JPH1056165A - Semiconductor device for ccd and its manufacturing method - Google Patents

Semiconductor device for ccd and its manufacturing method

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JPH1056165A
JPH1056165A JP8212714A JP21271496A JPH1056165A JP H1056165 A JPH1056165 A JP H1056165A JP 8212714 A JP8212714 A JP 8212714A JP 21271496 A JP21271496 A JP 21271496A JP H1056165 A JPH1056165 A JP H1056165A
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JP
Japan
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ccd
optical glass
lead
semiconductor chip
lead wiring
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JP8212714A
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Japanese (ja)
Inventor
Shigeo Sasaki
重男 佐々木
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Toshiba Corp
Japan Semiconductor Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Iwate Toshiba Electronics Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make a device thinner or smaller by connecting a lead wiring to an electrode of a CCD semiconductor chip with a conductive bond, and sealing a semiconductor chip and a lead wiring so that a part of the lead wiring is exposed to the outside as an outside lead-out part of the lead wiring. SOLUTION: One end of each lead wiring 13 is, through a conductive bond 16, connected to an electrode 11c of a CCD semiconductor chip 11. The CCD semiconductor chip 11 and the lead wiring 13 are so sealed with a potting resin 17 as a part of each lead wiring 13 is exposed outside as an outside lead- out part 13a of each lead wiring 13. Relating to such form of CCD semiconductor device as this, the lead wiring 13 is directly connected to the electrode 11a of the CCD semiconductor chip 11 with the conductive bond 16, so, the device itself can be thinner and smaller. In addition, following it, thinner and smaller size is possible at implementation.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、CCDリニアイメ
ージセンサ等のCCD用半導体装置、及びその製造方法
に関する。
The present invention relates to a semiconductor device for a CCD such as a CCD linear image sensor and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の面実装対応用のCCD用半導体装
置は、SOP等のタイプが主流であり、この種のCCD
用半導体装置の外囲器は、CCD用半導体チップが装着
されたセラミックパッケージを、光学ガラスからなるリ
ッドにより気密封止するものが従来より一般的に知られ
ている。
2. Description of the Related Art Conventionally, CCD semiconductor devices for surface mounting are mainly of the type such as SOP.
2. Description of the Related Art As an envelope of a semiconductor device for electronic devices, a package in which a ceramic package on which a semiconductor chip for CCD is mounted is hermetically sealed with a lid made of optical glass is conventionally known.

【0003】図8は、従来のSOPタイプのCCD用半
導体装置の一例を示す構造図である。
FIG. 8 is a structural view showing an example of a conventional SOP type CCD semiconductor device.

【0004】このCCD用半導体装置は、CCD用半導
体チップ100を装着するベースセラミック101と、
その上部に設けられたウィンドセラミック102と、こ
れらの間に設置されたリードフレーム103とを有する
セラミックパッケージを備えている。
This CCD semiconductor device comprises a base ceramic 101 on which a CCD semiconductor chip 100 is mounted,
There is provided a ceramic package having a window ceramic 102 provided thereabove and a lead frame 103 provided therebetween.

【0005】CCD用半導体チップ100には、半導体
基板100aの主面側にCCDセンサ部100bと電極
100cが形成され、このCCD用半導体チップ100
の電極100cとリードフレーム103とは、ボンディ
ングワイヤ104を介して接続されている。
The CCD semiconductor chip 100 has a CCD sensor section 100b and electrodes 100c formed on the main surface side of a semiconductor substrate 100a.
The electrode 100c and the lead frame 103 are connected via a bonding wire 104.

【0006】そして、このウィンドセラミック102に
光学ガラス105が封着されて、リードフレーム103
と接続されたCCD用半導体チップ100が気密封止さ
れるようになっている。
[0006] Then, an optical glass 105 is sealed to the window ceramic 102, and a lead frame 103 is formed.
The semiconductor chip 100 for CCD connected to the above is hermetically sealed.

【0007】また、前記光学ガラス105は、本体パッ
ケージとの封着のために枠状の低融点ガラス106が付
けられて、低融点ガラス付きリッドとして構成され、さ
らに、リードフレーム103を挟んでベースセラミック
101とウィンドセラミック102とが、低融点ガラス
107によって密着されている。
The optical glass 105 is formed as a lid with a low-melting glass with a frame-like low-melting glass 106 attached thereto for sealing with the main body package. The ceramic 101 and the wind ceramic 102 are adhered to each other by the low-melting glass 107.

【0008】このCCD用半導体装置によれば、光学ガ
ラス105を通して入力された光信号は、CCDセンサ
部100bで電気信号に変換されて電極100c及びボ
ンディングワイヤ104を介してリードフレーム103
から外部へ取り出される。
According to the CCD semiconductor device, an optical signal input through the optical glass 105 is converted into an electric signal by the CCD sensor unit 100b, and is converted into an electric signal through the electrode 100c and the bonding wire 104.
Is taken out from the outside.

【0009】次に、上記CCD用半導体装置の製造方法
を説明する。
Next, a method for manufacturing the above-described CCD semiconductor device will be described.

【0010】まず、本体パッケージとして、セラミック
パッケージを用意する。このセラミックパッケージは、
ベースセラミック101、ウィンドセラミック102及
びリードフレーム103から成り、ベースセラミック1
01の上部にウィンドセラミック102が組み上げられ
ている。ベースセラミック101とウィンドセラミック
102との間にはリードフレーム103が設置され、こ
のリードフレーム103が低融点ガラス107によって
密着されている。
First, a ceramic package is prepared as a main body package. This ceramic package
A base ceramic 101, a wind ceramic 102 and a lead frame 103 are provided.
The wind ceramic 102 is assembled on the upper part of the first ceramics 01. A lead frame 103 is provided between the base ceramic 101 and the wind ceramic 102, and the lead frame 103 is closely adhered to by a low-melting glass 107.

【0011】次いで、ダイボンディングを行うべく、導
電性ダイボンドペーストをベースセラミック101のダ
イパッド部により塗布し、これにCCD用半導体チップ
100を押し付けて仮止めした後、加熱してペーストを
硬化させて接着する。
Next, in order to perform die bonding, a conductive die bond paste is applied on the die pad portion of the base ceramic 101, and the CCD semiconductor chip 100 is pressed and temporarily fixed thereto, and then heated to cure the paste and adhere. I do.

【0012】続いて、ワイヤボンディングを行うべく、
セラミックパッケージのリードフレーム103とCCD
用半導体チップ100の電極100cとをボンディング
ワイヤ104により結線する。
Subsequently, in order to perform wire bonding,
Ceramic package lead frame 103 and CCD
The electrode 100c of the semiconductor chip 100 is connected by a bonding wire 104.

【0013】その後は、当該セラミックパッケージに、
低融点ガラス106が設けられた光学ガラス105をキ
ャップし、シール炉通しを行って光学ガラス105をそ
の低融点ガラス106の枠体によってセラミックパッケ
ージに封着する。このようにして、セラミックパッケー
ジの中の前記CCD用半導体チップ100を気密封止し
た後、リードフレーム103を切断して折り曲げ加工を
行えば、図8に示す構造のCCD用半導体装置を得るこ
とができる。
After that, the ceramic package is
The optical glass 105 provided with the low-melting glass 106 is capped and passed through a sealing furnace to seal the optical glass 105 to the ceramic package with the frame of the low-melting glass 106. After the CCD semiconductor chip 100 in the ceramic package is hermetically sealed in this way, if the lead frame 103 is cut and bent, a CCD semiconductor device having the structure shown in FIG. 8 can be obtained. it can.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のCCD用半導体装置では、ボンディングワイヤ10
4のループ長の確保やアウターリードフレーム103の
寸法を考慮しなければならず、これによる装置自体の厚
みによって実装の薄型化や小型化が制約されるという問
題があった。
However, in the above-mentioned conventional CCD semiconductor device, the bonding wire 10
In this case, it is necessary to consider the securing of the loop length and the dimensions of the outer lead frame 103, and there is a problem that the thickness of the device itself limits the thinning and miniaturization of the mounting.

【0015】本発明は、上述の如き従来の問題点を解決
するためになされたもので、その目的は、装置自体の薄
型化や小型化を図ることができるCCD用半導体装置を
提供することである。またその他の目的は、実装時の薄
型化や小型化を図ることができるCCD用半導体装置を
提供することである。さらに、その他の目的は、簡単に
装置を製造することができるCCD用半導体装置の製造
方法を提供することである。
The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to provide a CCD semiconductor device capable of reducing the thickness and size of the device itself. is there. Another object of the present invention is to provide a CCD semiconductor device which can be made thinner and smaller at the time of mounting. Still another object is to provide a method of manufacturing a semiconductor device for a CCD, which can easily manufacture the device.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第1の発明であるCCD用半導体装置の特徴は、半
導体基板の主面側にCCDセンサ部が形成されたCCD
用半導体チップと、前記CCD用半導体チップよりも大
きい面領域を持ち、前記CCD用半導体チップと対向し
て設置されてそのCCDセンサ部に外部より光信号を入
力するための光学ガラスと、前記光学ガラスに配設され
たリード配線とを備え、導電性接着剤によって前記リー
ド配線を前記CCD用半導体チップの電極に接続すると
共に、前記リード配線の外部引出し部として前記リード
配線の一部を外部に露出する形で、前記CCD用半導体
チップ及び前記リード配線を封止したことにある。
In order to achieve the above-mentioned object, a first aspect of the present invention is a CCD semiconductor device which is characterized in that a CCD sensor portion is formed on a main surface side of a semiconductor substrate.
An optical glass having a surface area larger than that of the CCD semiconductor chip, installed opposite to the CCD semiconductor chip, and for inputting an optical signal from the outside to the CCD sensor unit; A lead wire disposed on glass, the lead wire is connected to the electrode of the semiconductor chip for CCD by a conductive adhesive, and a part of the lead wire is externally provided as an external lead portion of the lead wire. That is, the semiconductor chip for CCD and the lead wiring are sealed in an exposed form.

【0017】この第1の発明によれば、導電性接着剤に
よってリード配線をCCD用半導体チップの電極に直接
的に接続するため、装置の薄型化や小型化を図ることが
でき、そのうえ、装置自体の薄型化や小型化と共に光学
ガラスにリード配線を配設した構造であるため、実装時
には実装基板から装置の最上部である光学ガラス面まで
の高さを著しく短縮することができる。
According to the first aspect, the lead wiring is directly connected to the electrode of the semiconductor chip for CCD by the conductive adhesive, so that the device can be made thinner and smaller, and furthermore, the device can be made thinner and smaller. Since the structure is such that lead wires are provided on the optical glass as well as the thickness and size of the device itself, the height from the mounting substrate to the optical glass surface, which is the uppermost portion of the device, can be significantly reduced during mounting.

【0018】第2の発明であるCCD用半導体装置の特
徴は、上記第1の発明において、前記リード配線を前記
光学ガラスの面領域内に配設し、且つ該リード配線の前
記外部引き出し部を前記光学ガラスの一辺側のみに形成
したことにある。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a CCD semiconductor device according to the first aspect, wherein the lead wiring is disposed in a surface area of the optical glass, and the external lead portion of the lead wiring is provided. The optical glass is formed only on one side.

【0019】この第2の発明によれば、リード配線の外
部引き出し部を光学ガラスの一辺側のみに形成するた
め、装置の横幅を短縮することができる。
According to the second aspect of the present invention, since the external lead portion of the lead wiring is formed only on one side of the optical glass, the lateral width of the device can be reduced.

【0020】第3の発明であるCCD用半導体装置の特
徴は、上記第1の発明において、前記リード配線を前記
光学ガラスの面領域内に配設し、且つ該リード配線の前
記外部引き出し部を前記光学ガラスの複数の辺部に形成
したことにある。
According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor device for a CCD according to the first aspect, the lead wiring is disposed in a surface area of the optical glass, and the external lead portion of the lead wiring is provided. The optical glass is formed on a plurality of sides.

【0021】この第3の発明によれば、リード配線の外
部引き出し部を光学ガラスの複数の辺部に形成するた
め、リード配線長を第2の発明よりも短縮することがで
きる。
According to the third aspect of the present invention, since the external lead portions of the lead wiring are formed on a plurality of sides of the optical glass, the length of the lead wiring can be shortened as compared with the second aspect.

【0022】第4の発明であるCCD用半導体装置の製
造方法の特徴は、予め光学ガラスにリード配線を配設し
ておき、半導体基板の主面側にCCDセンサ部が形成さ
れたCCD用半導体チップに対向させて、前記CCDセ
ンサ部に外部より光信号を入力するように前記光学ガラ
スを設置し、前記CCD用半導体チップの電極と前記リ
ード配線とを導電性接着剤によって接着し、前記リード
配線の外部引出し部として前記リード配線の一部を外部
に露出する形で、前記CCD用半導体チップ及び前記リ
ード配線を封止したことにある。
A feature of the method of manufacturing a CCD semiconductor device according to the fourth invention is that a lead wire is provided on optical glass in advance, and a CCD sensor portion is formed on a main surface side of a semiconductor substrate. The optical glass is placed so as to be opposed to the chip so that an optical signal is externally input to the CCD sensor unit, and the electrode of the semiconductor chip for CCD and the lead wiring are adhered to each other with a conductive adhesive. The present invention is characterized in that the CCD semiconductor chip and the lead wiring are sealed in such a manner that a part of the lead wiring is exposed to the outside as an external lead portion of the wiring.

【0023】この第4の発明によれば、従来よりも簡単
な方法で、第1の発明と同様の装置を製造することがで
きる。
According to the fourth aspect, an apparatus similar to that of the first aspect can be manufactured by a simpler method than the conventional one.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図1は、本発明の第1実施形態に係
るCCD用半導体装置の断面構造図、及び図2は、図1
に示したCCD用半導体装置の平面構造図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional structural view of a CCD semiconductor device according to a first embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 2 is a plan view of the semiconductor device for CCD shown in FIG.

【0025】このCCD用半導体装置は、半導体基板1
1aの主面側にCCDセンサ部11bが形成されたCC
D用半導体チップ11を備えている。さらに、CCD用
半導体チップ11には電極11cが設けられ、CCD用
半導体チップ11は、CCDセンサ部11bによって外
部からの光信号を電気信号に変換して電極11cへ出力
する機能を有している。
This CCD semiconductor device is composed of a semiconductor substrate 1
CC having a CCD sensor section 11b formed on the main surface side of 1a
A semiconductor chip 11 for D is provided. Further, the CCD semiconductor chip 11 is provided with an electrode 11c. The CCD semiconductor chip 11 has a function of converting an external light signal into an electric signal by the CCD sensor unit 11b and outputting the electric signal to the electrode 11c. .

【0026】また、前記CCDセンサ部11b側へ外部
より光信号を入力するための光学ガラス12が前記CC
D用半導体チップ11と対向して設置されている。光学
ガラス12は、CCD用半導体チップ11よりも大きい
面領域を持ち、その中央部にCCDセンサ部11bが位
置するように、該CCD用半導体チップ11に対向して
設置されている。
An optical glass 12 for inputting an optical signal from the outside to the CCD sensor section 11b is provided with the CC glass.
It is installed so as to face the D semiconductor chip 11. The optical glass 12 has a surface area larger than that of the CCD semiconductor chip 11, and is installed so as to face the CCD semiconductor chip 11 so that the CCD sensor section 11b is located at the center thereof.

【0027】さらに、光学ガラス12の面領域内には、
前記CCD用半導体チップ11の電極11cに対応した
本数のリード配線13が配設されている。全てのリード
配線13は、その外部引出し部13aを光学ガラス12
の一辺側(例えば図2の右側)に形成するように、光学
ガラス12の表面に固着形成されている。そして、この
光学ガラス12とCCD用半導体チップ11とは、CC
Dセンサ部11bの部分を除いて絶縁性粘着テープ14
を介して接着されている。これによって、CCD用半導
体チップ11は光学ガラス12に固定されると共に、C
CDセンサ部11bから光学ガラス12に至るまでは若
干の空隙15が形成され、外部より光学ガラス12を通
してCCDセンサ部11bへ光信号が取り込めるように
なっている。
Further, in the surface area of the optical glass 12,
A number of lead wires 13 corresponding to the electrodes 11c of the CCD semiconductor chip 11 are provided. All the lead wires 13 are connected to the optical glass 12
Is formed on the surface of the optical glass 12 so as to be formed on one side (for example, the right side of FIG. 2). The optical glass 12 and the semiconductor chip 11 for CCD are
Except for the D sensor portion 11b, the insulating adhesive tape 14
Is glued through. Thereby, the semiconductor chip 11 for CCD is fixed to the optical glass 12 and
A slight gap 15 is formed from the CD sensor section 11b to the optical glass 12, so that an optical signal can be taken into the CCD sensor section 11b from the outside through the optical glass 12.

【0028】また、各リード配線13の一端は、導電性
接着剤16を介して前記CCD用半導体チップ11の電
極11cにそれぞれ接続されている。そして、各リード
配線13の外部引出し部13aとして各々のリード配線
13の一部を外部に露出する形で、CCD用半導体チッ
プ11及びリード配線13が封止用ポッティング樹脂1
7によって封止されている。
One end of each lead wiring 13 is connected to the electrode 11c of the CCD semiconductor chip 11 via a conductive adhesive 16 respectively. Then, the CCD semiconductor chip 11 and the lead wiring 13 are connected to the sealing potting resin 1 in such a manner that a part of each lead wiring 13 is exposed to the outside as an external lead portion 13a of each lead wiring 13.
7 sealed.

【0029】本実施形態のCCD用半導体装置によれ
ば、光学ガラス12を通して入力された光信号は、CC
Dセンサ部11bで電気信号に変換されて電極11cを
介してリード配線13の外部引出し部13aから外部へ
取り出される。
According to the CCD semiconductor device of the present embodiment, the optical signal input through the optical glass 12
The electric signal is converted into an electric signal by the D sensor unit 11b, and the electric signal is taken out from the external lead-out part 13a of the lead wiring 13 through the electrode 11c.

【0030】次に、上記構成のCCD用半導体装置の製
造方法を説明する。
Next, a method of manufacturing the CCD semiconductor device having the above configuration will be described.

【0031】まず、予め、図2に示すようなパターン
で、CCD用半導体チップ11の電極11cに対応した
本数のリード配線13を光学ガラス12に配設してお
く。これは、例えば、光学ガラス12の裏面側の全面に
接着剤等で銅箔を張り付け、エッチング加工等によって
パターン形成する。本実施形態の場合は、装置の横幅の
寸法を短縮するために各リード配線13の外部引出し部
13aを光学ガラス12の一辺側のみに形成する。
First, a number of lead wires 13 corresponding to the electrodes 11c of the CCD semiconductor chip 11 are arranged on the optical glass 12 in a pattern as shown in FIG. For example, a copper foil is attached to the entire back surface of the optical glass 12 with an adhesive or the like, and a pattern is formed by etching or the like. In the case of the present embodiment, the external lead-out portion 13a of each lead wire 13 is formed only on one side of the optical glass 12 in order to reduce the width of the device.

【0032】続いて、この光学ガラス12にCCD用半
導体チップ11を固定(ダイボンディング)するに先立
ち、絶縁性粘着テープ14をCCD用半導体チップ11
の主面側に張設しておく。この場合、CCD用半導体チ
ップ11のCCDセンサ部11b及びその周囲と電極1
1cの部分は、絶縁性粘着テープ14を設けない。そし
て、各電極11c上に導電性接着剤16を塗布してお
く。
Then, before fixing (die bonding) the semiconductor chip 11 for CCD to the optical glass 12, an insulating adhesive tape 14 is attached to the semiconductor chip 11 for CCD.
It is stretched on the main surface side of. In this case, the CCD sensor portion 11b of the CCD semiconductor chip 11 and its surroundings and the electrode 1
1c does not include the insulating adhesive tape 14. Then, a conductive adhesive 16 is applied on each electrode 11c.

【0033】その後、前記光学ガラス12の各リード配
線13の先端部に、CCD用半導体チップ11の各電極
11cがそれぞれ位置するように位置決めして、CCD
用半導体チップ11を光学ガラス12に押圧して固着す
る。このとき、前述したようにCCDセンサ部11bと
その周囲の上部には若干の空隙15が形成される。
Thereafter, the electrodes 11c of the semiconductor chip 11 for the CCD are positioned at the leading ends of the lead wires 13 of the optical glass 12 so as to be positioned.
The semiconductor chip 11 for use is pressed and fixed to the optical glass 12. At this time, as described above, a slight gap 15 is formed in the CCD sensor portion 11b and its surrounding upper portion.

【0034】その後、ポッティングを行うべく硬化材を
配合した樹脂を用意し、各リード配線13の外部引出し
部13aとして各々のリード配線13の一部を外部に露
出する形で、CCD用半導体チップ11とリード配線1
3を該ポッティング樹脂17によって被包し、これを紫
外線(UV)で硬化する。これによって、上部の光学ガ
ラス12の下側に封止部分が形成された構造の図1に示
したCCD用半導体装置が得られる。
Thereafter, a resin mixed with a hardening material is prepared for potting, and a CCD semiconductor chip 11 is formed as an external lead portion 13a of each lead wiring 13 so that a part of each lead wiring 13 is exposed to the outside. And lead wiring 1
3 is covered with the potting resin 17 and is cured by ultraviolet rays (UV). Thus, the CCD semiconductor device shown in FIG. 1 having a structure in which the sealing portion is formed below the upper optical glass 12 is obtained.

【0035】次に、本実施形態の利点を従来装置と対比
して説明する。
Next, advantages of the present embodiment will be described in comparison with a conventional apparatus.

【0036】図3(a),(b)は、前述の図8に示し
た従来のCCD用半導体装置の実装時の状態を示す図で
あり、同図(a)はその側面図、同図(b)は平面図で
ある。また、図4(a),(b)は、図1に示した本実
施形態に係るCCD用半導体装置の実装時の状態を示す
図であり、同図(a)はその側面図、同図(b)は平面
図である。
FIGS. 3A and 3B are views showing the state of the conventional CCD semiconductor device shown in FIG. 8 at the time of mounting, and FIG. 3A is a side view and FIG. (B) is a plan view. FIGS. 4A and 4B are views showing the state of the CCD semiconductor device according to the present embodiment shown in FIG. 1 at the time of mounting, and FIG. 4A is a side view and FIG. (B) is a plan view.

【0037】従来では、図3(a)に示すように、図8
に示したCCD用半導体装置110をフレキシブル基板
111上に半田112によって実装した場合において、
フレキシブル基板111から装置110の上面までの高
さT1が3.5mm程度になる。さらに、図3(b)に
示すように奥行きT2が14mm、横幅T3が9.0m
m程度になる。従来装置では、前述したようにボンディ
ングワイヤ104のループ長の確保やアウターリードフ
レーム103の寸法を考慮する結果、装置自体の一層の
薄型化及び小型化を図ることは困難であり、これに伴い
実装時の薄型化及び小型化も困難となっている。
Conventionally, as shown in FIG.
When the CCD semiconductor device 110 shown in (1) is mounted on the flexible substrate 111 by solder 112,
The height T1 from the flexible substrate 111 to the upper surface of the device 110 becomes about 3.5 mm. Further, as shown in FIG. 3B, the depth T2 is 14 mm, and the width T3 is 9.0 m.
m. In the conventional device, as described above, as a result of securing the loop length of the bonding wire 104 and considering the dimensions of the outer lead frame 103, it is difficult to further reduce the thickness and size of the device itself. At the same time, it is also difficult to make the device thinner and smaller.

【0038】これに対して、図4に示すように、本実施
形態のCCD用半導体装置10は、導電性接着剤16に
よってリード配線13をCCD用半導体チップ11の電
極11cに直接的に接続するため、装置自体の薄型化や
小型化が可能になる。従って、図4(a)に示すよう
に、本実施形態のCCD用半導体装置10をフレキシブ
ル基板21上に半田22によって実装する場合において
は、フレキシブル基板21から装置10の上面までの高
さT10が0.7mm程度となり薄型化が実現される。
さらに、図4(b)に示すように奥行きT11が14m
m、横幅T12が6.0mm程度となり、小型化が実現
される。すなわち、装置自体の薄型化や小型化と共に、
光学ガラス12の表面にリード配線13を直接配設した
構造であるため、実装時にはフレキシブル基板21から
装置の最上部である光学ガラス面までの高さを著しく短
縮することができる。
On the other hand, as shown in FIG. 4, in the CCD semiconductor device 10 of the present embodiment, the lead wiring 13 is directly connected to the electrode 11c of the CCD semiconductor chip 11 by the conductive adhesive 16. Therefore, the device itself can be made thinner and smaller. Therefore, as shown in FIG. 4A, when the CCD semiconductor device 10 of the present embodiment is mounted on the flexible substrate 21 by the solder 22, the height T10 from the flexible substrate 21 to the upper surface of the device 10 is reduced. The thickness is reduced to about 0.7 mm, and the thickness is reduced.
Further, as shown in FIG.
m, the width T12 is about 6.0 mm, and miniaturization is realized. That is, along with the thinning and miniaturization of the device itself,
Since the structure is such that the lead wires 13 are directly disposed on the surface of the optical glass 12, the height from the flexible substrate 21 to the optical glass surface, which is the uppermost part of the device, can be significantly reduced during mounting.

【0039】また、本実施形態によれば、装置の薄型化
や小型化のほかに、上述したように装置の製造方法を従
来に比べて簡単化することができる。
According to the present embodiment, in addition to making the device thinner and smaller, the method of manufacturing the device can be simplified as compared with the conventional method as described above.

【0040】図5は、本発明の第2実施形態に係るCC
D用半導体装置の断面構造図、及び図6は、図5に示し
たCCD用半導体装置の平面構造図である。両図とも、
図1及び図2に共通する要素には同一の符号を付し、そ
の説明を省略する。
FIG. 5 shows a CC according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a sectional structural view of the semiconductor device for D, and FIG. 6 is a plan structural view of the semiconductor device for CCD shown in FIG. In both figures,
1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0041】上記第1実施形態では、リード配線13の
外部引き出し部13aを光学ガラス12の一辺側のみに
形成したが、本実施形態では、光学ガラス12の左右両
辺部にリード配線13の外部引き出し部13a,13b
を形成したものである。本実施形態においても、製造方
法は上記第1実施形態と同様である。
In the first embodiment, the external lead portion 13a of the lead wire 13 is formed only on one side of the optical glass 12, but in the present embodiment, the external lead portion 13a of the lead wire 13 is provided on both left and right sides of the optical glass 12. Parts 13a, 13b
Is formed. In this embodiment, the manufacturing method is the same as that of the first embodiment.

【0042】このような構造の本実施形態では、光学ガ
ラス12の左右両辺部にリード配線13の外部引き出し
部13a,13bを形成するため、本実施形態の実装時
の状態を表す図7に示すように、第1実施形態よりも横
幅が増大するが、第1実施形態と同様に、導電性接着剤
16によってリード配線13をCCD用半導体チップ1
1の電極11cに直接的に接続するため、従来装置に比
べれば薄型化及び小型化の効果は顕著である。また、第
1実施形態のように、リード配線13の半数を光学ガラ
ス12の一辺側へ迂回する必要がなくなり、その分、リ
ード配線13の配線長を短くすることができる。
In the present embodiment having such a structure, since the external lead portions 13a and 13b of the lead wiring 13 are formed on both the left and right sides of the optical glass 12, FIG. As described above, the lateral width is larger than that of the first embodiment. However, similarly to the first embodiment, the lead wiring 13 is connected to the semiconductor chip 1 for CCD by the conductive adhesive 16.
Since it is directly connected to one electrode 11c, the effect of thinning and miniaturization is remarkable as compared with the conventional device. Further, as in the first embodiment, it is not necessary to detour half of the lead wiring 13 to one side of the optical glass 12, and accordingly, the wiring length of the lead wiring 13 can be shortened.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、第1の発明
であるCCD用半導体装置によれば、導電性接着剤によ
ってリード配線をCCD用半導体チップの電極に直接的
に接続することができ、装置自体の薄型化及び小型化を
可能にする。さらに、これに伴い、実装時の薄型化及び
小型化も可能になる。
As described above in detail, according to the first aspect of the present invention, the lead wires can be directly connected to the electrodes of the CCD semiconductor chip by the conductive adhesive. In addition, the device itself can be made thinner and smaller. Further, along with this, thinning and miniaturization at the time of mounting become possible.

【0044】第2の発明であるCCD用半導体装置によ
れば、上記第1の発明において、リード配線を光学ガラ
スの面領域内に配設し、且つ該リード配線の外部引き出
し部を光学ガラスの一辺側に形成したので、装置の横幅
を短縮して、より一層小型化を可能にする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided the semiconductor device for a CCD according to the first aspect, wherein the lead wiring is disposed in a surface area of the optical glass, and the external lead portion of the lead wiring is formed of the optical glass. Since it is formed on one side, the width of the device can be reduced, and the size can be further reduced.

【0045】第3の発明であるCCD用半導体装置によ
れば、リード配線を光学ガラスの面領域内に配設し、且
つ該リード配線の外部引き出し部を光学ガラスの複数の
辺部に形成したので、リード配線長を第2の発明よりも
短縮することが可能になる。
According to the third aspect of the present invention, the lead wires are provided in the surface area of the optical glass, and the external lead portions of the lead wires are formed on a plurality of sides of the optical glass. Therefore, it is possible to shorten the lead wiring length as compared with the second invention.

【0046】第4の発明であるCCD用半導体装置の製
造方法によれば、従来よりも簡単な方法で、第1の発明
と同様の効果を有するCCD用半導体装置を製造するこ
とができる。
According to the method of manufacturing a semiconductor device for CCD according to the fourth invention, a semiconductor device for CCD having the same effect as that of the first invention can be manufactured by a simpler method than before.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態に係るCCD用半導体装
置の断面構造図である。
FIG. 1 is a sectional structural view of a CCD semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1に示したCCD用半導体装置の平面構造図
である。
FIG. 2 is a plan structural view of the CCD semiconductor device shown in FIG. 1;

【図3】図8に示した従来のCCD用半導体装置の実装
時の状態を示す図である。
FIG. 3 is a view showing a state when the conventional CCD semiconductor device shown in FIG. 8 is mounted.

【図4】図1に示した第1実施形態に係るCCD用半導
体装置の実装時の状態を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a state when the CCD semiconductor device according to the first embodiment shown in FIG. 1 is mounted.

【図5】本発明の第2実施形態に係るCCD用半導体装
置の断面構造図である。
FIG. 5 is a sectional structural view of a CCD semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図6】図5に示したCCD用半導体装置の平面構造図
である。
6 is a plan structural view of the CCD semiconductor device shown in FIG. 5;

【図7】図5に示した本実施形態に係るCCD用半導体
装置の実装時の状態を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a state when the semiconductor device for CCD according to the embodiment shown in FIG. 5 is mounted.

【図8】従来のSOPタイプのCCD用半導体装置の一
例を示す構造図である。
FIG. 8 is a structural view showing an example of a conventional SOP type CCD semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 CCD用半導体チップ 11a 半導体基板 11b CCDセンサ部 11c 電極 12 光学ガラス 13 リード配線 13a,13b 外部引出し部 14 絶縁性粘着テープ 16 導電性接着剤 17 封止用ポッティング樹脂 Reference Signs List 11 semiconductor chip for CCD 11a semiconductor substrate 11b CCD sensor part 11c electrode 12 optical glass 13 lead wiring 13a, 13b external lead-out part 14 insulating adhesive tape 16 conductive adhesive 17 sealing potting resin

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体基板の主面側にCCDセンサ部が
形成されたCCD用半導体チップと、前記CCD用半導
体チップよりも大きい面領域を持ち、前記CCD用半導
体チップと対向して設置されてそのCCDセンサ部に外
部より光信号を入力するための光学ガラスと、前記光学
ガラスに配設されたリード配線とを備え、 導電性接着剤によって前記リード配線を前記CCD用半
導体チップの電極に接続すると共に、前記リード配線の
外部引出し部として前記リード配線の一部を外部に露出
する形で、前記CCD用半導体チップ及び前記リード配
線を封止したことを特徴とするCCD用半導体装置。
1. A semiconductor chip for a CCD having a CCD sensor section formed on a main surface side of a semiconductor substrate, and a surface area larger than the semiconductor chip for a CCD. An optical glass for externally inputting an optical signal to the CCD sensor unit; and a lead wire provided on the optical glass, wherein the lead wire is connected to an electrode of the CCD semiconductor chip by a conductive adhesive. A semiconductor device for a CCD, wherein the CCD semiconductor chip and the lead wiring are sealed in such a manner that a part of the lead wiring is exposed to the outside as an external lead portion of the lead wiring.
【請求項2】 前記リード配線を前記光学ガラスの面領
域内に配設し、且つ該リード配線の前記外部引き出し部
を前記光学ガラスの一辺側のみに形成したことを特徴と
する請求項1記載のCCD用半導体装置。
2. The optical glass according to claim 1, wherein the lead wiring is disposed in a surface area of the optical glass, and the external lead portion of the lead wiring is formed only on one side of the optical glass. Semiconductor device for CCD.
【請求項3】 前記リード配線を前記光学ガラスの面領
域内に配設し、且つ該リード配線の前記外部引き出し部
を前記光学ガラスの複数の辺部に形成したことを特徴と
する請求項1記載のCCD用半導体装置。
3. The optical glass according to claim 1, wherein said lead wiring is disposed within a surface area of said optical glass, and said external lead portion of said lead wiring is formed on a plurality of sides of said optical glass. The semiconductor device for CCD described in the above.
【請求項4】 予め光学ガラスにリード配線を配設して
おき、 半導体基板の主面側にCCDセンサ部が形成されたCC
D用半導体チップに対向させて、前記CCDセンサ部に
外部より光信号を入力するように前記光学ガラスを設置
し、 前記CCD用半導体チップの電極と前記リード配線とを
導電性接着剤によって接着し、 前記リード配線の外部引出し部として前記リード配線の
一部を外部に露出する形で、前記CCD用半導体チップ
及び前記リード配線を封止したことを特徴とするCCD
用半導体装置の製造方法。
4. A CC having a CCD sensor portion formed on an optical glass in advance and having a CCD sensor formed on a main surface side of a semiconductor substrate.
The optical glass is installed so as to face the semiconductor chip for D so as to input an optical signal from the outside to the CCD sensor unit, and the electrodes of the semiconductor chip for CCD and the lead wires are adhered with a conductive adhesive. Wherein the CCD semiconductor chip and the lead wiring are sealed in such a manner that a part of the lead wiring is exposed to the outside as an external lead portion of the lead wiring.
Of manufacturing a semiconductor device for semiconductor devices.
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