JPH1062467A - 不要電磁波測定システム - Google Patents
不要電磁波測定システムInfo
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- JPH1062467A JPH1062467A JP29534996A JP29534996A JPH1062467A JP H1062467 A JPH1062467 A JP H1062467A JP 29534996 A JP29534996 A JP 29534996A JP 29534996 A JP29534996 A JP 29534996A JP H1062467 A JPH1062467 A JP H1062467A
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- probe
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- wave
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 被測定機器から不要放射される電磁波を近距
離で測定して電磁界分布を求め任意の位置の放射電磁界
強度を求める不要電磁波測定システムを得る。 【解決手段】 被測定機器１１から放射する電磁界を測
定するプローブ１、プローブと被測定機器間の測定距離
を複数変えて測定した放射電磁界の測定結果を平面波散
乱行列法を用いて任意距離に距離変換し距離変換後の電
磁界分布をその距離でフーリエ変換することで残留反射
波成分を除去し直接波を取り出す第１の計算部２、第１
計算部で求めた任意の位置における直接波成分から被測
定機器本体の電磁界分布を計算する第２の計算部３、第
２の計算部で得た被測定機器本体における電磁界分布に
基づいて任意距離における電磁界を計算し、床面が接地
されかつ直接波と床面以外の周囲からの電磁波がない場
所に置いた場合の任意の距離における点、線もしくは面
上の電磁界強度を計算する第３の計算部４からなる。
離で測定して電磁界分布を求め任意の位置の放射電磁界
強度を求める不要電磁波測定システムを得る。 【解決手段】 被測定機器１１から放射する電磁界を測
定するプローブ１、プローブと被測定機器間の測定距離
を複数変えて測定した放射電磁界の測定結果を平面波散
乱行列法を用いて任意距離に距離変換し距離変換後の電
磁界分布をその距離でフーリエ変換することで残留反射
波成分を除去し直接波を取り出す第１の計算部２、第１
計算部で求めた任意の位置における直接波成分から被測
定機器本体の電磁界分布を計算する第２の計算部３、第
２の計算部で得た被測定機器本体における電磁界分布に
基づいて任意距離における電磁界を計算し、床面が接地
されかつ直接波と床面以外の周囲からの電磁波がない場
所に置いた場合の任意の距離における点、線もしくは面
上の電磁界強度を計算する第３の計算部４からなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、電子機器等被測
定機器から放射される不要な電磁波を測定する不要電磁
波測定システムに関するものである。
定機器から放射される不要な電磁波を測定する不要電磁
波測定システムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図２３は例えば特開平５-３３３０７２
号公報に記載された放射妨害波分布の推定方法を説明す
る測定系を示すものである。図２３は被測定機器を模擬
する放射源を用いて試験サイトと設置環境での電波伝搬
特性を測定し、試験サイトで測定した被測定機器の放射
妨害波から装置設置環境での放射妨害波分布を推定する
ものである。
号公報に記載された放射妨害波分布の推定方法を説明す
る測定系を示すものである。図２３は被測定機器を模擬
する放射源を用いて試験サイトと設置環境での電波伝搬
特性を測定し、試験サイトで測定した被測定機器の放射
妨害波から装置設置環境での放射妨害波分布を推定する
ものである。
【０００３】すなわち、図２３は球状ダイポールアンテ
ナを放射源に用いた電波伝搬特性の測定系を示すもの
で、装置設置位置に、ネットワークアナライザ２７に同
軸ケーブル３０及び電気光変換器２８を介して接続され
た送信アンテナである球状ダイポールアンテナ２３を地
上高ｈに設置し、受信用の球状ダイポールアンテナ２４
の地上高さを変化させて、ネットワークアナライザ２７
により、受信用の球状ダイポールアンテナ２４から送ら
れる光信号を光ファイバ２６及び光電気変換器２９を介
して電気信号に変換しさらに同軸ケーブル３０を介して
放射妨害波の電波伝搬特性を測定するようになされてい
る。
ナを放射源に用いた電波伝搬特性の測定系を示すもの
で、装置設置位置に、ネットワークアナライザ２７に同
軸ケーブル３０及び電気光変換器２８を介して接続され
た送信アンテナである球状ダイポールアンテナ２３を地
上高ｈに設置し、受信用の球状ダイポールアンテナ２４
の地上高さを変化させて、ネットワークアナライザ２７
により、受信用の球状ダイポールアンテナ２４から送ら
れる光信号を光ファイバ２６及び光電気変換器２９を介
して電気信号に変換しさらに同軸ケーブル３０を介して
放射妨害波の電波伝搬特性を測定するようになされてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た放射妨害波の推定方法は、不要電磁波を放射する実際
の電子機器を使用しておらず、模擬電磁波放射源を用い
ており、また、常に電波暗室の使用を余儀なくされてお
り、任意の距離で測定した放射電磁界強度から別の距離
での電磁界強度を計算することができない。また、近距
離で電磁界を測定するプローブまたは被測定機器を移動
し、測定距離を変えて測定することができないという問
題点があった。
た放射妨害波の推定方法は、不要電磁波を放射する実際
の電子機器を使用しておらず、模擬電磁波放射源を用い
ており、また、常に電波暗室の使用を余儀なくされてお
り、任意の距離で測定した放射電磁界強度から別の距離
での電磁界強度を計算することができない。また、近距
離で電磁界を測定するプローブまたは被測定機器を移動
し、測定距離を変えて測定することができないという問
題点があった。
【０００５】この発明は上記のような問題点を解決する
ためになされたもので、被測定機器から不要放射される
電磁波を近距離で測定し、その測定結果から被測定機器
の電磁界分布を求め、任意の位置における放射電磁界強
度を求めることができる不要電磁波測定システムを得る
ことを目的とする。
ためになされたもので、被測定機器から不要放射される
電磁波を近距離で測定し、その測定結果から被測定機器
の電磁界分布を求め、任意の位置における放射電磁界強
度を求めることができる不要電磁波測定システムを得る
ことを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明に係る不要電磁
波測定システムは、被測定機器から放射する電磁界を測
定するプローブと、このプローブと被測定機器との間の
測定距離を複数変えて測定した被測定機器からの放射電
磁界の測定結果を平面波散乱行列法を用いて任意距離に
距離変換し、その距離変換後の電磁界分布をその距離で
フーリエ変換することで残留反射波成分を除去し、被測
定機器からの直接波を取り出す第１の計算部と、この第
１計算部で求めた任意の位置における直接波成分から被
測定機器本体の電磁界分布を計算する第２の計算部と、
この第２の計算部で得られた被測定機器本体における電
磁界分布に基づいて任意距離における電磁界を計算し、
床面が接地されかつ直接波と床面以外の周囲からの電磁
波がない場所に置いた場合の任意の距離における点、線
もしくは面上の電磁界強度を計算する第３の計算部から
なるものである。
波測定システムは、被測定機器から放射する電磁界を測
定するプローブと、このプローブと被測定機器との間の
測定距離を複数変えて測定した被測定機器からの放射電
磁界の測定結果を平面波散乱行列法を用いて任意距離に
距離変換し、その距離変換後の電磁界分布をその距離で
フーリエ変換することで残留反射波成分を除去し、被測
定機器からの直接波を取り出す第１の計算部と、この第
１計算部で求めた任意の位置における直接波成分から被
測定機器本体の電磁界分布を計算する第２の計算部と、
この第２の計算部で得られた被測定機器本体における電
磁界分布に基づいて任意距離における電磁界を計算し、
床面が接地されかつ直接波と床面以外の周囲からの電磁
波がない場所に置いた場合の任意の距離における点、線
もしくは面上の電磁界強度を計算する第３の計算部から
なるものである。
【０００７】また、上記第３の計算部は、上記第２の計
算部で得られた被測定機器本体における電磁界分布から
逆相の電磁界分布のイメージを計算すると共に上記第２
の計算部で求めた被測定機器の電磁界分布から任意距離
の直接波の電磁界を求め、直接波の電磁界と該イメージ
波源からの電磁界の両者から任意距離における合成電磁
界を計算し、床面が接地されかつ直接波と床面以外の周
囲からの電磁波がない場所に置いた場合の任意の距離に
おける点、線もしくは面上の電磁界強度を計算すること
を特徴とするものである。
算部で得られた被測定機器本体における電磁界分布から
逆相の電磁界分布のイメージを計算すると共に上記第２
の計算部で求めた被測定機器の電磁界分布から任意距離
の直接波の電磁界を求め、直接波の電磁界と該イメージ
波源からの電磁界の両者から任意距離における合成電磁
界を計算し、床面が接地されかつ直接波と床面以外の周
囲からの電磁波がない場所に置いた場合の任意の距離に
おける点、線もしくは面上の電磁界強度を計算すること
を特徴とするものである。
【０００８】また、上記第３の計算部は、上記第２の計
算部で求めた被測定機器本体の電磁界分布から任意距離
の直接波成分の電磁界分布を求め、上記第１の計算部で
除去した残留反射波成分を、上記直接波成分の電磁界分
布に振幅と位相を考慮して加えて、床面が接地されかつ
直接波と反射波以外の周囲からの反射波がない場所に置
いた場合の任意の距離における点、線または面上の電磁
界強度を計算することを特徴とするものである。
算部で求めた被測定機器本体の電磁界分布から任意距離
の直接波成分の電磁界分布を求め、上記第１の計算部で
除去した残留反射波成分を、上記直接波成分の電磁界分
布に振幅と位相を考慮して加えて、床面が接地されかつ
直接波と反射波以外の周囲からの反射波がない場所に置
いた場合の任意の距離における点、線または面上の電磁
界強度を計算することを特徴とするものである。
【０００９】また、被測定機器から近距離の電磁界を測
定する際に、上記プローブまたは上記被測定機器を前後
左右上下に移動して測定距離または測定位置を変えるた
めのガイドをさらに設けたことを特徴とするものであ
る。
定する際に、上記プローブまたは上記被測定機器を前後
左右上下に移動して測定距離または測定位置を変えるた
めのガイドをさらに設けたことを特徴とするものであ
る。
【００１０】また、被測定機器から近距離の電磁界を測
定する際に、被測定機器を内側に含む円筒をさらに設
け、該円筒の全面もしくは一部を上記プローブの走査域
として測定することを特徴とするものである。
定する際に、被測定機器を内側に含む円筒をさらに設
け、該円筒の全面もしくは一部を上記プローブの走査域
として測定することを特徴とするものである。
【００１１】また、被測定機器から近距離の電磁界を測
定する際に、被測定機器を内側に含む平面で囲まれた多
面体をさらに設け、該多面体の全面もしくは一部を上記
プローブの走査域として測定することを特徴とするもの
である。
定する際に、被測定機器を内側に含む平面で囲まれた多
面体をさらに設け、該多面体の全面もしくは一部を上記
プローブの走査域として測定することを特徴とするもの
である。
【００１２】また、被測定機器から近距離の電磁界を測
定する際に、被測定機器を内側に含む球体をさらに設
け、該球体の全面もしくは一部を上記プローブの走査域
として測定することを特徴とするものである。
定する際に、被測定機器を内側に含む球体をさらに設
け、該球体の全面もしくは一部を上記プローブの走査域
として測定することを特徴とするものである。
【００１３】また、被測定機器から近距離の電磁界を測
定する際に使用する上記プローブを複数設けたことを特
徴とするものである。
定する際に使用する上記プローブを複数設けたことを特
徴とするものである。
【００１４】また、上記第３の計算部で求めた任意距離
の線または面上の電磁界強度の計算値を所用の周波数の
電磁界強度分布として表示する電磁界強度分布特性表示
部をさらに設けたことを特徴とするものである。
の線または面上の電磁界強度の計算値を所用の周波数の
電磁界強度分布として表示する電磁界強度分布特性表示
部をさらに設けたことを特徴とするものである。
【００１５】また、上記第３の計算部で求めた任意距離
の点における電磁界強度の計算値を周波数特性で表示す
る電磁界強度の周波数分布特性表示部をさらに設けたこ
とを特徴とするものである。
の点における電磁界強度の計算値を周波数特性で表示す
る電磁界強度の周波数分布特性表示部をさらに設けたこ
とを特徴とするものである。
【００１６】また、上記プローブを床面に対して垂直ま
たは水平方向に回転させて回転被測定機器から電磁界の
垂直偏波と水平偏波を測定可能にする偏波面変更用回転
台をさらに設けたことを特徴とするものである。
たは水平方向に回転させて回転被測定機器から電磁界の
垂直偏波と水平偏波を測定可能にする偏波面変更用回転
台をさらに設けたことを特徴とするものである。
【００１７】また、各プローブをそれぞれ支持するプロ
ーブ支持機と、これらプローブ支持機の間隔を伸縮させ
るプローブ支持機伸縮機とをさらに設けて、プローブご
とプローブ支持機間の距離を可変させることを特徴とす
るものである。
ーブ支持機と、これらプローブ支持機の間隔を伸縮させ
るプローブ支持機伸縮機とをさらに設けて、プローブご
とプローブ支持機間の距離を可変させることを特徴とす
るものである。
【００１８】また、各プローブをそれぞれ支持するプロ
ーブ支持機と、これらプローブ支持機を移動させるため
のプローブ支持機移動用ガイドとをさらに設け、プロー
ブを支持するプローブ支持機ごとプローブ支持機移動用
ガイド上で移動可能にすることを特徴とするものであ
る。
ーブ支持機と、これらプローブ支持機を移動させるため
のプローブ支持機移動用ガイドとをさらに設け、プロー
ブを支持するプローブ支持機ごとプローブ支持機移動用
ガイド上で移動可能にすることを特徴とするものであ
る。
【００１９】また、プローブを線または面状に複数個等
間隔に配置して支持する線または面状のプローブ支持機
と、測定する周波数に応じてこれらプローブの全てまた
は一部を選択して使用する選択手段とをさらに設けたこ
とを特徴とするものである。
間隔に配置して支持する線または面状のプローブ支持機
と、測定する周波数に応じてこれらプローブの全てまた
は一部を選択して使用する選択手段とをさらに設けたこ
とを特徴とするものである。
【００２０】さらに、上記プローブ支持機は、被測定物
を円の中心に含む円筒または球面の円周の全周もしくは
一部に複数のプローブを配置してなることを特徴とする
ものである。
を円の中心に含む円筒または球面の円周の全周もしくは
一部に複数のプローブを配置してなることを特徴とする
ものである。
【００２１】
実施の形態１．以下、この発明を図示した実施の形態に
基づいて説明する。図１は実施の形態１に係る不要電磁
波測定システムを示す構成図である。図１において、１
は任意の設置場所で被測定機器１１の近距離で不要放射
電磁界を測定するためのプローブであり、同図（ｂ）に
示すように、ガイド６上に載置された支持台５に固定支
持され、ガイド６が被測定機器１１に対し前後左右上下
に移動することにより、被測定機器１１との間の距離や
位置が複数変えられて測定が行われるようになってい
る。
基づいて説明する。図１は実施の形態１に係る不要電磁
波測定システムを示す構成図である。図１において、１
は任意の設置場所で被測定機器１１の近距離で不要放射
電磁界を測定するためのプローブであり、同図（ｂ）に
示すように、ガイド６上に載置された支持台５に固定支
持され、ガイド６が被測定機器１１に対し前後左右上下
に移動することにより、被測定機器１１との間の距離や
位置が複数変えられて測定が行われるようになってい
る。
【００２２】上記プローブ１は第１の計算部２に接続さ
れており、この第１の計算部２は、同図（ａ）に示すよ
うに、被測定機器１１からの放射電磁界を測定距離を複
数かえて測定した測定結果を、平面波散乱行列法により
使用者の決めた任意距離に距離変換し、その距離でフー
リエ変換することにより、残留反射波成分を除去し、被
測定機器１１からの直接波成分を取り出している。
れており、この第１の計算部２は、同図（ａ）に示すよ
うに、被測定機器１１からの放射電磁界を測定距離を複
数かえて測定した測定結果を、平面波散乱行列法により
使用者の決めた任意距離に距離変換し、その距離でフー
リエ変換することにより、残留反射波成分を除去し、被
測定機器１１からの直接波成分を取り出している。
【００２３】また、第１の計算部２は、計算した直接波
成分から被測定機器１１本体の電磁界分布を計算する第
２の計算部３に接続されており、さらに、第２の計算部
３は第３の計算部４に接続されており、第３の計算部４
は、被測定機器１１本体の電磁界分布の逆相の電磁界分
布のイメージを計算すると共に、第２の計算部３で求め
た被測定機器１１の電磁界分布から任意距離の直接波の
電磁界を求め、該イメージ波源からの電磁界と直接波の
電磁界から任意距離における合成電磁界を計算すること
により、被測定機器を床面が接地されかつ直接波と反射
波以外の周囲からの反射波がない場所に置いた場合の任
意の距離における点、線または面上の電磁界強度を計算
するようになされている。
成分から被測定機器１１本体の電磁界分布を計算する第
２の計算部３に接続されており、さらに、第２の計算部
３は第３の計算部４に接続されており、第３の計算部４
は、被測定機器１１本体の電磁界分布の逆相の電磁界分
布のイメージを計算すると共に、第２の計算部３で求め
た被測定機器１１の電磁界分布から任意距離の直接波の
電磁界を求め、該イメージ波源からの電磁界と直接波の
電磁界から任意距離における合成電磁界を計算すること
により、被測定機器を床面が接地されかつ直接波と反射
波以外の周囲からの反射波がない場所に置いた場合の任
意の距離における点、線または面上の電磁界強度を計算
するようになされている。
【００２４】なお、図１において、プローブ１はガイド
６上に載置された支持台５により固定支持され、ガイド
６が被測定機器１１に対し前後左右上下に移動すること
により、被測定機器１１との間の距離や位置が複数変え
られるようになっているが、プローブ１を固定させて、
被測定機器１１をガイドによりプローブ１に対し前後左
右上下に移動することにより、プローブ１との間の距離
や位置を変えられるようにしてもよく、このようにする
ことにより、使用者の負担を増やすことなく容易かつ正
確に所望の位置からの電磁界測定が可能になる。
６上に載置された支持台５により固定支持され、ガイド
６が被測定機器１１に対し前後左右上下に移動すること
により、被測定機器１１との間の距離や位置が複数変え
られるようになっているが、プローブ１を固定させて、
被測定機器１１をガイドによりプローブ１に対し前後左
右上下に移動することにより、プローブ１との間の距離
や位置を変えられるようにしてもよく、このようにする
ことにより、使用者の負担を増やすことなく容易かつ正
確に所望の位置からの電磁界測定が可能になる。
【００２５】また、上記第１ないし第３の計算部に、Ｅ
ＭＣ（electromagnetic compatibility、電磁環境適合
性）の各種法規制に記載された不要電磁波の測定条件・
測定方法・各周波数毎の規制値等や使用者が一旦設定し
た入力条件及び計算結果等を記憶する記憶部を内蔵する
ことにより、ＥＭＩ（electromagnetic interference、
電磁妨害）測定法に応じた計算結果や使用者が定義した
測定法による計算結果を使用者の負担を増やすことなく
容易に得ることができるようになっている。
ＭＣ（electromagnetic compatibility、電磁環境適合
性）の各種法規制に記載された不要電磁波の測定条件・
測定方法・各周波数毎の規制値等や使用者が一旦設定し
た入力条件及び計算結果等を記憶する記憶部を内蔵する
ことにより、ＥＭＩ（electromagnetic interference、
電磁妨害）測定法に応じた計算結果や使用者が定義した
測定法による計算結果を使用者の負担を増やすことなく
容易に得ることができるようになっている。
【００２６】ここで、上記第１の計算部２における処理
をさらに詳細に説明する。上記平面散乱行列法は、プロ
ーブ１としてのアンテナの近傍界から遠方界、あるいは
遠方界から近傍界を求める方法であり、放射電界を平面
波の合成で表す方法である。今、図２に示すように、ア
ンテナの開口面をＸＹ平面とし、ＸＹ平面と垂直で電波
の進行方向を＋Ｚ軸とする直交座標系を設定し、各軸方
向の単位ベクトルをｅx，ｅy，ｅzとする。さらに、Ｚ
＝Ｚ1でＸＹ平面と平行なＸ1Ｙ1平面を設定する。ここ
で、Ｘ1Ｙ1平面上の観測点Ｐを示すベクトルｒが極座標
（γ、θ、φ）及びＲ＝（ｘ，ｙ）で与えられるとする
と、＋Ｚ方向に放射する電波について、観測点Ｐにおけ
る電界Ｅ（ｒ）は式（１）となる。
をさらに詳細に説明する。上記平面散乱行列法は、プロ
ーブ１としてのアンテナの近傍界から遠方界、あるいは
遠方界から近傍界を求める方法であり、放射電界を平面
波の合成で表す方法である。今、図２に示すように、ア
ンテナの開口面をＸＹ平面とし、ＸＹ平面と垂直で電波
の進行方向を＋Ｚ軸とする直交座標系を設定し、各軸方
向の単位ベクトルをｅx，ｅy，ｅzとする。さらに、Ｚ
＝Ｚ1でＸＹ平面と平行なＸ1Ｙ1平面を設定する。ここ
で、Ｘ1Ｙ1平面上の観測点Ｐを示すベクトルｒが極座標
（γ、θ、φ）及びＲ＝（ｘ，ｙ）で与えられるとする
と、＋Ｚ方向に放射する電波について、観測点Ｐにおけ
る電界Ｅ（ｒ）は式（１）となる。
【００２７】
【数１】
【００２８】ここで、ｂ（１，Ｋ），ｂ（２，Ｋ）はそ
れぞれＺ軸に関するＴＭ波とＴＥ波の電界成分の平面波
スペクトラムを示す。次に、式（１）おいて、Ｅ（ｒ）
をＸ1Ｙ1平面上の電界とし、フーリエ逆変換を適用する
と、平面波スペクトラムは式（３）となる。式（３）よ
り、ある平面内における電界を測定することによって、
平面波スペクトラムを求めることができる。
れぞれＺ軸に関するＴＭ波とＴＥ波の電界成分の平面波
スペクトラムを示す。次に、式（１）おいて、Ｅ（ｒ）
をＸ1Ｙ1平面上の電界とし、フーリエ逆変換を適用する
と、平面波スペクトラムは式（３）となる。式（３）よ
り、ある平面内における電界を測定することによって、
平面波スペクトラムを求めることができる。
【００２９】
【数２】
【００３０】また、任意の距離Ｚ離れた面における放射
電界は、式（４）となる。
電界は、式（４）となる。
【００３１】
【数３】
【００３２】次に、その変換した距離でフーリエ変換す
ることにより、残留反射波成分を除去し、被測定機器か
らの直接波成分を取り出している。一般に、Ｎ波の反射
波（あるいは散乱波）が存在する場合の受信アンテナの
受信電界Ｅ［θr0，ｒ0］は式（７）により表される。
ることにより、残留反射波成分を除去し、被測定機器か
らの直接波成分を取り出している。一般に、Ｎ波の反射
波（あるいは散乱波）が存在する場合の受信アンテナの
受信電界Ｅ［θr0，ｒ0］は式（７）により表される。
【００３３】
【数４】
【００３４】但し、Ｅtは送信アンテナの電界放射パタ
ーン、Ｅrは受信アンテナの電界放射パターン、θt0は
直接波の放射角度、θr0は直接波の受信アンテナへの入
射角度、ａi は反射波に対する反射係数、θtiは送信ア
ンテナからの反射波の放射角度、θriは反射波の受信ア
ンテナへの入射角度、ｒiは反射波の伝搬距離である。
また、ｋ0は測定周波数ｆ0での波数２π／λ0（λ0はｆ
0での自由空間波長）である。
ーン、Ｅrは受信アンテナの電界放射パターン、θt0は
直接波の放射角度、θr0は直接波の受信アンテナへの入
射角度、ａi は反射波に対する反射係数、θtiは送信ア
ンテナからの反射波の放射角度、θriは反射波の受信ア
ンテナへの入射角度、ｒiは反射波の伝搬距離である。
また、ｋ0は測定周波数ｆ0での波数２π／λ0（λ0はｆ
0での自由空間波長）である。
【００３５】ここで、式（５）に波動関数ｅ-jk0r0／ｒ
0の逆数をかけた関数Ｆ［θr0，ｒ0］は式（８）とな
る。
0の逆数をかけた関数Ｆ［θr0，ｒ0］は式（８）とな
る。
【００３６】
【数５】
【００３７】この関数Ｆに関数ｅjk0r0をかけて測定距
離に関してフーリエ変換型の積分を実行した関数Ｇを式
（９）に示す。なお、測定距離ｒ0の範囲をＲ1≦ｒ0≦
Ｒ2とし、積分範囲もその測定距離の範囲とする。
離に関してフーリエ変換型の積分を実行した関数Ｇを式
（９）に示す。なお、測定距離ｒ0の範囲をＲ1≦ｒ0≦
Ｒ2とし、積分範囲もその測定距離の範囲とする。
【００３８】
【数６】
【００３９】ここで、Ｒ2−Ｒ1が十分に大きく、かつ直
接波成分のフーリエスペクトラムと反射波成分のフーリ
エスペクトラムが周波数ｆr軸上で十分に離れているな
らば、式（９）で周波数ｆr＝０、すなわちｋr＝０とす
ることにより、式（１１）が得られる。 Ｇ［θr0，ｆr＝０］≒Ｅt［θt0］・Ｅr［θr0］ ・・・（１１）
接波成分のフーリエスペクトラムと反射波成分のフーリ
エスペクトラムが周波数ｆr軸上で十分に離れているな
らば、式（９）で周波数ｆr＝０、すなわちｋr＝０とす
ることにより、式（１１）が得られる。 Ｇ［θr0，ｆr＝０］≒Ｅt［θt0］・Ｅr［θr0］ ・・・（１１）
【００４０】送信アンテナの電界放射パターンＥt［θ
t0］は一定値なので、受信アンテナの各測定角度θr0に
対するｆr＝０での関数Ｇ［θr0，０］の値は直接波に
対する受信アンテナの電界放射パターンを示している。
但し、ｆrは測定距離ｒ0に対する反射波成分の変動を示
す周波数、ｋrは反射波成分の変動を示す波数である。
Ｃは光速を示している。
t0］は一定値なので、受信アンテナの各測定角度θr0に
対するｆr＝０での関数Ｇ［θr0，０］の値は直接波に
対する受信アンテナの電界放射パターンを示している。
但し、ｆrは測定距離ｒ0に対する反射波成分の変動を示
す周波数、ｋrは反射波成分の変動を示す波数である。
Ｃは光速を示している。
【００４１】次に、第２の計算部３は、上記第１の計算
部２で計算した直接波成分から被測定機器本体の電磁界
分布を計算する。ここで、電磁界分布を求める際にも、
平面波散乱行列法を使用する。今、遠方界における放射
電界をＥ（ｒ）とすると、平面波スペクトラムは、式
（４）から式（１２）で与えられる。
部２で計算した直接波成分から被測定機器本体の電磁界
分布を計算する。ここで、電磁界分布を求める際にも、
平面波散乱行列法を使用する。今、遠方界における放射
電界をＥ（ｒ）とすると、平面波スペクトラムは、式
（４）から式（１２）で与えられる。
【００４２】
【数７】
【００４３】従って、式（１）、式（１２）よりアンテ
ナの開口面における電界Ｅ0（Ｒ）は式（１３）とな
る。
ナの開口面における電界Ｅ0（Ｒ）は式（１３）とな
る。
【００４４】
【数８】
【００４５】次に、第３の計算部４は、上記第２の計算
部３で計算した被測定機器本体の電磁界分布からその逆
相の電磁界分布のイメージを計算し、それら両者から任
意距離の合成電磁界を計算することにより、被測定機器
の床面が接地されかつ直接波と反射波以外の周囲からの
反射波がない場所に置いた場合の任意の距離における
点、線または面上の電磁界強度を計算する。
部３で計算した被測定機器本体の電磁界分布からその逆
相の電磁界分布のイメージを計算し、それら両者から任
意距離の合成電磁界を計算することにより、被測定機器
の床面が接地されかつ直接波と反射波以外の周囲からの
反射波がない場所に置いた場合の任意の距離における
点、線または面上の電磁界強度を計算する。
【００４６】ここで、イメージ波源は、式（１３）の同
振幅かつ逆位相のＥ0'（Ｒ）を計算することで求まる。
これとＥ0（Ｒ）の双方を振幅と位相を考慮して加える
ことにより、任意距離離れた場所の被測定機器を床面が
接地されかつ直接波と反射波以外の周囲からの反射波が
ない場所に置いた場合の任意の距離に置ける点の任意の
周波数における放射電磁界が計算可能になる。また、式
（９）、式（１３）から任意距離における直接波の電磁
界Ｇ［θr0，ｆr＝０］は、直接波の受信アンテナへの
入射角度「θr0」の関数になっており、この値を変える
ことにより、所望の距離における線又は面上の電磁界の
計算が可能になる。
振幅かつ逆位相のＥ0'（Ｒ）を計算することで求まる。
これとＥ0（Ｒ）の双方を振幅と位相を考慮して加える
ことにより、任意距離離れた場所の被測定機器を床面が
接地されかつ直接波と反射波以外の周囲からの反射波が
ない場所に置いた場合の任意の距離に置ける点の任意の
周波数における放射電磁界が計算可能になる。また、式
（９）、式（１３）から任意距離における直接波の電磁
界Ｇ［θr0，ｆr＝０］は、直接波の受信アンテナへの
入射角度「θr0」の関数になっており、この値を変える
ことにより、所望の距離における線又は面上の電磁界の
計算が可能になる。
【００４７】従って、上記実施の形態１によれば、第３
の計算部４において変換する距離を変えることで、任意
の設置場所に置かれた被測定機器１１から放射する電磁
界の任意距離における、被測定機器１１から発生する電
波雑音によって周囲にある機器に障害を与えるＥＭＩ測
定値の計算が可能となる。
の計算部４において変換する距離を変えることで、任意
の設置場所に置かれた被測定機器１１から放射する電磁
界の任意距離における、被測定機器１１から発生する電
波雑音によって周囲にある機器に障害を与えるＥＭＩ測
定値の計算が可能となる。
【００４８】実施の形態２．図３は実施の形態２に係る
不要電磁波測定システムを示す説明図である。図３にお
いて、図１に示す実施の形態１と同一部分は同一符号を
付してその説明は省略する。新たな符号として、１２は
第１の計算部、１４は第３の計算部で、第１の計算部１
２は、図１に示す実施の形態１と同様に、被測定機器１
１からの放射電磁界を測定距離を複数かえて測定した測
定結果を、平面波散乱行列法により使用者の決めた任意
距離に距離変換し、その距離でフーリエ変換することに
より、式（９）の右辺第２項に示す残留反射波成分、す
なわち、式（１４）に示す残留反射波成分を除去し、被
測定機器１１からの式（９）の右辺第１項に示す直接波
成分、すなわち式（１５）に示す直接波成分を取り出し
て第２の計算部３に与えているが、実施の形態１と異な
る点は、該残留反射波成分を第３の計算部１４に与える
点である。
不要電磁波測定システムを示す説明図である。図３にお
いて、図１に示す実施の形態１と同一部分は同一符号を
付してその説明は省略する。新たな符号として、１２は
第１の計算部、１４は第３の計算部で、第１の計算部１
２は、図１に示す実施の形態１と同様に、被測定機器１
１からの放射電磁界を測定距離を複数かえて測定した測
定結果を、平面波散乱行列法により使用者の決めた任意
距離に距離変換し、その距離でフーリエ変換することに
より、式（９）の右辺第２項に示す残留反射波成分、す
なわち、式（１４）に示す残留反射波成分を除去し、被
測定機器１１からの式（９）の右辺第１項に示す直接波
成分、すなわち式（１５）に示す直接波成分を取り出し
て第２の計算部３に与えているが、実施の形態１と異な
る点は、該残留反射波成分を第３の計算部１４に与える
点である。
【００４９】
【数９】
【００５０】また、第３の計算部１４は、上記第１の計
算部１２で除去した残留反射波成分を、第２の計算部３
で求めた被測定機器１１本体の電磁界分布から任意距離
の直接波成分の電磁界分布に振幅と位相を考慮して加え
て（又は差し引いて）、床面が接地されかつ床面以外の
周囲からの電磁波がない場所に置いた場合の任意の距離
における測定誤差を含めたＥＭＩ測定値の計算（線また
は面上の電磁界分布の計算）が可能になされている。
算部１２で除去した残留反射波成分を、第２の計算部３
で求めた被測定機器１１本体の電磁界分布から任意距離
の直接波成分の電磁界分布に振幅と位相を考慮して加え
て（又は差し引いて）、床面が接地されかつ床面以外の
周囲からの電磁波がない場所に置いた場合の任意の距離
における測定誤差を含めたＥＭＩ測定値の計算（線また
は面上の電磁界分布の計算）が可能になされている。
【００５１】また、プローブ１で測定する周波数または
第１の計算部２で対象とする周波数を変化させること
で、任意距離離れた場合の被測定機器を床面が接地され
かつ直接波と反射波以外の周囲からの反射波がない場所
においた場合の任意の距離における任意の周波数におけ
る放射電磁界が計算可能になる。
第１の計算部２で対象とする周波数を変化させること
で、任意距離離れた場合の被測定機器を床面が接地され
かつ直接波と反射波以外の周囲からの反射波がない場所
においた場合の任意の距離における任意の周波数におけ
る放射電磁界が計算可能になる。
【００５２】また、式（９）、式（１３）から任意距離
における直接波の電磁界Ｇ［θr0，ｆr＝０］は、直接
波の受信アンテナへの入射角度「θr0」の関数になって
おり、この値を変えることにより、所望の距離における
線又は面上の電磁界の計算が可能になる。
における直接波の電磁界Ｇ［θr0，ｆr＝０］は、直接
波の受信アンテナへの入射角度「θr0」の関数になって
おり、この値を変えることにより、所望の距離における
線又は面上の電磁界の計算が可能になる。
【００５３】実施の形態３．図４は実施の形態１、２に
係る任意距離における被測定機器からの放射電磁界強度
の測定の方法を示す説明図である。図４において、７ａ
は実施の形態３におけるプローブ１の走査域となる円筒
を示し、被測定機器１１を内側に含む円筒７ａの全面も
しくは一部で被測定機器１１からの放射電磁界の強度を
測定することにより、既存のＥＭＩ用測定施設にある設
備の利用が可能になる。
係る任意距離における被測定機器からの放射電磁界強度
の測定の方法を示す説明図である。図４において、７ａ
は実施の形態３におけるプローブ１の走査域となる円筒
を示し、被測定機器１１を内側に含む円筒７ａの全面も
しくは一部で被測定機器１１からの放射電磁界の強度を
測定することにより、既存のＥＭＩ用測定施設にある設
備の利用が可能になる。
【００５４】ＥＭＩ３ｍまたは１０ｍ測定法は、床面の
ターンテーブル上におかれた被測定機器をターンテーブ
ルごと３６０゜水平に回転し、受信アンテナを１〜４ｍ
の範囲で上下させることによる円筒走査を行うものであ
るが、この実施の形態３によれば、ＥＭＩ測定法の施設
をそのまま流用することができ、使用者の負担を増やす
ことなく容易に電磁界測定が可能になる。
ターンテーブル上におかれた被測定機器をターンテーブ
ルごと３６０゜水平に回転し、受信アンテナを１〜４ｍ
の範囲で上下させることによる円筒走査を行うものであ
るが、この実施の形態３によれば、ＥＭＩ測定法の施設
をそのまま流用することができ、使用者の負担を増やす
ことなく容易に電磁界測定が可能になる。
【００５５】実施の形態４．図５は実施の形態１、２に
係る任意距離における被測定機器からの放射電磁界強度
の測定の方法を示す説明図である。図５において、７ｂ
は実施の形態４におけるプローブ１の走査域となる多面
体を示し、被測定機器１１を内側に含む平面で囲まれた
多面体の全面もしくは一部で被測定機器１１からの放射
電磁界の強度を測定することにより、プローブ１の移動
が簡単になり、測定時間を短時間にすることが可能にな
る。
係る任意距離における被測定機器からの放射電磁界強度
の測定の方法を示す説明図である。図５において、７ｂ
は実施の形態４におけるプローブ１の走査域となる多面
体を示し、被測定機器１１を内側に含む平面で囲まれた
多面体の全面もしくは一部で被測定機器１１からの放射
電磁界の強度を測定することにより、プローブ１の移動
が簡単になり、測定時間を短時間にすることが可能にな
る。
【００５６】実施の形態５．図６は実施の形態１、２に
係る任意距離における被測定機器からの放射電磁界強度
の測定の方法を示す説明図である。図６において、７ｃ
は実施の形態５におけるプローブ１の走査域となる球体
を示し、被測定機器１１を内側に含む球体の全面もしく
は一部で被測定機器１１からの放射電磁界の強度を測定
することにより、被測定機器１１から等距離おける点、
線もしくは面上の電磁界強度を正確に測定することが可
能になる。
係る任意距離における被測定機器からの放射電磁界強度
の測定の方法を示す説明図である。図６において、７ｃ
は実施の形態５におけるプローブ１の走査域となる球体
を示し、被測定機器１１を内側に含む球体の全面もしく
は一部で被測定機器１１からの放射電磁界の強度を測定
することにより、被測定機器１１から等距離おける点、
線もしくは面上の電磁界強度を正確に測定することが可
能になる。
【００５７】実施の形態３ないし５の結果、使用者が有
する測定設備、所望の測定方法、測定時間に応じた被測
定機器から近距離における電磁界強度の計算を選択する
ことができる。
する測定設備、所望の測定方法、測定時間に応じた被測
定機器から近距離における電磁界強度の計算を選択する
ことができる。
【００５８】実施の形態６．図７は実施の形態６に係る
プローブの配列を示す説明図である。図７に示すよう
に、被測定機器１１を内側に含む円筒７ａの軸線方向に
沿ってプローブ１をアレー状に直線上に複数配列して、
被測定機器１１を内側に含む平面で囲まれた多面体また
は円筒の全面もしくは一部を走査し、被測定機器１１か
らの放射電磁界の強度を測定することにより、線又は面
上の電磁界強度を測定する際に、測定時間を単独の時に
比べ大幅に短くすることが可能になる。
プローブの配列を示す説明図である。図７に示すよう
に、被測定機器１１を内側に含む円筒７ａの軸線方向に
沿ってプローブ１をアレー状に直線上に複数配列して、
被測定機器１１を内側に含む平面で囲まれた多面体また
は円筒の全面もしくは一部を走査し、被測定機器１１か
らの放射電磁界の強度を測定することにより、線又は面
上の電磁界強度を測定する際に、測定時間を単独の時に
比べ大幅に短くすることが可能になる。
【００５９】実施の形態７．図８は実施の形態７に係る
プローブの配列を示す説明図である。図８に示すよう
に、被測定機器１１を内側に含む球体７ｃの経度または
緯度に沿ってプローブ１を円弧状にアレーにして複数配
列し、被測定機器１１を内側に含む球体７ｃの全面もし
くは一部を走査し、被測定機器１１からの放射電磁界の
強度を測定することにより、線又は面上の電磁界強度を
測定する際に、測定時間を単独の時に比べ大幅に短くす
ることが可能になる。
プローブの配列を示す説明図である。図８に示すよう
に、被測定機器１１を内側に含む球体７ｃの経度または
緯度に沿ってプローブ１を円弧状にアレーにして複数配
列し、被測定機器１１を内側に含む球体７ｃの全面もし
くは一部を走査し、被測定機器１１からの放射電磁界の
強度を測定することにより、線又は面上の電磁界強度を
測定する際に、測定時間を単独の時に比べ大幅に短くす
ることが可能になる。
【００６０】実施の形態８．図９は実施の形態８に係る
プローブの配列を示す説明図である。図９に示すよう
に、被測定機器１１を内側に含む円筒７ａの円周方向に
沿ってプローブ１をアレー状に直線上に複数配列して、
被測定機器１１を内側に含む平面で囲まれた多面体また
は円筒の全面もしくは一部を走査し、被測定機器１１か
らの放射電磁界の強度を測定することにより、線又は面
上の電磁界強度を測定する際に、測定時間を単独の時に
比べ大幅に短くすることが可能になる。
プローブの配列を示す説明図である。図９に示すよう
に、被測定機器１１を内側に含む円筒７ａの円周方向に
沿ってプローブ１をアレー状に直線上に複数配列して、
被測定機器１１を内側に含む平面で囲まれた多面体また
は円筒の全面もしくは一部を走査し、被測定機器１１か
らの放射電磁界の強度を測定することにより、線又は面
上の電磁界強度を測定する際に、測定時間を単独の時に
比べ大幅に短くすることが可能になる。
【００６１】実施の形態９．図１０は実施の形態９に係
るプローブの配列を示す説明図である。図１０に示すよ
うに、被測定機器１１を内側に含む円筒７ａの円周方向
に沿ってプローブ１を円弧状にアレーにして複数配列
し、被測定機器１１を内側に含む円筒７ａの全面もしく
は一部を走査し、被測定機器１１からの放射電磁界の強
度を測定することにより、線又は面上の電磁界強度を測
定する際に、測定時間を単独の時に比べ大幅に短くする
ことが可能になる。なお、実施の形態６〜９の４種類の
すべて又はいくつかの組み合わせによる実施の形態も実
施可能となる。
るプローブの配列を示す説明図である。図１０に示すよ
うに、被測定機器１１を内側に含む円筒７ａの円周方向
に沿ってプローブ１を円弧状にアレーにして複数配列
し、被測定機器１１を内側に含む円筒７ａの全面もしく
は一部を走査し、被測定機器１１からの放射電磁界の強
度を測定することにより、線又は面上の電磁界強度を測
定する際に、測定時間を単独の時に比べ大幅に短くする
ことが可能になる。なお、実施の形態６〜９の４種類の
すべて又はいくつかの組み合わせによる実施の形態も実
施可能となる。
【００６２】実施の形態１０．図１１は実施の形態１０
に係るプローブの配列を示す説明図である。図１１に示
すように、被測定機器１１を内側に含む円筒７ａに対
し、プローブ１を２次元にアレー状に複数配列し、被測
定機器１１を内側に含む円筒７ａの全面もしくは一部を
走査し、被測定機器１１からの放射電磁界の強度を測定
することにより、線又は面上の電磁界強度を測定する際
に、測定時間を単独の時に比べ大幅に短くすることが可
能になる。
に係るプローブの配列を示す説明図である。図１１に示
すように、被測定機器１１を内側に含む円筒７ａに対
し、プローブ１を２次元にアレー状に複数配列し、被測
定機器１１を内側に含む円筒７ａの全面もしくは一部を
走査し、被測定機器１１からの放射電磁界の強度を測定
することにより、線又は面上の電磁界強度を測定する際
に、測定時間を単独の時に比べ大幅に短くすることが可
能になる。
【００６３】実施の形態１１．図１２は実施の形態１１
に係るプローブの配列を示す説明図である。図１２に示
すように、被測定機器１１を内側に含む円筒７ａに対
し、プローブ１を両側から対向配置して、被測定機器１
１を内側に含む円筒７ａの全面もしくは一部を走査し、
被測定機器１１からの放射電磁界の強度を測定すること
により、線又は面上の電磁界強度を測定する際に、測定
時間を単独の時に比べ大幅に短くすることが可能にな
る。
に係るプローブの配列を示す説明図である。図１２に示
すように、被測定機器１１を内側に含む円筒７ａに対
し、プローブ１を両側から対向配置して、被測定機器１
１を内側に含む円筒７ａの全面もしくは一部を走査し、
被測定機器１１からの放射電磁界の強度を測定すること
により、線又は面上の電磁界強度を測定する際に、測定
時間を単独の時に比べ大幅に短くすることが可能にな
る。
【００６４】実施の形態１２．図１３は実施の形態１２
に係る不要電磁波測定システムを示す構成図である。図
１３に示すように、この実施の形態１２においては、新
たな構成として、第３の計算部４で求めた任意距離の線
または面上の電磁界強度の計算値を所用の周波数の電磁
界強度分布として表示する電磁界強度分布特性表示部９
がさらに設けられている。
に係る不要電磁波測定システムを示す構成図である。図
１３に示すように、この実施の形態１２においては、新
たな構成として、第３の計算部４で求めた任意距離の線
または面上の電磁界強度の計算値を所用の周波数の電磁
界強度分布として表示する電磁界強度分布特性表示部９
がさらに設けられている。
【００６５】すなわち、第３の計算部４により、求めた
任意距離の線または面上の電磁界強度の計算値を、直接
波の受信アンテナへの入射角度「θr0」を変化させるこ
とにより、電磁界強度分布特性表示部９に所用の周波数
の電磁界強度分布を表示することができ、これによっ
て、所用の周波数における被測定機器から任意の距離の
線もしくは面上の電磁界強度分布の様子を容易に求める
ことができる。
任意距離の線または面上の電磁界強度の計算値を、直接
波の受信アンテナへの入射角度「θr0」を変化させるこ
とにより、電磁界強度分布特性表示部９に所用の周波数
の電磁界強度分布を表示することができ、これによっ
て、所用の周波数における被測定機器から任意の距離の
線もしくは面上の電磁界強度分布の様子を容易に求める
ことができる。
【００６６】実施の形態１３．図１４は実施の形態１３
に係る不要電磁波測定システムを示す構成図である。図
１４に示すように、この実施の形態１３においては、新
たな構成として、第３の計算部４で求めた任意距離の点
における電磁界強度の計算値を周波数特性で表示する電
磁界強度の周波数分布特性表示部１０がさらに設けられ
ている。
に係る不要電磁波測定システムを示す構成図である。図
１４に示すように、この実施の形態１３においては、新
たな構成として、第３の計算部４で求めた任意距離の点
における電磁界強度の計算値を周波数特性で表示する電
磁界強度の周波数分布特性表示部１０がさらに設けられ
ている。
【００６７】すなわち、プローブ１で測定する周波数、
つまり第１の計算部２で対象とする周波数を変化させる
ことで、任意距離離れた場合の被測定機器を床面が接地
されかつ直接波と反射波以外の周囲からの反射波がない
場所に置いた場合の任意の距離の点における任意の周波
数における放射電磁界が計算可能になり、電磁界強度の
周波数分布特性表示部１０に、任意距離の点における電
磁界強度の計算値を周波数特性で表示することができ、
各種ＥＭＩ測定法に応じた計算結果を容易に求めること
ができる。
つまり第１の計算部２で対象とする周波数を変化させる
ことで、任意距離離れた場合の被測定機器を床面が接地
されかつ直接波と反射波以外の周囲からの反射波がない
場所に置いた場合の任意の距離の点における任意の周波
数における放射電磁界が計算可能になり、電磁界強度の
周波数分布特性表示部１０に、任意距離の点における電
磁界強度の計算値を周波数特性で表示することができ、
各種ＥＭＩ測定法に応じた計算結果を容易に求めること
ができる。
【００６８】実施の形態１４.図１５は実施の形態１４
に係る不要電磁波測定システムを説明するためのもの
で、受信プローブの構造を示した図である。図１５に示
すように、１ａ及び１ｂはプローブ走査域となる多面体
７ｂの内側に設置された被測定機器１１の近距離で不要
放射電磁界を測定するためのプローブであり、このプロ
ーブ１ａ及び１ｂは床面に対して水平・垂直に支持する
ための偏波面変更用回転台１５を介してプローブ支持機
１６に接続されており、その測定結果から前述した実施
の形態と同じくして各種ＥＭＩ測定法を考慮した換算値
を得るようにしている。なお、図１５では被測定機器１
１として変電施設の例を示している。
に係る不要電磁波測定システムを説明するためのもの
で、受信プローブの構造を示した図である。図１５に示
すように、１ａ及び１ｂはプローブ走査域となる多面体
７ｂの内側に設置された被測定機器１１の近距離で不要
放射電磁界を測定するためのプローブであり、このプロ
ーブ１ａ及び１ｂは床面に対して水平・垂直に支持する
ための偏波面変更用回転台１５を介してプローブ支持機
１６に接続されており、その測定結果から前述した実施
の形態と同じくして各種ＥＭＩ測定法を考慮した換算値
を得るようにしている。なお、図１５では被測定機器１
１として変電施設の例を示している。
【００６９】すなわち、実施の形態１４に係る不要電磁
波の計算システムによれば、被測定機器１１から近距離
における電磁界を測定距離を変えて複数測定し、平面波
散乱行列法により使用者の決めた任意の距離に距離変換
し、その距離でフーリエ変換することで残留反射波成分
を除去し、被測定物からの直接波のみを取り出した後に
被測定機器本体の電磁界分布を計算する。さらに、この
被測定機器本体の電磁界分布の計算結果から逆相の電磁
界分布のイメージを計算し、その両者から任意距離の合
成電磁界を計算することにより、床面が接地され且つ直
接波と床面以外の周囲からの電磁波がない場所に置いた
場合の任意の距離における点、線もしくは面上の電磁界
強度を計算することができる。
波の計算システムによれば、被測定機器１１から近距離
における電磁界を測定距離を変えて複数測定し、平面波
散乱行列法により使用者の決めた任意の距離に距離変換
し、その距離でフーリエ変換することで残留反射波成分
を除去し、被測定物からの直接波のみを取り出した後に
被測定機器本体の電磁界分布を計算する。さらに、この
被測定機器本体の電磁界分布の計算結果から逆相の電磁
界分布のイメージを計算し、その両者から任意距離の合
成電磁界を計算することにより、床面が接地され且つ直
接波と床面以外の周囲からの電磁波がない場所に置いた
場合の任意の距離における点、線もしくは面上の電磁界
強度を計算することができる。
【００７０】そして、被測定機器１１から近距離の電磁
界の垂直偏波と水平偏波を測定するようにプローブ１ａ
及び１ｂを垂直又は水平に回転させることで、被測定機
器１１からの不要電磁波の水平偏波と垂直偏波を使用者
の負担を増やすことなく容易に測定することが可能にな
る。また、この各々のプローブに対してプローブを支持
するプローブ支持機１６を設け、このプローブ支持機１
６を直線上に複数配置し、プローブごとプローブ支持機
間の距離が可変であることにより、被測定機器１１から
の不要放射電磁波を広帯域な周波数範囲で短時間で測定
することが可能になる。
界の垂直偏波と水平偏波を測定するようにプローブ１ａ
及び１ｂを垂直又は水平に回転させることで、被測定機
器１１からの不要電磁波の水平偏波と垂直偏波を使用者
の負担を増やすことなく容易に測定することが可能にな
る。また、この各々のプローブに対してプローブを支持
するプローブ支持機１６を設け、このプローブ支持機１
６を直線上に複数配置し、プローブごとプローブ支持機
間の距離が可変であることにより、被測定機器１１から
の不要放射電磁波を広帯域な周波数範囲で短時間で測定
することが可能になる。
【００７１】実施の形態１５.図１６は実施の形態１５
に係る不要電磁波測定システムを説明するためのもの
で、受信プローブの構造を示した図である。図１６に示
すように、プローブ１はプローブ支持機１６に支持さ
れ、さらにプローブ支持機１６は、プローブ支持機間の
距離を伸縮させるプローブ支持機伸縮機１７でつながれ
ている。このプローブ支持機伸縮機１７を伸び縮みさせ
ることで、図１６（ａ）から図１６（ｂ）のように、プ
ローブ間の距離を変化させて任意の測定間隔をもつアレ
ー状のプローブが可能になる。図１６（ａ）、（ｂ）に
示すプローブ支持機１６は、図示するように、直線配置
の他、曲線、平面または曲面状に配置し、その間をプロ
ーブ支持機伸縮機１７で接続することも実施可能とす
る。なお、図１６において、５はプローブ支持台を示
す。
に係る不要電磁波測定システムを説明するためのもの
で、受信プローブの構造を示した図である。図１６に示
すように、プローブ１はプローブ支持機１６に支持さ
れ、さらにプローブ支持機１６は、プローブ支持機間の
距離を伸縮させるプローブ支持機伸縮機１７でつながれ
ている。このプローブ支持機伸縮機１７を伸び縮みさせ
ることで、図１６（ａ）から図１６（ｂ）のように、プ
ローブ間の距離を変化させて任意の測定間隔をもつアレ
ー状のプローブが可能になる。図１６（ａ）、（ｂ）に
示すプローブ支持機１６は、図示するように、直線配置
の他、曲線、平面または曲面状に配置し、その間をプロ
ーブ支持機伸縮機１７で接続することも実施可能とす
る。なお、図１６において、５はプローブ支持台を示
す。
【００７２】従って、実施の形態１５によれば、複数の
プローブ１を支持するプローブ支持機１６と、各々のプ
ローブ支持機１６の間隔を伸縮させるプローブ支持機伸
縮機１７とを設けて、プローブごとプローブ支持機間の
距離が可変であることにより、任意のプローブ間隔での
被測定機器からの不要放射電磁波を広帯域な周波数で短
時間で測定することが可能になる。
プローブ１を支持するプローブ支持機１６と、各々のプ
ローブ支持機１６の間隔を伸縮させるプローブ支持機伸
縮機１７とを設けて、プローブごとプローブ支持機間の
距離が可変であることにより、任意のプローブ間隔での
被測定機器からの不要放射電磁波を広帯域な周波数で短
時間で測定することが可能になる。
【００７３】実施の形態１６.図１７は実施の形態１６
に係る不要電磁波測定システムを説明するためのもの
で、プローブの配置方法を示す説明図である。図１７に
おいて、図１６に示す実施の形態１５と同一部分は同一
符号を付して、その説明は省略する。新たな符号とし
て、１８はプローブ支持機移動用ガイドを示し、プロー
ブ支持機１６をプローブ支持機移動用ガイド１８上で移
動させることで、プローブ間の距離を変化させて、図１
７（ａ）から図１７（ｂ）のように任意の測定間隔をも
つアレー状のプローブが可能になる。図１７（ａ）、
（ｂ）に示すプローブ支持機１６は、図示するように、
直線配置の他、曲線、平面または曲面状に配置し、その
間をプローブ支持機移動用ガイド１８で接続することも
実施可能とする。
に係る不要電磁波測定システムを説明するためのもの
で、プローブの配置方法を示す説明図である。図１７に
おいて、図１６に示す実施の形態１５と同一部分は同一
符号を付して、その説明は省略する。新たな符号とし
て、１８はプローブ支持機移動用ガイドを示し、プロー
ブ支持機１６をプローブ支持機移動用ガイド１８上で移
動させることで、プローブ間の距離を変化させて、図１
７（ａ）から図１７（ｂ）のように任意の測定間隔をも
つアレー状のプローブが可能になる。図１７（ａ）、
（ｂ）に示すプローブ支持機１６は、図示するように、
直線配置の他、曲線、平面または曲面状に配置し、その
間をプローブ支持機移動用ガイド１８で接続することも
実施可能とする。
【００７４】このように、実施の形態１５及び１６の両
方とも、各プローブ間の距離を容易に可変することが可
能であり、任意のプローブ走査域における測定間隔を容
易に設定することが可能になる。また、測定個数が等し
く、測定間隔を変化させるような測定も可能になる。な
お、被測定機器１１から近距離の不要放射電磁界を測定
する際に、周波数によっては近傍電磁界を測定すること
になる。このような場合、EVANESCENT WAVEまで含めた
解が物理的に正しいと考えられるため、測定間隔がλ／
２以下が適当である。
方とも、各プローブ間の距離を容易に可変することが可
能であり、任意のプローブ走査域における測定間隔を容
易に設定することが可能になる。また、測定個数が等し
く、測定間隔を変化させるような測定も可能になる。な
お、被測定機器１１から近距離の不要放射電磁界を測定
する際に、周波数によっては近傍電磁界を測定すること
になる。このような場合、EVANESCENT WAVEまで含めた
解が物理的に正しいと考えられるため、測定間隔がλ／
２以下が適当である。
【００７５】このため、既存の放射ＥＭＩ測定のように
３０〜１０００ＭＨｚの周波数帯域に渡って測定個所数
を変えずに測定する場合、λ／２は５〜０．１５ｍとな
り、測定間隔もこれに応じる。実施の形態１５の場合に
は、プローブ支持機伸縮機１７を伸縮させ、実施の形態
１６の場合にはプローブ支持機１６をプローブ移動用ガ
イド１８上で移動させることで、測定間隔をλ／２にし
たうえで測定することが可能なる。
３０〜１０００ＭＨｚの周波数帯域に渡って測定個所数
を変えずに測定する場合、λ／２は５〜０．１５ｍとな
り、測定間隔もこれに応じる。実施の形態１５の場合に
は、プローブ支持機伸縮機１７を伸縮させ、実施の形態
１６の場合にはプローブ支持機１６をプローブ移動用ガ
イド１８上で移動させることで、測定間隔をλ／２にし
たうえで測定することが可能なる。
【００７６】この結果、同一のプローブ走査域で３０〜
１０００ＭＨｚの広帯域の測定を行う場合、周波数が低
い場合には測定箇所を少なく、高い場合には測定箇所を
多くすることで、測定間隔を変えない場合に比べ測定時
間を大幅に短くすることが可能になる。また、プローブ
１の測定間隔によらず、その間隔の２倍以上の波長を有
する周波数は、測定可能とするようになされている。ま
た、実施の形態１５及び１６に係るプローブ支持機１６
の配置方法と実施の形態１４に係るプローブの構造の組
合せも実施可能となる。また、実施の形態１５及び１６
に係るプローブ支持機１６の配置は、直線、曲線、平
面、曲面のいすれでも実施可能となる。
１０００ＭＨｚの広帯域の測定を行う場合、周波数が低
い場合には測定箇所を少なく、高い場合には測定箇所を
多くすることで、測定間隔を変えない場合に比べ測定時
間を大幅に短くすることが可能になる。また、プローブ
１の測定間隔によらず、その間隔の２倍以上の波長を有
する周波数は、測定可能とするようになされている。ま
た、実施の形態１５及び１６に係るプローブ支持機１６
の配置方法と実施の形態１４に係るプローブの構造の組
合せも実施可能となる。また、実施の形態１５及び１６
に係るプローブ支持機１６の配置は、直線、曲線、平
面、曲面のいすれでも実施可能となる。
【００７７】従って、実施の形態１６によれば、プロー
ブごとプローブ支持機間の距離が可変する代わりに、各
々のプローブ支持機１６の間隔を伸縮させるプローブ支
持機伸縮機１７の代わりに、プローブ支持機１６を移動
させるためのプローブ支持機移動用ガイド１８を有し、
プローブを支持するプローブ支持機ごとプローブ支持機
移動用ガイド上で移動可能にしたことにより、任意のプ
ローブ間隔での被測定機器からの不要放射電磁波を広帯
域な周波数で短時間で測定することが可能になる。
ブごとプローブ支持機間の距離が可変する代わりに、各
々のプローブ支持機１６の間隔を伸縮させるプローブ支
持機伸縮機１７の代わりに、プローブ支持機１６を移動
させるためのプローブ支持機移動用ガイド１８を有し、
プローブを支持するプローブ支持機ごとプローブ支持機
移動用ガイド上で移動可能にしたことにより、任意のプ
ローブ間隔での被測定機器からの不要放射電磁波を広帯
域な周波数で短時間で測定することが可能になる。
【００７８】実施の形態１７.図１８及び図１９は実施
の形態１７に係る不要電磁波測定システムを説明するた
めのもので、プローブの配置方法を示す説明図である。
図１８及び図１９に示すように、線状に配置された個々
のプローブ１は、プローブ支持機１６に支持され、各種
ＥＭＩ法規制で定められた測定周波数が３０〜１０００
ＭＨｚのλ／２波長である５〜０．１５ｍを満たすよう
に直線に配置され、測定する周波数に応じてλ／２間隔
で選択されたプローブを用いることで、使用者の負担を
増やすことなく容易に広周波数帯域に渡る短時間での測
定を可能にしている。なお、面状のプローブ支持機１６
にプローブ１を配置することも実施可能になる。
の形態１７に係る不要電磁波測定システムを説明するた
めのもので、プローブの配置方法を示す説明図である。
図１８及び図１９に示すように、線状に配置された個々
のプローブ１は、プローブ支持機１６に支持され、各種
ＥＭＩ法規制で定められた測定周波数が３０〜１０００
ＭＨｚのλ／２波長である５〜０．１５ｍを満たすよう
に直線に配置され、測定する周波数に応じてλ／２間隔
で選択されたプローブを用いることで、使用者の負担を
増やすことなく容易に広周波数帯域に渡る短時間での測
定を可能にしている。なお、面状のプローブ支持機１６
にプローブ１を配置することも実施可能になる。
【００７９】このプローブ１の選択方法は、この不要放
射波測定システムを制御するソフトでも可能であり、ま
たすべてのプローブ支持機１６に取り付けられたスイッ
チング回路により、機械的に選択し実行することも可能
である。図２０は実施の形態１７において必要なプロー
ブ１の選択を機械的に選択することを示す説明図であ
る。図２０に示すように、選択手段としては、使用者が
決めた測定周波数からλ／２を計算する計算部１９と、
この計算部１９に接続されλ／２間隔で必要なプローブ
１のみ選択し第１ないし第３計算部を有する不要電磁波
測定システム２１とプローブ１を接続するためのスイッ
チ２０とを備え、測定に必要なプローブ１のみを稼働で
きるようにして、余分がデータ処理がなくなり、不要電
磁波測定システムの各計算部における各種ＥＭＩ法規制
を考慮した計算を高速に計算可能になるようにしてい
る。
射波測定システムを制御するソフトでも可能であり、ま
たすべてのプローブ支持機１６に取り付けられたスイッ
チング回路により、機械的に選択し実行することも可能
である。図２０は実施の形態１７において必要なプロー
ブ１の選択を機械的に選択することを示す説明図であ
る。図２０に示すように、選択手段としては、使用者が
決めた測定周波数からλ／２を計算する計算部１９と、
この計算部１９に接続されλ／２間隔で必要なプローブ
１のみ選択し第１ないし第３計算部を有する不要電磁波
測定システム２１とプローブ１を接続するためのスイッ
チ２０とを備え、測定に必要なプローブ１のみを稼働で
きるようにして、余分がデータ処理がなくなり、不要電
磁波測定システムの各計算部における各種ＥＭＩ法規制
を考慮した計算を高速に計算可能になるようにしてい
る。
【００８０】また、図２１は実施の形態１７において必
要なプローブ１をソフト的に選択することを示す説明図
である。図２１に示すように、選択手段として、使用者
が決めた測定周波数からλ／２を計算する計算部１９
と、この計算部１９に接続され、λ／２間隔で必要なプ
ローブを選択し、全プローブの測定値から各周波数に応
じてλ／２間隔でデータを取得する制御部２２とを備え
ることにより、図２０のように機械的に制御する場合に
比べ、簡単な構造かつ高速にデータを取得することも可
能になる。
要なプローブ１をソフト的に選択することを示す説明図
である。図２１に示すように、選択手段として、使用者
が決めた測定周波数からλ／２を計算する計算部１９
と、この計算部１９に接続され、λ／２間隔で必要なプ
ローブを選択し、全プローブの測定値から各周波数に応
じてλ／２間隔でデータを取得する制御部２２とを備え
ることにより、図２０のように機械的に制御する場合に
比べ、簡単な構造かつ高速にデータを取得することも可
能になる。
【００８１】また、実施の形態１７と実施の形態１５も
しくは１６との組合せも実施可能になる。また、実施の
形態１７と実施の形態１４との組合せ及びこれらと実施
の形態１５もしくは１６の組合せも実施可能になる。
しくは１６との組合せも実施可能になる。また、実施の
形態１７と実施の形態１４との組合せ及びこれらと実施
の形態１５もしくは１６の組合せも実施可能になる。
【００８２】従って、実施の形態１７によれば、プロー
ブ支持機１６のプローブ設置面上でプローブの位置を変
えるためのガイドを有する代わりに、被測定機器から近
距離の電磁界を測定する際に使用するプローブ１を線ま
たは面状に複数配置し、この全てのプローブを支持する
線又は面状のプローブ支持機１６を設け、測定する周波
数に応じてこのプローブ１の全てもしくは一部を使用す
ることにより、広帯域かつ広範囲における測定でもプロ
ーブの間隔を変化させる時に比べ遥かに高速な測定を行
うことが可能になる。
ブ支持機１６のプローブ設置面上でプローブの位置を変
えるためのガイドを有する代わりに、被測定機器から近
距離の電磁界を測定する際に使用するプローブ１を線ま
たは面状に複数配置し、この全てのプローブを支持する
線又は面状のプローブ支持機１６を設け、測定する周波
数に応じてこのプローブ１の全てもしくは一部を使用す
ることにより、広帯域かつ広範囲における測定でもプロ
ーブの間隔を変化させる時に比べ遥かに高速な測定を行
うことが可能になる。
【００８３】実施の形態１８.図２２は実施の形態１８
に係る不要電磁波測定システムを説明するためのもの
で、プローブの配置方法を示す説明図である。この実施
の形態１８において、プローブ支持機１６は、被測定物
を円の中心に含む図２２（ａ）に示す円筒７ａまたは図
２２（ｂ）に示す球体７ｃの円周の全周もしくは一部の
上にプローブ１を配置することで、円筒走査または球面
走査をする場合に使用者の負担を増やすことなく、測定
距離を変えた場合にも常に各プローブ１と被測定機器１
１との位置関係が変わらずに不要放射波の測定が可能に
なるようになっている。また、実施の形態１４〜１７の
４種類のすべてもしくは一部との組合せによる実施の形
態も実施可能である。
に係る不要電磁波測定システムを説明するためのもの
で、プローブの配置方法を示す説明図である。この実施
の形態１８において、プローブ支持機１６は、被測定物
を円の中心に含む図２２（ａ）に示す円筒７ａまたは図
２２（ｂ）に示す球体７ｃの円周の全周もしくは一部の
上にプローブ１を配置することで、円筒走査または球面
走査をする場合に使用者の負担を増やすことなく、測定
距離を変えた場合にも常に各プローブ１と被測定機器１
１との位置関係が変わらずに不要放射波の測定が可能に
なるようになっている。また、実施の形態１４〜１７の
４種類のすべてもしくは一部との組合せによる実施の形
態も実施可能である。
【００８４】
【発明の効果】以上のように、この発明に係る不要電磁
波測定システムによれば、被測定機器から放射する電磁
界を測定するプローブと、このプローブと被測定機器と
の間の測定距離を複数変えて測定した被測定機器からの
放射電磁界の測定結果を平面波散乱行列法を用いて任意
距離に距離変換し、その距離変換後の電磁界分布をその
距離でフーリエ変換することで残留反射波成分を除去
し、被測定機器からの直接波を取り出す第１の計算部
と、この第１計算部で求めた任意の位置における直接波
成分から被測定機器本体の電磁界分布を計算する第２の
計算部と、この第２の計算部で得られた被測定機器本体
における電磁界分布に基づいて任意距離における電磁界
を計算し、床面が接地されかつ直接波と床面以外の周囲
からの電磁波がない場所に置いた場合の任意の距離にお
ける点、線もしくは面上の電磁界強度を計算する第３の
計算部とを備えたので、被測定機器から不要放射される
電磁波を近距離で測定し、その測定結果から被測定機器
の電磁界分布を求め、任意の位置における放射電磁界強
度を容易に求めることができる。
波測定システムによれば、被測定機器から放射する電磁
界を測定するプローブと、このプローブと被測定機器と
の間の測定距離を複数変えて測定した被測定機器からの
放射電磁界の測定結果を平面波散乱行列法を用いて任意
距離に距離変換し、その距離変換後の電磁界分布をその
距離でフーリエ変換することで残留反射波成分を除去
し、被測定機器からの直接波を取り出す第１の計算部
と、この第１計算部で求めた任意の位置における直接波
成分から被測定機器本体の電磁界分布を計算する第２の
計算部と、この第２の計算部で得られた被測定機器本体
における電磁界分布に基づいて任意距離における電磁界
を計算し、床面が接地されかつ直接波と床面以外の周囲
からの電磁波がない場所に置いた場合の任意の距離にお
ける点、線もしくは面上の電磁界強度を計算する第３の
計算部とを備えたので、被測定機器から不要放射される
電磁波を近距離で測定し、その測定結果から被測定機器
の電磁界分布を求め、任意の位置における放射電磁界強
度を容易に求めることができる。
【００８５】また、上記第３の計算部は、上記第２の計
算部で得られた被測定機器本体における電磁界分布から
逆相の電磁界分布のイメージを計算すると共に上記第２
の計算部で求めた被測定機器の電磁界分布から任意距離
の直接波の電磁界を求め、直接波の電磁界と該イメージ
波源からの電磁界の両者から任意距離における合成電磁
界を計算し、床面が接地されかつ直接波と床面以外の周
囲からの電磁波がない場所に置いた場合の任意の距離に
おける点、線もしくは面上の電磁界強度を計算するよう
にしたことにより、床面が接地されかつ直接波と床面以
外の周囲からの反射波がない場所に被測定機器を置いた
場合の任意距離における点、線もしくは面上の電磁界強
度を容易に求めることができる。
算部で得られた被測定機器本体における電磁界分布から
逆相の電磁界分布のイメージを計算すると共に上記第２
の計算部で求めた被測定機器の電磁界分布から任意距離
の直接波の電磁界を求め、直接波の電磁界と該イメージ
波源からの電磁界の両者から任意距離における合成電磁
界を計算し、床面が接地されかつ直接波と床面以外の周
囲からの電磁波がない場所に置いた場合の任意の距離に
おける点、線もしくは面上の電磁界強度を計算するよう
にしたことにより、床面が接地されかつ直接波と床面以
外の周囲からの反射波がない場所に被測定機器を置いた
場合の任意距離における点、線もしくは面上の電磁界強
度を容易に求めることができる。
【００８６】また、上記第３の計算部は、上記第２の計
算部で求めた被測定機器本体の電磁界分布から任意距離
の直接波成分の電磁界分布を求め、上記第１の計算部で
除去した残留反射波成分を、上記直接波成分の電磁界分
布に振幅と位相を考慮して加えて、床面が接地されかつ
直接波と反射波以外の周囲からの反射波がない場所に置
いた場合の任意の距離における点、線または面上の電磁
界強度を計算するようにしたことにより、床面が接地さ
れかつ直接波と床面以外の周囲からの反射波がない場所
に被測定機器を置いた場合の任意距離における点、線も
しくは面上の測定誤差を含めた電磁界強度を容易に求め
ることができる。
算部で求めた被測定機器本体の電磁界分布から任意距離
の直接波成分の電磁界分布を求め、上記第１の計算部で
除去した残留反射波成分を、上記直接波成分の電磁界分
布に振幅と位相を考慮して加えて、床面が接地されかつ
直接波と反射波以外の周囲からの反射波がない場所に置
いた場合の任意の距離における点、線または面上の電磁
界強度を計算するようにしたことにより、床面が接地さ
れかつ直接波と床面以外の周囲からの反射波がない場所
に被測定機器を置いた場合の任意距離における点、線も
しくは面上の測定誤差を含めた電磁界強度を容易に求め
ることができる。
【００８７】また、被測定機器から近距離の電磁界を測
定する際に、上記プローブまたは上記被測定機器を前後
左右上下に移動して測定距離または測定位置を変えるた
めのガイドをさらに設けたので、使用者の負担を増やす
ことなく容易かつ正確に測定距離を変えることができ、
所望の位置からの電磁界測定が容易にできる。
定する際に、上記プローブまたは上記被測定機器を前後
左右上下に移動して測定距離または測定位置を変えるた
めのガイドをさらに設けたので、使用者の負担を増やす
ことなく容易かつ正確に測定距離を変えることができ、
所望の位置からの電磁界測定が容易にできる。
【００８８】また、被測定機器から近距離の電磁界を測
定する際に、被測定機器を内側に含む円筒をさらに設
け、該円筒の全面もしくは一部を上記プローブの走査域
として測定するようにしたので、被測定機器から近距離
の電磁界分布を測定する際に、被測定機器を内側に含む
円筒の全面もしくは一部で測定することにより、既存の
ＥＭＣ用測定施設にある設備の利用が可能になり、使用
者の負担を増やすことなく容易かつ正確に電磁界測定が
できる。
定する際に、被測定機器を内側に含む円筒をさらに設
け、該円筒の全面もしくは一部を上記プローブの走査域
として測定するようにしたので、被測定機器から近距離
の電磁界分布を測定する際に、被測定機器を内側に含む
円筒の全面もしくは一部で測定することにより、既存の
ＥＭＣ用測定施設にある設備の利用が可能になり、使用
者の負担を増やすことなく容易かつ正確に電磁界測定が
できる。
【００８９】また、被測定機器から近距離の電磁界を測
定する際に、被測定機器を内側に含む平面で囲まれた多
面体をさらに設け、該多面体の全面もしくは一部を上記
プローブの走査域として測定するようにしたので、被測
定機器から近距離の電磁界を測定する際に、被測定機器
を内側に含む平面で囲まれた多面体の全面もしくは一部
で測定することにより、プローブの移動が簡単になり、
測定時間を短時間にすることができる。
定する際に、被測定機器を内側に含む平面で囲まれた多
面体をさらに設け、該多面体の全面もしくは一部を上記
プローブの走査域として測定するようにしたので、被測
定機器から近距離の電磁界を測定する際に、被測定機器
を内側に含む平面で囲まれた多面体の全面もしくは一部
で測定することにより、プローブの移動が簡単になり、
測定時間を短時間にすることができる。
【００９０】また、被測定機器から近距離の電磁界を測
定する際に、被測定機器を内側に含む球体をさらに設
け、該球体の全面もしくは一部を上記プローブの走査域
として測定するようにしたので、被測定機器から近距離
の電磁界分布を計算する際に、被測定機器を内側に含む
球体の全面もしくは一部で測定することにより、被測定
機器から等距離おける点、線もしくは面上の電磁界強度
を正確に測定することができる。
定する際に、被測定機器を内側に含む球体をさらに設
け、該球体の全面もしくは一部を上記プローブの走査域
として測定するようにしたので、被測定機器から近距離
の電磁界分布を計算する際に、被測定機器を内側に含む
球体の全面もしくは一部で測定することにより、被測定
機器から等距離おける点、線もしくは面上の電磁界強度
を正確に測定することができる。
【００９１】また、被測定機器から近距離の電磁界を測
定する際に使用する上記プローブを複数設けたことによ
り、線又は面上の電磁界強度を測定する際に、測定時間
を単独の時に比べ大幅に短くすることができる。
定する際に使用する上記プローブを複数設けたことによ
り、線又は面上の電磁界強度を測定する際に、測定時間
を単独の時に比べ大幅に短くすることができる。
【００９２】また、上記第３の計算部で求めた任意距離
の線または面上の電磁界強度の計算値を所用の周波数の
電磁界強度分布として表示する電磁界強度分布特性表示
部をさらに設けたことにより、被測定機器から任意の距
離における線もしくは面上の電磁界強度分布の様子を容
易に求めることができる。
の線または面上の電磁界強度の計算値を所用の周波数の
電磁界強度分布として表示する電磁界強度分布特性表示
部をさらに設けたことにより、被測定機器から任意の距
離における線もしくは面上の電磁界強度分布の様子を容
易に求めることができる。
【００９３】また、上記第３の計算部で求めた任意距離
の点における電磁界強度の計算値を周波数特性で表示す
る電磁界強度の周波数分布特性表示部をさらに設けたこ
とにより、各種ＥＭＩ測定法に応じた計算結果を容易に
求めることができる。
の点における電磁界強度の計算値を周波数特性で表示す
る電磁界強度の周波数分布特性表示部をさらに設けたこ
とにより、各種ＥＭＩ測定法に応じた計算結果を容易に
求めることができる。
【００９４】また、上記プローブを床面に対して垂直ま
たは水平方向に回転させて被測定機器から電磁界の垂直
偏波と水平偏波を測定可能にする偏波面変更用回転台を
さらに設けたことにより、被測定機器からの不要電磁波
の水平偏波と垂直偏波を使用者の負担を増やすことなく
容易に測定することが可能になると共に、プローブごと
プローブ支持機間の距離が可変であることにより、被測
定機器からの不要放射電磁波を広帯域な周波数範囲で短
時間で測定することが可能になる。
たは水平方向に回転させて被測定機器から電磁界の垂直
偏波と水平偏波を測定可能にする偏波面変更用回転台を
さらに設けたことにより、被測定機器からの不要電磁波
の水平偏波と垂直偏波を使用者の負担を増やすことなく
容易に測定することが可能になると共に、プローブごと
プローブ支持機間の距離が可変であることにより、被測
定機器からの不要放射電磁波を広帯域な周波数範囲で短
時間で測定することが可能になる。
【００９５】また、各プローブをそれぞれ支持するプロ
ーブ支持機と、これらプローブ支持機の間隔を伸縮させ
るプローブ支持機伸縮機とをさらに設けて、プローブご
とプローブ支持機間の距離を可変させることにより、任
意のプローブ間隔での被測定機器からの不要放射電磁波
を広帯域な周波数で短時間で測定することが可能にな
る。
ーブ支持機と、これらプローブ支持機の間隔を伸縮させ
るプローブ支持機伸縮機とをさらに設けて、プローブご
とプローブ支持機間の距離を可変させることにより、任
意のプローブ間隔での被測定機器からの不要放射電磁波
を広帯域な周波数で短時間で測定することが可能にな
る。
【００９６】また、各プローブをそれぞれ支持するプロ
ーブ支持機と、これらプローブ支持機を移動させるため
のプローブ支持機移動用ガイドとをさらに設け、プロー
ブを支持するプローブ支持機ごとプローブ支持機移動用
ガイド上で移動可能にすることにより、任意のプローブ
間隔での被測定機器からの不要放射電磁波を広帯域な周
波数で短時間で測定することが可能になる。
ーブ支持機と、これらプローブ支持機を移動させるため
のプローブ支持機移動用ガイドとをさらに設け、プロー
ブを支持するプローブ支持機ごとプローブ支持機移動用
ガイド上で移動可能にすることにより、任意のプローブ
間隔での被測定機器からの不要放射電磁波を広帯域な周
波数で短時間で測定することが可能になる。
【００９７】また、プローブを線または面状に複数個等
間隔に配置して支持する線または面状のプローブ支持機
と、測定する周波数に応じてこれらプローブの全てまた
は一部を選択して使用する選択手段とをさらに設けたこ
とにより、測定する周波数に応じてこのプローブの全て
もしくは一部のプローブを使用することで、広帯域かつ
広範囲における測定でもプローブの間隔を変化させる時
に比べ遥かに高速な測定を行うことが可能になる。
間隔に配置して支持する線または面状のプローブ支持機
と、測定する周波数に応じてこれらプローブの全てまた
は一部を選択して使用する選択手段とをさらに設けたこ
とにより、測定する周波数に応じてこのプローブの全て
もしくは一部のプローブを使用することで、広帯域かつ
広範囲における測定でもプローブの間隔を変化させる時
に比べ遥かに高速な測定を行うことが可能になる。
【００９８】さらに、上記プローブ支持機を、被測定物
を円の中心に含む円筒または球面の円周の全周もしくは
一部に複数のプローブを配置することにより、使用者の
負担を増やすことなく、常に被測定機器とプローブとの
位置関係を変えずに測定距離を変え、近距離の電磁界を
測定することが可能になる。
を円の中心に含む円筒または球面の円周の全周もしくは
一部に複数のプローブを配置することにより、使用者の
負担を増やすことなく、常に被測定機器とプローブとの
位置関係を変えずに測定距離を変え、近距離の電磁界を
測定することが可能になる。
【図１】 この発明の実施の形態１に係る不要電磁波測
定システムを示す構成図である。
定システムを示す構成図である。
【図２】 図１の第１ないし第３の計算部における処理
内容を説明するためのベクトル図である。
内容を説明するためのベクトル図である。
【図３】 この発明の実施の形態２に係る不要電磁波測
定システムを示す構成図である。
定システムを示す構成図である。
【図４】 この発明の実施の形態３に係る不要電磁波測
定システムのプローブを被測定機器を内側に含む円筒の
全面もしくは一部で測定する場合を示す説明図である。
定システムのプローブを被測定機器を内側に含む円筒の
全面もしくは一部で測定する場合を示す説明図である。
【図５】 この発明の実施の形態４に係る不要電磁波測
定システムのプローブを被測定機器を内側に含む平面で
囲まれた多面体の全面もしくは一部で測定する場合を示
す説明図である。
定システムのプローブを被測定機器を内側に含む平面で
囲まれた多面体の全面もしくは一部で測定する場合を示
す説明図である。
【図６】 この発明の実施の形態５に係る不要電磁波測
定システムのプローブを被測定機器を内側に含む球体の
全面もしくは一部で測定する場合を示す説明図である。
定システムのプローブを被測定機器を内側に含む球体の
全面もしくは一部で測定する場合を示す説明図である。
【図７】 この発明の実施の形態６に係る不要電磁波測
定システムの測定用プローブを垂直にアレー状にした場
合の説明図である。
定システムの測定用プローブを垂直にアレー状にした場
合の説明図である。
【図８】 この発明の実施の形態７に係る不要電磁波測
定システムの測定用プローブを円弧上にアレー状にした
場合の説明図である。
定システムの測定用プローブを円弧上にアレー状にした
場合の説明図である。
【図９】 この発明の実施の形態８に係る不要電磁波測
定システムの測定用プローブを水平にアレー状にした場
合の説明図である。
定システムの測定用プローブを水平にアレー状にした場
合の説明図である。
【図１０】 この発明の実施の形態９に係る不要電磁波
測定システムの測定用プローブを円弧上にアレー状にし
た場合の説明図である。
測定システムの測定用プローブを円弧上にアレー状にし
た場合の説明図である。
【図１１】 この発明の実施の形態１０に係る不要電磁
波測定システムの測定用プローブを２次元にアレー状に
した場合の説明図である。
波測定システムの測定用プローブを２次元にアレー状に
した場合の説明図である。
【図１２】 この発明の実施の形態１１に係る不要電磁
波測定システムの測定用プローブを対向に配置した場合
の説明図である。
波測定システムの測定用プローブを対向に配置した場合
の説明図である。
【図１３】 この発明の実施の形態１２に係る不要電磁
波測定システムの出力を所用の周波数の電子機器から任
意距離の線もしくは面上の電磁界強度分布として表示す
る表示部の説明図である。
波測定システムの出力を所用の周波数の電子機器から任
意距離の線もしくは面上の電磁界強度分布として表示す
る表示部の説明図である。
【図１４】 この発明の実施の形態１３に係る不要電磁
波測定システムの出力を電子機器から任意の距離におけ
る点において電磁界強度を周波数特性の形式で表示させ
る表示部の説明図である。
波測定システムの出力を電子機器から任意の距離におけ
る点において電磁界強度を周波数特性の形式で表示させ
る表示部の説明図である。
【図１５】 この発明の実施の形態１４に係る不要電磁
波測定システムの受信プローブの構造図である。
波測定システムの受信プローブの構造図である。
【図１６】 この発明の実施の形態１５に係る不要電磁
波測定システムの受信プローブの構造図である。
波測定システムの受信プローブの構造図である。
【図１７】 この発明の実施の形態１６に係る不要電磁
波測定システムのプローブの配置方法を示す説明図であ
る。
波測定システムのプローブの配置方法を示す説明図であ
る。
【図１８】 この発明の実施の形態１７に係る不要電磁
波測定システムのプローブの１次元の配置方法を示す説
明図である。
波測定システムのプローブの１次元の配置方法を示す説
明図である。
【図１９】 この発明の実施の形態１７に係る不要電磁
波測定システムのプローブの２次元での配置方法を示す
説明図である。
波測定システムのプローブの２次元での配置方法を示す
説明図である。
【図２０】 この発明の実施の形態１７において必要な
プローブの選択を機械的に選択することを示す説明図で
ある。
プローブの選択を機械的に選択することを示す説明図で
ある。
【図２１】 実施の形態１７において必要なプローブを
ソフト的に選択することを示す説明図である。
ソフト的に選択することを示す説明図である。
【図２２】 この発明の実施の形態１８に係る不要電磁
波測定システムのプローブの配置方法を示す説明図であ
る。
波測定システムのプローブの配置方法を示す説明図であ
る。
【図２３】 従来例に係る放射妨害波分布の推定方法の
概要を示す説明図である。
概要を示す説明図である。
１，１ａ，１ｂ プローブ、２，１２ 第１の計算部、
３ 第２の計算部、４，１４ 第３の計算部、５ プロ
ーブ支持台、６ 測定距離可変用ガイド、７ａ 内側に
被測定機器を含みプローブ走査域となる円筒、７ｂ 内
側に被測定機器を含みプローブ走査域となる多面体、７
ｃ 内側に被測定機器を含みプローブ走査域となる球
体、９ 任意距離の線もしくは面上の電磁界強度分布を
表示する表示部、１０ 任意距離における点における電
磁界強度の周波数特性を表示する表示部、１１ 被測定
機器、１５ 偏波面変更用回転台、１６ プローブ支持
機、１７ プローブ支持機伸縮機、１８ プローブ支持
機移動用ガイド、１９ 使用者が決めた測定周波数から
λ/２を計算する計算部（選択手段）、２０ スイッチ
（選択手段）、２２ 全プローブの測定値から各周波数
に応じてλ／２間隔でデータを取得する制御部。
３ 第２の計算部、４，１４ 第３の計算部、５ プロ
ーブ支持台、６ 測定距離可変用ガイド、７ａ 内側に
被測定機器を含みプローブ走査域となる円筒、７ｂ 内
側に被測定機器を含みプローブ走査域となる多面体、７
ｃ 内側に被測定機器を含みプローブ走査域となる球
体、９ 任意距離の線もしくは面上の電磁界強度分布を
表示する表示部、１０ 任意距離における点における電
磁界強度の周波数特性を表示する表示部、１１ 被測定
機器、１５ 偏波面変更用回転台、１６ プローブ支持
機、１７ プローブ支持機伸縮機、１８ プローブ支持
機移動用ガイド、１９ 使用者が決めた測定周波数から
λ/２を計算する計算部（選択手段）、２０ スイッチ
（選択手段）、２２ 全プローブの測定値から各周波数
に応じてλ／２間隔でデータを取得する制御部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 富山 ▲かつ▼己 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 小西 善彦 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 浦崎 修治 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内
Claims (15)
- 【請求項１】 被測定機器から放射する電磁界を測定す
るプローブと、このプローブと被測定機器との間の測定
距離を複数変えて測定した被測定機器からの放射電磁界
の測定結果を平面波散乱行列法を用いて任意距離に距離
変換し、その距離変換後の電磁界分布をその距離でフー
リエ変換することで残留反射波成分を除去し、被測定機
器からの直接波を取り出す第１の計算部と、この第１計
算部で求めた任意の位置における直接波成分から被測定
機器本体の電磁界分布を計算する第２の計算部と、この
第２の計算部で得られた被測定機器本体における電磁界
分布に基づいて任意距離における電磁界を計算し、床面
が接地されかつ直接波と床面以外の周囲からの電磁波が
ない場所に置いた場合の任意の距離における点、線もし
くは面上の電磁界強度を計算する第３の計算部からなる
不要電磁波測定システム。 - 【請求項２】 請求項１記載の不要電磁波測定システム
において、上記第３の計算部は、上記第２の計算部で得
られた被測定機器本体における電磁界分布から逆相の電
磁界分布のイメージを計算すると共に上記第２の計算部
で求めた被測定機器の電磁界分布から任意距離の直接波
の電磁界を求め、直接波の電磁界と該イメージ波源から
の電磁界の両者から任意距離における合成電磁界を計算
し、床面が接地されかつ直接波と床面以外の周囲からの
電磁波がない場所に置いた場合の任意の距離における
点、線もしくは面上の電磁界強度を計算することを特徴
とする不要電磁波測定システム。 - 【請求項３】 請求項１記載の不要電磁波測定システム
において、上記第３の計算部は、上記第２の計算部で求
めた被測定機器本体の電磁界分布から任意距離の直接波
成分の電磁界分布を求め、上記第１の計算部で除去した
残留反射波成分を、上記直接波成分の電磁界分布に振幅
と位相を考慮して加えて、床面が接地されかつ直接波と
反射波以外の周囲からの反射波がない場所に置いた場合
の任意の距離における点、線または面上の電磁界強度を
計算することを特徴とする不要電磁波測定システム。 - 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれかに記載の不
要電磁波測定システムにおいて、被測定機器から近距離
の電磁界を測定する際に、上記プローブまたは上記被測
定機器を前後左右上下に移動して測定距離または測定位
置を変えるためのガイドをさらに設けたことを特徴とす
る不要電磁波測定システム。 - 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれかに記載の不
要電磁波測定システムにおいて、被測定機器から近距離
の電磁界を測定する際に、被測定機器を内側に含む円筒
をさらに設け、該円筒の全面もしくは一部を上記プロー
ブの走査域として測定することを特徴とする不要電磁波
測定システム。 - 【請求項６】 請求項１ないし４のいずれかに記載の不
要電磁波測定システムにおいて、被測定機器から近距離
の電磁界を測定する際に、被測定機器を内側に含む平面
で囲まれた多面体をさらに設け、該多面体の全面もしく
は一部を上記プローブの走査域として測定することを特
徴とする不要電磁波測定システム。 - 【請求項７】 請求項１ないし４のいずれかに記載の不
要電磁波測定システムにおいて、被測定機器から近距離
の電磁界を測定する際に、被測定機器を内側に含む球体
をさらに設け、該球体の全面もしくは一部を上記プロー
ブの走査域として測定することを特徴とする不要電磁波
測定システム。 - 【請求項８】 請求項１ないし７のいずれかに記載の不
要電磁波測定システムにおいて、被測定機器から近距離
の電磁界を測定する際に使用する上記プローブを複数設
けたことを特徴とする不要電磁波測定システム。 - 【請求項９】 請求項１ないし８のいずれかに記載の不
要電磁波測定システムにおいて、上記第３の計算部で求
めた任意距離の線または面上の電磁界強度の計算値を所
用の周波数の電磁界強度分布として表示する電磁界強度
分布特性表示部をさらに設けたことを特徴とする不要電
磁波測定システム。 - 【請求項１０】 請求項１ないし９のいずれかに記載の
不要電磁波測定システムにおいて、上記第３の計算部で
求めた任意距離の点における電磁界強度の計算値を周波
数特性で表示する電磁界強度の周波数分布特性表示部を
さらに設けたことを特徴とする不要電磁波測定システ
ム。 - 【請求項１１】 請求項１ないし１０のいずれかに記載
の不要電磁波測定システムにおいて、上記プローブを床
面に対して垂直または水平方向に回転させて回転被測定
機器から電磁界の垂直偏波と水平偏波を測定可能にする
偏波面変更用回転台をさらに設けたことを特徴とする不
要電磁波測定システム。 - 【請求項１２】 請求項８ないし１１のいずれかに記載
の不要電磁波測定システムにおいて、各プローブをそれ
ぞれ支持するプローブ支持機と、これらプローブ支持機
の間隔を伸縮させるプローブ支持機伸縮機とをさらに設
けて、プローブごとプローブ支持機間の距離を可変させ
ることを特徴とする不要電磁波測定システム。 - 【請求項１３】 請求項８ないし１１のいずれかに記載
の不要電磁波測定システムにおいて、各プローブをそれ
ぞれ支持するプローブ支持機と、これらプローブ支持機
を移動させるためのプローブ支持機移動用ガイドとをさ
らに設け、プローブを支持するプローブ支持機ごとプロ
ーブ支持機移動用ガイド上で移動可能にすることを特徴
とする不要電磁波測定システム。 - 【請求項１４】 請求項８ないし１１のいずれかに記載
の不要電磁波測定システムにおいて、プローブを線また
は面状に複数個等間隔に配置して支持する線または面状
のプローブ支持機と、測定する周波数に応じてこれらプ
ローブの全てまたは一部を選択して使用する選択手段と
をさらに設けたことを特徴とする不要電磁波測定システ
ム。 - 【請求項１５】 請求項１１ないし１４のいずれかに記
載の不要電磁波測定システムにおいて、上記プローブ支
持機は、被測定物を円の中心に含む円筒または球面の円
周の全周もしくは一部に複数のプローブを配置してなる
ことを特徴とする不要電磁波測定システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29534996A JPH1062467A (ja) | 1996-06-12 | 1996-11-07 | 不要電磁波測定システム |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-151205 | 1996-06-12 | ||
| JP15120596 | 1996-06-12 | ||
| JP29534996A JPH1062467A (ja) | 1996-06-12 | 1996-11-07 | 不要電磁波測定システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1062467A true JPH1062467A (ja) | 1998-03-06 |
Family
ID=26480524
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29534996A Pending JPH1062467A (ja) | 1996-06-12 | 1996-11-07 | 不要電磁波測定システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1062467A (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| WO2020110483A1 (ja) * | 2018-11-27 | 2020-06-04 | 森田テック株式会社 | 試験装置 |
-
1996
- 1996-11-07 JP JP29534996A patent/JPH1062467A/ja active Pending
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