JPH10502672A - ある種のアザシクロヘキサペプチドの製造方法 - Google Patents

ある種のアザシクロヘキサペプチドの製造方法

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JPH10502672A
JPH10502672A JP8524362A JP52436296A JPH10502672A JP H10502672 A JPH10502672 A JP H10502672A JP 8524362 A JP8524362 A JP 8524362A JP 52436296 A JP52436296 A JP 52436296A JP H10502672 A JPH10502672 A JP H10502672A
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Abstract

(57)【要約】 式(I)を有するアザシクロヘキサペプチド(全ての可変記号は本明細書に定義されている)の新規製造方法を開示する。

Description

【発明の詳細な説明】 ある種のアザシクロヘキサペプチドの製造方法 発明の背景 本発明は、1995年1月3日発行の米国特許第5,378,804号に開示されているあ るアザシクロヘキサペプチド類の改良製造方法に関する。従来、これらの化合物 の合成方法は5工程を要し、十分に立体選択性でも高収率でもなかった。水素化 、金属水素化物、及び電気化学的還元などの第1級アミドの公知の還元は、ニュ ーモカンジン類の他のアミド及び官能基とは適合しない条件を必要とする。これ らの還元では、種々に置換されたアミドの化学選択性を欠く。本明細書で記載し た新規方法では2工程を省き、結果として、化合物のアナログをより高収率及び より簡単に合成できる。発明の概要 本発明は、式 (式中、 R1は、CH2CH2NH2又はCH2CONH2であり; RIは、C9−C21アルキル C9−C21アルケニル、 C1−C10アルコキシフェニル、 C1−C10アルコキシナフチル、又は C1−C10アルコキシターフェニルであり; RIIは、H、C1−C4アルキル、 C3−C4アルケニル、 (CH22-4OH、又は (CH22-4NRIVVであり; RIIIは、H、C1−C4アルキル、 C3−C4アルケニル、 (CH22-4OH、又は (CH22-4NRIVVであるか;又は RIIとRIIIは一緒になって、(CH24、(CH25、(CH22O(CH22 又は(CH22NH(CH22であり; RIVは、H又はC1−C4アルキルであり; RVは、H又はC1−C4アルキルである) を有するアザシクロヘキサペプチド化合物又は医薬として許容できるその酸付加 塩の製造方法に関する。 本発明の方法によって製造される化合物は、真菌感染の治療に、及びAIDS 患者などの免疫低下患者でしばしば起るニューモシスチス・カリニ感染の治療及 び予防に有用であることが知見されている。発明の詳細な説明 本発明は、従来の合成方法から2工程を省く立体選択性で、 高収率の方法による、式(I)を有する化合物の製造方法に関する。 本明細書と請求の範囲において、所与の化学式又は化学名は、全ての光学異性 体及び立体異性体、並びにラセミ混合物を包含するものとする(このような異性 体及び混合物が存在する場合)。 アルキルという用語は、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル 、n−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、シクロペンチル、シクロヘキシ ル、シクロヘキシルメチルなどの直鎖、分岐鎖、又は環状鎖の炭化水素基を指す 。 シクロアルキルという用語は、炭素原子間で交互二重結合即ち共鳴二重結合を 有しない3〜15個の炭素原子を含む一連のアルキルを指す。 アルケニルという用語は、例えばビニル、1−プロペン−2−イル、1−ブテ ン−4−イル、2−ブテン−4−イル、1−ペンテン−5−イルなどの基を指す 。 アルコキシという用語は、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、ヘプトキシ 、ドデシルオキシなどの直鎖又は分岐鎖のオキシアルキル基を指す。 本発明の化合物は一般に、いずれかの異性体を通常多く含む立体異性体の混合 物として得られる。所望の異性体を多量に得る条件は、当業者公知の方法によっ て調整できる。本明細書で“通常”型という好適な立体異性型を有する化合物は 、“C−5−orn”位置での基が、該位置の平面より下にある化合物である。 “エピ”という用語は、“C−5−orn”位置の基が、平面より上にある化合 物に対して使用した。“C−5−orn”位置は、4−ヒドロキシオルニチン成 分上の5−炭素と定義する。 酸付加塩として適切な医薬として許容できる塩は、塩酸、臭化水素酸、リン酸 、硫酸、マレイン酸、クエン酸、酢酸、酒石酸、コハク酸、シュウ酸、リンゴ酸 、グルタミン酸などの酸から得られる塩であり、Journal of Pharmaceutical Sc ience,66:2(1977)に記載の医薬として許容できる塩に関連する他の酸も含む。 好適実施態様では、本発明の方法は、式 を有する化合物IIを還元して、式 を有する化合物IIIを得、次に化合物IIIを式 を有する化合物IVに変換し、化合物IVを、フェニルチオ基の置換によって化合物 Iに立体選択的に変換する工程を含む。 別の実施態様では、本発明の方法は、式 を有する化合物IIをチオフェノールと反応させて、式 を有する化合物IV−aを得、次に化合物IV−aを式 を有する化合物IVに還元し、次に化合物IVを、フェニルチオ基の置換によって化 合物Iに立体選択的に変換する工程を含む。 RIがジメチルトリデシルである化合物IIは、1991年6月4日発行の米国特許 第5,021,341号記載のように、主要炭素源としてマンニトールに富む栄養培地でZ alerion arboricola ATCC20868を培養して生産できる。 本発明の方法により製造される好適化合物を以下に示す。 本発明の方法をより明確に説明するために、好適反応物質が記載されている以 下の工程で本発明を説明する。以下の反応スキームでRIはジメチルトリデシル である。 上記のように、工程1では、THFもしくは他の適切な溶媒中で、ボランとテ トラヒドロフラン(THF)、ジメチルスルフィド、ジフェニルスルフィド、ジ ベンジルスルフィドもしくは1,4−オキサチアンとの錯体、又はBH2Clと ジメチルスルフィドとの錯体などのボラン錯体、又はZrCl4/NaBH4もし くはTiCl4/NaBH4などの金属ホウ化物を用いて、アミド(化合物II)を アミンに還元する。還元はまた、チタニウムホウ化物もしくはジルコニウムホウ 化物、又はアンモニア、ジメチルアミン、ピリジンもしくはピペラジンとのボラ ン錯体を用いて行うことができる。好適な還元剤には、THFもしくは他の適切 な溶媒中の、テトラヒドロフラン(THF)、ジメチルスルフィド、ジフェニル スルフィド、ジベンジルスルフィド、1,4−オキサチアンとのボラン錯体、又 はジメチルスルフィドとBH2Cl、又はZrCl4/NaBH4もしくはTiC l4/NaBH4などの金属ホウ化物などがある。この還元で未変換のアミドは、 逆相クロマトグラフィーで分離する。 工程IIでは、アセトニトリルとトリフルオロ酢酸(TFA)中で化合物IIIと チオフェノールを反応させて、フェニルスル フィド含有中間体を生成させる。任意の穏和な酸が良好な収率で中間体を生成さ せると期待される。4−メトキシチオフェノール、2−メルカプト−1−メチル イミダゾール、及び2−メルカプトベンズイミダゾールなどの他のスルフィドも 使用できる。化合物IIIは、希釈反応溶液を逆相C−18カラムにかけ、メタノ ールで溶出して抽出される。 使用するTFAの量は、置換速度、及び環状ペプチドのホモチロシンセグメン トでの所望でないスルフィドの次なる生成に決定的である。アセトニトリル中約 5−25%のTFAが最良の収率と工程熟成時間を与えるが、約7−15%のT FA範囲が好適であることが知見された。 反応混合液中の出発物質の水の量は、収率にあまり影響を与えないことが知見 された。 この工程で使用するチオフェノールの量はまた、最終生成物の収率に影響を与 える。3〜5当量が最良の収率を与えた。 スルフィド生成の好適条件は、0℃で10%TFA/アセトニトリル中5当量 のチオフェノールであると決定された。これらの条件により、固相抽出後、収率 65−70%であった。 フェニルチオ基の置換である工程3により、スルホン中間体 を介する従来の経路を迂回できる。外界温度でフェニルスルフィドをニートなエ チレンジアミン中で反応させ(1:3)、化合物I−1を95%収率で得る。反 応は、約10〜40℃の温度で約0.5〜6.0時間で十分であり得る。好まし くは、反応は、室温で、約1.5時間行われる。反応は、水、メタノール、エタ ノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、トリフルオロエタノール、ジ クロロエタン、又はアセトニトリルなどの適切な溶媒中に溶解させたエチレンジ アミンを用いても行うことができる。 本発明を、以下の実施例で詳細に説明する。部、比、及びパーセントは全て、 特に記載がなければ重量による。実施例でRIはジメチルトリデシルである。 実施例1 a)化合物IIから化合物IIIの合成及び分離 化合物II(15.9g,純度89面積%、水3.4重量%、0.0128mo l)を乾燥THF(0.64L)に加え、3Å分子篩床を通して還流することに より、懸濁液を10mol%末満の含水量まで乾燥させた。最初の体積になるま で混合液に更に乾燥THFを加え、懸濁液を氷/水/メタノール 浴で、4℃未満に冷却した。 ニートなBH3・SMe2(10.91g,0.144mol)を10分かけて 加え、反応混合液を0−4℃に保った。出発物質と生成物の比が反応時間の終り (3.5時間)を示す1:1になるまで、反応の進行をHPLCでモニターした 。4時間で、混合液を−12℃に冷却し、2N HCl(0.036L)でゆっ くりと反応を止めた。この溶液を水で1.14Lに希釈した。化合物IIIのアッ セイ収量は6.60gであった(47%)。 反応を止めた溶液を4Lに希釈し、LiChroprep RP-C18吸着剤(158g)の 中圧カラムにかけた。負荷後、カラムを1.2L水で洗浄し、1:4v/vアセ トニトリル/水 1.9L、次に1:3v/vアセトニトリル/水 0.38Lで 、アミンを溶出した。 リッチカット(80面積%を超える)を一緒にし、水で希釈し、1:7.3v /vアセトニトリル/水溶液にした(合計1.70L)。この混合液を、上記と 同じカラムにかけ、カラムを水0.57Lで洗浄した。所望の化合物を、メタノ ール0.57Lで溶出した。リッチカット分画(85面積%を超える)を一緒に し、静止高真空下で回転蒸発させて濃縮し、化合 物III(RIはジメチルトリデシル)塩酸塩5.92gを含む6.81g(純度8 7面積%、水6.8重量%)を単離収率43%で得た。 b)フェニルスルフィド化合物IVの製造 化合物III(5.80gアッセイ、0.00533mol)を乾燥アセトニト リル0.23Lに加え、−5℃に冷却し、その時点でチオフェノール(3.10 g,0.028mol)を加えた。TFA(36g,24.5mL,0.318 mol)を20分かけて加え、反応混合液の温度を0℃未満に保った。HPLC 分析により、出発物質が3面積%未満になるまで(3.75時間)、反応を−1 0〜0℃で熟成させた。この時点で、反応混合液を5℃未満の温度を保つように 冷却しながら、冷水(0.56L)をゆっくり加えた(1時間)。トリフルオロ 酢酸塩としてのα−とβ−フェニルスルフィド付加物のアッセイ収量は4.82 g(71%)であった。 この溶液を、工程aで記載したのと同じカラムにかけ、カラムを水(0.57 L)で洗浄し、次に吸着した有機化合物をメタノール(0.50L)で溶出した 。リッチカット分画を静止高真空下で回転蒸発させて濃縮した。これにより、無 定形泡状 固体として粗フェニルスルフィドトリフルオロ酢酸塩7.20g(純度57重量 %、水5.1重量%)を得た。フェニルスルフィドの補正単離工程収量は、α− とβ−アミナルジアステレオマーの93:7混合物として4.10g(61%) であった。 c)フェニルスルフィドのジアミン(化合物I−1)への変換 粗フェニルスルフィドトリフルオロメタンスルホン酸塩(粗8.4g,純度5 7重量%、0.00377mol)を、外界温度で攪拌しながら、エチレンジア ミン(24mL)に加えた。得られた溶液を1.5時間攪拌し、置換を完了させ 、その後メタノール(40mL)、次に酢酸(45mL)を、氷浴冷却で温度を 25℃未満に保ちながら加えた。粘性のスラリーが得られた。水(160mL) を加え、スラリーを溶解させ、ヘキサン(75mL)で穏やかに振盪して水層を 抽出した。ヘキサン層を水(40mL)で逆抽出し、一緒にした水層を、中多孔 性焼結ガラス漏斗を通して濾過し、次に溶離剤として22%アセトニトリル/7 8% 0.15%酢酸水溶液を用い、50mm直径のC18カラムを用いる分取 HPLCで精製した。リッチカット分画を凍結乾燥し、単離工程収率78%で、 二酢酸塩として純度85重量%の化合物I−14.2gを得た。 d)化合物I−1の結晶化 上記固体(2.3g)をエタノール(25mL)に溶解させ、次に水(2.7 mL)を加えた。溶液を焼結ガラス漏斗を通し、異物を除去した。この濾液に、 酢酸(0.14mL)を加え、次に酢酸エチル(14mL)をゆっくり加えた。 溶液に種晶を入れ、種晶床を1時間放置した。残りの酢酸エチル(32mL)を 5時間かけて加え、更に1時間放置した。結晶性固体を焼結ガラス漏斗上で集め 、エタノール/酢酸エチル/水(それぞれ6mL/9mL/0.5mL)溶液で 洗浄した。湿ったケーキを窒素流下で乾燥させ、化合物I−1二酢酸塩1.91 g(1.75アッセイg,回収率88%)を得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI C07K 1/107 9051−4C A61K 37/02 ADY (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AP(KE,LS,MW,SD,SZ,U G),UA(AZ,BY,KG,KZ,RU,TJ,TM ),AL,AM,AU,AZ,BB,BG,BR,BY ,CA,CN,CZ,EE,FI,GE,HU,IS, JP,KG,KR,KZ,LK,LR,LT,LV,M D,MG,MK,MN,MX,NO,NZ,PL,RO ,RU,SG,SI,SK,TJ,TM,TR,TT, UA,US,UZ,VN (72)発明者 ベンター,デイーン・アール アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカー ン・アベニユー・126 (72)発明者 ブラツク,レジナ・エム アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカー ン・アベニユー・126 (72)発明者 ヒユーズ,デイビツド・エル アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカー ン・アベニユー・126 (72)発明者 レオナルド,ウイリアム アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカー ン・アベニユー・126

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 式 (式中、 R1は、CH2CH2NH2又はCH2CONH2であり; RIは、C9−C21アルキル、 C9−C21アルケニル、 C1−C10アルコキシフェニル、 C1−C10アルコキシナフチル、又は C1−C10アルコキシターフェニルであり; RIIは、H、C1−C4アルキル、 C3−C4アルケニル、 (CH22-4OH、又は (CH22-4NRIVVであり; RIIIは、H、C1−C4アルキル、 C3−C4アルケニル、 (CH22-4OH、又は (CH22-4NRIVVであるか;又は RIIとRIIIは一緒になって、(CH24、(CH25、(CH22O(CH22 もしくは(CH22NH(CH22であり; RIVは、H又はC1−C4アルキルであり; RVは、H又はC1−C4アルキルである) を有するアザシクロヘキサペプチド化合物又は医薬として許容できるその酸付加 塩の製造方法であって、 a)式 を有する化合物IIを還元して、式 を有する化合物IIIを得、 b)化合物IIIを変換し、式 を有する化合物IVを得、及び c)化合物IVを、フェニルチオ基の置換により化合物Iに立体選択的に変換する ことを含むことを特徴とする方法。 2. ボラン錯体又は金属ホウ化物を用いて、工程(a)の還元を行うことを特 徴とする請求項1に記載の方法。 3. 金属ホウ化物がZrCl4/NaBH4又はTiCl4/NaBH4であり、 ボラン錯体がボランとジメチルスルフィド、 ジベンジルスルフィド、ジフェニルスルフィド、THFもしくは1,4−オキサ チアンとの錯体、又はBH2Clとジメチルスルフィドとの錯体であることを特 徴とする請求項2に記載の方法。 4. 化合物IIIを、適切な溶媒中でチオフェノールと反応させることによりフ ェニルスルフィドに変換させることを特徴とする請求項1に記載の方法。 5. 適切な溶媒がアセトニトリルであることを特徴とする請求項4に記載の方 法。 6. フェニルチオ基の置換が、約10〜40℃の温度で、ニートなエチレンジ アミン中で、又は適切な溶媒中に溶解させたエチレンジアミンによって行われる ことを特徴とする請求項1に記載の方法。 7. 適切な溶媒を、水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、イソ プロパノール、トリフルオロエタノール、アセトニトリル又はジクロロメタンか ら選択することを特徴とする請求項6に記載の方法。 8. 式 (式中、 R1は、CH2CH2NH2又はCH2CONH2であり; RIは、C9−C21アルキル、 C9−C21アルケニル、 C1−C10アルコキシフェニル、 C1−C10アルコキシナフチル、又は C1−C10アルコキシターフェニルであり; RIIは、H、C1−C4アルキル、 C3−C4アルケニル、 (CH22-4OH、又は (CH22-4NRIVVであり; RIIIは、H、C1−C4アルキル、 C3−C4アルケニル、 (CH22-4OH、又は (CH22-4NRIVVであるか;又は RIIとRIIIは一緒になって、(CH24、(CH25、(CH22O(CH22 又は(CH22NH(CH22であり; RIVは、H又はC1−C4アルキルであり; RVは、H又はC1−C4アルキルである) を有するアザシクロヘキサペプチド化合物又は医薬として許容できるその酸付加 塩の製造方法であって、 a)式 を有する化合物IIをチオフェノールと反応させて、式 を有する化合物IV−aを得、 b)化合物IV−aを還元して、式 を有する化合物IVを得、及び c)化合物IVをフェニルチオ基の置換により、立体選択的に化合物Iに変換する ことを含む方法。 9. ボラン錯体又は金属ホウ化物を用いて、工程(a)の還元を行うことを特 徴とする請求項8に記載の方法。 10. 金属ホウ化物がZrCl4/NaBH4又はTiCl4/NaBH4であり 、ボラン錯体がボランとジメチルスルフィド、ジベンジルスルフィド、ジフェニ ルスルフィド、THFもしくは1,4−オキサチアンとの錯体、又はBH2Cl とジメチルスルフィドとの錯体であることを特徴とする請求項9に記載の方法。 11. 化合物IIを、適切な溶媒中でチオフェノールと反応させることによりフ ェニルスルフィドに変換させることを特徴とする請求項8に記載の方法。 12. 適切な溶媒がアセトニトリルであることを特徴とする請求項11に記載 の方法。 13. フェニルチオ基の置換が、約10〜40℃の温度で、純粋なエチレンジ アミン中で、又は適切な溶媒中に溶解させたエチレンジアミンによって行われる ことを特徴とする請求項8 に記載の方法。 14. 適切な溶媒を、水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、イ ソプロパノール、トリフルオロエタノール、アセトニトリル又はジクロロメタン から選択することを特徴とする請求項13に記載の方法。 15. 式 を有する化合物を製造することを特徴とする請求項1に記載の方法。
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