JPH10506453A - 半径方向の振動を減衰する装置 - Google Patents

半径方向の振動を減衰する装置

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JPH10506453A JP8511486A JP51148696A JPH10506453A JP H10506453 A JPH10506453 A JP H10506453A JP 8511486 A JP8511486 A JP 8511486A JP 51148696 A JP51148696 A JP 51148696A JP H10506453 A JPH10506453 A JP H10506453A
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ケイ. スワン,マイケル
アール. シュルツ,リチャード
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グレイシャー アールピービー インコーポレイテッド
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Abstract

(57)【要約】 ターボ機械のシャフト(10)の半径方向の振動に拘る減衰装置(20)(第1(b)図)は、二つの円周方向に制限された直径方向に相対する減衰チャンバ(22,23)を含み、この減衰チャンバはシャフトに向かって開放され、またガス流量コントローラ(29Aおよび29B)で交互にガスが供給される。各コントローラは円周方向に配置されたチャンバ(22’,23’)、または同じチャンバの圧力を検出することで切換えられる流体装置を含み、この圧力はシャフト位置の変化で変動されるのであり、供給源(27)からガスは導かれる。ガス流量の切換えは圧力変動を生じるように構成され、この圧力がシャフトの接近よりも進んだ位相の状態で半径方向の押圧力をシャフトに加え、振動を減衰させる。流体装置は流量増幅器または流体論理フリップフロップ(41)(第2図)で構成され、多段装置とされて利得を増大され、その全ては可動部材のない状態で形成され、ハウジングに内蔵される。流れの切換えは、他の形式の検出、例えばシャフトに向うノズルからの漏洩で行うことができる。この装置はガスシールと組合わされ、あるいはガスシールとして機能され、または軸受装置の一部をなす。

Description

【発明の詳細な説明】 半径方向の振動を減衰する装置 本発明は回転シャフトの減衰装置に係わり、特にターボ機械のような高速度で 回転可能なシャフトの振動減衰に適用できる。本発明は半径方向、すなわちシャ フトの回転軸線に直角な方向の振動に関係する。 このような半径方向の振動はシャフトの回転軸線の周期的な変位を含み、また 回転する結果として、シャフトおよびその懸架装置に関係する振動源および他の 減衰作用によるが、回転軸線はそのまわり、すなわち整関数または非整関数のま わりにシャフト回転速度で基準軸線すなわち静止軸線を振れまわす(orbit)傾 向を示す。 高速機械ではそれ故にこのような振動回転が特定の振動数範囲(振動数の閾値 を超えた無制限範囲)で発生してその機械を不安定状態とするのであり、これは ハウジングに対してシャフトを支持する軸受が固有の減衰作用を果すにも拘らず に生じる。さらに、このような拘束機械にしばしば使用される形式の軸受、例え ば磁気軸受(magnetic bearing)および静圧軸受(hydrostatic bearing)は、 比較的低速度で生じ得る振動に対しての固有の減衰能力は小さく、その軸受の発 生する減衰力を有効にシャフトに与えることのできる位置から離れて配置されね ばならないばあいには、軸受構造であるにも拘らずにそれだけに頼ることは難し い。 高速度で回転する大重量シャフトのばあいは、このような振動で発生する長手 軸線に対して横方向に作用する力はかなり大きく、適当な振動減衰効果を得るた めには同程度の大きさの力が必要となる。 本発明の目的は、回転支持シャフト用の簡単な構造で十分な減衰力を発生でき る半径方向の振動の減衰装置を提供することである。 このような減衰装置はそれ自体が提供されるか、あるいは他機能の構造体に組 合せて提供されることができ、それ故にシャフトおよび(または)シャフトに沿 って導かれる冷却ガスに関係するガスシール構造体を使用した半径方向の振動の 減衰装置を提供することも本発明の目的である。 このような回転シャフトの軸線の振動往復運動は、回転軸線を通って延在する 垂直面のような一つの平面に限定されるか、またはいずれかの平面内に生じ、ま たは平面間で摂動するのに対して、シャフトの回転はその振動成分を回転軸線を 通るあらゆる平面内に生じるので、減衰装置は減衰すべき半径方向の振動特性に 合わせるために適当な程度で複雑に構成されることが認識されよう。 本発明によれば、ハウジングに通して延在され、ハウジングからは間隙を隔て られている回転シャフトのための半径方向の振動の減衰装置は、ハウジング内部 に画成されてシャフトに向かって開放され、境界壁の間でシャフトを取囲んでい る少なくとも一つの減衰チャンバを含む減衰チャンバ手段と、少なくとも一つの 高圧ガスの供給源と、前記減衰チャンバの各々に開口されたガスダクトと、回転 シャフトに対して半径方向に作用する正圧を減衰チャンバの内部に発生するよう に作動可能で、また減衰チャンバの各々に対してハウジングに向うおよび離れる 方向のシャフトの往復運動に応答可能なガス流量コントローラを備え、シャフト の往復運動と同じ振動数で、また予め定められた振動数範囲内の減衰チャンバに 対するシャフト位置の変動に関して位相を進めた状態で、ダクト手段を経て減衰 チャンバに供給するガス供給量を調節し、したがって減衰チャンバの内部圧力を 調節して、これによりシャフトに作用する半径方向の押圧力に相応の変動を発生 させて、前記シャフトの半径方向の往復運動を減衰させるようになされたガス流 量制御手段とを含んで構成される。 この減衰装置は、ガスシール構造体のシャフトの軸受構造に一体化されるか、 あるいは別個の装置を構成することができる。 本発明の具体例が例として添付図面を参照して以下に説明される。添付図面に おいて、 第1(a)図は、ハウジングに対して支持された回転シャフト、およびその回 転シャフトのための、主構成部材で示されている本発明による半径方向の振動の 減衰装置を組入れたラビリンス式ガスシールの一部を通る断面立面図であり、 第1(b)図は、第1(a)図のシャフトおよび減衰チャンバを通る断面立面 図であって、減衰チャンバ間の配列および相互連結を含めてガス流量制御手段を 非常に詳細に図示しており、減衰チャンバから圧力フィードバックを与える第1 形態のシャフト変位フィードバック手段、および一対の組をなして一対の減衰チ ャンバに組合わされる個別の能動ガス流量コントローラが、自己出力式流体比例 装置(self-powered fluidic proportional devices)を含む第1形態で詳細に 示されている。 第2図は、単一段の自己出力式流体論理フリップフロップ装置を含む一対の反 対に配置された減衰チャンバの一つに各々が組合されている第2形態である第1 (b)図の一対のガス流量コントローラの概略回路図であり、 第3(a)図は、第1(a)図の装置の多段構造を含む第3形態の一対のガス 流量コントローラの概略回路図であり、 第3(b)図は、第2図の装置の多段構造を含む第4形態の一対のガス流量コ ントローラの概略回路図であり、 第4(a)図および第4(b)図は、第2の形態のシャフト変位フィードバッ ク手段を示す第1(a)図および第1(b)図のシャフトおよび減衰チャンバ装 置を通るそれぞれ断面図および断面立面図であり、 第5図は、一対の反対に配置された減衰チャンバの各々に直接作用するガス流 量コントローラを組合わせたガス制御手段の代替形態の一部分の概略回路図であ り、 第6図は、本発明による半径方向のガス式減衰装置を組入れた磁気軸受および ガス軸受の結合体の部分的断片の斜視図である。 第1図(a)および第1図(b)を参照すれば、ターボ機械のような機械のシ ャフト10は、図示されていない駆動装置によって高速度で長手軸線11のまわ りに回転される。このシャフトは同様に図示されていない軸受手段によってハウ ジング12に対して支持されている。ハウジング内部のガス圧力は通常は大気圧 より高く、シャフトとハウジングとの間の制限されている間隙からガスを制御し て漏洩させるために全体を符号14で示されるラビリンスガスシールが備えられ ている。ガスのこの漏洩は全く望ましくないというものでもなく、しばしばその ガスが通過する軸受のような部材の冷却に使用される。 このようなラビリンスガスシールは、一つ以上のリップ15,16を典型的に 含んで構成され、これらのリップ15,16は一連の17で示すような環状チャ ンバで軸線方向に隔てられたシャフト表面箇所から最少限の間隙を隔てられてお り、該チャンバおよびそれらを結ぶ通路の形状寸法がガスに曲りくねったエネル ギー発散路を経た流動を行わせ、このことが流量に制限を与え、すなわちシール 効果を与える。 高速機械、特にターボ機械において周知のように、拘束回転は半径方向のシャ フト振動を伴う傾向があり、この振動はしばしば実質的に同一速度であり、回転 軸線を通る1以上の平面内において発生し、これによりシャフトの回転軸線がハ ウジングの長手軸線から変位する、すなわち長手軸線のまわりに振れまわるよう になる。これによりシャフトのまわりの特定位置において生じる軸方向のガス流 量の変動がチャンバに対して流入および流出する両方のガス流量を過剰となし、 また逆の流れ状態を発生させるようにするのであり、負の強化(stiffness)お よび(または)負の減衰をもたらす。 本発明によれば、全体を符号20で示される振動減衰装置は、ハウジングの内 部でシャフトの周囲に減衰チャンバ手段21を含んでいる。減衰チャンバ手段は シャフトの周囲に配置された2組の反対両側に配置されて対をなす減衰チャンバ 22および23、22’および23’を含み、各減衰チャンバはシャフトに向か って開放され、境界壁221,222および231,232のそれぞれの間で部分的 にシャフトを取囲んでいる。減衰チャンバは同一平面内に位置することが好まし く、またそれぞれが軸線に対して或る角度範囲を定めることが好ましい。 この装置は、各減衰チャンバに開口しているダクト25および26(および第 1(b)図の25’および26’)とされたガスダクト手段24と、ガス供給源 27と、全体を符号28で示されたガス流量制御手段とをさらに含む。 第1(b)図から、ガス流量制御手段は4つの減衰チャンバに個々に組合され た対応する個数のガス流量コントローラ29A〜29Dを含むことが見られる。ガ ス流量コントローラ29Aおよび29Bおよびその各々が組合される減衰チャンバ 22および23を代表して考えるならば、第1のコントローラ形態が非常に詳細 に示されている。ガス流量コントローラ29Aについてみれば、ガス供給源27 に連結された入力ポート31A、ガスダクト手段25に連結された出力ポー ト32A、および制御入力ポート33Aおよび制御入力ポート34Aが備えられて いる。コントローラは自己出力式流体装置35Aを含み、また制御入力ポート3 3Aおよび34Aはガス圧力に応答して入力ポート31Aおよび出力ポート32Aの 間のガス流量を制御するためのポートであり、1より大きい利得係数(gain fac tor)を示す流量および圧力でこれを制御する。 ガス流量コントローラ29Bはガス流量コントローラ29Aと同じ形態に構成さ れており、同じ部品は添字「B」を付して示されている。ガス流量コントローラ 29Cおよび29Dは同様に同じ形態に構成されているが、詳細には示されていな い。 ガス流量制御手段はまた全体を符号37で示されたシャフト変位フィードバッ ク手段を含んで構成され、このシャフト変位フィードバック手段は減衰チャンバ 22または23の各々に対して検出チャンバ手段内のガス圧力に関するフィード バック信号を与える手段を含み、検出チャンバ手段はシャフトの回転方向におけ る先行した方向、すなわちシャフトが回転する方向とは反対の方向にそれぞれの 減衰チャンバから円周方向に変位された少なくとも一つの圧力検出チャンバを含 んでいる。減衰チャンバ22および組合うコントローラ29Aについては、フィ ードバック手段は減衰チャンバ22’で形成される圧力検出チャンバと、減衰チ ャンバ22’および制御入力ポート33Aの間を延在するフィードバックダクト 38とを含む。さらにまたこの検出チャンバ手段は、減衰チャンバ22より円周 方向の後方側で、減衰チャンバ23より先行側に配置された減衰チャンバ23’ で形成されたさらに他の検出チャンバ、および減衰チャンバ23’と自己出力式 流体装置35Aの制御入力ポート34Aとの間を延在するフィードバックダクト3 9を含んで構成される。 ガス流量コントローラ29Bに関する限り、シャフトの変位手段は減衰チャン バ23の円周方向の先行側に変位された減衰チャンバ23’で形成された検出チ ャンバと、減衰チャンバ23’および制御入力ポート33Bの間を延在するフィ ードバックダクト29とを含み、さらに減衰チャンバ23より円周方向の後方側 に配置された減衰チャンバ22’、および減衰チャンバ22’で形成されるさら に他の検出チャンバと制御入力ポート34Bとの間を延在するフィードバックダ クト38を含む。 明確にするためには、いずれかの特定の作動状況において「減衰チャンバ」で あるときにガスが供給され、また「検出チャンバ」であるときにその圧力がフィ ードバックのために検出されてそのガス供給を制御するようになされるいずれか のチャンバを参照するのが好ましく、このことは、これらの検出チャンバが別の 時点では減衰チャンバとして作用し、またこの逆も可であるにも拘らずに、好ま しいのである。 コントローラ29Aを伴うときのその減衰装置の作動を考えるならば、軸線1 1のまわりを回転するシャフト10が振動を始めて、その回転時に軸線がハウジ ングチャンバに向うおよび離れる方向に往復運動を行うとするならば、検出チャ ンバ22’内の圧力はシャフトとチャンバとの間隔距離によって変化され、シャ フト振動との同期において制限された度合で上昇降下が生じる。検出チャンバ2 2’内の圧力振動はフィードバックダクト38によって制御入力ポート33Aに 伝達される。他の検出チャンバ23’は、コントローラ29Aに伝達された検出 チャンバ22’の場合とは180°位相が異なる圧力変化を示して、ダクト39 により34Aの位置で同様にシャフト位置の往復運動に応答する。 コントローラ29Aは、検出チャンバ22’の圧力上昇および検出チャンバ2 3’の圧力低下を指示する前記圧力の一方または両方によってガス伝達に関して の切換えが行われて、ダクト25を通して減衰チャンバ22へガスを供給するよ うになされるのであり、その作用はさらに圧力を上昇させ、また検出チャンバ2 3へ向けてシャフトを駆動する傾向を示す半径方向の力をシャフトに作用させる ようにする。 短時間の後、シャフトの往復運動は検出チャンバ23’内の圧力を上昇させる とともに検出チャンバ22’内の圧力を低下させる傾向を示すので、シャフト変 位フィードバック手段は圧力上昇をコントローラの制御入力ポート34Aへ戻し て減衰チャンバ22に対するガス供給を抑制し、漏れによってその内部圧力が低 下することを許す。 振動シャフトの乱れが始まって、振動周波数での検出チャンバの圧力振動が発 生し、またコントローラ29Aが作動されるならば、減衰チャンバ22に対する ガス供給はその振動と同じ周波数でオンオフを切換えられて、周期的に上昇され る減衰チャンバ22内の圧力を経て半径方向の押圧力をシャフトに作用させるよ うにすることが認識されよう。さらに、各々の減衰チャンバに対する高圧力のガ スの周期的な供給は、チャンバからの漏洩があるにも拘らずに内部圧力が大気圧 に対して高い状態に保持されるのを保証するような流量で行うことができる。 コントローラ29Aと関係する減衰チャンバ22にシャフトが接近するより前 に検出チャンバ22’内の圧力上昇を検出することに応答して、接近するシャフ トに対して予め定められた値だけ位相の進んだ状態で減衰チャンバ22内に圧力 上昇を与えるために、したがってシャフトの振動を減衰するために、そのコント ローラの応答性、ガス流量および供給圧力を定めることができる。 減衰程度は供給されるガスの圧力だけでなく、減衰チャンバに最も近いシャフ トに関しての位相の進み程度に依存することが認識されよう。コントローラにフ ィードバックを与える検出チャンバ22’の90°未満の角度範囲は、またチャ ンバ22および23の形状と同じであるので減衰チャンバの対応する円周方向の 範囲もまた、適当な遅れを導入することで最小位相進み角をほとんど0°まで減 少させることはできるが、チャンバ22の中央に整合されたシャフトの最大位相 進み角を約135°に制限する。 特定の振動周波数で最適減衰を与え、他の周波数でも有効であるためには、ガ ス供給量、ガス流量制御手段のトリガー閾値(一つまたは複数)およびガス供給 源27の圧力のいずれかまたは全てを選択することによってシャフト位置に対し て約90°の位相の進みを定めるのが好ましい。 このような振動がコントローラ29Aによりチャンバ22に供給するガス供給 量を変化させることで対抗されて減衰されるので、ガス流量コントローラ29B はその制御入力ポートに同じフィードバック信号が逆に供給されてコントローラ 29Aと異なる位相に切換えられ、シャフトが接近するより先行してチャンバ2 3にガスを供給し、これにより減衰チャンバ22および23を含む少なくとも1 以上の平面内での振動減衰作用に等価的または付加的に寄与するようになされる ことが分るであろう。 減衰チャンバにおける圧力の増大およびその後の低下がかなりの円周方向範囲 の減衰チャンバにおいて限られた時間にわたり生じるとき、減衰力はその角度位 置の範囲にわたってシャフトに与えられることが認識されよう。 上述したように、減衰チャンバ22’および23’は同様それぞれコントロー ラ29Cおよび29Dによりダクト手段25’および26’を経てガスを供給され 、コントローラはそれぞれチャンバ22および23のフィードバックダクト38 ’および39’を経て検出圧力変動に応答して切換えが行われ、またこれらはそ れ故にコントローラ29Aおよび29Bに関係した減衰チャンバとして作用するこ とに加えて検出チャンバとして作用する。 すなわち、四つの直交する方向の各々においてシャフトが変位されると、その 変位にはガス供給源27によって大気圧より高い選択されたかなりの程度に上昇 された減衰チャンバ圧力が対抗して、時間および角度範囲で重なり合うことので きる個々の減衰チャンバの組合わされた作用が、長手軸線に対して半径方向の全 ての方向に有効な減衰を与える。 能動的で自己出力式のガス流量コントローラ29Aおよび29Bは、制御入力ポ ートで検出された圧力変化に応答して、二つのコントローラの間の切換え、すな わちフリップフロップによる流れの切換え作用と調和した高いスルーレート(sl ew rates)でガスの流れを変化させることのできる比例流量装置で与えられるこ とができる。 装置35Bを伝達状態にトリガーするのと同一の圧力フィードバック信号で制 御装置35Aからの流れを停止させるか、またはこの逆を行うことが好ましいの であるが、流体の流れは制御入力ポート34Aおよび34Bを他方の装置の出力ポ ートすなわち制御装置の32Aおよび32Bに連結することで他方の装置の流量を 増大し始めた後でのみ停止できることが認識されよう。 したがって、第1(b)図に示した形態においては、同じチャンバ圧力信号に 両方が応答することで逆の対をなす減衰チャンバと組合された流量コントローラ 29Aおよび29Bは一致して作動して、一方の減衰チャンバから他方の減衰チャ ンバへと交互に流れを切換えるようにする。 第1(b)図に示された装置に全体的に類似する代替形態の減衰装置は、同じ 形態のシャフト変位フィードバック手段を含むガス流量制御手段を有するが、対 抗する減衰チャンバの対と関連されるガス流量コントローラの対は異なる形態を 有していて、コントローラ29Aおよび29Bの対に対応する一方が第2図に符号 40で示されている。チャンバ22および23がそれと関連されており、共通の 自己出力式ガス流切換え装置の形態をしたガス流量コントローラは、ガス供給源 27に連結された入力ポート42および減衰チャンバダクト25および26にそ れぞれ連結された二つの出力ポート43および44を有する流体論理フリップフ ロップ41を含んでいる。このフリップフロップはまた二つのトリガーポート4 5および46を有し、これらのポートはシャフト変位フィードバック手段37( 第1(b)図)からの圧力に関する信号を受取るために構成された制御入力ポー トを形成しており、これらのポートはそれぞれダクト38および39により検出 チャンバ22’および23’に連結されている。作動において、ダクト38およ び39により交互に検出された周期的なチャンバ圧力は、切換え装置を通してガ スを導き、これにより上述と同様にして減衰チャンバ22および23の間でガス は切換えられる、すなわち減衰チャンバ22および23へ交互に送られるように なされる。このような流体装置の作動では、状態の切換えは一方の制御入力ポー トが排気されることを必要とする。一方の制御入力ポートにおける高い圧力の発 現が、他方の制御入力ポートに排気するのに十分に低い圧力を伴わないのであれ ば、点線45’および46’で示される別の排気路が使用できる。 周期的に強制される減衰チャンバの圧力増大により生じた半径方向の押圧力は 、振動源ではなく振動減衰力を独自に構成するために振動発生力より小さく、こ のためにガス供給源27で供給されるガスの圧力および(または)流量はシャフ トの振動を増幅する別個の測定方法にしたがって別個に制御(図示せず)できる ことが認識されよう。しかしながら、回転質量の大きなターボ機械のシャフトの 高回転速度と調和し得る振動速度でこのようなシャフトの振動が発生するならば 、減衰させるためにシャフトに作用する十分大きな半径方向の阻止力(retardin g force)を発生させるために、シャフトの回転速度にしたがってチャンバ圧力 の変化に対する素早い応答性と十分大きな速度および(または)圧力のガス供給 とを組合わせることが必要とされることは認識されよう。 現在入手できるいずれかのこのような自己出力式流体装置の利得は実際には制 限があるので、各コントローラは単段流体装置の出力を増強する手段を備えるか 、および(または)多段または並列連結を含むか、またはマスター装置および従 動装置のような流体装置を含むことが必要となる。 上述の形態のガス流量コントローラのいずれかにより得られる調節されたガス 流量では不十分であるならば、このような各々のガス流量コントローラは、第1 (b)図に47Aおよび47Bで仮想線で示されるか、第2図に48および49で 示されるように、関連する減衰チャンバと並べて流量インダクタを有することが できる。 第1(b)図を参照すれば、チャンバ22およびコントローラ35Aと関連さ れたダクト手段25に並んで、それ自体は周知の流量インダクタ47Aは、制御 出力ポート32Aを経てチャンバダクト手段25に連結されているインダクタ出 力ポート47A1、ガス供給源27’に連結されたインダクタ主入力ポート47A2 、好ましいが必然的ではないガス供給源27、および装置35Aから調節された ガス流量を受入れるためにインダクタ制御入力ポート47A3を有している。この 流量インダクタは、周知のようにインダクタ入力ポートにおけるガス流量を組合 せ、インダクタ制御入力ポートでの調節にしたがって調節された増強されたガス 流量をインダクタ出力ポートに与える。 第2図から、対応する流量インダクタ48および49が流れ切換えフリップフ ロップ41のそれぞれの出力ポート43および44と組合されることが分る。 減衰チャンバ手段に対する調節されたガス供給を増強するためにこのような流 量インダクタなどを使用する代りに、またはそれに追加して、各々の能動的なガ ス流量コントローラ29A,29B,40などのは多段構造を含むことができ、す なわち直列または段階的に連結された複数の流量制御装置を含み、これにはマス ター装置および1または恐らく2以上の従動装置が含まれて、減衰チャンバに対 するガス供給量を増強するようになされる。 第3(a)図を参照すれば、この図は減衰チャンバ22および23に関連し、 対をなすコントローラ29Aおよび29Bに対応した対をなすコントローラの第3 実施例50をほぼ概略的に示している。再び述べるが、関連する第1(b)図に 示され説明された部品に対応する部品の多くは、同じ符号を付されている。ガ ス流量コントローラは29’Aおよび29’Bとして識別される。ガス流量コント ローラ29’Aは前述した流体装置35Aを含み、この流体装置は1つのマスター 装置および少なくとも一つの同じ形態の従動装置51Aを備え、各々の装置は入 力ポート、出力ポートおよび制御ポートを有している。マスター装置は上述した ようにその入力ポートおよび制御ポートがコントローラのポート31A,32Aお よび33Aに連結される。従動装置51Aはその入力ポートがコントローラの入力 ポート31Aに(または可能なように27''で仮想線で示された別の供給源に直 接に)連結され、出力ポートはコントローラの出力ポート32Aに連結される。 マスター装置の出力ポート35’Aは、上述の装置51Aの制御入力ポートに連結 される。コントローラ29’Aはいずれも添字「B」で識別されるマスター装置 および従動装置の両方を有する。マスター装置35Bの出力ポート35’Bは従動 装置51Bの制御入力ポート52Bに連結され、また従動装置51Aの制御入力ポ ート53Aに連結される。同様に、マスター装置35Aの出力ポート35’Aは従 動装置51Bの制御入力ポート53Bに連結される。作動は、各々の能動的なコン トローラの全体的な利得が増大されたことを除いて、実質的にコントローラ29A および29Bに関して説明したのと同じであることが認識されよう。 別のコントローラが第2図に示した流体フリップフロップ41のような単一の 流れ切換え装置に含められることができ、多段コントローラがマスター装置およ び従動装置を含み、従動装置は同様に第3(b)図に示された第4の形態60に おいて示されるように組合されることができることもまた認識される。コントロ ーラはマスターフリップフロップ41および従動フリップフロップ61を含み、 従動フリップフロップは供給源27(またはこの代りに27'')に連結された入 力ポート62、二つの出力ポート63および64を含み、これらの出力ポート6 3および64は従動装置の制御入力ポート65,66に連結された制御フリップ フロップ41の出力ポートに交互に流体を供給することで切換えられて、コント ローラの出力ポート43および44に連結されて流体を減衰チャンバ22および 23に交互に供給する。 上述した実施例は全てがシャフト変位フィードバック手段37を使用しており 、 この手段はシャフトの接近または離反によって変化される検出チャンバ内の圧力 を検出し、能動的なガス流量コントローラを制御するようになす。第4(a)図 および第4(b)図は、第1(a)図および第1(b)図と同様な断面立面図の 一部分を示しているが、第2図に関して説明したコントローラ41で類型化した 一対のガスコントローラと関連された37’で全体的に示されるシャフト変位フ ィードバック手段の第2実施例をガス流量制御手段28が含んでいる。このシャ フト変位フィードバック手段37’は、流れ切換え装置41と関連された各々の 減衰チャンバ22および23と、制御入力ポート45,46および供給源27( 代替例では供給源27''' )の間を好ましくは流量調整オリフィス72A,72B を経てそれぞれ延在する制御ダクト71A,71Bとを含んでいる。漏れノズル7 3Aが減衰チャンバ22に隣接してハウジング12内に配置されて、シャフトに 向かって開口されている。この例では、ノズルはガスシールのリップ16に配置 されてシャフトから最小限に離隔されており、これによりノズルはノズルからの シャフトの離隔によって流量が決るようになされる。ノズルはチャンバ22の中 央に対してシャフトの回転方向と反対方向へ円周方向に変位されており、これに よりシャフトはノズルに対して関連するチャンバよりも進んだ位相で接近するよ うになされる。 漏れダクト74Aはノズル73Aと制御ダクト72Aとの間を延在しており、し たがって制御ダクト内の、また制御フリップフロップの制御入力ポートに供給さ れるガスの圧力は、ノズルを通る漏れ量が上述のように様々であることから、ノ ズルに対するシャフト変位量の関数となる。対応する漏れノズル73Bおよび漏 れダクト74Bは、制御ダクト72Bおよび制御入力ポート46をノズル73Aと 逆位相で制御し、それ以外は上述したように作動する。 上述した全ての実施例は、簡略化および便宜的に示されており、直角に配置さ れた対向して対をなす減衰チャンバを説明したが、このような装置は簡単に制御 できる自己出力式装置、および最小限の軸方向範囲既存のガスシールハウジング 内に使用するのに好適な適当な形態のシャフト位置フィードバック手段の使用を 容易とする。 本発明により、またシャフトを実質的に取巻くように構成された減衰チャンバ を組入れたガス式減衰装置は、供給源27から供給されたガスの連続的に漏洩さ れることによってガスシールとして作用でき、また他のいずれの形態のガスシー ルとも独立して作用することが認識されよう。 ガス式減衰装置が軸方向に限られず、複数の減衰チャンバおよび(または)圧 力検出チャンバの全てが第1(a)図および第1(b)図の一つの横断面内に定 められることのないばあいには、円周方向に隣接する減衰チャンバは軸方向にオ フセット配置されることができ、円周方向に重なり合うこともでき、また圧力検 出チャンバは減衰チャンバとは独立して形成でき、これにより圧力検出チャンバ は減衰チャンバよりも円周方向に短い範囲とされることが可能になり、関連する 減衰チャンバに対して円周方向の最適位置に配置でき、これは第4(b)図に示 される漏れノズルの配置のように軸方向にオフセットされるかどうかに拘らない 。 明らかなように、漏れノズルまたは減衰チャンバとは独立している圧力検出チ ャンバから圧力制御信号を与えるシャフト位置フィードバック手段を備えること が可能なばあい、基数または偶数の減衰チャンバ数のいずれを使用することもで き、適当な構成のコントローラによってその圧力をシャフトの接近よりも先行し て高めることができる。 上述し且つ第1(b)図に示した装置においても、減衰チャンバは1つの横断 面に対して有効に制限され、圧力検出チャンバとしても作用できるのであり、こ の代替構成も可能とされ、進み角および(または)必要とされる圧力検出/減衰 チャンバの個数を超えて広い制御ができる。 例えば、フィードバックダクト38は検出チャンバとして減衰チャンバ23に 連結でき、またダクト39は検出チャンバとして減衰チャンバ22に連結でき、 関連するチャンバにガスを供給することにコントローラが応答するより前に適当 な遅れがもたらされる。このような装置は一対のチャンバで機能する。 これに代えて、各チャンバが圧力変化が検出できる十分な円周方向の長さを有 し、またコントローラはシャフトがチャンバ中央に整合されるよりも前にその内 部に減衰圧力を発生できる十分な量のガスを供給するならば、各々のフィードバ ックダクト38および39はガスを供給すべき同じ減衰チャンバに連結すること ができる。すなわちチャンバ22および23に連結できる。 明らかなように、ガスが供給されて各チャンバが制御される同一の減衰チャン バから圧力フィードバックが得られるならば、そのコントローラは他のコントロ ーラとは別に作用するのであり、ガス流量コントローラがガスの流れ状態を切換 えることができるならば減衰は1つの減衰チャンバのように少なくても或る程度 行える。 上述した円周方向に配列される減衰チャンバの構成のいずれもが軸線方向に隔 てられた複数の箇所で繰返して備えられることができ、これにより減衰チャンバ を配置するのに都合のよい箇所、すなわち特に振動による乱れが生じやすい箇所 において累積的な減衰効果を得られることが認識されよう。 この分野で周知のように、コントローラ35Aおよび35B、従動コントローラ 51Aおよび51B、およびフリップフロップ41および61、同様に適当とされ るならば流量インダクタ47A,47Bまたは48および49、に好適な流体装置 は、可動部材のない状態で構成され、それ故に上述の実施例から、そのような可 動部材がなく外的な制御装置もない流体流動部材を使用してガスを交互に流すこ とで、軸方向のシャフト振動を制御する能動的な減衰装置を提供でき、またこの ためにガス流量制御装置はそのハウジング内に減衰チャンバおよびダクトを構成 されるということが認識されよう。さらに、流れ増強インダクタまたは従動装置 が配置されて、供給源27が与えるよりは低圧力であるが、恐らく大気圧よりも 高いのであれば閉じたハウジング内の大気からのガスを使用して流量の格段に大 きいガス(供給源は27’または27'')を供給できるようになされる。 各種のガス流量コントローラに関して説明した作動形態に変更を加えることが できる。上述したように、29Aおよび29Bのような対をなす独立したコントロ ーラは、共に双安定(bistable)の状態で、フリップフロップ41に対応する流 れ切換えモードで作動され、各々の制御された出力ポートからのガス流れは信号 により抑制されて交互にコントローラから流される。このような両方の装置は、 供給源27(または代替手段)から送られた制御された圧力の1つの制御入力を 得ることで単安定モードで交互に作動され、シャフトのカラー変位フィードバッ ク手段からの圧力フィードバック信号でオーバーライド(override)制御されな にあることが認識されよう。この代りに、このような装置は不安定モードで作動 され、正常なシャフト軸線の振動速度に対して予め定められた振動数で自動的に 切換えが行われ、位相に関しては同期され、適当なシャフト変位フィードバック 手段により適当に進められることができる。 流体論理フリップフロップ41は、例えばその制御入力ポートを互いに連結さ れて振動装置を形成するようにされ、その振動数は相互連結ラインの長さおよび (または)体積で定められるのであり、このような影響係数はシャフト振動運動 を定める何らかの変換器によって制御される(恐らく磁気拘束部材)ようになさ れる。 シャフト変位フィードバック手段は、シャフトが検出チャンバまたはノズルに 向うおよび離れる方向に移動するときの圧力変化を検出する代りに、シャフトの ハウジングに対する、したがっていずれかの減衰チャンバに関する位置を他の検 出手段により決定することができ、恐らく能動的に制御される軸受装置に関係付 けて、能動的なコントローラ装置の直接または間接の制御に適した形態の信号を 与える。 ハウジング内に組入れられることができるならば自己出力式装置の使用が好ま しいのであるが、ガス流量の制御は自己出力式流体装置以外の能動的なガス流量 コントローラ、例えば外部電源を必要とする通常のバルブによって達成できるの であり、このような状況のもとでは、フィードバック制御信号は前述したように 反対の減衰チャンバに対して監視され、および(または)上述した双安定、単安 定または同期された不安定な作動に適合されたチャンバ圧力およびガス漏れによ る以外の方法で与えられる。 ハウジングに容易に一体化できるガス流量コントローラを使用するばあい、本 発明は上述した形式の利得係数を有して、制御入力ポートに制御信号を与えるシ ャフト位置フィードバック手段により調節される能動的コントローラを使用した ガス流量制御手段に制限されることはない。このガス流量制御手段は、第5図に 示されるガス制御手段の直接作用形態を含み得る。 第5図を参照すれば、さらに他の装置80の概略図が示されている。実質的に 第1(a)図および第1(b)図に示されるようにシャフト、ハウジング、減衰 チャンバ、供給源、および供給ダクトなどは同じ符号が用いられている。全体を 符号81で示されるガス流量制御手段は、各減衰チャンバに対して直接作用する ガス流量コントローラを含む。チャンバ22については、コントローラ82は減 衰チャンバ22のダクト手段25とガス供給源27との間を、流量制御遮断オリ フィス84を経て延在する制御ダクト83を含み、ガスを直接且つ連続して減衰 チャンバへ供給する。漏れノズル85は減衰チャンバ22に隣接してハウジング 12に配置され、シャフトに面して前記間隙に開口しており、シャフトから最小 限の隔りを有するようにガスシールのリップ16に好ましく配置されている。漏 れダクト86はノズル85および制御ダクト83の間を延在し、これにより制御 ダクトの圧力、したがって減衰チャンバに対するガスの供給がノズルからの漏洩 によりノズルに対するシャフトの変位の関数として変化される。したがって、シ ャフトがノズルに接近するとき、また減衰チャンバの中央に接近する前に、減衰 チャンバからのガス漏れは抵抗を受けて減衰チャンバ内の圧力が高まり、本明細 書で説明した減衰作用を与える。 このような装置は、シャフトのまわりに配置される減衰チャンバの個数で制限 されることはなく、一つの断面に、または軸方向に変位して配置されたいずれの 個数のこのようなチャンバによっても或る程度の減衰が得られる。 前述したように、減衰装置は、装置を軸方向に通るガスの連続流れだけでなく (都合はよいが不可欠ではなく、27で与えられる)、減衰チャンバがそれらの 位置によりガスシール内でも作用を果し、ガスが導かれるときに圧力が交互に変 化されるようなガスシール構造と組合わされるのに適当な形態とすることができ 、シャフトを取巻くチャンバ自体の構造により、またシャフトから小さな間隙し か形成しないチャンバ壁によって与えられる制約によってガス漏れが一定してい ることで、ガスシールとしても作用できる。 半径方向の減衰装置は、シャフトとハウジングとの間に取付けられる軸受のよ うに、シャフトとハウジングとの間の間隙に沿う減衰チャンバから生じるガス漏 れが他の部材の冷却機能を果すとはいえ、いずれのガスシール機能とも別個に備 えられることができる。回転シャフト面とハウジングとの間の境界をなす限り、 減衰装置は円周方向に境界された減衰チャンバを含むので、このようなチャンバ は磁気軸受または静圧ガス式軸受のような部材と組合わされることができる。後 者のばあい、減衰であるいは他の原因で正圧が発生され、シャフトを支持するチ ャンバは減衰されるシャフトの検出された乱れに応答した正しい位相関係でガス 流量制御手段により調節される。 第6図を参照すれば、磁気軸受とガス式軸受との組合わされた軸受100の部 分的に切断した一部分を示しており、この磁気軸受101はシャフトを取囲むス テータ102と、シャフト10(図示せず)に形成されるか装嵌されるようにな されたローター103とを含む。これに全体を符号104で示されたガス式軸受 が一体化されており、ローター103に向かって開口した環状チャンバ105と 、入口ポート106とが組付けられている。図示したように、ガスシール107 ,108はここで説明したようなガス減衰装置を組付けており、ステータ102 /ガスチャンバ105のそれぞれの軸方向端部に配置されている。減衰構造は複 数の減衰チャンバ109,110などを含み、減衰チャンバは長手軸線のまわり に配置され、ダクト手段24でガス流量制御手段28に連結されており、後述す る通であるか、またはその変形例である。 ガス式軸受は連続した手環状チャンバ105を含み、このチャンバ105はシ ャフトのまわりを延在して、バックアップ性能に含まれて磁気軸受の故障時に作 動する一様に半径方向に配向されたシャフト支持部を形成しており、減衰は装置 107,108だけで与えられる。この代りに、チャンバ105は制限された円 周方向の範囲で個々のチャンバに分割され、それらの全ては個々の高圧ガス供給 源に連結されて、前述したように半径方向の減衰装置を構成する少なくとも幾つ かのチャンバおよび支持ダクトで支持を形成するようになされる。 本発明による減衰装置は減衰目的にのみ使用することができ、例えばガスシー ルまたは軸受のような他の装置との組合わせから分離されて使用でき、その機能 を果すために、減衰チャンバおよび他のチャンバを含み且つシャフトが延在され るハウジングを備え、特に一緒にハウジングを使用するようになされる構造であ ることが理解されよう。 他の変形例は発明の範囲から逸脱せずに上述した実施例からなし得ることが認 識されよう。 位相の進められる角度は、ガス供給圧力および供給量、および減衰チャンバと シャフト位置フィードバック手段との相対位置で決るが、減衰チャンバの少なく とも一つの壁を位置調節可能にするか、または回転ねじまたはスタブによりチャ ンバ体積を可変にすることで、減衰チャンバの体積を可変にすることによって、 調節することができるようになる。
───────────────────────────────────────────────────── 【要約の続き】 あるいはガスシールとして機能され、または軸受装置の 一部をなす。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. ハウジング(12)に通して延在され、ハウジングからは間隙を隔てら れている回転シャフト(10)のための半径方向の振動を減衰する装置であって 、ハウジング内部に画成されてシャフトに向かって開放され、境界壁(211, 222,231,232)の間でシャフトを取囲んでいる少なくとも一つの減衰チ ャンバ(22,23;109,110)を含む減衰チャンバ手段(21)と、少 なくとも一つの高圧ガスの供給源(27)と、前記減衰チャンバの各々に開口さ れたガスダクト(24)と、回転シャフトに対して半径方向に作用する正圧を減 衰チャンバの内部に発生するように作動可能で、また減衰チャンバの各々に対し てハウジングに向うおよび離れる方向のシャフトの往復運動に応答可能なガス流 量コントローラ(29A〜29D;29’A,29’B;41;82)を備え、シャ フトの往復運動と同じ振動数で、また予め定められた振動数範囲内の減衰チャン バに対するシャフト位置の変動に関して位相を進めた状態で、ダクト手段を経て 減衰チャンバに供給するガス供給量を調節し、したがって減衰チャンバの内部圧 力を調節して、これによりシャフトに作用する半径方向の押圧力に相応の変動を 発生させて、前記シャフトの半径方向の往復運動を減衰させるようになされたガ ス流量制御手段(28;40;50;60;80)とを含んで構成された半径方 向の振動を減衰させる装置。 2. 請求項1に記載された装置であって、ガス流量制御手段(28;90) がシャフト変位フィードバック手段(37;37’)と、各減衰チャンバ(22 ,23)に対して、前記少なくとも一つの供給源(27)に連結された入力ポー ト(31A,31B;42)を有する能動的な流量コントローラ(29A;41) と、チャンバのガスダクト手段に連結された出力ポート(32A,32B;43) と、シャフト変位フィードバック手段からの信号を受入れて前記供給源とダクト との間のガス流量を制御するために連結された少なくとも一つの制御入力ポート (33A,33B;45,46)とを含むことを特徴とする半径方向の振動を減衰 させる装置。 3. 請求項2に記載された装置であって能動的なガス流量コントローラ (29A;41)が少なくとも一つ制御入力ポートを有し、各制御入力ポート( 32A,33B;45,46)を有する自己出力式装置を含み、シャフト変位フィ ードバック手段(37;37’)が前記関連するチャンバに対するシャフト変位 の関数として制御入力ポートにガス圧力を供給するように配置されたことを特徴 とする半径方向の振動を減衰させる装置。 4. 請求項3に記載された装置であって、シャフト変位フィードバック手段 (37;37’)が各チャンバ(22)および関連するコントローラ(29A; 41)に対して前記コントローラの入力ポートと前記チャンバからシャフトの回 転方向にて円周方向に変位された圧力検出チャンバ(22’,23’)とを含む ことを特徴とする半径方向の振動を減衰させる装置。 5. 請求項4に記載された装置であって、少なくとも一つの圧力検出チャン バ(22’,23’)が減衰チャンバを含むことを特徴とする半径方向の振動を 減衰させる装置。 6. 請求項3に記載された装置であって、シャフト変位フィードバック手段 (37’)が制御入力ポート(45)と前記少なくとも一つのガス供給源(27 ''' )との間に延在する制御ダクト(71A)と、前記ハウジング内に配置され 、前記シャフトに面して前記間隙内に開口している漏れノズル(73A)とを含 み、該ノズルはそのノズルからのシャフトの離反によって決る漏れ量を有し、ま た前記オリフィスおよび制御ダクトの間を延在し、ノズルに対するシャフトの変 位の関数として前記コントローラの制御入力ポートに対する供給源の圧力を変化 させるように作動可能な漏れダクト(74A)をさらに含むことを特徴とする半 径方向の振動を減衰させる装置。 7. 請求項6に記載された装置であって、漏れノズル(73A)がシャフト の回転方向に進んだ状態で前記チャンバ(22)から円周方向に変位した位置で 前記間隙内に開口するように配置されている半径方向の振動を減衰させる装置。 8. 請求項2から請求項7までのいずれか一項に記載された装置であって、 減衰チャンバ手段が少なくとも一対の直径方向に相対した減衰チャンバ(22; 22’;23;23’)を含み、各ガス流量コントローラが一対の前記チャンバ の各々に対する交互のガス流量を制御できる共通のガス流れ切換え装置(41) を含むことを特徴とする半径方向の振動を減衰させる装置。 9. 請求項8に記載された装置であって、ガス流れ切換え装置(41)が前 記ガスダクト手段を経て何時の前記減衰チャンバに各々連結された一対の出力ポ ート(43,44)を有する少なくとも一つの流体論理フリップフロップを含む ことを特徴とする半径方向の振動を減衰させる装置。 10. 請求項2から請求項9までのいずれか一項に記載された装置であって 、各々の濃度的な流量コントローラ(50;60)が並列に連結された複数の流 量制御装置を含み、マスター装置(35A,35B;41)および少なくとも一つ の従動装置(51A,51B;61)が備えられ、各装置は入力ポート、出力ポー トおよび制御ポートを有し、前記マスター装置は入力ポート(31A,31B)が 前記供給源に連結され、流量コントローラの入力ポートを含み、各制御ポート( 33A,33B;45,46)は前記シャフト変位フィードバック手段に連結され 、出力ポート(35’A,35’B)は第1従動装置の制御ポート(52A,52B )に連結され、各従動装置の出力ポートは次の従動装置の入力ポートに連結され 、最後の従動装置の出力ポート(32A,32B;63,64)は流量コントロー ラの出力を与えることを特徴とする半径方向の振動を減衰させる装置。 11. 請求項1に記載された装置であって、ガス流量制御手段(80)が各 減衰チャンバに対して直接に作用する流量コントローラ(82)を含み、該流量 コントローラは減衰チャンバと前記ガス供給源(27)との間を延在する制御ダ クト(83)と、前記ハウジング内に配置され、シャフトに向って前記間隙内に 開口しているもれノズル(85)とを含んでおり、ノズルはそのノズルからのシ ャフトの離反によって決る漏れ量を有し、漏れダクト(86)は前記ノズルとコ ントローラダクトとの間を延在して前記コントローラダクトのガス圧力を変化さ せるようになされており、したがって減衰チャンバに対するガスの供給がノズル に対するシャフトの変位の関数とされていることを特徴とする半径方向の振動を 減衰させる装置。 12. 請求項1から請求項11までのいずれか一項に記載された装置であっ て、各ガス流量コントローラは関連する減衰チャンバと並んで流量インダクタ( 47A,47B;48,49)を有し、流量インダクタは前記ダクト手段に連 結されたインダクタ出力ポート(47A1)と、前記ガス供給源に連結されたイン ダクタ主入力ポート(47A2)と、前記調節されたガスを受入れるために連結さ れたインダクタ制御入力ポート(47A3)とを含み、前記流量インダクタは前記 インダクタ入力ポートでガス流量を組合わせてインダクタ出力ポートに対してイ ンダクタ制御入力ポートでの調節によって調節され増強されたガス流量を与える ことを特徴とする半径方向の振動を減衰させる装置。 13. 回転するように支持された回転シャフト(10)と、回転シャフトが 挿通され、間隙を隔ててシャフトを取囲むようになすハウジング(12)と、ハ ウジングおよびシャフトの間に形成され、シャフトを取巻き、シャフトに向かっ て開放された少なくとも一つの環状シールチャンバ(17)と、シャフトに沿っ てガスを流すように配置されたシールガスの供給源とを含み、請求項1から請求 項12までのいずれか一項に請求されたときに減衰チャンバ手段(21)が前記 環状シールチャンバから軸線方向に間隔を隔てられた少なくとも一つの減衰チャ ンバ(22,23)を有する半径方向の振動を減衰させる装置を特徴とする組合 わせ。 14. 回転するように支持され、間隙を隔ててハウジング(12)から延在 する回転シャフト(10)のためのガスシール(14)であって、前記ガスシー ルはハウジングに形成されて実質的にシャフトを取巻くチャンバ手段を特徴とし ており、前記チャンバ手段は複数の円周方向に制限されてシャフトのまわりを延 在し、シャフトに向かって開放されたシールチャンバと、少なくとも一つのシー ルガス供給源と、前記間隙を経て漏れが生じるにも拘らずに前記ガスをチャンバ に供給して内部を正圧に保持してシールを形成するためのダクト手段と、請求項 1から請求項12までのいずれか一項に請求された半径方向の振動を減衰させる 装置とを含み、少なくとも一つ減衰チャンバが前記シールチャンバで形成され、 ガス流量制御手段がチャンバにシールガスを供給する前記供給源を含むガスシー ル。 15. ハウジングを通り、ハウジングから間隙を隔てて延在する回転シャフ トのための軸受であり、請求項1から請求項12までのいずれか一項に請求され た半径方向の振動を減衰させる装置(20;80)を特徴とする軸受。
JP8511486A 1994-09-29 1995-09-15 半径方向の振動を減衰する装置 Pending JPH10506453A (ja)

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