JPH1041220A

JPH1041220A - 投影露光装置

Info

Publication number: JPH1041220A
Application number: JP8208809A
Authority: JP
Inventors: Shigeru Hirukawa; 茂蛭川
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1996-07-19
Filing date: 1996-07-19
Publication date: 1998-02-13

Abstract

(57)【要約】【課題】光学フィルタを誤使用なく投影光学系の瞳面
近傍に挿脱可能な投影露光装置を提供すること。【解決手段】投影光学系（１１２）の瞳面（Ｐ）近傍
に挿脱可能に設けられた光学フィルタ（１１６）と；マ
スク（１１１）の光の透過率を計測する計測手段（１２
１）と；計測手段（１２１）の出力に基づいて、光学フ
ィルタ（１１５）の挿脱を制御する制御手段（１３２）
とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子、液晶
表示素子、薄膜磁気ヘッド等の製造のリソグラフィ工程
に用いられる投影露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】投影露光装置は、レチクル等のマスクに
描画されたパターンの像を、投影レンズや反射鏡等の投
影光学系を介してウェハ等の感光基板上に投影し、転写
するものである。半導体素子製造用の投影露光装置にお
いては、製造されるべき半導体素子の集積度の向上に伴
い、転写すべきパターンの微細化の要求が高まってい
る。これに対して、露光光の短波長化や、投影光学系の
大ＮＡ化が行われてきている。転写するパターンの中で
も、周期性をもったパターンについては、たとえば特開
平４−２６７５１５に開示されているような、変形照明
によって結像性能を向上させることができる。また、ホ
ールパターンについては、特願平５−１７５１６４に開
示されているように、投影光学系の瞳面に位相反転部分
や遮光部を設ける、いわゆる瞳フィルターにより結像性
能の向上が図れることが知られている。

【０００３】特願平５−１７５１６４に示されている中
心遮光型の瞳フィルターを使用する場合には、マスクに
形成されたホールパターンの結像性能は向上するが、逆
にライン・アンド・スペースパターンのような周期パタ
ーンの結像性能が低下する。このため、１台の露光装置
でホール系のパターンとライン系のパターンの両方を露
光するためには、瞳フィルターの交換機能が必須であ
る。すなわち、瞳フィルターを光路中に挿入した状態で
ホール系のパターンを露光し、瞳フィルターを光路から
待避させた状態でライン系のパターンを露光する。ライ
ン系のパターンかホールパターンかの識別は、従来は目
視による確認、またはレチクルバーコードを読み取るこ
とによって行っていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】仮に、ホール系でない
パターンに遮光型の瞳フィルターを用いた場合には、マ
スクを通過する光量が大きく、その光のうち光軸付近を
通過しようとする部分が遮光部材で吸収されるため、投
影光学系の光吸収によって温度上昇が生じる。一般に、
中心遮光部材（瞳フィルタ）は、熱的に外部とはほぼ遮
断されているため、いったん温度が上昇すると、元の状
態に戻るには極めて長い時間が必要である。従って、ラ
イン系のパターンを転写する際に、誤って瞳フィルター
を挿入してしまった場合に、露光のやり直しが必要なの
はもちろんのこと、装置自体が元の状態に戻るのに長い
時間が掛かり、生産性の低下を招くことになる。

【０００５】このような問題は、バーコードを用いてパ
ターンの種類を識別した場合にも生じ得る。例えば、同
一マスクの複数領域にそれぞれライン系のパターンとホ
ール系のパターンとが設けられ、レチクルブラインドの
設定によってそれぞれのパターンを別々に露光するよう
な場合に問題が生じる。すなわち、同一のマスクであり
ながら、一方では瞳フィルターを挿入した条件で、また
一方では瞳フィルターなしで露光を行うことになり、管
理方法として破綻してしまう。

【０００６】本発明は、上記のような状況に鑑みた成さ
れたものであり、光学フィルタを誤使用なく投影光学系
の瞳面近傍に挿脱可能な投影露光装置を提供することを
目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、マスク（１１１）のパターン（１１１Ａ）を投影光
学系（１１２）を介して感光基板（１１４）上に転写す
る本発明にかかる投影露光装置は、投影光学系（１１
２）の瞳面（Ｐ）近傍に挿脱可能に設けられた光学フィ
ルタ（１１６）と；マスク（１１１）の光の透過率を計
測する計測手段（１２１）と；計測手段（１２１）の出
力に基づいて、光学フィルタの挿脱を制御する制御手段
（１３２）とを備えている。

【０００８】また、計測手段（１２１）による計測値を
所定の閾値と比較する比較手段（１３８）を更に備え、
制御手段（１３２）によって、比較手段（１３８）によ
る比較の結果、計測値が閾値よりも小さい場合にのみ、
光学フィルタ（１１６）を瞳面（Ｐ）近傍に設置するよ
うにしても良い。計測手段（１２１）としては、マスク
（１１１）に対する照明条件毎に、強度を計測するよう
に構成することもできる。また、計測手段（１２１）
は、マスク（１１１）が存在しない場合の投影光学系
（１１２）を透過する光の強度に対する、マスク（１１
１）を介して投影光学系（１１２）を透過する光の強度
の相対的な値を計測値として求めるようにしてもよい。

【０００９】

【発明の作用及び効果】一般に、マスクに形成されたホ
ールパターンよりもラインパターンの方が多くの光を透
過するため、マスク（１１１）を透過する光の強度から
マスク（１１１）上で照明されているパターンがホール
系のパターンかライン系のパターンかを判別できる。す
なわち、マスク（１１１）を透過する光の光量が所定の
基準値以下の場合には、ホール系のパターンと判断し、
基準値以上の場合には、ライン系パターンと判断する。
そして、ホール系のパターンと判断された場合には、光
学フィルタ（１１６）を投影光学系（１１２）の瞳面近
傍に挿入する。一方、ライン系のパターンと判断された
場合には、瞳フィルターの光路への挿入を中止するとと
もに、オペレータに対して警告を出したり、露光を中止
したりする。これにより、光学フィルタ（１１６）の誤
使用が回避される。

【００１０】マスク（１１１）に対する照明条件毎に、
マスク（１１１）を透過する光の強度を計測した場合に
は、実際の露光状態でのマスク透過率を計測できる。す
なわち、マスクブラインド毎にマスクへの光の照射量が
異なるため、各マスクブラインド毎に基準値を設定し、
これに基づいて光フィルタ（１１６）の使用、不使用を
判断する。これにより、１枚のマスクを複数の領域に分
割して使用するような場合にも、それぞれの露光パター
ンに応じて瞳フィルターの使用、不使用を的確に切り替
えることが出来る。

【００１１】

【発明の実施の態様】以下、本発明の実施の形態を実施
例を参照して説明する。本実施例は、半導体製造用の投
影露光装置に本発明を適用したものである。

【００１２】

【実施例】図１は、本発明の第１実施例にかかる投影露
光装置を示す。以下、この投影露光装置を露光光の光路
に沿って説明する。高圧水銀灯１００から射出された光
は、楕円鏡１０１によってレンズ１０２に入射する。レ
ンズ１０２を透過した光は、ロータリーシャッタ１０３
によって、通過及び遮断が制御されるようになってい
る。ロータリーシャッター１０３を通過した光は、イン
プット光学系１０４を介してフライアイレンズ１０５に
入射する。フライアイレンズ１０５に入射した光は、フ
ライアイレンズ１０５の複数のレンズエレメントによっ
て分割され、各レンズエレメントの各々の射出側に２次
光源像が形成される。すなわち、フライアイレンズ１０
５の射出側には、レンズエレメントの数と同じ数の点光
源像が分布し、これら複数の点光源像によって１つの面
光源像が形成される。フライアイレンズ１０５の射出側
には、面光源像の大きさを調整する照明系開口絞り１０
６が配置されている。照明系開口絞り１０６を透過した
光は、第１リレーレンズ１０７を介して結像式ブライン
ド１０８の矩形開口部を均一な照度分布で照射する。

【００１３】照明系開口絞り１０６を透過した光は、第
２リレーレンズ１０９、メインコンデンサーレンズ１１
０を介して、レチクル１１１上のパターン１１１Ａを照
明する。ここで、照明系開口絞り１０６の矩形開口面と
レチクル１１１のパターン面とは、リレーレンズ１０９
とメインコンデンサレンズ１１０の合成系によって、互
いに共役に配置され、照明系ブラインド１０８の矩形開
口の像が、レチクル１１１のパターン面内に形成された
矩形パターン形成領域を含むように結像される。レチク
ル１１１を透過した光は、投影レンズ１１２によって、
ウェハステージ１１３上に載置されたウエハ１１４上に
集光する。すなわち、レチクル１１１のパターン１１１
Ａの像がレジスト塗布済みのウェハ１１４上に転写され
る。ウェハステージ１１３上には光強度センサー１２１
が設けられており、投影レンズ１１２を通過した光の強
度を計測できるようになっている。光強度センサー１２
１の感光部分は、露光フィールド全体の大きさをもって
おり、ウェハステージ１１３の駆動により、投影レンズ
１１２の露光フィールドの位置に移動可能に構成されて
いる。

【００１４】投影レンズ１１２の瞳面Ｐの近傍には、可
変式のＮＡ開口絞り１１５と、光路中に出し入れ可能な
遮光部材１１６が設けられており、フィルタ駆動装置１
３０（図２参照）により、所定のＮＡの設定や、瞳フィ
ルター１１６の光路への出し入れの設定が可能となって
いる。

【００１５】図２は、本実施例のフィルタ駆動に関する
制御系を示す。遮光部材１１６を駆動するフィルタ駆動
装置１３０は、制御装置１３２によってコントロールさ
れる。制御装置１３２は、光強度センサ１２１からの計
測値を入力すると共に、キーボードやネットワーク等の
入力装置１３４から供給されるパターン形状およびパタ
ーンサイズに関するデータを入力可能となっている。記
憶装置１３６は、光強度センサ１２１や入力装置１３４
等から制御装置１３２に供給されるデータを保持する。
記憶装置１３６は、比較回路１３８における比較動作に
使用される瞳フィルター使用透過率閾値を記憶する。比
較回路１３８は、光強度センサ１２１の計測結果から求
められるレチクル１１１の透過率と、記憶装置１３６に
記憶させている透過率閾値とを比較するようになってい
る。

【００１６】制御装置１３２は、使用するレチクル１１
１がホールパターンである場合には、フィルタ駆動装置
１３０を介して遮光部材１１６を光路中の所定の位置に
配置し、ホール系パターン以外（ライン系パターン）の
場合には、遮光部材１１６を光路外の所定の位置に待避
させる。また、装置のキャリブレーションや投影レンズ
１１２への光の照射量のチェック等で遮光部材１１６が
不要、ないしは悪影響を与える場合にも、フィルタ駆動
装置１３０を介して遮光部材１１６を光路外の所定の位
置に移動させる。

【００１７】以下、遮光部材１１６の駆動制御について
更に具体的に説明する。レチクル１１１を光軸上の所定
の位置にセットするに際し、制御装置１３２は、ファイ
ルとして記憶装置１３６（コンピュータのディスク装
置）に格納されたデータに従い、レチクルブラインド開
口の設定を行う。次に、光強度センサー１２１を計測位
置に移動し、投影レンズ１１２を介して照射される光の
強度を計測する。同一レチクルで複数のレチクルブライ
ンド設定を行って露光する場合には、各々の開口設定毎
に光強度計測を行う。この計測時には、制御装置１３２
は、遮光部材１１６を光路外の所定の位置に待避させる
ようにフィルタ駆動装置１３０を制御する。この操作を
レチクルが無い状態とレチクルがある状態に対してそれ
ぞれ行い、各ブラインド開口でのレチクル１１１の光透
過率を以下のように求める。透過率＝（レチクルセット時の光強度）／（レチクル非
セット時の光強度）

【００１８】そして、求めた透過率と、予め記憶装置１
３６に記憶させている瞳フィルター使用透過率閾値と
を、比較回路１３８で比較する。そして、実際のレチク
ル透過率が閾値より小さい場合には、ホール系のパター
ンと判断し、瞳フィルターの使用を許可する。一方、実
際のレチクル透過率が閾値（例えば１０％）より大きい
場合には、ホール系のパターンでないと判断し、瞳フィ
ルターの使用を禁止する。なお、瞳フィルターの使用許
可は、記憶装置１３６に記憶された露光条件設定ファイ
ルに瞳フィルターの使用が記述されている場合にのみ有
効であり、露光条件設定ファイルに瞳フィルターの使用
が記述されていない場合には、レチクル透過率が閾値よ
り小さい場合でも瞳フィルターは使用しない。

【００１９】上記のような機能により、同一レチクルに
多種のパターンが描画されており、ブラインド設定によ
り特定のブラインド設定のみホールパターン用の露光を
行うような場合にも、そのブラインド設定時のみ瞳フィ
ルター（遮光部材１１６）を使用し、残りのブラインド
設定では瞳フィルターを使用しない設定にすることも可
能である。また、一連のブラインド設定で一つでもレチ
クルの光透過率が高い状態があれば、全てのブラインド
設定に対して瞳フィルターを使用しない設定にすること
も可能である。

【００２０】以上説明したように、本実施例によれば、
中心遮光型瞳フィルターを使用する場合に、ライン系の
パターンの露光において、瞳フィルターの誤使用を防止
することができる。また、同一のレチクル内に遮光帯で
区切られたホールパターンとライン系のパターンの両方
が描画されており、それぞれをブラインド設定により別
のレイヤーに露光を行うような場合にも、露光用データ
ファイルの記述に従って、露光に使用するブラインド開
口位置の透過率を計測するため、従来のように、レチク
ルの種類により瞳フィルター使用の有無を決定する場合
のような不具合がない。なお、上記閾値は一つの値を全
ての条件に対して用いても良いし、また、ハーフトーン
レチクルのようにある程度光を透過するレチクルと、そ
の他のレチクルとの間で区別を行っても良い。この場合
には、レチクルタイプは記憶装置１３６に記憶された露
光条件ファイルから読み込んでもよいし、レチクルバー
コードリーダー等（入力装置１３４）から読み込んでも
よい。なお、上記実施例では光源を高圧水銀灯とした
が、エキシマレーザ等のレーザ光源としてもよい。ま
た、投影光学系はレンズを用いるとしたが、反射鏡を用
いたものでもよい。

【００２１】図３は、本発明の第２実施例にかかる投影
露光装置の構成を示す。本実施例は、上記第１実施例の
瞳フィルタ（１１５，１１６）の構成を改良したもので
あり、２枚の平行平面板２０１，２０２を使用してい
る。また、他の多くの構成は基本的には共通であるた
め、重複した説明はせず、相違部分についてのみ詳細に
説明する。

【００２２】投影レンズ１１２の瞳面Ｐ上には、透明な
平行平面板２０１、２０２が設けられている。図４は、
平行平面板２０１、２０２の断面の様子を示す。平行平
面板２０１、２０２の中心部分（遮光部分）には、それ
ぞれ位相型回折格子が設けられている。この回折格子
は、互いにピッチが等しく、そのデューティが１／２で
あるような、互いに平行な位相型回折格子である。な
お、回折格子のピッチが粗い場合には回折光が露光エリ
アの他の部分に到達する可能性があるため、極力微細で
あることが望ましい。平行平面板２０１の回折格子部分
は、透過光の位相が変化しない部分Ａと、位相がπ／２
遅れる部分Ｂとから構成されている。また、平行平面板
２０２の回折格子部分も、透過光の位相が変化しない部
分ａと、それに対して位相がπ／２進む部分ｂとから構
成されている。

【００２３】平行平面板２０１には回折格子のピッチ方
向と垂直な方向への平行駆動機構２０３と、照明光の光
軸に関しての回転駆動機構２０４が設けられている。な
お、平行平面板２０１及び２０２の移動量は微少である
ため、平行駆動機構２０３と回転駆動機構２０４として
は、マイクロヘッドやピエゾ素子等を用いることが出来
る。

【００２４】次に、平行平面板２０１，２０２の相対位
置による、遮光状態（透過状態）の変化について説明す
る。図４（１）に示すように、２枚の平行平面板２０
１、２０２が、部分Ａと部分ａ、部分Ｂと部分ｂとがそ
れぞれ重なるように配置された場合には、位置Ｋ、Ｌ、
Ｍを通過する光の位相はそれぞれ図５に示すようにな
る。このように、全ての位置Ｋ、Ｌ、Ｍで透過光の位相
が等しくなり、位相変化は生じない。従って、全ての領
域で光が透過し、瞳フィルタとしては機能しない。

【００２５】一方、図４（２）に示すように、図４
（１）の状態から平行平面板２０１を回折格子のピッチ
の１／２だけ横にシフトし、部分Ａとｂ、Ｂとａとがそ
れぞれ重なるように配置した場合には、位置Ｋ’、
Ｌ’、Ｍ’を通過する光の位相は、それぞれ図６に示す
ようになる。このように、位置Ｋ’とＬ’の間で透過光
の位相差がπとなり、通過する光は回折されるので、回
折格子部分が遮光部として作用することになる。

【００２６】本実施例においては、投影レンズ１１２の
瞳面における確実なフィルタリングを行うために、平行
平面板２０１と２０２の相対的な位置関係が正しく調整
されている必要がある。そこで、平行駆動機構２０３及
び回転駆動機構２０４の制御が重要になる。図７は、上
述した平行駆動機構２０３及び回転駆動機構２０４の制
御系の構成を示す。平行駆動機構２０３及び回転駆動機
構２０４は、光強度センサ１２１からの信号等に基づ
き、制御装置１３２によって以下のように制御される。

【００２７】先ず、瞳フィルターとして遮光部となる領
域のみが照射されるような照明系開口絞り１０６を選択
し、レチクル１１１が無い状態で投影レンズ１１２を通
過する光量を光強度センサー１２１により計測する。次
に、制御装置１３２は、平行平面板２０１を平行駆動手
段２０３により移動させながら、センサー１２１の出力
をモニターする。この時、瞳フィルターの効果を必要と
しない場合には、制御装置１３２は、光量センサー１０
５の出力（通過光量）が最大になる位置に、平行駆動機
構２０３を介して平行平面板２０１を移動させる。ま
た、遮光型のフィルターとして使用する場合には、通過
光量が最小になる位置に平行平面板２０１を移動する。
また、平行平面板２０１、２０２が互いに回転方向にず
れていると、回折格子部全面で平行平面板２０１と２０
２の位置関係が等しくならないため、制御装置１３２
は、同様にセンサー１２１の出力が最大または最小にな
るように平行平面板２０１を回転させる。これにより、
完全な平面板（遮光無し）の状態、および部分的に遮光
する状態の両方を実現することができる。

【００２８】図８は本発明の第３実施例にかかる投影露
光装置に用いられる瞳フィルターの構成を示す。この瞳
フィルタは、２枚の平行平面板３０１，３０２から構成
される。なお、瞳フィルタ以外の構成は、上記第２実施
例と共通のものを使用することが出来る。各平行平面板
３０１，３０２は、図に示すように、それぞれ位相型回
折格子が設けられた中心部３０１ａ、３０２ａと中間部
３０１ｂ、３０２ｂ、及び回折格子が形成されていない
外周部３０１ｃ、３０２ｃとから構成されている。中心
部３０１ａ、３０２ａの回折格子と、中間部３０１ｂ、
３０２ｂの回折格子は互いに直交する方向に配置されて
いる。各位相型回折格子は、互いにピッチが等しく、そ
のデューティが１／２であるような、互いに平行な位相
型回折格子である。また、平行平面板３０１の回折格子
部分は、透過光の位相が変化しない部分Ａと、位相がπ
／２遅れる部分Ｂとから構成されている。一方、平行平
面板３０２の回折格子部分は、透過光の位相が変化しな
い部分ａと、位相がπ／２進む部分ｂとから構成されて
いる。

【００２９】本実施例において、瞳フィルタ（３０１，
３０２）の各位置での透過状態は中心部３０１ａ、３０
２ａと中間部３０１ｂ、３０２ｂの回折格子の上下の重
なり具合によって変わってくる。以下、中心部に位置
Ｑ、Ｒをとり、中間部に位置Ｓ、Ｔをとり、外周部に位
置Ｕをとった場合の各位置での光の透過状態（遮光状
態）について３つの異なるケースに分けて説明する。

【００３０】まず、図９（１）、（２）に示すように、
中心部（３０１ａ、３０２ａ）中の位置Ｑ，Ｓにおいて
Ａとａが重なり、中間部（３０１ｂ、３０２ｂ）中の位
置Ｒ，ＴにおいてＢとｂとが重なるような配置にする。
なお、図９（１）と（２）は、瞳フィルタ（３０１，３
０２）の互いに直交する方向の断面を示すものとする。
このとき、各位置Ｑ〜Ｕを通過する光の位相は、図１０
のように、全ての位置Ｑ〜Ｕにおいて位相が等しく、瞳
フィルタ（３０１，３０２）は単純な平行平面板として
作用することになる。図１１は、この様な状態を模式的
に示したものであり、中心部（３０１ａ、３０２ａ）、
中間部（３０１ｂ、３０２ｂ）及び外周部（３０１ｃ、
３０２ｃ）の全ての領域で光が透過する状態を、白抜き
で表示してある。

【００３１】次に、回折格子３０１をＸ方向に１／２ピ
ッチ分移動し、図１２に示すように、位置ＱでＡとｂ、
位置ＲでＢとａが重なるようにする。なお、図１２
（１）と（２）は、瞳フィルタ（３０１，３０２）の互
いに直交する方向の断面を示すものとする。この時、位
置Ｓ、Ｔでの重なり方は変化しない。このため、各位置
Ｑ〜Ｕを通過する光の位相は、図１３に示すように、中
心部分（３０１ａ，３０２ａ）のみで±π／２の位相差
が生じ、位相差回折格子として作用し、中心部（３０１
ａ，３０２ａ）のみ遮光効果をもつ中心遮光型フィルタ
ーとなる。図１２は、この様な状態を模式的に示したも
のであり、中心部（３０１ａ、３０２ａ）で光が遮光さ
れる状態を斜線で示し、中間部（３０１ｂ、３０２ｂ）
及び外周部（３０１ｃ、３０２ｃ）で光が透過する状態
を白抜きで表示してある。

【００３２】次に、回折格子３０１をＸ，Ｙ両方向に１
／２ピッチ分移動し、図１５に示すように、位置Ｑ，Ｓ
でＡとｂ、位置Ｒ，ＴでＢとａが重なるようにする。な
お、図１５（１）と（２）は、瞳フィルタ（３０１，３
０２）の互いに直交する方向の断面を示すものとする。
この時、各位置Ｑ〜Ｕを通過する光の位相は、図１６に
示すように、中心部分（３０１ａ，３０２ａ）及び中間
部（３０１ｂ，３０２ｂ）の両方の領域で±π／２の位
相差が生じ、両領域が位相差回折格子として作用し、中
心部（３０１ａ，３０２ａ）及び中間部（３０１ｂ，３
０２ｂ）で遮光効果をもつ中心遮光型フィルターとな
る。図１７は、この様な状態を模式的に示したものであ
り、中心部（３０１ａ、３０２ａ）及び中間部（３０１
ｂ、３０２ｂ）で光が遮光される状態を斜線で示し、外
周部（３０１ｃ、３０２ｃ）で光が透過する状態を白抜
きで表示してある。

【００３３】以上のように本実施例の瞳フィルタ（３０
１，３０２）を用いることにより、中心遮光部の径を２
段階に変更することができる。また、同様に、Ｙ方向に
のみ平行平面板３０１を移動すれば、輪帯状の遮光部を
形成することも可能である。なお、上記の平行平面板３
０１，３０２の移動は、第２実施例と同様に平行駆動機
構２０３及び回転駆動機構２０４によって行われる。ま
た、各平行平面板３０１，３０２の位置の計測について
も、第２の実施例と同様に行うことができる。なお、上
述の説明では、平行平面板３０１のみを駆動している
が、これに代えて、平行平面板３０２をＸ，Ｙ方向に駆
動するように構成しても良い。また、上記第２及び第３
実施例においては、一方の平行平面板のみ移動および回
転可能としたが、一方の平行平面板には平行移動機構、
もう一方の平行平面板には回転機構を持たせてもよい。

【００３４】以上、本発明を実施例に基づいて説明した
が、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、特
許請求の範囲に示された本発明の技術的思想としての要
旨を逸脱しない範囲で変更が可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明の第１実施例にかかる投影露光
装置の構成を示す概念斜視図である。

【図２】図２は、第１実施例の制御系の構成の一部を示
すブロック図である。

【図３】図３は、本発明の第２実施例にかかる投影露光
装置の構成を示す概念斜視図である。

【図４】図４は、第２実施例の要部を示す断面図であ
る。

【図５】図５は、第２実施例の作用を示す表である。

【図６】図６は、第２実施例の作用を示す表である。

【図７】図７は、第２実施例の制御系の構成の一部を示
すブロック図である。

【図８】図８は、本発明の第３実施例にかかる瞳フィル
タの構成を示す概念斜視図である。

【図９】図９（１），（２）は、第３実施例の作用を説
明するための断面図である。

【図１０】図１０は、図９の状態における第３実施例の
作用を示す表である。

【図９】図９は、図７の状態における第２実施例の作用
を示す模式図である。

【図１２】図１２（１），（２）は、第３実施例の作用
を説明するための断面図である。

【図１３】図１３は、図１２の状態における第３実施例
の作用を示す表である。

【図１４】図１４は、図１２の状態における第３実施例
の作用を示す模式図である。

【図１５】図１５（１），（２）は、第３実施例の作用
を説明するための断面図である。

【図１６】図１６は、図１５の状態における第３実施例
の作用を示す表である。

【図１７】図１７は、図１５の状態における第３実施例
の作用を示す模式図である。

【符号の説明】

１１１・・・レチクル１１２・・・投影レンズ１１４・・・ウエハ１１５・・・１１６・・・遮光部材１２１・・・光強度センサ１３０・・・フィルタ駆動装置１３２・・・制御装置１３４・・・入力装置１３６・・・記憶装置１３８・・・比較回路Ｐ・・・瞳面

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【手続補正書】

【提出日】平成８年１０月１日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】図面の簡単な説明

【補正方法】変更

【補正内容】

【図面の簡単な説明】

【図４】図４は、第２実施例の要部を示す断面図であ
る。

【図５】図５は、第２実施例の作用を示す表である。

【図６】図６は、第２実施例の作用を示す表である。

【図１１】図１１は、図９の状態における第３実施例の
作用を示す模式図である。

【符号の説明】１１１・・・レチクル１１２・・・投影レンズ１１４・・・ウエハ１１５・・・１１６・・・遮光部材１２１・・・光強度センサ１３０・・・フィルタ駆動装置１３２・・・制御装置１３４・・・入力装置１３６・・・記憶装置１３８・・・比較回路Ｐ・・・瞳面

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】マスクのパターンを投影光学系を介して
感光基板上に転写する投影露光装置において、前記投影光学系の瞳面近傍に挿脱可能に設けられた光学
フィルタと；前記マスクの光の透過率を計測する計測手
段と；前記計測手段の出力に基づいて、前記光学フィル
タの挿脱を制御する制御手段とを備えたことを特徴とす
る投影露光装置。
【請求項２】前記計測手段による計測値を所定の閾値
と比較する比較手段を更に備え、前記制御手段は、前記比較手段による比較の結果、前記
計測値が前記所定の閾値よりも小さい場合にのみ、前記
光学フィルタを前記瞳面近傍に設置することを特徴とす
る請求項１に記載の投影光学装置。
【請求項３】前記計測手段は、前記マスクに対する照
明条件毎に、前記強度を計測することを特徴とする請求
項１又は２に記載の投影露光装置。
【請求項４】前記計測手段は、前記マスクが存在しな
い場合の前記投影光学系を透過する光の強度に対する、
前記マスクを介して前記投影光学系を透過する光の強度
の相対的な値を計測値として求めることを特徴とする請
求項１又は２に記載の投影露光装置。