JPH10507759A - 組み合わせ式アクネ治療方法 - Google Patents

組み合わせ式アクネ治療方法

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JPH10507759A JP8514047A JP51404796A JPH10507759A JP H10507759 A JPH10507759 A JP H10507759A JP 8514047 A JP8514047 A JP 8514047A JP 51404796 A JP51404796 A JP 51404796A JP H10507759 A JPH10507759 A JP H10507759A
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ウオルドストレイチヤー,ジヨアンヌ
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メルク エンド カンパニー インコーポレーテッド
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、抗菌薬、角質溶解薬及び/または抗炎症薬の中から選択された少なくとも1種の薬剤との併用において尋常性アクネの治療に有用である7β−置換−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン及び関連する4−アザ−5α−アンドロスタン−3−オン化合物を含めた5α−レダクターゼ1及び/または2の選択的阻害剤を用いる組み合わせ式方法を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】発明の名称 組み合わせ式アクネ治療方法発明の背景 本発明は、7β−置換−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン及び関連する 4−アザ−5α−アンドロスタン−3−オン化合物を非限定的に含む選択的5α −レダクターゼ1阻害剤、5α−レダクターゼ2阻害剤、これらの阻害剤の組み 合わせ、または二重(dual)阻害剤を、抗菌薬、角質溶解薬、抗炎症薬また はこれらの混合物の中から選択した少なくとも1種の薬剤と併用する組み合わせ 式アクネ治療方法に係わる。従来の技術 尋常性アクネは、米国の医師が診断及び処置する最も通常の皮膚状態である。 1700万人を上回る人々が何らかの程度のアクネに罹患していると推定される 。アクネは青年に最も頻発し、12〜24才の85%近くが罹患している一方で 、25〜34才の8%及び35〜55才の3%も罹患している。1990年には 450万回近くの皮膚科医訪問がアクネ関連の問題のためであったし、加えて初 期治療提供医への通院も50万回存在した。 アクネは基本的にアンドロゲン依存性障害である。その発生ピークは18才で あり、女性より男性に頻発する。場合によってはアクネは、消えずに残る甚だし い瘢痕を生じさせるほど重篤となる恐れが有る。多くの患者において、アクネに 罹患していることは精神的苦痛となる。生命を脅かす状態ではないものの、アク ネはそれに罹患した者に対して重大な心理社会学的作用を有しかねない。アクネ は学業及び社会活動の減退に関連し、また雇用状態にも悪影響を及ぼすことも判 明している。即ち、アクネを迅速に診断し、適宜処置することによって、アクネ 患者の総体的な健康と生活の質とに重要な成果をもたらすことができる。 皮脂は、毛包上皮の異常な角化、炎症、及び細菌P.acnesによるコロニ ー形成と共に、アクネを誘発する主要な要因の一つである。前記要因はいずれも 相関性であるので、ただ一つの要因、例えば皮脂生成に作用するだけでアクネに 十分な影響を与え得る。 男性及び女性における皮脂生成の調節ではホルモン環境が重要な役割を果たす 。小児において、アクネの発症及び皮脂分泌は副腎皮質機能亢進及び恥毛発生を 伴うアンドロゲン増加と共に生起する。アンドロゲンの投与はアクネを 悪化させ、かつ皮脂生成を増加させ、一方エストロゲンの投与は皮脂生成を減少 させ、アクネの改善に関与する。女性のアクネの治療では時に、シプロテロン及 びスピロノラクトンなどの抗アンドロゲン物質が用いられる。上記のような臨床 観察によってアンドロゲンが皮脂生成を調節することの確かな証拠が得られはし たが、いずれのアンドロゲンが最も重要な役割を果たすのかは未確認のままであ った。 現在、幾つかの標的器官におけるアンドロケン活性の主要な媒介物質が5α− ジヒドロテストステロン(DHT)であること、及びこの物質はテストステロン −5α−レダクターゼの作用により標的器官において局所的に形成されることが 当業者に知られている。また、テストステロン−5α−レダクターゼの阻害剤が アンドロゲン過剰性刺激の症状を予防または軽減するべく機能することも知られ ている。 幾つかの4−アザステロイド化合物が当業者に知られている。例えば、米国特 許第2,227,876号、同第3,239,417号、同第3,264,30 1号及び同第3,285,918号; フランス特許第1,465,544号; Doorenbos及びSolomons, J. Pharm. Sci. 62, 4, pp. 638−640, 1973 ; Doorenbos及びBrown, J. Pharm. Sci. 6 0, 8, pp.1234−1235, 1971; 並びにDoorenb os及びKim, J. Pharm. Sci.63, 4, pp.620 −622, 1974を参照されたい。 加えて、Rasmusson等の米国特許第4,377,584号、同第4, 220,775号、同第4,859,681号、同第4,760,071号並び にJ. Med. Chem. 27, pp. 1690−1701, 19 84及びJ. Med. Chem. 29, pp.2998−2315, 1986所載の論文、Carlin等の米国特許第4,845,104号、及び Cainelli等の米国特許第4,732,897号には、DHT関連のアン ドロゲン過剰性状態の治療に有用であるとされる4−アザ−17β−置換−5α −アンドロスタン−3−オンが開示されている。 しかし、従来技術ではアンドロゲン過剰性疾患が単一の5α−レダクターゼに 起因することが示唆されているにも かかわらず、他の5α−レダクターゼアイソザイムの存在に関する報告がラット とヒトとの両方についてなされている。例えば、ヒトの前立腺について、Bru chovsky等(J. Cljn. Endocrinol. Metab. 67, pp.806−816, 1988参照)及びHudson(J. Sterold Bjochem. 26, pp.349−353, 198 7参照)は支質及び上皮画分において異なる5α−レダクターゼ活性を発見した 。加えて、Moor及びWilsonは、活性のピークがpH5.5またはpH 7〜9に存在する二つの異なるヒトレダクターゼについて述べている(J. B iol. Chem. 251, 19, pp.5895−5900, 19 76参照)。 最近、Andersson及びRusselがラットの肝臓5α−レダクター ゼをコードするcDNAを単離した(J. Bjol. Chem. 264, pp. 16249−16255, 1989参照)。彼らは、ラットの肝臓 レダタターゼと前立腺レダクターゼとの両方をコードする単一のmRNAを発見 した。このラット遺伝子の配列は後に、「5α−レダクターゼ1」と呼称される 5α− レダクターゼをコードするヒト前立腺cDNAの選択に用いられた(Proc. Natl. Acad. Sci. 87, pp.3640−3644, 1990参照)。 更に最近、粗なヒト前立腺抽出物中により大量に見出される形態と同等の特性 を有する第二のヒト前立腺レダクターゼ(5α−レダクターゼ2)がクローン化 された(Nature 354, pp. 159−161, 1991参照) 。 更に、Jean O. Wilsonによる“Syndromes of A ndrogen Resistance”−The BjolOgy Of R ePrOduction, Vol.46, pp. 168−173,199 2には、5α−レダクターゼ1酵素が毛包と関連付けられ得ることが示されてい る。 即ち、従来技術は、ヒトには少なくとも2種の5α−レダクターゼ遺伝子及び 二つの異なる5α−レダクターゼアイソザイムが存在することを支持している。 主に或る種の皮膚組織、例えば皮膚または頭皮において相互作用するアイソザイ ムを便宜上5α−レダクターゼ1(もしくは5α−レダクターゼ1型)と呼称し 、主に前立腺組織中で相互 作用するアイソザイムを5α−レダクターゼ2(もしくは5α−レダクターゼ2 型)と呼称する。例えば、G. Harris等, Proc. Natl. Acad. Sci. USA 89, pp.10787−10791, N ov., 1992を参照されたい。 5α−レダクターゼ(5α−R)を介しての局所的ジヒドロテストステロン( DHT)形成は皮脂生成及びアクネの病態生理において主要な役割を勤めると考 えられ、なぜなら皮脂腺には5α−レダクターゼが豊富に存在すること、及びア クネに罹患しがちな皮膚は過剰な5α−R活性を有することが知られているから である。このことから、局所的DHT形成はアクネに罹患しがちな組織の皮脂毛 包における皮脂生成増加の原因であり、5α−R1もしくはR2の阻害、またはそ れらの組み合わせはアクネの治療に有用であり得る。 先に述べたように、アクネは、(a)皮脂生成の増加、(b)毛包の角化、( c)Propionibacterium acnesの増殖及び(d)炎症と いう要因を含めた多くの病因を有する疾患である。これに基づき、本発明者は、 アクネの有効な処置は治療プロトコルにおいて上 記のような病因の二つ以上に同時に対処する組み合わせ式療法によって最も良く 実現可能であると考える。尋常性アクネの治療では、皮脂生成を減少させる5α −レダクターゼ1または2阻害剤、これらの阻害剤の組み合わせ、または二重阻 害剤を、この治療において皮脂生成以外の上記病因に対する処置を増幅する別の 薬剤と併用することが望ましい。 従って本発明は、尋常性アクネの治療において5α−レダクターゼアイソザイ ム1もしくは2を阻害する十分な活性を有する薬剤、またはこれらの薬剤の組み 合わせ、または二重阻害剤を、5α−レダクターゼ1もしくは2阻害剤またはこ れらの組み合わせの有効性を向上させる別の薬剤と併用する組み合わせ式方法を 提供することを目的とする。発明の概要 本発明は、局所及び/または全身投与による尋常性アクネの治療において5α −レダクターゼ1及び/または2阻害剤を、抗菌薬、抗炎症薬及び角質溶解薬ま たはこれらの組み合わせの中から選択した少なくとも1種の薬剤と併用すること を含む組み合わせ式方法を提供する。 5α−レダクターゼ1または2阻害剤が皮脂生成を抑制 すると同時に、抗菌薬は皮膚表面上及び毛包内のPropionibacter ium acnesその他のグラム陰性菌及びグラム陽性菌の集団を縮小するこ とにより炎症性と非炎症性との両方の病変を改善し、角質溶解薬は毛包の角化を 低下させ、抗炎症薬は炎症を軽減して皮膚の穏やかな乾燥及び剥離を実現し得る 。このような薬剤の併用は、いずれか1種の薬剤のみを用いた場合よりも有効な 治療方法をもたらす。 本発明は更に、1種以上の5α−レダクターゼ1もしくは2阻害剤、またはこ れらの阻害剤の組み合わせ、または二重阻害剤を、抗菌薬、角質溶解薬及び抗炎 症薬またはこれらの組み合わせの中から選択された少なくとも1種の薬剤と組み 合わせて含有する医薬組成物にも係わる。 本発明の一形態に、5α−レダクターゼ1阻害剤、即ち7β−置換−4−アザ −5α−コレスタン−3−オン及び5α−アンドロスタン−3−オン化合物を用 いてアクネを治療する方法が有り、前記化合物は一般式I 〔構造I中 Rは水素、メチル、エチル、−OH、−NH2及び−SCH3の中から選択され、 点線(−−−)a及びbは独立に単結合または二重結合であり、ただしbが二重 結合の時5α水素のHaは存在せず、=Zは 1)オキソ、 2)α水素、及び a)C1〜C4アルキル、 b)C2〜C4アルケニル、 c)CH2COOH、 d)−OH、 e)−COOH、 f)−COO(C1〜C4)アルキル、 g)R1及びR2が i)H、 ii)C1〜C4アルキル、 iii)フェニル、及び iv)ベンジル の中から独立に選択されるか、またはR1及びR2と結合した窒素原子と 共に、場合によっては−O−、−S−、及びR′が−Hまたはメチルである−N (R′)−の中から選択された1個の他のヘテロ原子を有する5または6員飽和 複素環を構成する−OC(O)NR12、 h)C1〜C4アルコキシ、 i)C3〜C6シクロアルコキシ、 j)−OC(O)−C1〜C4アルキル、 k)ハロ、 l)ヒドロキシ−C1及びC2アルキル、 m)ハロ−C1及びC2アルキル、 n)−CF3、及び o)C3〜C6シクロアルキル の中から選択されたβ置換基、 3)R3が−H及びC1〜C4アルキルの中から選択され た=CHR3、並びに 4)構造 のスピロシクロプロパン−R3 の中から選択される〕の化合物またはその医薬に許容可能な塩もしくはエステル 、及び一般式II 〔構造II中 C1−C2炭素−炭素結合は点線で示したように単結合であっても二重結合であっ てもよく、 R4は水素及びC1〜C10アルキルの中から選択され、 R5は水素及びC1〜C10アルキルの中から選択され、 R6及びR7の一方は水素及びメチルの中から選択され、 他方は (a)アミノ、 (b)シアノ、 (c)フルオロ、 (d)メチル、 (e)OH、 (f)Rb及びRcが独立にH、C1〜C6アルキル、アリール、またはアリールC1 〜C6アルキルであり、その際アルキル部分は1〜3個のハロ、C1〜C4アルコ キシまたはトリフルオロメチルで置換され得、またアリール部分は1〜3個のハ ロ、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシまたはトリフルオロメチルで置換さ れ得る−C(O)NRbc、 (g)C1〜C10アルキル−X−、 (h)C2〜C10アルケニル−X−((g)のC1〜C10アルキル及び(h)のC2 〜C10アルケニルは置換されていなくても、また1〜3個の i) ハロ、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、モノ、ジまたはトリハロメチ ル、オキソ、ヒドロキシスルホニル、カルボキシ、 ii) C1〜C6アルキル部分が1〜3個のハロ、C1〜C4アルコキシまた はトリフルオロメ チルで置換され得るヒドロキシC1〜C6アルキル、C1〜C6アルキルオキシ、C1 〜C6アルキルチオ、C1〜C6アルキルスルホニル、C1〜C6アルキルオキシカ ルボニル、 iii) アリール部分が1〜3個のハロ、C1〜C4アルキル、C1〜C4アル コキシまたはトリフルオロメチルで置換され得るアリールチオアリール、アリー ルオキシ、アリールスルホニル、アリールオキシカルボニル、 iv) Rb及びRcが先の規定どおりである−C(O)NRbc、−N(Rb )−C(O)Rc−、−NRbc で置換されていてもよい)、 (i)アリール−X−、 (j)ヘテロアリールが1個の環酸素原子、1個の環硫黄原子、1〜4個の環窒 素原子及びこれらの組み合わせのうちの少なくとも1種を有する5、6または7 員複素芳香環であり、この複素芳香環はまた1個のベンゾまたは複素芳香環と縮 合し得るヘテロアリー ル−X−((i)のアリール及び(j)のヘテロアリールは置換されていなくて も、また1〜3個の v) ハロ、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、モノ、ジまたはトリハロメチ ル、モノ、ジまたはトリハロメトキシ、C2〜C6アルケニル、C3〜C6シクロア ルキル、ホルミル、ヒドロスルホニル、カルボキシ、ウレイド、 vi) C1〜C6アルキル部分が1〜3個のハロ、C1〜C4アルコキシまた はトリフルオロメチルで置換され得るC1〜C6アルキル、ヒドロキシC1〜C6ア ルキル、C1〜C6アルキルオキシ、C1〜C6アルキルオキシC1〜C6アルキル、 C1〜C6アルキルカルボニル、C1〜C6アルキルスルホニル、C1〜C6アルキル チオ、C1〜C6アルキルスルフイニル、C1〜C6アルキルスルホンアミド、C1 〜C6アルキルアリールスルホンアミド、C1〜C6アルキルオキシカルボニル、 C1〜C6アルキルオキシカルボニルC1〜C6アルキル、RbcN−C(O)−C1 〜C6アルキル、C1〜C6アルカノイルアミノC1〜C6アルキル、アロイルアミ ノC1〜C6アルキル、 vii) アリール部分が1〜3個のハロ、C1〜C4アルキル、C1〜C4アル コキシまたはトリフルオロメチルで置換され得るアリール、アリールオキシ、ア リールカルボニル、アリールチオ、アリールスルホニル、アリールスルフィニル 、アリールスルホンアミド、アリールオキシカルボニル、 viii)Rb及びRcが先の(f)の規定どおりである−C(O)NRbc、 −O−C(O)−NRbc、−N(Rb)−C(O)−Rc、−NRbc、Rb− C(O)−N(Rc)−、RgがC1〜C6アルキルまたはアリールであり、その際 アルキル部分は1〜3個のハロ、C1〜C4アルコキシまたはトリフルオロメチル で置換され得、アリール部分は1〜3個のハロ、C1〜C4アルキル、C1〜C4ア ルコキシまたはトリフルオロメチルで置換され 得る−N(Rb)−C(O)−ORg、RdがH、C1〜C6アルキル及びアリール の中から選択され、その際C1〜C6アルキル及びアリールはRb及びRcに関して 先の(f)に述べたように置換され得る−N(Rb)−C(O)NRcd、 ix) 1個の環酸素原子、1個の環硫黄原子、1〜4個の環窒素原子及び これらの組み合わせのうちの少なくとも1種を有する5、6または7員環であり 、芳香環、不飽和環または飽和環であり得、かつベンゾ環と縮合し得、その際 i x)の複素環基を除き先の v)、vi)、vii)及び viii)に規定した置換基1〜 3個で置換され得る複素環基 で置換されていてもよい) の中から選択され、 (k)R6とR7とは共にカルボニル酸素であり得、 (l)R6とR7とは共にRgが viii)の規定どおりである=CH−Rgであり得 、 Xは−O−、−S(O)n−、−C(O)−、−CH(Re )−、−C(O)−O−*、−C(O)−N(Re)−*、−N(Re)−C(O )−O−*、−O−C(O)−N(Re)−*、−N(Re)C(O)−N(Re) −、−O−CH(Re)−*及び−N(Re)−の中から選択され、その際ReはH 、C1〜C3アルキル、アリール、アリールC1〜C3アルキル、または先の(j) に規定した非置換もしくは置換ヘテロアリールであり、星印(*)は構造IIの1 6位への結合を示し、nは0、1または2である〕の化合物またはその医薬に許 容可能な塩もしくはエステルの中から選択される。発明の詳細な説明 本発明は、尋常性アクネ、脂漏症、新生児アクネ、乳児アクネ、青年アクネ、 成人アクネ、閉経期後アクネ、集族性アクネ、化膿性汗腺炎、acne mec hanica、口周囲皮膚炎、acne fluminans、顔面膿皮症、若 年女子表皮剥離性アクネ、熱帯性アクネ、夏季アクネ(acne estiva lis)、ファーブル−ラクーショ症候群、または毒物性アクネを含めた、面皰 性、丘疹膿疱性、小結節性または嚢胞性であり得るアンドロゲン過剰性アクネ状 態を治療する組み合わせ式の方法を提供 することを目的とする。本発明の方法は、治療有効量の1種以上の式Iもしくは IIの5α−レダクターゼ1阻害剤、5α−レダクターゼ2阻害剤、これらの阻害 剤の組み合わせ、または二重阻害剤を、抗菌薬、角質溶解薬及び抗炎症薬または これらの混合物の中から選択した少なくとも1種の薬剤と組み合わせて経口、全 身、非経口または局所投与することを含む。 本明細書中に用いた「5α−レダクターゼ1阻害剤」という語は、ヒト組織に おいて酵素5α−レダクターゼ1の生理作用を選択的に妨害する化合物を意味す る。一例に、本明細書に開示した4,7β−ジメチル−4−アザ−5α−コレス タン−3−オン及び関連類似体が有る。 本明細書中に用いた「5α−レダクターゼ2阻害剤」という語は、ヒト組織に おいて酵素5α−レダクターゼ2の生理作用を選択的に妨害する化合物を意味す る。一例に、米国特許第4,760,071号(Merck & Co., I nc.所有)に開示されたフィナステリド及び関連類似体が有る。 本明細書中に用いた「5α−レダクターゼ1及び2二重阻害剤」という語は、 ヒト組織において酵素5α−レダク ターゼ1及び2の生理作用を妨害する化合物を意味する。このような化合物の例 には、J. Med. Chem. 36, pp.4313−4315, 1 993に記載された6−アザ−アンドロスト−4−エン−3−オン及び関連類似 体、並びに米国特許第5,278,159号に開示されたアリールエステルが有 る。 本明細書に開示したアクネ治療では、上述の5α−レダクターゼ阻害剤を個々 に用いるか、または1種以上の他の5α−レダクターゼ阻害剤と併用し得る。式I(構造I)の検討 式Iの17−置換基のコレスタン側鎖はβ配置を取る。置換基及び/または可 変部分の組み合わせは、安定な化合物をもたらすものに限り用い得る。 本明細書中に用いた「C1〜C4アルキル」という語は、メチル(Me)、エチ ル(Et)、プロピル(Pr)、イソプロピル(i−Pr)、n−ブチル(n− Bu)、s−ブチル(s−Bu)、イソブチル(i−Bu)及びt−ブチル(t −Bu)を包含するものとする。 本明細書中に用いた「C2〜C4アルケニル」という語は、ビニル、アリル、1 −プロペン−1−イル、1−プロ ペン−2−イル、1−ブテン−1−イル、1−ブテン−2−イル等を包含するも のとする。本発明は総てのE,Zジアステレオマーを包含する。 本明細書中に用いた「C3〜C6シクロアルキル」という語は、シクロプロピル 、シクロブチル、シクロペンチル及びシクロヘキシルを包含するものとする。 本明細書中に用いた「ハロ」という語は、フルオロ、クロロ、ブロモ及びヨー ドを包含するものとする。 本明細書中に用いた「OC1〜C4アルキル」もしくは「C1〜C4アルコキシ」 という語は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ 、イソブトキシ、s−ブトキシ及びt−ブトキシを包含するものとする。 本明細書中に用いた「OC3〜C6シクロアルキル」もしくは「C3〜C6シクロ アルコキシ」という語は、シクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロ ペンチルオキシ及びシクロヘキシルオキシを包含するものとする。 =Zの代表例には、α−置換基(点線)が水素であり、かつβ−置換基(くさ び形部分)が例えばメチル、エチル、プロピル、アリル、カルボキシメチル、ヒ ドロキシ、メト キシ、エトキシ、シクロプロピルオキシ、シクロペンチルオキシ、アセトキシ、 フルオロ、クロロ、ブロモ、トリフルオロメチル、フルオロメチル、クロロメチ ル、カルボキシ、N,N−ジメチルカルバメート、ヒドロキシメチル等であるも のが有る。 アルケニル置換基=CH−R3である=Zの代表例は、=CH2、=CH−CH3 、=CH−CH2CH3等を包含する。 スピロシクロプロピル置換基 である=Zの代表例は、例えば これらの立体異性体等を包含する。 複素環である−NR12の代表例は、N−ピペリジニル、N−モルホリニル、 N−ピペラジニル、N−(4−メチル)ピペラジニル、N−チオモルホリニル、 N−ピロリジニル、N−イミダゾリジニル等を包含する。 本発明が包含する、いずれの17−置換基もβ配置を取 る式Iの化合物の代表例は、 7β−エチル−4−メチル−4−アザ−コレスト−5−エン−3−オン、 7β−エチル−4−メチル−4−アザ−コレスタン−3−オン、 7β−エチル−4−アザ−コレスト−5−エン−3−オン、 7β−エチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−カルボキシメチル−4−アザ−コレスト−5−エン−3−オン、 7β−カルボキシメチル−4−アザ−コレスタン−3−オン、 7β−プロピル−4−メチル−4−アザ−コレスト−5−エン−3−オン、 7β−プロピル−4−メチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−プロピル−4−アザ−コレスト−5−エン−3−オン、 7β−プロピル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−メチル−4−アザ−コレスト−5−エン−3−オン、 7β−メチル−4−アザ−コレスタン−3−オン、 4,7β−ジメチル−4−アザ−コレスト−5−エン−3−オン、 4,7β−ジメチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 4−メチル−4−アザ−5α−コレスタン−3,7−ジオン、 7β−アセトキシ−4−メチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 4−メチル−4−アザ−コレスト−5−エン−3,7−ジオン、 7β−ヒドロキシ−4−メチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−メトキシ−4−メチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−ヒドロキシメチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−ブロモメチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−クロロメチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−フルオロメチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−カルボキシ−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−トリフルオロメチル−4−アザ−コレスト−5−エン−3−オン、 7,7−ジメトキシ−4−メチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−メトキシ−4−メチル−4−アザ−コレスタ−5−エン−3−オン、 7β−メトキシ−4−メチル−4−アザ−コレスタ−6−エン−3−オン、 7β−シクロプロピルオキシ−4−メチル−4−アザ−5α−コレスタン−3− オン、 7β−シクロプロピルオキシ−4−メチル−4−アザ−コレスタ−5,7−ジエ ン−3−オン、 7β−プロピリデン−4−メチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−(2−エチル)スピロエチレン−4−メチル−4−アザ−5α−コレスタ ン−3−オン、 7β−メチル−4−アザ−5α−コレスト−1−エン−3−オン、 7β−メチル−5−オキソ−A−nor−3,5−seco−コレスタン酸、 7β−エチル−5−オキソ−A−nor−3,5−seco−コレスタン酸、 7β−プロピル−5−オキソ−A−nor−3,5−seco−コレスタン酸、 7β−i−プロピル−5−オキソ−A−nor−3,5−seco−コレスタン 酸、 7β−n−ブチル−5−オキソ−A−nor−3,5−seco−コレスタン酸 、 7β−i−ブチル−5−オキソ−A−nor−3,5−seco−コレスタン酸 、 7β−s−ブチル−5−オキソ−A−nor−3,5−seco−コレスタン酸 、 7β−t−ブチル−5−オキソ−A−nor−3,5−seco−コレスタン酸 、 7β−n−ペンチル−5−オキソ−A−nor−3,5−seco−コレスタン 酸、及び 7β−n−ヘキシル−5−オキソ−A−nor−3,5−seco−コレスタン 酸 である。式II(構造II)の検討 本発明の一形態に、R4が水素またはメチルであり、R5も水素またはメチルで ある式IIの化合物が有る。 本発明の別の一形態に、式IIの化合物であって、式中R6及びR7の一方が水素 及びメチルの中から選択され、他方は (b)シアノ、 (c)フルオロ、 (e)OH、 (g)C1〜C10アルキル−X−、または1個もしくは2個のハロもしくはC1〜 C6アルキルで置換され得るアリールでアルキルが置換され得るC1〜C10アルキ ル−X−、 (h)C2〜C10アルケニル−X−、 (i)アリール−X−、 (j)ヘテロアリールが1個または2個の環窒素原子を有する5または6員複素 芳香環であるヘテロアリール −X−((i)のアリール及び(j)のヘテロアリールは置換されていなくても 、また1個または2個の x) ハロ、シアノ、ニトロ、トリハロメチル、トリハロメトキシ、C1 〜C6アルキル、アリール、C1〜C6アルキルスルホニル、C1〜C6アルキルア リールスルホンアミノ、 xi) Rb及びRcが独立にH、C1〜C6アルキル、アリール、またはアリ ールC1〜C6アルキルであり、その際アルキル部分は1〜3個のハロ、C1〜C4 アルコキシまたはトリフルオロメチルで置換され得、またアリール部分は1〜3 個のハロ、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシまたはトリフルオロメチルで 置換され得る−NRbc、Rb−C(O)−N(Rc)−、 xii) 1個の環窒素原子、または1個の環酸素原子と1個の環窒素原子と を有する5員芳香環である複素環基 で置換されていてもよい) の中から選択され、 (k)R6とR7とは共にカルボニル酸素であり得、Xは−O−、−S(O)n− 、−CH(Re)−、−C(O)−N(Re)−*及び−O−C(O)−N(Re) −*の中から選択され、その際ReはH、C1〜C3アルキル、アリール、またはア リールC1〜C3アルキルであり、星印(*)は構造IIの16位への結合を示し、 nは0または2である 化合物が有る。 この形態が例示する本発明の新規な化合物には、化合物4−アザ−4,7β− ジメチル−5α−アンドロスタン−3,16−ジオン、 4−アザ−4−メチル−5α−アンドロスタン−3,16−ジオン、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−ヒドロキシ−5α−アンドロスタ ン、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−(ベンジルアミノカルボニルオキ シ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−ベンゾイルアミノ−5α−アンド ロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−メトキシ−5α−アンドロスタン 、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−アリルオキシ−5α−アンドロス タン、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−(n−プロピルオキシ)−5α− アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16α−ヒドロキシ−5α−アンドロスタ ン、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−(フェノキシ)−5α−アンドロ スタン、 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−(フェノキシ)−5α−アンド ロスト−1−エン、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16α−メトキシ−5α−アンドロスタン 、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−(4−クロロフェノキシ)−5α −アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−(4−クロロフェノキシ)−5 α−アンドロスト−1−エン、 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−(4−クロロフェノキシ)−5 α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−(3−クロロ−4−メチルフェ ノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−(4−メチルフェノキシ)−5 α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−(4−メチルフェノキシ)−5 α−アンドロスト−1−エン、 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−[4−(1−ピロリル)フェノ キシ]−5α−アンドロスト−1−エン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−ヒドロキシ−5α−アン ドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−メトキシ−5α−アンド ロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−アリルオキシ−5α−ア ンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3,3−ジメチルアリ ルオキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(n−プロピルオキシ) −5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(イソペントキシ)−5 α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,16α−ジメチル−16β−ヒドロキシ−5α−ア ンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−エチルオキシ−5α−ア ンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−ベンジルオキシ−5α− アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16α−ヒドロキシ−5α−アン ドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−メチルチオ−5α−アン ドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(n−プロピルチオ)− 5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−フルオロ−5α−アンド ロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−シアノ−5α−アンドロ スタン、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−(1−ヘキシル)−5α−アンド ロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(n−プロピル)−5α −アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−ベンジル−5α−アンド ロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−クロロベンジル) −5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,16α−ジメチル−16β−メトキシ−5α−アン ドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−シアノフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3−シアノフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−ニトロフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(1−ナフチルオキシ) −5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3−クロロ−4−メチ ルフェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β− (4−メチルフェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(t−ブチルオキシ)− 5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3−メチル−1−ブチ ルオキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(n−プロピルオキシ) −5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−トリフルオロメチ ルフェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−トリフルオロメト キシフェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−エチルチオ−5α−アン ドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−エチルスルホニル−5α −アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−メチルスルホニル フェノキシ)−5α−アンドロス タン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−[4−(4−トリルスル ホニルアミノ)フェノキシ]−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3−ピリジルオキシ) −5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−[(4−フェニル)フェ ノキシ]−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−フルオロフェノキ シ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(2−ピラジニルオキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−[4−(5−オキサゾリ ル)フェノキシ]−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(2−ピリミジニルオキ シ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−[4−(1−ピリル)フ ェノキシ]−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−アミノフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−アセチルアミノフ ェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−ベンゾイルアミノ フェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−クロロフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(フェノキシ)−5α− アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(2−クロロフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3−クロロフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−クロロフェノキシ )−5α−アンドロスト−1−エン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16−(4 −クロロベンジリデン)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16−ベンジリデン−5α−アン ドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16−(4−メチルベンジリデン )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16−(4−クロロベンジル)− 5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16−(4−メチルベンジル)− 5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16−(3−ピリジルメチル)− 5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16α−メタンスルホニル−5α −アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−チオフェノキシ−5α− アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−クロロチオフェノ キシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−フルオロチオフェ ノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β− (4−メチルチオフェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−メトキシチオフェ ノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−フェニルスルフィニル− 5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−フェニルスルホニル−5 α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β,16α−トリメチル−16β−(4−トリフ ルオロメチルフェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β,16α−トリメチル−16β−ヒドロキシ− 5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β,16α−トリメチル−16β−メトキシ−5 α−アンドロスタン、 これらの医薬に許容可能な塩、及び適当であれば上記化合物の、C1−C2炭素− 炭素結合が二重結合であり、及び/またはR4が−Hであり、及び/またはR5が −Hもしくはメチルである類似体が非限定的に含まれる。 本発明の別の形態では式IIの化合物は、C1−C2炭素−炭素結合が単結合であ り、R4はメチルであり、R5は メチルであり、R7は非置換または置換アリールオキシの中から選択され、かつ R6は水素であるものへと更に限定される。 この形態に含まれる化合物の非限定的な例には、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−シアノフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3−シアノフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−ニトロフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(1−ナフチルオキシ) −5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3−クロロ−4−メチ ルフェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−メチルフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−トリフルオロメチ ルフェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−トリフルオロメト キシフェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−メチルスルホニル フェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−[4−(4−トリルスル ホニルアミノ)フェノキシ]−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−[(4−フェニル)フェ ノキシ]−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−フルオロフェノキ シ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−[4−(5−オキサゾリ ル)フェノキシ]−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−[4−(1−ピリル)フ ェノキシ]−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β− (4−アミノフェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−アセチルアミノフ ェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−ベンゾイルアミノ フェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−クロロフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(フェノキシ)−5α− アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(2−クロロフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3−クロロフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 及びこれらの医薬に許容可能な塩が有る。 本発明の有用な化合物の一つに、3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル −16β−(4−クロロフェノキシ)−5α−アンドロスタンまたはその医薬に 許容可能な塩が有る。 以下の検討は式IとIIとのいずれで用いた語にも該当する。 本明細書中に用いた「アルキル」という語は、特定数の炭素原子を有する分枝 鎖状と直鎖状との両方の飽和脂肪族炭化水素基、例えばメチル(Me)、エチル (Et)、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニ ル、デシル、イソプロピル(i−Pr)、イソブチル(i−Bu)、t−ブチル (t−Bu)、s−ブチル(s−Bu)、イソペンチル等を包含するものとする 。「アルキルオキシ」(もしくは「アルコキシ」)とは、酸素橋を介して結合し た、示した数の炭素原子を有するアルキル基、例えばメトキシ、エトキシ、プロ ピルオキシ等のことである。「アルケニル」という語は、エテニル、プロペニル もしくはアリル、ブテニル、ペンテニル等といった、鎖上の任意の安定な部位に 生起し得る一つ以上の炭素−炭素二重結合を有する直鎖状または分枝鎖状の炭化 水素基を包含するものとする。本発明は総てのE,Zジアステレオマーを包含す る。 アルキル及びアルケニル基は置換されていなくても、1個以上、好ましくは1 〜3個の i) ハロ、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、モノ、ジまたはトリハロメチル、オ キソ、ヒドロキシスルホニル、カルボキシ、 ii) C1〜C6アルキル部分が1〜3個のハロ、C1〜C4アルコキシまたはトリ フルオロメチルで置換され得るヒドロキシC1〜C6アルキル、C1〜C6アルキル オキシ、C1〜C6アルキルチオ、C1〜C6アルキルスルホニル、C1〜C6アルキ ルオキシカルボニル、 iii) アリール部分が1〜3個のハロ、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ またはトリフルオロメチルで置換され得るアリールチオ、アリール、アリールオ キシ、アリールスルホニル、アリールオキシカルボニル、 iv) Rb及びRcが先の規定どおりである−C(O)NRbc、−N(Rb)− C(O)−Rc、−NRbc で置換されていてもよく、その際ハロとは本明細書での用語法に従いF、Cl、 BrまたはIのことである。 本明細書中に用いた「オキソ」という語は、炭素鎖上の 任意の安定な部位に位置して、鎖端に位置する場合はホルミル基、鎖上の他の部 位に位置する場合はアシルまたはアロイル基をもたらし得るオキソラジカルを意 味する。 本明細書中に用いた「アリール」という語は、置換されていないかまたは後述 のように置換された、フェニルまたは1−ナフチルもしくは2−ナフチルを含め たナフチルを意味するものとする。 本明細書中に用いた「ヘテロアリール」という語は、1個の環酸素原子、1個 の環硫黄原子、1〜4個の環窒素原子及びこれらの組み合わせのうちの少なくと も1種を有する5、6または7員複素芳香環ラジカルを包含するものとする。前 記のようなヘテロアリール環はまた、1個のベンゾまたは複素芳香環と縮合し得 る。この範疇には、置換されていないかまたは(後述のように)置換された複素 芳香環のピリジル、フリル、ピリル、チエニル、イソチアゾリル、イミダゾリル 、ベンズイミダゾリル、テトラゾリル、ピラジニル、ピリミジル、キノリル、キ ナゾリニル、イソキノリル、ベンゾフリル、イソベンゾフリル、ベンゾチエニル 、ピラゾリル、インドリル、イソインドリル、プリニル、カルバゾリル、イソオ キサゾリル、チアゾリル、イソ チアゾリル、オキサゾリル、ベンズチアゾリル及びベンズオキサゾリルが含まれ る。ヘテロアリール環は構造式II中に結合し得、または環中の任意のヘテロ原子 もしくは炭素原子において置換され得る。しかし、−X−への結合は安定な構造 をもたらす環原子を介して行なわれなければならない。ヘテロアリール環はまた 、ベンゾ環と縮合し得る。 先に挙げたアリール及びヘテロアリール基上に位置し得る1個以上、好ましく は1〜3個の置換基は、 v) ハロ、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、モノ、ジまたはトリハロメチル、モ ノ、ジまたはトリハロメトキシ、C2〜C6アルケニル、C3〜C6シクロアルキル 、ホルミル、ヒドロスルホニル、カルボキシ、ウレイド、 vi) C1〜C6アルキル部分が1〜3個のハロ、C1〜C4アルコキシまたはトリ フルオロメチルで置換され得るC1〜C6アルキル、ヒドロキシC1〜C6アルキル 、C1〜C6アルキルオキシ、C1〜C6アルキルオキシC1〜C6アルキル、C1〜 C6アルキルカルボニル、C1〜C6アルキルスルホニル、C1〜C6アルキルチオ 、C1〜C6アルキルスルフィ ニル、C1〜C6アルキルスルホンアミド、C1〜C6アルキルアリールスルホンア ミド、C1〜C6アルキルオキシカルボニル、C1〜C6アルキルオキシカルボニル C1〜C6アルキル、RbcN−C(O)−C1〜C6アルキル、C1〜C6アルカノ イルアミノC1〜C6アルキル、アロイルアミノC1〜C6アルキル、 vii) アリール部分が1〜3個のハロ、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ またはトリフルオロメチルで置換され得るアリール、アリールオキシ、アリール カルボニル、アリールチオ、アリールスルホニル、アリールスルフィニル、アリ ールスルホンアミド、アリールオキシカルボニル、 viii)Rb及びRcが先の(f)の規定どおりである−C(O)NRbc、−O− C(O)−NRbc、−N(Rb)−C(O)−Rc、−NRbc、Rb−C(O )−N(Rc)−、RgがC1〜C6アルキルまたはアリールであり、その際アルキ ル部分は1〜3個のハロ、C1〜C4アルコキシまたはトリフルオロメチルで置換 され得、アリール部分は1〜3個 のハロ、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシまたはトリフルオロメチルで置 換され得る−N(Rb)−C(O)−ORg、RdがH、C1〜C6アルキル及びア リールの中から選択され、その際C1〜C6アルキル及びアリールはRb及びRcに 関して先の(f)に述べたように置換され得る−N(Rb)−C(O)NRcd 、 ix) 1個の環酸素原子、1個の環硫黄原子、1〜4個の環窒素原子及びこれら の組み合わせのうちの少なくとも1種を有する5、6または7員環であり、芳香 環、不飽和環または飽和環であり得、かつベンゾ環と縮合し得、その際 ix)の 複素環基を除き先の v)、vi)、vii)及び viii)に規定した置換基1〜3個で 置換され得る複素環基 の中から独立に選択される。 縮合複素芳香環系には、プリン、イミダゾイミダゾール、イミダゾチアゾール 、ピリドピリミジン、ピリドピリダジン、ピリミドピリミジン、イミダゾピリダ ジン、ピロロピリジン、イミダゾピリジン等が含まれる。 「複素環」基には先に述べた芳香族ヘテロアリール環が 含まれ、またそれらそれぞれのジヒドロ、テトラヒドロ、ヘキサヒドロ及び完全 飽和環系も含まれる。例には、ジヒドロイミダゾリル、ジヒドロオキサゾリル、 ジヒドロピリジル、テトラヒドロフリル、ジヒドロピリル、テトラヒドロチエニ ル、ジヒドロイソチアゾリル、1,2−ジヒドロベンズイミダゾリル、1,2− ジヒドロテトラゾリル、1,2−ジヒドロピラジニル、1,2−ジヒドロピリミ ジル、1,2−ジヒドロキノリル、1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリル 、1,2,3,4−テトラヒドロベンゾフリル、1,2,3,4−テトラヒドロ イソベンゾフリル、1,2,3,4−テトラヒドロベンゾチエニル、1,2,3 ,4−テトラヒドロピラゾリル、1,2,3,4−テトラヒドロインドリル、1 ,2,3,4−テトラヒドロイソインドリル、1,2,3,4−テトラヒドロプ リニル、1,2,3,4−テトラヒドロカルバゾリル、1,2,3,4−テトラ ヒドロイソオキサゾリル、1,2,3,4−テトラヒドロチアゾリル、1,2, 3,4−テトラヒドロオキサゾリル、1,2,3,4−テトラヒドロベンズチア ゾリル及び1,2,3,4−テトラヒドロベンズオキサゾリル等が含まれる。 複素環は、ヘテロアリールに関して先に述べたのと同様にして置換され得る。 式I及びII中の置換基の名称中に「アルキル」、「アルケニル」、「アルキル オキシ(もしくはアルコキシ)」、「アリール」または「ヘテロアリール」とい う語やその接頭語根(prefix roots)が認められる場合(例えば「 アラルコキシアリールオキシ」)、それらは常に「アルキル」、「アルケニル」 、「アルキルオキシ(もしくはアルコキシ)」、「アリール」及び「ヘテロアリ ール」という語それそれに関して先に述べたのと同じ定義を有する。示した炭素 原子数(例えばC1〜C10)は、アルキルもしくはアルケニル部分の炭素原子数 、または「アルキル」もしくは「アルケニル」という語をその接頭語根として名 称中に有するより大きい置換基のアルキルもしくはアルケニル部分の炭素原子数 を独立に表わす。 構造上に塩基性または酸性基が存在する式I及びIIの化合物の医薬に許容可能 な塩も、本発明の範囲内に含まれる。酸性置換基即ち−COOHが存在する場合 は、アンモニウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩等が投与形態と して用いるべく形成され得る。塩基性基、即ちアミ ノや、例えば4−ピリジルなどの塩基性ヘテロアリールラジカルが存在する場合 は、酸性塩即ち塩酸塩、臭化水素酸塩、酢酸塩、パモ酸塩等が投与形態として用 いられ得る。 また、−COOH基が存在する場合には医薬に許容可能なエステル、例えば酢 酸エステル、マレイン酸エステル、ピバロイルオキシメチル等、及び徐放製剤ま たはプロドラッグ製剤として使用するべく溶解度や加水分解特性を調節するため のものとして当業者に公知であるエステルも用いられ得る。 代表的な塩には、酢酸塩、ラクトビオネート(lactobionate)、 ベンゼンスルホン酸塩、ラウリン酸塩、安息香酸塩、リンゴ酸塩、重炭酸塩、マ レイン酸塩、重硫酸塩、マンデル酸塩、重酒石酸塩、メシル酸塩、ホウ酸塩、メ チル臭化物、臭化物、メチル硝酸塩、エデト酸カルシウム、メチル硫酸塩、カム シレート(camsylate)、粘液酸塩、炭酸塩、ナプシレート(naps ylate)、塩化物、硝酸塩、クラブラン酸塩、N−メチルグルカミン、クエ ン酸塩、アンモニウム塩、二塩酸塩、オレイン酸塩、エデト酸塩、蓚酸塩、エジ シレート(edisylate)、パモ酸塩(エンボネート; embon ate)、エストレート(estolate)、バルミチン酸塩、エシル酸塩、 パントテン酸塩、フマル酸塩、リン酸塩/二リン酸塩、グルセプテート(glu ceptate)、ポリガラクツロン酸塩、グルコン酸塩、サリチル酸塩、グル タミン酸塩、ステアリン酸塩、グリコリルアルサニレート(glycollyl arsanilate)、硫酸塩、ヘキシルレゾルシネート(hexylres orcinate)、塩基性酢酸塩、ヒドラバミン、琥珀酸塩、臭化水素酸塩、 タンニン酸塩、塩酸塩、酒石酸塩、ヒドロキシナフトエ酸塩、テオクレート(t eoclate)、ヨウ化物、トシル酸塩、イソチオン酸塩、トリエトヨウ化物 (triethiodide)、乳酸塩及び吉草酸塩が含まれる。 加えて、本発明の化合物の或るものは、水または通常の有機溶媒との溶媒和物 を形成し得る。それらの溶媒和物は本発明の範囲内に含まれる。 本発明の式I及びIIの化合物は、不斉中心を有してラセミ化合物、ラセミ混合 物として、また個々のエナンチオマーまたはジアステレオマーとして存在し得、 あらゆる異性体形態とその混合物とは本発明に含まれる。更に、本発 明の化合物の結晶形態のうちの幾つかが多形相として存在し得、そのような結晶 形態も本発明に含まれるものとする。 「治療有効量」という語は薬物または医薬の、研究者、獣医、医師または他の 臨床家の研究や治療の対象となっている組織、系、動物またはヒトの生物学的ま たは医学的応答を惹起する量を意味するものとする。式I 本発明の化合物は、次のフローシートに示す操作によって製造し得る。温度は いずれも摂氏である。 7β−アルキルシリーズ 7β−アルキル基、例えばメチル、エチル、イソプロピル、アリルとしてのZ を有する本発明の化合物は全般的フローシートに示した操作によって製造し得る 。 上記フローシートから知見されるように、出発物質の3−アセトキシ−コレス ト−5−エン(合成については実施例1参照)を、還流温度において例えばア セトニトリル中で過酸化水素t−ブチル及びクロムヘキサカルボニルで処理する ことにより対応する5−エン−7−オンIIに酸化する。この時点で、0〜23℃ において例えば無水テトラヒドロフラン(THF)中で例えば塩化アルキルマグ ネシウムを用いるグリニャール反応により、記号Alkで示したC1〜C4アルキ ル、例えばメチルを導入し得、それによって7−アルキル−7−ヒドロキシ付加 物IIIが生成する。この物質を次に、還流するトルエン溶媒中で例えばアルミニ ウムイソプロポキシド及びシクロヘキサノンで(Oppenauer酸化条件) 酸化して7−アルキル−4,6−ジエン−3−オンIVを生成させる。この物質を −78℃において、例えばリチウム、液体アンモニア、THF及びトルエンを用 いる金属−アンモニア還元により還元し、ジブ ロモエタン及び塩化アンモニウムで反応を停止させて7β−アルキル−5−エン −3−オンを選択的に得る。次のステップにおいて、例えば還流THF中でD BU(1,8−ジアザビシクロ−[5.4.0]ウンデク−7−エン)の使用に よりδ−5二重結合を4−エンに異性化して、7β−アルキル−4−エン−3− オンVIを生成させる。次に、A環を80℃においてt−ブチルアルコール中で例 えば過マンガン酸カリウム、過ヨウ素酸ナトリウムで処理することにより開裂さ せて、対応するseco−酸VIIを生成させる。前記seco−酸を180℃に おいてエチレングリコール中で適当なアミン、例えばメチルアミン塩酸塩及び酢 酸ナトリウムで処理して、例えば4−メチル−4−アザ−コレスト−5−エン− 3−オンVIIIを得る。この物質を水素雰囲気中で例えばPtO2触媒で選択的に 還元し、それによって5位の二重結合を除去して5α−水素化合物IXを生成させ る。同様に、seco−酸VIIを酢酸(HOAc)中で酢酸アンモニウムで処理 して、対応するN−H化合物を生成させ得、この物質をやはり接触水素化にお いてPtO2で処理すれば、対応する5α−4N−H化合物XIを生成させるこ とができる。また、ヒドロキシルアミンま たはヒドラジンを用いてseco−酸のA環を閉じると、−Xがそれぞれ−OH または−NH2であるδ−5−4N−X化合物が得られる。(NaH処理により NH前駆体から生成する)飽和4N−化合物のアニオンをメチルスルフェニルク ロリドと反応させると、−Xが−SCH3である対応する4N−X化合物を得る ことができる。即ち、式I中のRは−OH、−NH2またはSCH3であってもよ い。 7β−エチル−コレスタン類似体 全般的フローシートにおいて述べたのと同じ類似操作によって、フローシート C及びDに示したコレスタンシリーズに7−エチル置換基を導入する。 出発物質の酢酸コレステリル(CA)は市販されている(Aldrich)。 この物質を、類似のクロムヘキサカルボニル/過酸化水素t−ブチル/アセトニ トリル酸化操作(A. J. Pearson, JCS Perkin Tr ans., p.267, 1985に記載)を用いて処理して3−アセトキシ −コレスト−5−エン−7−オンを得る。この物質をアルキルグリニャール試 薬、例えば塩化エチルマグネシウムと反応させると付加物が生成し得る。この 付加物をOppenauer条件下に酸化してジエノンを得、次にこのジエノ ンを金属−アンモニア還元すれば、7β−エチル−5−エン−3−オンを得る ことができる。この物質を、DBUを用いて4−エン−3−オンに異性化し、 これを酸化して環Aを開き、それによってseco−酸を得る。この酸をアミ ン、例えばメチルアミンで処理すれば、A環の閉じた4−メチル−4−アザ化合 物を得ることができる。この化合物を接触 水素化すれば、7−エチル−5α−4−メチル−4−アザ−コレスタン−3−オ ンを得ることができる。 同様に、seco−酸を酢酸アンモニウム/酢酸で処理することによって対 応する4−NH類似体を生成させ、この類似体を接触水素化すれば7β−エチ ル−5α−4−アザ−コレスタン−3−オン10を得ることができる。 同じ操作を行ない、ただしグリニャール試薬として塩化フェニルマグネシウム を用いて、対応する化合物50及び51を生成させる(記号Phはフェニルを表 わす)。 7−カルボキシメチル−コレスタンシリーズ 7−カルボキシ置換基を、対応する7−アリル基を介して形成する。フローシ ートCから知見されるように、7−オキソ−コレステリルアセテートをアリル グリニャール試薬と反応させて付加物11を生成させ、これをOppenaue r条件により酸化してジエノン12とする。金属−アンモニア還元によって5− エン類似体13を得、続いてDBU触媒二重結合異性化により14を得る。この 物質を重要な一ステップにおいて酸化すると、7−カルボキシメチルseco− 酸15が生成し得る。アミン、例えばアンモニアでの処理によって4−アザ誘導 体16を生成させ、この誘導体を還元してコレスタン17とする。上記アンモニ アの替わりにメチルアミンを用いると、16及び17の対応する4−メチル類似 体を得ることができる。 7−プロピル−コレスタンシリーズ 7−アリル−4−エン−3−オン14から出発して7−プロピル誘導体を製造 する。14を、ウィルキンソン触媒を用いる水素化により還元してプロピル誘導 体18とし、これを酸化してseco−酸19とし、次にアミン、例えばメチル アミンとの縮合により4−メチル類似体20とし、これを還元してコレスタン とする。フローシートEに示した、アンモニアでの対応する処理によって、対 応する非置換4−アザ類似体22及びコレスタン類似体23が得られる。 7β−メチル−コレスタンシリーズ フローシートA及びBにおいてエチル誘導体に関して述べたのと同様の経路で 、7β−メチル−コレスタンシリーズを製造する。 メチルグリニャール試薬を用いて付加物24を製造し、続いてOppenau er酸化により25を製造し、この物質を金属−アンモニア還元して26を製造 し、二重結合異性化によって27を製造し、seco−酸酸化によって28を製 造し、アンモニウム塩での処理によって29を製造し、この物質を還元して30 を製造する。メチルアミンで対応する処理を行なうと、対応する4−メチル−4 −アザ化合物31が生成し、これを還元すると32が生成する。 7β−アセトキシ−コレスタンシリーズ 出発物質33を、に関して述べたクロムヘキサカルボニル操作による酸化か 、または実施例に述べるピリジン−二クロム酸塩/t−ブチルヒドロペルオキシ ド酸化により5−エン−7−オン34とすることによって7β−アセトキシシリ ーズを製造する。得られた34を貴金属、例えば白金、ルテニウム触媒下に還元 することによって2種の生成物、即ち還元7−オキソ化合物35及び7β−ヒド ロキシ化合物36を得る。36を無水酢酸(Ac2O)でアシル化して、7β− アセトキシ化合物37を得る。DMAPはジメチルアミノピリジン、Pyはピリ ジン、Acはアセチルである。 コレスタンシリーズ中の7β−エーテルを7β−オール(7β−ヒドロキシ誘 導体)から製造した。フローシートJに示したように、4−N−メチル−7β− オール36を例えばジメチルホルムアミド中で例えばヨウ化メチル及び水素化ナ トリウムと反応させれば、対応するメチルエーテル37を生成させることができ る。他のC1〜C4エーテルも同様にして製造可能である。 R. Gardi等, Steroids 19, pp.639−647, 1972所載の類似の操作に従えば、C3〜C6シクロアルキルエーテルを製造 することができる。例えば、36を1,1−ジメトキシ−シクロヘキサンと反応 させることによってエノールエーテル38を生成させ得、このエーテルをパラジ ウム触媒水素化を用いて還元すれば対応する飽和化合物を得ることができる。 フローシートKに示した操作によって7−ハロアルキルシリーズを製造する。 7β−カルボキシ45から出発し、この物質にHunsdiecker反応条 件下での処理、即ち水銀塩の臭素化を施すと7−ブロモ誘導体40を得ることが できる。実質的に同様にして、クロロ及びヨード誘導体を製造することも可能で ある。 7−カルボキシメチル類似体17から出発することによってハロエチル化合物 を製造し得、前記類似体を還元剤、例えばボランと反応させると第一級アルコー ル41が生成し得る。このアルコールをトリフェニルホスフィン及び四臭化炭素 と反応させれば、ブロモエチル誘導体42を生成させることができる。 カルボキシメチル誘導体17から出発してハロメチル化合物を製造し得る。前 記誘導体を酸化的脱カルボキシル化条件下に四酢酸鉛で/ハロゲン化条件下に塩 化物、臭化物またはヨウ化物塩で処理して、例えば7−クロロメチル類似体43 を得る。カルボキシメチル化合物17をフッ素化剤(XeF2)で処理すると7 −フルオロメチル類似体44を得ることができる。 7−カルボキシ誘導体45から7−トリフルオロメチル誘導体を製造し得、即 ちSF4を用いる通常のDastハロゲン化条件によって7−トリフルオロメチ ル類似体46を得ることができる。 フローシートNに7−メチレンシリーズを示す。知見されるように、7−オキ ソ化合物35において例えばPh3PCH(CH2CH3)を用いるウィッティッ ヒ反応を生起させると7−(エチル)メチレン化合物47が生成する。 続いて47をシクロプロピル形成試薬、CH22及び亜鉛で処理するとエチル シクロプロピルスピロ化合物48が生成し、この化合物は立体異性体の混合物で ある。 フローシートOに、1−エン7−置換類似体の合成を示す。例えば化合物30 をDDQ、BSTFA(ビス−トリメチルシリルトリフルオロアセトアミド)及 びトリフルオロメチルスルホン酸と共にトルエンに加えて室温で24時間攪拌し 、これにアセト酢酸メチルを添加し、得られた混合物を24時間還流させ、かつ 3:1クロロホルム/アセトンを用いるシリカゲル上での分取薄層クロマトグラ フィーにより精製して49を得る。式II 本発明に有用な式IIの化合物は、以下の反応図式及び実施例、またはこれらを 容易に入手可能な出発物質、試薬、及び通常の合成操作を用いて改変したものに 従い容易に製造し得る。それらの反応では、詳述しないが当業者にはそれ自体公 知である可変部分(variants)を用いることも可能である。図式中に示 した可変部分の特定の定義は単なる説明のために挙げてあり、そこに述べる操作 を限定するものではない。ここで用いた幾つかの略号の意味は、Phがフェニル 、Acがアシル基、t−Buがt−ブチル、Etがエチル、Meがメチル、i− Amがイソアミル、EtOAcが酢酸エチルである。 図式1に示す阻害剤は次のように製造し得る。最初に、4−アザ−4−メチル −5α−アンドロスタン−3,17−ジオン(A)を次の一連の反応によって異 性体の3,16−ジオン(52)に変換する。(1)Aをカリウムt−ブトキシ ド存在下にt−ブタノール中で亜硝酸イソアミルで処理して中間体の16−オキ シイミノ−17−ケトンを生成させる。(2)17−ケト基を高温下にエチレン グリコール中でヒドラジン水和物及び水酸化カリウムで還元し て16−オキシム(B)を得る。(3)高温の酢酸水溶液での、または重硫酸ナ トリウムでの加水分解によってBの16−オキシイミノ基を開裂させ、続いて塩 酸で処理することによって(52)を得る。メタノール中のホウ水素化ナトリウ ムやテトラヒドロフラン(THF)中のリチウムトリ−s−ブチルボロヒドリド などの適当な水素化物主体の還元剤を用いて、16−ケトン(52)を16β− アルコール(53)に還元する。アルコール(53)をそのアルキルエーテル誘 導体(54)及び(55)に、まずN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)中 の水素化カリウムまたはジメチルスルホキシド(DMSO)中の水酸化カリウム でアルコキシドアニオンを発生させ、その後適当なアルキル臭化物またはヨウ化 物を添加することによって変換する。接触水素化によって、前駆体の16β−( アリルオキシ)誘導体(55)から16β−(n−プロピルオキシ)誘導体(5 6)が得られる。 図式2に示す阻害剤は次のように製造し得る。16−オキシム(B)を、酢酸 水溶液中で酸化白金などの不均一系触媒の存在下に接触水素化して16β−アミ ン(C)に変換する。(C)をピリジン、トリエチルアミン及び4−ジ メチルアミノピリジン(DMAP)などの酸受容物質の存在下に適当な酸無水物 または酸塩化物でアシル化する。このようにして実施例6及び7が得られる。図 式3に示した(59)などのカルバミン酸エステルは、アルコール(53)をト リエチルアミン、ピリジン及び4−ジメチルアミノピリジンなどの有機塩基の存 在下に適当なイソシアン酸エステルで処理して製造する。 図式4に示す阻害剤は次のように製造し得る。16β−アルコール(53)を ジエチルアザジカルボキシレート(DEAD)及びトリフェニルホスフィンの存 在下に4−ニトロ−安息香酸で処理して中間体の16α−(p−ニトロ安息香酸 )エステル(D)を生成させ、これを適当なアルコール溶媒中で塩基水溶液で加 水分解することにより16α−アルコール(60)に変換する。(60)を、ア ルコール(53)に関して先に述べたのと類似の方法でアルキル化して、図式4 に示した16α−メトキシ誘導体(実施例10)などの所望の16α−アルキル エーテルを得る。 図式5に示す7β−メチル阻害剤は図式1の例に関して先に述べたのと同様に して製造するが、ただし出発物質としては4−アザ−4,7β−ジメチル−5α −アンドロス タン−3,17−ジオン(E)を用いる。 図式6に示す7β−メチル阻害剤は次のように製造する。アルコール(63) をトリフルオロメタンスルホン酸などの有機スルホン酸の存在下にt−ブチルト リクロロアセトイミデートで処理することにより化合物(71)を製造する。最 初にテトラヒドロフランもしくはN,N−ジメチルホルムアミド中の水素化カリ ウムもしくはナトリウム、またはジメチルスルホキシド中の水酸化カリウムでア ルコール(63)からアルコキシドアニオンを発生させ、その後適当に置換した フルオロベンゼンを添加することによって、化合物(72)〜(75)などの1 6β−アリールオキシ誘導体が得られる。 図式7に示す7β−メチル阻害剤は図式4の例に関して先に述べたのと同様に して製造するが、ただし出発物質としては7β−メチル−16β−オール中間体 (63)を用いる。図式7に示すように、Mitsunobuベースの変換(t ransformation)を用いて16位の立体配置を反転し、それによっ て(F)を生成させる。既に述べたようにしてO−アルキル化を行ない、それに よって(77)などの16α−エーテルを生成させる。 図式8に示す阻害剤は次のように製造する。テトラヒドロフラン中の臭化メチ ルマグネシウムをケトン(52)または(62)に添加することによって対応す る16α−メチル−16β−アルコール(78)または(79)を得る。次に、 O−アルキル化またはO−アリール化を先の図式の説明で述べたように行ない、 それによって16α−メチル−16β−エーテル誘導体の化合物(80)または (81)を得る。 図式9に示す阻害剤は次のように製造する。7β−メチル−16α−アルコー ル(76)を、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート(DIAD)及びトリフ ェニルホスフィン存在下でのチオール酢酸での処理によって中間体の16β−チ オ酢酸エステル(G)を得、これを塩基性条件下に加水分解してチオール(H) とすることにより16β−チオール(H)に変換する。テトラヒドロフランまた はN,N−ジメチルホルムアミド中の水素化ナトリウムまたは水素化カリウムで メルカプチドアニオンを発生させ、その後適当なアルキルハロゲン化物を添加す ることによってアルキル化を行なう。このようにして化合物(82)〜(84) を製造する。前駆体チオエーテル((82)〜 (84))を有機過酸や、水性メタノール中のカリウムペルオキシモノスルフェ ート(OXONE)といった酸化剤で処理することによって、化合物(85)な どの対応するスルホンが得られる。 図式10に示す阻害剤は、次の合成経路を経て製造する。p−ニトロフェノキ シ誘導体(101)をH2雰囲気中で室温において、Pd−炭を用いて還元し、 それによってp−アミノ−フェノキシ誘導体(102)を得る。このアミンをピ リジン存在下に塩化メチレン中の塩化アセチルでアシル化してp−アセチルアミ ノフェノキシ誘導体(103)を得るか、または塩化ベンゾイルで同様に処理し て、対応するp−ベンゾイルアミノ類似体(104)を得る。あるいはまた、ア ミノ化合物(102)を塩化トシルで処理してp−トシルアミノ類似体(105 )を得る。 図式11に示す阻害剤は次のように製造する。N−2,4−ジメトキシベンジ ル保護16−アルコール(106)をジメチルホルムアミド中でp−フルオロク ロロベンゼン及び水素化カリウムで処理してp−クロロフェノキシ誘導体(10 7)を得、この誘導体を塩化メチレン中でトリフルオロ酢酸で処理し、それによ ってN−2,4−ジメトキ シベンジル保護基を除去して(108)を得る。この物質をメタノール中で水素 ガス及びパラジウム−炭触媒で処理し、それによってフェニル環を脱塩素化して フェノキシ誘導体(109)を得る。この化合物をジメチルホルムアミド中でヨ ウ化メチル及び水素化ナトリウムで処理し、それによって環窒素をメチル化して (112)を得る。あるいはまた、(109)をトルエン中でDDQ及びBST FAで処理し、それによって1位に二重結合を導入して(110)を得る。同じ 還元反応操作を用いて、1,2−ジヒドロアンドロスタン(108)からp−ク ロロアンドロスト−1−エン(111)が得られる。この物質を、ジメチルホル ムアミド中でヨウ化メチル、水素化ナトリウムで処理することにより1位におい てメチル化すれば(113)が得られる。 図式12に示す阻害剤は、図式11に関して述べたのと同様の反応経路を経て 製造する。N−2,4−ジメトキシベンジル保護16−アルコール(106)を ジメチルホルムアミド中で4−メチル−3−クロロフルオロベンゼン及び水素化 カリウムで処理して4−メチル−3−クロロフェノキシ誘導体(114)を得、 この誘導体を塩化メチレン 中でトリフルオロ酢酸で処理し、それによってN−2,4−ジメトキシベンジル 保護基を除去して(115)を得る。この物質をメタノール中で水素ガス及びパ ラジウム−炭で処理し、それによってフェニル環を脱塩素化してp−メチルフェ ノキシ誘導体(116)を得る。この化合物をジメチルホルムアミド中でヨウ化 メチル及び水素化ナトリウムで処理し、それによって環窒素をメチル化して(1 18)を得る。あるいはまた、(116)をトルエン中でDDQ及びBSTFA で処理し、1位に二重結合を導入して(117)を得る。 図式13の阻害剤は次のように製造する。出発物質の16−アルコール(76 )を、DMAPを含有するピリジン中でメタンスルホン酸で処理してメシル酸エ ステル(119)を得る。この物質を、水素化ナトリウムを含有する無水THF 中で適当なチオフェノールで処理して、チオフェノキシ(120)、4−クロロ チオフェノキシ(121)、4−フルオロチオフェノキシ(122)、4−メチ ルチオフェノキシ(127)及び4−メトキシ−チオフェノキシ(124)誘導 体を得る。チオフェノキシ誘導体(120)を0℃において1時間、塩化メチレ ン中でm−クロロ ペル安息香酸で処理してフェニルスルフィニル誘導体(125)を得る。フェニ ルスルフィニル化合物(125)を上記と同じ反応条件下に、ただし時間を3時 間に延長して処理すればフェニルスルホニル誘導体(126)が得られる。 図式14の阻害剤は次のように製造する。16−ケトン(62)を80〜10 0℃においてDMF中で水素化ナトリウムを用いるウィッティッヒ条件下に適当 なアリールメチルジエチルホスホネートで処理して、対応する4−クロロベンジ リデン(128)、ベンジリデン(127)及び4−メチルベンジリデン(12 9)類似体を得る。これらを、5%ロジウム−炭触媒を用いて水素雰囲気下にエ タノール中で還元して、対応する4−クロロベンジル(130)及び4−メチル ベンジル(131)誘導体を得る。同じ二段階方式で3−ピリジル−メチル類似 体(132)を製造する。 本発明は別の構成において、局所及び/または全身投与による尋常性アクネの 治療において5α−レダクターゼ1及び/または2阻害剤を、抗菌薬、抗炎症薬 及び角質溶解薬またはこれらの組み合わせの中から選択した少なくとも1種の薬 剤と併用することを含む組み合わせ式方法も提供する。 本発明の化合物の、選択的5α−レダクターゼ1もしくは2阻害剤または二重 阻害剤としての活性は、次の生物学的アッセイによって確認し得る。 生物学的アッセイ ヒト前立腺及び頭皮5α−レダクターゼの調製 ヒト組織の試料をフリーザーミルを用いて粉砕し、これをPotter−El vehjemホモジナイザーを用いて、40mMリン酸カリウム、pH6.5、 5mM硫酸マグネシウム、25mM塩化カリウム、1mMフェニルメチルスルホ ニルフルオリド、0.25Mスクロースを含有する1mMジチオトレイトール( DTT)中にホモジナイズした。ホモジネートを1,500×gで15分間遠心 することにより、粗な核ペレットを調製した。粗な核ペレットを2回洗浄し、2 体積部の緩衝液中に再懸濁させた。再懸 濁させた核ペレットにグリセロールを添加し、最終濃度を20%とした。酵素懸 濁液を−80℃で凍結し、複数のアリコートとした。前立腺及び頭皮レダクター ゼは、上記条件下に貯蔵したところ少なくとも4ヶ月間安定であった。クローン化酵素プロトコル IC50確認のため、試験用の5α−レダクターゼ1及び2阻害剤をエタノール に溶解させ、これを連続稀釈して適当な濃度とした。バキュロウイルス発現組み 換え体1型5α−レダクターゼを40mMリン酸ナトリウム、pH7.0、50 0μM NADPH、1mM DTT及び1mg/ml BSA中で阻害剤(0 .1〜1,000nM)と共に4℃で18時間予めインキュベートした。反応は 、[7−3H]T(NEN; 20Ci/mmol)を添加し、NADPHを最 終濃度0.3μMとなるまで添加し、かつ37℃で90分間インキュベートする ことにより開始させた。同様に、バキュロウイルス発現2型5α−レダクターゼ を40mMクエン酸ナトリウム、pH5.5、500μM NADPH、1mM DTT及び1mg/mlBSA中で阻害剤(1〜10,000nM)と共に4 ℃で18時間予めインキュベートした。反応は、[7−3H] T(NEN; 20Ci/mmol)及びNADPHを最終濃度0.3μM及び 500μMとなるまでそれぞれ添加することによって開始させた。TのDHTへ の変換を、逆相HPLC(Whatman RAC II C18カラム; 1m l/分の、水:メタノール(42:58)中の0.1%TFA; 保持時間はT が6.3分、DHTが9.7分)での分離後に放射能流(radioflow) 検出器を用いて監視した。5α−レダクターゼアッセイ 1型5α−レダクターゼのための反応混合物には40mMリン酸カリウム、p H6.5、5μM [7−3H]−テストステロン、1mMジチオトレイトール 及び500μM NADPHを含有させ、その最終体積を100μlとした。2 型5α−レダクターゼのための反応混合物には40mMクエン酸ナトリウム、p H5.5、0.3μM[7−3H]−テストステロン、1mMジチオトレイトー ル及び500μM NADPHを含有させ、その最終体積を100μlとした。 アッセイは典型的には、50〜100μgの前立腺ホモジネートまたは75〜2 00μgの頭皮ホモジネートを添加し、37℃でインキュベートするこ とによって開始した。10〜50分後、各10μのDHT及びTを含有する70 %シタロヘキサン:30%酢酸エチルの混合物250μlでの抽出によって反応 を停止させた。水性層と有機層とを、Eppendorfマイクロ遠心機(mi crofuge)における14,000rpmでの遠心により分離した。有機相 を順相HPLC(1ml/分の70%シクロヘキサン:30%酢酸エチルで平衡 させた10cm Whatman partisil 5シリカカラム; 保持 時間はDHTが6.8〜7.2分、アンドロスタンジオールが7.6〜8.0分 、Tが9.1〜9.7分)に掛けた。HPLCシステムは、Hitachi M odel 655Aオートサンプラー、Applied Biosystems Model 757可変UV検出器、及びRadiomatic Model A120放射線分析機を具備したWaters Model 680 Gra dient Systemから成った。TのDHTへの変換を、HPLC流出液 を1体積部のFlo Scint 1(Radiomatic)と混合すること により放射能流検出器を用いて監視した。上記条件下に、DHTの生成は少なく とも25分間線形であった。ヒト前 立腺及び頭皮調製物において観察されたステロイドは、T、DHT及びアンドロ スタンジオールのみであった。阻害検査 化合物を100%エタノールに溶解させた。IC50値は、酵素活性を対照の5 0%に低下させるのに必要な阻害剤濃度である。阻害剤濃度を0.1nMから1 ,000nMまで変化させる6点滴定を用いてIC50値を測定した。 本明細書で5α−レダクターゼ1阻害剤と呼称する化合物は上述のアッセイに おいて5α−レダクターゼ1アイソザイムの阻害を示す、約600nM以下のI C50を有する化合物である。 本明細書で5α−レダクターゼ2阻害剤と呼称する化合物は上述のアッセイに おいて5α−レダクターゼ2アイソザイムの阻害を示す、約600nM以下のI C50を有する化合物である。 本明細書で5α−レダクターゼ1及び2二重阻害剤と呼称する化合物は、上述 のアッセイにおいて5α−レダクターゼ1アイソザイムと5α−レダクターゼ2 アイソザイムとの両方の阻害を示す、1型及び2型のいずれに関しても約600 nM以下、好ましくは約100nM以下のIC50 を有する化合物である。ファジーラットアクネモデル 成体ファジーラットは、体毛の成長が止まり、背中の皮膚全体が褐色の脂漏で 覆われ、かつ循環するアンドロゲンに起因することが証明されている思春期後の 皮脂生成が異常に増大しているラットの一変種である。選択した当該5α−レダ クターゼ阻害剤を、プロピレングリコール、イソプロパノール、ミリスチン酸イ ソプロピル及び水(50/30/2/18%)から成る賦形剤に加えてその0. 1、0.05及び0.025%溶液を製造し、これを雄の成体ファジーラットの 背中に4週間毎日動物1匹当たり0.2mlの量で局所適用する。対照には賦形 剤のみを与え、その際5匹の対照は去勢しておく。2週間後、脂漏が投与量に応 じて減少する。4週間後、殺す2時間前にブロモデオキシウリジン(BrdU; 200mg/kg)を腹腔内注射する。皮膚組織をリン酸塩緩衝液中でEDT A(20mM)と共に37℃で1.5時間インキュベートする。表皮に付着(a ttach)した毛嚢脂腺単位を真皮から剥離し、BrdUの免疫染色のために ホルマリンで固定する。BrdU陽性核を有するDNA合成細胞は外腺縁(ou t er glandular border)に位置する。1葉当たりのS期細胞 の数を微小映像装置で確認する。ホルマリン固定皮膚を用い、凍結連続断面を1 %オスミウムで染色し、葉の大きさを測定する。陽性の皮膚5α−レダクターゼ 阻害剤は腺細胞の交代速度を抑えることによって皮脂生成の抑制を誘導し、かつ 葉の大きさの減少をもたらす。 代表的な式I及びIIの化合物を上述の阻害アッセイにおいて、5α−レダクタ ーゼ1型及び2型の阻害に関して試験した。5α−レダクターゼ1型の阻害では 、上記化合物は600nMより小さいIC50値を有し、その際大部分の化合物は 通常約0.3〜約200nMのIC50値を有する。5α−レダクターゼ2型の阻 害では、同じ上記化合物は約155nMより大きいIC50値を有し、その際大部 分の化合物は1,000nMを上回るIC50値を有する。上記化合物は通常、5 α−レダクターゼ1型の阻害において5α−レダクターゼ2型の阻害の場合の少 なくとも2倍の選択性を有し、その際大部分の化合物の5α−レダクターゼ1型 阻害時の選択性は5α−レダクターゼ2型阻害時の選択性の10倍である。これ らの結果は、本発明の 化合物が過アンドロゲン状態の治療に有用であることを証明している。 本明細書で5α−レダクターゼ1阻害剤と呼称する化合物は、上述のアッセイ において5α−レダクターゼ1アイソザイムの阻害を示す化合物である。 本明細書で5α−レダクターゼ2阻害剤と呼称する化合物は、上述のアッセイ において5α−レダクターゼ2アイソザイムの阻害を示す化合物である。 本発明を、その特定の具体例を参照して説明してきたが、様々な変更、変形及 び置き換えが本発明の思想及び範囲を逸脱せずに可能であることは当業者には理 解されよう。例えば、先に示した本発明の化合物についての任意の指示に関し治 療する哺乳動物の応答性が変化する結果として、先に本明細書中に示した特定の 投与量以外の有効投与量が適用可能となる場合が有る。同様に、観察される特定 の薬理学的応答は選択した特定の活性化合物次第で、あるいはまた医薬用キャリ ヤが存在するかどうかによって、更には用いる剤形及び投与方式次第でも変化し 得、このように予測される結果の変動もしくは相違は本発明の目的及び実施に即 して勘案される。従って、本発明は後出の請求の範囲に よって限定され、この請求の範囲は合理的であるかぎりは広く解釈されるものと する。 本発明に有用な抗菌薬は、グラム陽性菌類及びグラム陰性菌類を含めた、アク ネに関連する様々な細菌に対して活性である。アクネに関連する特定の細菌の一 つに、Propionibacterium acnesが有る。 抗菌薬は、アミノグリコシド類、アムフェニコール類、アンサマイシン類、カ ルバペネム、セファロスポリン、セファマイシン、モノバクタム、オキサセフェ ム及びペニシリンを含めたβ−ラクタム類、リンコサミド類、マクロライド類、 ポリペプチド類、テトラサイクリン類、2,4−ジアミノピリミジン類、ニトロ フラン類、キノロン類、スルホンアミド類、スルホン類、並びに他の構造を有す る種類の中から選択し得る。 非限定的な特定の抗菌薬が“The Merck Index, Eleve nth Edition,” 1989(Merck & Co., Inc. 発行)に列挙されており、それらの中には次のものが含まれる。アミノグリコシド : アミカシン、アプラマイシン、アルベカシン、バンベル マイシン、ブチロシン、ジベカシン、ジヒドロストレプトマイシン、ホルチマイ シン、ゲンタマイシン、イセパマイシン、カナマイシン、ミクロノマイシン、ネ オマイシン、ウンデシレン酸ネオマイシン、ネチルマイシン、パロモマイシン、 リボスタマイシン、シソマイシン、スペクチノマイシン、ストレプトマイシン、 ストレプトニコジド、トブラマイシン。アムフェニコール : アジダムフェニコール、クロラムフェニコール、パルミチン酸クロラムフェニ コール、パントテン酸クロラムフェニコール、フロルフェニコール、チアムフェ ニコール。アンサマイシン : リファミド、リファンピン、リファマイシンSV、リファキシミン。β−ラクタムカルバペネム : イミペネム。セファロスポリン : セファクロル、セファドロキシル、セファマンドール、セファトリジン、セフ ァゼドン、セファゾリン、セフィキ シム、セフメノキシム、セホジジム、セホニシド、セホペラゾン、セホラニド、 セホタキシム、セホチアム、セフピミゾール、セフピラミド、セフポドキシムプ ロキセチル、セフロキサジン、セフスロジン、セフタジジム、セフテラム、セフ テゾール、セフチブテン、セフチゾキシム、セフトリアキソン、セフロキシム、 セフゾナム、セファセトリルナトリウム、セファレキシン、セファログリシン、 セファロリジン、セファロスポリンC、セファロチン、セファピリンナトリウム 、セフラジン、ピブセファレキシン。セファマイシン : セフブペラゾン、セフメタゾール、セフミノックス、セホテタン、セホキシチ ン。モンバクタム : アズトレオナム、カルモナム、チゲモナム。オキサセフェム : フロモキセフ、モキソラクタム。ペニシリン : アミジノシリン、アミジノシリンピボキシル、アモキシシリン、アンピシリン 、アパルシリン、アスポキシシリン、アジドシリン、アズロシリン、バカンピシ リン、ベンジル ペニシリン酸、ベンジルペニシリンナトリウム、カルベニシリン、カルフェシリ ンナトリウム、カリンダシリン、クロメトシリン、クロキサシリン、シクラシリ ン、ジクロキサシリン、ジフェニシリンナトリウム、エピシリン、フェンベニシ リン、フロキサシリン、ヘタシリン、レナンピシリン、メタンピシリン、メチシ リンナトリウム、メズロシリン、ナフシリンナトリウム、オキサシリン、ペナメ シリン、ペネタメートヨウ化水素酸塩、ペニシリンGベネタミン、ペニシリンG ベンザチン、ペニシリンGベンズヒドリルアミン、ペニシリンGカルシウム、ペ ニシリンGヒドラバミン、ペニシリンGカリウム、ペニシリンGプロカイン、ペ ニシリンN、ペニシリンO、ペニシリンV、ペニシリンVベンザチン、ペニシリ ンVヒドラバミン、ペニメピサイクリン、フェネチシリンカリウム、ピペラシリ ン、ピバンピシリン、プロピシリン、キナシリン、スルベニシリン、タランピシ リン、テモシリン、チカルシリン。リンコサミド : クリンダマイシン、リンコマイシン。マクロライド : アジスロマイシン、カルボマイシン、クラリスロマイシ ン、エリスロマイシン、エリスロマイシンアシストレート、エリスロマイシンエ ストレート、エリスロマイシングルコヘプトネート、エリスロマイシンラクトビ オネート、プロピオン酸エリスロマイシン、ステアリン酸エリスロマイシン、ジ ョサマイシン、ロイコマイシン、ミデカマイシン、ミオカマイシン、オレアンド マイシン、プリマイシン、ロキタマイシン、ロサラマイシン、ロキシスロマイシ ン、スピラマイシン、トロレアンドマイシン。ポリペプチド : アンホマイシン、バシトラシン、カプレオマイシン、コリスチン、エンズラシ ジン、エンビオマイシン、フサフンジン、グラミシジン、グラミシジンS、ミカ マイシン、ポリミキシン、ポリミキシンB−メタンスルホン酸、プリスチナマイ シン、リストセチン、テイコプラニン、チオストレプトン、ツベラクチノマイシ ン、タイロシジン、タイロスライシン、バンコマイシン、ビオマイシン、パント テン酸ビオマイシン、ビルギニアマイシン、亜鉛バシトラシン。テトラサイクリン : アピサイクリン、クロルテトラサイクリン、クロモサイクリン、デメクロサイ クリン、ドキシサイクリン、グアメ サイクリン、ライメサイクリン、メクロサイクリン、メタサイクリン、ミノサイ クリン、オキシテトラサイクリン、ペニメピサイクリン、ピパサイクリン、ロリ テトラサイクリン、サンサイクリン、セノサイクリン、テトラサイクリン。2,4−ジアミノピリミジン : ブロジモプリム、テトロキソプリム、トリメトプリム。ニトロフラン : フラルタドン、塩化フラゾリウム、ニフラデン、ニフラテル、ニフルホリン、 ニフルピリノール、ニフルプラジン、ニフルトイノール、ニトロフラントイン。キノロン : アミフロキサシン、シノキサシン、シプロフロキサシン、ジフロキサシン、エ ノキサシン、フレロキサシン、フルメキン、ロメフロキサシン、ミロキサシン、 ナリジキシン酸、ノルフロキサシン、オフロキサシン、オキソリン酸、ペフロキ サシン、ピペミド酸、ピロミド酸、ロソキサシン、テマフロキサシン、トスフロ キサシン、フルオロキノロンのOPC 7251(Otsuka)。スルホンアミド : アセチルスルファメトキシピラジン、アセチルスルフイソオキサゾール、アゾ スルファミド、ベンジルスルファミド、クロラミンB、クロラミンT、ジクロラ ミンT、ホルモスルファチアゾール、N−ホルミルスルフイソミジン、N−β− D−グルコシルスルファニルアミド、マフェニド、4′−(メチルスルファモイ ル)スルファニルアニリド、p−ニトロスルファチアゾール、ノプリルスルファ ミド、フタリルスルファセトアミド、フタリルスルファチアゾール、サラゾスル ファジミジン、スクシニルスルファチアゾール、スルファベンズアミド、スルフ ァセトアミド、スルファクロルピリダジン、スルファクリソイジン、スルファサ イチン、スルファジアジン、スルファジクラミド、スルファジメトキシン、スル ファドキシン、スルファエチドール、スルファグアニジン、スルファグアノール 、スルファレン、スルファロキシ酸(sulfaloxic acid)、スル ファメラジン、スルファメーテル、スルファメタジン、スルファメチゾール、ス ルファメトミジン、スルファメトキサゾール、スルファメトキシピリダジン、ス ルファメトロール、スルファミドクリソイジン、スルファモキソール、スルファ ニルアミド、スルファニルアミ ドメタンスルホン酸トリエタノールアミン塩、4−スルファニルアミドサリチル 酸、N−スルファニリルスルファニルアミド、スルファニリル尿素、N−スルフ ァニリル−3,4−キシルアミド、スルファニトラン、スルファペリン、スルフ ァフェナゾール、スルファプロキシリン、スルファピラジン、スルファピリジン 、スルファソミゾール、スルファサイマジン、スルファチアゾール、スルファチ オ尿素、スルファトルアミド、スルフイソミジン、スルフイソオキサゾール。スルホン : アセダプソン、アセジアスルホン、アセトスルホンナトリウム、ダプソン、ジ アチモスルホン、グルコスルホンナトリウム、ソラスルホン、スクシスルホン、 スルファニル酸、p−スルファニリルベンジルアミン、p,p′−スルホニルジ アニリン−N,N′−ジガラクトシド、スルホキソンナトリウム、チアゾールス ルホン。その他 : シクロセリン、ムピロシン、ツベリン、クロホクトール、ヘキセジン、メテナ ミン、無水メチレンクエン酸メテナミン、馬尿酸メテナミン、マンデル酸メテナ ミン、スルホサ リチル酸メテナミン、ニトロキソリン、キシボルノール、過酸化ベンゾイル。 本発明の方法において非常に有用な抗菌薬は、クリンダマイシン、エリスロマ イシン、テトラサイクリン、過酸化ベンゾイル、メクロサイクリン、クロラムフ ェニコール、ネオマイシン、メトロニダゾール及びOPC 7251(Otsu ka)である。 本発明に有用な角質溶解薬、例えばサリチル酸は場合によっては、軽症のアク ネの治療に用い得る殺菌薬として活性である。本明細書中に用いた「角質溶解薬 」という語は、角質溶解特性を示す化合物であって、場合によっては抗菌薬の特 性も示し得る例えば過酸化ベンゾイルなどの化合物を意味する。角質溶解薬は、 P. acnesの集団を縮小して角質増殖症の軽減を容易にすることにより炎 症性及び/または非炎症性アクネ病変を改善することによって機能する。 非限定的な特定の角質溶解薬が“The Merck Index, Ele venth Edition,” 1989(Merck & Co., In c.発行)に列挙されており、それらの中にはアルゲストンアセトフェ ニド、アゼライン酸、サイオクトル、ジクロロ酢酸、メトロニダゾール、モトレ チニド、レゾルシノール、サリチル酸、硫黄、テトロキノン、及びグリコール酸 を含めたα−ヒドロキシ酸が含まれる。 本発明の方法において非常に有用な角質溶解薬は、アゼライン酸、サリチル酸 及びグリコール酸である。 本発明に有用な抗炎症薬は、グラム陽性菌類及びグラム陰性菌類を含めた、ア クネに関連する様々な細菌によって惹起される炎症に対して活性である。アクネ に関連する特定の細菌の一例にPropionibacterium acne sが有る。 抗炎症薬はステロイド系であっても非ステロイド系であってもよい。非ステロ イド系抗炎症薬は、アミノアリールカルボン酸誘導体類、アリール酢酸誘導体類 、アリール酪酸誘導体類、アリールカルボン酸類、アリールプロピオン酸誘導体 類、ピラゾール類、ピラゾロン類、サリチル酸誘導体類、チアジンカルボキサミ ド類、及び他の構造を有する種類の中から選択し得る。 非限定的な特定の非ステロイド系抗炎症薬が“The Merck Inde x, Eleventh Edit ion,” 1989(Merck & Co., Inc.発行)に列挙され ており、それらの中には次のものが含まれる。アミノアリールカルボン酸誘導体 : エンフェナム酸、エトフェナメート、フルフェナム酸、イソニキシン、メクロ フェナム酸、メフェナム酸、ニフルム酸、タルニフルメート、テロフェナメート 、トルフェナム酸。アリール酢酸誘導体 : アセメタシン、アルクロフェナック、アンフェナック、ブフェキサマック、シ ンメタシン、クロピラック、ジクロフェナックナトリウム、エトドラック、フェ ルビナック、フェンクロフェナック、フェンクロラック、フェンクロズ酸、フェ ンチアザック、グルカメタシン、イブフェナック、インドメタシン、イソフェゾ ラック、イソキセパック、ロナゾラック、メチアジン酸、オキサメタシン、プロ グルメタシン、スリンダック、チアラミド、トルメチン、ゾメピラック。アリール酪酸誘導体 : ブマジゾン、ブチブフェン、フェンブフェン、キセンブ シン。アリールカルボン酸 : クリダナック、ケトロラック、チノリジン。アリールプロピオン酸誘導体 : アルミノプロフェン、ベノキサプロフェン、ブクロキシ酸、カルプロフェン、 フェノプロフェン、フルノキサプロフェン、フルルビプロフェン、イブプロフェ ン、イブプロキサム、インドプロフェン、ケトプロフェン、ロキソプロフェン、 ミロプロフェン、ナプロキセン、オキサプロジン、ピケトプロフェン、ピルプロ フェン、プラノプロフェン、プロチジン酸、スプロフェン、チアプロフェン酸。ピラゾール : ジフェナミゾール、エピリゾール。ピラゾロン : アパゾン、ベンズピペリロン、フェプラゾン、モフェブタゾン、モラゾン、オ キシフェンブタゾン、フェニルブタゾン、ピペブゾン、プロピフェナゾン、ラミ フェナゾン、スキシブゾン、チアゾリノブタゾン。サリチル酸誘導体 : アセトアミノサロール、アスピリン、ベノリレート、ブ ロモサリゲニン、アセチルサリチル酸カルシウム、ジフルニサール、エテルサレ ート、フェンドサール、ゲンチジン酸、サリチル酸グリコール、サリチル酸イミ ダゾール、アセチルサリチル酸リシン、メサラミン、サリチル酸モルホリン、サ リチル酸1−ナフチル、オルサラジン、パルサルミド、アセチルサリチル酸フェ ニル、サリチル酸フェニル、サルアセトアミド、サリチルアミドO−酢酸、サリ チル硫酸、サルサレート、スルファサラジン。チアジンカルボキサミド誘導体 : ドロキシカム、イソキシカム、ピロキシカム、テノキシカム。他の構造を有する種類 : ε−アセトアミドカプロン酸、S−アデノシルメチオニン、3−アミノ−4− ヒドロキシ酪酸、アミキセトリン、ベンダザック、ベンジダミン、ブコローム、 ジフェンピラミド、ジタゾール、エモルファゾン、グアヤズレン、ナブメトン、 ニメスリド、オルゴテイン、オキサセプロール、パラニリン、ペリソキサール、 ピホキシム、プロカゾン、プロキサゾール、テニダップ。 特定のステロイド系抗炎症薬が“The Merck Index, Eleventh Edition,” 1989(Merck & Co., Inc.発行)に列挙されており、それらの中には次のものが 含まれる。グルココルチコイド : 21−アセトキシプレグネノロン、アルクロメタゾン、アルゲストン、アンシ ノニド、ベクロメタゾン、ベタメタゾン、ブデソニド、クロロプレドニゾン、ク ロベタゾール、クロベタゾン、クロコルトロン、クロプレドノール、コルチコス テロン、コルチゾン、コルチバゾール、デフラザコルト、デソニド、デスオキシ メタゾン、デキサメタゾン(dexamethaxsone)、ジフロラゾン、 ジフルコルトロン、デフルプレドネート、エノキソロン、フルアザコルト、フル クロロニド、フルメタゾン、フルニソリド、フルオシノロンアセトニド、フルオ シノニド、フルオコルチンブチル、フルオコルトロンフルジョロメトロン、酢酸 フルペロロン、酢酸フルプレドニデン、フルプレドニソロン、フルランドレノリ ド、ホルモコルタール、ハルシノニド、ハロメタゾン、酢酸ハロプレドン、ヒド ロコルタメート、ヒドロコルチゾン、酢酸ヒドロコルチゾン、リン酸ヒドロコル チゾン、ヒドロコルチゾン21−ナトリウム スクシネート、ヒドロコルチゾンテブテート、マジプレドノン、メドリゾン、メ プレドニゾン、メチルプレドニゾノール、モメタゾンフロエート、パラメタゾン プレドニカルベート、プレドニゾロン、プレドニゾロン21−ジエチルアミノア セテート、プレドニゾロンナトリウムホスフェート、プレドニゾロンナトリウム スクシネート、プレドニゾロンナトリウム21−m−スルホベンゾエート、プレ ドニゾロン21−ステアロイルグリコレート、プレドニゾロンテブテート、プレ ドニゾロン21−トリメチルアセテート、プレドニゾン、プレドニバール、プレ ドニリデン、プレドニリデン21−ジエチルアミノアセテート、チキソコトロー ル、トリアンシノロン、トリアンシノロンアセトニド、トリアンシノロンベネト ニド、トリアンシノロンヘキサセトニド。 本発明の方法において非常に有用な抗炎症薬は、プレドニソン、プレドニソロ ン等を含めたグルココルチコイドである。 5α−レダクターゼ1もしくは2阻害剤またはこれらの混合物、抗炎症薬、角 質溶解薬及び抗菌薬はいずれも分離もしくは同時投与形態で、または一つの製剤 として一緒に 経口、全身または局所投与可能である。有用な一プロトコルでは、抗炎症薬、角 質溶解薬及び抗菌薬を局所的に用い、5α−レダクターゼ1及び/または2阻害 剤は経口で用いる。併用薬剤を別個の投与製剤中に存在させる組み合わせ式治療 では前記薬剤を一度に投与し得、または時間をずらして別々に投与し得る。 例えば、4,7β−ジメチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オンなどの 式Iの化合物及び抗菌薬、即ちエリスロマイシンは一回局所投与製剤中に存在さ せて一緒に投与し得、あるいはまた各活性薬剤を特定の投与製剤中に存在させて 、例えば経口投与製剤(5α−レダクターゼ阻害剤)と局所投与エリスロマイシ ン製剤という別個の製剤として、もしくは式Iの化合物の経口投与製剤と組み合 わせた抗菌薬の局所投与製剤として別々に投与することも可能である。例えば、 5α−レダクターゼ阻害剤の投与及び製剤について開示している米国特許第4, 377,584号及び同第4,760,071号を参照されたい。 有用な組み合わせの一つに、過酸化ベンゾイルエリスロマイシンと5α−レダ クターゼ1阻害剤、例えば3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β −(4−クロ ロフェノキシ)−5α−アンドロスタンとの組み合わせが有る。 先に述べた方法において、式I及びIIの5α−レダクターゼ1阻害剤化合物の 1日当たりの投与量は、成人1人当たり0.1〜1,000mgときわめて広範 囲であり得る。本発明の新規な化合物のうちの或るものの有効量は通常、1日当 たり体重1kgにつき約0.002〜50mg、特に約0.01〜7mgである 。 角質溶解薬は、1日当たりの投与量を0.025〜0.1重量%含有クリーム 剤またはゲル剤として局所投与する。 抗菌薬の1日当たりの全身投与量は成人1人当たり約1〜2,000mg、特 に約200〜1,000mgである。ヒトの体重1kg当たりの抗菌薬量は1日 につき1〜50mgである。 抗炎症薬の1日当たりの局所または全身投与量は成人1人当たり約0.01〜 2,000mg、特に約1〜1,000mgである。ヒトの体重1kg当たりの 抗炎症薬量は1日につき0.02〜40mgである。 軽症のアクネからさほど重症でないアクネまでの場合は通常毎日の局所療法を 指示して、副作用を伴うより過酷な 全身療法の前記副作用を回避する。さほど重症でないアクネから重症のアクネま での場合は通常全身療法を採用し、この療法は、是認される場合は局所療法と組 み合わせることも可能である。疾患の重篤度に依存する療法の継続期間は3〜6 ヵ月間、場合によっては数年とし得る。 本発明の化合物と併用薬剤との組み合わせは1日当たりの投与量を一度に投与 することが有利であり得、あるいはまた1日当たりの総投与量を2回、3回また は4回に分割投与することも可能である。本発明の化合物と併用薬剤との組み合 わせを、適当な鼻腔内用賦形剤の局所使用を介して鼻腔内投与形態で投与したり 、当業者に良く知られた経皮投与用皮膚パッチの形態を用いて経皮的経路から投 与することも可能である。経皮送達系の形態で投与する場合には当然ながら、投 与方式の全体を通じて投与量投与を断続的にではなく連続的に行なう。 尋常性アクネの治療では、本発明の化合物を治療有効量のフィナステリドなど の5α−レダクターゼ2阻害剤と組み合わせて、経口、全身または非経口投与用 の一回医薬製剤とすることも可能である。また、尋常性アクネの皮膚及び頭皮関 連障害に用いるべく、本発明の化合物及び5α− レダクターゼ2阻害剤を局所投与用に配合することも可能である。あるいはまた 、式Iの化合物及び5α−レダクターゼ2阻害剤を別個の経口、全身、非経口ま たは局所投与製剤中に存在させて投与する組み合わせ式療法を用い得る。例えば 、式Iの化合物及びフィナステリドは一回経口または局所投与製剤中に存在させ て投与し得、あるいはまた各活性薬剤を別個の投与製剤、例えば別個の経口投与 製剤中に存在させて、もしくは式Iの化合物の局所投与製剤と組み合わせたフィ ナステリドの経口投与製剤として投与することも可能である。例えば、5α−レ ダクターゼ阻害剤の投与及び製剤について開示している米国特許第4,377, 584号及び同第4,760,071号を参照されたい。活性薬剤を別個の投与 製剤中に存在させる場合、それらの薬剤は一度に投与し得、または時間をずらし て別々に投与し得る。 ステロイド系と非ステロイド系との両方の、本発明に用い得る他の5α−レダ クターゼ2阻害剤には、(開発会社及び関連する開示を有する刊行物/特許によ って列挙された)次のものが含まれる。ステロイド系: SmithKline Beecham(SKB) ―国際特許出願公開第91/ 13550号及び同第93/19758号に開示されたEpristeride (SK&F105657); 国際特許出願公開第94/00121号に開示さ れた4−アザ−不飽和ステロイド−17−アシル誘導体; 国際特許出願公開第 94/00125号に開示された17−アシル−3−カルボキシエストラン; 国際特許出願公開第94/11386号に開示された二重阻害剤としての17− アルキル(またはアラルキル)アシル類似体; 国際特許出願公開第94/11 385号に開示された17α−アシル−3−カルボキシステロイド。Sankyo ―特開平5−170789号に開示された11−酸素化4−アザ− 17−(ベンズヒドリルカルバモイル)ステロイド; 特開平5−213987 号に開示されたB−ノル類似体; ヨーロッパ特許第0484094号に開示さ れたSKB型阻害剤としての17−N−(ベンズヒドリル; ベンジルカルバモ イル)類似体。Glaxo ―国際特許出願公開第93/13124号及び米国特許第5,528 ,589号に開示された4,6−シクロ−6−アザ誘導体; 国際特許出願公開 第94/14 833号に開示された、たとえばアニリドを含めた6−アザ−17−アリールX 化合物。Farmitalia ―Turosteride、米国特許第5,155,10 7号に開示されたアザステロイド、及び国際特許出願公開第92/20700号 に開示されたSKB類似体; 国際特許出願公開第94/03475号に開示さ れたフッ素化アミド側鎖; 国際特許出願公開第94/03474号及び同第9 4/03476号に開示されたα−アミノケトンの17−カルボキサミド及びフ ッ素化アシル尿素; 英国特許第2,273,096号に開示されたアザステロ イド系16,17−ピペリジノン誘導体。Ciba−Geigy ―ヨーロッパ特許第0538192号に開示された、シア ノ置換を有する4−アザステロイド系17−アシル。Richter Gedeon ―国際特許出願公開第94/07909号に開示 されたピペリジノ/ピロリジノ4−アザステロイド系17−カルボキサミド。Merrill−Dow ―米国特許第5,143,909号、同第5,120, 840号及び同第5,130,424号に開示された4−アミノ−3−オキソ− 4−エンステ ロイド; ヨーロッパ特許第435321号に開示されたA−ノル−3−カルボ キシステロイド。非ステロイド系: Fujisawa ―特開平5−178856号に開示されたインドリジン−酪酸 ; 国際特許出願公開第93/05019号に開示された3,4−二置換インド ール誘導体; ヨーロッパ特許第0519353号に開示されたインドリジン; 国際特許出願公開第93/16996号に開示された1,3−二置換インドー ル。Ono ―特開平5−140062号に開示された、oxybutric保有環上 のニトロ置換基。Kyowa Hakko Kogyo KK ―ヨーロッパ特許第511477号 に開示された、Ono様構造、特にKF−18678上の5−置換インドール( T. Kumazawa, Pharmac. Soc. Japan, 11 4th Mtg, Abstract 30にも記載)。Pfizer ―国際特許出願公開第93/02050号に開示された1,3−二 置換インドールOno−Fujisawa型化合物。Yamanouchi ―国際特許出願公開第13828号に開示された、反転ア ミド結合を有するOno様化合物; 国際特許出願公開第93/24442号及 び特開平5−331059号に開示されたp−置換安息香酸。Mitsubishi Kasei ―ヨーロッパ特許第579223号に開示さ れた1−アミノ−6−カルボキシデカリンのベンズアミド誘導体; 特開平6− 025211号に開示されたフラボン−2−安息香酸; 特開平6−02527 7号に開示された16−環ジラクトンテトラエン(Snow Brand Mi lk Prod. Co., Ltd.)。Lilly ―ヨーロッパ特許第0532190号、同第0591582号及び同 第0591583号に開示されたアザフェナントレン。Indena SpA ―フランス特許第2698791号に開示されたCurc ubita種子の抽出物。 本発明の化合物を用いる投与方式は、患者のタイプ、種、年齢、体重、性別及 び医学的状態; 治療するべき状態の重篤度; 投与経路; 患者の腎及び肝機 能; 並びに用いる特定の本発明の化合物を含めた様々な要因に従って選 択する。通常の医師や獣医であれば、状態の進行を予防し、抑制し(count er)、停止させ、または後戻りさせるのに必要な有効量の薬物を容易に決定及 び処方し得る。薬物を、その効力を高めるべく有毒とならない範囲内で濃縮する 上で最適の精度を得るには、標的部位に対する薬物の有効性のキネティックスに 基づく方式が必要となる。これには、薬物の配分、平衡及び除去を考慮すること が含まれる。 本発明の方法では、本明細書中に詳述した5α−レダクターゼ1及び/または 2阻害剤、抗菌薬、角質溶解薬及び抗炎症薬の組み合わせを典型的には、所期の 投与形態即ち経口投与用錠剤、カプセル剤、エリキシル剤、シロップ剤等に合わ せて選択した、通常の実際的製剤法に合致する適当な医薬用稀釈剤、賦形剤また はキャリヤ(本明細書中ではまとめて「キャリヤ」と呼称)と混合して投与する 。 経口投与は錠剤またはカプセル剤の形態で行ない得、その際組み合わせの薬物 成分をエタノール、グリセロール、水等といった、医薬に許容可能な無毒の経口 投与用不活性キャリヤと組み合わせ得る。本発明の組み合わせ薬剤を含有するカ プセル剤は、本発明の組み合わせ薬剤をラクトー ス及びステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、澱粉、タルク、ま たは他のキャリヤと混合し、得られた混合物をゼラチンカプセルに入れることに よって製造し得る。錠剤は、組み合わせ成分をリン酸カルシウム、ラクトース、 コーンスターチまたはステアリン酸マグネシウムなどの通常の錠剤形成成分と混 合することによって製造し得る。そのうえ、所望または必要であれば、適当な結 合剤、滑沢剤、崩壊剤及び着色剤も混合物に添加し得る。適当な結合剤には、澱 粉、ゼラチン、グルコースやβ−ラクトースといった天然糖、コーン甘味質(s weeteners)、アラビアゴム、トラガカントゴムまたはアルギン酸ナト リウムなどの天然及び合成ゴム、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレング リコール、蝋等が含まれる。上記のような投与形態に用いる滑沢剤には、オレイ ン酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸マグネシウム、安息香 酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、塩化ナトリウム等が含まれる。崩壊剤には、澱 粉、メチルセルロース、寒天、ベントナイト、キサンタンゴム等が非限定的に含 まれる。経口投与用組成物は、治療する患者への投与量を症状に合わせて調節す るべく、0.1、0.5、1.0、2. 5、5.0、10.0、15.0、25.0、50.0及び100.0mgの活 性成分、即ち5α−レダクターゼ1阻害剤、トレチノイン/イソトレチノイン、 抗炎症薬、角質溶解薬、抗菌薬を含有する溝付きまたは溝無し錠剤の形態とし得 る。 局所投与用の医薬組成物は、例えば皮膚への適用に適する溶液剤、クリーム剤 、軟膏剤、ゲル剤、ローション剤、シャンプー剤またはエアゾル剤の形態とし得 る。本発明の治療方法に有用な局所投与用医薬組成物は、5α−レダクターゼ1 阻害剤化合物、抗炎症薬、角質溶解薬、抗菌薬を各々約0.001〜15重量% ずつ、医薬に許容可能なキャリヤとの混合状態で含有し得る。組み合わせの活性 薬物成分を含有する局所投与用調製物を、例えばアルコール、アロエベラゲル、 アラントイン、グリセリン、ビタミンA及びE油、鉱油、PPG2プロピオン酸 ミリスチル等といった、当業者に良く知られた様々なキャリヤ物質と混合するこ とによって、例えばアルコール性溶液剤、局所清浄剤(topical cle ansers)、清浄クリーム剤、皮膚用ゲル剤、皮膚用ローション剤、及びク リーム剤またはゲル剤状のシャンプーを製造し得る。例えばヨー ロッパ特許第0285382号を参照されたい。 液剤形態の本発明の組み合わせを、静脈内投与用(ボーラスと注入液との両方 )、腹腔内投与用、皮下投与用、閉塞を伴うかもしくは伴わない局所への投与用 、または筋肉内投与用として用いることも可能であり、その際用いる投与形態は いずれも医薬分野の当業者に良く知られたものである。液剤形態には、合成及び 天然ゴム、例えばトラガカントゴム、アラビアゴム、メチルセルロース等といっ た、適宜着香した懸濁化剤または分散剤を含有させ得る。用い得るその他の分散 剤にグリセリン等が含まれる。非経口投与用としては、滅菌懸濁液剤及び溶液剤 が望ましい。静脈内投与が望ましい場合は、通常適当な防腐剤を含有する等張調 製物を用いる。 本発明の組み合わせ薬剤は、小さな単ラメラ小胞、大きな単ラメラ小胞、及び 多重ラメラ小胞などのリポソーム送達系の形態で投与することも可能である。リ ポソームは、コレステロール、ステアリルアミンまたはホスファチジルコリンな どの様々なリン脂質から製造可能である。 本発明の構造I及びIIの化合物は、化合物分子を結合させるそれぞれの担体と してのモノクローナル抗体を用いる ことによっても送達できる。本発明の化合物は、標的指向性(targetab le)薬物担体としての可溶性ポリマーとも結合させ得る。前記のようなポリマ ーには、ポリビニルピロリドン、ピランコポリマー、ポリヒドロキシプロピルメ タクリルアミドフェノール、ポリヒドロキシエチルアスパルトアミドフェノール 、またはパルミトイル残基で置換されたポリエチレンオキシドポリリシンが含ま れ得る。更に、本発明の化合物は、薬物の制御放出に有用な一群の生分解性ポリ マー、例えばポリ乳酸、ポリε−カプロラクトン、ポリヒドロキシ酪酸、ポリオ ルトエステル、ポリアセタール、ポリジヒドロピラン、ポリシアノアクリレート 、及びヒドロゲルの架橋または両親媒性ブロックコポリマーとも結合させ得る。 以下の実施例において、本発明の化合物の製造を更に詳述する。これらの実施 例は本発明の範囲を何ら限定せず、また限定すると解釈されるべきでない。更に 、以下の実施例に述べる化合物を、本発明と看做される唯一の化合物群を構成す ると解釈するべきでもなく、前記化合物やその部分の任意の組み合わせ自体も一 つの群を構成し得る。上記化合物の製造に、以下の製造操作の条件及び過程を公 知の ように変更したものを用い得ることは、当業者には用意に理解されよう。温度は 、特に断らないかぎり総て摂氏で示す。 示したRf値は、標準的な薄層クロマトグラフィーのSiゲルプレートにおい て得た。用いた溶離溶媒系をRf値のあとに括弧に入れて示す。 高速原子衝撃(FAB)質量スペクトル値は、分子量に1原子質量単位を加え たものである(M+1)分子イオンピークとして示してある。電子衝撃(EI) 質量スペクトル値は、括弧内に示した分子量MWである(M)、またはMWに2 原子単位を加えたものである(M+2)分子イオンピークとして示してある。 核磁気共鳴データはCDCl3中で400MHzにおいて得た。実施例の最後 に各化合物の単一陽子値を表に纏めて示す。結合定数Jはヘルツ(Hz)で示し てある。実施例1 7−オキソ−コレステロール−3−アセテート(1)の合成 酢酸コレステリル(CA)は当業者に公知であり、これをPearsonが上 掲JCS Perkins所載の論 文中で述べている類似操作により酸化すれば、公知の7−オキソ−誘導体を得 ることができる。実施例2 7−エチル−7−ヒドロキシ−コレステロール(2)の合成 5.0g(11.32mmol)の実施例1で得られたを0℃において乾燥 テトラヒドロフランに溶解させた溶液に56.6mlの臭化エチルマグネシウム (1M)を5〜10分掛けて滴下し加えた。次に、反応混合物を室温で24時間 攪拌し、その後塩化アンモニウムの飽和水溶液中へ注いだ。THF溶媒を真空下 に除去し、水性相を酢酸エチルで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、脱水し 、かつ濃縮して黄白色の泡を得た。Rf値は0.2であった(30% EtOA c/ヘキサン)。陽子NMRで標記化合物の所定の構造を確認し、この物質を これ以上精製せずに次のステップで用いた。実施例3 7−エチル−コレスト−4,6−ジエン−3−オン(3)の合成 5.13g(11.9mmol)の上記グリニャール生 成物を50mlのトルエン及びシクロヘキサノンに溶解させ、約40mlの溶 媒を真空下に蒸留によって除去した。これに7.2gのアルミニウムイソプロポ キシドを添加し、反応混合物を15時間還流させた。混合物を冷却し、酢酸エチ ルで稀釈し、酒石酸カリウムナトリウム、ブラインで洗浄し、有機層を真空下に 濃縮し、残留物を水蒸気蒸留した。残留物を酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層 をブラインで洗浄し、脱水し、かつ5% EtOAc/ヘキサンで溶離するシリ カゲル上でのカラムクロマトグラフィーにより精製して標記化合物を得た。 Rf=0.58(20% EtOAc/ヘキサン)。 FAB質量スペクトル: 412(M+1); 計算値 411.9。実施例4 7β−エチル−コレスト−5−エン−3−オン(4)の合成 3.1gの実施例3で得られたを46mlのアンモニア、10mlのTHF 、10mlのトルエンに溶解させた溶液に449mgの小片状金属リチウムを添 加した。青色の溶液を−78℃で2時間攪拌後、1,2−ジブロモエタ ンを2mlのTHFに溶解させた溶液を添加した。溶液を−78℃で10分間攪 拌後、2.1gの塩化アンモニウムを添加し、混合物を10分間攪拌した。過剰 なアンモニアを窒素流下に蒸発させて除去した。反応混合物をブラインで稀釈し 、酢酸エチルで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、脱水し、かつ濃縮して褐 色の粘稠な液体を粗生成物として得、これをそのまま実施例5で用いた。 Rf=0.70(20% EtOAc/ヘキサン)。 EI質量スペクトル: 412; 計算MW値 412.70。実施例5 7β−エチル−コレスト−4−エン−3−オン(5)の合成 3.1gの実施例4で得られたを30mlのTHFに溶解させた溶液に1. 1mlのDBU(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エン) を、窒素下に攪拌しつつ添加した。混合物を1.5時間還流させ、その後冷却し 、NH4Clで稀釈した。次に、THF溶媒を真空下に除去し、残留物を酢酸エ チルで抽出した。その後、有機層を水、ブラインで洗浄し、脱水し、かつ減圧下 に濃 縮して、粘稠な油を粗生成物として得た。溶離剤として10% EtOAc/ヘ キサンを用いるシリカゲル上でのクロマトグラフィーによって標記化合物を精 製した。 EI質量スペクトル: 412; 計算MW値 412.70。 Rf=0.6(20% EtOAc/ヘキサン)。実施例6 7−エチル−17β−(6−メチル−2−ヘプチル)−5−オキソ−A−ノル− 3,5−セコアンドロスタン−3−オン酸(6)の合成 1.0gのを80℃において18mlのt−ブチルアルコールに溶解させた 溶液に、1.8mlの水に加えた300mgの炭酸ナトリウムを添加し、続いて 2.74gの過ヨウ素酸ナトリウムを20.3mgの過マンガン酸カリウムと共 に15mlの水に加えた混合物を15〜20分掛けて滴下し加えた。反応混合物 を80℃で2時間加熱し、冷却し、濾過し、残留物を水で洗浄し、その後濾液を 真空下に濃縮し、HCl水溶液で酸性化し、酢酸エチルで抽出し、有機層をNa HSO3の水溶液、ブラインで洗浄し、脱水し、かつ濃縮して粗なを得た。陽 子NMRで所定の 構造を確認した。高速原子衝撃法によって434(M+2)のm/z分子イオン ピークが得られ、その際計算値は432.69であった。実施例7 7−エチル−4−メチル−4−アザ−コレスト−5−エン−3−オン(7)の合 500mgのを10mlのエチレングリコールに溶解させた溶液に1.3g の酢酸ナトリウム及び1.0gのメチルアミン塩酸塩を添加した。反応混合物を 180℃で4時間攪拌後、混合物を冷却し、水で稀釈し、酢酸エチルで抽出し、 脱水し、かつ濃縮して粗な標記化合物を得た。陽子NMRで所定の構造を確認 した。 Rf=0.70(20% EtOAc/ヘキサン)。 FAB質量スペクトルm/zイオンピーク: 429(M+2); 計算値42 7.72。 C2949NOの元素分析: 計算値 C 81.44; H 11.55; N 3.27 実測値 C 82.19; H 10.92; N 3.11。実施例8 7−エチル−4−メチル−4−アザ−コレスタン−3−オ ン(8)の合成 180mgの実施例7で得られたを5mlの酢酸に溶解させた溶液に54m gの二酸化白金を添加し、得られた混合物を脱気(evacuate)し、これ に水素を通気(flush)した。反応混合物を水素下に室温で一晩振盪した。 濾過し、固体をEtOAcで洗浄し、一つに合わせたEtOAc層をNaHCO3 の水溶液、ブラインで洗浄し、脱水し、かつ濃縮して標記化合物を得た。F AB法での質量スペクトル分析によって431(M+2)のm/zイオンピーク が得られ、その際計算値は429.74であった。 C2951NOの元素分析: 計算値 C 81.06; H 11.96; N 3.26 実測値 C 81.42; H 12.24; N 3.16。実施例9 7−エチル−4−アザ−コレスト−5−エン−3−オン(9)の合成 0.5gのセコ酸及び0.5gの酢酸アンモニウムを3.5mlの酢酸に加 え、これを3時間還流させた。反応 混合物を冷却し、水を添加し、その後酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸ナト リウムで脱水し、かつ濃縮して残留物を得、これをシリカゲルカラム上で10% EtOAc/ヘキサンで溶離して、m.p.147〜149℃の純粋な標記化 合物を得た。 質量スペクトル: 414(M+1); 計算値 413.69。 Rf=0.45(30% EtOAc/ヘキサン)。 C2849NO(MW 413.69)の元素分析: 計算値 C 81.30; H 11.45; N 3.39 実測値 C 82.30; H 11.87; N 3.45。実施例10 7β−エチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン(10)の合成 実施例8に述べた一般的な類似操作を踏襲し、を接触水素化して標記化合物10 を得た。溶離剤として50%EtOAc/ヘキサンを用いるシリカゲル上で のクロマトグラフィーによって、m.p.169〜170℃の純粋な生成物を得 た。 C2849NO(MW 415.17)の元素分析: 計算値 C 80.90; H 11.88; N 3.37 実測値 C 81.02; H 12.57; N 3.47。 質量スペクトル: 416(M+1)。 Rf=0.30(30% EtOAc/ヘキサン)。実施例11 7−アリル−3,7−ジヒドロキシ−コレスト−5−エン(11)の合成 実施例2の一般的な類似グリニャール操作を踏襲し、乾燥THF中の化合物 を臭化アリルマグネシウムと反応させて標記化合物11を得た。陽子NMRで所 定の構造を確認した。 質量スペクトル: 441(M+1); 計算値 440.71。 Rf=0.25(30% EtOAc/ヘキサン)。実施例12 7−アリル−コレスト−4,6−ジエン−3−オン(12)の合成 実施例3の一般的な類似Oppenauer酸化操作を踏襲し、化合物11を 酸化して標記化合物12を得た。陽子NMRで所定の構造を確認した。 FAB質量スペクトル: 423(M+1); 計算値 422.35。 Rf=0.78(30% EtOAc/ヘキサン)。実施例13 7−アリル−コレスト−5−エン−3−オン(13)の合成 化合物12を実施例4の金属−アンモニア還元条件に類似の条件下に置いて標 記化合物13を得た。 Rf=0.5(5% EtOAc/ヘキサン)。実施例14 7−アリル−コレスト−4−エン−3−オン(14)の合成 実施例5の一般的なDBU触媒異性化条件を踏襲し、化合物13を同様に処理 して標記化合物14を得た。 FAB質量スペクトル: 425(M+1); 計算値 424.37。 Rf=0.45(5% EtOAc/ヘキサン)。実施例15 7−プロピル−コレスト−4−エン−3−オン(18)の 合成 1.0gの7−アリル−エノン14、5mlのEtOAc及び50mgのトリ フエニルホスフィンロジウムクロリド(ウィルキンソン触媒)を2時間攪拌した (H2雰囲気下)。反応生成物を25mlのシリカゲルで濾過し、かつ蒸発乾固 して、陽子NMRで確認される十分に純粋な標記化合物18を得た。 質量スペクトル: 427(M+1); 計算値 426.39。 Rf=0.15(5% EtOAc/ヘキサン)。実施例16 7−プロピル−5−オキソ−A−ノル−3,5−セコ−コレスタノン酸(19) の合成 実施例6の一般的な酸化的環A開裂操作を踏襲し、化合物18(7−プロピル 類似体)を同様に処理して標記セコ酸19を得た。陽子NMRで所定の構造を確 認した。 FAB質量スペクトル: 447(M+1); 計算値 446.38。 Rf=0.1(20% EtOAc/ヘキサン)。実施例17 7−プロピル−4−メチル−4−アザ−コレスト−5−エン−3−オン(20) の合成 実施例7の一般的な操作を踏襲し、化合物19をエチレングリコール中でメチ ルアミン塩酸塩及び酢酸ナトリウムで同様に処理して液体の標記化合物20を得 た。陽子NMRで所定の構造を確認した。 FAB質量スペクトル: 442(M+1); 計算値 441.74。 0.2H2O水和物としてのC H N O (MW=441.74)のCHN 分析: 計算値 C 80.91; H 11.63; N 3.15 実測値 C 81.00; H 12.06; N 2.93。 Rf=0.3(20% EtOAc/ヘキサン)。実施例18 7−プロピル−4−メチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン(21)の 合成 実施例8の一般的な類似操作を踏襲し、化合物20をHOAc中で接触水素化 して液体の標記化合物21を得た。陽子NMRで所定の構造を確認した。 FAB質量スペクトル: 444(M+1)。 C H N (MW=443.41)のCHN分析: 計算値 C 81.19; H 12.05; N 3.16 実測値 C 80.78; H 12.06; N 3.22。 Rf=0.17(20% EtOAc/ヘキサン)。実施例19 7−プロピル−4−アザ−コレスト−5−エン−3−オン(22)の合成 実施例9の類似操作を踏襲し、化合物19を酢酸中で酢酸アンモニウムで処理 して標記化合物22を得た。EtOAC/Et2Oから再結晶化して、m.p. 91〜94℃の白色の結晶質固体を得た。 0.25H2O水和物(計算MW値=427.39)としてのCHN分析: 計算値 C 80.59; H 11.54; N 3.24 実測値 C 80.59; H 11.69; N 3.36。 質量スペクトル: 428(M+1)。実施例20 7−プロピル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン(23)の合成 実施例8に述べた類似操作を踏襲し、化合物2を接触水素化してm.p.6 5〜68℃の標記化合物23を得た。 0.25H2O水和物としてのCHN分析: 計算値 C 80.21; H 11.95; N 3.23 実測値 C 80.20; H 12.14; N 3.07。 質量スペクトル: 430(M+1); 計算MW値 429.40。 Rf=0.12(20% EtOAc/ヘキサン)。実施例21 7−メチル−7−ヒドロキシ−コレステロール(24)の合成 実施例2の類似グリニャール操作を踏襲し、コレステリルアセテート−7−オ ンを標準的なグリニャール条件下に臭化メチルマグネシウムと反応させて固体 の標記化合物24を得た。NMRで所定の構造を確認し、質量スペクトル分析で 分子量を確認した。実施例22 7−メチル−コレスト−4,6−ジエン−3−オン(25)の合成 実施例3の類似操作を踏襲し、上記グリニャール生成物24をOppenau er酸化条件下に置いて標記化合物7β−メチル−コレスト−4,6−ジエン− 3−オン25を得た。実施例23 7β−メチル−コレスト−5−エン−3−オン(26)の合成 実施例4の金属−アンモニア還元のための類似操作を踏襲し、25をアンモニ ア/THF/トルエン中でリチウムで同様に処理して標記化合物26を得た。実施例24 7β−メチル−コレスト−4−エン−3−オン(27)の合成 THF中でDBUを用いる実施例5の一般的な異性化操作を踏襲し、26を同 様に処理して標記化合物27を得た。実施例25 7−メチル−17β−(2,6−ジメチルヘキシル)−5−オキソ−A−ノル− 3,5−セコアンドロスタン−3−オン酸(28)の合成 実施例6の一般的な酸化的環A開裂操作を踏襲し、化合物27を同様に処理し て標記セコ酸28を得た。陽子NMRで所定の構造を確認した。実施例26 7−メチル−4−アザ−コレスト−5−エン−3−オン (29)の合成 実施例9の一般的な操作を踏襲し、化合物28を酢酸中で塩化アンモニウムで 同様に処理して標記化合物29を得た。 FAB質量スペクトルm/zイオンピーク: 400.2(M+1); 計算値 399(M+2)。 Rf=0.12(20% EtOAc/ヘキサン)。実施例27 7−メチル−4−アザ−コレスタン−3−オン(30)の合成 実施例8の一般的な類似操作を踏襲し、化合物29をHOAc中で接触水素化 して標記化合物30を得た。EI法での質量スペクトル分析によって401のm /zイオンピークが得られ、その際計算値は401であった。実施例28 7−メチル−4−メチル−4−アザ−コレスト−5−エン−3−オン(31)の 合成 セコ酸28を実施例7に述べたのと同様に処理して純粋な標記化合物31を得 た。 FAB質量スペクトル: 414(M+1); 計算値 413。実施例29 7β−メチル−4−メチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン(32)の 合成 実施例8に述べた一般的な類似操作を踏襲し、31を接触水素化して標記化合 物32を得た。溶離剤として30%EtOAc/ヘキサンを用いるシリカゲル上 でのクロマトグラフィーによって純粋な生成物を得た。 EI質量スペクトル: 415; 計算値 415。実施例30 4−メチル−4−アザ−コレスト−5−エン−3,7−ジオン(34)の合成 4−メチル−4−アザ−コレスト−5−エン−3−オン33に対して酸化操作 を行なって標記化合物34を得る(Doorenboosの米国特許第3,26 4,301号及びJ. Org. Chem. 26, p.4548, 19 61参照)。化合物33をベンゼン中で二クロ ム酸ピリジニウムとt−ブチルヒドロペルオキシドとの混合物と共に70℃で3 〜4時間加熱して34を生成させた。実施例31 7β−アセトキシ−4−メチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン(37 )の合成 化合物34を実施例8の類似操作で水素化して、7−H類似体35と7β−オ ール36とを生成させる。36を23℃で24時間、塩化メチレン中でピリジン 、4−ジメチルアミノピリジンの存在下に無水酢酸でアシル化して標記化合物 を生成させる。実施例32 7β−メチル−4−アザ−5α−コレスト−1−エン−3−オン(49)の合成 280mg(0.698mmol)の30を4mlのトルエンに溶解させた溶 液に178.8mgのDDQ、0.7186mgのBSTFA及び8.163m gのトリフル酸を添加し、反応容器の中味を室温で24時間攪拌した。8.1m gのアセト酢酸メチルを添加し、反応混合物を24時間還流させた。反応容器の 中味を冷却し、酢酸エチルで稀釈し、炭酸ナトリウム水溶液、重硫酸ナトリウム 、ブ ラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水し、かつ濃縮して油を得た。得られた 粗な化合物を、3:1のCHCl3/アセトンで溶離するシリカゲル上での分取 TLCにより精製して純粋な49を得、その所定の構造を陽子NMRによって確 認した。 次表に、各化合物の単一陽子NMR値(CDCl3中で400MHzで測定) を示す。表中、記号Sは一重項、dは二重項、mは多重項、Jは結合定数を表わ す。吸光度値は基準点信号をテトラメチルシランから得るデルタ(δ)スケール で、C−18、C−19及びC−21角環メチル陽子、並びに当該分子の単一陽 子に関連する陽子について示してある。 4−アザステロイドへの番号付けを次の構造式に示す。 式IIの例 出発物質の4−アザ−4−メチル−5α−アンドロスタン−3,17−ジオン (式IIに関する先の図式1の化合物A)は、Rasmusson等, J. M ed. Chem. 27,pp.1690−1701, 1984に記載され ている方法に従って製造し得る。出発物質の4−アザ−4,7β−ジメチル−5 α−アンドロスタン−3,17−ジオンは、下記の実施例33に述べる操作に従 って 合成し得る。実施例33 4−アザ−4−メチル−5α−アンドロスタン−3,16−ジオン ステップ14−アザ−4−メチル−5α−アンドロスタ ン−3,17−ジオン−16−オキシム 窒素ガス流下に丸底フラスコに入れた2−メチル−2−プロパノール(14m l)にカリウムt−ブトキシド(740mg; 6.59mmol)を添加した 。完全に溶解後、4−アザ−4−メチル−5α−アンドロスタン−3,17−ジ オン(1.0g; 3.30mmol)を添加し、攪拌を1時間継続して金色の 溶液を得た。反応混合物に亜硝酸イソアミル(0.884ml; 6.58mm ol)を攪拌下に滴下し加え、攪拌を室温で一晩継続して濃い橙色の溶液を得た 。次に、混合物を等量の水で稀釈し、2N塩酸でpH2以下に酸性化した。ジエ チルエーテルを添加し、生じた固体を濾別し、これをエーテルで洗浄し、かつ真 空乾燥して標記化合物を得た。ステップ24−アザ−4−メチル−5α−アンドロスタ ン−3−オン−16−オキシム(B) 4−アザ−4−メチル−5α−アンドロスタン−3,17−ジオン−16−オ キシム(596mg; 1.79mmol)をエチレングリコール(5ml)に 加えた混合物に98%ヒドラジン(57μl; 1.74mmol)及び粉末状 水酸化カリウム(568mg; 10.12mmmol)を添加した。混合物を 140℃で16時間加熱し、冷却し、2N塩酸で中和した。得られた固体を濾別 し、水で洗浄し、かつ真空乾燥して標記化合物を得た。 質量スペクトル: m/z 318(M)。ステップ34−アザ−4−メチル−5α−アンドロスタ ン−3,16−ジオン(52) 4−アザ−4−メチル−5α−アンドロスタン−3−オン−16−オキシム( 218mg; 0.684mmol)及び重硫酸ナトリウム(249mg; 2 3.9mmol)を50%水性エタノール(10ml)に加えた混合物を還流温 度で3時間加熱した。稀塩酸(0.5N; 33ml)及び塩化メチレン(50 ml)を添加し、混合物を数分間激しく攪拌した。有機層を分離し、炭酸水素ナ ト リウム溶液、ブラインの飽和溶液で洗浄し、脱水し(Na2SO4)、蒸発させた 。溶離剤として15%アセトン/塩化メチレンを用いるフラッシュシリカゲルク ロマトグラフィーにより所望生成物を精製して標記化合物を得た。 FAB質量スペクトル: m/z 304(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.89(s,3H)、0.9 1(s,3H)、2.90(s,3H)、3.05(dd,1H)。実施例34 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−ヒドロキシ−5α−アンドロスタ ン(53) 4−アザ−4−メチル−5α−アンドロスタン−3,16−ジオン(100m g; 0.330mmol)をメタノール(2ml)に溶解させた溶液を氷浴中 で冷却し、ホウ水素化ナトリウム(38mg; 0.989mmol)で1時間 処理した。反応混合物を水で稀釈し、塩化メチレン(2×20ml)で抽出した 。一つに合わせた有機抽出物をブラインの飽和溶液で洗浄し、脱水し(Na2S O4)、蒸発させた。溶離剤として10%アセトン/塩化メチレンを用いるフラ ッシュシリカゲルクロマトグラフィー により所望生成物を精製して標記化合物を得た。 FAB質量スペクトル: m/z 306(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.88(s,3H)、0.9 5(s,3H)、2.90(s,3H)、3.00(dd,1H)、4.39( m,1H)。実施例35 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−メトキシ−5α−アンドロスタン (54) 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−ヒドロキシ−5α−アンドロス タン(35mg; 0.115mmol)をジメチルスルホキシド(1.0ml )に溶解させた溶液に粉末状水酸化カリウム(32mg; 0.575mmol )を添加した。窒素雰囲気下に室温で15分間攪拌後、ヨードメタン(36μl ; 0.575mmol)を添加し、更に4時間攪拌を継続した。混合物をジエ チルエーテル(30ml)で稀釈し、これを水、ブラインの飽和溶液で洗浄し、 脱水し(Na2SO4)、蒸発させた。溶離剤として10%アセトン/塩化メチレ ンを用いるフラッシュシリカゲルクロマトグラフィーにより所望生成物 を精製して標記化合物を得た。 質量スペクトル: m/z 391(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.88(s,6H)、2.9 0(s,3H)、3.00(dd,1H)、3.21(s,3H)、3.83( m,1H)。実施例36 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−アリルオキシ−5α−アンドロス タン(55) 実施例35と同様にして、ただしヨードメタンの替わりに臭化アリルを用いて 標記化合物を製造した。 質量スペクトル: m/z 345(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.88(s,3H)、0.9 0(s,3H)、2.90(s,3H)、3.00(dd,1H)、3.90( m,2H)、3.99(m,1H)、5.11〜5.27(m,2H)、5.8 3〜5.93(m,1H)。実施例37 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−(n−プロピルオキシ)−5α− アンドロスタン(56) 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−アリルオ キシ−5α−アンドロスタンを酢酸エチル(0.85ml)に溶解させた溶液を 室温で30分間、酸化白金(4mg)の存在下に大気圧において水素化した。触 媒を、Millex−HV 0.45μm Filter Unitでの濾過に より除去した。溶離剤として10%アセトン/塩化メチレンを用いるフラッシュ シリカゲルクロマトグラフィーによる精製を行なって標記化合物を得た。 質量スペクトル: m/z 348(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.88(s,3H)、0.8 9(s,3H)、2.90(s,3H)、3.00(dd,1H)、3.28( t,2H)、3.92(m,1H)。実施例38 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−(アセトアミド)−5α−アンド ロスタン(57) ステップ13−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β −(アミノ)−5α−アンドロスタン(C) 4−アザ−4−メチル−5α−アンドロスタン−3−オン−16−オキシム( 150mg; 0.471mmol)をエタノール(15ml)−酢酸(7ml )に溶解さ せた溶液を室温で一晩、酸化白金(50mg)の存在下に大気圧において水素化 した。触媒を、Millex−HV0.45μm Filter Unitでの 濾過により除去し、濾液を蒸発させた。残留物を塩化メチレン(50ml)に溶 解させ、溶液を炭酸水素ナトリウムの飽和溶液、ブラインの飽和溶液で洗浄し、 脱水し(Na2SO4)、かつ蒸発させて所望のアミンを得た。ステップ23−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β −(アセトアミド)−5α−アンドロスタン (57) ステップ1で得られたアミン(56mg; 0.184mmol)を塩化メチ レン(1.0ml)に溶解させ、これを室温で2時間、ピリジン(0.6ml) 、4−ジメチルアミノピリジン(5mg)及び無水酢酸(0.3ml)で処理し た。混合物を塩化メチレン(50ml)で稀釈し、溶液を水、1N塩酸、炭酸水 素ナトリウムの飽和水溶液、ブラインの飽和水溶液で洗浄し、脱水し(Na2S O4)、蒸発させた。生成物を、溶離剤として2%メタノール/塩化メチレンを 用いるフラッシュシリカゲルクロマトグラフィーにより精製して標記化合物を得 た。 質量スペクトル: m/z 346(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.82(s,3H)、0.8 7(s,3H)、1.93(s,3H)、2.90(s,3H)、3.00(d d,1H)、4.28(m,1H)、5.54(d,1H)。実施例39 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−(ベンズアミド)−5α−アンド ロスタン(58) 実施例38と同様にして、ただし無水酢酸の替わりに塩化ベンゾイルを用いて 標記化合物を製造した。 質量スペクトル: m/z 408(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.89(s,3H)、0.9 0(s,3H)、2.90(s,3H)、3.01(dd,1H)、4.48( m,1H)、6.12(d,1H)。実施例40 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−(ベンジルアミノカルボニルオキ シ)−5α−アンドロスタン(59) 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−ヒドロキシ−5α−アンドロス タン(40mg; 0.131mm ol)を塩化メチレン(2ml)に溶解させた溶液にトリエチルアミン(67μ l; 0.481mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(2mg)及びイソ シアン酸ベンジル(50μl; 0.405mmol)を添加した。反応混合物 を室温で48時間攪拌し、蒸発させ、その後溶離剤として15%アセトン/塩化 メチレンを用いるフラッシュシリカゲルクロマトグラフィーに掛けて標記化合物 を得た。 FAB質量スペクトル: m/z 439(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.87(s,6H)、2.9 0(s,3H)、3.00(dd,1H)、4.33(m,2H)、4.90( m,1H)、5.11(m,1H)。実施例41 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16α−ヒドロキシ−5α−アンドロスタ ン(60) ステップ13−オキソ−4−アザ−4−メチル−16α −(4−ニトロベンゾイルオキシ)−5α− アンドロスタン(D) 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−ヒドロキ シ−5α−アンドロスタン(34mg; 0.111mmol)を乾燥ベンゼン (1.5ml)に溶解させた溶液にトリフェニルホスフィン(35mg; 0. 134mmol)、4−ニトロ安息香酸(22mg; 0.134mmol)及 びジエチルアゾジカルボキシレート(21μl; 0.134mmol)を添加 した。反応混合物を窒素雰囲気下に80℃(油浴温度)で1時間加熱した。減圧 下での蒸発によりベンゼンを除去後、粗生成混合物を、溶離剤として2%メタノ ール/塩化メチレンを用いるフラッシュシリカゲルクロマトグラフィーに掛け、 それによって幾分かのトリフェニルホスフィンで汚染された所望生成物(97m g)を得、これをステップ2に述べるように鹸化した。ステップ23−オキソ−4−アザ−4−メチル−16α −ヒドロキシ−5α−アンドロスタン(6 0) ステップ1で得られた粗生成物(97mg)をエタノール(0.5ml)中に 懸濁させ、これを0.4N水酸化ナトリウム(0.36ml; 0.144mm ol)で処理した。室温で90分間攪拌後、反応混合物を数滴の氷酢酸で中和し 、酢酸エチル(2×20ml)で抽出し、水(2 0ml)、ブラインの飽和溶液で洗浄し、脱水し(硫酸ナトリウム)、蒸発させ た。溶離剤として20%アセトン/塩化メチレンを用いるフラッシュシリカゲル クロマトグラフィーによって純粋な標記化合物を得た。 質量スペクトル: m/z 305(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.70(s,3H)、0.8 5(s,3H)、2.90(s,3H)、3.02(dd,1H)、4.47( m,1H)。実施例42 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16α−メトキシ−5α−アンドロスタン (61) 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16α−ヒドロキシ−5α−アンドロス タン(20mg; 0.065mmol)をジメチルスルホキシド(0.6ml )に溶解させた溶液に粉末状水酸化カリウム(18mg; 0.325mmol )を添加した。窒素雰囲気下に室温で15分間攪拌後、ヨードメタン(20μl ; 0.325mmol)を添加し、攪拌を室温で一晩継続した。混合物をジエ チルエーテル(25ml)で稀釈し、これを水(2×10m l)で洗浄し、脱水し(Na2SO4)、蒸発させた。溶離剤として10%アセト ン/塩化メチレンを用いるフラッシュシリカゲルクロマトグラフィーにより所望 生成物を精製して標記化合物を得た。 質量スペクトル: m/z 319(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.70(s,3H)、0.8 7(s,3H)、2.90(s,3H)、3.01(dd,1H)、3.22s ,3H)、3.92(m,1H)。実施例43 4−アザ−4,7β−ジメチル−5α−アンドロスタン−3,16−ジオン(6 2) ステップ14−アザ−4,7β−ジメチル−5α−アン ドロスタン−3,17−ジオン−16−オキ シム 窒素ガス流下に丸底フラスコに入れた2−メチル−2−プロパノール(28m l)にカリウムt−ブトキシド(1.35g; 12.1mmol)を添加した 。完全に溶解後、4−アザ−4,7β−ジメチル−5α−アンドロスタン−3, 17−ジオン(1.92g; 6.0mmol)を添 加し、攪拌を1時間継続して金色の溶液を得た。反応混合物に亜硝酸イソアミル (1.63ml; 12.1mmol)を攪拌下に滴下し加え、攪拌を室温で一 晩継続して濃い橙色の溶液を得た。次に、混合物を等量の水で稀釈し、2N塩酸 でpH2以下に酸性化し、ジエチルエーテル(3×50ml)で抽出した。一つ に合わせたエーテル抽出物をブラインの飽和溶液で洗浄し、脱水し(硫酸ナトリ ウム)、蒸発させた。粗生成物を、溶離剤として5%メタノール/塩化メチレン を用いるフラッシュシリカゲルクロマトグラフィーに掛けて標記化合物を得た。ステップ24−アザ−4,7β−ジメチル−5α−アン ドロスタン−3−オン−16−オキシム 4−アザ−4,7β−ジメチル−5α−アンドロスタン−3,17−ジオン− 16−オキシム(2.7g; 7.79mmol)をエチレングリコール(30 ml)に加えた混合物に98%ヒドラジン(0.27ml; 8.57mmol )及び粉末状水酸化カリウム(2.62g; 46.8mmol)を添加した。 混合物を140℃で3時間加熱し、冷却し、水(100ml)で稀釈し、かつ濃 塩酸で中和して黄褐色の沈澱物を得、これを濾別し、乾燥した (1.7g)。この物質を、溶離剤として初めに2%メタノール/塩化メチレン 、後に5%メタノール/塩化メチレンを用いるフラッシュシリカゲルクロマトグ ラフィーに掛けて純粋な標記化合物を得た。ステップ34−アザ−4,7β−ジメチル−5α−アン ドロスタン−3,16−ジオン(62) 4−アザ−4,7β−ジメチル−5α−アンドロスタン−3−オン−16−オ キシム(0.55g; 1.65mmol)を60%酢酸(20ml)に加えた 混合物を還流温度で48時間加熱した。冷却した混合物を水(25ml)で稀釈 し、塩化メチレン(3×50ml)で抽出した。一つに合わせた抽出物を炭酸水 素ナトリウムの飽和溶液で洗浄し、脱水し(硫酸ナトリウム)、蒸発させた。2 %メタノール/塩化メチレンを用いるフラッシュシリカゲルクロマトグラフィー によって純粋な標記化合物を得た。 質量スペクトル: m/z 317(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.88(s,3H)、0.8 9(s,3H)、1.00(d,3H)、2.90(s,3H)、3.07(d d,1H)。実施例44 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−ヒドロキシ−5α−アン ドロスタン(63) 4−アザ−4,7β−ジメチル−5α−アンドロスタン−3,16−ジオン( 390mg; 1.23mmol)をメタノール(8ml)に溶解させた溶液を 氷浴中で冷却し、ホウ水素化ナトリウム(140mg; 3.68mmol)で 30分間処理した。反応混合物を水で稀釈し、塩化メチレン(3×50ml)で 抽出した。一つに合わせた有機抽出物をブラインの飽和溶液で洗浄し、脱水し( Na2SO4)、蒸発させた。溶離剤として初めに10%アセトン/塩化メチレン 、後に20%アセトン/塩化メチレンを用いるフラッシュシリカゲルクロマトグ ラフィーにより所望生成物を精製して標記化合物を得た。 質量スペクトル: m/z 391(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.83(s,3H)、0.9 6(s,3H)、1.03(d,3H)、2.90(s,3H)、3.00(d d,1H)、4.36(m,1H)。実施例45 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−メトキシ−5α−アンド ロスタン(64) 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−ヒドロキシ−5α−ア ンドロスタン(20mg; 0.063mmol)をジメチルスルホキシド(0 .5ml)に溶解させた溶液に粉末状水酸化カリウム(18mg; 0.313 mmol)を添加した。窒素雰囲気下に室温で15分間攪拌後、ヨードメタン( 20μl; 0.313mmol)を添加し、攪拌を室温で一晩継続した。混合 物をジエチルエーテル(25ml)で稀釈し、これを水、ブラインの飽和溶液で 洗浄し、脱水し(Na2SO4)、蒸発させた。溶離剤として1.5%メタノール /塩化メチレンを用いるフラッシュシリカゲルクロマトグラフィーにより所望生 成物を精製して標記化合物を得た。 質量スペクトル: m/z 334(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.83(s,3H)、0.8 9(s,3H)、1.03(d,3H)、2.90(s,3H)、3.00(d d,1H)、3.24(s,3H)、3.80(m,1H)。実施例46 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−エチルオキシ−5α−ア ンドロスタン(65) この化合物は実施例45と同様にして、ただしヨードメタンの替わりにヨード エタンを用い、かつジメチルスルホキシド中で水酸化カリウムを用いる替わりに N,N−ジメチルホルムアミド中で水素化カリウムを用いて製造した。 質量スペクトル: m/z 347(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.83(s,3H)、0.9 0(s,3H)、1.03(d,3H)、1.18(t,3H)、2.90(s ,3H)、3.00(dd,1H)、3.39(m,2H)、4.40(m,1 H)。実施例47 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−アリルオキシ−5α−ア ンドロスタン(66) この化合物は実施例45と同様にして、ただしヨードメタンの替わりに臭化ア リルを用いて製造した。 質量スペクトル: m/z 359(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.83(s,3H)、0.9 1(s,3H)、1.04(d,3H)、2.90(s,3H)、3.00(d d,1H)、3.90(m,2H)、3.96(m,1H)、5.11〜 5.29(m,2H)、5.85〜5.93(m,1H)。実施例48 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−ベンジルオキシ−5α− アンドロスタン(67) この化合物は実施例46と同様にして、ただしヨードエタンの替わりに臭化ベ ンジルを用いて製造した。 質量スペクトル: m/z 409(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0.9 5(s,3H)、1.04(d,3H)、2.90(s,3H)、3.00(d d,1H)、4.01(m,1H)、4.43(q,2H)、7.31(m,5 H)。実施例49 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3,3−ジメチルアリ ルオキシ)−5α−アンドロスタン(68) この化合物は実施例45と同様にして、ただしヨードメタンの替わりに3,3 −ジメチルアリルブロミドを用いて製造した。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.82(s,3H)、0. 90(s,3H)、1.02(d,3H)、1.67(s,3H)、1.71( s,3H)、2.90(s,3H)、3.00(dd,1H)、3.93(m, 1H)、5.31(m,1H)。実施例50 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(n−プロピルオキシ) −5α−アンドロスタン(69) 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−アリルオキシ−5α− アンドロスタン(13.0mg; 0.036mmol)を酢酸エチル(0.5 ml)に溶解させた溶液を室温で30分間、酸化白金(4mg)の存在下に大気 圧において水素化した。触媒を、Millex−HV 0.45μm Filt er Unitでの濾過により除去した。溶離剤として1%メタノール/塩化メ チレンを用いるフラッシュシリカゲルクロマトグラフィーでの精製を行ない、標 記化合物を得た。 質量スペクトル: m/z 361(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.82(s,3H)、0.8 9(s,3H)、0.89(t,3H)、1.05(d,3H)、2.90(s ,3H)、3.00(dd,1H)、3.29(t,2H)、3.89(m,1 H)。実施例51 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3−メチル−1−ブチ ルオキシ)−5α−アンドロスタン(70) 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3,3−ジメチルア リルオキシ)−5α−アンドロスタン(12mg)を酢酸エチル(0.5ml) に溶解させた溶液を室温で30分間、10%パラジウム−炭(3mg)の存在下 に大気圧において水素化した。触媒を、Millex−HV 0.45μm F ilter Unitでの濾過により除去した。溶離剤として2%メタノール/ 塩化メチレンを用いるフラッシュシリカゲルクロマトグラフィーでの精製を行な い、標記化合物を得た。 質量スペクトル: m/z 389(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.82(s,3H)、0.8 8(s,3H)、1.03(d,3H)、2.90(s,3H)、3.00(d d,1H)、3.33(m,2H)、3.88(m,1H)。実施例52 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β− (t−ブトキシ)−5α−アンドロスタン(71) 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−ヒドロキシ−5α−ア ンドロスタン(20mg; 0.063mmol)を塩化メチレン(0.5ml )に溶解させた溶液を氷浴中で冷却し、これにt−ブチルトリクロロアセトイミ デート(23μl; 0.126mmol)及びトリフルオロメタンスルホン酸 (0.56μl; 0.0063mmol)を添加した。反応混合物の温度を室 温にまで上昇させ、1時間後に追加量のt−ブチルトリクロロアセトイミデート (23μl)及びトリフルオロメタンスルホン酸(0.56μl)を添加した。 1時間後、上記各試薬の3回目の添加を行ない、反応混合物を室温で5時間攪拌 した。混合物をジエチルエーテル(50ml)で稀釈し、1N水酸化ナトリウム 水溶液(10ml)、1N塩酸(10ml)、炭酸水素ナトリウムの飽和溶液で 洗浄し、脱水し(硫酸ナトリウム)、蒸発させた。粗生成物を、溶離剤として1 0%アセトン/塩化メチレンを用いるフラッシュシリカゲルクロマトグラフィー により精製して標記化合物を得た。 質量スペクトル: m/z 375(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.82(s,3H)、0.9 0(s,3H)、1.03(d,3H)、1.11(s,9H)、2.90(s ,3H)、3.00(dd,1H)、4.00(m,1H)。実施例53 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−シアノフェノキシ )−5α−アンドロスタン(72) 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−ヒドロキシ−5α−ア ンドロスタン(20mg; 0.063mmol)をN,N−ジメチルホルムア ミド(0.5ml)に溶解させた溶液に粉末状水素化カリウム(35重量%; 15mg; 0.126mmol)を添加した。窒素雰囲気下に室温で15分間 攪拌後、4−フルオロベンゾニトリル(38mg; 0.315mmol)を添 加し、攪拌を室温で2時間継続した。混合物を塩化メチレン(25ml)で稀釈 し、氷水中で反応を停止させた。水性層を塩化メチレン(3×25ml)で抽出 し、一つに合わせた有機層をブラインの飽和溶液で洗浄し、脱水し(硫酸ナトリ ウム)、蒸発させた。溶離剤として初めに1.5%メタ ノール/塩化メチレン、後に2%メタノール/塩化メチレンを用いるフラッシュ シリカゲルクロマトグラフィーにより所望生成物を精製して標記化合物を得た。 質量スペクトル: m/z 420(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.86(s,3H)、0.9 2(s,3H)、1.04(d,3H)、2.90(s,3H)、3.02(d d,1H)、4.76(m,1H)、6.87(m,2H)、7.53(m,2 H)。実施例54 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−トリフルオロメチ ルフェノキシ)−5α−アンドロスタン(73) この化合物は実施例53と同様にして、ただし4−フルオロベンゾニトリルの 替わりに4−フルオロベンゾトリフルオリドを用いて製造した。 質量スペクトル: m/z 463(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0.9 3(s,3H)、1.04(d,3H)、2.90(s,3H)、3.02(d d,1H)、4.76(m,1H)、6.88(d,2H)、7.50(d,2 H)。実施例55 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−クロロフェノキシ )−5α−アンドロスタン(74) この化合物は実施例53と同様にして、ただし4−フルオロベンゾニトリルの 替わりに1−クロロ−4−フルオロベンゼンを用いて製造した。 質量スペクトル: m/z 430(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0.9 3(s,3H)、1.03(d,3H)、2.90(s,3H)、3.02(d d,1H)、5.28(m,1H)、6.74(d,2H)、7.19(d,2 H)。実施例56 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−フルオロフェノキ シ)−5α−アンドロスタン(75) この化合物は実施例53と同様にして、ただし4−フルオロベンゾニトリルの 替わりに1,4−ジフルオロベンゼンを用いて製造した。 質量スペクトル: m/z 414(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0.9 4(s,3H)、1.04(d,3H)、2.91(s,3H)、3.02(d d,1H)、4.65(m,1H)、6.75(m,2H)、6.92(m,2 H)。実施例57 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16α−ヒドロキシ−5α−アン ドロスタン ステップ13−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル −16α−(4−ニトロベンゾイルオキシ) −5α−アンドロスタン(F) 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−ヒドロキシ−5α−ア ンドロスタン(178mg; 0.560mmol)を乾燥ベンゼン(10ml )に溶解させた溶液にトリフェニルホスフィン(294mg; 1.12mmo l)、4−ニトロ安息香酸(187mg; 1.12mmol)及びジエチルア ゾジカルボキシレート(176μl; 1.12mmol)を添加した。反応混 合物を窒素雰囲気下に80℃(油浴温度)で1時間加熱した。減圧下での蒸発に よりベンゼンを除去後、粗生成混合物を、 溶離剤として2%メタノール/塩化メチレンを用いるフラッシュシリカゲルクロ マトグラフィーに掛け、それによって幾分かのトリフェニルホスフィンで汚染さ れた所望生成物(404mg)を得、これをステップ2に述べるように鹸化した 。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.80(s,3H)、0.8 8(s,3H)、1.03(d,3H)、2.90(s,3H)、3.05(d d,1H)、5.48(m,1H)。ステップ23−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル −16α−ヒドロキシ−5α−アンドロスタ ン(76) ステップ1で得られた粗生成物(404mg)をエタノール(5ml)中に懸 濁させ、これを0.4N水酸化ナトリウム(1.82ml; 0.728mmo l)で処理した。室温で90分間攪拌後、反応混合物を数滴の氷酢酸で中和し、 酢酸エチル(100ml)で抽出し、水(2×25ml)、ブラインの飽和溶液 で洗浄し、脱水し(硫酸ナトリウム)、蒸発させた。溶離剤として20%アセト ン/塩化メチレンを用いるフラッシュシリカゲルクロマトグ ラフィーによって純粋な標記化合物を得た。 質量スペクトル: m/z 319(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.71(s,3H)、0.8 2(s,3H)、1.02(d,3H)、2.90(s,3H)、3.03(d d,1H)、4.42(m,1H)。実施例58 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16α−(n−プロピルオキシ) −5α−アンドロスタン(77) 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16α−ヒドロキシ−5α−ア ンドロスタン(20mg; 0.063mmol)をN,N−ジメチルホルムア ミド(0.65ml)に溶解させた溶液に水素化カリウム(35重量%; 15 mg; 0.126mmol)を添加した。窒素雰囲気下に室温で15分間攪拌 後、臭化アリル(27μl; 0.315mmol)を添加し、攪拌を2時間継 続した。追加量の水素化カリウム(15mg)及び臭化アリル(27μl)を添 加し、攪拌を一晩継続した。混合物をジエチルエーテル(50ml)及び水(1 0ml)で稀釈した。有機層を1N塩酸(10ml)、水(10ml)、 ブラインの飽和溶液で洗浄し、脱水し(Na2SO4)、蒸発させた。溶離剤とし て2%メタノール/塩化メチレンを用いるフラッシュシリカゲルクロマトグラフ ィーによって所望生成物を精製した。この物質を2時間、10%パラジウム−炭 の存在下に酢酸エチル(0.5ml)中で水素化した。触媒を、Millex− HV 0.45μm Filter Unitでの濾過によって除去した。溶離 剤として10%イソプロパノール/ヘキサンを用いるフラッシュシリカゲルクロ マトグラフィーによる精製を行なって標記化合物を得た。 質量スペクトル: m/z 361(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.76(s,3H)、0.8 2(s,3H)、0.90(t,3H)、1.02(d,3H)、2.90(s ,3H)、3.02(dd,1H)、3.29(t,2H)、3.98(m,1 H)。実施例59 3−オキソ−4−アザ−4,16α−ジメチル−16β−ヒドロキシ−5α−ア ンドロスタン(78) −40℃に冷却した4−アザ−4−メチル−5α−アンドロスタン−3,16 −ジオン(50mg; 0.165 mmol)の溶液に臭化メチルマグネシウム(3.0Mジエチルエーテル溶液; 275μl; 0.825mmol)を攪拌下に滴下し加えた。反応混合物の 温度を室温まで上昇させ、これを窒素雰囲気下に2時間攪拌した。反応混合物を 塩化アンモニウムの飽和溶液(25ml)で反応停止させ、塩化メチレン(2× 50ml)で抽出した。一つに合わせた有機抽出物をブラインの飽和溶液で洗浄 し、脱水し(硫酸ナトリウム)、蒸発させた。溶離剤として2%メタノール/塩 化メチレンを用いるフラッシュシリカゲルクロマトグラフィーによって純粋な所 望生成物を得た。 質量スペクトル: m/z 319(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.88(s,3H)、0.9 8(s,3H)、1.31(s,3H)、2.90(s,3H)、3.00(d d,1H)。実施例60 3−オキソ−4−アザ−4,7β,16α−トリメチル−16β−ヒドロキシ− 5α−アンドロスタン(79) この化合物は実施例59と同様にして、ただし出発物質として4−アザ−4− メチル−5α−アンドロスタン−3, 16−ジオンの替わりに4−アザ−4,7β−ジメチル−5α−アンドロスタン −3,16−ジオンを用いて製造した。 質量スペクトル: m/z 333(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.82(s,3H)、0.9 8(s,3H)、1.01(d,3H)、1.30(s,3H)、2.90(s ,3H)、3.00(dd,1H)。実施例61 3−オキソ−4−アザ−4,16α−ジメチル−16β−メトキシ−5α−アン ドロスタン(80) 3−オキソ−4−アザ−4,16α−ジメチル−16β−ヒドロキシ−5α− アンドロスタン(31mg; 0.097mmol)をN,N−ジメチルホルム アミド(0.5ml)に溶解させた溶液に水素化カリウム(35重量%; 23 mg; 0.194mmol)を添加した。室温で15分間攪拌後、ヨードメタ ン(32μl; 0.485mmol)を添加し、攪拌を室温で一晩継続した。 反応混合物をジエチルエーテルで稀釈し、2N塩酸(10ml)、水(10ml )、ブラインの飽和溶液で洗浄し、 脱水し(硫酸ナトリウム)、蒸発させた。溶離剤として2%メタノール/塩化メ チレンを用いるフラッシュシリカゲルクロマトグラフィーによって純粋な所望生 成物を得た。 質量スペクトル: m/z 333(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.88(s,3H)、0.9 0(s,3H)、1.22(s,3H)、2.90(s,3H)、3.00(d d,1H)、3.17(s,3H)。実施例62 3−オキソ−4−アザ−4,7β,16α−トリメチル−16β−メトキシ−5 α−アンドロスタン(81) この化合物は実施例61と同様にして、ただし出発物質として3−オキソ−4 −アザ−4,16α−ジメチル−16β−ヒドロキシ−5α−アンドロスタンの 替わりに3−オキソ−4−アザ−4,7β,16α−トリメチル−16β−ヒド ロキシ−5α−アンドロスタンを用いて製造した。 質量スペクトル: m/z 347(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.82(s,3H)、0.9 0(s,3H)、1.02(d,3H)、1.22(s,3H)、2.90(s ,3H)、3.00(dd,1H)、3.18(s,3H)。実施例63 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−メタンチオ−5α−アン ドロスタン(82) ステップ13−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル −16β−(アセチルチオ)−5α−アンド ロスタン(G) 窒素雰囲気下に25ml容の丸底フラスコに乾燥テトラヒドロフラン(4ml )及びトリフェニルホスフィン(177mg; 0.676mmol)を入れた 。フラスコを氷浴中で冷却し、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート(133 μl; 0.676mmol)を添加し、混合物を0℃で30分間攪拌した。反 応混合物に、3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16α−ヒドロキシ −5α−アンドロスタン(108mg; 0.338mmol)及びチオール酢 酸(49μl; 0.676mmol)をテトラヒドロフラン(2.0ml)に 加えた溶液を添加した。反応混合物を0℃で1時間攪拌し、その後室温で更に1 時間攪拌した。混合物を蒸発させ、溶離剤として10%アセトン/塩化メチレン を用いるシリカゲル上でのフラッシュクロマトグラフィーに掛けて、幾分かのト リ フェニルホスフィンで汚染された所望生成物を得た。この混合物を、更に精製す ることなくステップ2で用いた。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.80(s,3H)、0.8 2(s,3H)、1.00(d,3H)、2.28(s,3H)、2.90(s ,3H)、3.00(dd,1H)、3.80(m,1H)。ステップ23−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル −16β−(メルカプト)−5α−アンドロ スタン(H) 窒素雰囲気下に、ステップ1で得られた生成混合物(208mg)をエタノー ル(4.0ml)に溶解させた溶液に0.4N水酸化ナトリウム(1.8ml; 0.716mmol)を添加した。反応混合物を室温で1時間攪拌し、数滴の 酢酸で中和し、酢酸エチル(100ml)で稀釈し、水(2×10ml)、ブラ インの飽和溶液で洗浄し、脱水し(硫酸ナトリウム)、蒸発させた。溶離剤とし て20%アセトン/ヘキサンを用いるフラッシュシリカゲルクロマトグラフィー によって純粋な16−メルカプタンを得た。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.82(s,3H)、0.9 3(s,3H)、1.02(d,3H)、2.90(s,3H)、3.00 (dd,1H)、3.28(m,1H)。ステップ33−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル −16β−メタンチオ−5α−アンドロスタ ン(82) 窒素雰囲気下に、3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(メ ルカプト)−5α−アンドロスタン(18mg; 0.054mmol)を乾燥 テトラヒドロフラン(0.5ml)に溶解させた溶液に水素化ナトリウム(鉱油 中に80%分散; 3.2mg; 0.108mmol)を添加した。室温で1 5分間攪拌後、ヨードメタン(17μl; 0.270mmol)を添加し、攪 拌を室温で3時間継続した。反応混合物を塩化メチレン(50ml)で稀釈し、 水(10ml)、ブラインの飽和溶液で洗浄し、脱水し(硫酸ナトリウム)、蒸 発させた。溶離剤として10%イソプロパノール/ヘキサンを用いるフラッシュ シリカゲルクロマトグラフィーによって純粋な所望生成物を得た。 質量スペクトル: m/z 349(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.82(s,3H)、0.9 1(s,3H)、1.04(d,3H)、2.10(s,3H)、2.90 (s,3H)、3.01(dd,1H)、3.08(m,1H)。実施例64 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−エタンチオ−5α−アン ドロスタン(83) この化合物は実施例63と同様にして、ただしステップ3のヨードメタンの替 わりにヨードエタンを用いて製造した。 質量スペクトル: m/z 363(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.82(s,3H)、0.9 1(s,3H)、1.03(d,3H)、1.24(t,3H)、2.57(q ,2H)、2.90(s,3H)、3.00(dd,1H)、3.18(m,1 H)。実施例65 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(1−プロパンチオ)− 5α−アンドロスタン(84) この化合物は実施例63と同様にして、ただしステップ3のヨードメタンの替 わりに1−ヨードプロパンを用いて製造した。 質量スペクトル: m/z 377(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.82(s,3H)、0.9 0(s,3H)、0.98(t,3H)、1.03(d,3H)、2.51(t ,2H)、2.90(s,3H)、3.01(dd,1H)、3.13(m,1 H)。実施例66 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−エタンスルホニル−5α −アンドロスタン(85) 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−エタンチオ−5α−ア ンドロスタン(17mg; 0.047mmol)をメタノール(1.0ml) に溶解させた溶液に、一過硫酸塩化合物であるOXONE(19mg)を水(1 ml)に溶解させた溶液を添加した。室温で2時間攪拌後、水(0.5ml)に 加えた追加量のOXONE(19mg)を添加し、攪拌を10分間継続した。反 応混合物を水(25ml)で稀釈し、塩化メチレン(3×50ml)で抽出した 。一つに合わせた有機抽出物をブラインの飽和溶液で洗浄し、脱水し(硫酸ナト リウム)、蒸発させた。溶離剤として2%メタノール/塩化メチレンを用いるフ ラッシュシリカゲルクロマトグラフィーによって純粋な所望生成物を得た。 質量スペクトル: m/z 395(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0.9 2(s,3H)、1.03(d,3H)、1.39(t,3H)、2.91(s ,3H)、2.99(q,2H)、3.00(dd,1H)、3.41(m,1 H)。実施例67 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−フルオロ−5α−アンド ロスタン 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16α−ヒドロキシ−5α−ア ンドロスタン(18mg; 0.056mmol)を室温において塩化メチレン (0.5ml)に溶解させた溶液にジエチルアミノ硫黄三フッ化物(19μl; 0.144mmol)を添加した。室温で1時間攪拌後、反応混合物を塩化メ チレン(25ml)で稀釈し、水(25ml)、炭酸水素ナトリウムの飽和溶液 (10ml)、ブラインの飽和溶液(10ml)で洗浄し、脱水し(硫酸ナトリ ウム)、蒸発させた。溶離剤として10%アセトン/塩化メチレンを用いるフラ ッシュシリカゲルクロマトグラフィーにより生成物を精製して標記化合物を得た 。 質量スペクトル: m/z 321(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.87(s,3H)、0.9 2(s,3H)、1.04(d,3H)、2.90(s,3H)、3.01(d d,1H)、5.12(dm,1H)。実施例68 4−アザ−4,7β−ジメチル−5α−アンドロスタン−3,17−ジオン(上 記図式5の化合物E)の製造 ステップ13−アセトキシ−アンドロスト−5−エン− 17−オールの合成 100mg(0.303mmol)の3−アセトキシ−アンドロスト−5−エ ン−17−オンを−10℃において3mlのEtOHに溶解させた溶液に、22 .9mg(0.606mmol)のホウ水素化ナトリウムを攪拌下に添加した。 反応混合物を1時間半攪拌してから10mlの水で稀釈し、エタノール溶媒を真 空下に除去し、残留物を酢酸エチルで抽出した。有機層をNa2CO3水溶液、ブ ラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水し、かつ濃縮すると粗な標記化合物が残 留物として残った。陽子NMRで所定の構造を確認した。ステップ23−アセトキシ−アンドロスト−5−エン− 17−オール,17−t−ブチル−ジメチル シリルエーテルの合成 前の合成で得られたアンドロスタン−17−オール4.5g(13.55mm ol)を23℃において50mlのジメチルホルムアミドに溶解させた溶液に、 2.76g(40.65mmol)のイミダゾール、続いて3.063g(20 .32mmol)のt−ブチルジメチルシリルクロリドを添加した。反応混合物 を攪拌すると、固体が沈澱し始めた。20mlのDMFを追加で添加し、混合物 を更に一晩攪拌した。混合物を11の水中へ注ぎ、固体を濾別して水で洗浄した 。固体を酢酸エチルに溶解させ、有機層をブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで 脱水し、かつ濃縮して標記化合物のシリル保護17−オールを得た。陽子NMR で所定の構造を確認した。ステップ37−オン−17β−オール,17−t−ブチ ルジメチルシリルエーテル 前の合成で得られたTBMS保護17−オール5.6g(12.55mmol )を23℃において100mlのアセトニトリルに溶解させた溶液に、3.95 8g(433. 92mol)の90% t−ブチル過酸化水素及び138mgのクロムヘキサカ ルボニルを添加した。反応混合物を窒素下に24時間還流させ、その後11の水 中へ注ぎ、固体を濾別し、残留物を500mlの水で洗浄してから350mlの 塩化メチレンに溶解させた。有機層をブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水 し、かつ濃縮して粗な物質を得た。薄層クロマトグラフィー(シリカゲル上で3 :1のヘキサン/酢酸エチルで溶離)によって出発物質の存在が示された。固体 を、7%酢酸エチル/ヘキサンで溶離するシリカゲル上でのカラムクロマトグラ フィーにより精製して標記化合物を得た。陽子NMRで所定の構造を確認した。ステップ43,7−ジヒドロキシ−7−メチル−アンド ロスト−5−エン−17β−オール,17− t−ブチルジメチルシリルエーテルの合成 前の合成で得られた生成物440mg(0.956mmol)を0℃において 乾燥テトラヒドロフランに溶解させた溶液に塩化メチルマグネシウムを、5〜1 0分掛けて滴下し加えた。次に、反応混合物を室温で24時間攪拌し、その後塩 化アンモニウムの飽和水溶液中へ注いだ。THF 溶媒を真空下に除去し、水性相を酢酸エチルで抽出した。有機層をブラインで洗 浄し、脱水し、かつ濃縮して粗生成物を得た。陽子NMRで標記化合物の所定の 構造を確認し、得られた標記化合物を更に精製することなく次のステップで用い た。ステップ57−メチル−アンドロスト−4,6−ジエン −3−オン−17β−オール,17−t−ブ チルジメチルシリルエーテルの合成 3.5g(7.142mmol)の上記グリニャール生成物を50mlのトル エン/50mlのシクロヘキサノンに溶解させ、20mlの溶媒を真空下に蒸留 によって除去した。これに4.54gのアルミニウムイソプロポキシドを添加し 、反応混合物を15時間還流させた。混合物を冷却し、酢酸エチルで稀釈し、酒 石酸カリウムナトリウム、ブラインで洗浄し、有機層を真空下に濃縮し、残留物 を水蒸気蒸留した。残留物を酢酸エチルで抽出し、ブラインで洗浄し、脱水し、 かつ5% EtOAC/ヘキサンで溶離するシリカゲル上でのカラムクロマトグ ラフィーにより精製して標記化合物を得た。ステップ67β−メチル−アンドロスト−5−エン−3オン−17β−オール,t−ブチルジメチ ルシリルエーテルの合成 前の合成で得られた生成物370mgを5.5mlのアンモニア、1mlのT HF、1mlのトルエンに溶解させた溶液に50mgの小片状金属リチウムを添 加した。青色の溶液を2時間攪拌後、1,2−ジブロモエタンを2mlのTHF に溶解させた溶液を添加した。溶液を−78℃で10分間攪拌後、250mgの 塩化アンモニウムを添加し、混合物を10分間攪拌した。過剰なアンモニアを窒 素流下に蒸発させて除去した。反応混合物をブラインで稀釈し、酢酸エチルで抽 出した。有機層をブラインで洗浄し、脱水し、かつ濃縮して粗な物質を得、これ をそのまま次の合成に用いた。ステップ77β−メチル−アンドロスト−4−エン−3オン−17β−オール,t−ブチルジメチ ルシリルエーテルの合成 前の合成で得られた生成物432mgを4mlのTHFに溶解させた溶液に1 50μlのDBU(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エン )を、窒素下に攪拌しつつ添加した。混合物を1.5時間還流させ、そ の後冷却し、NH4Cl溶液で稀釈した。溶媒のTHFを真空下に除去し、残留 物を酢酸エチルで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、脱水し、かつ減圧下に 濃縮して粗な物質を得た。溶離剤として10% EtOAC/ヘキサンを用いる シリカゲル上でのクロマトグラフィーによって標記化合物を精製した。ステップ817β−(t−ブチルジメチルシリルオキ シ)−7β−メチル−5−オキソ−A−ノル −3,5−セコアンドロスタン−3−オン酸 の合成 前の合成で得られた生成物884mgを80℃において15mlのt−ブチル アルコールに溶解させた溶液に、1.5mlの水に加えた248mgの炭酸ナト リウムを添加し、続いて2.273gの過ヨウ素酸ナトリウムを16.8mgの 過マンガン酸カリウムと共に8mlの水に加えた混合物を15〜20分掛けて滴 下し加えた。反応混合物を80℃で2時間加熱し、冷却し、濾過し、残留物を水 で洗浄し、その後抽出物を真空下にL−濃縮した。抽出物をHCl水溶液で酸性 化し、酢酸エチルで抽出し、有機層をNaHSO3の水溶液、ブラインで洗浄し 、脱水し、かつ濃縮 して粗なを得た。陽子NMRで所定の構造を確認した。ステップ94,7β−ジメチル−4−アザ−5−エン− 3−オン−17β−オール,t−ブチルジメ チルシリルエーテルの合成 前の合成で得られた生成物840mgを5mlのエチレングリコールに溶解さ せた溶液に1.5gの酢酸ナトリウム及び737mgのメチルアミン塩酸塩を添 加した。反応混合物を180℃で4時間攪拌後に冷却し、水で稀釈し、酢酸エチ ルで抽出し、脱水し、かつ濃縮して粗な標記化合物を得た。陽子NMRで所定の 構造を確認した。ステップ104,7β−ジメチル−4−アザ−アンドロ スト−5−エン−3−オン−17β−オー ルの合成 ステップ9で得られた生成物700mgを0℃において20mlのアセトニト リルに溶解させた溶液に500μlのHF水溶液を添加した。反応混合物を1時 間攪拌後、HFを炭酸ナトリウム水溶液で中和し、水で稀釈し、アセトニトリル を真空下に除去し、残留物を酢酸エチルで抽出した。有機層を脱水し、かつ濃縮 して粗な標記化合物を得、これを、3:1のクロロホルム/アセトンを用いるシ リカ ゲル上での分取クロマトグラフィーによって更に精製した。ステップ114,7β−ジメチル−4−アザ−アンドロ スタン−3−オン−17β−オールの合成 前の合成で得られた生成物350mgを10mlの酢酸に溶解させた溶液に1 00mgの二酸化白金を添加し、得られた混合物を脱気し、これに水素を通気し た。反応混合物を40psigの水素圧下に室温で一晩振盪した。溶液を濾過し 、濃縮した。残留物を酢酸エチルで後処理し、その後有機層を真空下に濃縮し、 酢酸エチルで稀釈し、NaHCO3水溶液、ブラインで洗浄し、脱水し、かつ濃 縮して標記化合物を得た。 質量スペクトル: 320(M+1)。ステップ124−アザ−4,7β−ジメチル−5α−ア ンドロスタン−3,17−ジオンの合成 前の合成で得られた生成物1.013g(3.176mmol)を6mlの塩 化メチレンと共に、乾燥したフラスコに入れた。1.6gの粉末状4Åモレキュ ラーシーブ及び0.558g(4.76mmol)のN−メチル−モル ホリン−N−オキシド(NMO)、次いで55mg(0.159mmol)のテ トラプロピル−過ルテニウム酸アンモニウム(TPAP)を添加した。反応混合 物を2時間攪拌し、150mlの酢酸エチルで稀釈し、濾過した。濾液を蒸発乾 固して粗生成物を得、これをEtOAcから再結晶化してm.p.135〜13 8℃の純粋な生成物を得た。 C2031NO2(MW=317.48)の元素分析: 計算値 C 75.67; H 9.84; N 4.41 実測値 C 75.16; H 10.22; N 4.13。 質量スペクトル: 318(M+1)。 以下の実施例(69〜117)の化合物は実施例53と同様にして、ただし4 −フルオロベンゾニトリルの替わりに適当な4−フルオロ誘導体を用いて製造す る。実施例69 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−メチルスルホニル フェノキシ)−5α−アンドロスタン 質量スペクトル: m/z 474(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0.9 3(s,3H)、1.04(d,3H)、2.90(s,3H)、3.00 (s,3H)、4.80(dm,1H)、6.92(d,2H)、7.81(d ,2H)。実施例70 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3−ピリジルオキシ) −5α−アンドロスタン 質量スペクトル: m/z 397(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0.9 4(s,3H)、1.04(d,3H)、2.91(s,3H)、3.02(d d,1H)、4.75(m,1H)、7.21(m,2H)、8.22(m,2 H)。実施例71 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4− フェニルフェノ シ)−5α−アンドロスタン 質量スペクトル: m/z 472(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0.9 6(s,3H)、1.05(d,3H)、2.91(s,3H)、3.02(d d,1H)、4.76(m,1H)、6.9(d,2H)、7.26(m,1H )、7.43(m,2H)、7.52(m,4H)。実施例72 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3−クロロフェノキシ )−5α−アンドロスタン 質量スペクトル: m/z 431(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0.9 3(s,3H)、1.05(d,3H)、2.90(s,3H)、4.68(m ,1H)、6.71(m,1H)、6.80(m,1H)、6.88(m,1H )、7.13(m,1H)。実施例73 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−トリフルオロメト キシフェノキシ)−5α−アンドロスタン 質量スペクトル: m/z 480(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0.9 4(s,3H)、1.04(d,3H)、2.91(s,3H)、3.02(d d,1H)、4.69(m,1H)、6.78(m,2H)、7.09(m,2 H)。実施例74 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(2−クロロフェノキシ )−5α−アンドロスタン 質量スペクトル: m/z 431(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0.9 9(s,3H)、1.04(d,3H)、2.91(s,3H)、3.03(d d,1H)、4.80(m,1H)、6.81(m,2H)、7.24(m,1 H)、7.32(m,2H)。実施例75 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(2−ピラジニルオキシ )−5α−アンドロスタン 質量スペクトル: m/z 398(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0.9 5(s,3H)、1.04(d,3H)、2.90(s,3H)、3.02(d d,1H)、5.34(m,1H)、8.04(d,2H)、8.15(1H) 。実施例76 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(2−ピリミジニルオキ シ)−5α−アンドロスタン 質量スペクトル: m/z 398(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0.9 5(s,3H)、1.04(d,3H)、2.90(s,3H)、3.02(d d,1H)、5.35(m,1H)、6.89(m,1H)、8.15(d,2 H)。実施例77 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−[4−(1−ピリル)− フェノキシ]−5α−アンドロスタン 質量スペクトル: m/z 461(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0.9 5(s,3H)、1.05(d,3H)、2.91(s,3H)、4.73(m ,1H)、6.30(m,2H)、6.84(m,2H)、6.96(m,2H )、7.25(m,2H)。実施例78 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3−シアノフェノキシ )−5α−アンドロスタン 質量スペクトル: m/z 420(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0.9 3(s,3H)、1.04(d,3H)、2.91(s,3H)、3.02(d d,1H)、4.71(m,1H)、7.05(m,2H)、7.22(m,1 H)、7.32(m,1H)。実施例79 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β− (1−ナフチルオキシ)−5α−アンドロスタン 質量スペクトル: m/z 445(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.86(s,3H)、1.0 3(s,3H)、1.07(d,3H)、2.92(s,3H)、3.02(d d,1H)、6.70(d,1H)、7.32(m,2H)、7.44(m,2 H)、7.78(m,1H)、8.24(1H)。実施例80 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3−クロロ−4−メチ ルフェノキシ)−5α−アンドロスタン 質量スペクトル: m/z 445(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.84(s,3H)、0.9 2(s,3H)、1.04(d,2H)、2.26(s,3H)、2.92(s ,3H)、4,76(m,1H)、6.62(m,1H)、6.81(m,1H )、7.12(d,1H)。実施例81 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−[4−(5−オキサゾリ ル)フェノキシ]−5α−アンドロスタン 質量スペクトル: m/z 463(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0.9 5(s,3H)、1.05(d,3H)、2.91(s,3H)、4,76(m ,1H)、6.86(d,2H)、7.21(s,1H)、7.53(d,2H )、7.84(s,1H)。実施例82 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−ニトロフェノキシ )−5α−アンドロスタン(101) この化合物は実施例53と同様にして、ただし4−フルオロベンゾニトリルの 替わりに1−フルオロ−4−ニトロベンゼンを用いて製造した。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0.9 4(s,3H)、1.05(d,3H)、2.92(s,3H)、3.03(d d,1H)、4,81(q,1H)、6.87(d,2H)、8.17(d,2 H)。実施例83 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−アミノフェノキシ )−5α−アンドロスタン(102) 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−アミノフェノキ シ)−5α−アンドロスタン(163mg; 0.36mmol)を酢酸エチル (8ml)及びメタノール(8ml)に溶解させた溶液に10%Pd−炭(25 mg; 0.23mmol)を添加した。この溶液を水素雰囲気下に室温で4時 間攪拌した。その後、溶液をセライトで濾過し、かつ蒸発させて148mgの標 記化合物を得た。精製は必要なかった。 質量スペクトル: m/z 411(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.84(s,3H)、0.9 4(s,3H)、1.37(d,3H)、2.90(s,3H)、3.03(d d,1H)、4,64(q,1H)、6.70(d,2H)、6.78(d,2 H)。実施例84 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−アセチルアミノフ ェノキシ)−5α−アンドロスタン(103) 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−アミノフェノキ シ)−5α−アンドロスタン(48mg; 0.116mmol)を塩化メチレ ン(1ml) 及びピリジン(0.037ml; 0.46mmol)に溶解させた溶液に無水 酢酸(0.022ml; 0.23mmol)及びDMAP(5mg; 0.0 4mmol)を添加した。反応混合物を窒素雰囲気下に室温で一晩攪拌した。次 に、前記混合物を塩化メチレン(50ml)で稀釈し、水(50ml)及びブラ イン(50ml)で洗浄した。有機相を硫酸ナトリウムで脱水し、蒸発させた。 得られた粗生成物を、5%メタノール/塩化メチレンを用いる分取TLC(シリ カゲル; 1,000μm)により精製して51mgの標記化合物を得た。 質量スペクトル: m/z 453(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.84(s,3H)、0.9 3(s,3H)、1.04(d,3H)、2.13(s,3H)、2.92(s ,3H)、3.03(dd,1H)、4,68(q,1H)、6.76(d,2 H)、7.11(s,1H)、7.33(d,2H)。実施例85 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−ベンゾイルアミノ フェノキシ)−5α−アンドロスタン(104) この化合物は実施例84と同様にして、ただし無水酢酸 の替わりに塩化ベンゾイル、ピリジンの替わりにトリエチルアミンを用い、かつ DMAPは用いずに製造した。 質量スペクトル: m/z 515(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.84(s,3H)、0.9 4(s,3H)、1.05(d,3H)、2.92(s,3H)、3.04(d d,1H)、4,73(q,1H)、6.82(d,2H)、7.49(m,5 H)、7.72(s,1H)、7.84(d,2H)。実施例86 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−メチルスルホンア ミドフェノキシ)−5α−アンドロスタン(105) この化合物は実施例84と同様にして、ただし無水酢酸の替わりに塩化トシル を用いて製造した。 質量スペクトル: m/z 565(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.84(s,3H)、0.9 3(s,3H)、1.03(d,3H)、2.37(s,3H)、2.92(s ,3H)、3.02(dd,1H)、4,63(q,1H)、6.34(s,1 H)、6.67(d,2H)、6.91(d,2H)、7.19(d,2H)、 7.56(d,2H)。実施例87 3−オキソ−4−アザ−4−(2,4−ジメトキシベンジル)−7β−メチル− 16β−ヒドロキシ−5α−アンドロスタン(106) この化合物は図式5に示した化合物63と同様に製造したが、ただし対応する ベンジル類似体(図式5の化合物E)は実施例68の類似合成操作によって製造 し、その際ステップ9のメチルアミンは2,4−ジメトキシ−ベンジルアミンに 置き換えた。実施例88 3−オキソ−4−アザ−4−(2,4−ジメトキシベンジル)−7β−メチル− 16β−(4−クロロフェノキシ)−5α−アンドロスタン(107) この化合物は実施例55と同様にして、ただし3−オキソ−4−アザ−4,7 β−ジメチル−16β−ヒドロキシ−5α−アンドロスタンの替わりに3−オキ ソ−4−アザ−4−(2,4−ジメトキシベンジル)−7β−メチル−16β− ヒドロキシ−5α−アンドロスタンを用いて製造した。精製せずに次の反応に用 いた。実施例89 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−(4−ク ロロフェノキシ)−5α−アンドロスタン(108) 3−オキソ−4−アザ−4−(2,4−ジメトキシベンジル)−7β−メチル −16β−(4−クロロフェノキシ)−5α−アンドロスタン(130mg; 0.23mmol)を塩化メチレン(1ml)に溶解させた溶液にトリフルオロ 酢酸(1ml)を添加した。反応混合物を室温で一晩攪拌した。次に、溶媒を蒸 発させ、残留物を塩化メチレン中に取った。有機相を重炭酸ナトリウムの飽和溶 液及びブラインで洗浄した。その後、前記有機相を硫酸ナトリウムで脱水し、蒸 発させた。得られた粗な化合物を、20%アセトン/塩化メチレンを用いる分取 TLC(シリカゲル; 1,000μm)により精製して標記化合物を得た。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.86(s,3H)、0.9 3(s,3H)、1.01(d,3H)、3.07(dd,1H)、4,67( q,1H)、5.49(s,1H)、6.73(d,2H)、7.18(d,2 H)。実施例90 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−フェノキ シ−5α−アンドロスタン(109) 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−(4−クロロフェノキシ)− 5α−アンドロスタンのメタノール溶液に20%Pd−炭を添加した。この溶液 を1日間、48psigの水素雰囲気下に振盪した。次に、前記溶液をセライト で濾過し、蒸発させた。得られた粗な化合物を、20%アセトン/塩化メチレン を用いるフラッシュシリカゲルクロマトグラフィーにより精製して標記化合物を 溶離した。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.86(s,3H)、0.9 5(s,3H)、1.01(d,2H)、3.08(dd,1H)、4,71( q,1H)、5.48(s,1H)、6.81(d,2H)、6.89(t,1 H)、7.24(t,2H)。実施例91 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−フェノキシ−5α−アンドロス ト−1−エン(110) 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−フェノキシ−5α−アンドロ スタン(145mg; 0.35mmol)をトルエン(3ml)に溶解させた 溶液にDDQ (95mg; 0.42mmol)、BSTFA(360mg; 1.4mmo l)及びトリフル酸(4.04mg; 0.027mmol)を添加した。この 溶液を窒素雰囲気下に室温で一晩攪拌した。その後、アセト酢酸メチル(4.0 6mg; 0.035mmol)を添加し、溶液を攪拌した。1時間後、反応混 合物を一晩還流させた。次に、前記反応混合物を、炭酸ナトリウム(160mg )及び重亜硫酸ナトリウム(120mg)を含有する水(75ml)中へ注いだ 。水性相を塩化メチレン(3×40ml)で抽出し、有機相を一つに合わせた。 有機相を水(50ml)及びブライン(50ml)で洗浄した。前記有機相を硫 酸ナトリウムで脱水し、蒸発させた。得られた粗な化合物を、15%アセトン/ 塩化メチレンを用いるフラッシュシリカゲルクロマトグラフィーにより精製して 標記化合物を溶離した。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.92(s,3H)、0.9 6(s,3H)、1.02(d,3H)、3.34(dd,1H)、4.72( q,1H)、5.31(s,1H)、5.80(d,1H)、6.80(d,1 H)、6.82(d,2H)、6.89(t,1H)、7.24(t,2H)。実施例92 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−(4−クロロフェノキシ)−5 α−アンドロスト−1−エン(111) この化合物は実施例91と同様にして、ただし3−オキソ−4−アザ−7β− メチル−16β−フェノキシ−5α−アンドロスタンの替わりに3−オキソ−4 −アザ−7β−メチル−16β−(4−クロロフェノキシ)−5α−アンドロス タンを用いて製造した。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.92(s,3H)、0.9 5(s,3H)、1.02(d,2H)、3.34(dd,1H)、4.67( q,1H)、5.27(s,1H)、5.80(d,1H)、6.73(d,2 H)、6.78(d,1H)、7.18(d,2H)。実施例93 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−フェノキシ−5α−アン ドロスタン(112) 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−フェノキシ−5α−アンドロ スタン(60mg; 0.16mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(1 ml)に溶解 させた溶液に60%鉱油中分散液の形態の水素化ナトリウム(8mg; 0.2 1mmol)を添加した。窒素雰囲気下に室温で30分間攪拌後、ヨウ化メチル (40mg; 0.28mmol)を添加した。反応混合物を一晩攪拌した。前 記反応混合物を酢酸エチル(50ml)で稀釈し、1N塩酸(50ml)、水( 50ml)及びブライン(50ml)で洗浄した。有機相を硫酸ナトリウムで脱 水し、蒸発させた。得られた粗生成物を、10%アセトン/塩化メチレンを用い るフラッシュシリカゲルクロマトグラフィーにより精製して標記化合物を溶離し た。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0.9 5(s,3H)、1.05(d,3H)、2.91(s,3H)、3.02(d d,1H)、4.72(q,1H)、6.81(d,2H)、6.89(t,1 H)、7.24(t,2H)。実施例94 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−クロロフェノキシ )−5α−アンドロスト−1−エン(113) この化合物は実施例93と同様にして、ただし3−オキ ソ−4−アザ−7β−メチル−16β−フェノキシ−5α−アンドロスタンの替 わりに3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−(4−クロロフェノキシ )−5α−アンドロスタン−1−エンを用いて製造した。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.87(s,3H)、0.9 5(s,3H)、1.07(d,2H)、2.93(s,1H)、3.34(d d,1H)、4.68(q,1H)、5.84(d,1H)、6.69(d,1 H)、6.73(d,2H)、7.18(d,2H)。実施例95 3−オキソ−4−アザ−4−(2,4−ジメトキシベンジル)−7β−メチル− 16β−(3−クロロ−4−メチルフェノキシ)−5α−アンドロスタン(11 4) この化合物は実施例88と同様にして、ただし1−クロロ−4−フルオロベン ゼンの替わりに2−クロロ−4−フルオロトルエンを用いて製造した。精製せず に次の反応に用いた。実施例96 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−(3−クロロ−4−メチルフェ ノキシ)−5α−アンドロスタン (115) この化合物は実施例89と同様にして、ただし3−オキソ−4−アザ−4−( 2,4−ジメトキシベンジル)−7β−メチル−16β−(4−クロロフェノキ シ)−5α−アンドロスタンの替わりに3−オキソ−4−アザ−4−(2,4− ジメトキシベンジル)−7β−メチル−16β−(3−クロロ−4−メチルフェ ノキシ)−5α−アンドロスタンを用いて製造した。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.86(s,3H)、0.9 3(s,3H)、1.01(d,3H)、2.26(s,3H)、3.08(d d,1H)、4.66(q,1H)、5.59(s,1H)、6.62(m,1 H)、6.81(d,1H)、7.06(d,1H)。実施例97 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−(4−メチルフェノキシ)−5 α−アンドロスタン(116) この化合物は実施例90と同様にして、ただし3−オキソ−4−アザ−7β− メチル−16β−(4−クロロフェノキシ)−5α−アンドロスタンの替わりに 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−(3−クロロ−4−メ チルフェノキシ)−5α−アンドロスタンを用いて製造した。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.86(s,3H)、0.9 4(s,3H)、1.03(d,3H)、2.25(s,3H)、4.69(q ,1H)、6.71(d,2H)、7.03(d,2H)。実施例98 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−(4−メチルフェノキシ)−5 α−アンドロスト−1−エン(117) この化合物は実施例91と同様にして、ただし3−オキソ−4−アザ−7β− メチル−16β−フェノキシ−5α−アンドロスタンの替わりに3−オキソ−4 −アザ−7β−メチル−16β−(4−メチルフェノキシ)−5α−アンドロス タンを用いて製造した。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.92(s,3H)、0.9 6(s,3H)、1.03(d,3H)、2.25(s,3H)、3.34(d d,1H)、4.68(q,1H)、5.35(s,1H)、5.81(d,1 H)、6.71(d,2H)、6.79(d,1H)、7.03(d,2H)。実施例99 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−(4−メチルフェノキシ)−5 α−アンドロスタン(118) この化合物は実施例93と同様にして、ただし3−オキソ−4−アザ−7β− メチル−16β−フェノキシ−5α−アンドロスタンの替わりに3−オキソ−4 −アザ−7β−メチル−16β−(4−メチルフェノキシ)−5α−アンドロス タンを用いて製造した。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0.9 4(s,3H)、1.04(d,3H)、2.25(s,3H)、2.91(s ,3H)、3.05(dd,1H)、4.69(q,1H)、6.71(d,2 H)、7.04(d,2H)。実施例100 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−フルオロ−5α−アンド ロスタン この化合物は、中間体62(図式5)を室温において塩化メチレン中でジエチ ルアミノ硫黄三フッ化物で処理し、その後シリカゲル上でのクロマトグラフィー に掛けることによって製造した。 収率: 64%。 質量スペクトル: m/z 321(M)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.87(s,3H)、0.9 2(s,3H)、1.04(d,3H)、2.90(s,3H)、5.12(m ,H)。実施例101 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−シアノ−5α−アンドロ スタン この化合物は、中間体75(図式7)をピリジン及びトリエチルアミンなどの 有機塩基並びに4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)の存在下に塩化メチレ ン中でメタンスルホニルクロリドまたは無水メタンスルホン酸で処理することに よりそのメタンスルホネート誘導体に変換することによって得た。メタンスルホ ネート基の置換は、シアン化ナトリウムまたはカリウム存在下にN,N−ジメチ ルホルムアミドやジメチルスルホキシドといった適当な溶媒中で加熱することに より実現する。実施例102 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−(1−ヘキシル)−5α−アンド ロスタン ステップ13−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β −(1−ヘキセニル)−5α−アンドロスタ 窒素下に置いた50ml容の丸底フラスコに1−ヘキシル−トリフェニルホス ホニウムブロミド(141mg;0.33mmol)を入れ、続いて新たに蒸留 したテトラヒドロフラン(1ml)を入れた。混合物を0℃に冷却し、これにブ チルリチウム(2.5Mヘキサン溶液; 132ml; 0.33mmol)を 加えると明るい橙色の溶液が得られた。この溶液を0℃で10分間攪拌し、これ に、4−アザ−4−メチル−5α−アンドロスタン−3,16−ジオン(50m g; 0.165mmol)をテトラヒドロフラン(0.5ml)に溶解させた 溶液を添加した。反応混合物の温度を室温まで上昇させ、この混合物を一晩攪拌 した。次に、混合物を水(10ml)と酢酸エチル(20ml)とに分配し、有 機層を分離し、0.5N塩酸(2×10ml)、ブラインの飽和溶液で洗浄し、 脱水し(Na2SO4)、蒸発させた。溶離剤として1%メタノール/塩化メチレ ンを用いるフラッシュシリカゲルクロマトグラフィーによって標記化合物を精製 した。この物質 (29.6mg)を、更に精製することなくステップ2で用いた。ステップ23−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β −(1−ヘキシル)−5α−アンドロスタン ステップ1で得られた生成物(22mg)を酢酸エチル(0.5ml)に溶解 させた溶液を室温で1時間、酸化白金(5mg)の存在下に気球気圧(ball oon atmosphere)の水素ガスで水素化した。触媒をMillex −HV使い捨てフィルターでの濾過によって除去し、濾液を蒸発させた。溶離剤 として20%アセトン/ヘキサンを用いるフラッシュシリカゲルクロマトグラフ ィーによって標記化合物を精製した。 収量: 5.2mg。 質量スペクトル: m/z 374(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 2.42(dd,2H)、2. 90(s,3H)、3.00(dd,1H)。実施例103 4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−クロロベンジリデン)−5α− アンドロスタン−3−オン(12 8) 反応図式14に従い、4−アザ−4,7β−ジメチル−5α−アンドロスタン −3,17−ジオン(32mg; 0.1mmol)、水素化ナトリウム(5m g; 1.02当量)、ジエチル4−クロロベンジルホスホネート(27mg; 1.02当量)及びDMF(0.5ml)から成る溶液を80℃で1時間加熱 した。反応混合物を冷却し、ジクロロメタンで稀釈し、水(2回)、ブラインで 洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水し、濾過し、濃縮した。シリカゲルクロマ トグラフィー(4:1のヘキサン:イソプロパノールで溶離)により所望生成物 を精製して、標記化合物のE/Z異性体の5:1混合物を得た。 質量スペクトル: m/z 389。1 H NMR(500MHz; CDCl3)δ: 0.75(s,3H)、0. 82(s,3H)、0.90(d,3H)、2.96(s,3H)、3.08( dd,1H)、6.34(s,0.4H)、6.41(s,0.6H)、7.1 8〜7.38(m,5H)。実施例104 4−アザ−4,7β−ジメチル−16−ベンジリデン−5α−アンドロスタン− 3−オン(127) この実施例の化合物は4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−クロロ ベンジリデン)−5α−アンドロスタン−3−オンと同様にして、ただしジエチ ル4−クロロベンジルホスホネートの替わりにジエチルベンジルホスホネートを 用いて製造した。 質量スペクトル: m/z 390。1 H NMR(500MHz; CDCl3)δ: 0.75(s,3H)、0. 88(s,3H)、1.05(d,3H)、2.94(s,3H)、3.08( dd,1H)、6.28(s,0.4H)、6.35(s,0.6H)、7.1 5〜7.35(m,5H)。実施例105 4−アザ−4,7β−ジメチル−16−(4−メチルベンジリデン)−5α−ア ンドロスタン−3−オン(129) この実施例の化合物は4−アザ−4,7β−ジメチル−16−(4−クロロベ ンジリデン)−5α−アンドロスタン−3−オンと同様にして、ただしジエチル 4−クロロベンジルホスホネートの替わりにジエチル4−メチルベンジルホスホ ネートを用いて製造した。 質量スペクトル: m/z 404。1 H NMR(500MHz; CDCl3)δ: 0.78(s,3H)、0. 85(s,3H)、1.1(d,3H)、2.32(s,3H)、2.94(s ,3H)、3.08(dd,1H)、6.30(s,0.4H)、6.38(s ,0.6H)、7.10〜7.24(m,5H)。実施例106 4−アザ−4,7β−ジメチル−16−(4−クロロベンジル)−5α−アンド ロスタン−3−オン(130) 4−アザ−4,7β−ジメチル−16−(4−クロロベンジリデン)−5α− アンドロスタン−3−オン(33mg)をエタノール(4ml)に溶解させた溶 液に5% Rh/Cを添加し、黒色の懸濁液を気球気圧の水素下に攪拌した。2 時間後、混合物を濾過して触媒を除去し、濾液を濃縮し、かつシリカゲル上で精 製(3:1のヘキサン:アセトンで溶離)して所望の生成物を異性体の3:1混 合物として得た。 質量スペクトル: m/z 427。1 H NMR(500MHz; CDCl3)δ: 0.84(s,3H)、0. 86(s,3H)、1.02(d,3H)、2.92(bs,2.7H)、2. 93(bs,1.3H)、2.98(s,3H)、3.02(dd,1H)、7 .10(d,2H)、7.25(d,2H)。実施例107 4−アザ−4,7β−ジメチル−16−(4−メチルベンジル)−5α−アンド ロスタン−3−オン(131) この実施例の化合物は4−アザ−4,7β−ジメチル−16−(4−クロロベ ンジル)−5α−アンドロスタン−3−オンの製造に用いたのと類似の操作で製 造した。 質量スペクトル: m/z 408。1 H NMR(500MHz; CDCl3)δ: 0.86(s,6H)、1. 04(d,3H)、2.33(s,3H)、2.95(s,2H)、2.96( s,1H)、3.05(dd,1H)、7.06〜7.11(m,4H)。実施例108 4−アザ−4,7β−ジメチル−16−(3−ピリジルメチル)−5α−アンド ロスタン−3−オン(132) この実施例の化合物は4−アザ−4,7β−ジメチル−16−(4−クロロベ ンジル)−5α−アンドロスタン−3−オンの製造に用いたのと類似の操作で、 ただし3−ピリジルメチル−ジメチルホスホネートを用いて製造した。 質量スペクトル: m/z 395。1 H NMR(500MHz; CDCl3)δ: 0.89(s,3H)、0. 88(s,3H)、1.03(d,3H)、2.93(bs,2H)、2.9 4(bs,1H)、2.98(s,3H)、3.04(dd,1H)、7.10 (d,2H)、7.25(d,2H)、7.58(s,1H)、8.55(s, 2H)。実施例109 4−アザ−4,7β−ジメチル−16α−メタンスルホニル−5α−アンドロス タン−3−オン(119) 反応図式13に従い、4−アザ−4,7β−ジメチル−16α−ヒドロキシ− 5α−アンドロスタン−3−オン(65mg; 0.2mmol)の無水ジクロ ロメタン溶液に触媒量のDMAP、次いで無水メタンスルホン酸(45mg; 1.1当量)を添加した。15分後、反応混合物をジクロロメタンで稀釈し、1 M HCl(3回)、1M重炭酸ナトリウム、水及びブラインで洗浄し、無水硫 酸マグネシウムで脱水し、濾過し、かつ濃縮して、十分な純度の所望化合物を得 た。 質量スペクトル: m/z 398。1 H NMR(500MHz; CDCl3)δ: 0.78(s,3H)、0. 85(s,3H)、1.02(d,3H)、2.95(s,3H)、3.1(d d,2H)、5.18(m,1H)。実施例110 4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−チオフェノキシ−5α−アンドロスタ ン−3−オン(120) チオフェノール(50μl; 2.5当量)の無水THF溶液に水素化ナトリ ウム(20mg; 2.6当量)を添加した。20分間攪拌後、4−アザ−4, 7β−ジメチル−16α−メタンスルホニル−5α−アンドロスタン−3−オン (65mg; 0.2mmol)のTHF溶液を添加し、混合物を周囲温度で2 0時間攪拌した。反応混合物を1M塩化アンモニウムで反応停止させ、酢酸エチ ルで稀釈し、水及びブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水し、濾過し 、濃縮した。シリカゲルクロマトグラフィー(9:1のヘキサン:イソプロパノ ールで溶離)によって所望の化合物を精製した。 質量スペクトル: m/z 412。1 H NMR(500MHz; CDCl3)δ: 0.86(s,3H)、0. 96(s,3H)、1.06(d,3H)、2.94(s,3H)、3.06( dd,2H)、3.65(m,1H)、7.26〜7.70(m,5H)。実施例111 4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−クロロチオフェノキシ)−5α −アンドロスタン−3−オン(121) この化合物は4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−チオフェノキシ−5α −アンドロスタン−3−オンと同様にして、ただしチオフェノールの替わりに4 −クロロチオフェノールを用いて製造した。 質量スペクトル: m/z 446。1 H NMR(500MHz; CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0. 96(s,3H)、1.04(d,3H)、2.94(s,3H)、3.02( dd,2H)、3.61(m,1H)、7.22(d,2H)、7.32(d, 2H)。実施例112 4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−フルオロチオフェノキシ)−5 α−アンドロスタン−3−オン(122) この化合物は4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−チオフェノキシ−5α −アンドロスタン−3−オンと同様にして、ただしチオフェノールの替わりに4 −フルオロチオフェノールを用いて製造した。 質量スペクトル: m/z 431。1 H NMR(500MHz; CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0. 96(s,3H)、1.05(d,3H)、2.92(s,3H)、3.03( dd,2H)、3.51(m,1H)、6.99(d,2H)、7.35(d, 2H)。実施例113 4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−メチルチオフェノキシ)−5α −アンドロスタン−3−オン(123) この化合物は4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−チオフェノキシ−5α −アンドロスタン−3−オンと同様にして、ただしチオフェノールの替わりに4 −メチルチオフェノールを用いて製造した。 質量スペクトル: m/z 426。1 H NMR(500MHz; CDCl3)δ: 0.75(s,3H)、0. 95(s,3H)、1.1(d,3H)、2.31(s,3H)、2.94(s ,3H)、3.02(dd,2H)、3.59(m,1H)、7.09(d,2 H)、7.22(d,2H)。実施例114 4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−メトキシチオフェノキシ)−5 α−アンドロスタン−3−オン(124) この化合物は4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−チオフェノキシ−5α −アンドロスタン−3−オンと同様にして、ただしチオフェノールの替わりに4 −メトキシチオフェノールを用いて製造した。 質量スペクトル: m/z 443。1 H NMR(500MHz; CDCl3)δ: 0.81(s,3H)、0. 93(s,3H)、1.18(d,3H)、2.93(s,3H)、3.02( dd,2H)、3.50(m,1H)、3.81(s,3H)、7.45(d, 2H)、7.67(d,2H)。実施例115 4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−フェニルスルフィニル−5α−アンド ロスタン−3−オン(125) 4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−チオフェノキシ−5α−アンドロス タン−3−オン(20mg; 0.05mmol)を0℃においてジクロロメタ ンに溶解させた溶液にmCPBA(11mg; 1当量)を添加し、この溶液を 1時間攪拌した。反応混合物をジクロロメタンで 稀釈し、1M重炭酸ナトリウム、水、ブラインで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで 脱水した。シリカゲルクロマトグラフィーにより所望の化合物を精製して、ジア ステレオマーの4.6:1混合物を得た。 質量スペクトル: m/z 428。1 H NMR(500MHz; CDCl3)δ: 0.83(s,3H)、0. 92(s,3H)、1.01(d,3H)、2.92(s,3H)、3.01( dd,2H)、3.19(m,0.85H)、3.55(m,0.15H)、7 .5〜7.70(m,5H)。実施例116 4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−フェニルスルホニル−5α−アンドロ スタン−3−オン(126) 4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−フェニルスルフィニル−5α−アン ドロスタン−3−オン(12mg;0.03mmol)のジクロロメタン溶液を mCPBA(9mg; 1.5当量)で3時間処理した。反応混合物をジクロロ メタンで稀釈し、1M重炭酸ナトリウム、水、ブラインで洗浄し、無水硫酸ナト リウムで脱水した。シリカゲルクロマトグラフィー(7:3のヘキサン:イソプ ロパノールで溶離)によって所望の化合物を精製した。 質量スペクトル: m/z 444。1 H NMR(500MHz; CDCl3)δ: 0.85(s,3H)、0. 91(s,3H)、1.0(d,3H)、2.95(s,3H)、3.05(d d,2H)、3.55(m,0.15H)、7.41(t,1H)、7.55( t,2H)、7.90(d,1H)、7.90(d,1H)。実施例117 3−オキソ−4−アザ−4,16β−ジメチル−5α−アンドロスタン この化合物は、容易に入手可能な4−アザ−4,16β−ジメチル−アンドロ スタン−3,17−ジオンを17−トリフレートに変換することによって製造す る。17−トリフレートを通常の方法で還元することによって、標記16β−メ チル類似体を得る。 質量スペクトル: m/z 304(M+1)。 400MHz 1H NMR(CDCl3)δ: 0.76(s,3H)、0.8 5(s,3H)、1.04(d,3H)、2.90(s,3H)、3.01(d d,1H)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AP(KE,MW,SD,SZ,UG), AL,AM,AU,BB,BG,BR,BY,CA,C N,CZ,EE,FI,GE,HU,IS,JP,KG ,KR,KZ,LK,LR,LT,LV,MD,MG, MK,MN,MX,NO,NZ,PL,RO,RU,S G,SI,SK,TJ,TM,TT,UA,US,UZ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. アクネを治療する方法であって、アクネ治療を必要とするヒトに治療有効 量の5α−レダクターゼ阻害剤と、抗菌薬、角質溶解薬及び抗炎症薬の中から選 択した少なくとも1種の薬剤とを投与するステップを含む方法。 2. 5α−レダクターゼ阻害剤が5α−レダクターゼ1阻害剤であることを特 徴とする請求項1に記載の方法。 3. 5α−レダクターゼ2阻害剤をも含むことを特徴とする請求項2に記載の 方法。 4. 5α−レダクターゼ2阻害剤がフィナステリド、エピステリドまたはツロ ステリドであることを特徴とする請求項3に記載の方法。 5. 5α−レダクターゼ1阻害剤を構造I 〔式中 Rは水素、メチル、エチル、−OH、−NH2及び−SC H3の中から選択され、 点線(−−−)a及びbは独立に単結合または二重結合であり、ただしbが二重 結合の時5α水素のHaは存在せず、=Zは 1)オキソ、 2)α水素、及び a)C1〜C4アルキル、 b)C2〜C4アルケニル、 c)CH2COOH、 d)−OH、 e)−COOH、 f)−COO(C1〜C4)アルキル、 g)R1及びR2が i)H、 ii)C1〜C4アルキル、 iii)フェニル、及び iv)ベンジル の中から独立に選択されるか、またはR1及びR2と結合した窒素原子と 共に、場合によっては−O−、−S−、及びR′が−Hまたはメチルであ る−N(R′)−の中から選択された1個の他のヘテロ原子を有する5または6 貞飽和複素環を構成する−OC(O)NR12、 h)C1〜C4アルコキシ、 i)C3〜C6シクロアルコキシ、 j)−OC(O)−C1〜C4アルキル、 k)ハロ、 l)ヒドロキシ−C1及びC2アルキル、 m)ハロ−C1及びC2アルキル、 n)−CF3、及び o)C3〜C6シクロアルキル の中から選択されたβ置換基、 3)R3が−H及びC1〜C4アルキルの中から選択された=CHR3、並びに 4)構造 のスピロシクロプロパン−R3 の中から選択される〕の化合物またはその医薬に許容可能な塩もしくはエステル 、及び構造II 〔式中 C1−C2炭素−炭素結合は点線で示したように単結合であっても二重結合であっ てもよく、 R4は水素及びC1〜C10アルキルの中から選択され、 R5は水素及びC1〜C10アルキルの中から選択され、 R6及びR7の一方は水素及びメチルの中から選択され、 他方は (a)アミノ、 (b)シアノ、 (c)フルオロ、 (d)メチル、 (e)OH、 (f)Rb及びRcが独立にH、C1〜C6アルキル、アリール、またはアリールC1 〜C6アルキルであり、その際アルキル部分は1〜3個のハロ、C1〜C4 アルコキシまたはトリフルオロメチルで置換され得、またアリール部分は1〜3 個のハロ、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシまたはトリフルオロメチルで 置換され得る−C(O)NRbc、 (g)C1〜C10アルキル−X−、 (h)C2〜C10アルケニル−X−((g)のC1〜C10アルキル及び(h)のC2 〜C10アルケニルは置換されていなくても、また1〜3個の i) ハロ、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、モノ、ジまたはトリハロメチ ル、オキソ、ヒドロキシスルホニル、カルボキシ、 ii) C1〜C6アルキル部分が1〜3個のハロ、C1〜C4アルコキシまた はトリフルオロメチルで置換され得るヒドロキシC1〜C6アルキル、C1〜C6ア ルキルオキシ、C1〜C6アルキルチオ、C1〜C6アルキルスルホニル、C1〜C6 アルキルオキシカルボニル、 iii) アリール部分が1〜3個のハロ、C1〜C4アルキル、C1〜C4アル コキシまたはトリ フルオロメチルで置換され得るアリールチオ、アリール、アリールオキシ、アリ ールスルホニル、アリールオキシカルボニル、 iv) Rb及びRcが先の規定どおりである−C(O)NRbc、−N(Rb )−C(O)−Rc)−NRbc で置換されていてもよい)、 (i)アリール−X−、 (j)ヘテロアリールが1個の環酸素原子、1個の環硫黄原子、1〜4個の環窒 素原子及びこれらの組み合わせのうちの少なくとも1種を有する5、6または7 員複素芳香環であり、この複素芳香環はまた1個のベンゾまたは複素芳香環と縮 合し得るヘテロアリール−X−((i)のアリール及び(j)のヘテロアリール は置換されていなくても、また1〜3個の v) ハロ、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、モノ、ジまたはトリハロメチ ル、モノ、ジまたはトリハロメトキシ、C2〜C6アルケニル、C3〜C6シクロア ルキル、ホルミル、ヒドロスルホニル、カルボキシ、ウレイド、 vi) C1〜C6アルキル部分が1〜3個のハロ、C1〜C4アルコキシまた はトリフルオロメチルで置換され得るC1〜C6アルキル、ヒドロキシC1〜C6ア ルキル、C1〜C6アルキルオキシ、C1〜C6アルキルオキシC1〜C6アルキル、 C1〜C6アルキルカルボニル、C1〜C6アルキルスルホニル、C1〜C6アルキル チオ、C1〜C6アルキルスルフィニル、C1〜C6アルキルスルホンアミド、C1 〜C6アルキルアリールスルホンアミド、C1〜C6アルキルオキシカルボニル、 C1〜C6アルキルオキシカルボニルC1〜C6アルキル、RbcN−C(O)−C1 〜C6アルキル、C1〜C6アルカノイルアミノC1〜C6アルキル、アロイルアミ ノC1〜C6アルキル、 vii) アリール部分が1〜3個のハロ、C1〜C4アルキル、C1〜C4アル コキシまたはトリフルオロメチルで置換され得るアリール、アリールオキシ、ア リールカルボニル、アリー ルチオ、アリールスルホニル、アリールスルフイニル、アリールスルホンアミド 、アリールオキシカルボニル、 viii)Rb及びRcが先の(f)の規定どおりである−C(O)NRbc、 −O−C(O)−NRbcN−N(Rb)−C(O)−Rc、−NRbc、Rb− C(O)−N(Rc)−、RgがC1〜C6アルキルまたはアリールであり、その際 アルキル部分は1〜3個のハロ、C1〜C4アルコキシまたはトリフルオロメチル で置換され得、アリール部分は1〜3個のハロ、C1〜C4アルキル、C1〜C4ア ルコキシまたはトリフルオロメチルで置換され得る−N(Rb)−C(O)−O Rg、RdがH、C1〜C6アルキル及びアリールの中から選択され、その際C1〜 C6アルキル及びアリールはRb及びRcに関して先の(f)に述べたように置換 され得る−N(Rb)−C(O)NRcd、 ix) 1個の環酸素原子、1個の環硫黄原子、1〜 4個の環窒素原子及びこれらの組み合わせのうちの少なくとも1種を有する5、 6または7員環であり、芳香環、不飽和環または飽和環であり得、かつベンゾ環 と縮合し得、その際 ix)の複素環基を除き先の v)、vi)、vii)及び viii) に規定した置換基1〜3個で置換され得る複素環基 で置換されていてもよい) の中から選択され、 (k)R6とR7とは共にカルボニル酸素であり得、 (l)R6とR7とは共にRgが viii)の規定どおりである=CH−Rgであり得 、 Xは−O−、−S(O)n−、−C(O)−、−CH(Re)−、−C(O)−O −*、−C(O)−N(Re)−*、−N(Re)−C(O)−O−*、−O−C( O)−N(Re)−*、−N(Re)C(O)−N(Re)−、−O−CH(Re) −*及び−N(Re)−の中から選択され、その際ReはH、C1〜C3アルキル、 アリール、アリールC1〜C3アルキル、または先の(j)に規定した非置換もし くは置換ヘテロアリールであり、星印(*)は構造 IIの16位への結合を示し、nは0、1または2である〕の化合物またはその医 薬に許容可能な塩もしくはエステルの中から選択することを特徴とする請求項2 に記載の方法。 6. 5α−レダクターゼ阻害剤が構造式 〔式中RはHまたはCH3である〕を有することを特徴とする請求項5に記載の 方法。 7. 5α−レダクターゼ阻害剤が構造式 を有することを特徴とする請求項5に記載の方法。 8. 5α−レダクターゼ阻害剤が構造式 を有することを特徴とする請求項5に記載の方法。 9. Zがα水素であり、β置換基はC1〜C4アルキルまたはC2〜C4アルケニ ルであることを特徴とする請求項5に記載の方法。 10. 式IIの5α−レダクターゼ阻害剤化合物のR4が水素またはメチルであ り、R5は水素またはメチルであることを特徴とする請求項5に記載の方法。 11. 式IIの5α−レダクターゼ阻害剤化合物のR6及びR7が非置換または置 換アリールオキシ、C1〜C10アルキルオキシもしくはC1〜C10アルキルチオの 中から選択されることを特徴とする請求項5に記載の方法。 12. 式IIのC1−C2炭素−炭素結合が単結合であり、R4はメチルであり、 R5はメチルであり、R7は非置換または置換アリールオキシの中から選択され、 R6は水素であることを特徴とする請求項5に記載の方法。 13. 式IIのR6及びR7の一方が水素及びメチルの中 から選択され、他方は (b)シアノ、 (c)フルオロ、 (e)OH、 (g)C1〜C10アルキル−X−、または1個もしくは2個のハロもしくはC1〜 C6アルキルで置換され得るアリールでアルキルが置換され得るC〜C0アルキル −X−、 (h)C2〜C10アルケニル−X−、 (i)アリール−X−、 (j)ヘテロアリールが1個または2個の環窒素原子を有する5または6員複素 芳香環であるヘテロアリール−X−((i)のアリール及び(j)のヘテロアリ ールは置換されていなくても、また1個または2個の x) ハロ、シアノ、ニトロ、トリハロメチル、トリハロメトキシ、C1 〜C6アルキル、アリール、C1〜C6アルキルスルホニル、C1〜C6アルキルア リールスルホンアミノ、 xi) Rb及びRcが独立にH、C1〜C6アルキル、 アリール、またはアリールC1〜C6アルキルであり、その際アルキル部分は1〜 3個のハロ、C1〜C4アルコキシまたはトリフルオロメチルで置換され得、また アリール部分は1〜3個のハロ、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシまたは トリフルオロメチルで置換され得る−NRbc、Rb−C(O)−N(Rc)−、 xii) 1個の環窒素原子、または1個の環酸素原子と1個の環窒素原子と を有する5員芳香環である複素環基 で置換されていてもよい) の中から選択され、 (k)R6とR7とは共にカルボニル酸素であり得、 Xは−O−、−S(O)n−、−CH(Re)−、−C(O)−N(Re)−*及び −O−C(O)−N(Re)−*の中から選択され、その際ReはH、C1〜C3ア ルキル、アリール、またはアリールC1〜C3アルキルであり、星印(*)は構造I Iの16位への結合を示し、nは0または2である ことを特徴とする請求項5に記載の方法。 14. 前記阻害剤を化合物 7β−エチル−4−メチル−4−アザ−コレスト−5−エン−3−オン、 7β−エチル−4−メチル−4−アザ−コレスタン−3−オン、 7β−エチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−カルボキシメチル−4−アザ−コレスト−5−エン−3−オン、 7β−カルボキシメチル−4−アザ−コレスタン−3−オン、 7β−プロピル−4−メチル−4−アザ−コレスト−5−エン−3−オン、 7β−プロピル−4−メチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−プロピル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−メチル−4−アザ−コレスト−5−エン−3−オン、 7β−メチル−4−アザ−コレスタン−3−オン、 4,7β−ジメチル−4−アザ−コレスト−5−エン−3−オン、 4,7β−ジメチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 4−メチル−4−アザ−5α−コレスタン−3,7−ジオン、 7β−アセトキシ−4−メチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−ヒドロキシ−4−メチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−メトキシ−4−メチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−ヒドロキシメチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−ブロモメチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−クロロメチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−フルオロメチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−カルボキシ−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−トリフルオロメチル−4−アザ−コレスト−5−エン−3−オン、 7β−メトキシ−4−メチル−4−アザ−コレスタ−5−エン−3−オン、 7β−シクロプロピルオキシ−4−メチル−4−アザ−5α−コレスタン−3− オン、 7β−プロピリデン−4−メチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 7β−(2−エチル)スピロエチレン−4−メチル−4−アザ−5α−コレスタ ン−3−オン、 7β−メチル−4−アザ−5α−コレスト−1−エン−3−オン、 4−アザ−4,7β−ジメチル−5α−アンドロスタン−3,16−ジオン、 4−アザ−4−メチル−5α−アンドロスタン−3,16−ジオン、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−ヒドロキシ−5α−アンドロスタ ン、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−(ベンジルアミノカルボニルオキ シ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−ベンゾイルアミノ−5α−アンド ロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−メトキシ−5α−アンドロスタン 、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−アリルオキシ−5α−アンドロス タン、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−(n−プロピルオキシ)−5α− アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16α−ヒドロキシ−5α−アンドロスタ ン、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−(フェノキシ)−5α−アンドロ スタン、 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−(フェノキシ)−5α−アンド ロスト−1−エン、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16α−メトキシ−5α−アンドロスタン 、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−(4−クロロフェノキシ)−5α −アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−(4−クロロフェノキシ)−5 α−アンドロスト−1−エン、 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−(4−タロロフェノキシ)−5 α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−(3−クロロ−4−メチルフェ ノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−(4−メチルフェノキシ)−5 α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−(4−メチルフェノキシ)−5 α−アンドロスト−1−エン、 3−オキソ−4−アザ−7β−メチル−16β−[4−(1−ピロリル)フェノ キシ]−5α−アンドロスト−1−エン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−ヒドロキシ−5α−アン ドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−メトキシ−5α−アンド ロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−アリルオキシ−5α−ア ンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3,3−ジメチルアリ ルオキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(n−プロピルオキシ) −5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(イソペントキシ)−5 α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,16α−ジメチル−16β−ヒドロキシ−5α−ア ンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−エチルオキシ−5α−ア ンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−ベンジルオキシ−5α− アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16α−ヒドロキシ−5α−アン ドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−メチルチオ−5α−アン ドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(n−プロピルチオ)− 5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−フルオロ−5α−アンド ロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−シアノ−5α−アンドロ スタン、 3−オキソ−4−アザ−4−メチル−16β−(1−ヘキシル)−5α−アンド ロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(n−プロピル)−5α −アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−ベンジル−5α−アンド ロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−クロロベンジル) −5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,16α−ジメチル−16β−メトキシ−5α−アン ドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−シアノフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3−シアノフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−ニトロフェノキシ )−5α−アンドロスタン、3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16 β−(1−ナフチルオキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3−クロロ−4−メチ ルフェノキシ)−5α−アンドロ スタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−メチルフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(t−ブチルオキシ)− 5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3−メチル−1−ブチ ルオキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(n−プロピルオキシ) −5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−トリフルオロメチ ルフェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−トリフルオロメト キシフェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−エチルチオ−5α−アン ドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−エチルスルホニル−5α −アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−メチルスルホニル フェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−[4−(4−トリルスル ホニルアミノ)フェノキシ]−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3−ピリジルオキシ) −5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−[(4−フェニル)フェ ノキシ]−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−フルオロフェノキ シ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(2−ピラジニルオキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−[4−(5−オキサゾリ ル)フェノキシ]−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(2−ピリミジニルオキ シ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β− [4−(1−ピリル)フェノキシ]−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−アミノフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−アセチルアミノフ ェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−ベンゾイルアミノ フェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−クロロフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(フェノキシ)−5α− アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(2−クロロフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3−クロロフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−クロロフェノキシ )−5α−アンドロスト−1−エ ン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16−(4−クロロベンジリデン )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16−ベンジリデン−5α−アン ドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16−(4−メチルベンジリデン )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16−(4−クロロベンジル)− 5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16−(4−メチルベンジル)− 5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16−(3−ピリジルメチル)− 5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16α−メタンスルホニル−5α −アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−チオフェノキシ−5α− アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−クロロチオフェノ キシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β− (4−フルオロチオフェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−メチルチオフェノ キシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−メトキシチオフェ ノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−フェニルスルフィニル− 5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−フェニルスルホニル−5 α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β,16α−トリメチル−16β−(4−トリフ ルオロメチルフェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β,16α−トリメチル−16β−ヒドロキシ− 5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β,16α−トリメチル−16β−メトキシ−5 α−アンドロスタン、 及びこれらの医薬に許容可能な塩の中から選択することを特徴とする請求項5に 記載の方法。 15. 5α−レダクターゼ阻害剤を化合物 7β−エチル−4−メチル−4−アザ−コレスタン−3− オン、 7β−プロピル−4−メチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 4,7β−ジメチル−4−アザ−5α−コレスタン−3−オン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−シアノフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3−シアノフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−ニトロフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(1−ナフチルオキシ) −5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3−クロロ−4−メチ ルフェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−メチルフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−トリフルオロメチ ルフェノキシ)−5α−アンドロ スタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−トリフルオロメト キシフェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−メチルスルホニル フェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−[4−(4−トリルスル ホニルアミノ)フェノキシ]−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−[(4−フェニル)フェ ノキシ]−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−フルオロフェノキ シ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−[4−(5−オキサゾリ ル)フェノキシ]−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−[4−(1−ピリル)フ ェノキシ]−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−アミノフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−アセチルアミノフ ェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−ベンゾイルアミノ フェノキシ)−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−クロロフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(フェノキシ)−5α− アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(2−クロロフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(3−クロロフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 及びこれらの医薬に許容可能な塩の中から選択することを特徴とする請求項14 に記載の方法。 16. 5α−レダクターゼ阻害剤を化合物 4,7β−ジメチル−4−アザ−5α−コレスタン−3− オン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−(4−クロロフェノキシ )−5α−アンドロスタン、 3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β−[4−(1−ピリル)フ ェノキシ]−5α−アンドロスタン、 及びこれらの医薬に許容可能な塩の中から選択することを特徴とする請求項15 に記載の方法。 17. 抗菌薬をアミノグリコシド、アムフェニコール、アンサマイシン、β− ラクタム、リンコサミド、マクロライド、ポリペプチド、テトラサイクリン、2 ,4−ジアミノピリミジン、ニトロフラン、キノロン、スルホンアミド及びスル ホンまたはこれらの混合物の中から選択することを特徴とする請求項1に記載の 方法。 18. 抗菌薬を (a)アミカシン、アプラマイシン、アルベカシン、バンベルマイシン、ブチロ シン、ジベカシン、ジヒドロストレプトマイシン、ホルチマイシン、ゲンタマイ シン、イセパマイシン、カナマイシン、ミクロノマイシン、ネオマイシン、ウン デシレン酸ネオマイシン、ネチルマイシン、パロ モマイシン、リボスタマイシン、シソマイシン、スペクチノマイシン、ストレプ トマイシン、ストレプトニコジド、トブラマイシンを含めたアミノグリコシド、 (b)アジダムフェニコール、クロラムフェニコール、パルミチン酸クロラムフ ェニコール、パントテン酸クロラムフェニコール、フロルフェニコール、チアム フェニコールを含めたアムフェニコール、 (c)リファミド、リファンピン、リファマイシンSV、リファキシミンを含め たアンサマイシン、 (d)イミペネム、セファクロル、セファドロキシル、セファマンドール、セフ ァトリジン、セファゼドン、セファゾリン、セフィキシム、セフメノキシム、セ ホジジム、セホニシド、セホペラゾン、セホラニド、セホタキシム、セホチアム 、セフピミゾール、セフピラミド、セフポドキシムプロキセチル、セフロキサジ ン、セフスロジン、セフタジジム、セフテラム、セフテゾール、セフチブテン、 セフチゾキシム、セフトリアキソン、セフロキシム、セフゾナム、セファセトリ ルナトリウム、セファレキシン、セファログリシン、セファロリジン、セファロ スポリンC、セファロチン、セファピリンナトリウム、セフラジン、ピブ セファレキシン、セフブペラゾン、セフメタゾール、セフミノックス、セホテタ ン、セホキシチン、アズトレオナム、カルモナム、チゲモナム、フロモキセフ、 モキソラクタム、アミジノシリン、アミジノシリンピボキシル、アモキシシリン 、アンピシリン、アパルシリン、アスポキシシリン、アジドシリン、アズロシリ ン、バカンピシリン、ベンジルペニシリン酸、ベンジルペニシリンナトリウム、 カルベニシリン、カルフェシリンナトリウム、カリンダシリン、クロメトシリン 、クロキサシリン、シクラシリン、ジクロキサシリン、ジフェニシリンナトリウ ム、エピシリン、フェンベニシリン、フロキサシリン、ヘタシリン、レナンピシ リン、メタンピシリン、メチシリンナトリウム、メズロシリン、ナフシリンナト リウム、オキサシリン、ペナメシリン、ペネタメートヨウ化水素酸塩、ペニシリ ンGベネタミン、ペニシリンGベンザチン、ペニシリンGベンズヒドリルアミン 、ペニシリンGカルシウム、ペニシリンGヒドラバミン、ペニシリンGカリウム 、ペニシリンGプロカイン、ペニシリンN、ペニシリンO、ペニシリンV、ペニ シリンVベンザチン、ペニシリンVヒドラバミン、ペニメピサイクリン、フェネ チシリンカリウム、ピペラシリン、ピバン ピシリン、プロピシリン、キナシリン、スルベニシリン、タランピシリン、テモ シリン、チカルシリンを含めたβ−ラクタム、 (e)クリンダマイシン、リンコマイシンを含めたリンコサミド、 (f)アジスロマイシン、カルボマイシン、クラリスロマイシン、エリスロマイ シン、エリスロマイシンアシストレート、エリスロマイシンエストレート、エリ スロマイシングルコヘプトネート、エリスロマイシンラクトビオネート、プロピ オン酸エリスロマイシン、ステアリン酸エリスロマイシン、ジョサマイシン、ロ イコマイシン、ミデカマイシン、ミオカマイシン、オレアンドマイシン、プリマ イシン、ロキタマイシン、ロサラマイシン、ロキシスロマイシン、スピラマイシ ン、トロレアンドマイシンを含めたマクロライド、 (g)アンホマイシン、バシトラシン、カプレオマイシン、コリスチン、エンズ ラシジン、エンビオマイシン、フサフンジン、グラミシジン、グラミシジンS、 ミカマイシン、ポリミキシン、ポリミキシンB−メタンスルホン酸、プリスチナ マイシン、リストセチン、テイコプラニン、チオス トレプトン、ツベラクチノマイシン、タイロシジン、タイロスライシン、バンコ マイシン、ビオマイシン、パントテン酸ビオマイシン、ビルギニアマイシン、亜 鉛バシトラシンを含めたポリペプチド、 (h)アピサイクリン、クロルテトラサイクリン、クロモサイクリン、デメクロ サイクリン、ドキシサイクリン、グアメサイクリン、ライメサイクリン、メクロ サイクリン、メタサイクリン、ミノサイクリン、オキシテトラサイクリン、ペニ メピサイクリン、ピパサイクリン、ロリテトラサイクリン、サンサイクリン、セ ノサイクリン、テトラサイクリンを含めたテトラサイクリン、 (i)ブロジモプリム、テトロキソプリム、トリメトプリムを含めた2,4−ジ アミノピリミジン、 (j)フラルタドン、塩化フラゾリウム、ニフラデン、ニフラテル、ニフルホリ ン、ニフルピリノール、ニフルプラジン、ニフルトイノール、ニトロフラントイ ンを含めたニトロフラン、 (k)アミフロキサシン、シノキサシン、シプロフロキサシン、ジフロキサシン 、エノキサシン、フレロキサシン、フルメキン、ロメフロキサシン、ミロキサシ ン、ナリジキ シン酸、ノルフロキサシン、オフロキサシン、オキソリン酸、ペフロキサシン、 ピペミド酸、ピロミド酸、ロソキサシン、テマフロキサシン、トスフロキサシン 、OPC 7251フルオロキノロン(Otsuka)を含めたキノロン、 (l)アセチルスルファメトキシピラジン、アセチルスルフイソオキサゾール、 アゾスルファミド、ベンジルスルファミド、クロラミンB、クロラミンT、ジク ロラミンT、ホルモスルファチアゾール、N−ホルミルスルフイソミジン、N− β−D−グルコシルスルファニルアミド、マフェニド、4′-(メチルスルファ モイル)スルファニルアニリド、p−ニトロスルファチアゾール、ノプリルスル ファミド、フタリルスルフアセトアミド、フタリルスルファチアゾール、サラゾ スルファジミジン、スクシニルスルファチアゾール、スルファベンズアミド、ス ルファセトアミド、スルファクロルピリダジン、スルファクリソイジン、スルフ ァサイチン、スルファジアジン、スルファジクラミド、スルファジメトキシン、 スルファドキシン、スルファエチドール、スルファグアニジン、スルファグアノ ール、スルファレン、スルファロキシ酸、スルファメラジン、スル ファメーテル、スルファメタジン、スルファメチゾール、スルファメトミジン、 スルファメトキサゾール、スルファメトキシピリダジン、スルファメトロール、 スルファミドクリソイジン、スルファモキソール、スルファニルアミド、スルフ ァニルアミドメタンスルホン酸トリエタノールアミン塩、4−スルファニルアミ ドサリチル酸、N−スルファニリルスルファニルアミド、スルファニリル尿素、 N−スルファニリル−3,4−キシルアミド、スルファニトラン、スルファペリ ン、スルファフェナゾール、スルファプロキシリン、スルファピラジン、スルフ ァピリジン、スルファソミゾール、スルファサイマジン、スルファチアゾール、 スルファチオ尿素、スルファトルアミド、スルフイソミジン、スルフイソオキサ ゾールを含めたスルホンアミド、 (m)アセダプソン、アセジアスルホン、アセトスルホンナトリウム、ダプソン 、ジアチモスルホン、グルコスルホンナトリウム、ソラスルホン、スクシスルホ ン、スルファニル酸、p−スルファニリルベンジルアミン、p,p′−スルホニ ルジアニリン−N,N′−ジガラクトシド、スルホキソンナトリウム、チアゾー ルスルホンを含めたスルホン、及び (n)シクロセリン、ムピロシン、ツベリン、クロホクトール、ヘキセジン、メ テナミン、無水メチレンクエン酸メテナミン、馬尿酸メテナミン、マンデル酸メ テナミン、スルホサリチル酸メテナミン、ニトロキソリン、キシボルノール、過 酸化ベンゾイル、 またはこれらの混合物の中から選択することを特徴とする請求項1に記載の方法 。 19. 抗菌薬がクリンダマイシン、OPC 7251(Otsuka)フルオ ロキノロンまたはエリスロマイシンであることを特徴とする請求項18に記載の 方法。 20. 角質溶解薬をアルケストンアセトフェニド、アゼライン酸、過酸化ベン ゾイル、過酸化ベンゾイル/エリスロマイシン、サイオクトル、ジクロロ酢酸、 メトロニダゾール、モトレチニド、レゾルシノール、サリチル酸、硫黄、テトロ キノン、α−ヒドロキシ酸、グリコール酸、及びこれらの混合物の中から選択す ることを特徴とする請求項1に記載の方法。 21. 角質溶解薬が過酸化ベンゾイル、過酸化ベンゾイル/エリスロマイシン 、またはサリチル酸であることを特徴とする請求項20に記載の方法。 22. 抗炎症薬をアミノアリールカルボン酸誘導体、アリール酢酸誘導体、ア リール酪酸誘導体、アリールカルボン酸、アリールプロピオン酸誘導体、ピラゾ ール、ピラゾロン、サリチル酸誘導体、チアジンカルボキサミド、グルココルチ コイド、またはこれらの混合物の中から選択することを特徴とする請求項1に記 載の方法。 23. 抗炎症薬を (a)エンフェナム酸、エトフェナメート、フルフェナム酸、イソニキシン、メ クロフェナム酸、メフェナム酸、ニフルム酸、タルニフルメート、テロフェナメ ート、トルフェナム酸を含めたアミノアリールカルボン酸誘導体、 (b)アセメタシン、アルクロフェナック、アンフェナック、ブフェキサマック 、シンメタシン、クロピラック、ジクロフェナックナトリウム、エトドラック、 フェルビナック、フェンクロフェナック、フェンクロラック、フェンクロズ酸、 フェンチアザック、グルカメタシン、イブフェナック、インドメタシン、イソフ ェゾラック、イソキセパック、ロナゾラック、メチアジン酸、オキサメタシン、 プログルメタシン、スリンダック、チアラミド、トルメチン、ゾメピラックを含 めたアリール酢酸誘導体、 (c)ブマジゾン、ブチブフェン、フェンブフェン、キセンブシンを含めたアリ ール酪酸誘導体、 (d)クリダナック、ケトロラック、チノリジンを含めたアリールカルボン酸、 (e)アルミノプロフェン、ベノキサプロフェン、ブクロキシ酸、カルプロフェ ン、フェノプロフェン、フルノキサプロフェン、フルルビプロフェン、イブプロ フェン、イブプロキサム、インドプロフェン、ケトプロフェン、ロキソプロフェ ン、ミロプロフェン、ナプロキセン、オキサプロジン、ピケトプロフェン、ピル プロフェン、プラノプロフェン、プロチジン酸、スプロフェン、チアプロフェン 酸を含めたアリールプロピオン酸誘導体、 (f)ジフェナミゾール、エピリゾールを含めたピラゾール、 (g)アパゾン、ベンズピペリロン、フェプラゾン、モフェブタゾン、モラゾン 、オキシフェンブタゾン、フェニルブタゾン、ピペブゾン、プロピフェナゾン、 ラミフェナゾン、スキシブゾン、チアゾリノブタゾンを含めたピラゾロン、 (h)アセトアミノサロール、アスピリン、ベノリレート、 ブロモサリゲニン、アセチルサリチル酸カルシウム、ジフルニサール、エテルサ レート、フェンドサール、ゲンチジン酸、サリチル酸グリコール、サリチル酸イ ミダゾール、アセチルサリチル酸リシン、メサラミン、サリチル酸モルホリン、 サリチル酸1−ナフチル、オルサラジン、パルサルミド、アセチルサリチル酸フ ェニル、サリチル酸フェニル、サルアセトアミド、サリチルアミドO−酢酸、サ リチル硫酸、サルサレート、スルファサラジンを含めたサリチル酸誘導体、 (i)ε−アセトアミドカプロン酸、S−アデノシルメチオニン、3−アミノ− 4−ヒドロキシ酪酸、アミキセトリン、ベンダザック、ベンジダミン、ブコロー ム、ジフェンピラミド、ジタゾール、エモルファゾン、グアヤズレン、ナブメト ン、ニメスリド、オルゴテイン、オキサセプロール、パラニリン、ペリソキサー ル、ピホキシム、プロカゾン、プロキサゾール、テニダップのうちのいずれか一 つ、及び (j)21−アセトキシプレグネノロン、アルクロメタゾン、アルゲストン、ア ンシノニド、ベクロメタゾン、ベタメタゾン、ブデソニド、クロロプレドニゾン 、クロベタ ゾール、クロベタゾン、クロコルトロン、クロプレドノール、コルチコステロン 、コルチゾン、コルチバゾール、デフラザコルト、デソニド、デスオキシメタゾ ン、デキサメタゾン、ジフロラゾン、ジフルコルトロン、デフルプレドネート、 エノキソロン、フルアザコルト、フルクロロニド、フルメタゾン、フルニソリド 、フルオシノロンアセトニド、フルオシノニド、フルオコルチンブチル、フルオ コルトロンフルジョロメトロン、酢酸フルペロロン、酢酸フルプレドニデン、フ ルプレドニソロン、フルランドレノリド、ホルモコルタール、ハルシノニド、ハ ロメタゾン、酢酸ハロプレドン、ヒドロコルタメート、ヒドロコルチゾン、酢酸 ヒドロコルチゾン、リン酸ヒドロコルチゾン、ヒドロコルチゾン21−ナトリウ ムスクシネート、ヒドロコルチゾンテブテート、マジプレドノン、メドリゾン、 メプレドニゾン、メチルプレドニゾノール、モメタゾンフロエート、パラメタゾ ンプレドニカルベート、プレドニゾロン、プレドニゾロン21−ジエチルアミノ アセテート、プレドニゾロンナトリウムホスフェート、プレドニゾロンナトリウ ムスクシネート、プレドニゾロンナトリウム21−m−スルホベンゾエート、プ レドニゾロン21−ステアロイルグリコ レート、プレドニゾロンテブテート、プレドニゾロン21−トリメチルアセテー ト、プレドニゾン、プレドニバール、プレドニリデン、プレドニリデン21−ジ エチルアミノアセテート、チキソコトロール、トリアンシノロン、トリアンシノ ロンアセトニド、トリアンシノロンベネトニド、トリアンシノロンヘキサセトニ ドを含めたグルココルチコイド、 またはこれらの混合物の中から選択することを特徴とする請求項1に記載の方法 。 24. 抗炎症薬がプレドニゾンであることを特徴とする請求項23に記載の方 法。 25. アクネに関連する5α−レダクターゼまたはそのアイソザイムを阻害す る方法であって、そのような阻害を必要とするヒトに5α−レダクターゼ阻害剤 と、抗菌薬、角質溶解薬及び抗炎症薬の中から選択した少なくとも1種の薬剤と をいずれも治療有効量で投与するステップを含む方法。 26. 医薬に許容可能なキャリヤと、治療有効量の5α−レダクターゼ阻害剤 、並びに抗菌薬、角質溶解薬及び抗炎症薬の中から選択された少なくとも1種の 薬剤とを含有 する医薬組成物。 27. 5α−レダクターゼ阻害剤が5α−レダクターゼ1阻害剤であることを 特徴とする請求項26に記載の組成物。 28. 5α−レダクターゼ阻害剤が5α−レダクターゼ2阻害剤であることを 特徴とする請求項26に記載の組成物。 29. 5α−レダクターゼ阻害剤が5α−レダクターゼ1阻害剤と5α−レダ クターゼ2阻害剤との混合物であることを特徴とする請求項26に記載の組成物 。 30. 5α−レダクターゼ1阻害剤が4,7β−ジメチル−4−アザ−5α− コレスタン−3−オン、3−オキソ−4−アザ−4,7β−ジメチル−16β− (4−クロロフェノキシ)−5α−アンドロスタン、3−オキソ−4−アザ−4 ,7β−ジメチル−16β−[4−(1−ピリル)フェノキシ]−5α−アンド ロスタン及びこれらの医薬に許容可能な塩の中から選択されることを特徴とする 請求項27に記載の組成物。 31. 医薬に許容可能なキャリヤと、治療有効量の請求項5に定義した5α− レダクターゼ1阻害剤、並びに抗菌 薬、角質溶解薬及び抗炎症薬の中から選択した少なくとも1種の薬剤とを含有す る医薬組成物。
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