JPH10502872A - 多床下降流触媒反応器のための分配器組立体 - Google Patents

多床下降流触媒反応器のための分配器組立体

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JPH10502872A JP8533161A JP53316196A JPH10502872A JP H10502872 A JPH10502872 A JP H10502872A JP 8533161 A JP8533161 A JP 8533161A JP 53316196 A JP53316196 A JP 53316196A JP H10502872 A JPH10502872 A JP H10502872A
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Abstract

(57)【要約】 多床下降流反応器(10)は、幾つかの分配器組立体(20)を有し、各分配器組立体は中心部に位置する混合室(30)及びその混合室(30)を取り巻く環状収集混合水槽(24)を有する。混合室(30)は、その一方の側に入口(36)を有し、その底壁(25)に出口(37)、前記出口(37)の上の頂部壁(35)内の急冷用ガス入口(38)を有する。分離壁(40)は、入口(36)に隣接して環状水槽(24)を横切っており、水槽(24)内に収集された液体のプールが、混合室(30)を通って入口(36)へ環状に流れるようにしてある。これによって、水槽(24)を通って回る液体が、触媒床から降り注ぐ液体とよく混合されるのを確実にする。室内に発生した渦巻き状の乱流は、液体及びガスを更に混合し、その液体・ガス流中に急冷用ガスを取り込ませる。

Description

【発明の詳細な説明】 多床下降流触媒反応器のための分配器組立体 〔技術分野〕 本発明は、多床下降流触媒反応器、即ち、垂直に重ねられた粒状触媒物質充填 床を有し、液体又は液体・ガス混合物がそれら充填床を通って下方へ流れながら 処理されていく反応器のための分配器組立体(distributor assembly)に関する。 この型の反応器は、水素化処理、水素化仕上げ処理(hydrofinishing)、水素化分 解、及び脱蝋のような種々の触媒反応を遂行するための石油化学処理工業で用い られている。 〔背景技術〕 多床下降流触媒反応器は、石油化学工業で種々の処理行うために用いられてい る。石油精製工業では、多床下降流反応器は、水素化処理、水素化脱硫、水素化 仕上げ処理、水素化分解、及び脱蝋のための処理で用いられている。これらの処 理では、工程液体をガス又は蒸気と混合し、この多相混合物を充填触媒床に通す 。そのような方法は反応物の或るものを消費するので、気相反応物、例えば水素 を、反応器を通る液体及びガスの通路に沿った幾つかの点で注入して追加する。 また、発熱反応により多量の熱が発生するので、急冷用媒体(guench media)を添 加して反応器中の温度を調節する。液体とガスの混合物が触媒床を通って流れる 時、各床を通って発生する温度及び反応物濃度の分布状態が悪くなることが屡々 ある。これを軽減しないと反応器の作動が非効率的になり、ホットスポットが発 生し、それらが反応器の閉鎖、従ってプラントの閉鎖を潜在的に早めさせること にある。従って、或る床から出て来た液体及びガスを、次の床へ分布させる前に 収集混合するための反応器内部領域を与え、そのような分布の悪化が或る触媒床 から次の触媒床へ伝播しないようにすることが必要である。これを達成するため に、触媒床の間に分配器組立体を用い、各床を通る液体・ガス混合物(及び場合 によっては、気相反応物又は急冷用ガス)の分布を、組成及び温度の両方につい て出来るだけ均一になるようにする。そのような均一な分布を与えることによっ て、各床は効率的に用いることができ、一層予測可能なやり方で希望の触媒反応 を行うことができる。 多床下降流反応器のための分配器組立体は、数多くの型のものが従来技術で知 られている。一つの例が米国特許第4,836,989号明細書に示されており 、そこでは分配器組立体は、触媒床の下に配備された収集皿を有し、分配器トレ イ(tray)がその収集皿の下に取付けられている。分配器トレイには余水路によっ て供給され、それら余水路が収集皿に収集された液体の外、収集皿と触媒床との 間に注入された急冷用ガスのための幾つかの通路を与える。余水路は収集皿の下 に出口を有し、それらは横向きになっており、収集皿の下に位置する環状混合室 中に接線方向に入る向きになっている。それら出口は、環状混合室中の液体に渦 巻き状の運動を与えるものとして記述されており、その運動が良好な混合及び温 度の平衡を促進する。混合室の下には、液体を収集し、下の触媒床の上に分布さ せる混合装置が更に与えられている。 米国特許第4,960,571号明細書に示されている別の型の分配器組立体 は、中心開口を有する収集板を有する。急冷混合領域が収集板の下に与えられて おり、この場合、第二の板で、その外側環状部分に形成された開口を有する第二 板が収集板の下に取付けられており、その環状部分は収集板の中心開口から径方 向に外側に位置している。環状部分にはバッフルが固定されており、接線方向の 角度で同心円リングに配置されており、環状部分を通って流れる液体及びガスに 渦巻き流を発生させる。多床下降流反応器のための分配器組立体の他の型の例が 、米国特許第3,705,016号、第3,977,834号、及び第4,18 2,741号明細書に記載されている。 〔発明の開示〕 本発明によれば、多床下降流反応器で用いるための分配器組立体は、上の触媒 床から流れてくる液体及びガスを収集及び混合するための全体的に環状の水槽(t rough)、及び前記水槽からの液体を受け、前記液体及びガスを更に混合するため の前記環状水槽内にその中心部に配置した室を有する。混合室は、水槽からの液 体を受けるための少なくとも一つの入口と、下の触媒床の方へ流れを向けるため の少なくとも一つの出口とを有する。分離壁は、水槽を入口に隣接した位置から 横切り、収集液体を入口からそらせ、その液体を混合室の周辺の実質的な部分を 通って回した後、液体入口へ到達させる。一つの入口と、その入口に隣接した一 つの分離壁を用いてもよく、それによって分離壁に隣接して収集された液体のプ ールが、混合室の周辺の実質的に全てを通って回った後、その入口に到達するよ うにする。触媒床から流れてくる液体はこのようにして収集混合され、液体のプ ールが分離壁から混合室入口まで水槽を通って流れる。 本発明の別の態様として、混合室はその底壁の中心部に形成された一つの出口 を有し、混合室の入口が、室内に渦巻き又は回転状の流れを与えるように、出口 に対して或る向きに混合室内へ伸びている通路を有し、その流動模様が環状収集 混合水槽内に発生した円状の流動に追加されるようにしてもよい。入口通路は、 混合室へ入った流れに乱流を与えるような形をしているのが好ましく、部分的に 円筒状のバッフルが混合室内に取付けられていて、出口の回りに環状の通路を形 成し、それが入口通路より下流の室内に液体及びガスの渦巻き又は回転する流れ を更に惹き起こすようにしてあるのが好ましい。混合室内の入口通路及び環状通 路の配向及び形が一緒になって、液体及びガスの強力で比較的大きなエネルギー の混合を惹き起こす働きをする。 急冷用ガス又は液体を、複数の点から混合水槽内の液体のプール中へ注入して もよい。本発明の別の特徴は、好ましくはガス入口が、出口の上の混合室の頂部 壁中に形成されていることである。急冷用ガスは処理される液体中に、最初は混 合水槽内に収集された液体プール中へ注入する点で、第二に混合室内に発生した 渦巻き状乱流によって導入される。 本発明のこれら及び他の特徴は、次の「好ましい態様についての詳細な記述」 を図面と関連させて読むことにより一層容易に理解されるであろう。 〔図面の簡単な説明〕 第1図は、本発明による分配器組立体の好ましい態様の模式的垂直断面図であ る。 第2図は、本発明による分配器組立体の好ましい態様の上面図である。 第3図は、本発明による分配器組立体の好ましい態様の模式的斜視図である。 〔好ましい態様についての詳細な記述〕 第1図〜第3図に示したように、多床下降流反応器10は、円筒状側壁11を 有する。第1図に示した断面図は、充填された粒状触媒物質が入った垂直に重ね られた複数の触媒床(図示されていない)の間の領域で取られた図である。各触 媒床は、支持体格子、隔離布、及び金網(それらは全て当分野でよく知られてい る)からなる格子金網組立体12上に支持されている。格子金網組立体は、クロ スビーム(cross beam)14及び15上に取付けられており、それらクロスビーム は反応器壁11に対し水平に取付けられている。本発明の分配器組立体20は、 格子金網組立体12の下の側壁11に取付けられており、上の触媒床の底面全体 から流下する液体及びガスを受け、それら液体及びガスを混合する。分配器組立 体20は、得られた混合物を有孔板50へ分配し、その板が今度はそれら液体及 びガス、更には急冷用ガスをバブル・キャップ・アセンブリー(bubble cap asse mbly)60まで反応器の横断面全体に亙って分布させ、そのバブル・キャップ・ アセンブリーは有孔板50の下に取付けられており、更に液体及びガス、更には 急冷用ガスを混合し、得られた液体・ガス混合物を下の触媒床(図示されていな い)の上面全体に分布させる。 或る炭化水素処理の用途(例えば、水素化脱硫)では、急冷用ガスを、処理さ れる液体及びガス中へ注入する。急冷用ガスは、下の触媒床を通って分布する液 体・ガス混合物の温度及び組成も制御するように(例えば、過剰の水素を与える ように)注入してもよい。第1図〜第3図に示した好ましい態様では、急冷用液 体又はガス(例えば、水素)を、急冷用ガスパイプ22及び23(下で一層詳細 に記述する)によって液体中へ二つの点で注入する。分配器組立体20は、触媒 床から受けた液体及びガス中に急冷用ガスを取り込ませ、その液体・ガス混合物 を有孔板50及びバブル・キャップ・アセンブリー60へ分布させ、下の触媒床 の断面全体に亙って分布させる働きもする。分配器組立体20は、反応器壁11 に対し水平に取付けられ、全体的に環状の収集混合水槽24を有する。水槽24 は、平らな円状の底壁又は板25によって形成された底壁、及び直立した円筒状 の周辺壁26を有する。板25は、格子金網組立体12の下に水平に取付けられ ている。 分配器組立体20は、更に側壁31、32、33、及び34を有する混合室3 0を有し、それらの壁は板25の上面にその中心部の所に気密な状態に取付けら れている。環状収集混合水槽24は、板25上の混合室30の側壁と、周辺壁2 6との間に形成されており、上の触媒床から流下してきた液体を収集し、その液 体を混合した後、混合室の入口通路36へ到達させる。 混合室30は、上の触媒床を支持する一対のクロスビーム14と15との間に 板25から上方へ伸びるように適用された箱型の形を有する。好ましい態様では 、混合室30は上面が長方形で、クロスビームの長手方向に伸び、それらクロス ビームの間の空間を占めるように適用された幅を有する。混合室は、クロスビー ム14及び15の内面よりも内側に、それと隣接して取付けられた長手方向に伸 びる側壁31及び33、及び横切って伸びる末端又は側壁32及び34、及び長 方形の頂部壁35によって形成されている。混合室の底壁は、収集板25と一体 的に形成され、その板の中心部を占める。即ち、水槽24の底壁及び混合室の底 壁は、両方共板25によって形成されており、それによって両方共同じ水平面上 に存在する。環状水槽24の板25は、クロスビームの下に、それと近接して取 付けられており、その結果混合室30が一対のクロスビームの中心部の間に配置 され、それによって分配器組立体20によって取られる垂直空間を最小にし、そ れによって反応器10の全体積を効率的に利用し、触媒充填体積を一層大きくす ることができる。 好ましい態様として、混合室30は、端部壁34から伸びる一つの入口通路3 6、及び底壁25の底中心部の一つの出口37を有する。入口通路36は、水槽 24の内壁26中の矩形の出口開口を形成する上流端を有する。水槽の出口開口 は、その上と下は混合室の頂部壁35と板25によって形成され、その側面は側 壁31の内面と端部壁34の内側端部によって形成されている。出口37は、反 応器側壁11の軸と同軸になった収集板25の中心に形成された円状の孔を有す る。ガス入口38が、出口37の直ぐ上の頂部壁35の中心部に形成されている 。第2図及び第3図で最もよく分かるように、側壁31は、混合室30から水槽 24の周辺壁26の方へ外側へ伸び、それによって分離壁40を形成し、その壁 は入口通路36に隣接して水槽24を横切っている。即ち、分離壁40は、側壁 31と一体的に形成されており、それによって入口36の径方向(反応器及び出 口37の軸に対して)に外側の端部に連続している。分離壁40は、混合室入口 36から外側へ伸び、水槽24を横切る。分離壁40の下端は、板25と実質的 に気密な密封を形成し、壁40の外端は、水槽の周辺壁26の内面と全体的に気 密な密封を形成する。 分離壁40は、入口36に隣接する混合水槽32中に収集された液体をそらせ 、水槽24中に収集され蓄積した液体のプールを、入口36に到達する前に、混 合室の実質的に全ての周辺に沿ってアーチ又は円模様状(第2図の点線で示され ている)に流す。即ち、液体のプールは、入口通路36への上流開口のアーチ状 の幅だけを除き、ほぼ360°の角度に対応するアーチ状の路を流れる。液体は 種々の位置で環状混合水槽24中へ降り注ぐので、水槽の水平面中の円状模様の 流れが、プール中の液体と触媒床から降り注ぐ液体との比較的低いエネルギーの 混合を起こし、その結果液体が入る入口36は、比較的均一な温度及び組成を有 する。入口通路36の大きさ、特にその下流端(即ち、第3図に示したように、 通路内壁42の下流端の所)の幅及び高さは、反応器10を通る液体の流量の操 作範囲を考慮して、操作液面(第1図の点線で示されている)が混合室30の頂 部壁35より幾らか低くなり、液体プールと頂部壁35との間に間隙が形成され るように選択する。このように、混合室への狭くなった入口通路36によって水 槽内に実質的な深さの液体のプールが蓄積し、混合室が収集混合水槽の内壁と隣 接してその内壁を形成することにより、室入口36が水槽24の限定された出口 を有することが分かるであろう。従って、分配器組立体20は環状収集混合水槽 24を有し、その水槽はそれを横切る少なくとも一つの分離壁40を有し、そし て前記水槽は、狭くなった通路36へ通ずる水槽下流端で分離壁に隣接するか又 は近接した出口開口を有することが分かる。通路36は、水槽からの液体の流れ を制限し、液体が水槽内に蓄積するようにし、流れの制約及びその下流での拡大 によって、そこから出る液体及びガス流に乱流を与える。 第2図及び第3図から分かるように、混合室30への入口通路36は、室の周 辺に隣接した路で、反応器壁11の軸から径方向に曲がり、混合室の底壁28に 形成された円状出口37に対しても接線方向になっている路に沿って伸びている 。この出口37に対する配向は、混合室内の流れの通路が環状の形になっている ことと一緒になって、液体及びガスに回転又は渦巻き状の流動を与え、それが環 状水槽24内に発生した回転又は円状流動に加わる。また、入口通路36は、水 槽32から室30への液体及びガスの流れ方向に細く、即ち収斂し、それによっ て液体及びガスが混合室への入口通路の狭くなった下流端を通って流れる時、そ の流れの中に乱流を惹き起こす。通路は、平坦な室側壁31及び平坦な内壁42 によって形成され、その内壁は、混合室の横断端部壁34の端から伸び、その壁 と鈍角を形成している。壁42は、側壁31と鋭角を形成する。壁42の下流端 は、出口37に連続し、その室を上流部分と下流部分に分ける板の概ね交点の所 に存在しており、その板は室30を横切って伸び、出口37の軸と交差し、従っ て反応器壁11の軸を含んでいる。 半円筒状のバッフル壁38が、混合室30の上流部に取付けられている。バッ フル38は、入口通路内壁42の下流端から伸び、それによって側壁31から遠 ざかるように開いている。入口36、及び半円筒状壁38と側壁31との間に形 成された広がる流動路の形は、通路36の直ぐ下流の流れに乱流を起こす。環状 通路が、半円筒状バッフルと室壁31、32、及び33との間の室30の上流端 部内に形成され、続いて壁33及び34及び内壁42によって形成されたU型機 構により室の下流端部へと連続している。入口通路及び混合室内の環状通路の接 線方向又は径方向にずれていく機構は、全て一緒になって、液体及びガスを完全 に混合する円状又は渦巻き状の流動模様を惹き起こす働きをする。 急冷用ガス(例えば、水素)を、収集混合水槽24内に収集された液体のプー ル中へパイプ22及び23により二つの点から注入する。第1図で点線によって 示したように、作動液面は混合室30の側壁の高さよりも低く、即ち、混合室の 頂部壁より下に存在する。急冷用パイプ22及び23の端は、混合室入口から径 方向に約2700及び900離れた位置で、作動液面より低いところで混合水槽 内に出ている。水槽24内の環状流動路に沿ったそのような径方向に離れた位置 での急冷用ガス注入により、夫々の位置で液体プールの撹拌を起こし、それによ って水槽内へ落下してそれを通って流れる液体の混合を促進する。 そのような急冷用ガスは、注入点の液体に取り込まれ、残りは水槽24中の液 体プールから上方へ流れ、混合室30の頂部壁中のガス入口38中へ流れ、そこ を通って流れる液体の上の入口通路36も通過する。クロスビーム14及び15 は、反応器の壁11に隣接したそれらの外側端で細くなっており、分離壁40の 上端と、混合室の外側の方へ伸びている隣接ビーム14の下面との間に間隙が与 えられていることが分かるであろう。好ましい態様の混合室30は直方体形の箱 状になっており、収集混合水槽24が、平坦な円盤25上の混合室の回りに形成 されているのが分かるであろう。箱状混合室の側壁31、32、33、及び34 は、実質的に気密な状態で板25に取付けられており、その結果収集水槽24の 半径方向の内壁は、混合室の側壁によって形成され、水槽の周辺壁26は収集板 の外周の所にある壁によって形成されている。混合室は矩形の頂部壁35を有し 、その底壁は板25と一体的に形成されている。混合室30の出口37は、板2 5の中心及び反応器の軸の所の形成された円形の開口である。触媒床は、クロス ビーム14及び15上に取付けられた格子組立体12上に支持されており、収集 板は、クロスビームの下にそれに近接して水平に取付けられており、その結果混 合室30は、クロスビームの間で且つその長手方向に上方へ伸びている。クロス ビームの間の空間のこの利用により、分配器組立体20によって占められる垂直 空間が最小になり、それによって全反応器体積を効率的に利用する結果になる。 入口通路36は、混合室の側壁31によって一方の側に形成されており、その混 合室はクロスビーム14に隣接してその長手方向に伸びている。分配器壁40が 、側壁31から外側へ伸び、周辺壁26までその側壁と一体的に形成されており 、これによって入口通路と連続している。入口通路26は、側壁31と鋭角を形 成する壁42によって外側が形成されており、その結果入口通路は流れの方向に 狭くなっている。半円筒状バッフル壁44が、反応器軸及び更に環状出口37の 軸と同軸状に取付けられている。バッフル44の上流端は平坦な内壁42の下流 端から伸びている。混合室30の上流端部には、細くなった入口通路36による 収斂及びバッフル44の上流部分の周りの広がりによって渦巻き状乱流が最初に 発生する。続いて、バッフル44の下流部分と近接した室側壁33との間の収斂 、及び次に液体がバッフル44を通過して混合室の下流端部へ流れて行く時の拡 大によって、更に渦巻き状の乱流が発生する。また、出口37に対する入口通路 の径方向のずれ及び接線方向の構造に続き、室の上流端部の矩形の側壁31、3 2、及び33と半円筒状バッフル44との間に形成された全体的に環状の通路に より、回転又は渦巻き状の流動が発生する。この回転又は渦巻き状の模様は、出 口の接線方向に伸びる鈍角に配列された内壁42によって混合室の下流端部へ継 続して行く。第3図に示したように、平坦な板45を室内の角を幾らか円くする ように構成し、それによって流れを流線形にし、回転状流動を促進するようにし てもよい。そのような乱流は、重複した回転又は渦巻き状流動と一緒になって、 液体・ガス混合物の完全な混合を与える。 好ましい態様として、混合室の出口37から出た液体及びガスは、急冷用ガス と同様、収集混合水槽24及び混合室30の下に取付けられた平坦な有孔収集板 50の中心部へ送る。板50は多数の孔を有する(分かり易くするためその幾つ かだけが示されている)。板50の下にはバブル・キャップ・アセンブリー60 が取付けられており、有孔収集板からの液体及びガスを受け、その液体・ガス混 合物を下の触媒床全体に分布させる。有孔板とバブル・キャップ・アセンブリー の組合せにより、更に一層の液体混合及び液体・ガスの取り込みが行われる。そ のようなバブル・キャップ・アセンブリーは、米国特許第4,836,989号 明細書(その内容は参考のためここに入れてある)に一般に記述された型のもの でもよい。組立体は板50の下に取付けられた板を有し、その板から上方へ突出 した多数の管及びそれらの管の上端に取付けられたキャップを有する。それらの キャップの下端には間隙が形成されており、それら管を通って引き出された液体 及びガス内の気泡の大きさを適度にする。板の断面全体に亙る管の分布によって 、下の触媒床上へ与える液体・ガス混合物の分布を均一にする。垂直方向に隣り 合った分配器組立体の分離壁40を180°回転させ、即ち、分離壁が直径方向 に反対の向きに伸びるように、反応器10内の幾つかの分配器組立体20を配向 させるのが好ましい。反応器内の種々の分配器組立体をそのようにずらせて配列 することにより、下の分配器組立体の混合室30の入口通路36に近接した一つ の床内にホットスポットが形成されたとしても、そのようなホットスポットが次 の触媒床へそのような分配器組立体によって伝播する可能性を出来るだけ小さく することができる。 本発明の好ましい態様についての上の記述は主に例示のためであり、本発明の 本質を同じく組込んだ数多くの変更を用いることができることは認められるであ ろう。従って、本発明の範囲の決定には次の請求の範囲を参照すべきである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 パリミ,クリシュニア アメリカ合衆国 94518 カリフォルニア 州コンコード,シェルフラワー コート 4460 (72)発明者 キヤッシュ,デニス アール アメリカ合衆国 94947 カリフォルニア 州ノバト,メドウ レーン 19

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.円筒状側壁、二つ以上の触媒床、及び前記触媒床を、第一触媒床から第二 触媒床へ液体及びガスを流すことができるように互いに垂直に重ねた状態で支持 するために前記反応器側壁に取付けた手段を有する触媒反応器のための分配器組 立体で、前記反応器の前記第一触媒床と第二触媒床との間に取付けた分配器組立 体において、前記第一触媒床から流下した液体を収集するための全体的に環状の 水槽、前記水槽内の中心部に配置され、前記水槽内に収集された液体を受けるた めの入口を有する混合室で、その室からの液体及びガスを前記第二触媒床の方へ 送るための出口を有する混合室、及び前記水槽に収集された液体を、前記入口に 到達する前に前記室の実質的部分を通って前記水槽を回るようにする、前記入口 に隣接して前記水槽を横切る分離壁を具えた分配器組立体。 2.混合室が一つの入口を有し、分配器組立体が前記入口に隣接した1枚の分 離壁を有し、それによって前記分離壁が液体を、前記一つの入口に到達する前に 、前記混合室の実質的に全てを通って水槽内を回るようにさせる、請求項1に記 載の分配器組立体。 3.混合室が、水槽の内壁を形成する側壁を有し、入口が前記混合室の側壁と 連続しており、分離壁が前記側壁と一体になっていて、その側壁から外側へ伸び ている、請求項1〜2のいずれか1項に記載の分配器組立体。 4.混合室入口が入口通路を有し、その入口通路が前記混合室内へ入る液体及 びガスの流れの方向に収斂していて、それによってその下流に乱流を与える、請 求項1〜3のいずれか1項に記載の分配器組立体。 5.混合室が頂部壁及び底壁を有し、前記混合室の出口が前記底壁の中心部に 形成されており、入口通路が前記混合室の側壁と内壁との間に形成されており、 その内壁が前記混合室へ入る液体及びガスの流れの方向に前記側壁の方へ近づい ており、それによって前記混合室内に回転模様の流動を与える、請求項1〜4の いずれか1項に記載の分配器組立体。 6.混合室が直方体の箱の形をしており、バッフルが半円筒状であり、前記バ ッフルが、混合室の近接した側壁と狭くなった通路を形成する下流末端部で終わ っており、それによって液体及びガスが前記バッフルの下流を流れていく間に、 乱流状の流動を与える、請求項1〜5のいずれか1項に記載の分配器組立体。 7.急冷用ガスを水槽内に導入するための急冷用ガス注入パイプを更に具え、 混合室頂部壁が、前記混合室の出口の直ぐ上に形成されたガス入口を有する、請 求項1〜6のいずれか1項に記載の分配器組立体。 8.混合室が底壁を有し、前記混合室の前記底壁の中心部に出口が形成されて おり、入口が、前記出口に対し接線方向の入口通路を有し、それによって前記混 合室内に回転状の流動を生じさせる、請求項1〜7のいずれか1項に記載の分配 器組立体。 9.入口通路が、混合室の側壁と、出口の周辺で終わる内壁との間に形成され ており、分離壁が、前記入口通路を形成する側壁と一体になって、その側壁から 外側へ伸びている、請求項1〜8のいずれか1項に記載の分配器組立体。 10.入口通路の内壁が、前記入口通路を形成する室の側壁の方へ近づいてお り、それによって液体に、それが前記混合室に入る間に、乱流状の流動を与える 、請求項1〜9のいずれか1項に記載の分配器組立体。 11.混合室が、更に部分的に円筒状のバッフルを有し、そのバッフルが出口 の一部を取り巻く入口通路の内壁から伸びている、請求項1〜10のいずれか1 項に記載の分配器組立体。 12.複数の触媒床を互いに垂直に重ねた状態で支持するための手段が一対の ビームを有し、水槽と混合室が同じ平面内に横たわる底壁を有し、前記混合室が クロスビームの間で上方へ伸びる側壁を有し、混合室の入口が、前記クロスビー ムを横切って伸びる前記混合室の側壁内に形成されている、請求項1〜11のい ずれか1項に記載の分配器組立体。 13.分離壁が、混合室の長手方向に伸びる混合室側壁と一体になっており、 その側壁から外側へ伸びている、請求項1〜12のいずれか1項に記載の分配器 組立体。 14.混合室の底壁の中心に出口が形成されており、前記混合室の入口が、前 記出口に対し接線方向の通路を有し、それによって前記混合室内に回転状の流動 を与える、請求項1〜13のいずれか1項に記載の分配器組立体。 15.急冷用ガスを水槽内へ注入するための手段を更に具え、室の頂部壁が、 混合室出口の直ぐ上に形成されたガス入口を有する、請求項1〜14のいずれか 1項に記載の分配器組立体。 16.円筒状側壁、二つ以上の触媒床、及び前記触媒床を互いに垂直に重ねた 状態で支持し、第一触媒床から第二触媒床へ液体及びガスを流すことができるよ うにするための前記反応器側壁に取付けられた手段を有する触媒反応器のための 分配器組立体で、前記反応器の前記第一触媒床と第二触媒床との間に取付けられ た分配器組立体において、前記第一触媒床から流下した液体を収集するための全 体的に環状の水槽、前記水槽を横切る分離壁、前記分離壁に隣接した前記水槽の 出口、及び前記出口の下流にあって、前記液体の流れを収集し、前記第二触媒床 の入口へ送るための手段を具え、それによって前記水槽に収集された液体が、前 記出口に到達する前に前記水槽を通って回るようにしてある、分配器組立体。 17.水槽が一つの出口を有し、分配器組立体が前記出口に隣接した1枚の分 離壁を有し、それによって前記分離壁が液体を、前記一つの出口に到達する前に 、前記水槽の実質的に全てを通って回るようにさせる、請求項17に記載の分配 器組立体。 18.液体の流れを収集して第二触媒床へ送るための、出口の下流にある手段 が、水槽の中心部に配置された混合室で、前記水槽の出口から液体を受けるため の入口通路を有する混合室を有し、前記混合室が前記水槽の内壁を形成する側壁 を有し、前記水槽の出口が前記混合室の側壁内に形成されている、請求項16又 は17に記載の分配器組立体。 19.混合室入口通路が、前記混合室へ入る液体及びガスの流れの方向に収斂 し、それによってその下流に乱流を与える、請求項16〜18のいずれか1項に 記載の分配器組立体。 20.混合室が更に頂部壁及び底壁を有し、混合室出口が前記底壁の中心部に 形成されており、入口通路が前記混合室の側壁と一体になって形成されており、 その反対側が内壁によって形成されており、その内壁が混合室へ入る液体及びガ スの流れの方向に前記側壁の方へ近寄っており、それによって前記混合室内に回 転状の流動を与える、請求項16〜19のいずれか1項に記載の分配器組立体。
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