JPH1062609A - マイクロレンズ及び該レンズを用いた撮像装置 - Google Patents

マイクロレンズ及び該レンズを用いた撮像装置

Info

Publication number
JPH1062609A
JPH1062609A JP8221262A JP22126296A JPH1062609A JP H1062609 A JPH1062609 A JP H1062609A JP 8221262 A JP8221262 A JP 8221262A JP 22126296 A JP22126296 A JP 22126296A JP H1062609 A JPH1062609 A JP H1062609A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
lens element
lens member
microlens
focal length
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8221262A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Yagi
健 八木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP8221262A priority Critical patent/JPH1062609A/ja
Publication of JPH1062609A publication Critical patent/JPH1062609A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Automatic Focus Adjustment (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 焦点距離を調整できるマイクロレンズを得
る。 【解決手段】 支持基板7の貫通孔10内に可撓性を有
するレンズエレメント8が配置されている。レンズエレ
メント8の側面と貫通孔10の内周面との間のリング状
の隙間に、内周面側に切り欠き151 〜154 が形成さ
れたリング状の電歪素子11が配置されている。電歪素
子11は、圧電性を有する誘電体12と、誘電体12の
上下面に各々形成された電極層13,14とからなり、
電極層13,14間に可変電圧を加えると、誘電体12
がレンズエレメント8の径方向に膨張又は収縮して、レ
ンズエレメント8を圧縮又は伸張させる。これにより、
レンズエレメント8の焦点距離が変化する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はマイクロレンズ及び
このレンズを用いた撮像装置に関し、特に焦点距離を調
整できるマイクロレンズ及びこのレンズを用いた撮像装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、イメージセンサ等の固体撮像
素子を用いて周囲の状況を電子画像化する撮像装置にお
いては、固体撮像素子の前方に配置した結像光学系を介
して、撮像対象である被写体の像が固体撮像素子上に結
像されている。また、被写体までの距離にかかわらず合
焦状態を維持するために、結像光学系を構成するレンズ
の一部を光軸方向に移動させるオートフォーカス機構が
設けられている。そのような結像光学系は、結像される
像の歪みや色収差等を補正するため、一例として数枚か
ら数十枚のレンズ群より構成されており、特にレンズ群
の枚数が多くなるとオートフォーカス機構も複雑化して
いた。
【0003】ところで、固体撮像素子として、その撮像
面上に多数のマイクロレンズを配列して組み込んだもの
が知られている(例えば特開平3−173472号公報
参照)。固体撮像素子の表面には多数の光電変換部(画
素)が配列されているが、その従来技術では、各光電変
換部の前方にマイクロレンズを設けることによって、実
効的な開口率(受光効率)の増大を図っていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
マイクロレンズは、半導体製造技術による固体撮像素子
の製作時にこの素子の表面に一体的に組み込まれてお
り、マイクロレンズの焦点距離等の光学特性は固定化さ
れていた。これに対して仮に、マイクロレンズの焦点距
離を被写体までの距離等に応じて調整できれば、その開
口率を最適化できると共に、結像光学系内のレンズを駆
動しなくとも或る程度のオートフォーカスを行うことが
でき、しかも結像光学系による結像面の像面湾曲等をも
補正できる可能性がある。
【0005】本発明は斯かる点に鑑み、焦点距離の調整
が可能なマイクロレンズを提供することを目的とする。
また、本発明はそのようなマイクロレンズを使用して或
る程度の合焦等を行うことができる撮像装置を提供する
ことをも目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明によるマイクロレ
ンズは、例えば図5に示すように、所定の貫通孔(1
0)を有する支持部材(7)と、その支持部材の貫通孔
(10)内に設けられた可撓性を有するレンズ部材
(8)と、貫通孔(10)の内周面とレンズ部材(8)
の側面との間に設けられ、レンズ部材(8)の径方向に
伸縮してこのレンズ部材の曲率を変化させるアクチュエ
ータ(11)と、を備えたものである。
【0007】斯かる本発明では、支持部材(7)に形成
された貫通孔(10)内にその径方向に伸縮するアクチ
ュエータ(11)を介してレンズ部材(8)を支持して
いるので、アクチュエータ(11)の伸縮に同調してレ
ンズ部材(8)をその径方向に縮小又は伸張することに
より、レンズ部材(8)の球面の曲率、又は非球面の平
均的な曲率、ひいては焦点距離を変化させることができ
る。
【0008】この場合、レンズ部材(8)の材質とし
て、透光性を有する樹脂材料を選択することが望まし
い。レンズ部材(8)を樹脂材料で形成した場合にはア
クチュエータ(11)の伸縮に同調してそのレンズ部材
が円滑に変形する。また、アクチュエータ(11)は、
貫通孔(10)の内壁及びレンズ部材(8)の側面間に
実質的に周方向全域に亘って配設することが望ましい。
アクチュエータ(11)をレンズ部材(8)の側面の略
全周に接するよう配設すれば、アクチュエータの伸縮に
よりレンズ部材(8)には圧縮力又は引張力が円周方向
に均一に作用する。
【0009】更に、そのアクチュエータをレンズ部材
(8)の径方向に伸縮する電歪素子を複数層(42,4
4)積層して形成してもよい。これによって、比較的大
きな伸縮量を容易に得ることができ、レンズ部材(8)
の焦点距離を広範囲に調整できる。また、本発明による
撮像装置は、例えば図2に示すように、本発明によるマ
イクロレンズ(8)を同一の支持基板(7)内に複数個
アレイ状に配列し、これら複数個のマイクロレンズによ
る被写体の結像位置の近傍にそれぞれ入射した光束を光
電変換する光電変換素子(6)を配置したものである。
【0010】斯かる本発明では、マイクロレンズ(8)
の焦点距離を各々調整できるので、結像光学系中のレン
ズを移動させることなく被写体像の結像位置を調整し
て、或る程度の合焦を行うことができる。しかも、マイ
クロレンズ(8)毎に焦点距離を調整すれば、結像光学
系の像面湾曲等の補正を行うこともできる。また、各光
電変換素子(6)毎に例えば光電変換信号が最大となる
ように対応するマイクロレンズ(8)の焦点距離を調整
して、開口率を最適化することもできる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態の一例
につき図面を参照して説明する。図1は本例のマイクロ
レンズを備えた撮像装置の概略構成を示し、図2はその
撮像装置の側面図を示す。図1に示すように、本例の撮
像装置は、結像光学系3の光軸AXに沿って順次マイク
ロレンズアレイ4、及び2次元CCDよりなる撮像素子
2を配置して構成されている。そして、所定の被写体S
からの光束を結像光学系3及びマイクロレンズアレイ4
を介して集光して被写体Sの像を形成し、この像を撮像
素子2で撮像している。
【0012】撮像素子2は、半導体基板5の表面に格子
状に多数の光電変換部(画素)6を配列して構成され、
各光電変換部6の光電変換信号が不図示の演算処理装置
に送出されている。図1及び図2では便宜上結像光学系
3は1枚のレンズで表されているが、実際には結像光学
系3は、図3に示すように、複数枚のレンズを組合せて
構成されている。マイクロレンズアレイ4は、撮像素子
2の複数の光電変換部6のそれぞれに対応させて可撓性
を有する微小な両凸のレンズエレメント8を、それぞれ
電歪素子11を介して支持基板7に埋め込んで構成され
る。図1では、レンズエレメント8は、4行×4列で配
列されているが、実際にはレンズエレメント8は縦横に
例えば数10μmピッチで多数配列されている。
【0013】図2に示すように、支持基板7の両端部に
は撮像素子2側に略台形状に隆起させた脚部7a,7b
が形成されており、これら脚部7a,7bがスペーサ9
A,9Bを介して撮像素子2上に取り付けられている。
これにより、レンズエレメント8は、各々対応する光電
変換部6の前方に所定間隔隔てて対向するように配置さ
れており、結像光学系3を透過してきた被写体Sからの
光束はレンズエレメント8によって光電変換部6上に集
光され、光電変換部6の形成面(撮像面)に被写体Sの
像が結像される構造となっている。即ち、マイクロレン
ズアレイ4が無いときの結像面を点線の結像面30とす
ると、マイクロレンズアレイ4によってその結像面30
がその撮像面上に移動すると見なすこともできる。
【0014】更に本例では、図1に示した電歪素子11
によって各レンズエレメント8を半径方向に伸縮させる
ことによって、各レンズエレメント8の焦点距離を調整
できるようになっている。1つのレンズエレメント8
と、対応する電歪素子11とを含み、そのレンズエレメ
ント8の焦点距離を調整できる機構を以下では1つのマ
イクロレンズと呼ぶ。
【0015】次に図5を参照して、本例の1つのマイク
ロレンズの構成につき説明する。図5(a)は、そのマ
イクロレンズの拡大図、図5(b)は図5(a)のAA
線に沿う断面図を示している。なお、マイクロレンズア
レイ4内の複数のマイクロレンズの構成は同一であるた
め、以下では一のマイクロレンズを例にとって説明す
る。
【0016】図5(b)に示すように、シリコン基板よ
りなる支持基板7に形成された貫通孔10内にこの孔よ
り小径のレンズエレメント8がほぼ同軸に設けられてい
る。本例のレンズエレメント8は、径方向に伸縮力が作
用していない状態で、上面及び下面が外側に凸のほぼ半
径Rの球面8b,8cとされた両凸レンズである。但
し、レンズエレメント8として、非球面レンズを使用し
てもよく、更には凹レンズ等を使用してもよい。レンズ
エレメント8は、可撓性を有する透光性の樹脂材料より
形成され、後述する電歪素子11の伸縮に同調して円滑
に変形する。レンズエレメント8の直径は一例として約
20μm程度であり、レンズエレメント8の材料として
は、例えば(株)富士薬品製のFVR(商品名)、又は
(株)日本合成ゴム製のMES(商品名)等の光硬化型
の透光性樹脂が使用できる。
【0017】レンズエレメント8の側面8aと貫通孔1
0の内周面との間のリング状の隙間には電歪素子11が
装着されている。電歪素子11は、圧電性(印加する電
圧値に応じて一方向に伸縮する性質)を有する略リング
状のセラミックス系の誘電体12の上面及び下面にそれ
ぞれ電極層13,14を被着して構成されている。本例
の誘電体12は、電圧の印加方向に対して伸縮する方向
が直交している。即ち、誘電体12の伸縮方向はレンズ
エレメント8の径方向(即ち、レンズエレメント8の光
軸axと直交する方向)となっている。この場合、電極
層13,14との絶縁性を保つために、支持基板7の上
面から誘電体12の上面にかけて絶縁膜17が被着さ
れ、誘電体12上に絶縁膜17を介して電極層13が被
着されている。誘電体12の外周面及び内周面は、各々
貫通孔10の内周面及びレンズエレメント8の側面8a
に接合している。
【0018】また、誘電体12の内周面側が伸縮し易い
ように、図5(a)に示すように、その内周面の4箇所
に楔状の切り欠き151 〜154 が形成されている。こ
のため、電極層13及び14を介して正又は負の電圧を
誘電体12に印加して誘電体12を内周面側で伸張又は
収縮させると、レンズエレメント8の側面8aに圧縮力
又は伸張力が作用し、レンズエレメント8が光軸axと
直交する方向で弾性変形して、レンズエレメント8の両
側の球面8b,8cの曲率半径Rが変化する。
【0019】本例の誘電体12は、例えば分子線エピタ
キシ法(MBE法)又はスパッタ法により、支持基板7
の孔10の内周面に形成される。次いで、支持基板7及
び誘電体12の上面には、例えばスパッタ法、又は蒸着
法により、絶縁膜17が形成され、誘電体12の上面に
絶縁膜17を介して低電気抵抗材料からなる電極層13
が形成される。なお、イオン打込法により低電気抵抗材
料をドーピングして電極層13を形成してもよい。同様
に、誘電体12の下面に電極層14が形成される。その
後、誘電体12の内周面に、所定の厚さで埋め込んだ透
光性樹脂の周辺部をだれさせることによって、レンズエ
レメント8が形成される。
【0020】また、図5(a)に示すように、電極層1
3の外周縁の一部に、径方向外方に延びる突出部13a
が形成されている。他方の電極層14の外周の突出部1
3aと略対称な位置にも、同様に突出部14aが形成さ
れている。突出部13aには配線181 の一端が接続さ
れ、突出部14aには支持基板7及び絶縁膜17に形成
したスルーホール17aを介して配線191 の一端が接
続されている。
【0021】図4は、図5のレンズエレメント8を含む
マイクロレンズアレイ4の一部を示し、この図4(a)
に示すように、配線181 及び191 の他端はそれぞれ
電極201 及び21に接続されている。同様に他のレン
ズエレメント8を囲む電歪素子11にもそれぞれ配線1
2,183,…、及び配線192,193,…が接続されてい
る。後者の配線192,193,…は配線191 と共通に電
極21に接続され、前者の配線182,183,…はそれぞ
れ電極202,203,…に接続されている。不図示の演算
制御装置からの指示に従って、電極21と電極201,2
2,203,…との間に互いに独立に可変の電圧を印加す
ることによって、レンズエレメント8毎に圧縮、又は伸
張できるようになっている。
【0022】次に、本例の撮像装置による被写体Sの撮
像動作の一例につき説明する。先ず、上述のように図1
に示すマイクロレンズアレイ4は、個々のレンズエレメ
ント8をその周囲の電歪素子11を介して独立に変形で
きるようになっている。図6(a)及び(b)は、電歪
素子11の伸張時のレンズエレメント8の側面及び正面
から見た変形状態を示し、図7(a)及び(b)は、電
歪素子11の収縮時のレンズエレメント8の側面及び正
面から見た変形状態を示している。図6及び図7におい
て、変形後の状態を実線で、変形前の状態を2点鎖線で
示している。図6(a)に示すように、電歪素子11の
伸張により径方向に圧縮されたレンズエレメント8の両
側の球面の曲率半径R1 は、圧縮前の曲率半径R0 より
も小さくなり、図7(a)に示すように、電歪素子11
の収縮によって径方向へ伸張されたレンズエレメント8
の両側の球面の曲率半径R2 は、変形前の曲率半径R0
よりも大きくなる。このようにレンズエレメント8の球
面の曲率半径の変化によってその焦点距離が変化する。
【0023】図8(a)及び(b)は、レンズエレメン
ト8の変形前後の焦点距離の変化を示す図であり、図8
(a)及び(b)においてレンズエレメント8には平行
光束が入射している。レンズエレメント8が変形前の状
態であるときには、点線で示すように、入射した光束は
レンズエレメント8から焦点距離f0 の焦点F0 に収束
する。そして、図8(a)に示すように、レンズエレメ
ント8が径方向に圧縮されて球面の曲率半径がR1 と小
さくなると、焦点がF0 からF1 に近付いて焦点距離が
1 と小さくなる。一方、図8(b)に示すように、レ
ンズエレメント8が径方向に伸張されて球面の曲率半径
がR2 と大きくなると、焦点がF0 からF2 に遠避かっ
て焦点距離がf2 と大きくなる。従って、本例のマイク
ロレンズでは図5において、電歪素子11を介してレン
ズエレメント8を径方向に圧縮すると、レンズエレメン
ト8の焦点距離が短くなり、電歪素子11を介してレン
ズエレメント8を径方向に伸張すると、レンズエレメン
ト8の焦点距離が長くなるため、電歪素子11に印加す
る電圧(電歪素子11の変形量)によって、個々のレン
ズエレメント8の焦点距離を制御できることが分かる。
【0024】そこで、図2において、被写体Sの像を撮
像素子2で撮像する際に、撮像素子2の各光電変換部6
の出力信号が例えばそれぞれ最大になるように、対応す
るレンズエレメント8の焦点距離を制御する。これによ
って、撮像素子2の各光電変換部6に対する開口率(受
光効率)をそれぞれ最大にすることができる。更に、図
2の一点鎖線の結像面32で示すように、結像光学系3
自体の結像面に像面湾曲が発生している場合、結像光学
系3を調整してその結像面32を平坦にするのは容易で
はない。しかし、本例では、レンズエレメント8の焦点
距離を互いに独立に調整することによって、そのような
像面湾曲をも補正して、各光電変換部6での受光量を最
大にすることができる。言い換えると、実質的に像面湾
曲を或る程度補正できることになる。
【0025】更に、被写体Sの光軸AX方向の位置が僅
かに変化したような場合には、各レンズエレメント8の
焦点距離をそれに応じて並行に調整することによって、
オートフォーカス方式で合焦を行うことができる。ま
た、このオートフォーカスを行う際には、被写体Sの僅
かな変位に対しては、レンズエレメント8の焦点距離の
補正で対処して、被写体Sの大きな変位に対しては、結
像光学系3中のレンズの移動で対処するようにしてもよ
い。これによって、オートフォーカス機構を簡略化でき
る。
【0026】また、本例の撮像装置では、レンズエレメ
ント8を変形させるための電歪素子11を略リング状と
し、電歪素子11の内周面をレンズエレメント8の側面
8aに略全周に亘って密着させたので、レンズエレメン
ト8に対して円周方向に均一に圧縮力又は伸張力を作用
させることができる。従って、レンズエレメント8を均
一に変形させることができ、レンズエレメント8の収差
を大きくすることなく焦点距離を変化させることができ
る。
【0027】次に、本発明による実施の形態の他の例に
つき図9を参照して説明する。本例のマイクロレンズも
上述の実施の形態と同様に、可撓性を有するレンズエレ
メントを変形させてその焦点距離を変化させるが、レン
ズエレメントを変形させるための電歪素子の構成が異な
っている。他の構成は同様であるため、以下では1つの
マイクロレンズについてのみ説明する。また、図9にお
いて、図5に対応する部分には同一の符号を付してその
詳細説明を省略する。
【0028】図9(a)は本例のマイクロレンズを示す
拡大図、図9(b)は図9(a)のBB線に沿う断面図
であり、図9(a)及び(b)に示すように、本例のマ
イクロレンズも、支持基板7に設けられた貫通孔10内
に可撓性を有するレンズエレメント8を配置して構成さ
れている。また、レンズエレメント8の側面8aと貫通
孔10の内周面との間には、円周方向に対して等角度間
隔で、複数個、図9(a)では8個の電歪素子351
358 が装着されている。電歪素子351 〜358 は同
一構成であり、電歪素子351 は、貫通孔10の内周面
に形成された電極層34と、レンズエレメント8の側面
8aに形成された電極層33と、電極層34及び33の
間に挟まれた誘電体32とから構成されている。本例の
誘電体32は、電極層34及び33の間に所定の電圧が
印加されると、その電圧が印加された方向、即ちレンズ
エレメント8の径方向に伸縮する圧電特性を有する。
【0029】また、図9(b)に示すように、支持基板
7の上面に絶縁膜17が被着され、電歪素子351 の内
側の電極層33から絶縁膜17の上面にかけて配線30
が形成されている。また、図9(a)に示すように、外
側の電極層34にも配線31が接続されている。本例で
は、レンズエレメント8の周囲の8個の電歪素子35 1
〜358 の外側の電極層34が不図示の配線を介して配
線31と共通に不図示の第1の電極に接続され、それら
の内側の電極層33が不図示の配線を介して配線30と
共通に不図示の第2の電極に接続され、これら第1及び
第2の電極間に可変電圧を印加することによって、レン
ズエレメント8を半径方向に伸縮させてその焦点距離を
調整できるようになっている。従って、本例のマイクロ
レンズを撮像装置に使用することによって、撮像素子の
各光電変換部に対する開口率を最適化できると共に、或
る程度のオートフォーカスや像面湾曲の補正を行うこと
ができる。
【0030】また、本例の電歪素子351 〜358 は、
伸縮方向が電圧の印加方向に平行であるため、伸縮量を
大きくできる利点もある。なお、更にレンズエレメント
8を囲む電歪素子の伸縮量を大きくするためには、その
電歪素子を積層構造にしてもよい。図10は、図9の電
歪素子351 〜358 を積層化した電歪素子を備えたマ
イクロレンズの断面図を示し、この図10において、支
持基板7の貫通孔10A内に可撓性を有するレンズエレ
メント8が配置され、レンズエレメント8の側面8aと
貫通孔10Aの内周面との間に対向するように2個の電
歪素子461,465が装着されている。レンズエレメン
ト8の周囲には電歪素子461 と同一の電歪素子が等角
度間隔で8個装着されている。
【0031】また、電歪素子461 は、レンズエレメン
ト8の側面8aから貫通孔10Aの内周面にかけて順
次、第1の電極層41、第1の誘電体42、第2の電極
層43、第2の誘電体44、及び第3の電極層45を積
層して構成されている。この変形例でも、電極層41,
43,45による電圧の印加方向は、レンズエレメント
8の径方向になっており、その径方向が誘電体42及び
44の伸縮方向となっている。従って、電極層41,4
3,45間に可変電圧を印加して、電歪素子46 1 及び
他の電歪素子をレンズエレメント8の径方向に伸縮する
ことによって、レンズエレメント8の焦点距離を調整で
きる。この際に、本変形例では、電歪素子461 の誘電
体42,44が複数層積み重ねられているため、図9の
例に比べてレンズエレメント8の径方向への伸縮量を大
きくでき、ひいてはレンズエレメント8の焦点距離の可
変範囲を広くできる。
【0032】なお、上述の実施の形態では、レンズエレ
メント8を複数個備えたマイクロレンズアレイ4を撮像
素子2の表面上に取付けたが、撮像素子2の半導体基板
5上にマイクロレンズアレイ4を組み込んでモノリシッ
ク型としてもよい。また、上述の実施の形態では、レン
ズエレメント8の焦点距離を変えるために印加電圧に応
じて伸縮する電歪素子を用いたが、例えば磁歪素子等を
使用しても良い。
【0033】また、上述の実施の形態では、図2に示す
ように、撮像素子2の各光電変換部6の前方にそれぞれ
焦点距離の調整可能なレンズエレメント8を配置した
が、本発明によるマイクロレンズの用途はそれには限定
されない。例えば、図5に示すレンズエレメント8を例
えば半導体レーザ素子の射出面に配置し、レンズエレメ
ント8の焦点距離を制御することによって、その半導体
レーザ素子から射出されるレーザビームの集光位置を調
整するような用途にも適用できる。
【0034】また、上述した実施の形態では、複数個の
レンズエレメント8を同一の支持基板7にアレイ状に配
列したが、焦点距離を調整できる大型のレンズエレメン
トを単独で使用してオートフォーカスを行うようにして
もよい。このように本発明は上述の実施の形態に限定さ
れず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取
り得る。
【0035】
【発明の効果】本発明のマイクロレンズによれば、支持
部材に形成された貫通孔の内周面と可撓性を有するレン
ズ部材との間にこのレンズ部材の径方向に伸縮するアク
チュエータを設けたので、そのアクチュエータの伸縮に
同調してそのレンズ部材を圧縮又は伸張させることで、
そのレンズ部材の焦点距離を調整できる利点がある。
【0036】また、そのレンズ部材を透光性を有する樹
脂材料より形成した場合には、そのアクチュエータの伸
縮に同調してそのレンズ部材を円滑に変形させることが
できる。また、そのアクチュエータを、その支持部材の
貫通孔の内周面及びそのレンズ部材の側面間に実質的に
周方向全域に亘って配設した場合には、そのレンズ部材
の側面に周方向に亘ってほぼ均一に圧縮又は引張り応力
を作用させることができるため、そのレンズ部材の収差
をあまり悪化させることなくそのレンズ部材の焦点距離
を調整できる。
【0037】また、そのアクチュエータを、そのレンズ
部材の径方向に伸縮する電歪素子を複数層積層して形成
した場合には、そのレンズ部材の変形量を大きくしてそ
のレンズ部材の焦点距離の調整範囲を広くできる利点が
ある。次に、本発明の撮像装置によれば、焦点距離の調
整可能な本発明のマイクロレンズをアレイ状に配列し、
各マイクロレンズに対応して光電変換素子を配置してい
るので、各マイクロレンズの焦点距離を制御することに
よって、或る程度の合焦を行うことができると共に、各
光電変換素子に対する開口率(受光効率)の制御を行う
こともできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の一例のマイクロレンズア
レイを備えた撮像装置を示す概略斜視図である。
【図2】図1の撮像装置を示す側面図である。
【図3】図1の撮像装置の結像光学系3の構成例を示す
光路図である。
【図4】(a)は図1のマイクロレンズアレイ4の一部
を結像光学系3側から見た図、(b)は図4(a)の側
面図である。
【図5】(a)は、図1のマイクロレンズアレイ4中の
1つのマイクロレンズを示す拡大図、(b)は図5
(a)のAA線に沿う断面図である。
【図6】(a)は電歪素子が伸張したときのレンズエレ
メント8の変形状態を示す側面図、(b)は図6(a)
を光軸方向に見た図である。
【図7】電歪素子が収縮したときのレンズエレメント8
の変形状態を示す図である。
【図8】(a)はレンズエレメント8が圧縮されたとき
の焦点距離の変化を示す図、(b)はレンズエレメント
8が伸張されたときの焦点距離の変化を示す図である。
【図9】(a)は本発明による実施の形態の他の例のマ
イクロレンズを示す拡大図、(b)は図9(a)のBB
線に沿う断面図である。
【図10】図9のマイクロレンズの電歪素子を積層化し
た変形例を示す断面図である。
【符号の説明】
2 撮像素子 3 結像光学系 4 マイクロレンズアレイ 6 光電変換部 7 支持基板 8 レンズエレメント 10 貫通孔 11 電歪素子 12 誘電体 13,14 電極層 351,352,…358 電歪素子 32 誘電体 33,34 電極層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H04N 5/335

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定の貫通孔を有する支持部材と、 該支持部材の貫通孔内に設けられた可撓性を有するレン
    ズ部材と、 前記貫通孔の内周面と前記レンズ部材の側面との間に設
    けられ、前記レンズ部材の径方向に伸縮して該レンズ部
    材の曲率を変化させるアクチュエータと、 を備えたことを特徴とするマイクロレンズ。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のマイクロレンズであっ
    て、 前記レンズ部材は、透光性を有する樹脂材料によって形
    成されていることを特徴とするマイクロレンズ。
  3. 【請求項3】 請求項1、又は2記載のマイクロレンズ
    であって、 前記アクチュエータは、前記貫通孔の内周面及び前記レ
    ンズ部材の側面間に実質的に周方向全域に亘って配設さ
    れていることを特徴とするマイクロレンズ。
  4. 【請求項4】 請求項1、2又は3記載のマイクロレン
    ズであって、 前記アクチュエータは、前記レンズ部材の径方向に伸縮
    する電歪素子を複数層積層して形成されていることを特
    徴とするマイクロレンズ。
  5. 【請求項5】 請求項1〜4の何れか一項記載のマイク
    ロレンズを同一の支持基板内に複数個アレイ状に配列
    し、該複数個のマイクロレンズによる被写体の結像位置
    の近傍にそれぞれ入射した光束を光電変換する光電変換
    素子を配置したことを特徴とする撮像装置。
JP8221262A 1996-08-22 1996-08-22 マイクロレンズ及び該レンズを用いた撮像装置 Pending JPH1062609A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8221262A JPH1062609A (ja) 1996-08-22 1996-08-22 マイクロレンズ及び該レンズを用いた撮像装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8221262A JPH1062609A (ja) 1996-08-22 1996-08-22 マイクロレンズ及び該レンズを用いた撮像装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1062609A true JPH1062609A (ja) 1998-03-06

Family

ID=16764023

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8221262A Pending JPH1062609A (ja) 1996-08-22 1996-08-22 マイクロレンズ及び該レンズを用いた撮像装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1062609A (ja)

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6577434B2 (en) 2000-01-14 2003-06-10 Minolta Co., Ltd. Variable focal position spatial modulation device
US6658208B2 (en) * 2001-01-30 2003-12-02 Olympus Optical Co., Ltd. Focal-length adjusting unit for photographing apparatuses
WO2003102636A1 (fr) * 2002-06-04 2003-12-11 Masatoshi Ishikawa Lentille a focale variable et organe de commande de lentille
US6683725B2 (en) * 1995-06-07 2004-01-27 Jacob N. Wohlstadter Three dimensional imaging system
JP2007004471A (ja) * 2005-06-23 2007-01-11 Nikon Corp 画像合成方法及び撮像装置
KR100772361B1 (ko) * 2001-06-08 2007-11-01 삼성전자주식회사 광픽업 장치
US7295241B2 (en) 2001-12-27 2007-11-13 Fujifilm Corporation Image capturing apparatus, image capturing method, and computer-readable medium storing a program for an image capturing apparatus
JP2009516372A (ja) * 2005-11-15 2009-04-16 ザ、トラスティーズ オブ プリンストン ユニバーシティ 有機電気カメラ
KR100924231B1 (ko) * 2007-07-20 2009-11-02 성균관대학교산학협력단 투명한 전기활성 엘라스토머 구동기를 이용한 초점거리조절렌즈
JP2010004061A (ja) * 2004-12-28 2010-01-07 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
JP2010506233A (ja) * 2006-10-11 2010-02-25 ポライト エイエス 小型調整可能レンズの設計
JP2010506234A (ja) * 2006-10-11 2010-02-25 ポライト エイエス 調整可能なレンズの製造方法
JP2015061193A (ja) * 2013-09-18 2015-03-30 ソニー株式会社 撮像素子、製造装置、製造方法、並びに電子機器
CN104765081A (zh) * 2015-04-16 2015-07-08 浙江工业大学 片内焦距与焦斑动态可调的流体微透镜
CN105204271A (zh) * 2015-10-20 2015-12-30 南昌欧菲光电技术有限公司 摄像头模组
WO2016108802A1 (ru) * 2014-12-29 2016-07-07 Владимир Иванович ГОЛУБЬ Устройство регулирования резкости фотоизображения пластичными линзой и матрицей
JP2016149134A (ja) * 2009-01-05 2016-08-18 アプライド クウォンタム テクノロジイズ インク マルチスケール光学システム

Cited By (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6683725B2 (en) * 1995-06-07 2004-01-27 Jacob N. Wohlstadter Three dimensional imaging system
US6909555B2 (en) * 1995-06-07 2005-06-21 Jacob N. Wohlstadter Three dimensional imaging system
US7167313B2 (en) 1995-06-07 2007-01-23 Wohlstadter Jacob N Three dimensional imaging system
US6577434B2 (en) 2000-01-14 2003-06-10 Minolta Co., Ltd. Variable focal position spatial modulation device
US6658208B2 (en) * 2001-01-30 2003-12-02 Olympus Optical Co., Ltd. Focal-length adjusting unit for photographing apparatuses
KR100772361B1 (ko) * 2001-06-08 2007-11-01 삼성전자주식회사 광픽업 장치
US7295241B2 (en) 2001-12-27 2007-11-13 Fujifilm Corporation Image capturing apparatus, image capturing method, and computer-readable medium storing a program for an image capturing apparatus
WO2003102636A1 (fr) * 2002-06-04 2003-12-11 Masatoshi Ishikawa Lentille a focale variable et organe de commande de lentille
JP2010004061A (ja) * 2004-12-28 2010-01-07 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
JP2007004471A (ja) * 2005-06-23 2007-01-11 Nikon Corp 画像合成方法及び撮像装置
US9041851B2 (en) 2005-11-15 2015-05-26 The Trustees Of Princeton University Organic electronic detectors and methods of fabrication
JP2013020271A (ja) * 2005-11-15 2013-01-31 Trustees Of Princeton Univ 有機電気カメラ
JP2009516372A (ja) * 2005-11-15 2009-04-16 ザ、トラスティーズ オブ プリンストン ユニバーシティ 有機電気カメラ
JP2010506233A (ja) * 2006-10-11 2010-02-25 ポライト エイエス 小型調整可能レンズの設計
JP2010506234A (ja) * 2006-10-11 2010-02-25 ポライト エイエス 調整可能なレンズの製造方法
US8045280B2 (en) 2006-10-11 2011-10-25 Polight As Compact adjustable lens
US8883019B2 (en) 2006-10-11 2014-11-11 Polight As Method for manufacturing adjustable lens
KR100924231B1 (ko) * 2007-07-20 2009-11-02 성균관대학교산학협력단 투명한 전기활성 엘라스토머 구동기를 이용한 초점거리조절렌즈
JP2016149134A (ja) * 2009-01-05 2016-08-18 アプライド クウォンタム テクノロジイズ インク マルチスケール光学システム
JP2015061193A (ja) * 2013-09-18 2015-03-30 ソニー株式会社 撮像素子、製造装置、製造方法、並びに電子機器
US10401619B2 (en) 2013-09-18 2019-09-03 Sony Semiconductor Solutions Corporation Imaging device, manufacturing apparatus, manufacturing method, and electronic apparatus
WO2016108802A1 (ru) * 2014-12-29 2016-07-07 Владимир Иванович ГОЛУБЬ Устройство регулирования резкости фотоизображения пластичными линзой и матрицей
CN104765081A (zh) * 2015-04-16 2015-07-08 浙江工业大学 片内焦距与焦斑动态可调的流体微透镜
CN105204271A (zh) * 2015-10-20 2015-12-30 南昌欧菲光电技术有限公司 摄像头模组

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH1062609A (ja) マイクロレンズ及び該レンズを用いた撮像装置
US11978752B2 (en) Aperture-metasurface and hybrid refractive-metasurface imaging systems
JP4275717B2 (ja) 撮像装置
US20080117489A1 (en) Deformable mirror
JP3834032B2 (ja) レンズ移送装置
US7812299B2 (en) Image sensor having two-dimensionally arrayed pixels, focus detecting device using the sensor, and imaging system including the sensor
JP2601148B2 (ja) 固体撮像装置
US20160154202A1 (en) Optical structure with ridges arranged at the same and method for producing the same
US7423824B2 (en) Actuator, optical apparatus using actuator, and method of manufacturing actuator
KR101044109B1 (ko) 렌즈 구동 모듈
US20110038625A1 (en) Electromechanical polymer actuators
US11209607B2 (en) Optical structure with ridges arranged at the same and method for producing the same
KR20080027329A (ko) 고체촬상소자
JPH10108078A (ja) 固体撮像カメラ
JPH11103041A (ja) 光電変換装置およびその作製方法
US20090237801A1 (en) Method and Apparatus Providing Concave Microlenses for Semiconductor Imaging Devices
JP2003031782A (ja) 固体撮像装置およびその製造方法
JP2007208775A (ja) 撮像装置およびカメラ
US20160154203A1 (en) Optical structure with ridges arranged at the same and method for producing the same
JP2004070268A (ja) 正立等倍レンズアレイ
US20080191299A1 (en) Microlenses for irregular pixels
US10359596B2 (en) Optical structure with ridges arranged at the same and method for producing the same
US20210203821A1 (en) Imaging device and electronic apparatus
JPS6096067A (ja) 原稿読取装置
US20070109667A1 (en) Optical focus system and zoom system including at least one deformable mirror therein

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061220

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070413