JPH108249A - Device for forming coating onto film-shaped substrate - Google Patents
Device for forming coating onto film-shaped substrateInfo
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- JPH108249A JPH108249A JP16625396A JP16625396A JPH108249A JP H108249 A JPH108249 A JP H108249A JP 16625396 A JP16625396 A JP 16625396A JP 16625396 A JP16625396 A JP 16625396A JP H108249 A JPH108249 A JP H108249A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、金属箔や樹脂フィ
ルムなどのフィルム状基材への膜形成装置に関する。The present invention relates to an apparatus for forming a film on a film-like substrate such as a metal foil or a resin film.
【０００２】[0002]
【従来の技術】金属箔や樹脂フィルム、紙、布などの厚
さの薄いフィルム状の基材表面に薄膜をコーティングす
る装置として、真空蒸着装置やスパッタリング装置など
の膜形成装置が使用されている。このような装置では、
例えば本発明の説明図である図２に示すように、真空槽
１内における蒸発源４からの蒸発物質4aの飛散方向に、
水冷されたコーティングロール８が設けられている。こ
のコーティングロール８にフィルム状の基材５を巻き掛
け走行させながら、この基材５におけるコーティングロ
ール８への巻き掛け領域表面に蒸発物質4aを付着させ、
これによって、基材５表面への膜形成を行うようになっ
ている。2. Description of the Related Art As a device for coating a thin film-like base material surface such as a metal foil, a resin film, paper, cloth, etc. with a thin film, a film forming device such as a vacuum evaporation device or a sputtering device is used. . In such a device,
For example, as shown in FIG. 2 which is an explanatory view of the present invention, in the direction in which the evaporation material 4a
A water-cooled coating roll 8 is provided. While the film-shaped base material 5 is wound around the coating roll 8 and allowed to travel, the evaporant 4a is attached to the surface of the base material 5 where the film 5 is wound around the coating roll 8,
Thus, a film is formed on the surface of the substrate 5.
【０００３】このような膜形成時には、基材５は蒸発源
４からの輻射熱や蒸発物質4aが持ち込む熱等により温度
が上昇する。そこで、基材５に過度の温度上昇が生じて
損傷することのないように、上記のコーティングロール
８は内部に水等の冷却媒体を循環させて冷却されてい
る。そして従来は、基材に対して上記の冷却効果が充分
に与えられるように、コーティングロールは円筒状、す
なわち、その外周面における軸心に平行な母線が真直な
形状（以下、フラット状ともいう）に形成され、これに
より、基材がその幅方向の全体にわたってコーティング
ロールに一様に密着して走行するように構成されてい
る。[0003] During such film formation, the temperature of the base material 5 rises due to radiant heat from the evaporation source 4, heat brought in by the evaporation material 4a, and the like. Therefore, the coating roll 8 is cooled by circulating a cooling medium such as water inside so that the base material 5 is not damaged due to an excessive rise in temperature. Conventionally, the coating roll has a cylindrical shape, that is, a shape in which a generatrix parallel to the axis on the outer peripheral surface is straight (hereinafter, also referred to as a flat shape) so that the above-described cooling effect is sufficiently given to the base material. ), So that the substrate travels in uniform contact with the coating roll over the entire width thereof.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ように外周面がフラット状のコーティングロールを用い
て、例えば10〜100 μｍの厚さの金属箔に0.02μｍ以上
の厚さのコーティングをアーク放電式の真空蒸着にて行
う場合等には、図５に示すように、フィルム状の基材5'
にシワ10…が発生して製品不良になり易いという問題を
生じている。However, using a coating roll having a flat outer peripheral surface as described above, for example, a coating having a thickness of 0.02 μm or more is applied to a metal foil having a thickness of 10 to 100 μm by arc discharge. In the case of performing by vacuum evaporation of the formula, as shown in FIG.
There is a problem that wrinkles 10... Are generated and the product is likely to be defective.
【０００５】つまり、厚さの薄い金属箔等の場合には熱
容量が小さいために、蒸発源4'に対面する領域の温度が
部分的に急上昇し、この温度上昇に伴って熱膨張する。
この熱膨張に伴う基材5'の寸法変化は、その走行方向に
は、基材5'に加えられている張力によってコーティング
ロール8'の外周面を周方向に滑ることで吸収される。し
かしながら、幅方向には張力は加わっておらず、しか
も、基材5'は、フラット形状のコーティングロール8'に
幅方向に一様に密着しているため、図中矢印ｓで示すよ
うな幅方向の変位は、摩擦力Ｆt により全体にわたって
拘束されている。この結果、コーティングロール8'表面
で前記のようなシワ10…が生じるものとなっている。That is, in the case of a thin metal foil or the like, since the heat capacity is small, the temperature of the region facing the evaporation source 4 'sharply rises, and thermal expansion occurs with this temperature rise.
The dimensional change of the base material 5 ′ due to the thermal expansion is absorbed by sliding in the running direction on the outer peripheral surface of the coating roll 8 ′ in the circumferential direction by the tension applied to the base material 5 ′. However, no tension is applied in the width direction, and the base material 5 ′ is uniformly adhered to the flat coating roll 8 ′ in the width direction. direction of displacement is constrained throughout the frictional force F t. As a result, the wrinkles 10 described above occur on the surface of the coating roll 8 '.
【０００６】本発明は、上記した従来の問題点に鑑みな
されたもので、その目的は、コーティングロール上での
シワの発生を抑えて品質に優れたコーティング製品を得
ることの可能なフィルム状基材への膜形成装置を提供す
ることにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and has as its object to provide a film-like base capable of suppressing the occurrence of wrinkles on a coating roll and obtaining a coated product having excellent quality. An object of the present invention is to provide an apparatus for forming a film on a material.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明のフィルム状基材への膜形成装置は、真空
槽内に冷却手段を備えたコーティングロールが設けら
れ、このコーティングロール外周面にフィルム状の基材
を巻き掛け走行させながら、巻き掛け領域における基材
表面に蒸発源からの蒸発物質を付着させ膜形成を行うフ
ィルム状基材への膜形成装置において、上記コーティン
グロールの外周面が、これに巻き掛けられる基材の幅方
向端部側に対応する位置での外径を中央よりも小さくし
て形成されていることを特徴としている。In order to achieve the above object, the present invention provides an apparatus for forming a film on a film-like substrate, comprising a coating roll provided with a cooling means in a vacuum chamber. In a film forming apparatus for forming a film on a film-shaped substrate, the vapor-deposited substance from an evaporation source is adhered to the surface of the substrate in a winding area while the film-shaped substrate is wound around the outer peripheral surface, the coating roll Is formed such that the outer diameter at a position corresponding to the widthwise end of the base material to be wound therearound is smaller than the center.
【０００８】このように、端部側の外径を中央よりも小
さくしたコーティングロールを用いることにより、この
ロールに巻き掛けて走行させるフィルム状基材は、ロー
ルとの密着度合いが端部側で小さくなり、幅方向への変
位に対する摩擦力が低下して拘束力が弱くなる。この結
果、熱膨張に伴う寸法変化を生じる際に、基材の端部側
が幅方向に変位し易くなり、これによって、シワの発生
が抑制され、品質に優れたコーティング製品を得ること
ができる。[0008] As described above, by using the coating roll having the outer diameter at the end side smaller than that at the center, the film-like base material wound around this roll and run has a degree of close contact with the roll at the end side. As a result, the frictional force with respect to the displacement in the width direction is reduced, and the binding force is weakened. As a result, when a dimensional change due to thermal expansion occurs, the end portion side of the base material is easily displaced in the width direction, whereby generation of wrinkles is suppressed, and a coated product excellent in quality can be obtained.
【０００９】上記のようなコーティングロールの外周面
形状としては、例えば請求項２記載のようにクラウン状
とした構成を採用することができ、また、請求項３記載
のように、軸方向中央部に、径方向に局部的に突出する
径大部を設けて構成すること等が可能である。As the outer peripheral surface of the coating roll, for example, a crown-shaped configuration as described in claim 2 can be adopted, and as described in claim 3, an axially central portion can be adopted. It is also possible to provide a large-diameter portion locally projecting in the radial direction.
【００１０】[0010]
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の一
実施形態について説明する。図２は、膜形成装置として
のアーク放電式真空蒸着装置における真空槽１内の要部
構成を模式的に示すものであって、真空槽１内は、隔壁
1aによって蒸着室２と基材走行駆動室３とに区画されて
いる。蒸着室２内には、形成膜に対応する材質から成る
蒸発源４と、図示してはいないが、この蒸発源４の表面
に真空アーク放電を発生させるためのアーク放電発生機
構とが設けられている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 2 schematically shows a main part configuration in a vacuum chamber 1 in an arc discharge type vacuum evaporation apparatus as a film forming apparatus.
The chamber 1a is divided into a vapor deposition chamber 2 and a substrate traveling drive chamber 3 by 1a. An evaporation source 4 made of a material corresponding to the film to be formed and an arc discharge generating mechanism (not shown) for generating a vacuum arc discharge are provided on the surface of the evaporation source 4 in the evaporation chamber 2. ing.
【００１１】一方、基材走行駆動室３内には、フィルム
状の基材５が巻付けられた基材供給ロール６と、基材５
を巻取る巻取ロール７と、コーティングロール８とが配
設されている。コーティングロール８は、前記隔壁1aに
形成されている開口を通して、外周面の一部が蒸着室２
側に突出するように配置されている。このコーティング
ロール８に基材供給ロール６から供給される基材５を巻
き掛けて走行させ、この基材５を巻取ロール７で巻取る
ように構成されている。なお、走行状態の基材４に作用
する張力Ｆp が所定の範囲内で維持されるように、基材
５の走行経路上に張力自動調整装置（図示せず）がさら
に設けられている。On the other hand, a substrate supply roll 6 around which a film-like substrate 5 is wound, and a substrate 5
And a coating roll 8 are provided. A part of the outer peripheral surface of the coating roll 8 passes through the opening formed in the partition wall 1a.
It is arranged to protrude to the side. The base material 5 supplied from the base material supply roll 6 is wound around the coating roll 8 to run, and the base material 5 is wound up by the take-up roll 7. As in the tension F p acting on the substrate 4 of the running state is maintained within a predetermined range, the tension automatic adjuster (not shown) on the travel path of the substrate 5 is further provided.
【００１２】上記のコーティングロール８は、図１に示
すように、外周面がクラウン状、すなわち、外周面にお
ける軸方向に沿う母線Ｌm の形状を半径R1の円弧状にし
て、軸方向端部側の外径を中央よりも小さくした形状で
形成されている。なお、このコーティングロール８に
は、冷却手段としての冷却用配管（図示せず）が内部に
設けられている。この冷却用配管に冷却水を循環させる
ことにより、このコーティングロール８を水冷しながら
回転駆動し得るようになっている。[0012] the coating roll 8 described above, as shown in FIG. 1, the outer peripheral surface crowned, i.e., in the shape of a generating line L m along the axial direction of the outer peripheral surface in an arc shape having a radius R 1, the axial end It is formed in a shape in which the outer diameter on the part side is smaller than the center. The coating roll 8 is provided with a cooling pipe (not shown) as cooling means. By circulating cooling water through the cooling pipe, the coating roll 8 can be driven to rotate while being cooled with water.
【００１３】上記装置により、例えばアルミニウム金属
箔を基材５とし、これに例えばチタン膜をコーティング
するときの操作手順について説明する。まず、基材供給
ロール６に巻付けられた上記の基材５の先端部を、コー
ティングロール８に巻き掛けた後に巻取ロール７に係止
し、真空槽１の基材走行駆動室３内に、図２に示す状態
にセットする。また、蒸着室２内には、蒸発源４として
チタン製のターゲットを装着する。その後、図示しない
真空ポンプを駆動して真空槽１内を排気し、所定の真空
度に達した後に、前記アーク放電発生機構を作動し、カ
ソードとしての蒸発源４と、アーク放電発生機構におけ
るアノード電極との間に所定の電圧を印加することによ
って、蒸発源４の表面にアーク放電を生じさせる。同時
に、コーティングロール８への冷却水の循環を開始し、
また、基材供給ロール６とコーティングロール８および
巻取ロール７とを互いに同期させて回転させ、所定の速
度で基材５の走行を開始させる。The operation procedure when the above apparatus is used to coat, for example, an aluminum metal foil as the substrate 5 and coat it with, for example, a titanium film will be described. First, the front end portion of the base material 5 wound on the base material supply roll 6 is wound around a coating roll 8 and then locked on a take-up roll 7. Is set to the state shown in FIG. In the evaporation chamber 2, a titanium target is mounted as the evaporation source 4. Thereafter, a vacuum pump (not shown) is driven to evacuate the vacuum chamber 1, and after reaching a predetermined degree of vacuum, the arc discharge generating mechanism is operated, and the evaporation source 4 as a cathode and the anode in the arc discharge generating mechanism are operated. An arc discharge is generated on the surface of the evaporation source 4 by applying a predetermined voltage between the electrode and the electrode. At the same time, the circulation of the cooling water to the coating roll 8 is started,
Further, the base material supply roll 6, the coating roll 8 and the take-up roll 7 are rotated in synchronization with each other, and the traveling of the base material 5 is started at a predetermined speed.
【００１４】上記のように、蒸発源４の表面に真空中で
アーク放電を生じさせることにより、放電電流が集中し
たアークスポットによって、蒸発源４表面の微小領域が
蒸気化する。この蒸気はさらに電離してプラズマ流が形
成され、このプラズマ流から、負のバイアス電圧が印加
され、もしくは接地されている前記コーティングロール
８の方向に正イオンが蒸発物質4aとして引き出される。
これが、コーティングロール８に巻き掛けられて走行す
る基材５に付着し、基材５の表面に蒸発源４と同じ材
質、すなわち、チタンから成る膜がコーティングされ
る。この膜厚が所定の厚さとなるように、基材５の走行
速度、およびアーク放電電流を調整しながら上記の膜形
成を継続する。As described above, by generating an arc discharge on the surface of the evaporation source 4 in a vacuum, a minute area on the surface of the evaporation source 4 is vaporized by an arc spot where a discharge current is concentrated. The vapor is further ionized to form a plasma flow, from which positive ions are extracted as vaporized material 4a in the direction of the coating roll 8 to which a negative bias voltage is applied or grounded.
This adheres to the base material 5 which is wound around the coating roll 8 and travels, and the surface of the base material 5 is coated with the same material as the evaporation source 4, that is, a film made of titanium. The above-mentioned film formation is continued while adjusting the traveling speed of the substrate 5 and the arc discharge current so that the film thickness becomes a predetermined thickness.
【００１５】なお、真空槽１内の雰囲気が上記のように
真空の場合は、基材５表面には蒸発源４と同材質の膜が
コーティングされるが、真空槽１内に反応性ガス、例え
ば窒素ガスを導入すると、蒸発物質4aとガスとの反応生
成物、例えばTiＮの膜がコーティングされる。ところ
で、上記のような膜形成時には、コーティングロール８
に巻き掛けられて走行する基材５には、蒸発源４からの
輻射熱や蒸着物質4aが持込む熱等により温度が上昇す
る。これによって温度上昇が過度に生じると基材５が損
傷するために、コーティングロール８にはその内部に水
を循環させて冷却し、これによって、基材５の過熱が防
止されている。When the atmosphere in the vacuum chamber 1 is vacuum as described above, the surface of the substrate 5 is coated with a film of the same material as the evaporation source 4. For example, when nitrogen gas is introduced, a reaction product of the evaporant 4a and the gas, for example, a film of TiN is coated. By the way, when forming a film as described above, the coating roll 8
The temperature of the substrate 5 that is wound around and rises due to radiant heat from the evaporation source 4, heat brought in by the deposition material 4a, and the like. As a result, if the temperature rises excessively, the substrate 5 is damaged, so that the coating roll 8 is cooled by circulating water therein, thereby preventing the substrate 5 from overheating.
【００１６】一方、特に基材５が金属箔の場合には、熱
容量が小さいために局部的な温度の上昇度合いが大き
く、この温度上昇により、前述したように、従来は熱膨
張に起因するシワが生じていた。すなわち、温度上昇に
伴う熱膨張での寸法変化は、その走行方向には、基材５
に加えられている張力Ｆp によって、図２中矢印ｕ・ｕ
で示すように、コーティングロール８の外周面を基材５
が周方向に滑ることで吸収される。しかしながら、幅方
向には張力は加わっておらず、この状態で、従来は基材
がコーティングロールに幅方向に一様に密着した構成で
あるため、基材の幅方向の変位が摩擦力により全体にわ
たって拘束され、この結果、基材にシワが発生してい
た。On the other hand, particularly when the base material 5 is a metal foil, the degree of local temperature rise is large because the heat capacity is small, and as described above, wrinkles caused by thermal expansion are conventionally caused by this temperature rise. Had occurred. That is, the dimensional change due to the thermal expansion due to the temperature rise is caused by
The tension F p being applied to, in FIG. 2 arrow u · u
As shown in the figure, the outer peripheral surface of the coating roll 8 is
Is absorbed by sliding in the circumferential direction. However, no tension is applied in the width direction, and in this state, the base material is conventionally uniformly adhered to the coating roll in the width direction. , And as a result, the substrate had wrinkles.
【００１７】これに対し、本実施形態では、コーティン
グロール８として外周面がクラウン形状のものを使用し
ている。この場合、図１に模式的に示すように、基材５
は、コーティングロール８の軸方向中央部ではこのロー
ル８に密着状態となっているが、端部側に向かうにつれ
て密着度合いは徐々に弱くなり、端の部分では浮き上が
った状態となっている。したがって、端部側では、基材
５がコーティングロール８の表面を、図中矢印ｓで示す
ように軸方向に変位する場合でも、摩擦による拘束力は
弱くなる。On the other hand, in the present embodiment, the coating roll 8 having a crown-shaped outer peripheral surface is used. In this case, as schematically shown in FIG.
Is in close contact with the coating roll 8 at the center in the axial direction of the coating roll 8, but the degree of close contact is gradually weakened toward the end, and the coating is raised at the end. Therefore, on the end portion side, even when the base material 5 displaces the surface of the coating roll 8 in the axial direction as shown by the arrow s in the drawing, the binding force due to friction is weak.
【００１８】この結果、熱膨張に伴って幅方向の寸法変
化が基材５に生じる場合でも、その変化に応じて、基材
５は、コーティングロール８の外周面上を軸方向両側に
滑動する。これにより、従来生じていたシワの発生が無
くなり、品質に優れたコーティング製品を安定して製造
することが可能となる。具体的な製造結果の一例を挙げ
れば、例えば、クラウン状のコーティングロール８とし
て半径R1が 150ｍのものを使用し、厚さ：50μｍ、幅:5
00ｍｍのアルミニウム金属箔に0.１μｍのチタン膜のコ
ーティングを行ったが、シワが無くかつコーティング膜
の付着強度にも優れた良質のコーティング製品を安定し
て製造することができた。As a result, even if a dimensional change in the width direction occurs in the base material 5 due to the thermal expansion, the base material 5 slides on the outer peripheral surface of the coating roll 8 in both axial directions in accordance with the change. . As a result, the occurrence of wrinkles, which has conventionally occurred, is eliminated, and it is possible to stably produce a coated product having excellent quality. As an example of a specific manufacturing results, for example, the radius R 1 is using those 150m as crown-shaped coating roll 8, the thickness: 50 [mu] m, width: 5
A 0.1 μm titanium film was coated on a 00-mm aluminum metal foil, and a high-quality coated product having no wrinkles and excellent adhesion strength of the coating film could be stably manufactured.
【００１９】なお、上記の実施形態は本発明を限定する
ものではなく、本発明の範囲内で種々の変更が可能であ
る。例えば上記では、コーティングロール８の外周面を
母線Ｌm が円弧に沿うクラウン状に形成した例を挙げて
説明したが、その他、母線Ｌ m が例えばサインカーブに
沿う曲面状に形成することや、図３に示すように、軸方
向中央部8aを半径R2の比較的小さな断面湾曲状とし、そ
の両端側8b・8bはテーパ形状にすることによって、端部
側の径を中央よりも細くした形状とすることも可能であ
る。また、図４に示すように、中央部には半径R3の断面
湾曲状の凸部（径大部）8cを設けて局部的に径大とし、
その両側8d・8dは端部に至るまで軸心に平行な円筒面と
した形状とすることも可能であり、これらの形状のコー
ティングロールを用いても、上記実施形態とほぼ同様の
効果を得ることができる。The above embodiments limit the present invention.
However, various modifications are possible within the scope of the present invention.
You. For example, in the above, the outer peripheral surface of the coating roll 8 is
Bus LmIs formed in a crown shape along an arc
As described above, the bus L mBut for example in a sine curve
It can be formed in a curved surface along the axis, or as shown in FIG.
Radius R at the center 8aTwoWith a relatively small cross section
Both ends 8b
It is also possible to make the side diameter smaller than the center.
You. Also, as shown in FIG.ThreeCross section of
A curved convex portion (large diameter portion) 8c is provided to locally increase the diameter,
Both sides 8d ・ 8d have a cylindrical surface parallel to the axis until reaching the end.
It is also possible to use
Even if using a toing roll, almost the same as the above embodiment
The effect can be obtained.
【００２０】一方、上記実施形態ではアーク放電式真空
蒸着装置に本発明を適用した例を挙げたが、例えば蒸着
用ルツボを蒸発源とする蒸着装置や、スパッタリングカ
ソードを蒸発源とするスパッタリング装置などのその他
の膜形成装置に本発明を適用して構成することが可能で
ある。また、上記では、基材５としてアルミニウム金属
箔を用いた例を挙げて説明したが、その他の金属箔や、
金属箔以外の樹脂フィルム等を用いる場合にも本発明を
適用することができる。On the other hand, in the above-described embodiment, an example in which the present invention is applied to an arc discharge type vacuum evaporation apparatus is described. For example, an evaporation apparatus using an evaporation crucible as an evaporation source, a sputtering apparatus using a sputtering cathode as an evaporation source, etc. The present invention can be applied to other film forming apparatuses. Further, in the above description, an example in which an aluminum metal foil is used as the base material 5 has been described, but other metal foils,
The present invention can be applied to a case where a resin film or the like other than the metal foil is used.
【００２１】[0021]
【発明の効果】以上の説明のように、本発明のフィルム
状基材への膜形成装置においては、基材が巻き掛けられ
て走行するコーティングロールは、基材の密着度が幅方
向端部側で弱くなるように、端部側を中央部より小径に
して形成されている。これにより、基材に局部的な温度
上昇で熱膨張が生じる場合でも、幅方向の寸法変化に対
して端部側の摩擦力による拘束が弱く、このため、幅方
向への変位が許容されシワの発生が抑制される。この結
果、製品不良の発生が低減され、品質に優れたコーティ
ング製品を製造することができる。As described above, in the apparatus for forming a film on a film-like base material according to the present invention, the coating roll on which the base material is wound and run has a degree of adhesion of the base material at the end in the width direction. The end portion is formed to have a smaller diameter than the central portion so as to be weaker on the side. As a result, even when the base material undergoes thermal expansion due to a local temperature rise, restraint by the frictional force on the end side is weak against the dimensional change in the width direction. Is suppressed. As a result, occurrence of product defects is reduced, and a coated product having excellent quality can be manufactured.
【図１】本発明の一実施形態におけるコーティングロー
ルの形状と基材との関係を概略的に示す一部切欠断面図
である。FIG. 1 is a partially cutaway sectional view schematically showing the relationship between the shape of a coating roll and a substrate according to an embodiment of the present invention.
【図２】上記コーティングロールが組込まれた膜形成装
置の要部構成を示す正面図である。FIG. 2 is a front view showing a main configuration of a film forming apparatus in which the coating roll is incorporated.
【図３】コーティングロールの変形例と基材との関係を
概略的に示す一部切欠断面図である。FIG. 3 is a partially cutaway sectional view schematically showing a relationship between a modified example of a coating roll and a substrate.
【図４】コーティングロールのさらに他の変形例と基材
との関係を概略的に示す一部切欠断面図である。FIG. 4 is a partially cutaway sectional view schematically showing a relationship between a base material and a further modification of the coating roll.
【図５】従来のコーティングロールを用いて膜形成を行
ったときの基材におけるシワの発生を模式的に示す一部
切欠断面図である。FIG. 5 is a partially cutaway cross-sectional view schematically showing the generation of wrinkles on a substrate when a film is formed using a conventional coating roll.
１ 真空槽 1a 隔壁 ２ 蒸着室 ３ 基材走行駆動室 ４ 蒸発源 4a 蒸発物質 ５ 基材 ６ 基材供給ロール ７ 巻取ロール ８ コーティングロール 8c 凸部（径大部） DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vacuum tank 1a Partition wall 2 Evaporation chamber 3 Substrate traveling drive room 4 Evaporation source 4a Evaporation substance 5 Substrate 6 Substrate supply roll 7 Take-up roll 8 Coating roll 8c Convex part (large diameter part)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 野口 孝行 茨城県高萩市大字安良川字下ノ内363番地 ケーデーケー株式会社内 (72)発明者 河口 博 兵庫県高砂市荒井町新浜２丁目３番１号 株式会社神戸製鋼所高砂製作所内 (72)発明者 下島 克彦 兵庫県高砂市荒井町新浜２丁目３番１号 株式会社神戸製鋼所高砂製作所内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing from the front page (72) Inventor Takayuki Noguchi 363, Shimonouchi, Arakawa-shi, Takahagi-shi, Ibaraki Prefecture Within K-D Corp. Kobe Steel, Ltd. Takasago Works (72) Inventor Katsuhiko Shimoshima 2-3-1, Shinhama, Arai-machi, Takasago City, Hyogo Prefecture Kobe Steel Works, Takasago Works
Claims (3)
グロールが設けられ、このコーティングロール外周面に
フィルム状の基材を巻き掛け走行させながら、巻き掛け
領域における基材表面に蒸発源からの蒸発物質を付着さ
せ膜形成を行うフィルム状基材への膜形成装置におい
て、 上記コーティングロールの外周面が、これに巻き掛けら
れる基材の幅方向端部側に対応する位置での外径を中央
よりも小さくして形成されていることを特徴とするフィ
ルム状基材への膜形成装置。A coating roll provided with a cooling means is provided in a vacuum chamber, and while a film-shaped substrate is wound around the outer periphery of the coating roll to travel, a surface of the substrate in a winding region is supplied from an evaporation source. In a film forming apparatus for forming a film on a film substrate by attaching a vaporized substance, the outer peripheral surface of the coating roll has an outer diameter at a position corresponding to an end portion in the width direction of the substrate wound around the coating roll. An apparatus for forming a film on a film-shaped substrate, wherein the apparatus is formed smaller than the center.
ウン状であることを特徴とする請求項１記載のフィルム
状基材への膜形成装置。2. The apparatus for forming a film on a film-like substrate according to claim 1, wherein the outer peripheral surface of the coating roll has a crown shape.
る軸方向中央部に、径方向に局部的に突出する径大部が
設けられていることを特徴とする請求項１記載のフィル
ム状基材への膜形成装置。3. The film-like base material according to claim 1, wherein a large diameter portion is provided at a central portion in the axial direction on the outer peripheral surface of the coating roll so as to locally project in the radial direction. Film forming equipment.
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