JPH1050655A - 回収排水の転送装置及び転送方法 - Google Patents
回収排水の転送装置及び転送方法Info
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- JPH1050655A JPH1050655A JP20467196A JP20467196A JPH1050655A JP H1050655 A JPH1050655 A JP H1050655A JP 20467196 A JP20467196 A JP 20467196A JP 20467196 A JP20467196 A JP 20467196A JP H1050655 A JPH1050655 A JP H1050655A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】複数の半導体装置の製造装置より排出される排
水を全て回収水槽に集めている為、再利用率が低下す
る。 【解決手段】複数の半導体装置の製造装置１Ａ〜１Ｃよ
り排出される排水を枝配管２Ａ〜２Ｃより集める主配管
の下流部にセンサ６を設け、センサの出力により切替弁
７を制御し排水先を回収水槽４又は転送配管５に切替え
る。
水を全て回収水槽に集めている為、再利用率が低下す
る。 【解決手段】複数の半導体装置の製造装置１Ａ〜１Ｃよ
り排出される排水を枝配管２Ａ〜２Ｃより集める主配管
の下流部にセンサ６を設け、センサの出力により切替弁
７を制御し排水先を回収水槽４又は転送配管５に切替え
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
工場、特に超純水（以下単に純水という）を大量に使用
する半導体装置の製造装置にて使用された水を、再度純
水に精製する超純水再生工程か、又は処理後放流する排
水処理工程へ転送する為の回収排水の転送装置および転
送方法に関するものである。
工場、特に超純水（以下単に純水という）を大量に使用
する半導体装置の製造装置にて使用された水を、再度純
水に精製する超純水再生工程か、又は処理後放流する排
水処理工程へ転送する為の回収排水の転送装置および転
送方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造装置より排出される排
水で比較的薬品の混入の少ないものは、純水再生工程
（以下再生工程と称す）へ転送され再利用され、比較的
薬品の混入の多いものは排水処理工程へ転送され最終的
には工場外へ放流されている。詳述すれば、図５に示す
ように、排水は複数の半導体装置の製造装置１Ａ，１
Ｂ，１Ｃ…より任意のタイミングで枝配管２Ａ，２Ｂ，
２Ｃに排出され、主配管３を経由して回収水槽４へ集め
られる。回収水槽４には、電気伝導度計や有機物測定計
などの回収水（回収水槽中の排水）８に含まれる不純物
の汚染度を測定するセンサ１６Ａなどが具備されてお
り、回収水槽４の液量が液面センサ１０により上限と検
出されたときの回収水８の不純物が基準値以下と判断さ
れる場合、即ちセンサ１６Ａの出力値が基準値を満足し
ている場合は回収水８はポンプ９と切替弁７Ａにより再
生工程へ、それ以外の場合は排水処理工程へ転送され
る。
水で比較的薬品の混入の少ないものは、純水再生工程
（以下再生工程と称す）へ転送され再利用され、比較的
薬品の混入の多いものは排水処理工程へ転送され最終的
には工場外へ放流されている。詳述すれば、図５に示す
ように、排水は複数の半導体装置の製造装置１Ａ，１
Ｂ，１Ｃ…より任意のタイミングで枝配管２Ａ，２Ｂ，
２Ｃに排出され、主配管３を経由して回収水槽４へ集め
られる。回収水槽４には、電気伝導度計や有機物測定計
などの回収水（回収水槽中の排水）８に含まれる不純物
の汚染度を測定するセンサ１６Ａなどが具備されてお
り、回収水槽４の液量が液面センサ１０により上限と検
出されたときの回収水８の不純物が基準値以下と判断さ
れる場合、即ちセンサ１６Ａの出力値が基準値を満足し
ている場合は回収水８はポンプ９と切替弁７Ａにより再
生工程へ、それ以外の場合は排水処理工程へ転送され
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】図５で説明した回収排
水の転送装置において、充分きれいな排水が平均流量Ｖ
で流れている主配管３へ、製造装置１Ａ，１Ｂ，１Ｃ…
からの排水が流れ込んだとする。このきの回収水槽４の
水量の時間変化は図６（ａ）の実線Ｅのようになる。こ
こで時間帯Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３における回収水の増加分
は、それぞれ製造装置１Ａ，１Ｂ，１Ｃからの排出分に
相当する。いま、図５の製造装置１Ａと１Ｃからの排水
は充分きれいで、製造装置１Ｂの排水もまた比較的きれ
いな場合、回収水槽４のセンサ１６Ａの出力の時間変化
は図６（ｂ）の実線Ｆの様になり、回収水槽４の液量の
上限時点ｔout でセンサ１６Ａの出力は基準値Ｓ0 の範
囲内のため、回収水槽４内の水は全量再生工程へ転送さ
れることになる。一方、製造装置１Ｂの排水が比較的汚
い場合、回収水槽４のセンサ１６Ａの出力の時間変化は
図６（ｂ）のの破線Ｇの様になり、回収水槽の液量の上
限時点ｔout でセンサ１６Ａの出力は基準値Ｓ0 の範囲
外のため、回収水槽４内の水は全量排水処理工程へ転送
されることになる。従って、複数の製造装置のうち１台
でも（この場合装置１Ｂが該当する）不純物を多く含む
排水を排出すると、回収水槽全体の水質を悪化させ、他
の装置（この場合装置１Ａ，１Ｃ…が該当する）からの
排水も含めて排水処理工程へ転送されてしまい、再利用
率が低下してしまうという問題点がある。
水の転送装置において、充分きれいな排水が平均流量Ｖ
で流れている主配管３へ、製造装置１Ａ，１Ｂ，１Ｃ…
からの排水が流れ込んだとする。このきの回収水槽４の
水量の時間変化は図６（ａ）の実線Ｅのようになる。こ
こで時間帯Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３における回収水の増加分
は、それぞれ製造装置１Ａ，１Ｂ，１Ｃからの排出分に
相当する。いま、図５の製造装置１Ａと１Ｃからの排水
は充分きれいで、製造装置１Ｂの排水もまた比較的きれ
いな場合、回収水槽４のセンサ１６Ａの出力の時間変化
は図６（ｂ）の実線Ｆの様になり、回収水槽４の液量の
上限時点ｔout でセンサ１６Ａの出力は基準値Ｓ0 の範
囲内のため、回収水槽４内の水は全量再生工程へ転送さ
れることになる。一方、製造装置１Ｂの排水が比較的汚
い場合、回収水槽４のセンサ１６Ａの出力の時間変化は
図６（ｂ）のの破線Ｇの様になり、回収水槽の液量の上
限時点ｔout でセンサ１６Ａの出力は基準値Ｓ0 の範囲
外のため、回収水槽４内の水は全量排水処理工程へ転送
されることになる。従って、複数の製造装置のうち１台
でも（この場合装置１Ｂが該当する）不純物を多く含む
排水を排出すると、回収水槽全体の水質を悪化させ、他
の装置（この場合装置１Ａ，１Ｃ…が該当する）からの
排水も含めて排水処理工程へ転送されてしまい、再利用
率が低下してしまうという問題点がある。
【０００４】排液の分別回収方法として、例えば特開平
６−２３２０３６号公報では、レジスト液とレジスト溶
剤を分別回収し再利用出来るように、これらレジスト液
とレジスト溶剤を使用する装置の作業工程、即ちレジス
ト液が排出されている工程とレジスト溶剤を排出してい
る工程に連動して排出先を切り替える手段を設けるなど
の回収方法が示されている。しかしこれは、本質的に異
種の溶剤の含まれる比率が小さくなればそのまま再利用
できるレジスト液とレジスト溶剤の様な限定された薬品
を使用する装置には有効である。
６−２３２０３６号公報では、レジスト液とレジスト溶
剤を分別回収し再利用出来るように、これらレジスト液
とレジスト溶剤を使用する装置の作業工程、即ちレジス
ト液が排出されている工程とレジスト溶剤を排出してい
る工程に連動して排出先を切り替える手段を設けるなど
の回収方法が示されている。しかしこれは、本質的に異
種の溶剤の含まれる比率が小さくなればそのまま再利用
できるレジスト液とレジスト溶剤の様な限定された薬品
を使用する装置には有効である。
【０００５】しかしながら、半導体装置の製造工程で用
いられる装置の多くは多種類の薬品を使用し、その濃度
や純度も厳重に管理されているため、使用済みの薬品の
溶液を分別回収し純度をある程度上げたところで、その
まま利用できるものではない。また仮に利用できるとし
ても、個々の装置において各工程、各槽毎に排液を分別
するには、数多くの薬液回収タングや回収配管を必要と
する。従って、再利用されるものは、各装置で共通に使
用され最も使用量の多い超純水の排出液であり、これも
混入するであろう薬品を想定して、分別回収したところ
で（例えばフッ素イオンを含有する水と塩素イオンを含
有する水は別々に回収するといったこと）回収槽構成を
煩雑にするだけで再生工程の負荷を低減するのには役に
立たない（再生工程では、陰イオンは種類の別なく一括
してイオ交換樹脂などで吸着処理されるため）。
いられる装置の多くは多種類の薬品を使用し、その濃度
や純度も厳重に管理されているため、使用済みの薬品の
溶液を分別回収し純度をある程度上げたところで、その
まま利用できるものではない。また仮に利用できるとし
ても、個々の装置において各工程、各槽毎に排液を分別
するには、数多くの薬液回収タングや回収配管を必要と
する。従って、再利用されるものは、各装置で共通に使
用され最も使用量の多い超純水の排出液であり、これも
混入するであろう薬品を想定して、分別回収したところ
で（例えばフッ素イオンを含有する水と塩素イオンを含
有する水は別々に回収するといったこと）回収槽構成を
煩雑にするだけで再生工程の負荷を低減するのには役に
立たない（再生工程では、陰イオンは種類の別なく一括
してイオ交換樹脂などで吸着処理されるため）。
【０００６】本発明の目的は、半導体装置の製造工程で
用いられる純水の再利用率を高めることのできる回収排
水の転送装置及び転送方法を提供することにある。
用いられる純水の再利用率を高めることのできる回収排
水の転送装置及び転送方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】第１の発明の回収排水の
転送装置は、複数の半導体装置の製造装置より排出され
る排水を流す複数の枝配管と、これらの枝配管からの排
水を集めて回収水槽に導入する主配管と、最下流の前記
枝配管の接続部より下流側の前記主配管に接続され排水
を排水処理装置へ送る転送配管と、前記主配管と前記転
送配管との接続部の上流側に設けられ排水の汚染度を検
出するセンサと、前記転送配管の接続部に設けられ前記
センサからの信号により排水の流れを切り替える切替弁
とを含むことを特徴とするものである。
転送装置は、複数の半導体装置の製造装置より排出され
る排水を流す複数の枝配管と、これらの枝配管からの排
水を集めて回収水槽に導入する主配管と、最下流の前記
枝配管の接続部より下流側の前記主配管に接続され排水
を排水処理装置へ送る転送配管と、前記主配管と前記転
送配管との接続部の上流側に設けられ排水の汚染度を検
出するセンサと、前記転送配管の接続部に設けられ前記
センサからの信号により排水の流れを切り替える切替弁
とを含むことを特徴とするものである。
【０００８】第２の発明の回収排水の転送方法は、枝配
管からの排水を集めて流す主配管の下流部に排水の汚染
度を検出するセンサを設け、このセンサの出力に応じて
切り替え弁を制御し排水を回収槽又は排水処理装置へ送
ることを特徴とするものである。
管からの排水を集めて流す主配管の下流部に排水の汚染
度を検出するセンサを設け、このセンサの出力に応じて
切り替え弁を制御し排水を回収槽又は排水処理装置へ送
ることを特徴とするものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】次に本発明について図面を参照し
て説明する。図１は本発明の第１の実施の形態を説明す
る為の回収排水の転送装置の構成図である。
て説明する。図１は本発明の第１の実施の形態を説明す
る為の回収排水の転送装置の構成図である。
【００１０】図１を参照すると回収排水の転送装置は、
複数の半導体装置の製造装置１（１Ａ，１Ｂ，１Ｃ）よ
り排出される排水を流す複数の枝配管２（２Ａ，２Ｂ，
２Ｃ）と、これらの枝配管２からの排水を集めて回収水
槽４に導入する主配管３と、最下流の枝配管２Ｃの接続
部より下流側の主配管３に接続され排水を排水処理工程
の処理装置へ送る転送配管５と、主配管３と転送配管５
との接続部の上流側に設けられ、排水の汚染度（不純物
濃度や電気伝導度等）を検出するセンサ６と、転送配管
５の接続部に設けられ信号線１１を介して送られるセン
サ６からの信号により排水の流れを切り替える切替弁８
と、回収水槽４の液面の上限を検出する液面センサ１０
と、この液面センサ１０からの信号により回収水８を再
生工程へ送るポンプ９とから主に構成される。尚図１に
おいて１６は回収水槽４内の回収水の汚染度を測定する
センサである。尚、センサは直接配管に埋込んでもよ
く、又主配管の一部に水溜の部分を設けこの所に設置し
てもよい。以下この装置の動作について説明する。
複数の半導体装置の製造装置１（１Ａ，１Ｂ，１Ｃ）よ
り排出される排水を流す複数の枝配管２（２Ａ，２Ｂ，
２Ｃ）と、これらの枝配管２からの排水を集めて回収水
槽４に導入する主配管３と、最下流の枝配管２Ｃの接続
部より下流側の主配管３に接続され排水を排水処理工程
の処理装置へ送る転送配管５と、主配管３と転送配管５
との接続部の上流側に設けられ、排水の汚染度（不純物
濃度や電気伝導度等）を検出するセンサ６と、転送配管
５の接続部に設けられ信号線１１を介して送られるセン
サ６からの信号により排水の流れを切り替える切替弁８
と、回収水槽４の液面の上限を検出する液面センサ１０
と、この液面センサ１０からの信号により回収水８を再
生工程へ送るポンプ９とから主に構成される。尚図１に
おいて１６は回収水槽４内の回収水の汚染度を測定する
センサである。尚、センサは直接配管に埋込んでもよ
く、又主配管の一部に水溜の部分を設けこの所に設置し
てもよい。以下この装置の動作について説明する。
【００１１】複数の製造装置１から排出され主として純
水からなる排水は枝配管２より主配管３に集められる
が、主配管３の下流に設けられたセンサ６によりその汚
染度が測定される。この汚染度、特に不純物濃度が規定
値以下の場合は、排水は回収水槽４へ流れるように切替
弁７がセンサ６からの信号により切り替えられ、又規定
値以上の場合は転送配管５側へ流れるように切り替えら
れる。この規定値を、図５，図６で説明した回収水槽４
におけるセンサ１６の出力の基準値Ｓ0 と同一にしてお
けば、回収水槽４内に溜る回収水８の全量の汚染度は基
準値Ｓ0 以下となる。従って回収水槽４に溜った回収水
８は全て再生工程へ送ることができる為、半導体装置の
製造工程で用いる純水の再利用率を大幅に高めることが
できる。尚、使用される純水の汚染される割合が少い場
合は、規定値をＳ0 より高く設定しておいてもよい。こ
の場合純水の再利用率は更に向上したものとなる。
水からなる排水は枝配管２より主配管３に集められる
が、主配管３の下流に設けられたセンサ６によりその汚
染度が測定される。この汚染度、特に不純物濃度が規定
値以下の場合は、排水は回収水槽４へ流れるように切替
弁７がセンサ６からの信号により切り替えられ、又規定
値以上の場合は転送配管５側へ流れるように切り替えら
れる。この規定値を、図５，図６で説明した回収水槽４
におけるセンサ１６の出力の基準値Ｓ0 と同一にしてお
けば、回収水槽４内に溜る回収水８の全量の汚染度は基
準値Ｓ0 以下となる。従って回収水槽４に溜った回収水
８は全て再生工程へ送ることができる為、半導体装置の
製造工程で用いる純水の再利用率を大幅に高めることが
できる。尚、使用される純水の汚染される割合が少い場
合は、規定値をＳ0 より高く設定しておいてもよい。こ
の場合純水の再利用率は更に向上したものとなる。
【００１２】図２は本発明の第２の実施の形態を説明す
る為の回収排水の転送装置の構成図である。
る為の回収排水の転送装置の構成図である。
【００１３】図１で説明した第１の実施の形態では、主
配管３の最下流に設置した単一のセンサ６で排水の汚染
度を測定し切換弁７を制御していたが、単一のセンサだ
けでは複数の製造装置のうちどの装置から汚れた排水が
排出されているか分らない。特に半導体装置の製造装置
では頻繁に使用薬品の種類や製造工程を変更する為、汚
染された排水を頻繁に排出する装置を特定できる方が便
利な場合がある。この為、本第２の実施の形態では複数
のセンサを設け、これらセンサからの情報により切換弁
を制御するようにしたものである。
配管３の最下流に設置した単一のセンサ６で排水の汚染
度を測定し切換弁７を制御していたが、単一のセンサだ
けでは複数の製造装置のうちどの装置から汚れた排水が
排出されているか分らない。特に半導体装置の製造装置
では頻繁に使用薬品の種類や製造工程を変更する為、汚
染された排水を頻繁に排出する装置を特定できる方が便
利な場合がある。この為、本第２の実施の形態では複数
のセンサを設け、これらセンサからの情報により切換弁
を制御するようにしたものである。
【００１４】図２において図１と異る所は各枝配管２
Ａ，２Ｂ，２Ｃの主配管３との接続部の下流側に複数の
センサ６Ａ，６Ｂ，６Ｃを設け、これらセンサをＣＰＵ
やメモリ等からなる切替弁制御部１２に接続し、この切
替弁制御部１２の信号を信号線１１により切替弁７に送
るようにしたことである。尚、センサ６Ａ，６Ｂは接続
部の枝配管側へ設けてもよい。次に図３を併用して動作
について説明する。
Ａ，２Ｂ，２Ｃの主配管３との接続部の下流側に複数の
センサ６Ａ，６Ｂ，６Ｃを設け、これらセンサをＣＰＵ
やメモリ等からなる切替弁制御部１２に接続し、この切
替弁制御部１２の信号を信号線１１により切替弁７に送
るようにしたことである。尚、センサ６Ａ，６Ｂは接続
部の枝配管側へ設けてもよい。次に図３を併用して動作
について説明する。
【００１５】複数の半導体装置の製造装置１Ａ〜１Ｃの
排水は枝配管２Ａ〜２Ｃを介して主配管３に集められ回
収水槽４又は排水処理工程へ排出される。この時センサ
６Ａ〜６Ｃの信号は切替弁制御部１２のＣＰＵ等で処理
されて切替弁７に送られ、切替弁７の動作を制御する。
回収水槽４に集められた回収水８は、回収液上限に達す
ると液面センサ１０の信号により再生工程に送液され
る。
排水は枝配管２Ａ〜２Ｃを介して主配管３に集められ回
収水槽４又は排水処理工程へ排出される。この時センサ
６Ａ〜６Ｃの信号は切替弁制御部１２のＣＰＵ等で処理
されて切替弁７に送られ、切替弁７の動作を制御する。
回収水槽４に集められた回収水８は、回収液上限に達す
ると液面センサ１０の信号により再生工程に送液され
る。
【００１６】排水の水質をモニタする複数のセンサ６
Ａ，６Ｂ，６Ｃはそれぞれ枝配管２Ａ，２Ｂ，２Ｃの接
続部の下流近傍に設けられている。従ってセンサ６Ｃ
は、製造装置１Ｃのみならず製造装置１Ａや１Ｂの排水
の情報も入手することが出来、同様に各センサはその上
流側の製造装置から排出された排水を把握する事が可能
となる。これら個々のセンサの出力を下記方法により総
合的に判断し、切替弁制御部１２により排水の転送先が
切り替えられる。
Ａ，６Ｂ，６Ｃはそれぞれ枝配管２Ａ，２Ｂ，２Ｃの接
続部の下流近傍に設けられている。従ってセンサ６Ｃ
は、製造装置１Ｃのみならず製造装置１Ａや１Ｂの排水
の情報も入手することが出来、同様に各センサはその上
流側の製造装置から排出された排水を把握する事が可能
となる。これら個々のセンサの出力を下記方法により総
合的に判断し、切替弁制御部１２により排水の転送先が
切り替えられる。
【００１７】図２において、主配管３内には平均流量Ｖ
できれいな水が流れており、この主配管３に枝配管から
汚染された水が混入した場合枝配管近傍に汚染された排
水が分布する。この汚染水の分布は徐々に広がりながら
主配管３の下方へ移動していく。しかし汚染水の分布の
下方への移動速度は、配管内をポンプ等で圧送していな
いため配管の径と勾配によりほぼ一義的に決まる。この
汚染水の分布と移動は複数のセンサ６Ａ〜６Ｃでモニタ
すると図３に示すような情報が得られる。
できれいな水が流れており、この主配管３に枝配管から
汚染された水が混入した場合枝配管近傍に汚染された排
水が分布する。この汚染水の分布は徐々に広がりながら
主配管３の下方へ移動していく。しかし汚染水の分布の
下方への移動速度は、配管内をポンプ等で圧送していな
いため配管の径と勾配によりほぼ一義的に決まる。この
汚染水の分布と移動は複数のセンサ６Ａ〜６Ｃでモニタ
すると図３に示すような情報が得られる。
【００１８】すなわち、図３において（ａ），（ｂ），
（ｃ）は図２のセンサ６Ａ，６Ｂ，６Ｃの出力の時間変
化であり、（ｅ）は回収水槽４内をモニタするセンサ１
６の出力の時間変化、（ｆ）は回収水槽４内に貯まった
回収液量の時間変化である。図３において、破線イにみ
られる一連の変化、即ち一番上流で検出しているのはセ
ンサ６Ａであることと、一定時間遅れで下流側のセンサ
に次々に同様の出力ピークがみられることから、製造装
置１Ａから排出された排水によるピークであると判断さ
れる。同様に破線ロ，ハのピークはそれぞれ製造装置１
Ｂ，１Ｃから排出された排水によるピークであると判断
される。しかし、いつ回収水槽４あるいは切換弁７に不
純物を多く含む排水が到達するかは、単一センサ結果か
らは判明しないが、複数のセンサ出力結果を比較するこ
とで、到達時間を予想することが出来る。即ち破線イや
ロにみられるピーク検出の時間遅れ具合（以下遅れ時間
と称す）は、厳密には配管内の流速により変化するが、
通常排水の流速は配管の勾配により流れてくるものでほ
ぼ一定であり（以下勾配流速と称す）この遅れ時間もほ
ぼ一定とみて支障ない。そしてこの遅れ時間を考慮する
ことで到達時間を予想することが出来る。また、もし特
定の装置から通常の排出量より著しく多い排水が生じ
て、配管内の勾配流速に変化があったとしても、各セン
サの遅れ時間の変化を通常の遅れ時間と比較することで
容易に把握することができ、それに伴う予想到達時間を
補正する事も可能となる。
（ｃ）は図２のセンサ６Ａ，６Ｂ，６Ｃの出力の時間変
化であり、（ｅ）は回収水槽４内をモニタするセンサ１
６の出力の時間変化、（ｆ）は回収水槽４内に貯まった
回収液量の時間変化である。図３において、破線イにみ
られる一連の変化、即ち一番上流で検出しているのはセ
ンサ６Ａであることと、一定時間遅れで下流側のセンサ
に次々に同様の出力ピークがみられることから、製造装
置１Ａから排出された排水によるピークであると判断さ
れる。同様に破線ロ，ハのピークはそれぞれ製造装置１
Ｂ，１Ｃから排出された排水によるピークであると判断
される。しかし、いつ回収水槽４あるいは切換弁７に不
純物を多く含む排水が到達するかは、単一センサ結果か
らは判明しないが、複数のセンサ出力結果を比較するこ
とで、到達時間を予想することが出来る。即ち破線イや
ロにみられるピーク検出の時間遅れ具合（以下遅れ時間
と称す）は、厳密には配管内の流速により変化するが、
通常排水の流速は配管の勾配により流れてくるものでほ
ぼ一定であり（以下勾配流速と称す）この遅れ時間もほ
ぼ一定とみて支障ない。そしてこの遅れ時間を考慮する
ことで到達時間を予想することが出来る。また、もし特
定の装置から通常の排出量より著しく多い排水が生じ
て、配管内の勾配流速に変化があったとしても、各セン
サの遅れ時間の変化を通常の遅れ時間と比較することで
容易に把握することができ、それに伴う予想到達時間を
補正する事も可能となる。
【００１９】図３（ｄ）は切替弁７直前のセンサ出力の
推定波形である。例えばこの波形で切替基準値Ｓ0 以上
のものを排水処理工程へ転送するようにすれば、時間ｔ
1 からｔ2 の間排出先を切り替える様に切替弁７に信号
を送ればよいことになる。図３（ｅ），（ｆ）の破線
Ｂ，Ｄは従来例のように全ての排水を回収水槽４に転送
した結果であり、回収水槽４が上限になった時点ｔout
でのセンサ出力値は基準値Ｓ0 を越えているため、全量
排水処理工程へ転送される。一方、図３（ｅ），（ｆ）
の実線Ａ，Ｃは、センサ６Ａ，６Ｂ，６Ｃの出力を総合
的に判断し切替弁制御部１２により時間ｔ1 からｔ2 の
間、排水を転送配管５を介して排水処理工程へ転送した
結果の変化であり、この場合回収水槽４が上限になった
時点ｔ3 でのセンサ出力値は基準値Ｓ0 を越えていない
ため全量再生処理が可能となる。かくして回収液全体の
予想不純物濃度が著しく増加するような場合、その予想
到達時間に、切替弁７を切り替て排水を排水処理工程へ
転送すれば、不純物を多く含む排水の混入をさけること
が可能となり、それ故純水の再利用率を上げることが可
能となる。
推定波形である。例えばこの波形で切替基準値Ｓ0 以上
のものを排水処理工程へ転送するようにすれば、時間ｔ
1 からｔ2 の間排出先を切り替える様に切替弁７に信号
を送ればよいことになる。図３（ｅ），（ｆ）の破線
Ｂ，Ｄは従来例のように全ての排水を回収水槽４に転送
した結果であり、回収水槽４が上限になった時点ｔout
でのセンサ出力値は基準値Ｓ0 を越えているため、全量
排水処理工程へ転送される。一方、図３（ｅ），（ｆ）
の実線Ａ，Ｃは、センサ６Ａ，６Ｂ，６Ｃの出力を総合
的に判断し切替弁制御部１２により時間ｔ1 からｔ2 の
間、排水を転送配管５を介して排水処理工程へ転送した
結果の変化であり、この場合回収水槽４が上限になった
時点ｔ3 でのセンサ出力値は基準値Ｓ0 を越えていない
ため全量再生処理が可能となる。かくして回収液全体の
予想不純物濃度が著しく増加するような場合、その予想
到達時間に、切替弁７を切り替て排水を排水処理工程へ
転送すれば、不純物を多く含む排水の混入をさけること
が可能となり、それ故純水の再利用率を上げることが可
能となる。
【００２０】尚図２において、製造装置１Ａ〜１Ｃがそ
れぞれ複数の製造装置から構成されていてもよいことは
勿論である。
れぞれ複数の製造装置から構成されていてもよいことは
勿論である。
【００２１】図４は本発明の第３の実施の形態を説明す
る為の回収排水の転送装置の構成図であり、汚染水を排
出する製造装置が多い場合を示す。
る為の回収排水の転送装置の構成図であり、汚染水を排
出する製造装置が多い場合を示す。
【００２２】図４を参照すると、複数の製造装置ａ，
ｂ，ｃは下流側にセンサ６ａと連動して作動する切替弁
７ａを有する枝配管２Ａに接続されており、この切替弁
７ａには転送配管５Ｂが接続され排水を排水処理工程へ
送るように構成されている。製造装置ｄ，ｅ，ｆ及び
ｇ，ｈ，ｉも同様にセンサ６ｂ，６ｃと連動する切替弁
７ｂ，７ｃ及び転送配管５Ｂが接続された枝配管２Ｂ及
び２Ｃにそれぞれ接続されている。そしてこれらの枝配
管２Ａ〜２Ｃは第２の実施の形態と同様に、複数のセン
サ６Ａ〜６Ｃと切替弁７を有する主配管３に接続されて
いる。
ｂ，ｃは下流側にセンサ６ａと連動して作動する切替弁
７ａを有する枝配管２Ａに接続されており、この切替弁
７ａには転送配管５Ｂが接続され排水を排水処理工程へ
送るように構成されている。製造装置ｄ，ｅ，ｆ及び
ｇ，ｈ，ｉも同様にセンサ６ｂ，６ｃと連動する切替弁
７ｂ，７ｃ及び転送配管５Ｂが接続された枝配管２Ｂ及
び２Ｃにそれぞれ接続されている。そしてこれらの枝配
管２Ａ〜２Ｃは第２の実施の形態と同様に、複数のセン
サ６Ａ〜６Ｃと切替弁７を有する主配管３に接続されて
いる。
【００２３】このように構成された第３の実施の形態に
よれば、汚染水を排出する多くの製造装置ａ〜ｉの接続
された枝配管、２Ａ〜２Ｃにおいて、各センサ６ａ〜６
ｃで排水の回収が不可と判断された場合は切替弁７ａ〜
７ｃにより流路を転送配管５Ｂに切替え、排水を排水処
理工程へ流すようできる。従って汚染水が主配管３に流
出される割合が少なくなる為、回収水槽４に送られる排
水の再利用率を高めることができる。尚、回収水槽４中
の回収水８の水質が基準値より低い場合は、従来例と同
様に、切替弁７Ａにより排水処理工程へ送くことができ
るように構成されている。
よれば、汚染水を排出する多くの製造装置ａ〜ｉの接続
された枝配管、２Ａ〜２Ｃにおいて、各センサ６ａ〜６
ｃで排水の回収が不可と判断された場合は切替弁７ａ〜
７ｃにより流路を転送配管５Ｂに切替え、排水を排水処
理工程へ流すようできる。従って汚染水が主配管３に流
出される割合が少なくなる為、回収水槽４に送られる排
水の再利用率を高めることができる。尚、回収水槽４中
の回収水８の水質が基準値より低い場合は、従来例と同
様に、切替弁７Ａにより排水処理工程へ送くことができ
るように構成されている。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、枝配管よ
り排水を集める主配管の下流部にセンサと切替弁を設
け、センサにより排水の汚染度を検出してその信号によ
り切替弁を制御することにより、汚染度の高い排水を直
接転送配管により排水処理工程へ送り、汚染度の低い排
水のみを回収水槽に集めることができる為、排水の回収
率を大幅に向上させることができる。
り排水を集める主配管の下流部にセンサと切替弁を設
け、センサにより排水の汚染度を検出してその信号によ
り切替弁を制御することにより、汚染度の高い排水を直
接転送配管により排水処理工程へ送り、汚染度の低い排
水のみを回収水槽に集めることができる為、排水の回収
率を大幅に向上させることができる。
【００２５】更に各枝配管の接続部近傍にセンサを設け
ることにより、汚染された排水を流す製造装置を特定で
きる為、排水の回収率を向上させることができると共
に、製造装置のトラブル等の対応も迅速に実施できる。
ることにより、汚染された排水を流す製造装置を特定で
きる為、排水の回収率を向上させることができると共
に、製造装置のトラブル等の対応も迅速に実施できる。
【図１】本発明の第１の実施の形態を説明する為の回収
排水の転送装置の構成図。
排水の転送装置の構成図。
【図２】本発明の第２の実施の形態を説明する為の回収
排水の転送装置の構成図。
排水の転送装置の構成図。
【図３】第２の実施の形態におけるセンサ出力と回収水
槽の液量の時間的変化を示す図。
槽の液量の時間的変化を示す図。
【図４】本発明の第３の実施の形態を説明する為の回収
排水の転送装置の構成図。
排水の転送装置の構成図。
【図５】従来の回収排水の転送装置の構成図。
【図６】従来例のセンサ出力と回収水槽の液量の時間的
変化を示す図。
変化を示す図。
１Ａ〜１Ｃ 製造装置 ２Ａ〜２Ｃ 枝配管 ３ 主配管 ４ 回収水槽 ５，５Ａ，５Ｂ 転送配管 ６，６Ａ〜６Ｃ，６ａ〜６ｃ センサ ７，７Ａ，７ａ〜７ｃ 切替弁 ８ 回収水 ９ ポンプ １０ 液面センサ １１ 信号線 １２ 切替弁制御部
Claims (3)
- 【請求項１】 複数の半導体装置の製造装置より排出さ
れる排水を流す複数の枝配管と、これらの枝配管からの
排水を集めて回収水槽に導入する主配管と、最下流の前
記枝配管の接続部より下流側の前記主配管に接続され排
水を排水処理装置へ送る転送配管と、前記主配管と前記
転送配管との接続部の上流側に設けられ排水の汚染度を
検出するセンサと、前記転送配管の接続部に設けられ前
記センサからの信号により排水の流れを切り替える切替
弁とを含むことを特徴とする回収排水の転送装置。 - 【請求項２】 複数の枝配管と主配管からなる排水の流
路に複数のセンサを設け、これら複数のセンサからの信
号を処理し切替弁に信号を送出する切替弁制御部を設け
た請求項１記載の回収排水の転送装置。 - 【請求項３】 枝配管からの排水を集めて流す主配管の
下流部に排水の汚染度を検出するセンサを設け、このセ
ンサの出力に応じて切り替え弁を制御し排水を回収槽又
は排水処理装置へ送ることを特徴とする回収排水の転送
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08204671A JP3141785B2 (ja) | 1996-08-02 | 1996-08-02 | 回収排水の転送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08204671A JP3141785B2 (ja) | 1996-08-02 | 1996-08-02 | 回収排水の転送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1050655A true JPH1050655A (ja) | 1998-02-20 |
| JP3141785B2 JP3141785B2 (ja) | 2001-03-05 |
Family
ID=16494373
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08204671A Expired - Fee Related JP3141785B2 (ja) | 1996-08-02 | 1996-08-02 | 回収排水の転送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3141785B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4583520B2 (ja) * | 1998-12-11 | 2010-11-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 排水処理装置および方法 |
| JP2012250218A (ja) * | 2011-06-07 | 2012-12-20 | Fuji Electric Co Ltd | 排水処理装置 |
| JP2013089628A (ja) * | 2011-10-13 | 2013-05-13 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置、液処理方法および記憶媒体 |
| WO2020170629A1 (ja) * | 2019-02-19 | 2020-08-27 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP7316016B1 (ja) * | 2023-05-30 | 2023-07-27 | 室町ケミカル株式会社 | 可搬式水処理システム及び水処理方法 |
-
1996
- 1996-08-02 JP JP08204671A patent/JP3141785B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4583520B2 (ja) * | 1998-12-11 | 2010-11-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 排水処理装置および方法 |
| JP2012250218A (ja) * | 2011-06-07 | 2012-12-20 | Fuji Electric Co Ltd | 排水処理装置 |
| JP2013089628A (ja) * | 2011-10-13 | 2013-05-13 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置、液処理方法および記憶媒体 |
| WO2020170629A1 (ja) * | 2019-02-19 | 2020-08-27 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP2020136454A (ja) * | 2019-02-19 | 2020-08-31 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP7316016B1 (ja) * | 2023-05-30 | 2023-07-27 | 室町ケミカル株式会社 | 可搬式水処理システム及び水処理方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3141785B2 (ja) | 2001-03-05 |
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