JPH10512540A - Ｈ▲下２▼ｓをイオウに酸化する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 各段階がＨ₂Ｓのイオウへの選択的酸化を温度θ_S≦150℃まで促進させる触媒を含有している、連続して配置された３個の接触段階（２ａ、４ａ、５ａ）から構成される酸化ユニット（２ａ）が使用される。被処理ガス（１６）が、前記各段階に供給され、空気（５０、５３ａ、５５ａ）が、各段階へ注入される。前記ガスのＨ₂Ｓ分画が、２個の初期段階（３ａ、４ａ）の各段階で、前記各段階の出口でθ_S以下の温度が達成されるような量の空気で、断熱的にイオウへ酸化される。最終段階（５ａ）に供給されるガス中のＨ₂Ｓの全量が、θ_S以下の温度で、一定過剰量の空気で酸化される。本発明の方法は、イオウプラントの廃ガスの水素添加／加水分解によって生成されるＨ₂Ｓを含有するガスの処理に利用される。

Description

【発明の詳細な説明】 Ｈ₂Ｓをイオウに酸化する方法 本発明は、ガス中に０．７容量％〜３容量％の濃度で存在するＨ₂Ｓを完全に イオウに酸化する方法に関する。さらに、本発明は、本発明の方法を適用して、 イオウプラントの残留ガス中に存在するイオウ化合物を、イオウの形で実質的に 全回収する方法に関する。 遊離酸素を含むガスを利用して、Ｈ₂Ｓを含むサワーガスを酸化するクラウス 法でイオウを製造するイオウプラントから発生する残留ガスは、通常、４容量％ 以下のイオウ化合物を含有していて、その大部分はＨ₂Ｓであり、その残りはＳ Ｏ₂、ＣＯＳ、ＣＳ₂、およびイオウ蒸気、および／または胞状イオウである。 通常、かかる残留ガスは、大気汚染に関する規制による基準値を遵守し、同時 にイオウプラントで処理されるサワーガスから形成される高品質の製品の収量向 上に寄与する形でこれらのイオウ化合物を回収するべく、イオウ化合物の全含量 をできるだけ低減させるため、燃焼させた後、大気中に排出処理されている。 クラウスイオウプラントからの残留ガスを処理する種々の方法が知られている が、特に、残留ガスに含まれるイオウ化合物をＨ₂Ｓだけに転換するために、残 留ガスに、水素添加および加水分解を併用した処理を施し、次いでこの併用処理 によって形成された流出物を適当な温度に冷却し、最後に冷却した気体流出物か らＨ₂Ｓを除去する処理が知られている。Ｈ₂Ｓを除去するこの方法は、再生され 得る選択的溶媒によるＨ₂Ｓの吸収、あるいはＨ₂Ｓのイオウへの接触酸化によっ て実施される。 上述した方法の一つである、Ｈ₂Ｓを接触酸化してイオウにして除去する方法 は、引用したＦＲ−Ａ−２７０２６７４に記載されている方法であって、イオウ プラントから発生する残留ガスを水素添加と加水分解で併用処理した後、この併 用処理によって形成され、且つ唯一のイオウ化合物としてＨ₂Ｓを含む気体流出 物を前記流出物中の水の露点と１８０℃の間の温度に冷却し、冷却した流出物を 、遊離酸素を含有する気体の存在下、Ｈ₂Ｓのイオウへの選択的酸化を促進する 酸化触媒と接触させ、この接触処理の間、前記気体流出物中に存在するＨ₂Ｓを 、実質的に定量的にイオウに酸化し、そして形成されたイオウの実質的に全量を 酸化触媒上に沈着させるため、反応を前記露点と １８０℃の間に維持される温度で実施することから成る。 本発明によれば、０．７〜３容量％の間の濃度でガス中に存在するＨ₂Ｓをイ オウへ完全接触酸化する方法が提供されるが、この方法は、酸化触媒の温度をよ り効率的に制御し、且つ酸化触媒と接触させてＨ₂Ｓを接触酸化する間、イオウ への選択性を最適に維持することを可能にするという意味で、引用したＦＲ−Ａ −２７０２６７４に記載されている方法の接触酸化工程の改良を含む。引用した ＦＲ−Ａ−２７０２６７４に記載されているイオウプラントの残留ガスを処理す る方法によるＨ₂Ｓの接触酸化段階を、本発明による改良されたＨ₂Ｓの接触酸化 法に替えることによって、イオウプラントからの残留ガスの改良された処理方法 となり、この改良方法によって、イオウプラントと、このイオウプラントからの 残留ガスを処理するプラントを連結させ、サワーガスを処理する複合装置が可能 となり、イオウの全回収率を少なくとも９９．９％に達成させることができる。 ガス中に０．７〜３容量％の濃度で存在するＨ₂Ｓをイオウへ完全酸化する本 発明による方法は、連続して配置された複数の接触酸化段階において実施される が、この接触酸化段階は、 初期段階と最終段階、および必要により少なくとも１個の中間段階を含み、各段 階はＨ₂Ｓをイオウへ選択的酸化するのを促進させ、且つ酸化により形成される イオウの露点以下で作用する触媒を含み、Ｈ₂Ｓを含有する被処理ガスが、初期 接触酸化段階の入口に導入され、前記ガスが、酸化触媒と接触しながら接触酸化 段階の各段階を順次通過し、さらに各接触酸化段階において、この段階を通過す るガス中のＨ₂Ｓを少なくとも部分的にイオウに酸化するために、遊離酸素を含 むガスが前記接触酸化段階の各々へ注入され、遊離酸素を含むガス中の酸素によ って、形成されたイオウが、各接触酸化段階の触媒上に沈着され、そしてＨ₂Ｓ の残留含量が低い精製ガスが最終接触酸化段階の出口で除去されるように操作さ れ、そして各接触酸化段階に入る前に、Ｈ₂Ｓを含有するガスが８０℃〜１００ ℃の範囲の温度に維持されること、初期接触酸化段階、および任意である中間段 階の各々に導入される遊離酸素を含むガスの量が、断熱的に作用する前記接触酸 化の各段階の出口での気体混合物の温度が、酸化触媒がＨ₂Ｓのイオウへの選択 的酸化を促進することができ、且つ１５０℃を越えない温度範囲の最高温度θ_S 以下の温度になるように制御されること、前記最終接触酸化段 階に流入するＨ₂Ｓの全酸化に伴う精製ガス中に既定過剰量の酸素を供給するた めに、最終接触酸化段階に導入される遊離酸素を含むガスの量が制御されること 、そして最終接触酸化段階のＨ₂Ｓの酸化が、前記温度θ_S以下で、且つ１５０℃ を越えない温度で実施され、必要に応じて、前記最終接触段階を低温流体による 間接熱交換で冷却することを特徴とする。 Ｈ₂Ｓを含むガス、即ち、Ｈ₂Ｓを含む被処理ガス、あるいは最終接触酸化段階 の前の接触酸化段階の各段階から発生するＨ₂Ｓを含む気体混合物が、接触酸化 段階に注入される前に、８０℃〜１００℃の範囲の温度にするために、適当な温 度の流体による接触酸化段階の外部からの間接熱交換法が実施される。 各接触酸化段階に導入される遊離酸素を含むガスが、この問題とする接触酸化 段階へ供給されるＨ₂Ｓを含むガスとは別に、該接触酸化段階に供給される。然 しながら、これらの気体が接触酸化段階へ導入される前に、これらの気体を予備 混合して、前記接触酸化段階に存在する触媒と接触させている間均質な反応混合 物を形成することが好ましい。かかる予備混合は、好ましくは、接触酸化段階の 外部の間接熱交換工程前に実施されるが、これは、Ｈ₂Ｓを含むガスを該当する 接触酸化段階に導入 する前に、８０℃〜１００℃の間の温度に維持するためである。 接触酸化段階の各段階に導入される、遊離酸素を含むガスは、通常、空気であ るが、純粋酸素、あるいは他の酸素−富化空気、若しくは酸素、および窒素以外 の１つ又は数種の不活性ガスとの種々の比率の混合物も使用できる。 遊離酸素を含むガス、および接触酸素段階の各段階のＨ₂Ｓを含むガスとによ って形成される気体反応混合物と接触酸化段階に存在する酸化触媒との接触時間 は、０．５秒〜１５秒の範囲、より好ましくは１秒〜１０秒の範囲であって、こ れらの値は、温度、および圧力の標準条件で与えられる。 接触酸化の最終段階に導入される遊離酸素を含むガスの量は、前記最終段階に 入る、Ｈ₂Ｓを含むガス中に存在するＨ₂Ｓの全部をイオウに完全に酸化するのに 必要な理論量に対して過剰量である。前記過剰量は、この理論量の１５倍まで増 加できる。 接触酸化ユニットの種々の接触酸化段階は、同じ酸化触媒、あるいは他方の接 触酸化段階とは異なる酸化触媒を含み得る。また、各接触酸化段階において、単 一の酸化触媒、あるいは数種の接触酸化触媒を使用することができ、これらの触 媒は、混 合物としてあるいは重層形状において使用される。 酸化触媒、あるいは接触酸化ユニットの各接触酸化段階に存在する各酸化触媒 は、酸素の作用下にＨ₂Ｓのイオウへの選択的転換を促進することができる、即 ち、Ｈ₂Ｓ＋１／２Ｏ₂→Ｓ＋Ｈ₂Ｏの反応を促進することができ、１５０℃を越 えない温度、例えば、９０℃〜１３０℃で定量的に産生することができる種々の 触媒から選択され、形成されたイオウは触媒上に沈着される。 特に、Ｈ₂Ｓをイオウへ選択的に酸化する触媒は、例えば、ボーキサイト、活 性化および／または安定化アルミナ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、シリカ、 ゼオライト、シリカ／アルミナ混合物、シリカ／酸化チタン混合物、シリカ／酸 化ジルコニウム混合物、耐火カーバイド等の耐火材の支持体、活性炭素支持体上 に沈着された、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｗ、および Ｖ等の遷移金属の１種以上の酸化物および／または１種以上の塩から成る活性層 から構成される。酸化触媒は、可成りの量のイオウを負荷することができる容積 の細孔を有している。触媒の細孔容積は、有利には、触媒１００ｇ当り、１５ｃ ｍ³〜７０ｃｍ³である。金属の重量として計算 される活性層は、酸化触媒の重量当り、０．１％〜１５％，より好ましくは０． ２％〜７％である。 接触酸化ユニット内で、Ｈ₂Ｓをイオウに最適効率で接触酸化するためには、 前記ユニット内でＨ₂Ｓを酸化する工程の間、接触酸化ユニットの各接触酸化段 階に存在する酸化触媒が、酸化触媒がＨ₂Ｓのイオウへの選択的酸化を促進する ことができる範囲の最高温度θ_Sで、且つ１５０℃を越えない温度にすることが 必要である。１５０℃を越えないで、９０℃〜θ_Sの範囲の温度が、接触酸化ユ ニットの各接触段階でＨ₂Ｓをイオウへ酸化反応させるのに特に適している。 接触酸化の初期段階、および断熱的に作用する接触酸化の任意の中間段階にお ける酸化触媒の温度の維持は、前記接触酸化の各段階に導入される遊離酸素を含 むガスの量を制御することによって実施される。接触酸化ユニットから放出され る精製ガス中のＨ₂Ｓの全量を除去するために一定過剰量の酸素で操作される最 終接触酸化段階は、前記最終段階に入るガスのＨ₂Ｓ含量が、この最終段階から 放出される反応混合物の温度が、Ｈ₂Ｓのイオウへの酸化の終了時で、θ_S以下で 、且つ１５０℃を越えない場合、断熱的に作用する。最終接触酸化段階に入る ガスのＨ₂Ｓ濃度は、前記段階におけるＨ₂Ｓのイオウへの酸化から形成される反 応混合物の温度を、酸化触媒がもはやＨ₂Ｓのイオウへの酸化に必要な選択性を 保持することができない温度である上述の最高温度以上に上昇させる傾向がある 場合は、前記イオウへの選択性を維持するため選択された値で酸化反応を実施す る温度を維持するために、最終接触酸化段階の触媒を周知の方法で冷却して、前 記酸化反応から発生する熱エネルギーが除去される。例えば、前記冷却は、最終 酸化段階の中の触媒の間接的熱交換として循環している低温流体によって行なう ことができる。 接触酸化ユニット内におけるＨ₂Ｓのイオウへの酸化の間、前記ユニットの接 触酸化段階内の触媒には、徐々にイオウが負荷される。イオウが負荷された酸化 触媒の再生は、接触酸化段階の触媒に保持されているイオウを蒸発させるために ２００℃〜５００℃の間の温度、例えば２５０℃〜４５０℃の範囲の温度で、前 記触媒を非酸化性のガスで規則的な間隔でパージすることによって実施され、つ いで、再生された触媒は、適当な温度のガスによって、酸化反応に再度使用する のに必要な温度にまで冷却される。冷却剤は、任意に、少なくとも再生触媒の冷 却の最終段階の間は、水蒸気が負荷される。 接触酸化ユニットの接触酸化段階のイオウが負荷された酸化触媒の再生に使用 されるパージガスは、例えば、メタン、窒素、ＣＯ₂、あるいはこれらの混合ガ ス、あるいは被処理ガスの分画から成り得る。上述した再生に使用されるパージ ガスは、少なくとも、再生の最終段階の間、即ち接触酸化ユニットの接触酸化段 階の触媒に沈着されたイオウの大部分を蒸発させた後、気体性還元化合物、例え ばＨ₂、ＣＯ、あるいはＨ₂Ｓをある比率で含んでいてもよい。 被処理ガス中のＨ₂Ｓの酸化は、連続して配置されていて、初期段階、および 任意である１つ、または複数の中間段階によって分離されている最終段階を含む 複数の接触酸化段階を備えていて、接触酸化ステージ、および再生／冷却ステー ジとして交番で操作される単一の接触酸化ユニット内で実施される。操作は、有 利には、前述したような多数の接触酸化ユニットを使用して実施され、前記ユニ ットの少なくとも１個が再生／冷却ステージであり、他のユニットが接触酸化ス テージであるような方法で操作される。また、上述したタイプの複数の接触酸化 ユニット内で操作することもできるが、この場合、前記ユニッ トの１つ以上が接触酸化ステージで、少なくとも１つが再生ステージで、そして 少なくとも１つのユニットが冷却ステージである。 接触酸化ユニットの接触酸化段階内に含まれる触媒の再生に利用されるガスは 、好ましくは、加熱領域から出発して、再生工程中の接触酸化ユニットの接触酸 化段階を順次通過し、そして前記ガス中に存在するイオウの大部分が凝縮によっ て分離される冷却領域を通過し、加熱領域に返還されるべく閉回路内を循環する 。再生ガスは、無論、開回路を循環させることもできる。 再生触媒を冷却するのに使用されるガスは、イオウが負荷された触媒の再生に 使用されるガスと同じでよい。再生ガス、および冷却ガス回路は、相互に独立し ていてよい。然しながら、一態様によって、上記定義した再生ガス回路は、冷却 領域からの出口から再生工程中の接触酸化ユニットの入口に連結し、加熱領域を バイパスする枝管を備えており、この構成によって、前記加熱領域を短絡させ、 再生ガスを冷却ガスとして使用することが可能になる。 本発明によって処理されるガスは、唯一のイオウ化合物とし てＨ₂Ｓを、０．７〜３容量％の濃度で含有している。Ｈ₂Ｓを含有する前記ガス は、種々の発生源から発生する。特に、かかるガスは、Ｈ₂Ｓが低含量の天然ガ ス、あるいは石炭、若しくは重油の気化によって発生する他のガスである。さら に特定すれば、本発明が適用されるガスは、イオウプラントからの残留ガスに水 素添加、および加水分解の併用処理を施して、前記残留ガス中に存在するイオウ 化合物の全部をＨ₂Ｓへ転換する工程によって発生するガスである。 通常触媒の存在下で達成される水素添加と加水分解との併用処理工程の間、残 留ガス中に存在するＳＯ₂、ＣＳ₂、およびＣＯＳ等のイオウ化合物、およびイオ ウ蒸気および／または胞状イオウが、水素の作用下で（ＳＯ₂、およびイオウ蒸 気および／または胞状イオウの場合）、あるいは加水分解によって（ＣＯＳ、お よびＣＳ₂の場合）酸性残留ガス中に存在する水蒸気の作用によってＨ₂Ｓに転換 される。水素添加と加水分解の併用処理は、約１４０℃〜５５０℃の範囲、好ま しくは約２００℃〜４００℃の範囲の温度で実施される。水素添加反応に必要な 水素は、残留ガス中に既に存在しているか、あるいは水素添加および加水分解領 域で現場（in situ）製造される。例 えば、残留ガスがこれらの反応体を含むか、あるいは水素の外部源から残留ガス に添加される場合は、ＣＯとＨ₂Ｏとの反応によって製造される。残留ガスへＨ₂ およびＣＯを供給する便利な方法は、化学量論以下で操作する燃料ガスバーナで 製造される燃焼ガスを、前記残留ガスに添加することから成る。使用される水素 の量は、水素添加、および加水分解される残留ガス中に存在するＳＯ₂、イオウ 蒸気および／または胞状イオウ等の水素化され得るイオウ化合物、あるいは生成 物を完全にＨ₂Ｓへ転換するのに十分な量でなければならない。実際上、使用さ れる水素の量は、残留ガス中に存在する水素化可能なイオウ−含有生成物をＨ₂ Ｓに転換するのに必要な理論量の１〜６倍である。 残留ガスが、有機イオウ化合物ＣＯＳ、およびＣＳ₂を加水分解するのに十分 な水蒸気を含有していない場合、水素添加、および加水分解の併用処理が実施さ れる前に、必要量の水蒸気が添加される。 水素添加、および加水分解のために使用される触媒は、周期規律表のＶａ、Ｖ Ｉａ、およびＶＩＩＩ属の金属、例えばコバルト、モリブデン、クローム、バナ ジウム、トリウム、ニッケ ル、タングステン、あるいはウラニウム等の金属の化合物を含んでいて、これら の化合物は、シリカ、アルミナ、あるいはシリカ／アルミナタイプの支持体上に 沈着されている。アルミナに沈着させた酸化コバルトおよび酸化モリブデン系水 素化脱硫触媒が、水素添加、および加水分解処理に特に効果的である。この水素 添加、および加水分解処理のための、気体反応混合物と触媒との接触時間は、十 分広範に変化させることができる。これらは０．５〜８秒の範囲、より好ましく は１〜５秒の範囲であって、これらの値は、圧力と温度の標準条件によって変化 され得る。 水素添加と加水分解の併用処理によって形成され、唯一のイオウ化合物として 通常、Ｈ₂Ｓを、上述した範囲の濃度で含んでいる気体排出物を、本発明による 方法を利用して処理して、Ｈ₂Ｓをイオウの形で回収することができる。 本発明は、イオウプラントからの残留ガスの処理法に包含される態様のうちの 一つである次の説明を読めば明らかになるだろう。添付図の単独図にダイアグラ ムで示したプラントにおいて、前記の処理法が使用される。 このプラントは、１つの水素化および加水分解反応器１およ び２つの接触酸化ユニット２ａおよび２ｂを組合せてあるものであり、その際、 本発明方法に使用される前記の接触酸化ユニットは平行に取り付けられていて、 そのそれぞれは連続して配置された３つの接触酸化段階を有していて、そのそれ ぞれのものにはイオウへのＨ₂Ｓの選択的酸化のための触媒が備えられている。 さらに正確には、接触酸化ユニット２ａは、初期段階３ａ、中間段階４ａおよび 最終接触酸化段階５ａからなるのに対し、接触酸化ユニット２ｂは、初期段階３ ｂ、中間段階４ｂおよび最終接触酸化段階５ｂからなる。 水素化および加水分解反応器１は、Ｈ₂ＳへのＳＯ₂およびイオウの水素化およ びＨ₂Ｓへの化合物ＣＯＳおよびＣＳ₂の加水分解のための触媒の固定床８によっ て互いに分離される入口６および出口７を備える。ガス送出導管９には、ガス／ ガス交換タイプの間接熱交換器１０のコールドサーキット、および燃料ガス送出 パイプ１２および空気送出パイプ１３を備える補助加熱用のインラインバーナー １１が取り付けられていて、このガス送出導管９は、水素化および加水分解反応 器１の入口６を、処理すべき残留ガスの源に、例えば示されていないイオウプラ ントの出口に接続する。水素化および加水分解反応器１の出口 ７は、ガスのための排出導管１４に延び、その際、前記の導管は、間接熱交換器 １０のホットサーキットを介して間接熱交換器１５の入口１５ａに接続され、そ の間接熱交換器１５の出口１５ｂは導管１６に延びる。 接触酸化ユニット２ａにおいて、初期接触酸化段階３ａは、イオウへのＨ₂Ｓ の選択的酸化を促進する触媒の固定床１９ａによって分離される第一末端１７ａ および第二末端１８ａを有する。中間接触酸化段階４ａは、イオウへのＨ₂Ｓの 選択的酸化の触媒の固定床２２ａによって分離される第一末端２０ａおよび第二 末端２１ａを有する。最終接触酸化段階５ａは、イオウへのＨ₂Ｓの選択的酸化 の触媒の固定床２５ａによって分離される第一末端２３ａおよび第二末端２４ａ を有する。初期接触酸化段階３ａの第二末端１８ａは、中間接触酸化段階４ａの 第一末端２０ａに隣接し、間接熱交換器２７ａが取り付けられている接続導管２ ６ａを介してこの第一末端２０ａと連絡する。同様に、中間接触酸化段階４ａの 第二末端２１ａは、最終接触酸化段階５ａの第一末端２３ａに隣接し、間接熱交 換器２９ａが取り付けられている接続導管２８ａを介してこの第一末端２３ａと 連絡する。 接触酸化ユニット２ｂにおいて、初期接触酸化段階３ｂは、イオウへのＨ₂Ｓ の選択的酸化を促進する触媒の固定床１９ｂによって分離される第一末端１７ｂ および第二末端１８ｂを有する。中間接触酸化段階４ｂは、イオウへのＨ₂Ｓの 選択的酸化の触媒の固定床２２ｂによって分離される第一末端２０ｂおよび第二 末端２１ｂを有する。最終接触酸化段階５ｂは、イオウへのＨ₂Ｓの選択的酸化 の触媒の固定床２５ｂによって分離される第一末端２３ｂおよび第二末端２４ｂ を有する。初期接触酸化段階３ｂの第二末端１８ｂは、中間接触酸化段階４ｂの 第一末端２０ｂに隣接し、間接熱交換器２７ｂが取り付けられている接続導管２ ６ｂを介してこの第一末端２０ｂと連絡する。同様に、中間接触酸化段階４ｂの 第二末端２１ｂは、最終接触酸化段階５ｂの第一末端２３ｂに隣接し、間接熱交 換器２９ｂが取り付けられている接続導管２８ｂを介してこの第一末端２３ｂと 連絡する。 接触酸化ユニット２ａの初期接触酸化段階３ａの第一末端１７ａは導管３０ａ を備え、この導管３０ａは、一方では、弁３２ａを備える導管３１ａを介して、 間接熱交換器１５から延びる導管１６に接続され、もう一方では、弁３４ａを備 える導 管３３ａを介して、導管３５に接続され、かつ導管３５それ自体は、ブロア３６ の吸込オリフィスに接続され、かつ導管３５中にはイオウ凝縮器３７が取り付け られている。 同様に、接触酸化ユニット２ｂの初期接触酸化段階３ｂの第一末端１７ｂは導 管３０ｂを備え、この導管３０ｂは、一方では、弁３２ｂを備える導管３１ｂを 介して、前記の導管１６に接続され、もう一方では、弁３４ｂを備える導管３３ ｂを介して、イオウ凝縮器３７と導管３３ａとの間に位置する導管のポイントで 、前記の導管３５に接続される。 接触酸化ユニット２ａの最終接触酸化段階５ａの第二末端２４ａは導管３８ａ を備え、この導管３８ａは、一方では、弁４０ａを備える導管３９ａを介して、 精製された残留ガスのための排出導管４１に接続され、もう一方では、弁４３ａ を備える導管４２ａを介して、ブロア３６の排出オリフィスから延びる導管４４ に接続される。導管４４は、ヒーター４５を通り、弁４７を備えヒーターを避け る枝管４６を有し、かつ導管４４は、ヒーターと、ヒーターの上流に位置する枝 管４６の部分との間に位置する弁４８も備える。 同様に、接触酸化ユニット２ｂの最終接触酸化段階５ｂの第 二末端２４ｂは導管３８ｂを備え、この導管３８ｂは、一方では、弁４０ｂを備 える導管３９ｂを介して、精製された残留ガスを排出するための前記の導管４１ に接続され、もう一方では、弁４３ｂを備える導管４２ｂを介して、枝管４６と 導管４２ａとの間の導管４４に接続される。 空気送出導管４９は、接触酸化ユニット２ａの初期接触酸化段階３ａおよび接 触酸化ユニット２ｂの初期接触酸化段階３ｂ中に空気を注入するために、制御可 能開放弁５１を備える導管５０を介して、熱交換器１５を通り導管１６に接続さ れる導管１４に接続される。空気送出導管４９は、付加的に、接触酸化ユニット ２ａの中間接触酸化段階４ａ中に空気を注入するために、制御可能開放弁５４ａ を備える導管５３ａを介して熱交換器２７ａの上流の導管２６ａに接続される枝 管接続部５２ａを有し、その際、前記の枝管接続部５２ａは、接触酸化ユニット ２ａの最終接触酸化段階５ａ中に空気を注入するために、制御可能開放弁５６ａ を備える導管５５ａを介して熱交換器２９ａの上流の導管２８ａにも接続されて いる。導管４９は、接触酸化ユニット２ｂの中間接触酸化段階４ｂ中に酸素を注 入するために、制御可能開放弁５４ｂを備える導管５３ｂを介して熱交 換器２７ｂの上流の導管２６ｂに接続される枝管接続部５２ｂも有し、その際、 前記の枝管接続部５２ｂは、接触酸化ユニット２ｂの最終接触酸化段階５ｂ中に 空気を注入するために、制御可能開放弁５６ｂを備える導管５５ｂを介して熱交 換器２９ｂの上流の導管２８ｂにも接続されている。 その感応素子が接触酸化ユニット２ａの初期接触酸化段階３ａの末端１８ａ中 に配置されている温度調節器５７ａおよびその感応素子が接触酸化ユニット２ｂ の初期接触酸化段階３ｂの末端１８ｂ中に配置されている温度調節器５７ｂは、 前記初期接触酸化段階３ａまたは前記初期段階３ｂ中に導入される空気の流量を 調節することができる導管５０に取り付けられた弁５１の開放の制御を、および 従って、これらの段階の出口における温度の選択された値での保持を提供する。 その感応素子が接触酸化ユニット２ａの中間接触酸化段階４ａの末端２１ａ中に 配置されている温度調節器５８ａは、空気注入導管５３ａ中に配置される弁５４ ａの開放の制御を提供して、前記中間段階の出口での温度を必要な値で保持する 。同様に、その感応素子が接触酸化ユニット２ｂの中間接触酸化段階４ｂの末端 ２１ｂ中に配置されている温度調節器５８ｂは、空気注入導管５３ｂ 中に配置される弁５４ｂの開放の制御を提供して、前記中間段階の出口での温度 を適当な値で保持する。酸素含量調節器５９は、導管３９ａおよび３９ｂの下流 の精製された残留ガスのための排出導管４１に取り付けられ、接触酸化ユニット ２ａの最終接触酸化段階５ａ中に空気を注入するための導管５５ａに取り付けら れた弁５６ａの開放、またはその他に接触酸化ユニット２ｂの最終接触酸化段階 ５ｂ中に空気を注入するための導管５５ｂに取り付けられた弁５６ｂの開放を制 御し、その際、これは、前記最終接触酸化段階５ａまたは前記最終段階５ｂ中に 導入される過剰な空気の流量の調節を提供する。その感応素子が接触酸化ユニッ ト２ａの最終接触酸化段階５ａの末端２４ａ中に配置されている温度調節器６０ ａおよびその感応素子が接触酸化ユニット２ｂの最終接触酸化段階５ｂの末端２ ４ｂ中に配置されている温度調節器６０ｂは、最終段階５ａまたは最終段階５ｂ における温度を必要な値で保持することを可能にする。 接触酸化ユニット２ａの最終接触酸化段階５ａ並びに接触酸化ユニット２ｂの 最終接触酸化段階５ｂは、触媒床の温度を保持するためのシステムを備えていて よく、その際、前記のシステムは、任意の公知のタイプのものであること、およ び例えば、 前記最終段階に存在する触媒床内に配置されかつ適当な温度で液体がそれを通る コイルからなることが可能である。 弁６２を備える枝分かれ導管６１は、熱交換器１５と導管１６および導管３１ ａの接合部との間に位置するこの導管のポイントにおいて導管１６を、ブロア３ ６とイオウ凝縮器３７との間に位置するこの導管３５中のポイントにおいて導管 ３５に接続する一方、弁６４を備えるパージ導管６３は、ブロア３６とヒーター ４５との間に位置する導管のポイントにおいて導管４４を、熱交換器１０の上流 に位置する導管９のポイントにおいて導管９に接続する。 前記プラントの操作は、次のように簡単に概説することができる。 弁３２ａ、４０ａ、３４ｂ、４３ｂ、５４ａ、５６ａおよび４８が開いている 一方、弁３４ａ、４３ａ、３２ｂ、４０ｂ、５４ｂ、５６ｂおよび４７が閉じて いて、かつバランス弁６２及びパージング弁が開いている場合、接触酸化ユニッ ト２ａが反応相にあり、かつ接触酸化ユニット２ｂが再生相にあることが仮定さ れる。 導管９を介してイオウプラントから送出された残留ガスは、 熱交換器１０を通り、次いでバーナー１１を通り、その際、バーナー１１におい て、残留ガスは、このバーナーによって製造された燃焼ガスと混合され、このバ ーナーは、パイプ１２を介して送出された燃料ガスの燃焼を、パイプ１３を介し て送出された空気を用いて行うが、その間、熱エネルギーの他に適当な量のＨ₂ およびＣＯを提供するために、化学量論以下で操作する。残留ガスがバーナー１ １を通る際に、残留ガスは、燃焼ガスによって、水素化および加水分解に必要な 温度、例えば２００℃〜４００℃まで加熱され、同時に、燃焼の間に製造された 水素およびＣＯも受け取る。残留ガスとバーナー１１から生じる燃焼ガスとの熱 い混合物は、Ｈ₂ＳへのＳＯ₂およびイオウ元素の水素化並びにＨ₂Ｓへの化合物 ＣＯＳおよびＣＳ₂の加水分解を促進することができる適当な量の触媒を含有す る水素化および加水分解反応器１中に流れ、その際、前記の触媒は、例えばコバ ルトおよびモリブデンをベースとする。反応器１中で、残留ガス中に存在するＨ₂ Ｓ以外のイオウ化合物は、実質的に完全にＨ₂Ｓに変えられる。導管１４を介し て、その温度が２８０℃〜４５０℃の程度である反応器１を出るガス流出物は、 次いで、導管９を介して流れる残留ガスを加熱する熱交換 器１０中に流れ、次いで、ガス流出物に、初期量の空気を、導管５０を介して制 御可能開放弁５１を通して添加し、こうして形成された混合物を熱交換器１５中 で冷却して、前記熱交換器１５の出口で、その温度が８０℃〜１００℃の範囲で ある冷却された初期反応ガス混合物を得る。 前記の初期ガス反応混合物は、導管１６および導管３１ａおよび導管３０ａを 介して、接触酸化ユニット２ａの初期接触酸化段階３ａ中に導入される。この初 期接触酸化段階３ａにおいて、初期接触酸化段階３ａに入った初期ガス反応混合 物のＨ₂Ｓフラクションは、この段階に存在する酸化触媒と接触して、この反応 混合物中に存在する空気によって選択的にイオウに酸化され、その際、形成され たイオウは触媒上に析出される。酸化は、初期段階３ａへ送出される空気の量を 調節しながら断熱的に実施され、その際、前記の調節は、弁５１を作動させる温 度調節器５７ａによって提供され、その際に、酸化の結果得られるガス混合物の 温度が、それより高いと酸化触媒がイオウに対する必要な選択性をもはや有しな い最大温度θ_Sと最も等しい値で保持されるという結果を伴う。熱交換器２７ａ 中で８０℃〜１００℃の範囲の温度まで冷却後に接触酸化ユニット ２ａの中間段階４ａ中に導入される中間反応混合物を構成するために、初期接触 酸化段階３ａから導管２６ａを介して生じるガス混合物に、熱交換器２７ａの上 流で、導管５３ａを介して制御可能開放弁５４ａを通して送出される中間量の空 気を添加した。この中間段階４ａにおいて、中間段階４ａに入る中間ガス反応混 合物中にまだ存在しているＨ₂Ｓのフラクションは、この段階に存在する酸化触 媒と接触して、この中間反応混合物中に存在する空気によって選択的にイオウに 酸化され、その際、形成されたイオウは触媒上に析出される。酸化は、中間段階 ４ａに送出される空気の量を調節しながら断熱的に実施され、その際、前記の調 節は、弁５４ａを作動させる温度調節器５８ａによって提供され、その際に、酸 化の結果得られるガス混合物の温度が、それより高いと酸化触媒がイオウに対す る必要な選択性をもはや有しない最大温度θ_Sと最も等しい値で保持されるとい う結果を伴う。熱交換器２９ａ中で８０℃〜１００℃の範囲の温度まで冷却後に 接触酸化ユニット２ａの最終段階５ａ中に導入される最終反応混合物を構成する ために、中間接触酸化段階４ａから導管２８ａを介して生じるガス混合物に、熱 交換器２９ａの上流で、制御可能開放弁５６ａを通して導管５５ ａを介して送出される最終量の過剰の空気を添加した。この最終段階５ａにおい て、最終段階５ａに入る最終ガス反応混合物中に存在するＨ₂Ｓの全ては、この 段階に存在する酸化触媒と接触して、この反応混合物中に存在する過剰の空気に よって選択的にイオウに酸化され、その際、形成されたイオウは触媒上に析出さ れる。最終接触酸化段階５ａに送出された過剰の空気は、反応によって形成され かつ触媒上に析出されるイオウと接触してＳＯ₂を形成せずに、前記最終段階中 へ流れる反応ガス混合物中に存在するＨ₂Ｓを完全に除去することを保証するよ うに選択される。前記の過剰の空気の制御は、精製された残留ガスを排出するた めの導管４１に取り付けられかつ弁５６ａを作動する酸素含量調節器５９によっ て提供される。最終段階５ａ中の温度は、θ_Sに最も近いが、もしθ_Sがこの温度 より高い場合には１５０℃を越えない。最終段階５ａの酸化温度の保持は、温度 調節器６０ａによって保証されうる。もし必要であれば、最終段階５ａにおける 酸化温度の保持を容易にするために、この段階に存在する触媒床を、例えば触媒 床内の導管中での冷却液体循環を用いる間接熱交換または他の任意の公知の方法 により冷却してもよい。 実質的に完全に精製された残留ガスは、導管３８ａを介して出て、弁４０ａを 通り導管３９ａを介して、精製された残留ガスのための排出導管４１中に注がれ る。 非酸化性のパージングガス流が、ブロア３６によって、弁４８およびヒーター ４５を通って導管４４中に送出され、その際、ヒーター４５中で、このガス流は 、再生のために適当な温度まで加熱される。導管４４中を移動する加熱されたガ ス流は、導管４２を介して、弁４３ｂおよび導管３８ｂを通って接触酸化ユニッ ト２ｂ中に導入され、接触酸化ユニット２ｂの段階５ｂ中に存在するイオウ負荷 酸化触媒２５ｂを先ず第一にパージし、次いで、導管２８ｂを介して流した後に 、これは接触酸化ユニット２ｂの段階４ｂ中に存在するイオウ負荷酸化触媒２２ ｂをパージし、最後に、導管２６ｂを介して流した後に、これは接触酸化ユニッ ト２ｂの段階３ｂのイオウ負荷酸化触媒１９ｂをパージする。気化したイオウを 持ち去るパージングガス流は、導管３０ｂを介して接触酸化ユニット２ｂを出て 、弁３４ｂを通り導管３３ｂを介して、イオウのほとんどが凝縮によって分離さ れるイオウ凝縮器３７まで流れる。パージングガス流は、凝縮器３７の出口で、 ブロア３６によって再び捕らえ られ、前記のようにして導管４４中に送出される。 触媒上に析出したイオウを完全に除去するために、ヒーター４５中を流れるパ ージングガスにより、接触酸化ユニット２ｂ中に存在する触媒を十分な期間パー ジングした後に、弁４７を開き、弁４８を閉じて、ヒーター４５を避け、パージ ングガスの温度を低めるようにし、かつ接触酸化ユニット２ｂの接触酸化段階３ ｂ、４ｂおよび５ｂ中に存在する再生された触媒１９ｂ、２２ｂおよび２５ｂを 冷却するために、パージングを適当な期間続ける。 前記の触媒を、反応相で再びそれを使用可能にする適当の温度まで冷却した後 で、接触酸化ユニット２ａおよび２ｂの機能を入れ替える。すなわち、弁３２ａ 、４０ａ、３４ｂ、４３ｂ、４７、５４ａおよび５６ａを閉じ、弁３４ａ、４３ ａ、３２ｂ、４０ｂ、４８、５４ｂおよび５６ｂを開くことにより、接触酸化ユ ニット２ｂは接触酸化相に、接触酸化ユニット２ａは再生／冷却相になる。接触 酸化ユニット２ａおよび２ｂの機能の切換の過渡期の間、パージングガスを、こ れらのユニットを迂回する示されていない導管中で循環する。 前記した本発明による方法の使用を包含する処理についての 記載を完全なものにするために、前記処理の具体例を次に示すが、限定されるも のではない。実施例 ： 添付図の図中にダイアグラムで示したものと同様の、前記のように操作するプ ラントを用いることにより、容量％で次の組成を有するイオウプラントからの残 留ガスを処理した： Ｈ₂Ｓ：０．７６ ＳＯ₂：０．３８ ＣＯ₂：２．１０ Ｈ₂Ｏ：３３．５１ Ｎ₂：６０．１０ Ｈ₂：２．７２ ＣＯ：０．３４ Ｓ₁：０．０７ ＣＯＳ：０．０１ ＣＳ₂：０．０１。 前記の残留ガスは、９０容量％のＨ₂Ｓ、５．４容量％のＣＯ₂、４容量％の水 および０．６容量％の炭化水素からなるサワーガスの制御された酸化を空気を用 いて実施する、クラウ スイオウプラントから生じた。 処理を行う残留ガスを供給するイオウプラントの回収率は９６．３％であった 。 水素化および加水分解反応器は、Ｈ₂Ｓへの化合物ＣＯＳおよびＣＳ₂の加水分 解とＨ₂ＳへのＳＯ₂およびイオウ蒸気の水素化の双方を促進する触媒を含有した が、その際、前記の触媒は、アルミナ担体上のコバルト／モリブデンタイプの触 媒であった。 接触酸化ユニットのそれぞれの３つの段階は、ニッケル４重量％を含有するア ルミナとニッケルからなる、酸素を用いるイオウへのＨ₂Ｓの選択的酸化のため の触媒をそれぞれ含有していて、その際、前記の触媒は、活性アルミナを水溶液 中の該当量の酢酸ニッケルに含浸させ、次いで含浸させたアルミナを１００℃で 乾燥させ、乾燥させた生成物を３００℃で３時間か焼させることにより得られた 。この触媒は、触媒１００ｇ当たり４６ｃｍ³の孔容積を有し、１２０℃のθ_S値 までイオウに対する必要な選択性を保持した。 水素化および加水分解反応器中に流れるガスと前記反応器中に存在する触媒と の接触時間は４秒であった。反応相において 操作する接触酸化ユニットの接触酸化段階のそれぞれに流れるガスと、問題とな るその段階中に存在する触媒との接触時間は、初期段階の場合２秒、中間段階の 場合３秒および最終段階の場合５秒の値を有した。 １９２ｋｍｏｌ／時間の流量および約１３２℃の温度で、導管９を介して送出 された残留ガスを、間接熱交換器１０およびバーナー１１を通した後に約３００ ℃まで加熱し、この温度で水素化および加水分解反応器１に入れた。 反応器１中で、Ｈ₂ＳへのＳＯ₂、Ｓ、ＣＯＳおよびＣＳ₂の転化は完全であり 、前記反応器１を出るガス流出物は３３０℃であり、１．２％の容量濃度でイオ ウ化合物としてＨ₂Ｓのみを含有した。流量が１９８ｋｍｏｌ／ｈであるこのガ ス流出物を、熱交換器１０を通すことにより第一の冷却に付し、次いでそれに空 気２．１ｋｍｏｌ／ｈを４０℃で導管５０を介して添加し、こうして形成された ガス混合物を、熱交換器１５を通すことにより９０℃まで冷却して、前記の温度 で、導管１６および次いで導管３１ａおよび３０ａを介して接触酸化ユニット２ ａの初期接触酸化段階３ａに導入される初期反応混合物を構成した。 この初期段階３ａにおいて、断熱的に操作する際に、Ｈ₂Ｓのフラクションは 選択的にイオウに酸化されたが、その際、前記のイオウは触媒上に析出した。前 記段階の出口の温度は１２０℃に達し、この温度を、導管５０を介して弁５１を 通って送出される空気の流量を調節するためにこの弁５１を作動させる温度調節 器５７ａによって、この値で保持した。初期段階３ａから生じるガス混合物に、 空気２．０８ｋｍｏｌ／ｈを、導管５３ａを介して弁５４を通って添加し、こう して得られた混合物を、熱交換器２７ａで９０℃まで冷却して中間反応混合物を 形成し、これを９０℃の温度で接触酸化ユニット２ａの中間段階４ａに導入した 。 この中間段階４ａにおいて、断熱的に操作する際に、Ｈ₂Ｓのフラクションは 選択的にイオウに酸化されたが、その際、前記のイオウは触媒上に析出した。前 記段階の出口の温度は１２０℃に達し、この温度を、導管５３ａを介して弁５４ ａを通って送出される空気の流量を調節するためにこの弁５４ａを作動させる温 度調節器５８ａによって、この値で保持した。中間段階４ａから生じるガス混合 物に、空気２．４ｋｍｏｌ／ｈを、導管５５ａを介して弁５６ａを通って添加し 、こうして得 られた混合物を、熱交換器２９ａで９０℃まで冷却して最終反応混合物を形成し 、これを、９０℃の温度で、接触酸化ユニット２ａの中間段階５ａに導入した。 前記の量の空気は、最終反応混合物中に存在するＨ₂Ｓをイオウに酸化するため に必要な空気の化学量論量の約１．５倍に相当する。 この最終段階５ａにおいて、最終反応混合物中に存在するＨ₂Ｓの全てがイオ ウに酸化され、その際、イオウは触媒上に析出した。１１２．５℃の温度であり 、０．００８％の酸素容量含有率を有する精製された残留ガスを、導管３８ａを 介して、接触酸化ユニット２ａの最終接触酸化段階５ａから排出し、前記の精製 されたガスを弁４０ａを通って導管３９ａを介して、精製された残留ガスのため の排出導管４１中に導いた。 導管４１を介して排出された精製された残留ガス中の前記酸素容量含有率に相 当する過剰な空気を、酸素含量調節器５９によって保持し、この際、酸素含量調 節器５９は、弁５６ａに作動して、この弁を通って導管５５ａを介して送出され る空気の流量を調節する。 導管４１を介して送出された処理された残留ガスは、今や、わずか痕跡量の、 すなわち２００容量ｐｐｍより少ないイオウ 化合物を含有する。 再生／冷却相において、接触酸化ユニット２ｂの接触酸化段階３ｂ、４ｂおよ び５ｂでイオウ負荷触媒の再生のために使用されるパージングガスを、２５０℃ 〜３５０℃の温度にした後に、導管３８ｂを介して前記接触酸化ユニット２ｂ中 に導入し、イオウ負荷触媒を接触酸化ユニット２ｂの最終段階５ｂ中で、中間段 階４ｂ中でおよび初期段階３ｂ中で連続的にパージした。次いで、再生相で、接 触酸化ユニット２ｂから導管３０ｂを介して生じるイオウ負荷パージングガスを 、再生循環のイオウ凝縮器３７中に流し、その中で、イオウ負荷パージングガス が含有しているイオウの大部分を分離するために約１２５℃まで冷却し、次いで これを再生に再び使用するためにヒーター４５に戻した。次いで、再生された触 媒を含有する接触酸化ユニット２ｂに、イオウ凝縮器３７から生じかつヒーター ４５を避ける枝管を介して移動するパージングガスを通すことにより、再生され た触媒を冷却した。 接触酸化ユニット２ａおよび２ｂを、反応相においては３０時間、および再生 ／冷却相においては冷却の１０時間を含めて３０時間、交互に操作した。 処理すべき残留ガスを供給するイオウプラント、および水素化および加水分解 反応器、およびイオウへのＨ₂Ｓの選択的酸化を促進する触媒の３つの段階をそ れぞれ含有しかつ本発明により操作する接触酸化ユニット２ａおよび２ｂを備え る組合わせユニットのイオウ収率は、９９．９％より高かった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 サバン−ポンセ，サビーヌ フランス国、エフ−64160・ビユロ、シユ マン・ドウ・ラングル（番地なし)

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． ガス中に０．７〜３容量％の濃度で存在するＨ₂Ｓをイオウへ完全酸化す る方法であって、操作を、初期段階と最終段階、および必要により少なくとも１ 個の中間段階を含み、連続して配置された複数の接触酸化段階を含む接触酸化ユ ニット内で実施し、各段階がＨ₂Ｓをイオウへ選択的に酸化するのを促進させ、 且つ酸化により形成されるイオウの露点以下で作用する触媒を含み、Ｈ₂Ｓを含 有する被処理ガスを初期接触酸化段階の入口に導入し、前記ガスを酸化触媒と接 触しながら接触酸化段階の各段階を順次通過させ、さらに各接触酸化段階におい て、遊離酸素を含むガス中の酸素によってこの段階を通過するガス中のＨ₂Ｓを 少なくとも部分的にイオウに酸化するために、遊離酸素を含むガスを前記接触酸 化段階へ注入し、形成されたイオウを各接触酸化段階の触媒上に沈着させ、そし てＨ₂Ｓの残留含量が低い精製ガスを最終接触酸化段階の出口で放出し、そして 各接触酸化段階に入る前に、Ｈ₂Ｓを含有するガスを８０℃〜１００℃の範囲の 温度に維持し、初期接触酸化段階、および任意の中間接触酸化段階に導入される 遊離酸素を含むガ スの量を、断熱的に作用する前記接触酸化の各段階の出口の気体混合物の温度が 、酸化触媒がＨ₂Ｓのイオウへの選択的酸化を促進することができ、且つ１５０ ℃を越えない温度範囲の最高温度θ_S以下の温度になるように制御し、前記最終 接触酸化段階を通過するＨ₂Ｓの全酸化に伴う精製ガス中に既定過剰量の酸素を 供給するように最終接触酸化段階に導入される遊離酸素を含むガスの量を制御し 、そして最終接触酸化段階のＨ₂Ｓの酸化を前記温度θ_S以下で且つ１５０℃を越 えない温度で実施し、必要に応じて、前記最終接触段階を低温流体による間接熱 交換で冷却することを特徴とする方法。 ２． Ｈ₂Ｓを含むガスを、適当な温度の流体による接触酸化段階の外部からの 間接熱交換によって、各接触酸化段階へ注入により導入される前に、８０℃〜１ ００℃の間の温度にすることを特徴とする請求項１に記載の方法。 ３． 遊離酸素を含むガス、およびＨ₂Ｓを含むガスを各接触酸化段階へ導入す る前に、それらのガスを予備混合することを特徴とする請求項１あるいは２に記 載の方法。 ４． 遊離酸素を含むガスが、ガスの温度を８０℃と１００℃の間にする間接熱 交換の前に、且つ各接触酸化段階へ導入され る前に、Ｈ₂Ｓを含むガスと予備混合されることを特徴とする請求項２に記載の 方法の方法。 ５． 接触酸化ユニットの各接触酸化段階に存在する、Ｈ₂Ｓをイオウへ選択的 酸化するための触媒が、触媒１００ｇ当り、１５ｃｍ³〜７０ｃｍ³の範囲の多孔 容積を有していることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法の 方法。 ６． 酸化触媒が、耐火材料の支持体、あるいは活性炭素支持体上に沈着された 、１つあるいは多数の遷移金属の１個以上の酸化物および／または１個以上の塩 から成る活性相から構成されるていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか １項に記載の方法の方法。 ７． 活性相が、金属の重量として計算して、酸化触媒の重量当り、０．１〜１ ５重量％、より特定すれば０．２〜７重量％であることを特徴とする請求項６に 記載の方法。 ８． 接触酸化ユニットが、３個の接触酸化段階、即ち中間段階によって分離さ れている初期段階、および最終段階を備えていることを特徴とする請求項１〜７ のいずれか１項に記載の方法の方法。 ９． 接触酸化ユニットの接触酸化段階中に存在する、イオウ が負荷された酸化触媒を、前記触媒を非酸化性ガスで連続パージすることによっ て再生し、且つこの操作を、前記触媒上に保持されているイオウを蒸発させるた め、２００℃と５００℃の間の温度、より特定すれば２５０℃と４５０℃の間の 温度で実施し、次いで再生された触媒を、適当な温度の冷却ガスによって接触酸 化反応に再利用するのに必要な温度に冷却するが、この際前記冷却ガスが少なく とも前記冷却の最終フェーズの間、任意に、水蒸気を含むことを特徴とする請求 項１〜８のいずれか１項に記載の方法の方法。 １０． 多数の接触酸化ユニットの少なくとも１個が再生／冷却相で、一方他方 のユニットが接触酸化相として、あるいは少なくとも１個の接触酸化ユニットが 再生相で、少なくとも１個の接触酸化ユニットが冷却相で、一方他方の接触酸化 ユニットが接触反応相であるように機能する多数の接触酸化ユニットを使用する ことを特徴とする請求項９に記載の方法。 １１． イオウプラントからの残留ガスを、前記残留ガス中に存在する全イオウ 生成物をＨ₂Ｓに転換するため、水素添加、および加水分解段階で処理すること によって得られる、０．７〜３容量％の濃度でＨ₂Ｓを含有するガスの処理への 請求項１ 〜１０のいずれか１項に記載の方法の適用。