、ビスマス（Ｂｉ）、希土類元素、
ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）から構成さ
れる非晶質膜を記録材料とし、記録方式を追記型光記録
に限れば、ゲルマニウム−テルル−アンチモン（Ｇｅ−
Ｔｅ−Ｓｂ）を記録材料とする相変化記録方式の２／３
以下のパワーで記録が可能である（参照：「イレーザブ
ル光ディスク技術」 173頁、（株）トリケップス、1991
年）。
ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）から構成さ
れる非晶質膜を記録材料とし、記録方式を追記型光記録
に限れば、ゲルマニウム−テルル−アンチモン（Ｇｅ−
Ｔｅ−Ｓｂ）を記録材料とする相変化記録方式の２／３
以下のパワーで記録が可能である（参照：「イレーザブ
ル光ディスク技術」 173頁、（株）トリケップス、1991
年）。
【００４４】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１乃至３の
発明によれば、書換可能な光磁気記録と追記型光記録の
両記録方式を一枚の媒体で行うことが可能となる。
発明によれば、書換可能な光磁気記録と追記型光記録の
両記録方式を一枚の媒体で行うことが可能となる。
【００４５】請求項４、５の発明によれば、追記型光記
録方式で記録できる光記録媒体を提供することができ
る。
録方式で記録できる光記録媒体を提供することができ
る。
【００４６】請求項６、７の発明によれば、書換可能な
光磁気記録と追記型光記録の両記録方式、または追記型
光記録方式で記録できる光記録媒体の作製方法を提供す
ることができる。また、ターゲット、および製膜装置は
光磁気記録媒体用と共通であり、結晶化のための熱処理
条件も光磁気記録媒体を作製する条件と同じであるた
め、経済的で、生産性も高い作製方法を提供できる。
光磁気記録と追記型光記録の両記録方式、または追記型
光記録方式で記録できる光記録媒体の作製方法を提供す
ることができる。また、ターゲット、および製膜装置は
光磁気記録媒体用と共通であり、結晶化のための熱処理
条件も光磁気記録媒体を作製する条件と同じであるた
め、経済的で、生産性も高い作製方法を提供できる。
【００４７】請求項８の発明によれば、相変化記録方式
の２／３以下のパワーで記録が可能となる。
の２／３以下のパワーで記録が可能となる。
【図１】本発明に係る光記録媒体の第１の実施の形態を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図２】本発明に係る光記録媒体の第２の実施の形態を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図３】Ｂｉ、希土類元素、Ｇａ、Ｆｅ、Ｏを含む非晶
質膜の、光学密度の光源波長依存性を示す図である。
質膜の、光学密度の光源波長依存性を示す図である。
【図４】波長が５１４．５ｎｍの光で非晶質膜に追記型
光記録を行ったときの、ＣＮ比の記録パワー依存性を示
す図である。
光記録を行ったときの、ＣＮ比の記録パワー依存性を示
す図である。
１ 基板 ２ 下地膜（非磁性ガーネット膜） ３ 記録層（ビスマス添加磁性ガーネット膜） ４ 基板（無アルカリガラス） ５ 記録層（非晶質膜）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｇ１１Ｂ 7/00 Ｌ Ｇ１１Ｂ 7/00 7/24 ５１１ 7/24 ５１１ 7/26 ５３１ 7/26 ５３１ Ｈ０１Ｆ 10/24 Ｈ０１Ｆ 10/24 Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｘ
Claims (8)
- 【請求項１】 光磁気記録、および追記型光記録の両方
式の記録を可能とする光記録媒体であって、その記録層
として、 酸素（Ｏ）を除いたときのビスマス（Ｂｉ）の組成比が
１５at.%から４５at.%の間の値で、ビスマス（Ｂｉ）、
希土類元素、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素
（Ｏ）を含むターゲットを用いて基板上に製膜されたガ
ーネット膜、 または、同じ組成の非晶質膜を用いることを特徴とする
光記録媒体。 - 【請求項２】 請求項１記載の光記録媒体において、 ガーネットとして結晶化させる前の前記記録層における
光吸収率または光学密度は、 イットリウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、
および酸素（Ｏ）から構成され、酸素（Ｏ）を除いたと
きの組成比が、Ｙ＝４６at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝
４１at.%であるようなターゲットを用いて製膜されたＢ
ｉ無添加膜の１．５倍以上であることを特徴とする光記
録媒体。 - 【請求項３】 請求項１記載の光記録媒体において、 前記記録層が積層される基板として、石英ガラス、無ア
ルカリガラス、コーニング７０５９、コーニング０３１
７などのガラス、またはこれらのガラスに非磁性のガー
ネットを積層したもの、またはガドリニウム・ガリウム
・ガーネット（ＧＧＧ）、ネオジム・ガリウム・ガーネ
ット（ＮＧＧ）などの単結晶材料を使用することを特徴
とする光記録媒体。 - 【請求項４】 追記型光記録方式のみで記録を行う光記
録媒体であって、その記録層として、 酸素（Ｏ）を除いたときのビスマス（Ｂｉ）の組成比が
１５at.%から４５at.%の間の値で、ビスマス（Ｂｉ）、
希土類元素、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素
（Ｏ）を含むターゲットを用いて基板上に製膜されたガ
ーネット膜、 または、酸素（Ｏ）を除いたときのビスマス（Ｂｉ）の
組成比が１５at.%から７０at.%で、ビスマス（Ｂｉ）、
希土類元素、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素
（Ｏ）を含むターゲットを用いて基板上に製膜された非
晶質膜を用いることを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項５】 請求項４記載の光記録媒体において、 前記記録層が積層される基板として、石英ガラス、無ア
ルカリガラス、コーニング７０５９、コーニング０３１
７などのガラス、またはこれらのガラスに非磁性ガーネ
ットを積層したもの、またはガドリニウム・ガリウム・
ガーネット（ＧＧＧ）、ネオジム・ガリウム・ガーネッ
ト（ＮＧＧ）などの単結晶材料、またはポリカーボネー
ト（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、
ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミドなど
の樹脂材料を使用することを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項６】 光磁気記録、および追記型光記録の両方
式の記録を可能とする光記録媒体の作製方法であって、 基板上にビスマス（Ｂｉ）、イットリウム（Ｙ）、ガリ
ウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含む非磁性の
ガーネット下地膜を積層し、 次に、所定の製膜条件で、前記下地膜上に、ビスマス
（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇ
ａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含み、酸素（Ｏ）を除
いたときの各元素の組成比がＢｉ＝３８at.%、Ｄｙ＝８
at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%であるような焼
結ターゲットから、高周波スパッタ法により、ビスマス
（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇ
ａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）から成る非晶質膜を製膜
し、 その後、この非晶質膜を所定の熱処理条件で結晶化させ
て、ビスマス添加磁性ガーネット膜から成る記録層を作
製すること、 を特徴とする光記録媒体の作製方法。 - 【請求項７】 光磁気記録、および追記型光記録の両方
式の記録を可能とする光記録媒体の作製方法であって、 所定の製膜条件で、基板上に、ビスマス（Ｂｉ）、ジス
プロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、
酸素（Ｏ）を含み、酸素（Ｏ）を除いたときの各元素の
組成比がＢｉ＝３２at.%、Ｄｙ＝１４at.%、Ｇａ＝１３
at.%、Ｆｅ＝４１at.%であるような焼結ターゲットか
ら、高周波スパッタ法により、ビスマス（Ｂｉ）、ジス
プロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、
酸素（Ｏ）から成る非晶質膜の記録層を作製すること、 を特徴とする光記録媒体の作製方法。 - 【請求項８】 請求項１記載の光記録媒体の記録に使用
するレーザ光源の波長は、ガーネットとして結晶化させ
る前の前記記録層の光吸収率または光学密度が、イット
リウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素
（Ｏ）から構成され、酸素（Ｏ）を除いたときの組成比
が、Ｙ＝４６at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%で
あるようなターゲットを用いて製膜されたＢｉ無添加膜
の１．５倍以上になる波長、若しくは６５０ｎｍ以下の
波長であり、 かつ記録媒体の盤面に照射されるレーザパワーが０．１
ｍＷから３０ｍＷであることを特徴とする光記録媒体の
記録方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8246518A JPH1092027A (ja) | 1996-09-18 | 1996-09-18 | 光記録媒体、その作製方法、および光記録媒体の記録方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8246518A JPH1092027A (ja) | 1996-09-18 | 1996-09-18 | 光記録媒体、その作製方法、および光記録媒体の記録方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1092027A true JPH1092027A (ja) | 1998-04-10 |
Family
ID=17149595
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8246518A Pending JPH1092027A (ja) | 1996-09-18 | 1996-09-18 | 光記録媒体、その作製方法、および光記録媒体の記録方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1092027A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006025558A1 (en) * | 2004-08-31 | 2006-03-09 | Ricoh Company, Ltd. | Write-onece-read-many optical recording medium and sputtering target thereof |
| WO2006064932A1 (en) * | 2004-12-15 | 2006-06-22 | Ricoh Company, Ltd. | Write-once-read-many optical recording medium |
| JP2007169779A (ja) * | 2005-11-24 | 2007-07-05 | Ricoh Co Ltd | スパッタリングターゲット及びその製造方法、並びに光記録媒体及びその製造方法 |
| CN100450783C (zh) * | 2004-08-31 | 2009-01-14 | 株式会社理光 | 一次写入多次读取的光学记录介质及其溅射靶 |
| CN114807869A (zh) * | 2021-01-21 | 2022-07-29 | 丰田自动车株式会社 | 在基材上形成含铋氧化镓系半导体膜的方法、含铋氧化镓系半导体膜及半导体元件 |
-
1996
- 1996-09-18 JP JP8246518A patent/JPH1092027A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006025558A1 (en) * | 2004-08-31 | 2006-03-09 | Ricoh Company, Ltd. | Write-onece-read-many optical recording medium and sputtering target thereof |
| EP1704058A1 (en) * | 2004-08-31 | 2006-09-27 | Ricoh Company, Ltd. | Write-once-read-many optical recording medium and sputtering target thereof |
| EP1704058A4 (en) * | 2004-08-31 | 2007-03-14 | Ricoh Kk | OPTICAL WORM RECORDING MEDIUM (WORM - WRITE-ONCE-READ-MANY) AND SPUTTER TARGET THEREOF |
| KR100834428B1 (ko) * | 2004-08-31 | 2008-06-04 | 가부시키가이샤 리코 | 스퍼터링 타겟 및 이것의 제조 방법 |
| CN100450783C (zh) * | 2004-08-31 | 2009-01-14 | 株式会社理光 | 一次写入多次读取的光学记录介质及其溅射靶 |
| WO2006064932A1 (en) * | 2004-12-15 | 2006-06-22 | Ricoh Company, Ltd. | Write-once-read-many optical recording medium |
| JP2006192885A (ja) * | 2004-12-15 | 2006-07-27 | Ricoh Co Ltd | 追記型光記録媒体 |
| US8163366B2 (en) | 2004-12-15 | 2012-04-24 | Ricoh Company, Ltd. | Write-once-read-many optical recording medium |
| JP2007169779A (ja) * | 2005-11-24 | 2007-07-05 | Ricoh Co Ltd | スパッタリングターゲット及びその製造方法、並びに光記録媒体及びその製造方法 |
| CN114807869A (zh) * | 2021-01-21 | 2022-07-29 | 丰田自动车株式会社 | 在基材上形成含铋氧化镓系半导体膜的方法、含铋氧化镓系半导体膜及半导体元件 |
| CN114807869B (zh) * | 2021-01-21 | 2024-03-12 | 丰田自动车株式会社 | 在基材上形成含铋氧化镓系半导体膜的方法、含铋氧化镓系半导体膜及半导体元件 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6893746B1 (en) | Magnetic recording medium with high thermal stability, method for producing the same, and magnetic recording apparatus | |
| EP0600698B1 (en) | Magnetooptical recording medium | |
| EP0684598B1 (en) | Thermal recording medium capable of keeping width of mark train constant and recording method for the same | |
| JPH1092027A (ja) | 光記録媒体、その作製方法、および光記録媒体の記録方法 | |
| JP2005223177A (ja) | 磁性膜の形成方法、磁性パターンの形成方法及び磁気記録媒体の製造方法 | |
| Tailhades et al. | Thin films and fine powders of ferrites: Materials for magneto-optical recording media | |
| Suzuki | Magneto-optic recording materials | |
| JP2005228912A (ja) | 磁性膜の形成方法、磁性パターンの形成方法及び磁気記録媒体の製造方法 | |
| US20030179658A1 (en) | Information recording medium, information recording apparatus, and recording method | |
| JPH1092028A (ja) | 溝無し基板を用いた光記録媒体、およびその作製方法 | |
| JPH0328739B2 (ja) | ||
| JPH0573990A (ja) | 光記録方法、光記録再生方法、光記録材料及び光記録装置 | |
| JPH06302029A (ja) | 光磁気記録媒体及びその記録方法 | |
| JP2001283463A (ja) | 情報記録媒体及び情報記録・再生方法 | |
| JP3475263B2 (ja) | 情報記録媒体 | |
| JP2005223178A (ja) | 磁性膜の形成方法、磁性パターンの形成方法及び磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2006147046A (ja) | 磁気記録媒体、磁気記録媒体の製造方法、および磁気記録装置 | |
| JP2000195034A (ja) | 磁気記録媒体とその製造方法 | |
| JPS61104442A (ja) | 光磁気記録媒体と光磁気記録方法 | |
| JPS6189604A (ja) | 金属酸化物磁性体および磁性膜 | |
| JPH081710B2 (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH05314553A (ja) | 光磁気記録媒体及びその作製方法 | |
| JPH07225978A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH03122846A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH0869641A (ja) | 光磁気記録媒体とその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040928 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050208 |