JPH1062706A

JPH1062706A - ビーム径制御方法および装置

Info

Publication number: JPH1062706A
Application number: JP23465596A
Authority: JP
Inventors: Katsuto Sumi; 克人角
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1996-08-19
Filing date: 1996-08-19
Publication date: 1998-03-06

Abstract

(57)【要約】【課題】集光レーザビームのビーム径を変えるビーム
径制御方法あるいは装置に置いて、光利用効率を高く
し、複数で高価な光学系やズーム系を不要にする。【解決手段】集光レンズに入射するレーザビームを、
ホログラム素子により発散角が異なる複数の回折光に分
割し、これら複数の回折光が光軸上に集光するビームウ
ェスト位置を光軸上で分散させることにより、ビーム径
を拡大する。ホログラム素子はコリメートビーム中に入
れるのがよい。ホログラム素子は同心円状に回折するホ
ログラムレンズタイプのものがよく、特にレプリカ法で
安価に作れるものがよい。ホログラム素子は、＋１次以
上の回折光の回折効率と−１次以上（−１、−２、−
３、…）の回折光の回折効率とがほぼ同一になるように
するのがよい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、レーザビームを
記録面上に集光させつつ走査して画像の記録あるいは画
像の読取りを行う光ビーム走査装置などに用いられるビ
ーム径制御方法と装置とに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】光ビーム走査装置において、記録面上に
集光させるレーザビームの径、すなわち集光ビーム径
は、画像の記録または画像の読取り（以下単に画像の記
録という）密度すなわち走査線密度によって変更する必
要が生じる。例えば画像の記録（読取り）密度を下げる
場合すなわち走査線密度を下げる場合には、集光ビーム
径を大きくする必要がある。

【０００３】集光ビーム径を変更する方法として、従来
より次の２つの方法が提案されている。第１の方法は開
口絞りを用いる方法である（特開昭５６−１４１６６２
号、特開昭５８−１４４８５０号等）。第２の方法は光
学系の倍率変更による方法である。第１の方法は光ビー
ムのコリメート光（平行光）部分に開口絞りを挿入し、
コリメートビーム（平行ビーム）の光束径を制限するこ
とにより、つまりケラレを利用することにより集光ビー
ム径を大きくするものである。

【０００４】一般に集光ビーム径ｄは式：ｄ＝Ｋλｆ／
Ｄで表される。ここにＫは係数、λはビーム波長、ｆは
走査レンズ（集光レンズ）の焦点距離、Ｄは走査レンズ
の入射するビームの光束径（以下入射ビーム径）であ
る。またビーム径は、その出力最大点に対し１／ｅ
²（≒０．１３５）の強度に対応する径（直径）であ
る。

【０００５】この式から明らかなように、集光ビーム径
ｄを拡大するためには入射ビーム径Ｄを小さくすればよ
い。第１の方法は、この入射ビーム径Ｄを変えることに
よりビーム径ｄを制御するものである。例えば集光ビー
ム径ｄ＝１０μｍの時の入射ビーム径をＤ₀とし、ビー
ムをｄ＝１３μｍに拡大するためには、入射ビーム径Ｄ
をおおよそＤ＝（１０／１３）Ｄ_O＝０．７７Ｄ₀に絞る
ような開口絞りを入射ビーム（平行ビーム）に介在させ
ればよい。

【０００６】第２の方法においては、走査レンズに入射
するコリメートビーム径は一般的に大きく、そのような
径のビームを生成するためにビームエキスパンダ系が用
いられる。そしてこのエキスパンダ系の光学倍率を可変
とすることにより集光ビーム径を可変とするものであ
る。

【０００７】

【従来技術の問題点】前記第１の方法では開口絞りを用
いて入射ビームの一部を遮光することにより集光ビーム
径を拡大するため、入射ビームの光利用効率が低下す
る。集光ビーム径を大きくするのは走査線密度を下げて
記録密度を粗くするためであり、この時に必要な光量は
集光ビーム径が小さい高密度記録時よりも大きくなる。
それにもかかわらず、実際には開口絞りにより遮光され
る光量が増えて集光ビームとして得られる光量は減るこ
とになるという問題がある。

【０００８】また第２の方法では、エキスパンダ系とし
てレンズを用いた複数の光学系またはズーム系が必要に
なる。このため光学系自体や可動調整機構などが複雑で
高価になる。

【０００９】

【発明の目的】この発明はこのような事情に鑑みなされ
たものであり、光利用効率が高く、複雑で高価な光学系
やズーム系が不要なビーム径制御方法を提供することを
第１の目的とする。またこの方法の実施に直接使用する
ビーム径制御装置を提供することを第２の目的とする。

【００１０】

【発明の構成】この発明によれば第１の目的は、集光レ
ンズによって集光されるレーザビームのビーム径を変え
るビーム径制御方法において、集光レンズに入射するレ
ーザビームを、ホログラム素子により発散角が異なる複
数の回折光に分割し、これら複数の回折光が光軸上に集
光するビームウェスト位置を光軸上で分散させることに
より、ビーム径を拡大することを特徴とするビーム径制
御方法により達成される。

【００１１】また第２の目的は、集光レンズによって集
光されるレーザビームのビーム径を変えるビーム径制御
装置において、集光レンズに入射するレーザビームに介
在しレーザビームを発散角が異なる複数の回折光に分割
するホログラム素子を備え、複数の回折光のビームウェ
スト位置を光軸上で分散させることを特徴とするビーム
径制御装置により達成される。

【００１２】ホログラム素子はコリメートビーム内に挿
入するのがよい。この場合にはホログラム素子の位置を
変えることにより、ビームウェスト位置を変えることな
くビーム径だけを変えることが可能になるからである。
ホログラム素子はレーザビームを同心円状に回折するホ
ログラムレンズタイプのものが望ましく、特にレプリカ
法で作ることにより安価に供給できるものが好ましい。

【００１３】ホログラム素子は、＋１次以上の回折光の
回折効率と−１次以上（−１、−２、−３、…）の回折
光の回折効率とがほぼ同一になるようにするのがよい。
このためには、ホログラム素子はコリメートされたレー
ザビームすなわち平行ビームの光束中に挿入するのが望
ましい。＋の回折光強度と−の回折光強度とを等しくす
るのが容易になるからである。

【００１４】また±１次以上の回折光のビームウェスト
位置が、０次回折光のビームウェスト位置を挟んで光軸
上にほぼ対称に現れるようにするのがよい。こうするこ
とにより、光軸上で０次回折光のビームウェスト位置を
挟んでその両側に分散する±１次、±２次…の回折光の
ビームウェスト位置とこれらの光強度とがほぼ対称に現
れることになる。このため回折光全体のビームウェスト
位置を変えることなくそのビームウェスト径を拡大でき
る。このため集光レンズの焦点調節が不要になる。

【００１５】ホログラム素子を光軸方向に移動できるよ
うにすれば、０次以外の回折光のビームウェスト位置を
変えることができ、この結果全ての回折光を集めた集光
ビームのビームウェスト径を変えることが可能になる。

【００１６】

【原理】図１はこの発明の原理を説明する図、図２はそ
の光ビームの強度分布を示す図である。まずこれらの図
を用いてこの発明の原理を説明しておく。

【００１７】平行ビーム（コリメートビーム）は光束の
中心から外側へ強度が徐々に減少するガウス型の強度分
布を持ち、図１で左側から走査レンズ（集光レンズ）Ｌ
Ｓに入射し、記録面Ｓ上に収束するものとする。平行ビ
ーム内の中心上に、ホログラム素子Ｐの中心を置いた状
態を考える。

【００１８】ここにホログラム素子Ｐは、ホログラムレ
ンズタイプのものが好ましく、レンズＬＳの光軸上を中
心として平行ビームを同心円状の複数の回折光に分割す
る。すなわち複数の回折光の走査レンズＬＳに対する入
射角が、回折光ごとにそれぞれ異なる。この回折光のう
ち０次の回折光は光軸と平行であり、この０次回折光は
ホログラム素子Ｐが無い場合と同じ記録面Ｓ上の位置Ｚ
（０）に集光する。また＋１次と−１次の回折光は、こ
の０次の回折光の集光位置Ｚ（０）より遠い位置Ｚ（＋
１）と近い位置Ｚ（−１）とにそれぞれ集光する。ここ
に集光位置Ｚ（０）、Ｚ＋１）、Ｚ（−１）は、それぞ
れの回折ムウェスト径が最小となる光軸上の位置を意味
する。

【００１９】このホログラム素子Ｐには、濃淡の縞模様
を形成した吸収型ホログラム、この濃淡の縞模様を漂白
脱色処理して高い回折効率を得るようにした位相型ホロ
グラム、干渉縞の濃淡を表面の凹凸に置き換えた表面レ
リーフ型ホログラムなどが使用できる。特に表面レリー
フ型ホログラムはレコード盤のようにプレス加工を行う
レプリカ法により安価に製作できるので最も好ましい。

【００２０】次に記録面Ｓ上の光強度を検討する。図２
の（Ａ）はこのホログラム素子Ｐが無く回折がない場合
を示す。この時には、入射平行ビーム（コリメートビー
ム）Ａは走査レンズＬＳにより集束され、記録面Ｓ上に
ビームウェストを有する集光ビームＢとなる。

【００２１】入射ビーム内に図１に示すようにホログラ
ム素子Ｐを入れた場合には、０次回折光は、レンズＬＳ
により集光となり、そのビームウェストは記録面Ｓ上の
Ｚ（０）に位置する。また＋１次および−１次の回折光
は集光ビームＢ₊₁、Ｂ_-1となる。ここに、これらのビー
ムウェスト位置Ｚ（＋１）、Ｚ（−１）は記録面Ｓ上に
無いから、記録面Ｓ上のビーム径は増大する。

【００２２】従って記録面Ｓでは３つの集光ビームＢ₀
とＢ₊₁とＢ_-1の強度が足し合わされて、（Ｂ₀＋Ｂ₊₁＋
Ｂ_-1）の強度を持ちかつビーム径が拡大した集光ビーム
となる。なおホログラム素子Ｐは±２次以上の回折光を
同時に生じさせるから、これら±２次以上の回折光に対
する集光ビームも記録面Ｓ上のビーム径に影響する。す
なわち±２次以上の回折光の集光位置は、次数の増加に
対して記録面Ｓから順に遠い位置になる。しかしその影
響は±１次回折光に比べて小さい。通常＋１次と−１次
の回折光の回折効率をそれぞれ１０％程度に設定するの
が望ましく、この場合には±２次以上の回折光の影響は
ほぼ省くことができる。

【００２３】このようにして果図２（Ａ）に示した集光
ビームＢに対して、ビーム径が拡大した集光ビーム（Ｂ
₀＋Ｂ₊₁＋Ｂ_-1）が得られる。なおこの時は、入射ビー
ムの全ての光束が記録面Ｓに導かれているから、光利用
効率は下がることがない。また集光ビーム（Ｂ_O＋Ｂ₊₁
＋Ｂ_-1）のビーム径は、ホログラム素子Ｐの位置を光軸
上で平行移動することにより任意に変更可能である。

【００２４】例えばホログラム素子ＰをレンズＬＳに接
近させれば集光位置（ビームウェスト位置）Ｚ（＋
１）、Ｚ（−１）は記録面Ｓに接近するから、ビーム径
は減少する。反対にホログラム素子ＰをレンズＬＳから
遠くすれば、ビーム径は増大する。

【００２５】また＋１次以上の回折光の回折効率と−１
次以上（−１、−２、−３、…）の回折光の回折効率を
ほぼ等しくすれば、ホログラム素子Ｐを移動した時のビ
ームウェスト位置の変動を抑制することができて望まし
い。同様に＋１次以上の回折光のビームウェスト位置Ｚ
（＋１）、Ｚ（＋２）、…等と、−１次以上の回折光の
ビームウェスト位置Ｚ（−１）、Ｚ（−２）、…等と
が、記録面Ｓを挟んで光軸上にほぼ対称に位置するよう
にすることも、ビームウェスト位置の変動を抑制するう
えで望ましいことである。

【００２６】

【実施態様】図３はこの発明に係るビーム径制御装置を
適用した光ビーム走査装置の実施態様を示す。この図に
おいて、符号１０は記録用光源である半導体レーザであ
り、レーザビームからなる記録用光ビーム１２を射出す
る。この光ビーム１２はコリメータレンズ１４、ビーム
径制御装置１６、集光レンズ１８、レゾナントスキャナ
２０、走査（ｆθ）レンズ２２を介して、ドラム２４に
保持された記録フィルム２６に導かれる。

【００２７】ここに半導体４レーザ１０は制御回路２８
により制御され、画像データに基づいて光ビーム１２を
オン・オフする。コリメータレンズ１４はレーザビーム
を平行ビームとする。ビーム径制御装置１６は、前記し
た図１、２で示したホログラム素子Ｐで構成される。

【００２８】レゾナントスキャナ２０は光ビームの走査
平面に対して垂直な軸回りで回動可能なミラーを持ち、
このミラーは板ばねの共振を利用して揺動する。走査レ
ンズ２２は、光ビーム１２の記録フィルム２４上での走
査速度を一定にする。なお３０は記録フィルム２４をド
ラム２２の表面に密着させるためのニップローラであ
る。

【００２９】３２は同期信号生成手段であり、次のよう
に構成されている。３４は同期用光源であり、レーザビ
ームからなる同期用光ビーム３６を射出する。この光ビ
ーム３６は、レゾナントスキャナ２０、走査レンズ２２
を介して、ドラム２４に接近しかつこのドラム２４と平
行に配設された集光ロッド３８に導かれる。この集光ロ
ッド３８の前には光ビーム３６を一定間隔ごとに透過さ
せるグリッドを有する同期用基準板４０が配設されてい
る。集光ロッド３８の一端にはホトセンサ４２が取付け
られている。

【００３０】従って光ビーム３６が基準板４０を通り集
光ロッド３８に入射すると、ホトセンサ４２がこれを検
出し、光ビーム３６の走査位置を検出する。この光ビー
ム３６は記録用光ビーム１２と同じレゾナントスキャナ
２０で走査されるから、この光ビーム３６の走査位置か
ら記録用光ビーム１２の走査位置を知ることができる。
なお４４はライン同期用のホトセンサであり、光ビーム
３６の走査開始タイミングを検出する。

【００３１】次に制御回路２８を説明する。前記ホトセ
ンサ４４の出力信号は、ライン同期信号生成部４６で波
形整形されてライン同期信号ＬＳＹとされ、またホトセ
ンサ４２の出力は同期信号生成部４８で波形整形されて
同期信号ＳＹとされ、それぞれ制御回路２８に入力され
る。制御回路２８は、同期信号ＳＹに適宜遅延時間を付
加する。

【００３２】制御回路２８はＣＰＵ（図示せず）から入
力される記録エリヤを示すデータに基づいて、このエリ
ヤの主走査方向の先頭に近い同期信号ＳＹＤに同期する
記録エリヤ信号ＡＲを生成するものである。

【００３３】一方前記の同期信号ＳＹは、逓倍回路であ
るＰＬＬ回路により逓倍される。例えば１０倍の周波数
に逓倍され、前記した記録エリヤ信号ＡＲの論理積（ア
ンド）により画像データクロックＣＬを得る。

【００３４】この画像データクロックＣＬは、走査線上
に画像を書き込むタイミングを示すものである。このク
ロックＣＬは、図示しない画像データ生成部から導かれ
る画像データと共に変調信号生成部５０に入力され、こ
こで半導体レーザ１０の駆動信号Ｄが生成される。

【００３５】この実施態様において記録密度が高い時す
なわち走査線密度が高い場合には、ビーム径制御装置１
６はホログラム素子Ｐを光路から除去し集光ビーム径を
図２（Ａ）にＢで示すように絞る。また記録密度が低い
時には、ホログラム素子Ｐを挿入して、図２（Ｂ）に示
す集光ビーム（Ｂ₀＋Ｂ₊₁＋Ｂ_-1）のようにビーム径を
拡大させる。なおこれらの中間のビーム径を得る時に
は、ホログラム素子Ｐを集光レンズ１８に接近させれば
よい。このようにホログラム素子Ｐを光軸上で連続的に
移動させることにより、集光ビーム径を連続的に変える
ことができる。

【００３６】

【走査装置の他の実施態様】図４は、他の実施態様であ
る円筒内面走査型画像記録装置を示す概念図である。こ
の図４において６０（６０ａ、６０ｂ、６０ｃ）は光ビ
ーム出力手段としての３個のレーザダイオードであり、
これらは同一波長かつ同一強度のレーザビーム６２（６
２ａ、６２ｂ、６２ｃ）を出力する。これらのレーザビ
ーム６２ａ、６２ｂ、６２ｃはそれぞれコリメートレン
ズ６４（６４ａ、６４ｂ、６４ｃ）、２次元音響光学偏
向素子ＡＯＤ（ＡＯＤａ、ＡＯＤｂ、ＡＯＤｃ）、ＡＯ
Ｄ射出レンズ６６（６６ａ、６９ｂ、６６ｃ）、０次光
カット板６８（６８ａ、６８ｂ、６８ｃ）およびコリメ
ートレンズ７０（７０ａ、７０ｂ、７０ｃ）を介し、合
波光学系７２により合波される。

【００３７】なおレーザビーム６２（６２ａ、６２ｂ、
６２ｃ）は、コリメートレンズ７０で平行光線にされ、
ＡＯＤで偏向された後ＡＯＤ射出レンズ６６と０次光カ
ット板６８で１次回折光だけが選択される。そしてコリ
メートレンズ７０で再び平行光線に戻され合波光学系７
２に導かれる。

【００３８】ＡＯＤは後記のスピナー８４の回転角度θ
の変化に伴って所定周波数の超音波がトランスデューサ
より発生することにより駆動され、この時の１次回折光
が０次光カット板６８で選択されるものである。このト
ランスデューサの駆動周波数により１次回折光の偏向方
向を制御する。なお２値画像信号がオン・オフする時に
は、レーザダイオード６０の出力がオン・オフしてレー
ザビーム６２がオン・オフされる。

【００３９】３つのＡＯＤは、この実施態様ではそれぞ
れレーザビーム６２ａ、６２ｂ、６２ｃを２次元的に偏
向させ、走査線の湾曲と間隔を修正するものである。

【００４０】合波光学系７２は、全反射ミラーＭと、偏
光ビームスプリッタＰＢＳと、ビームスプリッタＢＳと
で形成される。前記レーザダイオード６０ａ、６０ｂ、
６０ｃは直線偏光のレーザビームを出力し、これらの偏
光方向はそれぞれ図４に矢印で示す方向に設定されてい
る。

【００４１】すなわちレーザダイオード６０ａと６０ｃ
は、ビームスプリッタＢＳおよび全反射ミラーＭに対す
る入射平面波の電界の振動面が入射面（入射光と反射光
を含む平面）に平行な偏光（Ｐ偏光）となるように、そ
の取付角度が設定されている。またレーザダイオード６
０ｂは、偏光ビームスプリッタＰＢＳに対する入射平面
波の電界の振動面が入射面に垂直となる偏光（Ｓ偏光）
となるように、その取付角度が設定されている。

【００４２】そしてレーザビーム６２ａ、６２ｂ、６２
ｃはこの合波光学系７２によりほぼ１つのレーザビーム
Ｌｏに合波される。なおこの合波されたレーザビームＬ
ｏは図４では１本のビームとして表しているが、実際に
は、互いに分かれた３本の共軸ではないビームから成る
ものである。

【００４３】この合波レーザビームＬｏは、さらにビー
ムエキスパンダレンズ７４および７６においてビーム径
の拡大・変更が行われる。その後開口板７８においてフ
レア光（迷光）の除去と光束径の制御とが行われる。こ
のビームＬｏはさらにビーム径制御装置８０を通り、ド
ラム（円筒）８２の中心軸に沿ってドラム８２内に導か
れる。ドラム８２の中心軸上には、光走査器としてのス
ピナー８４が設けられている。

【００４４】このスピナー８４は中心軸（回転軸）に対
して４５°の反射面を持ち、モータにより高速回転され
る。なおこのモータにはロータリーエンコーダ８６が取
付けられ、スピナー８４の回転角（θ＝ωｔ）が検出さ
れる。すなわち所定回転角ごとに出力されるパルス信号
ｐと、１回転の基準位置を示す基準位置信号ｐ０とが出
力される。なおこのスピナー８４に導かれるビームＬ_O
は、回転軸上にある集光レンズ８８によって、ドラム８
２の内周面あるいは記録シートに合焦する。９０は制御
手段であり、このスピナー８４の回転角θに同期してＡ
ＯＤを制御し、主走査線の湾曲と間隔の修正を行う。

【００４５】この実施態様で、ビーム径制御装置８０と
して図１、２に示したホログラム素子Ｐを用いる。この
ビーム径制御装置８０により３本の光ビーム６２ａ、６
２ｂ、６２ｃの記録面上での集光ビーム径を同時に変え
ることができる。例えば記録密度が高い場合にはビーム
径制御装置８０のホログラム素子Ｐを除き、ビーム径を
絞る。また記録密度が低い場合には、ホログラム素子Ｐ
を入れまたこのホログラム素子の位置を変えることによ
りビーム径を拡大させればよい。

【００４６】以上の実施態様は、この発明のビーム径制
御方法、装置を光ビーム走査装置に適用したものである
が、本発明はこれ以外の装置に適応してもよい。例えば
レーザビームを用いた加工装置、医用装置、計測装置な
どでビーム径を変える場合に適用できる。

【００４７】

【発明の効果】請求項１の発明は、レーザビームをホロ
グラム素子により発散角が異なる複数の回折光に分割し
て、ビーム径を変えるものであるから、開口絞りを用い
る方法に比べて光利用効率が高くなる。また構成が簡単
で、複雑で高価な光学系やズーム径が不要であるから安
価である。

【００４８】請求項２の発明によれば、この方法の実施
に直接使用するビーム径制御装置が得られる。ホログラ
ム素子はコリメートされた平行ビームに挿入するのがよ
い（請求項３）。ホログラム素子は同心円状に回折する
ホログラムレンズタイプのものがよく（請求項４）、特
にレプリカ法で作ることができるものが望ましい。

【００４９】＋１次回折光と−１次回折光との回折効率
をほぼ等しくすれば（請求項５）、これら±１次回折光
のビームウェスト位置が０次回折光のビームウェスト位
置に対してほぼ対称になる。このためこれら回折光を合
成したビームのビームウェスト位置の変動が少なくな
り、集光レンズの焦点調節が不要になる。

【００５０】ホログラム素子は光軸上で連続的あるいは
不連続的に移動できるようにすれば、ビームウェスト径
を連続的あるいは不連続的に変えることができる（請求
項６）。

【００５１】このビーム径制御方法・装置は、レーザビ
ームを記録面上で走査させて画像を記録する光ビーム走
査装置に適用することができる（請求項７）。またレー
ザビームを画像上で走査させて画像を読取る光ビーム走
査装置も適用できる（請求項８）。これらの場合には、
ホログラム素子を着脱したり、その位置を光軸上で変え
ることにより、記録密度あるいは読取り密度の変化に対
応してビーム径を容易に変えることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の原理を説明する図

【図２】その光ビームの強度分布を示す図

【図３】光ビーム走査装置へ適用した実施態様を示す図

【図４】他の光ビーム走査装置へ適用した実施態様を示
す図

【符号の説明】

１０、６０半導体レーザ１２、６２レーザビーム１４コリメータレンズ１６、８０ビーム径制御装置１８、８８集光レンズＰホログラム素子ＬＳ集光レンズＳ記録面

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】集光レンズによって集光されるレーザビ
ームのビーム径を変えるビーム径制御方法において、集
光レンズに入射するレーザビームを、ホログラム素子に
より発散角が異なる複数の回折光に分割し、これら複数
の回折光が光軸上に集光するビームウェスト位置を光軸
上で分散させることにより、ビーム径を拡大することを
特徴とするビーム径制御方法。
【請求項２】集光レンズによって集光されるレーザビ
ームのビーム径を変えるビーム径制御装置において、集
光レンズに入射するレーザビームに介在しレーザビーム
を発散角が異なる複数の回折光に分割するホログラム素
子を備え、複数の回折光のビームウェスト位置を光軸上
で分散させることを特徴とするビーム径制御装置。
【請求項３】ホログラム素子は、コリメートされたレ
ーザビームに挿入されている請求項２のビーム径制御装
置。
【請求項４】ホログラム素子はレーザビームを同心円
状の複数の回折光に分割するホログラムレンズタイプの
ものである請求項２または３のビーム径制御装置。
【請求項５】ホログラム素子は、＋１次回折光以上の
回折効率と−１次回折光以上の回折効率とがほぼ等しい
ものである請求項２〜４のいずれかのビーム径制御装
置。
【請求項６】ホログラム素子は光軸方向に移動可能で
ある請求項２〜５のいずれかのビーム径制御装置。
【請求項７】記録面上に画像の記録を行う記録密度可
変な光ビーム走査装置に用いられ、ホログラム素子を着
脱可能または光軸方向へ移動可能とした請求項２〜６の
いずれかのビーム径制御装置。
【請求項８】画像を読取る読取り密度可変な光ビーム
走査装置に用いられ、ホログラム素子を着脱可能または
光軸方向へ移動可能とした請求項２〜６のいずれかのビ
ーム径制御装置。