JPH1080606A - 真空濾過方法および真空濾過装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 濾布１の走行方向ＦにおけるケーキＱの厚さ
を均一とし、ケーキＱの含水率や洗浄効果の均一化を図
る。 【解決手段】 所定の走行方向Ｆに移動可能とされた濾
布１と、この濾布１の上に被処理物Ｐを供給する供給装
置１５と、この供給装置１５の下方にあって濾布１の下
に配置され、被処理物Ｐの供給域Ａを形成する無真空ト
レイ５と、この無真空トレイ５の走行方向Ｆ側の濾布１
の下に配置され、濾布１を介して被処理物Ｐを真空吸引
する脱水域Ｂを形成する真空トレイ６とを備え、これら
供給域Ａと脱水域Ｂとの境界部Ｅに、濾布１の上を横切
るように配設された回転軸１９に攪拌羽根２２が取り付
けられた攪拌装置１７等の抑制手段を設け、真空トレイ
６からの真空吸引による供給域Ａ上の被処理物Ｐからの
ケーキＱの形成を抑制する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、主として有機・無
機化学、食品、医薬工業の分野に使用され、混合物から
固液分離した被処理物を濾過、洗浄するための真空濾過
装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】この種の真空濾過装置としては、無端状
に巻回されて所定の走行方向に周回移動可能とされた濾
布と、この濾布の上に被処理物を供給する供給装置と、
濾布の下に配置されて脱水域を形成する真空トレイとを
備え、この真空トレイの真空吸引力により被処理物を濾
布を介して真空吸引して脱水濾過し、ケーキを形成す
る、いわゆる水平ベルト式の真空濾過装置が一般に知ら
れている。そして、さらにこの水平ベルト式の真空濾過
装置は、濾布が連続的に周回移動するとともに真空トレ
イが上記走行方向に往復移動可能とされたタイプのもの
と、濾布が間欠的に移動するとともに真空トレイが固定
されたタイプのものとに大別される。

【０００３】すなわち、前者の往復移動式真空トレイの
濾過装置では、供給装置の固定された分散板により被処
理物を濾布の幅方向に広げながら濾布の上に供給し、真
空吸引力をかけた状態で真空トレイを濾布に同調させて
その走行方向に前進させ、その間に真空トレイにより濾
布を介して被処理物を真空吸引して脱水濾過する。そし
て、真空トレイが一定距離進んだ後に、真空吸引力を切
って真空トレイのみを当初の位置に戻し、このような操
作を繰り返し行うことで被処理物を連続的に真空濾過し
てゆく。また、後者の固定式真空トレイの濾過装置で
は、供給装置の分散板が一定距離往復移動可能に設けら
れており、この移動する分散板により被処理物を濾布の
幅方向に広げつつ上記走行方向に沿って濾布上に供給
し、次いで濾布の間欠移動により被処理物を真空トレイ
上に前進させ、真空吸引力をかけて被処理物を真空吸引
して脱水濾過する。そして、一定時間経過後、真空吸引
力を切って再び濾布を前進移動させ、このような操作を
繰り返し行うことで濾布上に供給された被処理物を順次
真空濾過してゆく。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、これらの真
空濾過装置では、真空トレイが往復移動式であるか固定
式であるかに関わらず、分散板から被処理物が供給され
る濾布上の供給域に対して、濾布の下に真空吸引を行わ
ない無真空トレイが上記濾布の走行方向において真空ト
レイの後方側に隣接して配置されており、この供給域に
おいて被処理物中の固形物がある程度自然沈降して、略
均一な厚さのケーキを形成するようになされている。と
ころが、その一方で、やはり真空トレイが往復移動式で
あるか固定式であるかに関わらず、この真空トレイによ
る真空吸引がなされている間は、上記真空トレイおよび
無真空トレイと濾布およびその上の被処理物とは相対的
に固定された位置関係にあり、従って脱水域を形成する
真空トレイの真空吸引力が、隣接する無真空トレイ上の
供給域に供給された被処理物にも作用することは避けら
れない。

【０００５】このため、例えば被処理物中の固形物の分
級が激しい場合や沈降性が激しい場合、あるいは広い粒
度分布である場合など、被処理物の性状によっては、上
記無真空トレイにより形成される供給域と真空トレイに
より形成される脱水域との境界部において、真空トレイ
の真空吸引力によって供給域側の被処理物中の固形物が
脱水域側に吸着されてしまい、この境界部に位置したケ
ーキの厚さが他の部分に比べて厚くなって、濾布の走行
方向におけるケーキの厚さに不均一を生じることにな
る。しかるに、このようなケーキ厚の不均一が生じる
と、ケーキの通気量にも変化が生じるため、脱水域にお
いて脱水濾過されたケーキの含水率も不均一となってし
まうとともに、この脱水濾過の後にケーキに洗浄液を供
給して洗浄を行う場合などにあっては、ケーキの洗浄比
率が不均一となるので洗浄効果にもばらつきが生じるこ
とになる。

【０００６】本発明は、このような事情を鑑みて為され
たもので、濾布の走行方向におけるケーキの厚さを均一
とすることにより、ケーキの含水率や洗浄効果の均一化
を図ることが可能な真空濾過方法および真空濾過装置を
提供することを目的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決して、こ
のような目的を達成するために、本発明の真空濾過方法
は、所定の走行方向に移動可能とされた濾布の上に被処
理物を供給し、この被処理物を上記濾布を介して真空吸
引して脱水濾過する真空濾過方法において、上記濾布上
に上記被処理物が供給される供給域と上記被処理物が真
空吸引される脱水域との境界部では、真空吸引による上
記被処理物からのケーキの形成を抑制することを特徴と
し、また本発明の真空濾過装置は、所定の走行方向に移
動可能とされた濾布と、この濾布の上に被処理物を供給
する供給装置と、この供給装置の下方にあって上記濾布
の下に配置され、上記被処理物の供給域を形成する無真
空トレイと、この無真空トレイの上記走行方向側の濾布
下に配置され、該濾布を介して上記被処理物を真空吸引
する脱水域を形成する真空トレイとを備え、上記無真空
トレイによる被処理物の供給域と上記真空トレイによる
脱水域との境界部に、上記真空トレイからの真空吸引に
よる上記被処理物からのケーキの形成を抑制する抑制手
段を設けたことを特徴とするものであり、このように被
処理物の供給域と脱水域との境界部でのケーキの形成が
抑制されることにより、この境界部においてケーキの厚
さが他と比べて厚くなるのを抑えることができ、濾布の
走行方向に沿って均一な厚さのケーキを形成することが
できる。

【０００８】ここで、上記真空濾過方法では、上記境界
部において、上記被処理物を攪拌することにより、また
上記真空濾過装置においては、上記抑制手段に、上記境
界部において被処理物を攪拌する攪拌装置を備えること
により、確実かつ効率的にこの境界部におけるケーキの
形成を抑制することができる。また、上記真空濾過装置
において、上記抑制手段の攪拌装置としては、上記濾布
の上を横切るように配設された回転軸に攪拌羽根が取り
付けられたものや、上記濾布の上方に立設された回転軸
に攪拌羽根が取り付けられたもの、または上記濾布の上
を横切るように配設された往復移動可能な軸に攪拌羽根
が取り付けられたものなど、攪拌羽根によって被処理物
を直接的に攪拌するものや、あるいは上記境界部におけ
る被処理物中に圧空を供給する圧空供給手段を備えて、
この圧空による泡立ち効果により被処理物を攪拌するも
のなどを用いることができる。

【０００９】

【発明の実施の形態】図１ないし図４は、本発明の第１
の実施形態を示すものである。これらの図において符号
１で示すのは、複数のリターンロール２…に順次巻き掛
けられた無端ベルト状の濾布であり、この濾布１の上側
部分は水平方向に延びるように配置されるとともに、こ
の濾布１の水平部分１Ａの一端側（図１において左側）
が巻き掛けられるロール２Ａは図示しない駆動装置に連
結されており、この駆動装置によって濾布１は図中反時
計回り方向に連続的に周回駆動され、これに伴い濾布１
の上記水平部分１Ａも図中に符号Ｆで示す走行方向に連
続的に走行させられる。なお、濾布１を駆動する上記ロ
ール２Ａの外周側には、濾布１上に供給された被処理物
Ｐから最終的に脱水されて形成されるケーキＱを濾布１
から掻き落として排出するためのナイフ３が、上記ロー
ル２Ａとの間で濾布１を挟むように設けられている。さ
らに、上記ロール２Ａの下側には、このナイフ３によっ
てケーキＱが掻き落とされた後の濾布１の表面を洗浄す
る洗浄装置４が設けられている。

【００１０】一方、濾布１の上記水平部分１Ａの下に
は、この水平部分１Ａの上記他端側から濾布１の上記走
行方向Ｆ側に向かって順に、被処理物Ｐの供給域Ａを形
成する無真空トレイ５と、第１の脱水域Ｂを形成する２
つの真空トレイ６，６と、ケーキ洗浄域Ｃを形成する２
つの真空トレイ７，７と、第２の脱水域Ｄを形成する２
つの真空トレイ８，８とが配列されている。ここで、上
記無真空トレイ５は他のトレイ６，７，８と上面が面一
とされた板状をなしており、これら無真空トレイ５およ
び真空トレイ６，７，８は、互いに隣り合うもの同士が
連結されて、上記水平部分１Ａの下に上記走行方向Ｆに
沿って敷設されたレール９上に車輪１０…により一体的
に走行可能に載置されている。さらに、上記無真空トレ
イ５には上記走行方向Ｆに平行に出没する駆動シリンダ
ー１１が連結されており、この駆動シリンダー１１によ
り全てのトレイ５，６，７，８は、上記トレイ６，７，
８の１つ分の上記走行方向Ｆのスパンと等しいストロー
クで走行方向Ｆに沿って往復移動可能とされている。

【００１１】また、上記各真空トレイ６，７，８には、
その上面に図示されない多数の開口部が形成されるとと
もに、真空遮断弁１２Ａおよび真空解除弁１２Ｂを備え
て真空源１２Ｃに連結される吸引管１２…がそれぞれ接
続され、上記開口部から濾布１を介して濾液が真空吸引
される。なお、これらの吸引管１２…は、真空トレイ
６，７，８の往復移動に支障を来さないようフレキシブ
ル管とされている。さらに、無真空トレイ５および真空
トレイ６，７，８の上面の両側縁部１３，１３は、図４
に示すように上方に向かうに従い両側方に広がるように
傾斜した樋状に形成されており、これに合わせて濾布１
の両側縁部も上方に向けて傾斜して、供給された被処理
物Ｐを保持するようになされている。

【００１２】さらにまた、本実施形態では、上記真空ト
レイ７，７により形成されるケーキ洗浄域Ｃにおいて、
これらの真空トレイ７，７の上方にケーキ洗浄装置１４
が設けられており、上記第１の脱水域Ｂにおいて被処理
物Ｐから形成されたケーキＱにこのケーキ洗浄装置１４
から洗浄液を供給することにより、ケーキＱに付着して
いる不純物を除去することができる。そして、このよう
に洗浄されたケーキＱを、その後の第２の脱水域Ｄにお
いてさらに脱水濾過することにより、被処理物Ｐに対し
て効果的な洗浄脱水濾過の操作を図ることが可能とな
る。

【００１３】一方、供給域Ａを形成する上記無真空トレ
イ５の上方には、被処理物Ｐの供給装置１５が固定して
設けられている。この供給装置１５は、供給管から連続
的に供給される被処理物Ｐを、分散板１６により濾布１
の幅方向に分散させて該濾布１上に流し込んむものであ
り、この供給装置１５による被処理物Ｐの濾布１上への
供給位置は、濾布１の水平部分１Ａの他端側が巻回され
るロール２Ｂよりも僅かに濾布１の走行方向Ｆ側とされ
ている。そして、この供給位置よりもさらに上記走行方
向Ｆ側の供給域Ａと第１の脱水域Ｂとの境界部Ｅ、すな
わち上記無真空トレイ５と真空トレイ６との連結部分の
直上には、本第１実施形態における抑制手段としての攪
拌装置１７が、往復移動する無真空トレイ５および真空
トレイ６の上記連結部に取り付けられて、これらと一体
に往復移動可能に設けられている。

【００１４】この第１実施形態における攪拌装置１７に
おいては、図３および図４に示すように上記無真空トレ
イ５と真空トレイ６との連結部の両側縁部１３，１３に
取り付けられた軸受１８に、濾布１の走行方向Ｆに直交
する水平方向に濾布１上を横切るように回転軸１９が回
転自在に設けられ、この回転軸１９の一端部には真空ト
レイ６の側部にブラケット２０を介して取り付けられた
モータ２１等の駆動装置が連結される一方、回転軸１９
の中央部には回転羽根２２が取り付けられている。さら
に、本第１実施形態ではこの回転羽根２２は、上記回転
軸１９の外周に、この回転軸１９の軸線方向から見て回
転軸１９を中心に十字状に延びる攪拌軸２３…が、上記
軸線方向に間隔をおいて多数配設されるとともに、この
軸線方向に列をなす攪拌軸２３…の先端にはそれぞれ攪
拌棒２４が上記軸線に平行に取り付けられて構成されて
いる。

【００１５】このように構成された真空濾過装置では、
上記供給域Ａにおいて供給装置１５から供給される被処
理物Ｐは、供給装置１５の分散板１６により濾布１の幅
方向に広げられるとともに、ロール２Ａによる濾布１の
連続移動に伴い供給域Ａ上に送り出される濾布１上に連
続的に流し込まれ、供給域Ａにおける無真空トレイ５の
上の濾布１上に全面的に敷き詰められる。そして、無真
空トレイ５および真空トレイ６，７，８が、その上記走
行方向Ｆへの移動のストロークエンドに達して駆動シリ
ンダー１１によって急速に引き戻されることにより、上
記供給域Ａにあった被処理物Ｐは真空トレイ６上の第１
の脱水域Ｂに配置されて真空吸引され、ケーキＱの形成
がなされるとともに、濾布１の上記水平部分１Ａの他端
側に引き戻された無真空トレイ５上には、連続的に送り
出される濾布１の上に再び上記供給装置１５から被処理
物Ｐが供給される。

【００１６】しかるに、本第１実施形態の真空濾過装置
においては、被処理物Ｐ中の固形分の分級や沈降性が激
しい場合や粒度分布が広い場合などに、脱水域Ｂにおけ
る真空トレイ６からの真空吸引力によって供給域Ａ側の
被処理物Ｐの固形物が脱水域Ｂ側に吸着されようとして
も、この供給域Ａを形成する無真空トレイ５と第１の脱
水域Ｂを形成する真空トレイ６との連結部、つまり供給
域Ａと脱水域Ｂとの境界部Ｅに攪拌装置１７が設けられ
ており、この攪拌装置１７によって上記境界部Ｅにおけ
るケーキＱの形成を抑制することにより、該境界部Ｅに
おいて他の部分よりもケーキＱの厚さが厚くなるのを防
いでケーキＱの厚さの均一化を図ることができる。従っ
て、上記脱水域Ｂにおいては、ケーキＱの通気量を全面
的に均一として満遍なく脱水濾過することが可能となる
ので、ケーキＱの含水率に不均一が生じるような事態を
防ぎ、均質なケーキＱを形成することができる。

【００１７】また、本実施形態では、このように厚さが
均一化されたケーキＱは、上述のように第１の脱水域Ｂ
で真空吸引されて脱水濾過された後、濾布１の移動およ
び各トレイの往復移動によりケーキ洗浄域Ｃに送られ、
ケーキ洗浄装置１４から被処理物Ｐに対してケーキ洗浄
液が供給されるとともに真空トレイ７，７により真空吸
引されてケーキＱに付着している不純物が除去され、洗
浄される。さらに、こうして洗浄されたケーキＱは、続
いて第２の脱水域Ｄにおいて再び真空吸引されて脱水濾
過され、濾布１の上記水平部分１Ａの一端側から上記ナ
イフ３により掻き落とされて排出される。しかるに、本
実施形態によれば、上記攪拌装置１７によって境界部Ｅ
におけるケーキＱの形成が抑制されて、ケーキＱの厚さ
の均一化が図られることにより、上記ケーキ洗浄装置１
４において供給された洗浄液によるケーキＱの洗浄比率
も均一とすることができるので、かかる洗浄液による洗
浄効果にばらつきが生じることをも防ぐことができ、よ
り均質なケーキＱの形成を図ることが可能となる。

【００１８】一方、本第１実施形態では、上記攪拌装置
１７が無真空トレイ５と真空トレイ６との連結部に取り
付けられてこれらのトレイ５，６と一体に往復移動可能
とされており、従って上記境界部ＥにおけるケーキＱの
形成をより確実に抑制することが可能である。また、こ
の第１の実施形態では、上記攪拌装置１７が、濾布１の
上を横切るように配設された回転軸１９に、攪拌軸２３
…および攪拌棒２４よりなる攪拌羽根２２が取り付けら
れた構成とされており、図４に示すようにこの攪拌羽根
２２を濾布１の略全幅に渡るように設けることにより、
境界部Ｅにおいて脱水域Ｂ側に吸着されようとする被処
理物Ｐの固形物を満遍なく攪拌して、この境界部Ｅにお
けるケーキＱの形成をさらに確実に抑制することが可能
である。なお、上記攪拌羽根２２としては、上述のよう
な構成のものの他に、例えば攪拌軸２２だけのものや、
各攪拌軸２２の先端や外周に各種の攪拌部材が取り付け
られたもの、あるいは回転軸１９の外周に取り付けられ
たスクリュー状のものなどを採用することもできる。

【００１９】また、上記第１の実施形態では、上述のよ
うに濾布１の上を横切るように配設された回転軸１９に
攪拌羽根２２が取り付けられた攪拌装置１７を用いてい
るが、このような攪拌装置１７に代えて、図５ないし図
１０に示す第２〜４の実施形態のような攪拌装置２５〜
２７を用いることもできる。ただし、これらの図に示す
実施形態において、上記第１の実施形態と共通する部分
には、同一の符号を配して説明を省略する。

【００２０】すなわち、図５および図６に示す第２の実
施形態の攪拌装置２５では、上記無真空トレイ５と真空
トレイ６との連結部の両側面部１３，１３に門型のフレ
ーム２８が濾布１の幅方向に渡って取り付けられてお
り、このフレーム２８には、モータ２９等の回転駆動装
置に装着された複数の回転軸３０…が垂下して取り付け
られて濾布１の上方に立設されており、これらの回転軸
３０…の下端には、Ｔ字状の攪拌軸３１の両端に四角形
の攪拌部材３２，３２が設けられた攪拌羽根３３が取り
付けられている。しかるに、このような第２の実施形態
の攪拌装置２５によれば、上記攪拌装置１７と略同様の
効果を得られる他、回転軸３０が濾布１に対して立設さ
れて、攪拌羽根３３が常に被処理物Ｐ中に埋没した状態
となっているので、第１実施形態の攪拌装置１７に比べ
て攪拌羽根３３が被処理物ＰやケーキＱを掻き上げる作
用が少なく、このため上記境界部Ｅにおける攪拌によっ
て脱水域ＢにおけるケーキＱの形成までもが影響を受け
るのを抑えることができる。

【００２１】また、図７および図８に示す第３の実施形
態における攪拌装置２６では、上記無真空トレイ５と真
空トレイ６との連結部の両側縁部１３，１３に門型のフ
レーム３４が設けられ、このフレーム３４に軸３５が上
記走行方向Ｆに直交する水平方向に摺動可能に渡されて
おり、この軸３５の一端には上記フレーム３４に支持さ
れた駆動シリンダー３６が連結されていて該軸３５は上
記水平方向に往復移動可能とされている。そして、この
軸３５には濾布１に向けて垂下するように複数の攪拌軸
３７…が設けられており、その下端には平板状の攪拌羽
根３８がそれぞれ取り付けられている。なお、これらの
攪拌羽根３８…は、濾布１に対向する平面視において上
記走行方向Ｆに斜交する方向に配置されている。しかる
に、このように構成された第３の実施形態の攪拌装置２
６によれば、上記第２の実施形態の攪拌装置２５よりも
さらに掻き上げ作用が少なく、境界部Ｅにおけるケーキ
Ｑの形成を確実に抑制しつつも、脱水域Ｂへの影響をよ
り小さく抑えることができるとともに、攪拌羽根３８が
濾布１の走行方向Ｆに対して斜交する方向に配置されて
いるので、無真空トレイ５および真空トレイ６とともに
攪拌装置２６が元の位置に戻る際に、攪拌羽根３８が被
処理物Ｐから受ける抵抗が少ないという利点も得ること
ができる。

【００２２】さらに、図９および図１０に示す第４の実
施形態の攪拌装置２７では、無真空トレイ５と真空トレ
イ６との連結部の側縁部１３，１３に設けられた取付部
材３９，３９に、これら無真空トレイ５および真空トレ
イ６の上面形状に合わせて曲折された複数の攪拌パイプ
４０…が圧空供給手段として取り付けられ、これらの攪
拌パイプ４０…の一端は封止されるとともに、他端には
バルブ４１を介して圧空供給管（図示略）が連結され、
さらに攪拌パイプ４０の下面には多数の噴射口４２…が
形成されている。また、これらの攪拌パイプ４０に対す
る濾布１の上記走行方向Ｆの後方側には、この走行方向
Ｆ後方側に向かうに従い先細りとなるナイフ部材４３が
設けられている。しかるに、このような攪拌装置２７に
よれば、上記圧空供給管から供給される圧空が攪拌パイ
プ４０の噴射口４２…から被処理物Ｐ中に噴出されるこ
とにより、この圧空の泡立ち効果によって境界部Ｅの被
処理物Ｐが攪拌され、ケーキＱの形成が抑制される。ま
た、上記第１〜３の実施形態の攪拌装置１７，２５，２
６のように機械的可動部分がないため構造が簡単であ
り、しかも上記走行方向Ｆ後方側にナイフ部材４３が設
けられていることとも相俟って、元の位置に戻る際の被
処理物Ｐからの抵抗をさらに少なく抑えることができ
る。

【００２３】なお、上記第１〜４の実施形態では、いず
れも濾布１が走行方向Ｆに連続して移動するとともに、
無真空トレイ５および真空トレイ６，７，８が駆動シリ
ンダー１１により往復移動し、さらに被処理物Ｐの供給
装置１５が固定されている場合について説明したが、本
発明は、図１１に示す第５の実施形態のように、無真空
トレイ５および真空トレイ６が固定されているとともに
供給装置１５が濾布１の走行方向Ｆに沿って往復移動可
能であり、さらに濾布１が走行方向Ｆに間欠的に移動す
る真空濾過装置、およびかかる真空濾過装置を用いた真
空濾過方法にも適用可能である。すなわち、図１１に示
す実施形態においては、供給装置１５の分散板１６に駆
動シリンダー４４が連結されており、濾布１がその間欠
移動において停止している間に分散板１６が移動しなが
ら、供給域Ａ上に配置された濾布１上に被処理物Ｐを供
給する。次いで、濾布１が走行方向Ｆに移動することに
より、上記被処理物Ｐは脱水域Ｂの真空トレイ６上に位
置して真空吸引されるとともに、分散板１６は元の位置
に復帰して供給域Ａ上に送り出された新たな濾布１に被
処理物Ｐを供給する。

【００２４】しかるに、本第５実施形態においても、こ
れら供給域Ａを形成する無真空トレイ５と脱水域Ｂを形
成する真空トレイ６との連結部に、上記第１〜４実施形
態と同様の攪拌装置１７，２５，２６，２７を適宜配設
することにより、この供給域Ａと脱水域Ｂとの境界部Ｅ
におけるケーキＱの形成を抑制し、従ってケーキＱの厚
さの均一化を図って均質なケーキＱの形成を促すことが
可能となる。なお、濾布１を間欠移動させるには、図１
に示す真空濾過装置においてロール２Ａを間欠的に回転
させるようにすればよいが、これ以外にも、例えばこの
濾布１の走行方向Ｆ側の一端が巻回されるロール２Ａを
駆動シリンダー等に連結して該走行方向Ｆ側に進退可能
とし、ロール２Ａが前進する際には濾布１を該ロール２
Ａに係止して一体に前進させ、後退する際には係止を解
いて濾布１を順次送り出すようにしても良い。

【００２５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の真空濾過
方法および真空濾過装置によれば、被処理物の供給域と
脱水域との境界部においてケーキの形成を抑制すること
により、脱水域における真空吸引力によって供給域の被
処理物中の固形物が吸着されて境界部においてケーキ厚
が厚くなるのを防ぐことができ、ケーキ厚の均一化を図
ることができる。従って、たとえ被処理物中の固形分の
分級や沈降性が激しく、また粒度分布が広い場合であっ
ても、ケーキの通気量が部分的に変化して脱水されたケ
ーキの含水率が不均一となったり、あるいはケーキを洗
浄する際に洗浄比率に変化が生じて洗浄効果がばらつい
たりするような事態を防止することができ、これにより
均質なケーキの形成を促すことが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の真空濾過装置の第１の実施形態を示
す概略図である。

【図２】 図１における供給域Ａと脱水域Ｂとの境界部
Ｅの拡大図である。

【図３】 第１の実施形態の攪拌装置１７を示す側面図
である。

【図４】 図３におけるＷＷ断面図である。

【図５】 本発明の真空濾過装置の第２の実施形態の攪
拌装置２５を示す側面図である。

【図６】 図５におけるＸＸ断面図である。

【図７】 本発明の真空濾過装置の第３の実施形態の攪
拌装置２６を示す側面図である。

【図８】 図７におけるＹＹ断面図である。

【図９】 本発明の真空濾過装置の第４の実施形態の攪
拌装置２７を示す側面図である。

【図１０】 図９におけるＺＺ断面図である。

【図１１】 本発明の真空濾過装置の第５の実施形態を
示す境界部Ｅの拡大図である。

【符号の説明】

１ 濾布 ５ 無真空トレイ ６，７，８ 真空トレイ １１，４４ 駆動シリンダー １４ ケーキ洗浄装置 １５ 供給装置 １６ 分散板 １７，２５，２６，２７ 攪拌装置（抑制手段） １９，３０ 回転軸 ２２，３３，３８ 攪拌羽根 ３５ 軸 ４０ 攪拌パイプ（圧空供給手段） ４３ ナイフ部材 Ｐ 被処理物 Ｑ ケーキ Ａ 被処理物Ｐの供給域 Ｂ 第１の脱水域 Ｃ ケーキ洗浄域 Ｄ 第２の脱水域 Ｅ 供給域Ａと脱水域Ｂとの境界部 Ｆ 濾布１の走行方向

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 所定の走行方向に移動可能とされた濾布
   の上に被処理物を供給し、この被処理物を上記濾布を介
   して真空吸引して脱水濾過する真空濾過方法において、
   上記濾布上に上記被処理物が供給される供給域と上記被
   処理物が真空吸引される脱水域との境界部では、真空吸
   引による上記被処理物からのケーキの形成を抑制するこ
   とを特徴とする真空濾過方法。
2. 【請求項２】 上記境界部においては、上記被処理物を
   攪拌することによりケーキの形成を抑制することを特徴
   とする請求項１に記載の真空濾過方法。
3. 【請求項３】 所定の走行方向に移動可能とされた濾布
   と、この濾布の上に被処理物を供給する供給装置と、こ
   の供給装置の下方にあって上記濾布の下に配置され、上
   記被処理物の供給域を形成する無真空トレイと、この無
   真空トレイの上記走行方向側の濾布下に配置され、該濾
   布を介して上記被処理物を真空吸引する脱水域を形成す
   る真空トレイとを備え、上記無真空トレイによる被処理
   物の供給域と上記真空トレイによる脱水域との境界部
   に、上記真空トレイからの真空吸引による上記被処理物
   からのケーキの形成を抑制する抑制手段が設けられてい
   ることを特徴とする真空濾過装置。
4. 【請求項４】 上記抑制手段は、上記境界部において被
   処理物を攪拌する攪拌装置を備えていることを特徴とす
   る請求項３に記載の真空濾過装置。
5. 【請求項５】 上記攪拌装置においては、上記濾布の上
   を横切るように配設された回転軸に攪拌羽根が取り付け
   られていることを特徴とする請求項４に記載の真空濾過
   装置。
6. 【請求項６】 上記攪拌装置においては、上記濾布の上
   方に立設された回転軸に攪拌羽根が取り付けられている
   ことを特徴とする請求項４に記載の真空濾過装置。
7. 【請求項７】 上記攪拌装置においては、上記濾布の上
   を横切るように配設された往復移動可能な軸に攪拌羽根
   が取り付けられていることを特徴とする請求項４に記載
   の真空濾過装置。
8. 【請求項８】 上記攪拌装置においては、上記境界部に
   おける被処理物中に圧空を供給する圧空供給手段が備え
   られていることを特徴とする請求項４に記載の真空濾過
   装置。