JPH1088399A - Electrolytic silver stripping agent, stripping solution and electrolytic stripping method - Google Patents

Electrolytic silver stripping agent, stripping solution and electrolytic stripping method

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JPH1088399A
JPH1088399A JP24195396A JP24195396A JPH1088399A JP H1088399 A JPH1088399 A JP H1088399A JP 24195396 A JP24195396 A JP 24195396A JP 24195396 A JP24195396 A JP 24195396A JP H1088399 A JPH1088399 A JP H1088399A
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JP
Japan
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silver
stripping
electrolytic
acid
solution
Prior art date
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Pending
Application number
JP24195396A
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Japanese (ja)
Inventor
Yukio Nishihama
幸男 西浜
Norio Ozeki
紀夫 大関
Seiichi Ishii
清一 石井
Shuichi Yoshikawa
修一 吉川
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Okuno Chemical Industries Co Ltd
Original Assignee
Okuno Chemical Industries Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To electrolytically strip silver efficiently without using a cyan agent by using an aq. soln. contg. an aliphatic org. acid and its salt as a stripping soln. SOLUTION: This electrolytic stripping soln. contains an aliphatic org. acid and at least one kind of its salt as the effective components and prepared by dissolving an electrolytic silver stripping agent contg. a nonionic surfactant, as required, as the auxiliary component in water. The soln. is controlled to pH 4-14, a material to be stripped is dipped in the soln., and electrolysis is conducted at 10-80 deg.C and 0.5-10A/dm<2> current density with the material as an anode. Consequently, silver is electrolytically stripped efficiently without damaging the base metal, the stability of the effective components is increased in the soln., the bath life is prolonged, and safety is enhanced.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、銀の電解剥離剤及
び剥離液並びに電解剥離方法に関し、特にシアン化合物
を使用しない銀の電解剥離液を調製するための剥離剤並
びに銀の電解剥離液及びそれを用いた銀の電解剥離方法
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrolytic stripping agent for silver, a stripping solution, and an electrolytic stripping method. The present invention relates to a silver electrolytic peeling method using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術及びその課題】一般に、リードフレーム等
電子部品では半導体チップ搭載部(いわゆるパット部
分)に銀の部分めっきを施す場合、めっき不要部分にマ
スキングすることによって必要部分へのみめっきを施す
様にしている。しかし、この様なマスキング処理を施し
ても、必要部分以外にもめっきがはみ出して形成され、
剥離が必要な場合がある。この様な場合において、剥離
対象物を剥離液に浸潰し、陽極電解することにより不要
部分のめっき皮膜を剥離することが行われている。
2. Description of the Related Art In general, when a semiconductor chip mounting portion (so-called pad portion) is subjected to partial plating of silver in an electronic component such as a lead frame, the plating is performed only on a necessary portion by masking a plating unnecessary portion. I have to. However, even if such a masking process is performed, plating is formed by protruding beyond a required portion,
Peeling may be required. In such a case, an object to be stripped is immersed in a stripping solution, and an unnecessary portion of the plating film is stripped by anodic electrolysis.

【0003】この様な剥離液としては、古くはシアン化
ナトリウム、シアン化カリウム等のシアン化合物を含有
する液が知られているが、シアン化合物は強い毒性があ
り、排水処理、薬品の管理、作業上の安全管理等に間題
が生じるため、取り扱いに注意が必要である。また、こ
の液の特性として、素材金属を腐食したり、必要な銀め
っき部分の表面に過度のエッチングが発生する。
As such a stripping solution, a solution containing a cyan compound such as sodium cyanide and potassium cyanide has been known for a long time. However, the cyan compound is highly toxic, and is highly toxic. Care must be taken when handling, as problems arise in safety management and the like. In addition, the characteristics of this solution are that the material metal is corroded, and excessive etching occurs on the surface of the required silver-plated portion.

【0004】近年ではいくつかのノーシアンタイプの剥
離液が報告されているが、個々に間題がある。例えば、
特公平5−87598号公報には、コハク酸イミド及び
/又はフタル酸イミドとアルカリ金属水酸化物を主成分
とする剥離液が報告されているが、主成分であるコハク
酸イミドやフタル酸イミドは水溶液中では不安定であ
り、加水分解等によりその効果が著しく低下するため、
浴寿命が極端に短くなり、さらに適応できるpH範囲が
狭いと言う欠点がある。
In recent years, several cyanide-type strippers have been reported, but each has its own problems. For example,
Japanese Patent Publication No. 87587/1993 discloses a stripping solution containing succinimide and / or phthalic imide and an alkali metal hydroxide as main components. Is unstable in an aqueous solution, and its effect is significantly reduced due to hydrolysis and the like.
There is a drawback that the bath life becomes extremely short and the applicable pH range is narrow.

【0005】また、特開平2−175825号公報に
は、バルビツール酸、ウラシル、グルタルイミド、2−
ピロリドン、3−ピロリドン、2−ピロリドン−5−カ
ルボン酸、プロリン等の様に−NH−を有する5員環及
び6員環化含物から選ぼれる1種以上の化合物を主剤と
し、アルカリ成分、界面活性剤を含有する剥離液が報告
されているが、これらの主剤は剥離金属との錯体形成作
用が弱く、浴中に不溶性の金属水酸化物等を生じるため
剥離物へ付着し、ワイヤーボンディング特性の信頼性が
低下するため、浴寿命が短く、長期使用ができない。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-175825 discloses barbituric acid, uracil, glutarimide,
One or more compounds selected from a 5-membered ring and a 6-membered cyclized compound having -NH-, such as pyrrolidone, 3-pyrrolidone, 2-pyrrolidone-5-carboxylic acid, and proline, as a main component, and an alkali component, Strippers containing surfactants have been reported, but these base agents have a weak complexing effect with the stripping metal and form insoluble metal hydroxides in the bath. Since the reliability of the characteristics is reduced, the bath life is short and long-term use is not possible.

【0006】さらに、特開平7−243100号公報に
は、ヒダントイン化合物を含有する剥離液が報告されて
いるが、特異的に銀めっき部分を攻撃するため銀パット
部分に光沢ムラ等が発生し、処理品の形状によっては、
使用可能電流密度域が制約される弊害があった。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-243100 discloses a stripper containing a hydantoin compound. However, since the stripper specifically attacks the silver-plated portion, unevenness in gloss occurs in the silver pad portion. Depending on the shape of the processed product,
There is a problem that the usable current density range is restricted.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の如き
従来技術の問題点を解決するため鋭意研究を重ねてきた
結果、脂肪族有機酸及びその塩を有効成分として含有す
る水溶液を剥離液として用いることにより、素材金属を
痛めることなく銀を効率良く電解剥離することができる
こと、該剥離液の有効成分の液中での安定性が高く浴寿
命が長いことを見いだし本発明に到った。
The inventor of the present invention has conducted intensive studies to solve the problems of the prior art as described above. As a result, the aqueous solution containing an aliphatic organic acid and a salt thereof as an active ingredient was peeled off. By using as a liquid, it has been found that silver can be efficiently electrolytically peeled off without damaging the base metal, and that the effective component of the peeling liquid has high stability in the liquid and a long bath life, and has led to the present invention. Was.

【0008】即ち、本発明は、脂肪族有機酸及びその塩
の少なくとも一種を含有し、必要に応じて補助成分とし
てノニオン性界面活性剤を含有する銀の電解剥離剤、該
電解剥離剤を含有する水溶液からなる銀の電解剥離液並
びに該電解剥離液をpH4〜14とし、これに剥離対象
物を浸漬し、該剥離対象物を陽極として、液温10〜8
0℃、電流密度0.5〜10A/dm2の操作範囲で電
解することを特徴とする銀の電解剥離方法を提供するも
のである。
That is, the present invention provides an electrolytic stripping agent for silver containing at least one of an aliphatic organic acid and a salt thereof, and, if necessary, a nonionic surfactant as an auxiliary component. The pH of the electrolytic stripping solution of silver and the electrolytic stripping solution consisting of an aqueous solution to be removed is adjusted to pH 4 to 14, and the object to be stripped is immersed in the solution.
It is intended to provide a method for electrolytically exfoliating silver, characterized in that electrolysis is carried out in an operating range of 0 ° C. and a current density of 0.5 to 10 A / dm 2 .

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】電解剥離剤 本発明の電解剥離剤を水溶液にすることにより、銀の電
解剥離液として使用できる。本発明の電解剥離剤は有効
成分として脂肪族有機酸又はその塩を含有する。脂肪族
有機酸又はその塩は一種を単独で又は二種以上を混合し
て使用できる。脂肪族有機酸又はその塩としては、剥離
液に可溶性であれば特に限定はなく、例えば、炭素数1
〜10程度のものを使用でき、具体的には、酢酸、乳
酸、コハク酸、酒石酸、リンゴ酸、クエン酸、グルコン
酸及びグリコール酸並びにそのカリウム、ナトリウム等
のアルカリ金属塩を使用できる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Electrolytic stripping agent The electrolytic stripping agent of the present invention can be used as an aqueous silver stripping solution by converting it into an aqueous solution. The electrolytic stripping agent of the present invention contains an aliphatic organic acid or a salt thereof as an active ingredient. The aliphatic organic acids or salts thereof can be used alone or as a mixture of two or more. The aliphatic organic acid or salt thereof is not particularly limited as long as it is soluble in the stripping solution.
About 10 to about 10 can be used, and specifically, acetic acid, lactic acid, succinic acid, tartaric acid, malic acid, citric acid, gluconic acid, glycolic acid and alkali metal salts thereof such as potassium and sodium can be used.

【0010】本発明の電解剥離剤は、有効成分のみでも
十分な剥離性能を有するが、必要に応じて補助成分とし
てノニオン性界面活性剤等を併用することができる。ノ
ニオン性界面活性剤としては、剥離液に可溶性であれば
特に限定はなく、例えば、分子量が200〜20000
程度のポリエチレングリコールを使用できる。ポリエチ
レングリコール等のノニオン性界面活性剤を添加するこ
とにより、銀の電解剥離液として使用するときに、下地
金属表面を一層荒らすことなく銀のみを選択的に剥離す
ることが可能であり、さらに剥離金属が陰極表面に祈出
する際に浴中に浮遊することを抑制することができる。
Although the electrolytic stripping agent of the present invention has a sufficient stripping performance only with the active ingredient, a nonionic surfactant or the like can be used in combination as an auxiliary component, if necessary. The nonionic surfactant is not particularly limited as long as it is soluble in the stripping solution. For example, the nonionic surfactant has a molecular weight of 200 to 20,000.
A degree of polyethylene glycol can be used. By adding a nonionic surfactant such as polyethylene glycol, it is possible to selectively peel off only silver without further roughening the underlying metal surface when used as an electrolytic stripping solution for silver. It is possible to prevent the metal from floating in the bath when praying on the cathode surface.

【0011】その他の補助成分としては脂肪族アミノカ
ルボン酸又はその塩を使用できる。脂肪族アミノカルボ
ン酸又はその塩は一種を単独で又は二種以上を混合して
使用できる。脂肪族アミノカルボン酸又はそのアルカリ
金属塩を添加することにより、銀の電解剥離液として使
用するときに、浴伝導性が向上し、安定した剥離性能が
維持できる。
As other auxiliary components, aliphatic aminocarboxylic acids or salts thereof can be used. The aliphatic aminocarboxylic acids or salts thereof can be used alone or as a mixture of two or more. By adding an aliphatic aminocarboxylic acid or an alkali metal salt thereof, when used as an electrolytic stripping solution for silver, bath conductivity is improved, and stable stripping performance can be maintained.

【0012】脂肪族アミノカルボン酸又はその塩として
は、剥離液に可溶性であれば特に限定はなく、例えば、
炭素数1〜10程度の脂肪族鎖を有するものを使用で
き、具体的には、グリシン、グリシルグリシン、グリシ
ルグリシルグリシン、グリシルアラニン、アラニン、ア
ミノ酪酸、アミノカプロン酸、バリン、ロイシン、イソ
ロイシン、セリン、トレオニン、システイン、シスチ
ン、メチオニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、リジ
ン及びアルギニン並びにそれらのカリウム、ナトリウム
等のアルカリ金属塩、塩酸塩、硫酸塩、酢酸塩を使用で
きる。
The aliphatic aminocarboxylic acid or a salt thereof is not particularly limited as long as it is soluble in a stripping solution.
Those having an aliphatic chain having about 1 to 10 carbon atoms can be used, and specifically, glycine, glycylglycine, glycylglycylglycine, glycylalanine, alanine, aminobutyric acid, aminocaproic acid, valine, leucine, isoleucine , Serine, threonine, cysteine, cystine, methionine, aspartic acid, glutamic acid, lysine and arginine and their alkali metal salts such as potassium and sodium, hydrochlorides, sulfates and acetates can be used.

【0013】本発明の電解剥離剤に、NaOH、KOH
等のアルカリ金属水酸化物を添加することにより、水溶
液としたときのpHを調整することができる。また、必
要に応じて、ほう酸、ほう酸カリウム、ほう酸ナトリウ
ム等のpH緩衝剤を添加することができる。
[0013] The electrolytic stripping agent of the present invention includes NaOH, KOH
The pH of the aqueous solution can be adjusted by adding an alkali metal hydroxide such as If necessary, a pH buffer such as boric acid, potassium borate, and sodium borate can be added.

【0014】電解剥離液 本発明の電解剥離液は、本発明の電解剥離剤の水溶液に
相当する。従って、本発明の電解剥離液は、有効成分と
して脂肪族有機酸又はその塩を含有し、必要に応じて補
助成分としてノニオン性界面活性剤、脂肪族有機酸又は
その塩等を含有する。脂肪族有機酸又はその塩は一種を
単独で又は二種以上を混合して使用できる。脂肪族有機
酸及びその塩の含有量は10〜300g/l、好ましく
は50〜150g/lとすることができる。10g/l
末満では充分な浴伝導性が得られず、十分な剥離効果が
得られない。また、300g/lを上回る場合には飽和
状態に近づくため溶解性が低下し、さらに不経済であり
好ましくない。
Electrolytic Stripping Solution The electrolytic stripping solution of the present invention corresponds to an aqueous solution of the electrolytic stripping agent of the present invention. Therefore, the electrolytic stripping solution of the present invention contains an aliphatic organic acid or a salt thereof as an active ingredient, and optionally contains a nonionic surfactant, an aliphatic organic acid or a salt thereof as an auxiliary ingredient. The aliphatic organic acids or salts thereof can be used alone or as a mixture of two or more. The content of the aliphatic organic acid and its salt can be 10 to 300 g / l, preferably 50 to 150 g / l. 10g / l
If it is not sufficient, sufficient bath conductivity cannot be obtained, and a sufficient peeling effect cannot be obtained. On the other hand, if it exceeds 300 g / l, the solubility approaches the saturated state, so that the solubility decreases, which is uneconomical.

【0015】ノニオン性界面活性剤の含有量は0.1〜
50g/l、好ましくはl〜10g/lとすることがで
きる。0.1g/l未満では充分な効果が得られず、5
0g/lを上回る場合には不経済であり好ましくない。
脂肪族アミノカルボン酸及びその塩の含有量は5〜30
0g/l、好ましくは10〜50g/lとすることがで
きる。5g/l未満では充分な効果が得られず、300
g/lを上回る場合には飽和状態が近づくため溶解性が
低下し、さらに不経済であり好ましくない。
The content of the nonionic surfactant is from 0.1 to
It can be 50 g / l, preferably 1 to 10 g / l. If it is less than 0.1 g / l, a sufficient effect cannot be obtained, and
If it exceeds 0 g / l, it is uneconomical and not preferable.
The content of the aliphatic aminocarboxylic acid and its salt is 5 to 30.
0 g / l, preferably 10 to 50 g / l. If it is less than 5 g / l, a sufficient effect cannot be obtained, and 300
If the amount is more than g / l, the solubility will decrease due to the approach of the saturated state, which is not economical and is not preferred.

【0016】本発明の電解剥離液のpHは4〜14、好
ましくは6〜10とするのがよく、必要に応じて、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化
物及び有効成分である脂肪族有機酸を使用して調整する
ことができる。pHが上記範囲より低い場合は、素材金
属のエッチングにより安定した剥離性能が得られない場
合がある。また、必要に応じて、ほう酸、ほう酸カリウ
ム、ほう酸ナトリウム等のpH緩衝剤を添加することが
できる。
The pH of the electrolytic stripping solution of the present invention is preferably 4 to 14, preferably 6 to 10, and if necessary, an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide and an active ingredient. It can be adjusted using certain aliphatic organic acids. If the pH is lower than the above range, stable peeling performance may not be obtained due to etching of the base metal. If necessary, a pH buffer such as boric acid, potassium borate, and sodium borate can be added.

【0017】電解剥離方法 本発明の電解剥離液を使用することにより、素材金属上
の銀を効率よく剥離することができる。本発明の電解剥
離方法は、銅又は銅合金上に銀めっきを施した場合に、
不要部分に施された銀めっきを選択的に剥離するために
特に有効である。
Electrolytic Stripping Method By using the electrolytic stripping solution of the present invention, silver on the base metal can be stripped efficiently. The electrolytic stripping method of the present invention, when subjected to silver plating on copper or copper alloy,
It is particularly effective for selectively removing silver plating applied to unnecessary portions.

【0018】電解剥離液をpH4〜14とし、これに剥
離対象物を浸漬し、該剥離対象物を陽極として、液温1
0〜80℃、電流密度0.5〜10A/dm2の操作範
囲で電解する。液温はl0〜80℃と広い範囲で使用可
能であるが15〜40℃が好適である。剥離時の陽極電
流密度は0.5〜l0A/dm2と広い範囲で使用可能
であり特に限定されないが、この範囲を下回ると剥離に
要する時間が長くなるため好ましくなく、上回ると素材
金属に対するエッチングが強まるため好ましくない。
The electrolytic stripping solution is adjusted to pH 4 to 14, and the object to be stripped is immersed in the solution.
Electrolysis is performed in an operating range of 0 to 80 ° C and a current density of 0.5 to 10 A / dm 2 . The liquid temperature can be used in a wide range of 10 to 80 ° C, but 15 to 40 ° C is preferable. The anode current density at the time of peeling can be used in a wide range of 0.5 to 10 A / dm 2 and is not particularly limited. However, when the anode current density falls below this range, the time required for peeling becomes longer, which is not preferable. Is not preferred because

【0019】[0019]

【発明の効果】本発明によれば、シアン化合物を使用す
ることなく、銀を効率良く電解剥離することが可能であ
り、また、広い操作範囲において素材金属に悪影響を与
えることがないため、必要部分の銀めっき部分を痛める
ことなく不要部分の銀皮膜を剥離することが可能であ
り、そのため浴管理が容易である。本発明の剥離剤は、
従来の剥離剤に比べ安全性が高く、剥離液は長寿命であ
る。
According to the present invention, silver can be efficiently electrolytically peeled off without using a cyanide compound, and the material metal is not adversely affected in a wide operation range. Unnecessary portions of the silver film can be peeled off without damaging the silver-plated portions, so that bath management is easy. The release agent of the present invention,
The safety is higher than the conventional release agent, and the release liquid has a long life.

【0020】[0020]

【実施例】以下に、実施例を示して本発明を更に詳細に
説明する。表面を研磨した3×5cmの銅板(素材)
に、1.1×1.1cmの部分銀ストライクめっきを実
施し、その上に1×1cmの銀めっきを5μm形成した
試験片を作製し以下の試験に使用した。陰極は、ステン
レススチール製とした。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. 3x5cm copper plate with polished surface (material)
Then, a 1.1 × 1.1 cm partial silver strike plating was performed, and a 1 × 1 cm silver plating having a thickness of 5 μm was formed thereon, and used for the following tests. The cathode was made of stainless steel.

【0021】実施例1 NaOHを使用してpH7.5に調整したクエン酸含有
量が100g/lである水溶液(剥離液)を用いて、試
験片を陽極として30℃で1A/dm2の電流密度で1
分間電解したところ、素材銅表面を侵すことなく、はみ
出しているストライク銀めっき部分のみを剥離できた。
また、剥離液を2週間放置後に同様の剥離試験を行った
が、良好な剥離性能を有し、pHの変動、沈殿等は認め
られなかった。
Example 1 Using an aqueous solution (stripping solution) having a citric acid content of 100 g / l adjusted to pH 7.5 using NaOH and using a test piece as an anode, a current of 1 A / dm 2 at 30 ° C. 1 in density
After electrolysis for a minute, only the protruding strike silver-plated portion could be peeled off without attacking the material copper surface.
A similar stripping test was performed after leaving the stripping solution for 2 weeks. The stripping solution had good stripping performance, and no change in pH or precipitation was observed.

【0022】実施例2 KOHを使用してpH8.5に調整したグルコン酸ナト
リウム含有量が40g/l、酒石酸カリウムナトリウム
含有量が50g/lである水溶液(剥離液)を用いて、
試験片を陽極として20℃で5A/dm2の電流密度で
30秒間電解したところ、素材銅表面を侵すことなく、
はみ出しているストライク銀めっき部分のみを剥離でき
た。また、剥離液を2週間放置後に同様の剥離試験を行
ったが、良好な剥離性能を有し、pHの変動、沈殿等は
認められなかった。
Example 2 Using an aqueous solution (stripping liquid) having a sodium gluconate content of 40 g / l and a potassium sodium tartrate content of 50 g / l adjusted to pH 8.5 using KOH,
When the test piece was used as an anode and electrolyzed at a current density of 5 A / dm 2 at 20 ° C. for 30 seconds, the material copper surface was not attacked.
Only the protruding strike silver-plated portion could be peeled off. A similar stripping test was performed after leaving the stripping solution for 2 weeks. The stripping solution had good stripping performance, and no change in pH or precipitation was observed.

【0023】実施例3 KOHを使用してpH7.5に調整したリンゴ酸ナトリ
ウム含有量が40g/l、アラニン含有量が50g/l
である水溶液(剥離液)を用いて、試験片を陽極として
30℃で2A/dm2の電流密度で30秒間電解したと
ころ、素材銅表面を侵すことなく、はみ出しているスト
ライク銀めっき部分のみを剥離できた。また、剥離液を
2週間放置後に同様の剥離試験を行ったが、良好な剥離
性能を有し、pHの変動、沈殿等は認められなかった。
Example 3 A sodium malate content of 40 g / l and an alanine content of 50 g / l adjusted to pH 7.5 using KOH
Using an aqueous solution (stripping solution), the test piece was used as an anode and electrolyzed at 30 ° C. at a current density of 2 A / dm 2 for 30 seconds. Peeled off. A similar stripping test was performed after leaving the stripping solution for 2 weeks. The stripping solution had good stripping performance, and no change in pH or precipitation was observed.

【0024】実施例4 NaOHを使用してpH9.5に調整したクエン酸ナト
リウム含有量が50g/l、グルコン酸ナトリウム含有
量が10g/l、リジン酢酸塩含有量が30g/l、ポ
リエチレングリコール(分子量:600)含有量が10
g/lである水溶液(剥離液)を用いて、試験片を陽極
として25℃で3A/dm2の電流密度で30秒間電解
したところ、素材銅表面を侵すことなく、はみ出してい
るストライク銀めっき部分のみを剥離できた。また、剥
離液を2週間放置後に同様の剥離試験を行ったが、良好
な剥離性能を有し、pHの変動、沈殿等は認められなか
った。
Example 4 The content of sodium citrate adjusted to pH 9.5 using NaOH was 50 g / l, the content of sodium gluconate was 10 g / l, the content of lysine acetate was 30 g / l, and polyethylene glycol ( (Molecular weight: 600) content is 10
g / l of an aqueous solution (stripping solution), the test piece was used as an anode and electrolyzed at 25 ° C. at a current density of 3 A / dm 2 for 30 seconds. Only the part could be peeled off. A similar stripping test was performed after leaving the stripping solution for 2 weeks. The stripping solution had good stripping performance, and no change in pH or precipitation was observed.

【0025】実施例5 KOHを使用してpH8.5に調整したグルコン酸ナト
リウム含有量が80g/l、ポリエチレングリコール
(分子量:1000)含有量が5g/lである水溶液
(剥離液)を用いて、試験片を陽極として25℃で3A
/dm2の電流密度で30秒間電解したところ、素材銅
表面を侵すことなく、はみ出しているストライク銀めっ
き部分のみを剥離できた。また、剥離液を2週間放置後
に同様の剥離試験を行ったが、良好な剥離性能を有し、
pHの変動等は認められなかった。
Example 5 Using an aqueous solution (stripping liquid) having a sodium gluconate content of 80 g / l and a polyethylene glycol (molecular weight: 1000) content of 5 g / l adjusted to pH 8.5 using KOH. 3A at 25 ° C using the test piece as the anode
When electrolysis was performed for 30 seconds at a current density of / dm 2 , only the protruding strike silver-plated portion could be peeled off without attacking the copper surface of the material. In addition, a similar peeling test was performed after leaving the peeling solution for 2 weeks, and it has a good peeling performance.
No change in pH or the like was observed.

【0026】比較例1 シアン化ナトリウム含有量が100g/l、EDTA含
有量が50g/lである水溶液を用いて、試験片を陽極
として25℃で5A/dm2の電流密度で30秒間電解
したところ、はみ出しているストライク銀めっき部分は
剥離できたが、素材銅表面がエッチングされ、銀表面の
外観も悪化した。
Comparative Example 1 Using an aqueous solution having a sodium cyanide content of 100 g / l and an EDTA content of 50 g / l, a test piece was used as an anode and electrolyzed at 25 ° C. at a current density of 5 A / dm 2 for 30 seconds. However, the protruding strike-silver-plated portion could be peeled off, but the copper surface of the material was etched and the appearance of the silver surface deteriorated.

【0027】比較例2(特公平5−87598号) NaOHを使用してpH8.5に調整したコハク酸イミ
ド含有量が50g/lである水溶液を用いて、試験片を
陽極として25℃で5A/dm2の電流密度で30秒間
電解したところ、はみ出しているストライク銀めっき部
分は剥離できたが、素材銅表面がエッチングされた。ま
た、液を1週問放置後に同様の剥離試験を行ったが、p
Hの修正が必要であり、沈殿が発生した。
Comparative Example 2 (Japanese Examined Patent Publication No. 5-87598) Using an aqueous solution having a succinimide content of 50 g / l adjusted to pH 8.5 using NaOH, using a test piece as an anode at 25 ° C. and 5 A When electrolysis was carried out at a current density of / dm 2 for 30 seconds, the protruding strike silver-plated portion could be peeled off, but the copper surface of the material was etched. A similar peel test was performed after the solution was left for one week.
H needed to be corrected and precipitation occurred.

【0028】比較例3(特開平2−175825号) KOHを使用してpH9.5に調整した2−ピロリドン
−5−カルボン酸含有量が40g/lである水溶液を用
いて、試験片を陽極として30℃で3A/dm2の電流
密度で30秒間電解したところ、はみ出しているストラ
イク銀めっき部分は剥離できたが、素材銅表面がエッチ
ングされた。また、液を2週間放置後に同様の剥離試験
を行ったが、pHの修正が必要であり、沈殿が発生し
た。
Comparative Example 3 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-175825) A test piece was anodicly treated with an aqueous solution having a 2-pyrrolidone-5-carboxylic acid content of 40 g / l adjusted to pH 9.5 using KOH. When electrolysis was performed at 30 ° C. at a current density of 3 A / dm 2 for 30 seconds, the protruding strike-silver plated portion could be peeled off, but the material copper surface was etched. A similar peeling test was performed after leaving the solution for 2 weeks, but the pH had to be corrected, and precipitation occurred.

【0029】比較例4(特開平7−243100号) KOHを使用してpH11.5に調整した5,5−ジメ
チルヒダントイン含有量が70g/lである水溶液を用
いて、試験片を陽極として30℃で8A/dm2の電流
密度で20秒間電解したところ、素材銅表面を侵すこと
なく、はみ出しているストライク銀めっき部分のみを剥
離できたが、銀めっき部分の光沢度が著しく上昇し、外
観ムラが発生した。
Comparative Example 4 (JP-A-7-243100) Using an aqueous solution containing 70 g / l of 5,5-dimethylhydantoin and adjusted to pH 11.5 using KOH, the test piece was used as an anode for 30 minutes. When electrolysis was performed at a current density of 8 A / dm 2 at 20 ° C. for 20 seconds, only the protruding strike silver-plated portion could be peeled off without attacking the material copper surface, but the glossiness of the silver-plated portion was significantly increased, Unevenness occurred.

【0030】〔浴寿命試験〕実施例1〜5並びに比較例
2及び3で使用した剥離液(水溶液)を用いて、48時
間の電解試験を実施した。実施例1〜5の剥離液では、
何れもpHの変動もなく安定した剥離性能を示し、沈殿
の発生も認められなかった。比較例2で使用した水溶液
では、2時間ごとにコハク酸イミド濃度及びpHの調整
が必要であった。比較例3で使用した水溶液では、素材
銅の腐食が激しく、不溶性の沈殿が生じた。
[Bath Life Test] Using the stripping solution (aqueous solution) used in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 2 and 3, a 48 hour electrolysis test was performed. In the stripping solutions of Examples 1 to 5,
All showed stable peeling performance without fluctuation of pH, and no generation of precipitation was observed. In the aqueous solution used in Comparative Example 2, it was necessary to adjust the succinimide concentration and pH every two hours. In the aqueous solution used in Comparative Example 3, the copper material was strongly corroded, and an insoluble precipitate was formed.

【0031】以上の結果から、本発明の剥離剤(剥離
液)を使用することにより、必要部分の銀面および素材
金属に悪影響を及ぼすことなく不要部分の銀めっき皮膜
を剥離できること、しかも、本発明の剥離液は、長期に
わたり安定した剥離性能を有することが判明した。
From the above results, it can be seen that the use of the stripping agent (stripping solution) of the present invention makes it possible to strip unnecessary portions of the silver plating film without adversely affecting the required surface of silver and the material metal. It has been found that the stripping solution of the invention has stable stripping performance over a long period of time.

フロントページの続き (72)発明者 吉川 修一 大阪府大阪市鶴見区放出東1丁目10−25 奥野製薬工業株式会社内Continuation of the front page (72) Inventor Shuichi Yoshikawa 1-10-25 Higashi Higashi, Tsurumi-ku, Osaka-shi, Osaka Inside Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 脂肪族有機酸及びその塩の少なくとも一
種を含有する銀の電解剥離剤。
1. A silver electrolytic stripping agent containing at least one of an aliphatic organic acid and a salt thereof.
【請求項2】 酢酸、乳酸、コハク酸、酒石酸、リンゴ
酸、クエン酸、グルコン酸及びグリコール酸並びにそれ
らのアルカリ金属塩から選ばれる少なくとも一種の脂肪
族有機酸又はその塩を含有する請求項1に記載の銀の電
解剥離剤。
2. The composition according to claim 1, which comprises at least one aliphatic organic acid selected from acetic acid, lactic acid, succinic acid, tartaric acid, malic acid, citric acid, gluconic acid, glycolic acid and alkali metal salts thereof, or a salt thereof. 4. The silver electrolytic stripping agent according to item 1.
【請求項3】 補助成分としてノニオン性界面活性剤を
含有する請求項1又は2に記載の銀の電解剥離剤。
3. The silver stripping agent according to claim 1, further comprising a nonionic surfactant as an auxiliary component.
【請求項4】 ノニオン性界面活性剤として分子量が2
00〜20000のポリエチレングリコールを含有する
請求項3に記載の銀の電解剥離剤。
4. A nonionic surfactant having a molecular weight of 2
The silver electrolytic stripping agent according to claim 3, which contains polyethylene glycol of 00 to 20,000.
【請求項5】 請求項1〜4のいずれかに記載の電解剥
離剤を含有する水溶液からなる銀の電解剥離液。
5. A silver electrolytic stripper comprising an aqueous solution containing the electrolytic stripper according to claim 1. Description:
【請求項6】 脂肪族有機酸及びその塩の含有量が10
〜300g/lである請求項5に記載の銀の電解剥離
液。
6. An aliphatic organic acid and a salt thereof having a content of 10%.
The electrolytic stripping solution for silver according to claim 5, wherein the amount is 300300 g / l.
【請求項7】 ノニオン性界面活性剤の含有量が0.1
〜50g/lである請求項5又は6に記載の銀の電解剥
離液。
7. The nonionic surfactant content is 0.1%.
The electrolytic stripping solution for silver according to claim 5 or 6, wherein the amount is from 50 to 50 g / l.
【請求項8】 請求項5〜7のいずれかに記載の電解剥
離液をpH4〜14とし、これに剥離対象物を浸漬し、
該剥離対象物を陽極として、液温10〜80℃、電流密
度0.5〜10A/dm2の操作範囲で電解することを
特徴とする銀の電解剥離方法。
8. The electrolytic stripping solution according to claim 5, wherein the pH of the solution is 4 to 14, and an object to be stripped is immersed in the solution.
A method for electrolytically stripping silver, comprising using the object to be stripped as an anode and electrolyzing in an operation range of a liquid temperature of 10 to 80 ° C. and a current density of 0.5 to 10 A / dm 2 .
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011021232A (en) * 2009-07-15 2011-02-03 Mitsubishi Shindoh Co Ltd Recycling method for copper or copper alloy scrap subjected to silver plating
JP2011149037A (en) * 2010-01-19 2011-08-04 Mitsubishi Shindoh Co Ltd Method for recycling scrap of copper or copper alloy plated with silver
KR101231788B1 (en) 2010-10-08 2013-02-08 주식회사 삼양애니팜 Composition for Peeling Abalone Off
CN108425145A (en) * 2018-05-09 2018-08-21 泉州市蓝水环保科技有限公司 A kind of nontoxic copper and iron base silver decoating liquid and its withdrawal plating

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