JPH1038920A - Probe unit - Google Patents
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- JPH1038920A JPH1038920A JP19876396A JP19876396A JPH1038920A JP H1038920 A JPH1038920 A JP H1038920A JP 19876396 A JP19876396 A JP 19876396A JP 19876396 A JP19876396 A JP 19876396A JP H1038920 A JPH1038920 A JP H1038920A
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Landscapes
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばICなどの
電子部品の電気的特性を検出するプローブユニットに関
する。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a probe unit for detecting electrical characteristics of an electronic component such as an IC.
【0002】[0002]
【従来の技術】例えば、各種半導体素子などのデバイス
部品の電気的特性を検出するのにプローブユニットが使
用される。従来のプローブユニットの例を図5に示す。
図5において、アクリル樹脂や芳香族ポリエステル等か
らなる絶縁体のパイプ支持基台43には機械加工によっ
て孔43aが形成されている。孔43aの内面にはプロ
ーブ50が設けられている。プローブ50は、外周にパ
イプ42を有しており、このパイプ42が孔43aを貫
通し、かつ、パイプ42の外周面が孔43aの内周面に
固定されている。パイプ42の下側の外周面には上下2
箇所に周溝42a、42bが絞り加工によって形成され
ており、この周溝42a、42bの形成によりパイプ4
2の内周面に凸部が生じている。2. Description of the Related Art For example, a probe unit is used to detect electrical characteristics of device components such as various semiconductor elements. FIG. 5 shows an example of a conventional probe unit.
In FIG. 5, holes 43a are formed by machining in an insulating pipe support base 43 made of an acrylic resin, aromatic polyester, or the like. A probe 50 is provided on the inner surface of the hole 43a. The probe 50 has a pipe 42 on the outer periphery, the pipe 42 penetrates the hole 43a, and the outer peripheral surface of the pipe 42 is fixed to the inner peripheral surface of the hole 43a. The upper and lower 2
Peripheral grooves 42a and 42b are formed at locations by drawing, and by forming these peripheral grooves 42a and 42b, the pipe 4
A convex portion is formed on the inner peripheral surface of No. 2.
【0003】上記パイプ42の内部にはスプリング45
が挿入されている。スプリング45の下端部は周溝42
aの形成によって生じた凸部と当接しており、この凸部
によって下方に落下することなく支持されている。ま
た、パイプ42の内部で、かつ、周溝42aによって生
じた凸部の下側の部分には円筒状のコネクタ46が圧入
固定されている。さらに、パイプ42の上端側からはプ
ローブピン41が挿入されている。プローブピン41
は、半導体素子などのデバイス部品の端子やチェックラ
ンド等につき当てられる部品であり、上端部がパイプ4
2より上側に突出し、しかも、尖った形状となってい
る。また、プローブピン41のパイプ42内に位置する
下端部は、スプリング45の一端と当接して保持されて
いる。このため、プローブピン41をスプリング45の
弾性力に抗し下側に付勢すると、プローブピン41は下
方、即ち、パイプ42内に沈み込むようになっている。
なお、プローブピン41の下端部からはリード線44が
引き出されている。リード線44は、スプリング45と
パイプ46の内周に挿通されると共に、パイプ42の下
側から外部に引き出されて、図示しない特性評価装置に
接続されている。このため、プローブピン41から検出
されるデバイスの信号は、リード線44によって特性評
価装置に送られるような構成となっている。A spring 45 is provided inside the pipe 42.
Is inserted. The lower end of the spring 45 is the circumferential groove 42
The protrusion a is brought into contact with the protrusion a, and is supported by the protrusion without falling down. Further, a cylindrical connector 46 is press-fitted and fixed inside the pipe 42 and below the convex portion formed by the peripheral groove 42a. Further, a probe pin 41 is inserted from the upper end side of the pipe 42. Probe pin 41
Is a part to be applied to a terminal or a check land of a device part such as a semiconductor element.
It protrudes above 2 and has a sharp shape. The lower end of the probe pin 41 located inside the pipe 42 is held in contact with one end of a spring 45. Therefore, when the probe pin 41 is biased downward against the elastic force of the spring 45, the probe pin 41 sinks downward, that is, into the pipe.
Note that a lead wire 44 is drawn out from the lower end of the probe pin 41. The lead wire 44 is inserted through the spring 45 and the inner circumference of the pipe 46, is drawn out from the lower side of the pipe 42, and is connected to a characteristic evaluation device (not shown). Therefore, a device signal detected from the probe pin 41 is sent to the characteristic evaluation device via the lead wire 44.
【0004】以上のような構成のプローブ50はパイプ
支持基台43上に複数設けられている。このような、パ
イプ支持基台43とパイプ支持基台43上に複数設けら
れたプローブ50によりプローブユニットが構成されて
いる。A plurality of probes 50 having the above-described configuration are provided on a pipe support base 43. A probe unit is constituted by such a pipe support base 43 and a plurality of probes 50 provided on the pipe support base 43.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】以上のように従来のプ
ローブユニットは、アクリル樹脂や芳香族ポリエステル
等からなるパイプ支持基台43上に機械加工等で複数の
孔を形成し、この複数の孔に対してプローブ50を複数
ピン配列することによって形成されている。近年、デバ
イス部品の小型化に伴い、パイプ支持基台43に形成さ
れる孔43aの相互間隔および孔43aの径寸法等も小
型化してプローブ50の配置密度が高くなる傾向にある
が、機械加工等では孔43aの小径化に限界があり、あ
る一定の大きさまでしか形成することはできない。な
お、パイプ支持基台43の厚さを薄くすることにより孔
43aの小型化をさらに押し進めることができるが、そ
の反面、パイプ42の外周面とパイプ支持基台43の接
触部分が小さくなるため、プローブ50の直角度が悪化
してしまう。As described above, in the conventional probe unit, a plurality of holes are formed on a pipe support base 43 made of acrylic resin, aromatic polyester or the like by machining or the like, and the plurality of holes are formed. The probe 50 is formed by arranging a plurality of pins. In recent years, with the miniaturization of device components, the mutual spacing of the holes 43a formed in the pipe support base 43 and the diameter and the like of the holes 43a have also been reduced, and the arrangement density of the probes 50 has tended to increase. In such cases, there is a limit in reducing the diameter of the hole 43a, and the hole 43a can be formed only up to a certain size. The thickness of the pipe support base 43 can be reduced to further reduce the size of the hole 43a. However, on the other hand, the contact portion between the outer peripheral surface of the pipe 42 and the pipe support base 43 is reduced. The perpendicularity of the probe 50 is deteriorated.
【0006】また、デバイス部品等のベースの材質とし
ては一般的にシリコン、ガラス等が用いられるが、プロ
ーブユニットのパイプ支持基台43には材質としてアク
リル樹脂や芳香族ポリエステル等の絶縁体が使用され
る。このようなデバイス部品等の基板とパイプ支持基台
43は熱膨張係数が同じではなく、パイプ支持基台43
の方が熱膨張係数が高く、反り等が生じやすい。したが
って、パイプ支持基台43が反ることにより、プローブ
50のデバイス部品等との接触部分にずれが生じ計測不
能に陥ることがあった。In general, silicon, glass or the like is used as a material of a base of a device component or the like, but an insulator such as an acrylic resin or an aromatic polyester is used as a material for a pipe support base 43 of a probe unit. Is done. The substrate such as the device component and the pipe support base 43 do not have the same thermal expansion coefficient.
Has a higher coefficient of thermal expansion and tends to be warped. Therefore, when the pipe support base 43 is warped, a contact portion of the probe 50 with a device component or the like may be shifted and measurement may not be possible.
【0007】さらに、上記プローブユニットに設けられ
た複数のプローブ50にはそれぞれリード44が設けら
れているが、リード44が多数配線された形態となるた
め、コスト高であるし、ノイズが入りやすく、プローブ
ピン41より検出される信号に悪影響を及ぼしていた。Further, the plurality of probes 50 provided in the probe unit are provided with the leads 44, respectively. However, since the leads 44 are wired in a large number, the cost is high and noise is likely to enter. And the signal detected from the probe pin 41 was adversely affected.
【0008】本発明は以上のような従来技術の問題点を
解消するためになされたもので、半導体デバイス等の検
出対象部材の小型化に対応でき、かつ、熱膨張係数の違
いによる接触不良や、ノイズを解消した、プローブユニ
ットを提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and can cope with downsizing of a member to be detected such as a semiconductor device. It is an object of the present invention to provide a probe unit that eliminates noise.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
電子部品の電気特性を検出するプローブピンと、プロー
ブピンを保持するパイプと、パイプが挿入されるパイプ
支持基台とを有するプローブユニットであって、パイプ
支持基台は感光性ガラスにより形成されていることを特
徴とする。According to the first aspect of the present invention,
A probe unit having a probe pin for detecting electrical characteristics of an electronic component, a pipe holding the probe pin, and a pipe support base into which the pipe is inserted, wherein the pipe support base is formed of photosensitive glass. It is characterized by the following.
【0010】請求項2記載の発明は、上記パイプが導体
であり、パイプ支持基台には、上記パイプと導通し上記
プローブピンからの出力を外部に導く導電パターンが形
成されていることを特徴とする。The invention according to claim 2 is characterized in that the pipe is a conductor, and a conductive pattern is formed on the pipe support base to conduct the output from the probe pin to the outside by conducting with the pipe. And
【0011】請求項3記載の発明は、電子部品の電気特
性を検出するプローブピンと、プローブピンが挿入され
プローブピンが摺動自在に支持されるプローブピン支持
基台とを有するプローブユニットであって、プローブピ
ン支持基台は感光性ガラスにより形成されていることを
特徴とする。According to a third aspect of the present invention, there is provided a probe unit having a probe pin for detecting an electrical characteristic of an electronic component, and a probe pin support base on which the probe pin is inserted and the probe pin is slidably supported. The probe pin support base is formed of photosensitive glass.
【0012】請求項4記載の発明は、請求項3記載の発
明において、プローブピン支持基台と平行な位置には、
感光性ガラスからなり、かつ、受け部材が設けられた受
け部材支持基台が設けられており、プローブピンと受け
部材の間には付勢部材が介在されていることを特徴とす
る。According to a fourth aspect of the present invention, in the third aspect of the present invention, at a position parallel to the probe pin support base,
A receiving member support base made of photosensitive glass and provided with a receiving member is provided, and an urging member is interposed between the probe pin and the receiving member.
【0013】請求項5記載の発明は、請求項4記載の発
明において、受け部材が導体であり、受け部材支持基台
にはプローブピンからの出力を外部に導くパターンが形
成されていることを特徴とする。According to a fifth aspect of the present invention, in the fourth aspect, the receiving member is a conductor, and the receiving member supporting base is formed with a pattern for guiding the output from the probe pin to the outside. Features.
【0014】請求項6記載の発明は、請求項4記載の発
明において、受け部材が導体からなり、しかも、受け部
材支持基台を貫通して上記プローブピン支持基台とは反
対側に突出した突出部を有しており、突出部の先端部が
受け部材支持基台と平行な感光性ガラスからなる配線基
板の表面に設けられた導電パターンと接続されているこ
とを特徴とする。According to a sixth aspect of the present invention, in the fourth aspect of the present invention, the receiving member is made of a conductor, and penetrates the receiving member support base and protrudes to the opposite side from the probe pin support base. It has a protruding part, and the tip of the protruding part is connected to a conductive pattern provided on the surface of a wiring board made of photosensitive glass parallel to the receiving member support base.
【0015】請求項7記載の発明は、請求項3記載の発
明において、プローブピン支持基台と平行な位置には感
光性ガラスからなる付勢部材支持基台が設けられ、プロ
ーブピンと付勢部材支持基台の間には付勢部材が介在さ
れると共に、付勢部材は上記付勢部材支持基台に設けら
れた導電パターンと接続されていることを特徴とする。According to a seventh aspect of the present invention, in the third aspect of the present invention, an urging member supporting base made of photosensitive glass is provided at a position parallel to the probe pin supporting base. An urging member is interposed between the support bases, and the urging member is connected to a conductive pattern provided on the urging member support base.
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】以下、本発明にかかるプローブユ
ニットの実施の形態について図面を参照しながら説明す
る。図1において、感光性ガラスからなり、しかも、適
宜の形状の導電パターンが形成されたパイプ支持基台3
には孔3aが設けられている。孔3aの形成位置に導電
パターンの端部が位置しており、しかも、導電パターン
の端部は孔3aの内周面まで及んでいる。このような、
孔3aの内面にはパイプ5が通され、かつ、固定されて
いる。なお、パイプ5は導電性の材質から形成されてい
るため、パイプ支持基台3に形成された導電パターンは
パイプ5と電気的に接続されている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of a probe unit according to the present invention will be described with reference to the drawings. In FIG. 1, a pipe support base 3 made of photosensitive glass and having a conductive pattern of an appropriate shape formed thereon.
Is provided with a hole 3a. The end of the conductive pattern is located at the position where the hole 3a is formed, and the end of the conductive pattern extends to the inner peripheral surface of the hole 3a. like this,
A pipe 5 is passed through and fixed to the inner surface of the hole 3a. Since the pipe 5 is formed from a conductive material, the conductive pattern formed on the pipe support base 3 is electrically connected to the pipe 5.
【0017】パイプ5の、パイプ支持基台3より下側の
外周面には上下2箇所に、周溝2a、2bが絞り加工に
よって設けられている。パイプ5の外周面に周溝2a、
2bを設けることにより、パイプ5の内周面の上記周溝
2a、2bと同じ位置には、凸部が生じている。このよ
うなパイプ5の内周面の、周溝2aの形成によって生じ
た凸部には、コイル状のスプリング5の一端が当接して
いる。スプリング5は、周溝2aの形成によって生じた
凸部によって下方に落下することなく支持されている。
スプリング5の上端には、プローブピン1が当接してい
る。プローブピン1の上側の部分はパイプ5より上方に
突出しており、しかも、デバイス部品等につき当てられ
る上端部は尖った形状となっている。また、プローブピ
ン1はスプリング5の一端に当接しているため、プロー
ブピン1をスプリング5の弾性力に抗して押すことによ
り、プローブピン1は下方に沈み込むようになってい
る。また、下方に沈み込んだプローブピン1は、スプリ
ング5の弾性力によって、元の位置に復帰できるように
なっている。図示されていないが、適宜のストッパによ
ってプローブピン1がパイプ5から脱落するのを防止し
ている。スプリング5及びプローブピン1は、導電性の
部材から構成されており、スプリング5の一端は周溝2
aの形成によって生じた凸部で常にパイプ5と接触して
いる。このため、パイプ支持基台3上に設けられた導電
パターンは、パイプ2、スプリング5を介して、プロー
ブピン1と電気的に接続されている。したがって、プロ
ーブピン1をデバイス部品等につき当てることによって
検出される信号は、スプリング5、パイプ2を介してパ
イプ支持基台3上の導電パターンに導かれると共に、パ
イプ支持基台3上の導電パターンから図示しない特性評
価装置へ導かれる。On the outer peripheral surface of the pipe 5 below the pipe support base 3, two circumferential grooves 2a and 2b are formed by drawing at upper and lower locations. A circumferential groove 2a on the outer peripheral surface of the pipe 5,
By providing 2b, a convex portion is formed on the inner peripheral surface of the pipe 5 at the same position as the peripheral grooves 2a, 2b. One end of the coil-shaped spring 5 is in contact with a projection formed on the inner peripheral surface of the pipe 5 by the formation of the peripheral groove 2a. The spring 5 is supported without falling downward by a convex portion formed by the formation of the circumferential groove 2a.
The probe pin 1 is in contact with the upper end of the spring 5. The upper portion of the probe pin 1 protrudes above the pipe 5, and the upper end applied to a device component or the like has a pointed shape. Further, since the probe pin 1 is in contact with one end of the spring 5, the probe pin 1 sinks downward by pushing the probe pin 1 against the elastic force of the spring 5. Further, the probe pin 1 that has sunk downward can be returned to the original position by the elastic force of the spring 5. Although not shown, the probe pin 1 is prevented from dropping from the pipe 5 by an appropriate stopper. The spring 5 and the probe pin 1 are made of a conductive member.
The protrusion formed by the formation of a is always in contact with the pipe 5. For this reason, the conductive pattern provided on the pipe support base 3 is electrically connected to the probe pin 1 via the pipe 2 and the spring 5. Therefore, a signal detected by applying the probe pin 1 to a device component or the like is guided to the conductive pattern on the pipe support base 3 via the spring 5 and the pipe 2 and the conductive pattern on the pipe support base 3. To a characteristic evaluation device (not shown).
【0018】図1には、1本のプローブピン1が示され
ているだけであるが、検出あるいは測定対象によっては
多数のプローブピン1が所定の間隔で配置され、それぞ
れのプローブピン1によって検出された信号が評価され
るようになっている。Although FIG. 1 shows only one probe pin 1, a large number of probe pins 1 are arranged at predetermined intervals depending on an object to be detected or measured. The evaluated signal is evaluated.
【0019】次に、感光性ガラスからなるパイプ支持基
台3へ、パイプ2を取り付けるための孔3aの形成方法
について説明する。感光性ガラスからなるパイプ支持基
台3へ孔3aを形成するには、露光→現像(熱処理)→
エッチング→再露光の各工程を経る。Next, a method of forming the hole 3a for attaching the pipe 2 to the pipe support base 3 made of photosensitive glass will be described. In order to form the hole 3a in the pipe support base 3 made of photosensitive glass, exposure → development (heat treatment) →
It goes through each process of etching → re-exposure.
【0020】まず露光工程では、両面を研磨した感光性
ガラスに、形成すべき孔3aのパターンを描いたマスク
を載せ、このマスクが載せられた部分に紫外線を照射す
る。紫外線を照射することにより、感光性ガラス内にパ
ターンの像が潜像される。First, in the exposure step, a mask on which a pattern of the holes 3a to be formed is placed is placed on the photosensitive glass whose both surfaces are polished, and the portion on which the mask is placed is irradiated with ultraviolet rays. By irradiating with ultraviolet rays, a latent image of the pattern is formed in the photosensitive glass.
【0021】次の現像(熱処理)工程では、潜像が形成
された感光性ガラスに、例えば450〜600℃の温度
で熱処理を施し、前の露光工程で得られる潜像を現像す
る。このように熱処理を施すことにより、潜像部分が結
晶化し、酸に溶けやすくなる。In the next development (heat treatment) step, the photosensitive glass on which the latent image has been formed is subjected to a heat treatment at a temperature of, for example, 450 to 600 ° C. to develop the latent image obtained in the previous exposure step. By performing the heat treatment in this manner, the latent image portion is crystallized and easily dissolved in acid.
【0022】次のエッチング工程では、現像された部
分、即ち、熱処理によって結晶化された部分を酸によっ
て除去し、パイプ2が取り付けられる孔3aを形成す
る。この場合、孔3aの深さ等は、エッチングの時間を
変えることにより調整可能となっている。本発明では、
感光性ガラス基板を表裏貫通して孔3aが形成されるの
に充分な時間を掛けてエッチングを行う。In the next etching step, the developed portion, that is, the portion crystallized by the heat treatment is removed with an acid to form a hole 3a to which the pipe 2 is attached. In this case, the depth of the hole 3a can be adjusted by changing the etching time. In the present invention,
The etching is performed for a time sufficient for the holes 3a to be formed through the photosensitive glass substrate.
【0023】次の再露光工程では、感光性ガラスの未露
光部分にも紫外線を照射させ、例えば700〜750℃
の温度で再度熱処理を施すことにより物理的、化学的耐
久性の優れたガラスセラミックとなる。このような材料
に対して、例えば、スクリーン印刷等により導電パター
ンを引き回すことにより、完結したパイプ支持基台3が
形成される。In the next re-exposure step, unexposed portions of the photosensitive glass are irradiated with ultraviolet rays, for example, at 700 to 750 ° C.
By performing the heat treatment again at the above temperature, a glass ceramic having excellent physical and chemical durability can be obtained. A completed pipe support base 3 is formed by drawing a conductive pattern on such a material by, for example, screen printing or the like.
【0024】以上のような構成のプローブユニットによ
れば、パイプ2が支持されるパイプ支持基台3が感光性
ガラスからなり、しかも、パイプ支持基台3上に設けら
れた孔3aは、感光性ガラスに孔3aの形状およびその
配置パターンを描いたマスクを当てて紫外線によって露
光した後、熱処理によって露光部分(潜像部分)を結晶
化させて現像すると共に、結晶化した部分、すなわち、
現像された部分を酸でエッチングして形成されるため、
ストレート、即ち、導電パターン形成面に対して正確に
垂直に、しかも極めて高い寸法精度で形成される。ま
た、このような手法を用いて感光性ガラスからなるパイ
プ支持基台3に対して孔3aを形成することにより、高
い精度(垂直精度や寸法精度)を確保しながら極狭ピッ
チのかつ極小径の孔3aを形成することができるため、
パイプ支持基台3上へのプローブの配置密度を向上さ
せ、小型化されたデバイス部品にも十分対応することが
できる。According to the probe unit having the above-described configuration, the pipe support base 3 for supporting the pipe 2 is made of photosensitive glass, and the hole 3a provided on the pipe support base 3 is provided with a photosensitive member. After exposure to ultraviolet light by applying a mask depicting the shape and arrangement pattern of the holes 3a to the non-conductive glass, the exposed portion (latent image portion) is crystallized and developed by heat treatment, and the crystallized portion, that is,
Because it is formed by etching the developed part with acid,
It is formed straight, that is, exactly perpendicular to the conductive pattern forming surface, and with extremely high dimensional accuracy. Further, by forming the hole 3a in the pipe support base 3 made of photosensitive glass using such a method, it is possible to secure a high accuracy (vertical accuracy and dimensional accuracy) while maintaining an extremely narrow pitch and an extremely small diameter. Hole 3a can be formed,
It is possible to improve the arrangement density of the probes on the pipe support base 3 and sufficiently cope with miniaturized device parts.
【0025】また、デバイス部品等のベースの材質とし
てシリコンやガラスなどが用いられるが、プローブユニ
ットのパイプ支持基台3の材質を、デバイス部品のベー
スに近い感光性ガラスとしたため、デバイス部品とプロ
ーブユニットのパイプ支持基台3とでは熱膨張係数の差
が小さくなり、不安定接触を解消し、安定した計測がで
きるようになる。Silicon or glass is used as a material of the base of the device parts and the like. However, since the material of the pipe support base 3 of the probe unit is a photosensitive glass close to the base of the device parts, the device parts and the probe The difference in the coefficient of thermal expansion between the unit and the pipe support base 3 is reduced, so that unstable contact is eliminated and stable measurement can be performed.
【0026】また、上記プローブユニットはリード線を
有しておらず、プローブピン1で検出された信号がスプ
リング5とパイプ3aを介してパイプ支持基台3上の導
電パターン3に出力され、図示しない特性評価装置に送
られるリードレス構造となっている。従って、リード線
が不要な分プローブユニットを安価に提供することがで
きる。また、ノイズを拾いやすいリード線を用いる必要
がないので、検出信号へのノイズの影響を減少させ、プ
ローブユニットの検出特性を向上させることができる。
さらに、リードレス構造とすることにより、プローブの
パイプ支持基台43上への配置密度を上げることがで
き、極狭ピッチでプローブが配置されたプローブユニッ
トを提供することができる。The probe unit has no lead wire, and a signal detected by the probe pin 1 is output to the conductive pattern 3 on the pipe support base 3 via the spring 5 and the pipe 3a. It has a leadless structure that is sent to a characteristic evaluation device that does not. Therefore, the probe unit can be provided at a low cost because the lead wire is unnecessary. Further, since it is not necessary to use a lead wire that easily picks up noise, the influence of noise on the detection signal can be reduced, and the detection characteristics of the probe unit can be improved.
Further, by adopting the leadless structure, the arrangement density of probes on the pipe support base 43 can be increased, and a probe unit in which probes are arranged at an extremely narrow pitch can be provided.
【0027】なお、上記プローブユニットはパイプ付き
ユニットタイプであったが、パイプを有さないタイプも
ある。次に、このようなパイプを有さないプローブユニ
ットの実施の形態について説明する。Although the probe unit is a unit type with a pipe, there is also a type without a pipe. Next, an embodiment of a probe unit having no such a pipe will be described.
【0028】図2において、板状のプローブピン支持基
台13は感光性ガラスからなり、プローブピン11が挿
入される孔13aが設けられている。孔13aは、感光
性ガスからなるプローブピン支持基台13に、前述した
ような、露光→現像(熱処理)→エッチング→再露光の
各工程を経ることによって形成されているため、極狭ピ
ッチで、しかも、高い寸法精度で形成されている。In FIG. 2, the plate-shaped probe pin support base 13 is made of photosensitive glass and has a hole 13a into which the probe pin 11 is inserted. The holes 13a are formed in the probe pin support base 13 made of a photosensitive gas through the above-described steps of exposure, development (heat treatment), etching, and re-exposure. Moreover, it is formed with high dimensional accuracy.
【0029】一方、プローブピン支持基台13の下側に
は、プローブピン支持基台13と平行となるように受け
部材支持基台17が設けられている。受け部材支持基台
17も、プローブピン支持基台13と同様に感光性ガラ
スから形成されており、しかも、孔13aと上下で重な
る位置には孔17aが設けられている。孔17aも、孔
13aと同様に、露光→現像(熱処理)→エッチング→
再露光の各工程を経ることによって形成されている。こ
のため、極狭ピッチで、しかも、高い寸法精度で形成さ
れている。On the other hand, a receiving member support base 17 is provided below the probe pin support base 13 so as to be parallel to the probe pin support base 13. The receiving member support base 17 is also made of photosensitive glass similarly to the probe pin support base 13, and has a hole 17a at a position vertically overlapping the hole 13a. Similarly to the hole 13a, the hole 17a is exposed to light → developed (heat treated) → etched →
It is formed by going through each step of re-exposure. Therefore, they are formed with an extremely narrow pitch and high dimensional accuracy.
【0030】プローブピン支持基台13と受け部材支持
基台17の間にはスペーサ18が介在されている。プロ
ーブピン支持基台13と受け部材支持基台17の間にス
ペーサ18が介在することにより、プローブピン支持基
台13と受け部材支持基台17間の寸法が一定になると
共に、プローブピン支持基台13と受け部材支持基台1
7のお互いの平行度が維持されている。なお、スペーサ
18は、上記孔13aと孔17aに対向する位置にこれ
らの孔13a、17aよりも大径の孔が形成されてい
る。このため、孔13aと孔17aの間には、孔13a
及び孔17aの径寸法より径が大きい空間Aが生じてい
る。A spacer 18 is interposed between the probe pin support base 13 and the receiving member support base 17. Since the spacer 18 is interposed between the probe pin support base 13 and the receiving member support base 17, the dimension between the probe pin support base 13 and the receiving member support base 17 becomes constant, and the probe pin support base Table 13 and receiving member support base 1
7 are maintained parallel to each other. The spacer 18 has holes larger in diameter than the holes 13a and 17a at positions facing the holes 13a and 17a. Therefore, the hole 13a is located between the hole 13a and the hole 17a.
A space A having a diameter larger than the diameter of the hole 17a is generated.
【0031】プローブピン支持基台13に形成された孔
13aには導電性の部材からなるプローブピン11が挿
入されている。プローブピン11は、デバイス部品等に
付き当てられる上端部が尖った形状となっている。ま
た、プローブピン11の下端部外周にはフランジ11a
が設けられている。このようなプローブピン11は、空
間A内から上端部の尖った部分が孔13aに挿入され、
上端部がプローブピン支持基台13の上面から突出して
いる。プローブピン11のフランジ11aは孔13aの
外縁部に当接し、プローブピン11の上昇限界が画され
ると共に、プローブピン11の抜け止めがなされてい
る。A probe pin 11 made of a conductive material is inserted into a hole 13a formed in the probe pin support base 13. The probe pin 11 has a pointed upper end portion to be attached to a device component or the like. A flange 11a is provided on the outer periphery of the lower end of the probe pin 11.
Is provided. In such a probe pin 11, a pointed portion at the upper end from the space A is inserted into the hole 13a,
The upper end protrudes from the upper surface of the probe pin support base 13. The flange 11a of the probe pin 11 abuts on the outer edge of the hole 13a, so that the rising limit of the probe pin 11 is defined and the probe pin 11 is prevented from coming off.
【0032】一方、受け部材支持基台17に形成された
孔17aには導電性の部材からなる受け部材21が挿入
されている。受け部材21は、プローブピン11を反転
させたような形態となっており、下端部が尖った形状と
なっている。また、受け部材21の上端部外周にはフラ
ンジ21aが設けられている。このような受け部材21
は、空間A内から下端部の尖った部分が孔17aに挿入
され、下端部が受け部材支持基台17の孔17aの下面
から突出している。受け部材21は、そのフランジ21
aが上記孔17aの外縁部に当接することにより、抜け
止めがなされている。On the other hand, a receiving member 21 made of a conductive material is inserted into a hole 17a formed in the receiving member support base 17. The receiving member 21 has a shape in which the probe pin 11 is inverted, and has a sharp lower end. A flange 21a is provided on the outer periphery of the upper end of the receiving member 21. Such a receiving member 21
The lower end is inserted into the hole 17 a from the space A, and the lower end protrudes from the lower surface of the hole 17 a of the receiving member support base 17. The receiving member 21 has its flange 21
When a contacts the outer edge of the hole 17a, the hole 17a is prevented from coming off.
【0033】プローブピン11と受け部材17の間に
は、導電性の部材でからなる、付勢部材であるスプリン
グ15が介在されている。スプリング15の復帰力によ
り、プローブピン11と受け部材21は、互いに相反す
る方向に付勢されており、プローブピン11のフランジ
11aが孔13aの縁部と、受け部材21のフランジ2
1aが孔17aの縁部と、それぞれ当接することができ
る。Between the probe pin 11 and the receiving member 17, a spring 15, which is an urging member, made of a conductive member is interposed. Due to the return force of the spring 15, the probe pin 11 and the receiving member 21 are urged in directions opposite to each other, and the flange 11a of the probe pin 11 is connected to the edge of the hole 13a and the flange 2 of the receiving member 21.
1a can abut on the edge of the hole 17a, respectively.
【0034】受け部材支持基台17及び受け部材21の
下方には配線基板20が設けられている。配線基板20
は感光性ガラスから形成されており、受け部材21の尖
った先端部と対応する箇所には孔20aが形成されてい
る。孔20aは、孔13a及び孔17aと同様に、露光
→現像(熱処理)→エッチング→再露光の各工程を経る
ことによって形成されている。このため、極狭ピッチ
で、しかも、高い寸法精度に形成されている。A wiring board 20 is provided below the receiving member support base 17 and the receiving member 21. Wiring board 20
Is formed of photosensitive glass, and a hole 20a is formed at a position corresponding to the sharp tip of the receiving member 21. The holes 20a are formed through the steps of exposure, development (heat treatment), etching, and re-exposure, similarly to the holes 13a and 17a. For this reason, it is formed with an extremely narrow pitch and high dimensional accuracy.
【0035】このような配線基板20の表面には適宜の
形状の導電パターンが形成されている導電パターンの一
端部は、図3(a)に示すように、孔20aの下側縁
部、及び、孔20aの内周面、並びに、孔20aの上側
縁部に及んでいる。したがって、受け部材21の尖った
先端を配線基板20の孔20a内に挿入すると、受け部
材21のテーパー面と孔20aの上側縁部に設けられた
導電パターン22が当接し、導電パターン22と受け部
材が電気的に接続される。なお、受け部材21は導電性
の部材からなりスプリング15と当接しているし、スプ
リング15はプローブピン11と当接しているため、プ
ローブピン11は、間にスプリング15、受け部材21
を介して、配線基板20上の導電パターンと電気的に接
続されている。受け部材21が配線基板20の上記孔2
0aの周縁に当接した状態では、受け部材21のフラン
ジ21aが受け部材支持基台17から浮き上がるよう
に、各部の寸法が設定されている。As shown in FIG. 3 (a), one end of the conductive pattern in which a conductive pattern of an appropriate shape is formed on the surface of such a wiring board 20 has a lower edge portion of the hole 20a, and , The inner peripheral surface of the hole 20a and the upper edge of the hole 20a. Therefore, when the sharp tip of the receiving member 21 is inserted into the hole 20a of the wiring board 20, the tapered surface of the receiving member 21 and the conductive pattern 22 provided on the upper edge portion of the hole 20a come into contact with each other, and The members are electrically connected. The receiving member 21 is made of a conductive material and is in contact with the spring 15. Since the spring 15 is in contact with the probe pin 11, the probe pin 11 is interposed between the spring 15 and the receiving member 21.
Is electrically connected to the conductive pattern on the wiring board 20 via the. The receiving member 21 is formed in the hole 2 of the wiring board 20.
The dimensions of each part are set such that the flange 21a of the receiving member 21 rises up from the receiving member support base 17 in a state where the flange 21a is in contact with the peripheral edge of Oa.
【0036】上記構成のプローブユニットは、プローブ
ピン11上端の尖った部分をデバイス部品等につき当て
ることにより信号が検出される。検出信号は、プローブ
ピン11から、スプリング15、受け部材21を介して
配線基板20上の導電パターン22に出力されると共
に、導電パターン22から特性評価装置へ出力される。
なお、デバイス部品等にプローブピン11を突き当てる
と、プローブピン11はスプリング15の復帰力に抗し
て下方、即ち、受け部材21側に沈み込むようになって
いる。In the probe unit having the above-described configuration, a signal is detected by applying a pointed portion at the upper end of the probe pin 11 to a device component or the like. The detection signal is output from the probe pin 11 to the conductive pattern 22 on the wiring board 20 via the spring 15 and the receiving member 21, and is output from the conductive pattern 22 to the characteristic evaluation device.
When the probe pin 11 abuts against a device component or the like, the probe pin 11 sinks downward, that is, sinks toward the receiving member 21 against the return force of the spring 15.
【0037】以上のような構成のプローブユニットは、
プローブピン11が支持されるプローブピン支持基台1
3、及び、受け部材21が支持される受け部材支持基台
17が、感光性ガラスからなり、しかも、プローブピン
支持基台13上に設けられた孔13aと、受け部支持基
台17上に設けられた孔17aが、ベース部材である感
光性ガラスにマスクを当てて紫外線によって露光した
後、熱処理によって露光部分(潜像部分)を結晶化させ
て現像すると共に、結晶化した部分、すなわち、現像さ
れた部分を酸でエッチングして形成することができるた
め、ストレートに、即ち、導電パターン形成面に対して
正確に垂直に、しかも極めて高い寸法精度に形成するこ
とができる。したがって、このような手法を用いて感光
性ガラスからなるプローブピン支持基台13や受け部支
持基台17に対して孔13aや孔17aを形成すること
により、高い精度(垂直精度や寸法精度)を確保しなが
ら極狭ピッチでかつ極小径の孔13a、17aを形成す
ることができ、パイプ支持基台3上へのプローブの配置
密度を向上させ、小型化されたデバイス部品にも十分対
応することができる。The probe unit having the above configuration is
Probe pin support base 1 on which probe pins 11 are supported
3, and the receiving member support base 17 on which the receiving member 21 is supported is made of photosensitive glass, and furthermore, the hole 13a provided on the probe pin support base 13 and the receiving portion support base 17 The holes 17a provided are exposed to ultraviolet light by applying a mask to a photosensitive glass serving as a base member, and then heat-treated to crystallize and develop an exposed portion (latent image portion), and to crystallize the portion, that is, the crystallized portion, Since the developed portion can be formed by etching with an acid, it can be formed straight, that is, exactly perpendicular to the conductive pattern forming surface, and with extremely high dimensional accuracy. Therefore, by forming the holes 13a and the holes 17a in the probe pin support base 13 and the receiving portion support base 17 made of photosensitive glass using such a method, high accuracy (vertical accuracy and dimensional accuracy) can be obtained. The holes 13a and 17a having an extremely small pitch and an extremely small diameter can be formed while ensuring a sufficient space, so that the density of arrangement of the probes on the pipe support base 3 can be improved, and the device can sufficiently cope with miniaturized device parts. be able to.
【0038】図2では、プローブピン11、スプリング
15、受け部材21等が1組だけ示されているが、検
出、測定対象に応じて複数組所定の間隔で配置され、プ
ローブユニットを構成している。FIG. 2 shows only one set of the probe pin 11, the spring 15, the receiving member 21, and the like. However, a plurality of sets are arranged at predetermined intervals in accordance with the objects to be detected and measured to constitute a probe unit. I have.
【0039】なお、デバイス部品等はベースの材質とし
てシリコンやガラスなどが用いられるが、プローブピン
支持基台13、受け部支持基台17、配線基板20に
は、これに近い材質、即ち、感光性ガラスを用いた。従
って、デバイス部品とプローブユニットのローブ支持基
台13、受け部支持基台17、配線基板20等とでは熱
膨張係数の差が小さいため、不安定接触がなくなり、安
定した計測ができる。The device parts and the like are made of silicon, glass or the like as a base material. The probe pin support base 13, the receiving part support base 17, and the wiring board 20 are made of a material close to this, that is, a photosensitive material. Glass was used. Therefore, since the difference in thermal expansion coefficient between the device component and the probe unit lobe support base 13, the receiving unit support base 17, the wiring board 20, and the like is small, unstable contact is eliminated and stable measurement can be performed.
【0040】また、上記プローブユニットはリード線を
有しておらず、配線基板20に設けられた導電パターン
22と接続される受け部材21によって、プローブピン
11による検出信号が特性評価装置へ出力される。した
がって、リード線が不要な分プローブユニットを安価に
提供することができる。また、ノイズを拾いやすいリー
ド線を用いる必要がないので、ノイズの影響を解消し、
プローブユニットの検出特性を向上させることができ
る。さらに、リードレス構造とすることにより、プロー
ブの配置密度を上げることができ、高密度なプローブユ
ニットを提供することができる。The probe unit has no lead wire, and a detection signal from the probe pin 11 is output to the characteristic evaluation device by a receiving member 21 connected to the conductive pattern 22 provided on the wiring board 20. You. Therefore, the probe unit can be provided at a low cost because the lead wire is unnecessary. Also, since it is not necessary to use a lead wire that easily picks up noise, the effect of noise is eliminated,
The detection characteristics of the probe unit can be improved. Further, by adopting the leadless structure, the arrangement density of the probes can be increased, and a high-density probe unit can be provided.
【0041】なお、上記プローブユニットは、図3
(a)に示すように、孔20aの内周面と両面の縁部に
導電パターン22の一端を引き出すと共に、孔20a内
に受け部材21の尖った部分を挿入し、受け部材21の
テーパー面と孔20aの上側の縁部に及ぶ導電パターン
22の一端を接続することにより電気的な接続がなされ
ていた。しかし、これに限られたものではない。例え
ば、図3(b)に示すように、孔20aの内部に導電性
部材23を充填し、この導電性部材23を配線基板20
上の導電パターン24の一端と接続すると共に、孔20
aから外部に露出した導電性部材23に対して受け部材
21の尖った部分を付き当てて電気的接続を図るように
してもよい。このような構成でも、リード線を無くした
リードレス構造となるため、コストを低減し安価なプロ
ーブユニットが提供できると共に、ノイズが生ずるのを
解消することが可能となる。またリード線がない分、プ
ローブの配置密度を向上させることができる。The above-mentioned probe unit is the same as that shown in FIG.
As shown in (a), one end of the conductive pattern 22 is pulled out to the inner peripheral surface of the hole 20a and the edges of both surfaces, and the pointed portion of the receiving member 21 is inserted into the hole 20a, and the tapered surface of the receiving member 21 is inserted. The electrical connection is made by connecting one end of the conductive pattern 22 extending to the upper edge of the hole 20a. However, it is not limited to this. For example, as shown in FIG. 3B, the inside of the hole 20a is filled with a conductive member 23, and the conductive member 23 is
Connected to one end of the upper conductive pattern 24 and
A pointed portion of the receiving member 21 may be applied to the conductive member 23 exposed to the outside from a to achieve electrical connection. Even in such a configuration, a leadless structure without a lead wire is provided, so that it is possible to provide an inexpensive probe unit with reduced cost and to eliminate noise. Further, since there is no lead wire, the arrangement density of the probes can be improved.
【0042】なお、図3(a)(b)では、導電パター
ンが、配線基板20の下側の面に形成されているが、こ
れに限られるものではない。上側の面に形成するように
してもよいし、上側の面や下側の面の両方に形成するよ
うにしてもよい。また、受け部材支持基台17に導電パ
ターンを形成すると共に、導電性を有する受け部材21
を受け部材支持基台17の導電パターンに当接させ、こ
の受け部材支持基台17の導電パターンを通じて、検出
信号を外部の特性評価装置へ出力するように構成しても
よい。In FIGS. 3A and 3B, the conductive pattern is formed on the lower surface of the wiring board 20, but the present invention is not limited to this. It may be formed on the upper surface, or may be formed on both the upper surface and the lower surface. In addition, a conductive pattern is formed on the receiving member support base 17 and the receiving member 21 having conductivity is provided.
The receiving member support base 17 may be configured to be brought into contact with the conductive pattern of the receiving member support base 17 and a detection signal is output to an external characteristic evaluation device through the conductive pattern of the receiving member support base 17.
【0043】さらに、プローブユニットのさらに別の実
施の形態について説明する。図4に示すプローブユニッ
トは、プローブピン11、プローブピン支持基台13、
スペーサ18、スプリング15等を有しており、これら
の部材は図2に示すプローブユニットに似た構成となっ
ている。したがって、プローブピン支持基台13は感光
性ガラスからなり、しかも、孔13aは、露光→現像
(熱処理)→エッチング→再露光の工程を経ることによ
って形成されている。しかし、図4に示すプローブユニ
ットは、図2に示す例における配線基板20を有してお
らず、スペーサ18の下端面に付勢部材支持基台27が
設けられ、表面に導電パターン25が形成された上記付
勢部材支持基台27でスプリング15が支持されている
点で図2に示すプローブユニットとは異なっている。Further, still another embodiment of the probe unit will be described. The probe unit shown in FIG. 4 includes a probe pin 11, a probe pin support base 13,
It has a spacer 18, a spring 15, and the like, and these members have a configuration similar to the probe unit shown in FIG. Therefore, the probe pin support base 13 is made of photosensitive glass, and the holes 13a are formed through the steps of exposure, development (heat treatment), etching, and re-exposure. However, the probe unit shown in FIG. 4 does not have the wiring board 20 in the example shown in FIG. 2, and the urging member support base 27 is provided on the lower end surface of the spacer 18, and the conductive pattern 25 is formed on the surface. The spring unit 15 is different from the probe unit shown in FIG. 2 in that the spring 15 is supported by the biasing member support base 27 described above.
【0044】図4において、付勢部材支持基台27は感
光性ガラスからなる。付勢部材支持基台27の、プロー
ブピン支持基台13の孔13aと対応する箇所には孔2
7aが設けられている。孔27aは、孔13aと同様
に、感光性ガラスからなる付勢部材支持基台27に、露
光→現像(熱処理)→エッチング→再露光の工程を施す
ことによって形成されている。また、孔27aは上側、
即ち、スペーサ18側が大径部となっており、下側の部
分が小径部となっている。In FIG. 4, the urging member support base 27 is made of photosensitive glass. A hole 2 is provided at a position of the urging member support base 27 corresponding to the hole 13a of the probe pin support base 13.
7a is provided. The holes 27a are formed by subjecting the urging member support base 27 made of photosensitive glass to exposure → development (heat treatment) → etching → re-exposure similarly to the holes 13a. The hole 27a is on the upper side,
That is, the spacer 18 has a large diameter portion, and the lower portion has a small diameter portion.
【0045】孔27aの大径部の径寸法は、スプリング
15の径寸法とほぼ同じか、それを上回る程度に設定さ
れている。このため、スプリング15の下端部が孔27
aの大径部に挿入されると共に、孔27aの大径部と小
径部の間の段状の部分でスプリング15が支持されるよ
うになっている。The diameter of the large diameter portion of the hole 27a is set to be substantially the same as or larger than the diameter of the spring 15. For this reason, the lower end of the spring 15 is
The spring 15 is inserted into the large-diameter portion of the hole 27a and supported by a stepped portion between the large-diameter portion and the small-diameter portion of the hole 27a.
【0046】付勢部材支持基台27の下側の面には適宜
の形状の導電パターン25が設けられている。導電パタ
ーン25の一端部は外部に設けられた図示しない特性評
価装置に接続されている。また、導電パターン25の他
端部は孔27aの内周面に至っている。より具体的に
は、孔27aの小径部内周面、大径部と小径部の間の段
部上面および大径部にまで及んでいる。このため、孔2
7aの大径部に付勢部材15の下端部を挿入し、孔27
aの大径部と小径部の間の段部でスプリング15を支持
することにより、導電パターン25とスプリング15は
電気的に接続されている。また、スプリング15は、プ
ローブピン11とも電気的に接続されていることから、
プローブピン11は、スプリング15を間に介して付勢
部材支持基台27に設けられた導電パターン25と電気
的に接続されている。A conductive pattern 25 having an appropriate shape is provided on the lower surface of the urging member support base 27. One end of the conductive pattern 25 is connected to a characteristic evaluation device (not shown) provided outside. The other end of the conductive pattern 25 reaches the inner peripheral surface of the hole 27a. More specifically, it extends to the inner peripheral surface of the small diameter portion of the hole 27a, the upper surface of the step between the large diameter portion and the small diameter portion, and the large diameter portion. Therefore, hole 2
The lower end of the urging member 15 is inserted into the large-diameter portion
The conductive pattern 25 and the spring 15 are electrically connected by supporting the spring 15 at the step between the large diameter portion and the small diameter portion of a. Further, since the spring 15 is also electrically connected to the probe pin 11,
The probe pin 11 is electrically connected to the conductive pattern 25 provided on the urging member support base 27 via the spring 15.
【0047】上記構成のプローブユニットによれば、プ
ローブピン11が支持されるプローブピン支持基台1
3、及び、スプリング15が支持される付勢部材支持基
台27が、感光性ガラスからなり、しかも、プローブピ
ン支持基台13に設けられた孔13aと、付勢部材支持
基台27に設けられた孔27aは、ベース部材である感
光性ガラスにマスクを当てて露光し、エッチング処理す
ることによって形成することができるため、導電パター
ン形成面に対して正確に垂直に、しかも極めて高い寸法
精度に形成することができる。したがって、高い精度
(垂直精度や寸法精度)を確保しながら極狭ピッチで極
小径の孔13a、17aを形成することができ、プロー
ブの配置密度を向上させることにより、小型化されたデ
バイス部品にも十分対応することができる。According to the probe unit having the above structure, the probe pin support base 1 on which the probe pins 11 are supported
3, and a biasing member support base 27 on which the spring 15 is supported is made of photosensitive glass. In addition, a hole 13a provided in the probe pin support base 13 and a biasing member support base 27 are provided on the biasing member support base 27. The holes 27a can be formed by exposing a photosensitive glass as a base member to a mask by exposing the mask to a mask and performing an etching process. Therefore, the holes 27a are precisely perpendicular to the conductive pattern forming surface and have extremely high dimensional accuracy. Can be formed. Therefore, the holes 13a and 17a having an extremely narrow pitch and an extremely small diameter can be formed while securing high accuracy (vertical accuracy and dimensional accuracy), and by improving the arrangement density of the probes, it is possible to reduce the size of device parts. Can cope well.
【0048】なお、デバイス部品等のベースの材質とし
てシリコンやガラスなどが用いられるが、プローブピン
支持基台13、付勢部材支持基台27の材質として上記
ベースの材質に近い、感光性ガラスを用いたため、デバ
イス部品のベースと、プローブユニットのプローブピン
支持基台13、付勢部材支持基台17、配線基板20等
とでは熱膨張係数の差が小さく、温度が変化しても不安
定接触がなくなるため、安定した計測ができる。Silicon or glass is used as a material of the base of the device parts and the like. As a material of the probe pin support base 13 and the urging member support base 27, photosensitive glass similar to the above base material is used. Due to the use, the difference in thermal expansion coefficient between the base of the device component and the probe pin support base 13, the urging member support base 17, the wiring board 20, etc. of the probe unit is small, and the unstable contact occurs even when the temperature changes. Is eliminated, and stable measurement can be performed.
【0049】また、上記プローブユニットはリード線を
有しておらず、付勢部材支持基台27に設けられた導電
パターン25と電気的に接続されるスプリング15によ
って、プローブピン11による検出信号を特性評価装置
へ出力することができるため、リード線が不要な分プロ
ーブユニットを安価に提供することができる。また、ノ
イズを拾いやすいリード線を用いる必要がないため、ノ
イズを解消することができる。さらに、リードレス構造
とすることにより、プローブの配置密度を上げることが
でき、高密度なプローブユニットを提供することができ
る。The probe unit does not have a lead wire, and the detection signal from the probe pin 11 is transmitted by the spring 15 electrically connected to the conductive pattern 25 provided on the biasing member support base 27. Since the output can be output to the characteristic evaluation device, the probe unit can be provided at a low cost because the lead wire is unnecessary. In addition, since it is not necessary to use a lead wire that easily picks up noise, noise can be eliminated. Further, by adopting the leadless structure, the arrangement density of the probes can be increased, and a high-density probe unit can be provided.
【0050】さらに、スプリング15を支持する付勢部
材支持基台27に直接導電パターン25を形成したた
め、別に配線基板を用意する必要が無くなり、この分、
コストの低減に寄与することができる。Further, since the conductive pattern 25 is formed directly on the biasing member support base 27 for supporting the spring 15, there is no need to prepare a separate wiring board.
This can contribute to cost reduction.
【0051】[0051]
【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、パイプ付
きプローブピンを有するプローブユニットにおいて、パ
イプ支持基台が感光性ガラスにより形成されているた
め、検出対象のベース部材と上記パイプ支持基台との熱
膨張係数の差が小さくなり、温度変化による接触不良を
解消して、計測不能に陥るのを防止することができる。
また、パイプ支持基台が感光性ガラスにより形成されて
いるため、高い精度で小径のパイプ取付け用の孔を形成
することができ、極狭ピッチかつ小径のプローブを配置
することができ、検出対象の部材の小型化にも十分対応
することが可能となる。According to the first aspect of the present invention, in the probe unit having the probe pins with pipes, the pipe support base is formed of photosensitive glass, so that the base member to be detected and the pipe support base are formed. The difference in the coefficient of thermal expansion between the base and the table is reduced, so that poor contact due to a change in temperature can be eliminated, thereby preventing measurement failure.
In addition, since the pipe support base is made of photosensitive glass, a small-diameter hole for mounting a pipe can be formed with high accuracy, and a probe with an extremely narrow pitch and a small diameter can be arranged. It is possible to sufficiently cope with the miniaturization of the member.
【0052】請求項2記載の発明によれば、パイプを導
体とし、しかも、パイプ支持基台にはパイプと導通し、
プローブピンからの出力を外部に導く導電パターンが形
成されているため、リード線を設けなくても、プローブ
ピンから検出される信号をパイプ及び導電パターンを介
して外部に導くことができ、リード線が不要な分コスト
を低減させることができるし、また、ノイズの影響を解
消することが可能となる。According to the second aspect of the present invention, the pipe is a conductor, and the pipe support base is electrically connected to the pipe.
Since the conductive pattern for guiding the output from the probe pin to the outside is formed, the signal detected from the probe pin can be guided to the outside via the pipe and the conductive pattern without providing a lead wire. However, it is possible to reduce the cost because of unnecessary, and it is possible to eliminate the influence of noise.
【0053】請求項3記載の発明によれば、パイプレス
型のプローブピンを有するプローブユニットにおいて、
プローブピン支持基台は感光性ガラスにより形成されて
いるため、検出対象のベース部材とプローブピン支持基
台との熱膨張係数の差が小さくなり、温度変化による接
触不良を解消して、計測不能に陥るのを防止することが
できる。また、プローブピン支持基台が感光性ガラスに
より形成されているため、高い精度でプローブピンが支
持される孔を形成することができ、極狭ピッチでプロー
ブを配置することができ、検出対象の部材の小型化にも
十分対応することが可能となる。According to the third aspect of the present invention, in the probe unit having the pipeless probe pins,
Since the probe pin support base is made of photosensitive glass, the difference in the coefficient of thermal expansion between the base member to be detected and the probe pin support base is reduced, eliminating poor contact due to temperature changes and making measurement impossible. Can be prevented. In addition, since the probe pin support base is formed of photosensitive glass, holes for supporting the probe pins can be formed with high precision, the probes can be arranged at an extremely narrow pitch, and It is possible to sufficiently cope with downsizing of members.
【0054】請求項4記載の発明によれば、プローブピ
ン支持基台と平行な位置には、感光性ガラスからなり、
かつ、受け部材が設けられた受け部材支持基台が設けら
れており、プローブピンと受け部材の間には付勢部材が
介在されているため、プローブピンによる検出、測定対
象からの信号を付勢部材、受け部材、受け部材支持基台
を介して取り出すことができる。According to the fourth aspect of the present invention, a photosensitive glass is provided at a position parallel to the probe pin support base,
In addition, a receiving member support base provided with a receiving member is provided, and an urging member is interposed between the probe pin and the receiving member. It can be taken out through the member, the receiving member, and the receiving member support base.
【0055】請求項5記載の発明によれば、受け部材は
導体であり、上記受け部材支持基台には上記プローブピ
ンからの出力を外部に導くパターンが形成されているた
め、プローブピンは付勢部材を介して受け部材と電気的
に接続することができ、受け部材および受け部材支持基
台のパターンを通じて外部に信号を出力することができ
るため、リード線が不要となり、コストを低減させるこ
とができるし、ノイズの影響を解消することができる。
請求項6記載の発明も同様にリード線が不要となり、コ
ストの低減、ノイズの解消を図ることができる。According to the fifth aspect of the present invention, the receiving member is a conductor, and the receiving member supporting base is formed with a pattern for guiding the output from the probe pin to the outside. Since it can be electrically connected to the receiving member via the biasing member, and can output a signal to the outside through the pattern of the receiving member and the receiving member support base, a lead wire becomes unnecessary and cost can be reduced. And the effect of noise can be eliminated.
Similarly, the invention according to claim 6 does not require a lead wire, so that cost can be reduced and noise can be eliminated.
【0056】請求項7記載の発明によれば、プローブピ
ン支持基台と平行な位置には感光性ガラスからなる付勢
部材支持基台が設けられ、プローブピンと付勢部材支持
基台の間には付勢部材が介在されると共に、付勢部材は
付勢部材支持基台に設けられた導電パターンと接続され
ているため、プローブピンは付勢部材を介して付勢部材
支持基台に設けられた導電パターンと電気的に接続する
ことができ、付勢部材支持基台より外部に信号を出力す
ることが可能となるため、リード線が不要となり、コス
トを低減させることができるし、ノイズの影響を解消す
ることが可能となる。According to the present invention, an urging member supporting base made of photosensitive glass is provided at a position parallel to the probe pin supporting base, and between the probe pin and the urging member supporting base. Since the urging member is interposed and the urging member is connected to the conductive pattern provided on the urging member support base, the probe pins are provided on the urging member support base via the urging member. Can be electrically connected to the applied conductive pattern and can output a signal from the biasing member support base to the outside, so that a lead wire is unnecessary, cost can be reduced, and noise can be reduced. Can be eliminated.
【図1】本発明にかかるプローブユニットの実施の形態
を示す断面図。FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a probe unit according to the present invention.
【図2】本発明にかかるプローブユニットの別の実施の
形態を示す断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view showing another embodiment of the probe unit according to the present invention.
【図3】同上プローブユニットの要部を拡大して示す断
面図。FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view showing a main part of the probe unit.
【図4】本発明にかかるプローブユニットのさらに別の
実施の形態を示す断面図。FIG. 4 is a sectional view showing still another embodiment of the probe unit according to the present invention.
【図5】従来のプローブユニットの例を示す断面図。FIG. 5 is a sectional view showing an example of a conventional probe unit.
1 プローブピン 2 パイプ 3 パイプ支持基台 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Probe pin 2 Pipe 3 Pipe support base
Claims (7)
ピンと、該プローブピンを保持するパイプと、該パイプ
が挿入されるパイプ支持基台とを有するプローブユニッ
トであって、 上記パイプ支持基台は感光性ガラスにより形成されてい
ることを特徴とするプローブユニット。1. A probe unit having a probe pin for detecting electrical characteristics of an electronic component, a pipe holding the probe pin, and a pipe support base into which the pipe is inserted, wherein the pipe support base is A probe unit formed of photosensitive glass.
持基台には、上記パイプと導通し上記プローブピンから
の出力を外部に導く導電パターンが形成されていること
を特徴とする請求項1記載のプローブユニット。2. The pipe according to claim 1, wherein the pipe is a conductor, and the pipe support base is formed with a conductive pattern that conducts with the pipe and guides an output from the probe pin to the outside. The described probe unit.
ピンと、該プローブピンが挿入され上記プローブピンが
摺動自在に支持されるプローブピン支持基台とを有する
プローブユニットであって、 上記プローブピン支持基台は感光性ガラスにより形成さ
れていることを特徴とするプローブユニット。3. A probe unit, comprising: a probe pin for detecting an electrical characteristic of an electronic component; and a probe pin support base on which the probe pin is inserted and on which the probe pin is slidably supported. A probe unit, wherein the support base is formed of photosensitive glass.
は、感光性ガラスからなり、かつ、受け部材が設けられ
た受け部材支持基台が設けられており、 上記プローブピンと上記受け部材の間には付勢部材が介
在されていることを特徴とする請求項3記載のプローブ
ユニット。4. A receiving member supporting base made of photosensitive glass and provided with a receiving member is provided at a position parallel to the probe pin supporting base. The probe unit according to claim 3, wherein an urging member is interposed between the probe units.
材支持基台には上記プローブピンからの出力を外部に導
くパターンが形成されていることを特徴とする請求項4
記載のプローブユニット。5. The receiving member is a conductor, and a pattern for guiding an output from the probe pin to the outside is formed on the receiving member support base.
The described probe unit.
上記受け部材支持基台を貫通して上記プローブピン支持
基台とは反対側に突出した突出部を有しており、 上記突出部の先端部は、受け部材支持基台と平行な感光
性ガラスからなる配線基板の表面に設けられた導電パタ
ーンと接していることを特徴とする請求項4記載のプロ
ーブユニット。6. The receiving member is made of a conductor, and
It has a protrusion penetrating the receiving member support base and protruding on the opposite side to the probe pin support base, and the tip of the protrusion is a photosensitive glass parallel to the receiving member support base. 5. The probe unit according to claim 4, wherein the probe unit is in contact with a conductive pattern provided on a surface of the wiring board made of:
には感光性ガラスからなる付勢部材支持基台が設けら
れ、上記プローブピンと上記付勢部材支持基台の間には
付勢部材が介在されると共に、 上記付勢部材は上記付勢部材支持基台に設けられた導電
パターンと接続されていることを特徴とする請求項3記
載のプローブユニット。7. An urging member supporting base made of photosensitive glass is provided at a position parallel to the probe pin supporting base, and an urging member is provided between the probe pin and the urging member supporting base. The probe unit according to claim 3, wherein the urging member is interposed and connected to a conductive pattern provided on the urging member support base.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19876396A JPH1038920A (en) | 1996-07-29 | 1996-07-29 | Probe unit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19876396A JPH1038920A (en) | 1996-07-29 | 1996-07-29 | Probe unit |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1038920A true JPH1038920A (en) | 1998-02-13 |
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ID=16396546
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19876396A Pending JPH1038920A (en) | 1996-07-29 | 1996-07-29 | Probe unit |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1038920A (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1996
- 1996-07-29 JP JP19876396A patent/JPH1038920A/en active Pending
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