JPH1071329A - 液体原料気化装置 - Google Patents

液体原料気化装置

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JPH1071329A
JPH1071329A JP14099397A JP14099397A JPH1071329A JP H1071329 A JPH1071329 A JP H1071329A JP 14099397 A JP14099397 A JP 14099397A JP 14099397 A JP14099397 A JP 14099397A JP H1071329 A JPH1071329 A JP H1071329A
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JP
Japan
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liquid
raw material
feed stock
liquid raw
discharger
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JP14099397A
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English (en)
Inventor
Tsutomu Nakada
勉 中田
Hidenao Suzuki
秀直 鈴木
Yuji Abe
祐士 阿部
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Ebara Corp
Original Assignee
Ebara Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 複雑な特性を有する液体原料を効率良くかつ
安定して気化させることができる液体原料気化装置を提
供する。 【解決手段】 高速で回転しながら液体原料を外側に向
けて放出する液体原料放出体1と、液体原料放出体1を
取り囲むように配置されて液体原料放出体1から放出さ
れた液体原料を蒸発させる加熱壁2と、加熱壁2で蒸発
した原料気体を排出する排気口3と、液体原料放出体1
に液体原料を供給する液体原料導入路17とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液体を原料
とする薄膜気相成長装置に用いる気化装置に係り、特
に、チタン酸バリウム/ストロンチウム等の高誘電率薄
膜材料を気化させるのに好適な液体原料気化装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体産業における集積回路の集
積度の向上はめざましく、現状のメガビットオーダか
ら、将来のギガビットオーダを睨んだDRAMの研究開
発が行われている。かかるDRAMの製造のために必要
な大容量素子の製造に用いる誘電体薄膜として、誘電率
が10以下であるシリコン酸化膜やシリコン窒化膜、誘
電率が20程度である五酸化タンタル(Ta25 )薄膜
に替わって、誘電率が300程度であるチタン酸バリウ
ム(BaTiO3 )、あるいはチタン酸ストロンチウム
(SrTiO3 )又はこれらの混合物であるチタン酸バリ
ウムストロンチウム等の金属酸化物薄膜材料が有望視さ
れている。
【0003】ところで、このような素材の成膜を行なう
方法として化学気相成長(CVD)が有望とされてお
り、この場合、最終的に反応槽内で原料ガスを被成膜基
板に安定的に供給する必要がある。原料ガスは、常温で
固体のBa(DPM)2 ,Sr(DPM)2 などを液状
化し、さらに気化特性を安定化するために有機溶剤(例
えばTHFなど)を混合させたものを加熱して気化する
ようにしている。
【0004】ところで、上記のような高誘電体の原料ガ
スを安定的に気化させるのは非常に困難である。これ
は、これらの原料の気化温度と分解温度が接近してい
る、気化温度と有機溶剤の気化温度に差がある、蒸
気圧が非常に低い、などの理由による。
【0005】例えば、Ba(DPM)2 ,Sr(DP
M)2 をTHF中に溶解した液体原料では、溶剤の液相
範囲は図10のaの領域であり、原料の液相範囲はa+
cである。従って、領域aの原料を気化させるために領
域cを通過する際に、溶剤のみが気化して原料が析出
し、通路を塞いだり、濃度変化による品質悪化を招くの
で、気化の際は液体原料を一気に高温領域に持っていく
必要がある。このような気化装置として、液体原料をス
プレーノズルや超音波振動子によって一旦霧化し、これ
を高温度領域に送ってガス化する技術が知られている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来の技術においては、スプレーノズルのオリフ
ィス部で原料が詰まりやすいので一定量の液体原料を霧
化するのが難しく、さらに、霧の粒径が供給原料量に依
存するので、気化性能が不安定となって濃度が変動する
等の問題があった。
【0007】本発明はこのような問題に鑑み、上記のよ
うな複雑な特性を有する液体原料を効率良くかつ安定し
て気化させることができる液体原料気化装置を提供する
ことを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、高速で回転しながら液体原料を外側に向けて放出す
る液体原料放出体と、該液体原料放出体を取り囲むよう
に配置されて液体原料放出体から放出された液体原料を
蒸発させる加熱壁と、該加熱壁で蒸発した原料気体を排
出する排気口と、上記液体原料放出体に液体原料を供給
する液体原料導入路とを有することを特徴とする液体原
料気化装置である。これにより、液体原料放出体に供給
された液体原料は、高速回転による遠心力により運動エ
ネルギーを与えられ、外方向に放出されて微粒化し、加
熱壁に衝突して該壁の熱により気化する。
【0009】請求項2に記載の発明は、上記液体原料放
出体が、回転中心近傍に上記液体原料導入路からの液体
原料の供給を受ける受液部を、外周部に放出口を有する
ことを特徴とする請求項1に記載の液体原料気化装置で
ある。これにより、液体原料の加速と放出が安定的に行
われる。
【0010】請求項3に記載の発明は、上記原料導入路
が上記液体原料放出体とは別に設けたノズルであること
を特徴とする請求項1に記載の液体原料気化装置であ
り、回転駆動部分の構造が簡単でメンテナンスも容易で
ある。請求項4に記載の発明は、上記受液部の上記ノズ
ルに臨む位置に突起部を設けたことを特徴とする請求項
3に記載の液体原料気化装置であるので、ノズルから突
起部に液体原料が伝わって液体の移動が円滑に行われ
る。
【0011】請求項5に記載の発明は、上記原料導入路
が上記液体原料放出体と一体に設けられていることを特
徴とする請求項1に記載の液体原料気化装置であり、放
出体への液体原料の供給が円滑になされるとともに、そ
の間において液体原料が蒸発壁からの熱の影響を受ける
ことが防止される。上記液体原料導入路を上記液体原料
放出体の回転軸を挿通して形成するようにしてもよい。
【0012】上記放出口を筒状壁に形成した細孔として
もよい。又、上記放出口を筒体に形成したスリットとし
てもよい。請求項6に記載の発明は、上記液体原料放出
体を中心から外周に向かう流路を有する円板であること
を特徴とする請求項1に記載の液体原料気化装置であ
る。
【0013】請求項7に記載の発明は、上記加熱壁の表
面に凹凸部を形成したことを特徴とする請求項1に記載
の液体原料気化装置であるので、蒸発壁の熱伝導面積が
拡大して気化が効率良く行われる。上記加熱壁の表面
を、上記回転体の回転軸に対して傾斜させることによ
り、放出された液体原料が傾斜した蒸発壁に沿って流れ
て壁面に広がり、効率良く気化する。上記加熱壁の表面
を上記回転体の回転軸に対して45度以上傾斜するよう
にしてもよい。
【0014】請求項8に記載の発明は、上記液体原料放
出体及び/又は上記液体原料導入路を冷却していること
を特徴とする請求項1に記載の液体原料気化装置であ
り、液体原料が加熱壁に到達する前に加熱されて分解す
ることが防止される。上記液体原料導入路に流量制御装
置を介して液体原料供給源を接続するようにしてもよ
い。上記放出口の最大径を0.5mm以下としてもよ
い。
【0015】
【発明の実施の形態】図1は、本発明に係る気化装置の
実施の形態を示すものであり、高速で回転しながら液体
原料を外側に向けて放出する液体原料放出体1と、該液
体原料放出体を取り囲むように配置されて液体原料放出
体から放出された液体原料を蒸発させる加熱壁2と、該
加熱壁2で蒸発した原料気体を排出する排気口3とを有
する。この加熱壁2は円筒状の容器として形成され、図
示しない内蔵する又は別体のヒータにより加熱されて所
定の気化温度に維持されている。
【0016】液体原料放出体1は、この例では、外壁4
と円板5とからなる中空容器であり、外壁には複数の液
体原料放出口6がこの例では直径0.2mm程度の細孔
として形成されている。この放出体1は下面に回転軸7
を有しており、この回転軸7は、例えば、図示しない磁
気軸受のような軸受装置により回転自在に支持されてお
り、所定箇所には磁性流体シールのようなシール機構8
が配されている。また、回転軸7には、これを回転駆動
するためのモータ9のような駆動機構にタイミングベル
ト10のような伝達機構を介して接続されている。
【0017】加熱壁2は、放出体を取り囲む円筒状に形
成され、これは底板11及び天板12とともに外部から
気密に保持された気化室13を形成している。底板11
の中央には回転軸7が挿入される開口部が形成され、こ
の開口部14には、回転軸を取り囲むとともに放出体の
底面下部に臨むように冷却ジャケット15が設けられ、
これには冷却流体を供給する配管が接続されている。こ
れにより、放出体1を冷却してこれを液体原料が気化し
ないような温度に維持するようにしている。また、外壁
4の下部は円板5の下側まで延びて形成されており、こ
れは加熱壁2から円板5への熱の放射を遮る遮蔽部4a
として機能する。
【0018】一方、天板12の中央の開口部16には液
体原料供給管17が挿通している。これにより、これら
の開口部はそれぞれシール18,19,20により気密
性を維持している。液体原料供給管17と天板開口部1
6が直接接触せず、間に空気断熱層を形成しているの
で、加熱壁2からの伝熱にって温度上昇しない構造とな
っている。
【0019】回転する円板からの微粒子が飛散する状況
は、滴状分裂、繊維状分裂、膜状分裂に大別できる。こ
の場合、それぞれの状態で飛散する条件(流量)は、円
板の直径D及び回転数により変化することが知られてい
る。極小ピッチの繊維状分裂状態によると均一度の高い
液滴が得られる。この状態での液体原料の体積流量qと
の関係は、 q={8.0(D/N )2/3(σ/ρ)}/{1+10(μ/
(ρσD)1/21/3 } の実験式で与えられる。ここで、σは表面張力、ρは密
度、μは粘性係数である。
【0020】従って、液体原料供給量を変えても、回転
数を調整することにより常に極小ピッチ繊維状分裂状態
に制御することができる。又、回転円板の円周面に設け
た多孔板には0.5mm以下の穴が無数にあり、この穴を
液体原料が通過することで微粒化を促進させることがで
きる。
【0021】図2ないし図5は、その他の実施の形態を
示すもので、これらの図では図1と異なる特徴部分だけ
を示している。図2は、接触面積を大きくするために、
加熱壁2に凹凸21を設けたものである。この凹凸21
は、円周方向又は螺旋状に延びる溝としても、複数の突
起を分散配置しても良い。これらの凹凸の高さや幅、大
きさ、形状等は、原料液体の種類等を勘案してあるいは
実験的に定める。これによって、加熱壁2の表面積を増
やし、熱伝導の効率を向上させることができる。
【0022】上記の実施の形態では加熱壁を回転軸と平
行に、すなわち鉛直に配したが、図3に示す実施の形態
においては、加熱壁2aを回転軸に対して45度以上傾
斜させ、ほぼ水平に近くなるようにしたものである。こ
のようにすると、微粒化した原料が加熱壁2a面に対し
て入射する角度が小さくなって、液滴が面上を流れて迅
速に広がるとともに、はね返って飛散する量も減る。従
って、液滴の運動エネルギーを有効に利用して加熱と気
化が迅速に行われる。
【0023】図4は、放出体1の底板11の中央に、液
体原料を供給管17の先端のノズル17aから受ける突
起部22を設けたものであり、この突起部は鋭い尖端2
3と滑らかな湾曲する稜線24を持つように形成されて
いる。ノズル17aは突起部22の尖端23に所定の隙
間を持つように近接して配置され、供給量が微少の場合
にはノズル17aと尖端23の間に原料液体の表面張力
によりブリッジが形成される。これにより、微少量の液
体原料であっても供給が連続的に行われるので気化量の
ミクロな変動が起こりにくい。また、液体原料が突起部
22の外面を伝わって円板4から外周の各方向に均一に
分散するので、これによっても、加熱壁2の面積を有効
に活用した気化が行われる。
【0024】図5は、この発明の他の実施の形態を示す
もので、原料配管が通過する気化室の天板12の内部に
冷却媒体を流すジャケット25を形成し、原料配管17
の昇温を積極的に防ぐようにしたものである。この場
合、天板12と加熱壁2の接触部分は断熱シール構造と
した方がよい。また、図6に示すように、天板12の一
部にのみ冷却ジャケット25aを設ける構造としてもよ
い。
【0025】図7は、さらに他の実施の形態を示すもの
で、液体原料を回転軸7を介して供給するようにしたも
のである。すなわち、回転軸7の中央に貫通する原料供
給流路26が形成されており、その下端部は継手27を
介して原料配管17に接続されている。この原料配管
は、流量制御装置を介して液体原料を一定量づつ供給す
る液体原料源に連通している。供給流路26は円板5に
開口している。
【0026】回転軸7が磁気軸受等の軸受により支持さ
れ、磁性流体8によってシールされている点は図1ない
し図6の実施の形態と同様である。この実施の形態にお
いては、原料が低温側である回転軸7を介して供給され
るので、液体原料が事前に加熱されて分解したりするこ
とが防止される。また、加熱側に冷却媒体を流す必要が
無いので、装置機械が簡単であり、安全性も高い。
【0027】なお、上記においては、放出口6の断面は
ストレートな孔としたが、断面中央を狭くしたジェット
ノズル型としてもよい。また、上記では径が0.2mm
程度の微細孔を分散させた構造としたが、これに限るこ
となく、長穴、スリット等としても良い。また、上記で
は、放出体2の上部を開口していたが、液体原料への熱
影響を防ぐために上部を遮蔽板で覆うようにしても良
い。
【0028】図8及び図9はさらに他の実施の形態を示
すもので、回転体の縁部から液体原料を放出するように
したものである。図8(a)は最も単純な形態で、回転
軸31に円板32を取り付けたものである。液体原料は
液体原料供給管33のノズル33aから円板32の中央
に供給されて遠心力により外方に流れ、縁部から放出さ
れる。同図(b)は、円板32の中央から外方に向かっ
て上方に傾斜する斜面34を形成したもので、流れが各
方向に均等に向かうとともに、縁部での微粒化効果をも
たらす。また、同図(c)は、中央から外方に行く従い
傾斜が急になる湾曲面35を有するようにしたもので、
同図(b)の効果をさらに顕著に得られる。
【0029】図9(a)は、中央から外方に向けて螺旋
状に延びる複数の突条36を設け、これらの間に流路3
7を形成して液体原料の流れを各方向に均等にしたもの
である。これは、図8の各例のいずれに適用してもよ
い。同図(b)は、放出体1上の液体原料に対する加熱
壁からの熱の影響を防ぐために遮蔽板38を設けたもの
で、これは放出体1と一体としても、固定側に取り付け
てもよい。また、同図(c)は、突起部39を形成して
液体原料の移動を円滑にしたものである。
【0030】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
液体原料放出体に供給された液体原料が、高速回転によ
る遠心力により運動エネルギーを与えられ、外方向に放
出されて微粒化し、加熱壁に衝突して該壁の熱により気
化する。従って、例えば、高誘電体成膜原料のような複
雑な特性を有する液体原料であっても、原料の目詰まり
が発生しにくく、また、必要供給原料量が変わった場合
においても、常に最適の微粒化状態が得られ、効率良く
かつ安定して気化させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施の形態の断面図である。
【図2】この発明の第2の実施の形態の要部の断面図で
ある。
【図3】この発明の第3の実施の形態の要部の断面図で
ある。
【図4】この発明の第4の実施の形態の要部の断面図で
ある。
【図5】この発明の第5の実施の形態の要部の断面図で
ある。
【図6】この発明の第6の実施の形態の要部の断面図で
ある。
【図7】この発明の第7の実施の形態の断面図である。
【図8】この発明の第8〜10の実施の形態の要部の断
面図である。
【図9】この発明の第11〜13の実施の形態の要部の
断面図である。
【図10】液体原料の特性を示すグラフである。
【符号の説明】
1、32 液体原料放出体 2 加熱壁 3 排気口 6 放出口 7 回転軸 17、26、33 液体原料導入路 17a、33a ノズル 21 凹凸部 22、39 突起部 26 原料導入路 32 円板

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 高速で回転しながら液体原料を外側に向
    けて放出する液体原料放出体と、 該液体原料放出体を取り囲むように配置されて液体原料
    放出体から放出された液体原料を蒸発させる加熱壁と、 該加熱壁で蒸発した原料気体を排出する排気口と、 上記液体原料放出体に液体原料を供給する液体原料導入
    路とを有することを特徴とする液体原料気化装置。
  2. 【請求項2】 上記液体原料放出体は、回転中心近傍に
    上記液体原料導入路からの液体原料の供給を受ける受液
    部を、外周部に放出口を有することを特徴とする請求項
    1に記載の液体原料気化装置。
  3. 【請求項3】 上記原料導入路は上記液体原料放出体と
    は別に設けたノズルであることを特徴とする請求項1に
    記載の液体原料気化装置。
  4. 【請求項4】 上記受液部の上記ノズルに臨む位置に突
    起部を設けたことを特徴とする請求項3に記載の液体原
    料気化装置。
  5. 【請求項5】 上記原料導入路は上記液体原料放出体と
    一体に設けられていることを特徴とする請求項1に記載
    の液体原料気化装置。
  6. 【請求項6】 上記液体原料放出体は中心から外周に向
    かう流路を有する円板であることを特徴とする請求項1
    に記載の液体原料気化装置。
  7. 【請求項7】 上記加熱壁の表面に凹凸部を形成したこ
    とを特徴とする請求項1に記載の液体原料気化装置。
  8. 【請求項8】 上記液体原料放出体及び/又は上記液体
    原料導入路を冷却していることを特徴とする請求項1に
    記載の液体原料気化装置。
JP14099397A 1996-05-17 1997-05-15 液体原料気化装置 Pending JPH1071329A (ja)

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JP8-148415 1996-05-17
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