JPH10509477A - 水性系用腐食抑制組成物 - Google Patents
水性系用腐食抑制組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
この発明は、(a)陽極ケイ酸塩;(b)ケイ酸塩安定剤;(c)陰極腐食抑制剤;および水から成る金属腐食抑制剤に関する。その腐食抑制組成物は重合性スケール抑制剤も含有することが望ましい。本発明は、解放水性系を腐食抑制組成物で処理する方法にも関する。
Description
【発明の詳細な説明】
水性系用腐食抑制組成物
技術分野
この発明は、(a)陽極ケイ酸塩;(b)ケイ酸塩安定剤;および(c)陰極
腐食抑制剤の混和物から成る金属腐食抑制組成物に関する。本発明は、解放水性
系をその腐食抑制組成物で処理する方法にも関する。
背景技術
冷却水系において軟鋼および銅に関して有効な腐食抑制組成物は種々ある。ケ
イ酸塩を除いて、典型的な腐食抑制剤は環境汚染物質と見なされてきた。例えば
、リン酸塩、亜硝酸塩、硝酸塩およびホウ酸塩は廃水から放出された時に藻類の
栄養素になる可能性がある。藻類のブルームは次に水の富栄養化を惹起する。ホ
スホネートも同様の挙動をとると考えられる。
解放冷却水腐食抑制用にクロム酸塩/亜鉛を基剤とした腐食抑制組成物は市販
されており、極めて有効である。しかしながら、重金属は発癌物質およびトキシ
ンとして確認されている。従って、環境に許容できる重金属の濃度は制限される
。環境意識の高まりと共に、重金属を主成分とした腐食抑制組成物は現在では許
容されない。
重金属を含有する腐食抑制組成物に高無機リン酸塩/有機リン酸塩が代用され
てきたが、今はリン酸塩の放出問題がある。これは、無機リン酸塩/有機リン酸
塩混合物の使用をもたらしてきた。無機リン酸塩/有機リン酸塩混合物を使用し
た時、それらは付着および/または点食のために注意もしなければならない。
飲料水回路に腐食抑制剤としてケイ酸塩を使用すること、そのケイ酸塩は無毒
で環境に無害であることが知られている。ケイ酸塩およびそれらと他の抑制剤、
例えば、硝酸塩、亜硝酸塩、正リン酸塩、モリブデン酸塩、アゾール、およびホ
ウ酸塩との混合物を密閉式自動冷却回路に使用して腐食の効果的な緩和ができる
ことも知られている。これは、密閉式冷却回路において蒸発による流体の著しい
損失がないから淡水を連続的に添加しないためである。その結果、蒸発によりも
たらされる流体の不純物は系に濃縮されない。
しかしながら、解放式の蒸発再循環冷却水回路におけるケイ酸塩の使用はクロ
ム酸塩/亜鉛、無機リン酸塩混合物、ホスホン酸亜鉛、および有機ホスホン酸塩
に比較して、成功しなかった。これは、解放式再循環冷却水回路において、蒸発
損失のために淡水が冷却用水に添加され、流体の不純物が蒸発のために濃縮され
るためである。かかる大量の再循環水からの損失は腐食抑制膜形成および膜の維
持に利用されるケイ酸塩抑制剤の量の減少ももたらす。
さらに、系の水のpHおよび温度における時間をかけた変化は系の水に自然に
生じる単量体ケイ酸塩から高分子ケイ酸塩の形成を促進する。これら高分子ケイ
酸塩は系の水中の腐食抑制組成物の機能を下げ、汚物の付着の可能性を増す。ま
た、点食および付着に対するケイ酸塩を主成分とした腐食抑制剤の性能はpHお
よび温度に敏感であることが知られているから、それらはケイ酸マグネシウムが
循環水と接触する金属表面に形成するのを促進すると考えられる。これらの問題
のために、解放冷却系にケイ酸塩を主成分とした腐食抑制組成物の使用に関して
疑いがある。
発明の開示
この発明は、
(a)腐食抑制剤組成物100部を基準にして、5.0〜30.0部の陽極ケ
イ酸塩;
(b)腐食抑制剤組成物100部を基準にして、1.0〜5.0部のケイ酸塩
安定剤;
(c)腐食抑制剤組成物100部を基準にして、0.5〜4.0部の陰極腐食
抑制剤;および
(d)腐食抑制剤組成物100部を基準にして、55〜95部の水;
の混和物から成り、重金属を含有せず、低リンを特徴とするケイ酸塩を基剤とし
た金属腐食抑制組成物に関する。この腐食抑制組成物は、腐食抑制剤組成物の1
00部を基準にして、0.5〜3.0部の重合性スケール抑制剤も含むことが望
ましい。
そのこの腐食抑制組成物は、重金属を含まず、且つ低リン、即ち被処理水を基
準にして0.8ppm以下、望ましくは0.6ppm以下であるので、環境に過
度のストレスを与えない。従って、それらは自然の水路に放出された時に環境へ
の影響は最少である。本発明の腐食抑制剤は単独でケイ酸塩より優れ、性能が解
放再循環冷却系におけるクロム酸塩および亜鉛を基剤とした腐食抑制剤に匹敵す
る。それらは陽極および陰極被動腐食を抑制する。それらは、環境水と接触する
金属表面にシリカまたは“ケイ酸マグネシウム”を余り形成することなくこの性
能を達成する。それらは特に解放冷却系に有用である。
また、本発明は解放水性系をその腐食抑制組成物で処理する方法に関する。
発明を実施するための最良の形態
主題の腐食抑制剤組成物は全ての系に使用できるが、特に解放系に有用である
。その腐食抑制剤組成物は特に軟鋼の腐食抑制に有用であるが、それらは他の鉄
およびアルミニウム、銅、鉛および亜鉛軸受合金を含む非鉄金属にも有用である
。該組成物は特にpHが6.5〜8.5、望ましくは7.0〜8.0の水性系に
有用である。
ケイ酸塩類
陽極ケイ酸塩類は典型的にSiO2をアルカリ金属の炭酸塩と溶融させること
によって製造される。そのケイ酸塩として、高pH水抽出物から分別結晶によっ
て単離されるケイ酸ナトリウム、特にメタケイ酸塩(Na2SiO3)およびオル
トケイ酸塩(Na4SiO4)が望ましい。使用できる他のケイ酸塩はアルカリ金
属(IA族)のケイ酸塩およびアンモニウムケイ酸塩である。使用されるケイ酸
塩の量は、腐食抑制剤組成物の100部を基準にして5〜30部、望ましくは1
0〜20部である。
ケイ酸塩安定剤
ケイ酸塩安定剤は重合性または非重合性にすることができる。非重合性ケイ酸
塩安定剤の例はホウ酸塩および正ホウ酸塩である。重合性ケイ酸塩安定剤を使用
することが望ましい。特定の重合性ケイ酸塩安定剤は米国特許第5,277,8
23号に記載されているものを含む。約1000〜25,000の重量平均分子
量を有する(メタ)アクリル酸またはマレイン酸またはその塩類の水溶性ターポ
リマーが特に有用である(そのターポリマーは米国特許第5,277,823号
に記載されている)。かかるターポリマーの特定例はRhom&Has社販売の
ACUMER5000(商品名)である。ケイ酸塩安定剤として、アクリル酸/
ヒドロキシル化低アルキル・アクリレートの共重合体、特に米国特許第4,02
9,577号に記載されているものも使用できる。使用されるケイ酸塩安定剤の
量は腐食抑制剤組成物の100部当たり1〜5部、望ましくは1.5〜4.0部
である。
重合性スケール抑制剤
重合性スケール抑制剤の重合体は、水性系における金属表面にスケールの形成
を抑制および/または防止することができる。重合性スケール抑制剤は(メタ)
アクリル酸およびマレイン酸を主成分とした重合体である。(メタ)アクリル酸
2−アクリルアミド−2メチルプロパンスルホン酸(AMPS)の共重合体およ
びターポリマーが硫酸塩、炭酸塩、およびリン酸塩によるスケールの抑制に特に
有用である。重合性スケール抑制剤の例は米国特許第3,332,904;3,
692,673;3,709,815;3,709,816;3,928,19
6;3,806,367;および3,898,037に記載されている。水性系
のスケールを効果的に防止する市販のターポリマーの特定例はRhom&Has
社販売のACUMER2000である。使用される重合性スケール抑制剤の量は
、腐食抑制剤組成物の100部当たり0.5〜3.0、望ましくは0.5〜1.
5部である。
陰極腐食抑制剤
典型的に使用される陰極腐食抑制剤は無機リン酸塩およびホスホネートである
。陰極腐食抑制剤としてホスホネート、特にヒドロキシホスホノ酢酸が望ましい
。陰極腐食抑制剤の量は、腐食抑制剤組成物中のリンの全量が腐食抑制剤組成物
の重量を基準にして4%以下(それは被処理水の量を基準にして0.8ppm.
望ましくは0.6ppm以下のリンになる)であるような量である。使用される
陰極腐食抑制剤の量は腐食抑制剤組成物100部当たり0.5〜4.0部、望ま
しくは1.0〜2.0部である。
水
腐食抑制組成物に使用される水の量は、腐食抑制組成物の100重量部を基準
に55〜95重量部、望ましくは60〜90重量部、最適には65〜85重量部
である。
典型的に、腐食抑制組成物はI部成分およびII部成分(ここでI部は陽極ケ
イ酸塩を含有し、II部はそのケイ酸塩安定剤、スケール防止重合体、陰極腐食
抑制剤、および水を含有する)として販売されている。そのI部およびII部は
従来の混合手段で混合される。水性系の処理に使用する腐食抑制組成物の量は、
被処理水のリッター当たり0.1mg/L〜500mg/L、望ましくは100
mg/L〜200mg/Lである。
略語および定義
実施例において次の略語が使用された:
ACUMER = 水溶性重合体のRohm&Haas社の商品名
AVE LPR = 平均直線偏光腐食速度(mpy)
CaH = CaCO3としてのCaのppm
CL = 塩素としての塩化物のppm
伝導率 = mmhos/cmで表示の伝導率
HPAA = ヒドロキシホスホノ酢酸(FMC BELCOR
575/50% AI)
mph = 腐食速度(mm/年)
M/ALK = CaCO3としての全アルカリ度(ppm)
SO4 = SO4としての硫酸塩(ppm)
SILICA = SiO2としてのppm
SIL OVER = SiO2としてのケイ酸塩オーバーレイ(ppm
)であって、ケイ酸塩オーバーレイは実施例で処
理される系の水に添加される単量体ケイ酸塩の量
である。
ケイ酸ナトリウムN = nNa2O・mSiO2(m:n≧2.5:3)
ケイ酸ナトリウムM = Na2O・mSiO2(m:n>2)
TH = CaCO3としての全硬度(ppm)
実施例
次の実施例において、腐食抑制組成物は表IIに示した量の成分を混合するこ
とによって調製した。対照例Aはケイ酸塩単独使用を示し、対照例Bはクロムお
よび亜鉛を含有する商的に使用されている配合を示す。実施例1はケイ酸塩、ケ
イ酸塩安定剤(ACUMER5000)、重合性スケール抑制剤(ACUMER
2000)、および陰極腐食抑制剤(HPAA)を含有する。全ての実験は、特
に断らない限り、飲料水を使用する解放式再循環蒸発冷却系へ腐食抑制組成物を
添加することによって行った。腐食はNACE標準腐食クーポンを使用してPU
LSE性能監視装置(NACE RPO 189−89および直線偏光補正器)
で測定した。付着試験開始のパラメーター(NACE PRO 189−89)
は次の通りであった:
速度: 69m/秒
入口温度: 32−38℃
熱流速: 1115−1208 Btu/hr/ft2
付着係数の単位は(Btu/hr/ft2/°F x 10-5)であった。50
x 10-5Btu/hr/ft2/°Fの付着係数値は冷却効率の損失をもた
らすとは考えられない。
試験に使用した金属クーポン材料は次の通りであった:
試験金属 使用クーポン
軟鋼 C 1020
銅 CDA 110
ステンレス鋼 タイプ E 316
実施例に使用した水は次の表Iに記載する。
実施例に使用した腐食抑制組成物は表IIに記載する。使用した腐食抑制組成
物の量は処理された水性系を基準にして200mlであった。軟鋼、銅、ステン
レス鋼の腐食速度(25日間)、軟鋼の平均LPR、および点食のような組成物
の性質も示す。
第2の結果は、特定成分を特定量使用することによって低リン含量で重金属を
含有しない水性系に有効な腐食抑制剤を配合することができることを示す。かか
る腐食抑制組成物は環境に害を与へず、その腐食抑制効果科は解放冷却系におけ
るケイ酸塩での経験の観点から驚くべきものである。
(1):表2におる付着係数値24.4x10-5Btu/hr/ft2/°F
は工業基準によって許容されると考えられる。
(2):点食は目視/:顕微鏡で測定した。
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フロントページの続き
(51)Int.Cl.6 識別記号 FI
C23F 14/02 C23F 14/02 A
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE,
DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M
C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG
,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN,
TD,TG),AM,AT,AU,BB,BG,BR,
BY,CA,CH,CN,CZ,DE,DK,EE,E
S,FI,GB,GE,HU,IS,JP,KE,KG
,KP,KR,KZ,LK,LR,LT,LU,LV,
MD,MG,MN,MW,MX,NO,NZ,PL,P
T,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK,TJ
,TM,TT,UA,UG,UZ,VN
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.(a)腐食抑制剤組成物100部を基準にして、5.0〜30.0部の陽極 ケイ酸塩; (b)腐食抑制剤組成物100部を基準にして、1.0〜5.0部のケイ酸 塩安定剤; (c)腐食抑制剤組成物100部を基準にして、0.5〜4.0部の陰極腐 食抑制剤;および (d)腐食抑制剤組成物100部を基準にして、60〜90部の水; の混和物から成り、重金属を含有せず、低リンを特徴とするケイ酸塩を基剤とし た金属腐食抑制組成物。 2.水性系におけるスケールの形成を防止することができる重合性スケール抑制 剤を腐食抑制剤組成物100部を基準にして、0.5〜3.0部も含有する請求 項1記載の腐食抑制剤組成物。 3.腐食抑制剤組成物100部を基準にして、陽極ケイ酸塩が10〜20部存在 し、ケイ酸塩安定剤が1.5〜4.0部存在し、水性系におけるスケールの形成 を防止することができる重合性スケール抑制剤が0.5〜1.5部存在し、陰極 腐食抑制剤が1.0〜2.0部存在する請求項2記載の腐食抑制剤組成物。 4.(a)腐食抑制剤組成物100部を基準にして、5.0〜30.0部の陽極 ケイ酸塩; (b)腐食抑制剤組成物100部を基準にして、1.0〜5.0部のケイ酸 塩安定剤; (c)腐食抑制剤組成物100部を基準にして、0.5〜4.0部の陰極腐 食抑制剤;および (d)腐食抑制剤組成物100部を基準にして、60〜90部の水; から成る腐食抑制剤組成物の有効量を解放水性系に添加することから成ることを 特徴とする解放水性系の処理方法。 5.水性系におけるスケールの形成を防止することができる重合性スケール抑制 剤を腐食抑制剤組成物100部を基準にして、0.5〜3.0部も含有する請求 項4記載の方法。 6.腐食抑制剤組成物100部を基準にして、陽極ケイ酸塩が10〜20部存在 し、ケイ酸塩安定剤か1.5〜4.0部存在し、水性系におけるスケールの形成 を防止することができる重合性スケール抑制剤が0.5〜1.5部存在し、陰極 腐食抑制剤が1.0〜2.0部存在する請求項5記載の方法。 7.前記水性系の処理に使用する腐食抑制組成物の量が被処理水のリッターを基 準にして0.1mg/L〜500mg/Lである請求項6記載の方法。 8.前記水性系の処理に使用する腐食抑制組成物の量が被処理水のリッターを基 準にして100mg/L〜200mg/Lである請求項7記載の方法。 9.処理される前記水性系のpHが6.5〜8.5である請求項8記載の方法。 10.処理される前記水性系のpHが7.0〜8.0である請求項9記載の方法。
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