JPH1036357A - トリアゾール誘導体並びにそれを含有する農園芸用殺菌剤 - Google Patents
トリアゾール誘導体並びにそれを含有する農園芸用殺菌剤Info
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Landscapes
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 農園芸分野では、耐性菌などの出現により、
強力な殺菌効果を有する新規な化合物が望まれている。 【解決手段】 【化1】 [式中、Jは、下記式(J−1)、(J−2)、(J−
3)又は(J−4)であり、 【化2】 Aは、下記式(II)であり、 【化3】 R1 、R2 、X、n、m、G1 、G2 は前記の通りであ
る]で表わされる新規トリアゾール誘導体。
強力な殺菌効果を有する新規な化合物が望まれている。 【解決手段】 【化1】 [式中、Jは、下記式(J−1)、(J−2)、(J−
3)又は(J−4)であり、 【化2】 Aは、下記式(II)であり、 【化3】 R1 、R2 、X、n、m、G1 、G2 は前記の通りであ
る]で表わされる新規トリアゾール誘導体。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、文献未記載の新規
なトリアゾール誘導体、並びにそれを含有する農園芸用
殺菌剤に関するものである。
なトリアゾール誘導体、並びにそれを含有する農園芸用
殺菌剤に関するものである。
【0002】
【従来の技術】日本特許公開平3−206075号公報
には、殺菌活性を持つある種のトリアゾール誘導体が開
示されているが、トリアゾールに結合した硫黄原子及び
トリアゾール環の窒素原子上に2個のベンジル誘導体を
置換基として有し、かつ、少なくともその一方は2 位に
酢酸誘導体残基を有する化合物は開示されていない。
には、殺菌活性を持つある種のトリアゾール誘導体が開
示されているが、トリアゾールに結合した硫黄原子及び
トリアゾール環の窒素原子上に2個のベンジル誘導体を
置換基として有し、かつ、少なくともその一方は2 位に
酢酸誘導体残基を有する化合物は開示されていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】農園芸用殺菌剤として
これまでに多くの化合物が発明され使用されているが、
同じ薬剤を多年連用することにより、薬剤に対する耐性
を獲得した菌の出現などで殺菌効果が低下するなどの問
題が生じている。従って農園芸用殺菌剤に関しては、強
力な殺菌効果を有する新しい構造からなる化合物の創製
が期待されている。
これまでに多くの化合物が発明され使用されているが、
同じ薬剤を多年連用することにより、薬剤に対する耐性
を獲得した菌の出現などで殺菌効果が低下するなどの問
題が生じている。従って農園芸用殺菌剤に関しては、強
力な殺菌効果を有する新しい構造からなる化合物の創製
が期待されている。
【0004】本発明は、これらの要望を満たした新規な
農園芸用殺菌剤を提供しようとするものである。
農園芸用殺菌剤を提供しようとするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明者らは、鋭意研究を行った結果、ある種のト
リアゾール誘導体が、優れた殺菌活性を有することを見
出し、本発明を完成するに至った。
に、本発明者らは、鋭意研究を行った結果、ある種のト
リアゾール誘導体が、優れた殺菌活性を有することを見
出し、本発明を完成するに至った。
【0006】本発明の新規なメルカプトトリアゾール誘
導体は、下記一般式(I)で表わされるものである。な
お、本発明におけるトリアゾール誘導体は、二重結合に
関してsyn,anti(又はcis,trans)の立体異性体が存在す
るが、本発明は、それらの混合物及び純粋な異性体のい
ずれをも包含するものである。
導体は、下記一般式(I)で表わされるものである。な
お、本発明におけるトリアゾール誘導体は、二重結合に
関してsyn,anti(又はcis,trans)の立体異性体が存在す
るが、本発明は、それらの混合物及び純粋な異性体のい
ずれをも包含するものである。
【0007】
【化7】
【0008】[式中Jは、下記式、(J−1),(J−
2)、(J−3)又は(J−4)であり、
2)、(J−3)又は(J−4)であり、
【0009】
【化8】
【0010】Aは、下記式、(II)であり、
【0011】
【化9】
【0012】R1 は、水素原子、(置換されていてもよ
い)低級アルキル基、(置換されていてもよい)低級ア
ルケニル基、(置換されていてもよい)低級アルキニル
基、(置換されていてもよい)低級シクロアルキル基又
は(置換されていてもよい)フェニル基を示し、R
2 は、水素原子、(置換されていてもよい)低級アルキ
ル基、(置換されていてもよい)低級アルコキシ基又は
(置換されていてもよい)低級シクロアルキル基を示
し、Xは、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルコキシカ
ルボニル基、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級
アルキニル基、低級シクロアルキル基、低級アルコキシ
基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフェニル
基、低級アルキルスルホニル基、低級ハロアルコキシカ
ルボニル基、低級ハロアルキル基、低級ハロアルケニル
基、低級ハロアルキニル基、低級ハロシクロアルキル
基、低級ハロアルコキシ基、低級ハロアルキルチオ基、
低級ハロアルキルスルフェニル基、又は低級ハロアルキ
ルスルホニル基を示し、nは、0、1、又は2を示し、
mは、0、1、2、又は3を示し、G1 は、窒素原子又
は基CHを示し、G2 は、酸素原子又は基NHを示
す。]で表わされるトリアゾール誘導体。
い)低級アルキル基、(置換されていてもよい)低級ア
ルケニル基、(置換されていてもよい)低級アルキニル
基、(置換されていてもよい)低級シクロアルキル基又
は(置換されていてもよい)フェニル基を示し、R
2 は、水素原子、(置換されていてもよい)低級アルキ
ル基、(置換されていてもよい)低級アルコキシ基又は
(置換されていてもよい)低級シクロアルキル基を示
し、Xは、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルコキシカ
ルボニル基、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級
アルキニル基、低級シクロアルキル基、低級アルコキシ
基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフェニル
基、低級アルキルスルホニル基、低級ハロアルコキシカ
ルボニル基、低級ハロアルキル基、低級ハロアルケニル
基、低級ハロアルキニル基、低級ハロシクロアルキル
基、低級ハロアルコキシ基、低級ハロアルキルチオ基、
低級ハロアルキルスルフェニル基、又は低級ハロアルキ
ルスルホニル基を示し、nは、0、1、又は2を示し、
mは、0、1、2、又は3を示し、G1 は、窒素原子又
は基CHを示し、G2 は、酸素原子又は基NHを示
す。]で表わされるトリアゾール誘導体。
【0013】次に本発明の前記一般式(I)で表わされ
るトリアゾール誘導体について詳細に説明する。
るトリアゾール誘導体について詳細に説明する。
【0014】本発明の、(置換されていてもよい)低級
アルキル基、(置換されていてもよい)低級アルケニル
基、(置換されていてもよい)低級アルキニル基、(置
換されていてもよい)低級アルコキシ基及び(置換され
ていてもよい)低級シクロアルキル基の(置換されてい
てもよい)置換基とは、ハロゲン原子、シアノ基、C2
〜C7 アルコキシカルボニル基、C1 〜C6 アルキル
基、C2 〜C6 アルケニル基、C2 〜C6 アルキニル
基、C3 〜C6 シクロアルキル基、C1 〜C6 アルコキ
シ基、C1 〜C6 アルキルチオ基、C1 〜C6 アルキル
スルフェニル基、C1 〜C6 アルキルスルホニル基、C
2 〜C7 ハロアルコキシカルボニル基、C1〜C6 ハロ
アルキル基、C2 〜C6 ハロアルケニル基、C2 〜C6
ハロアルキニル基、C3 〜C6 ハロシクロアルキル基、
C1 〜C6 ハロアルコキシ基、C1 〜C6 ハロアルキル
チオ基、C1 〜C6 ハロアルキルスルフェニル基、C1
〜C6ハロアルキルスルホニル基、(置換されていても
よい)フェニル基、(置換されていてもよい)フェノキ
シ基、(置換されていてもよい)フェニルチオ基、(置
換されていてもよい)ヘテロアリール基、(置換されて
いてもよい)ヘテロアリールオキシ基及び(置換されて
いてもよい)ヘテロアリ−ルチオ基を示す。また(置換
されていてもよい)フェニル基、(置換されていてもよ
い)ヘテロアリール基、(置換されていてもよい)フェ
ノキシ基、(置換されていてもよい)フェニルチオ基、
(置換されていてもよい)ヘテロアリールオキシ基及び
(置換されていてもよい)ヘテロアリールチオ基の(置
換されていてもよい)置換基とは、ハロゲン原子、シア
ノ基、C2 〜C7 アルコキシカルボニル基、C1 〜C6
アルキル基、C2 〜C6 アルケニル基、C2 〜C6 アル
キニル基、C3 〜C6 シクロアルキル基、C1 〜C6 ア
ルコキシ基、C1 〜C6 アルキルチオ基、C1 〜C6ア
ルキルスルフェニル基、C1 〜C6 アルキルスルホニル
基、C2 〜C7 ハロアルコキシカルボニル基、C1 〜C
6 ハロアルキル基、C2 〜C6 ハロアルケニル基、C2
〜C6 ハロアルキニル基、C3 〜C6 ハロシクロアルキ
ル基、C1 〜C6 ハロアルコキシ基、C1 〜C6 ハロア
ルキルチオ基、C1 〜C6 ハロアルキルスルフェニル
基、C1 〜C6 ハロアルキルスルホニル基を示す。
アルキル基、(置換されていてもよい)低級アルケニル
基、(置換されていてもよい)低級アルキニル基、(置
換されていてもよい)低級アルコキシ基及び(置換され
ていてもよい)低級シクロアルキル基の(置換されてい
てもよい)置換基とは、ハロゲン原子、シアノ基、C2
〜C7 アルコキシカルボニル基、C1 〜C6 アルキル
基、C2 〜C6 アルケニル基、C2 〜C6 アルキニル
基、C3 〜C6 シクロアルキル基、C1 〜C6 アルコキ
シ基、C1 〜C6 アルキルチオ基、C1 〜C6 アルキル
スルフェニル基、C1 〜C6 アルキルスルホニル基、C
2 〜C7 ハロアルコキシカルボニル基、C1〜C6 ハロ
アルキル基、C2 〜C6 ハロアルケニル基、C2 〜C6
ハロアルキニル基、C3 〜C6 ハロシクロアルキル基、
C1 〜C6 ハロアルコキシ基、C1 〜C6 ハロアルキル
チオ基、C1 〜C6 ハロアルキルスルフェニル基、C1
〜C6ハロアルキルスルホニル基、(置換されていても
よい)フェニル基、(置換されていてもよい)フェノキ
シ基、(置換されていてもよい)フェニルチオ基、(置
換されていてもよい)ヘテロアリール基、(置換されて
いてもよい)ヘテロアリールオキシ基及び(置換されて
いてもよい)ヘテロアリ−ルチオ基を示す。また(置換
されていてもよい)フェニル基、(置換されていてもよ
い)ヘテロアリール基、(置換されていてもよい)フェ
ノキシ基、(置換されていてもよい)フェニルチオ基、
(置換されていてもよい)ヘテロアリールオキシ基及び
(置換されていてもよい)ヘテロアリールチオ基の(置
換されていてもよい)置換基とは、ハロゲン原子、シア
ノ基、C2 〜C7 アルコキシカルボニル基、C1 〜C6
アルキル基、C2 〜C6 アルケニル基、C2 〜C6 アル
キニル基、C3 〜C6 シクロアルキル基、C1 〜C6 ア
ルコキシ基、C1 〜C6 アルキルチオ基、C1 〜C6ア
ルキルスルフェニル基、C1 〜C6 アルキルスルホニル
基、C2 〜C7 ハロアルコキシカルボニル基、C1 〜C
6 ハロアルキル基、C2 〜C6 ハロアルケニル基、C2
〜C6 ハロアルキニル基、C3 〜C6 ハロシクロアルキ
ル基、C1 〜C6 ハロアルコキシ基、C1 〜C6 ハロア
ルキルチオ基、C1 〜C6 ハロアルキルスルフェニル
基、C1 〜C6 ハロアルキルスルホニル基を示す。
【0015】本発明の前記一般式(I)におけるR1 、
R2 、R3 およびXの定義中の基の具体例を以下に説明
する。
R2 、R3 およびXの定義中の基の具体例を以下に説明
する。
【0016】ハロゲン原子;フッ素、塩素、臭素又はヨ
ウ素原子を示す。
ウ素原子を示す。
【0017】低級アルキル基;例えば、メチル、エチ
ル、n- プロピル、イソプロピル、n- ブチル、イソブ
チル、sec.- ブチル、tert.-ブチル、n- ペンチル、ネ
オペンチル、tert.-ペンチル、ヘキシル基等の如き炭素
数1〜6の直鎖または分岐した低級アルキル基を挙げる
ことができる。
ル、n- プロピル、イソプロピル、n- ブチル、イソブ
チル、sec.- ブチル、tert.-ブチル、n- ペンチル、ネ
オペンチル、tert.-ペンチル、ヘキシル基等の如き炭素
数1〜6の直鎖または分岐した低級アルキル基を挙げる
ことができる。
【0018】低級アルケニル基;例えば、エテニル、プ
ロペニル、ブテニル、ペンテニル基等の如き炭素数2〜
6の直鎖または分岐した低級アルケニル基を挙げること
ができる。
ロペニル、ブテニル、ペンテニル基等の如き炭素数2〜
6の直鎖または分岐した低級アルケニル基を挙げること
ができる。
【0019】低級アルキニル基;例えば、エチニル、プ
ロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル基等の如
き炭素数2〜6の直鎖または分岐した低級アルキニル基
を挙げることができる。
ロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル基等の如
き炭素数2〜6の直鎖または分岐した低級アルキニル基
を挙げることができる。
【0020】低級シクロアルキル基;例えば、シクロプ
ロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロへキシ
ル、シクロペンテニル、シクロヘキシニル基等の如き炭
素数3〜6の飽和または不飽和の低級シクロアルキル基
を挙げることができる。
ロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロへキシ
ル、シクロペンテニル、シクロヘキシニル基等の如き炭
素数3〜6の飽和または不飽和の低級シクロアルキル基
を挙げることができる。
【0021】低級アルコキシ基;例えば、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ペン
トキシ基等の如き、前記低級アルキル基をアルキル部分
として含む低級アルコキシ基を挙げることができる。
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ペン
トキシ基等の如き、前記低級アルキル基をアルキル部分
として含む低級アルコキシ基を挙げることができる。
【0022】低級アルキルチオ基;例えば、メチルチ
オ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブ
チルチオ、ペンチルチオ基等の如き、前記低級アルキル
基をアルキル部分として含む低級アルキルチオ基を挙げ
ることができる。
オ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブ
チルチオ、ペンチルチオ基等の如き、前記低級アルキル
基をアルキル部分として含む低級アルキルチオ基を挙げ
ることができる。
【0023】低級アルキルスルフェニル基;例えばメチ
ルスルフェニル、エチルスルフェニル、プロピルスルフ
ェニル、イソプロピルスルフェニル、ブチルスルフェニ
ル、ペンチルスルフェニル基等の如き、前記低級アルキ
ル基をアルキル部分として含む低級アルキルスルフェニ
ル基を挙げることができる。
ルスルフェニル、エチルスルフェニル、プロピルスルフ
ェニル、イソプロピルスルフェニル、ブチルスルフェニ
ル、ペンチルスルフェニル基等の如き、前記低級アルキ
ル基をアルキル部分として含む低級アルキルスルフェニ
ル基を挙げることができる。
【0024】低級アルキルスルホニル基;例えばメチル
スルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、
イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、ペンチル
スルホニル基等の如き、前記低級アルキル基をアルキル
部分として含む低級アルキルスルホニル基を挙げること
ができる。
スルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、
イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、ペンチル
スルホニル基等の如き、前記低級アルキル基をアルキル
部分として含む低級アルキルスルホニル基を挙げること
ができる。
【0025】低級ハロアルキル基;例えば、ブロモメチ
ル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、トリフルオロ
メチル、1-クロロエチル、2-ヨードエチル、3-クロロプ
ロピル、2-メチル-2- クロロプロピル、2,2,2-トリフル
オロエチル基等の如き、炭素数1〜6の低級ハロアルキ
ル基を挙げることができる。
ル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、トリフルオロ
メチル、1-クロロエチル、2-ヨードエチル、3-クロロプ
ロピル、2-メチル-2- クロロプロピル、2,2,2-トリフル
オロエチル基等の如き、炭素数1〜6の低級ハロアルキ
ル基を挙げることができる。
【0026】低級ハロアルコキシ基;例えば、トリフル
オロメトキシ、ジフルオロメトキシ、クロロジフルオロ
メトキシ、2-クロロエトキシ、1,1,2,2-テトラフルオロ
エトキシ、3-クロロプロポキシ基等の如き、上記ハロア
ルキル基をアルキル部分として含む低級ハロアルコキシ
基を挙げることができる。
オロメトキシ、ジフルオロメトキシ、クロロジフルオロ
メトキシ、2-クロロエトキシ、1,1,2,2-テトラフルオロ
エトキシ、3-クロロプロポキシ基等の如き、上記ハロア
ルキル基をアルキル部分として含む低級ハロアルコキシ
基を挙げることができる。
【0027】低級ハロアルキルチオ基;例えば、トリフ
ルオロメチルチオ、ジフルオロメチルチオ、クロロジフ
ルオロメチルチオ、2-クロロエチルチオ、1,1,2,2-テト
ラフルオロエチルチオ、3-クロロプロピルチオ基等の如
き、上記ハロアルキル基をアルキル部分として含む低級
ハロアルキルチオ基を挙げることができる。
ルオロメチルチオ、ジフルオロメチルチオ、クロロジフ
ルオロメチルチオ、2-クロロエチルチオ、1,1,2,2-テト
ラフルオロエチルチオ、3-クロロプロピルチオ基等の如
き、上記ハロアルキル基をアルキル部分として含む低級
ハロアルキルチオ基を挙げることができる。
【0028】低級ハロアルキルスルフェニル基;例え
ば、トリフルオロメチルスルフェニル、ジフルオロメチ
ルスルフェニル、クロロジフルオロメチルスルフェニ
ル、2-クロロエチルスルフェニル、1,1,2,2-テトラフル
オロエチルスルフェニル、3-クロロプロピルスルフェニ
ル基等の如き、上記ハロアルキル基をアルキル部分とし
て含む低級ハロアルキルスルフェニル基を挙げることが
できる。
ば、トリフルオロメチルスルフェニル、ジフルオロメチ
ルスルフェニル、クロロジフルオロメチルスルフェニ
ル、2-クロロエチルスルフェニル、1,1,2,2-テトラフル
オロエチルスルフェニル、3-クロロプロピルスルフェニ
ル基等の如き、上記ハロアルキル基をアルキル部分とし
て含む低級ハロアルキルスルフェニル基を挙げることが
できる。
【0029】低級ハロアルキルスルホニル基;例えば、
トリフルオロメチルスルホニル、ジフルオロメチルスル
ホニル、クロロジフルオロメチルスルホニル、2-クロロ
エチルスルホニル、1,1,2,2-テトラフルオロエチルスル
ホニル、3-クロロプロピルスルホニル基等の如き、上記
ハロアルキル基をアルキル部分として含む低級ハロアル
キルスルホニル基を挙げることができる。
トリフルオロメチルスルホニル、ジフルオロメチルスル
ホニル、クロロジフルオロメチルスルホニル、2-クロロ
エチルスルホニル、1,1,2,2-テトラフルオロエチルスル
ホニル、3-クロロプロピルスルホニル基等の如き、上記
ハロアルキル基をアルキル部分として含む低級ハロアル
キルスルホニル基を挙げることができる。
【0030】低級アルコキシカルボニル基;例えば、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキ
シカルボニル基等の如き炭素数2〜7のアルコキシカル
ボニル基を挙げることができる。
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキ
シカルボニル基等の如き炭素数2〜7のアルコキシカル
ボニル基を挙げることができる。
【0031】低級ハロアルコキシカルボニル基;例え
ば、トリフルオロメトキシカルボニル、ジフルオロメト
キシカルボニル、クロロジフルオロメトキシカルボニ
ル、2-クロロエトキシカルボニル、1,1,2,2-テトラフルオロエトキ
シカルホ゛ニル、3-クロロプロポキシカルボニル基等の如き、上
記ハロアルキル基をアルキル部分として含む低級ハロア
ルコキシカルボニル基を挙げることができる。
ば、トリフルオロメトキシカルボニル、ジフルオロメト
キシカルボニル、クロロジフルオロメトキシカルボニ
ル、2-クロロエトキシカルボニル、1,1,2,2-テトラフルオロエトキ
シカルホ゛ニル、3-クロロプロポキシカルボニル基等の如き、上
記ハロアルキル基をアルキル部分として含む低級ハロア
ルコキシカルボニル基を挙げることができる。
【0032】低級ジアルキルアミノ基;例えば、ジメチ
ルアミノ、エチルメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプ
ロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ基等のごとき炭素
数1〜6のアルキル基2 個により置換されたアミノ基を
挙げることができる。
ルアミノ、エチルメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプ
ロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ基等のごとき炭素
数1〜6のアルキル基2 個により置換されたアミノ基を
挙げることができる。
【0033】ヘテロアリール基;例えば、フラニル、チ
エニル、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、チアゾ
リル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジニル基のごと
き、1〜3個のヘテロ原子を含む5又は6員の複素環基
を挙げることが出来る。
エニル、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、チアゾ
リル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジニル基のごと
き、1〜3個のヘテロ原子を含む5又は6員の複素環基
を挙げることが出来る。
【0034】また、上記の基に具体的に示されていない
基は、既に挙げた原子及び基から任意に組み合わせて、
或いは一般的に知られた常識に従って選択される。
基は、既に挙げた原子及び基から任意に組み合わせて、
或いは一般的に知られた常識に従って選択される。
【0035】
【発明の実施の形態】本発明により提供される前記一般
式(I)で表わされる本発明の化合物の置換基Xm,R
1 ,R2 及びnの具体例を表1に示す。なお本記載の表
中で用いられている略号の意味は下記の通りである。
式(I)で表わされる本発明の化合物の置換基Xm,R
1 ,R2 及びnの具体例を表1に示す。なお本記載の表
中で用いられている略号の意味は下記の通りである。
【0036】Me;メチル基 Et;エチル基 n-Pr;n-プロピル基 iso-Pr;イソプロピル基 c-Pr;シクロプロピル基 n-Bu;n−ブチル基 s-Bu;sec −ブチル基 i-Bu;イソブチル基 t-Bu;tert−ブチル基 c-Bu;シクロブチル基 c-Pen ;シクロペンチル基 n-Hex ;n−ヘキシル基 c-Hex ;シクロヘキシル基 Ph;フェニル基 Bn;ベンジル基
【0037】
【化10】
【0038】
【表1】
【0039】
【表2】
【0040】
【表3】
【0041】
【表4】
【0042】
【表5】
【0043】
【表6】
【0044】
【表7】
【0045】
【表8】
【0046】
【表9】
【0047】
【表10】
【0048】
【表11】
【0049】
【表12】
【0050】
【表13】
【0051】
【表14】
【0052】
【表15】
【0053】
【表16】
【0054】
【表17】
【0055】
【表18】
【0056】
【表19】
【0057】
【表20】
【0058】
【表21】
【0059】
【表22】
【0060】
【表23】
【0061】
【表24】
【0062】
【表25】
【0063】
【表26】
【0064】本発明により提供される前記一般式(I)
で表わされる本発明の具体例を(化合物群−1)ないし
(化合物群−12)として以下に示す。
で表わされる本発明の具体例を(化合物群−1)ないし
(化合物群−12)として以下に示す。
【0065】(化合物群−1)JがJ- 1であり,G1
がCHであり、G2 がOであり、Xm、R1 、R2 及び
nが(表1)に示されたと同じである1560個の化合
物を含む。
がCHであり、G2 がOであり、Xm、R1 、R2 及び
nが(表1)に示されたと同じである1560個の化合
物を含む。
【0066】(化合物群−2)JがJ- 1であり,G1
がNであり、G2 がOであり、Xm、R1 、R2 及びn
が(表1)に示されたと同じである1560個の化合物
を含む。
がNであり、G2 がOであり、Xm、R1 、R2 及びn
が(表1)に示されたと同じである1560個の化合物
を含む。
【0067】(化合物群−3)JがJ- 1であり、G1
がNであり、G2 がNHであり、Xm、R1 、R2 及び
nが(表1)に示されたと同じである1560個の化合
物を含む。
がNであり、G2 がNHであり、Xm、R1 、R2 及び
nが(表1)に示されたと同じである1560個の化合
物を含む。
【0068】(化合物群−4)JがJ- 2であり、G1
がCHであり、G2 がOであり、Xm、R1 、R2 及び
nが(表1)に示されたと同じである1560個の化合
物を含む。
がCHであり、G2 がOであり、Xm、R1 、R2 及び
nが(表1)に示されたと同じである1560個の化合
物を含む。
【0069】(化合物群−5)JがJ- 2であり、G1
がNであり、G2 がOであり、Xm、R1 、R2 及びn
が(表1)に示されたと同じである1560個の化合物
を含む。
がNであり、G2 がOであり、Xm、R1 、R2 及びn
が(表1)に示されたと同じである1560個の化合物
を含む。
【0070】(化合物群−6)JがJ- 2であり、G1
がNであり、G2 がNHであり、Xm、R1 、R2 及び
nが(表1)に示されたと同じである1560個の化合
物を含む。
がNであり、G2 がNHであり、Xm、R1 、R2 及び
nが(表1)に示されたと同じである1560個の化合
物を含む。
【0071】(化合物群−7)JがJ- 3であり、G1
がCHであり、G2 がOであり、Xm、R1 、R2 及び
nが(表1)に示されたと同じである1560個の化合
物を含む。
がCHであり、G2 がOであり、Xm、R1 、R2 及び
nが(表1)に示されたと同じである1560個の化合
物を含む。
【0072】(化合物群−8)JがJ- 3であり、G1
がNであり、G2 がOであり、Xm、R1 、R2 および
nが(表1)に示されたと同じである1560個の化合
物を含む。
がNであり、G2 がOであり、Xm、R1 、R2 および
nが(表1)に示されたと同じである1560個の化合
物を含む。
【0073】(化合物群−9)JがJ- 3であり、G1
がNであり、G2 がNHであり、Xm、R1 、R2 及び
nが(表1)に示されたと同じである1560個の化合
物を含む。
がNであり、G2 がNHであり、Xm、R1 、R2 及び
nが(表1)に示されたと同じである1560個の化合
物を含む。
【0074】(化合物群−10)JがJ- 4であり、G
1 がCHであり、G2 がOであり、Xm、R1 、R2 及
びnが(表1)に示されたと同じである1560個の化
合物を含む。
1 がCHであり、G2 がOであり、Xm、R1 、R2 及
びnが(表1)に示されたと同じである1560個の化
合物を含む。
【0075】(化合物群−11)JがJ- 4であり、G
1 がNであり、G2 がOであり、Xm、R1 、R2 及び
nが(表1)に示されたと同じである1560個の化合
物を含む。
1 がNであり、G2 がOであり、Xm、R1 、R2 及び
nが(表1)に示されたと同じである1560個の化合
物を含む。
【0076】(化合物群−12)JがJ- 4であり、G
1 がNであり、G2 がNHであり、Xm、R1 、R2 及
びnが(表1)に示されたと同じである1560個の化
合物を含む。
1 がNであり、G2 がNHであり、Xm、R1 、R2 及
びnが(表1)に示されたと同じである1560個の化
合物を含む。
【0077】本発明における前記一般式(I)の化合物
はいかなる方法によって得られた物でもよいが、例えば
次のような方法によって製造することができる。
はいかなる方法によって得られた物でもよいが、例えば
次のような方法によって製造することができる。
【0078】A法
【0079】
【化11】
【0080】[式中、A、R1 及びG1 は、前記一般式
(I)における定義と同じ意味を示し、Yはハロゲン原
子、アルキルスルフォニルオキシ基またはアリールスル
フォニルオキシ基を示す。] 化合物(I-1 )、(I-2 )、(I-3 )及び(I-4 )は、
式(III )で表わされる化合物と、式(IV)及び式(V)
で表わされる化合物とを、順次、適当な溶媒中又は無溶
媒で酸結合剤の存在又は非存在下に反応させることによ
り得ることが出来る。
(I)における定義と同じ意味を示し、Yはハロゲン原
子、アルキルスルフォニルオキシ基またはアリールスル
フォニルオキシ基を示す。] 化合物(I-1 )、(I-2 )、(I-3 )及び(I-4 )は、
式(III )で表わされる化合物と、式(IV)及び式(V)
で表わされる化合物とを、順次、適当な溶媒中又は無溶
媒で酸結合剤の存在又は非存在下に反応させることによ
り得ることが出来る。
【0081】反応温度は、-80 ℃から150 ℃もしくは溶
媒の沸点の範囲で任意に設定できる。溶媒を使用する場
合の溶媒としては原料と反応しないものであれば特に制
限なく使用でき、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ン等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジ
クロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、
エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、酢酸
メチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル、
プロピオニトリル等のニトリル類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルフォキシド、水等が挙げられ、これら
の溶媒は単独で用いる事もできるし必要に応じて混合す
ることもできる。また反応時間は、反応温度、反応溶媒
等の条件にも依るが一般に 0.1〜24時間の範囲で行うこ
とができる。使用される酸結合剤としては、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等の金属水
酸化物類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウ
ム、炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム等の金属炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カ
リウム等の金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナト
リウムエトキシド、カリウムターシャリーブトキシド等
の金属アルコキシド類、ピリジン、トリエチルアミン、
N,N−ジメチルピリジン、ジアザビシクロウンデセ
ン、ジアザビシクロオクタン等の有機塩基類が挙げられ
る。
媒の沸点の範囲で任意に設定できる。溶媒を使用する場
合の溶媒としては原料と反応しないものであれば特に制
限なく使用でき、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ン等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジ
クロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、
エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、酢酸
メチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル、
プロピオニトリル等のニトリル類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルフォキシド、水等が挙げられ、これら
の溶媒は単独で用いる事もできるし必要に応じて混合す
ることもできる。また反応時間は、反応温度、反応溶媒
等の条件にも依るが一般に 0.1〜24時間の範囲で行うこ
とができる。使用される酸結合剤としては、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等の金属水
酸化物類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウ
ム、炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム等の金属炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カ
リウム等の金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナト
リウムエトキシド、カリウムターシャリーブトキシド等
の金属アルコキシド類、ピリジン、トリエチルアミン、
N,N−ジメチルピリジン、ジアザビシクロウンデセ
ン、ジアザビシクロオクタン等の有機塩基類が挙げられ
る。
【0082】式(III )の化合物に対する式(IV)及び
式(V) の化合物の使用割合、式(VI)の化合物に対する式
(V) の化合物の使用割合及び式(VII) の化合物に対する
式(IV)の化合物の使用割合は、厳密には制限されない
が、通常、式(III )、式(VI)及び式(VII) の化合物
1モル当たり式(IV)及び式(V) の化合物は、 0.5〜2
モル、特に0.9 〜1.1 モルの範囲内で用いるのが好都合
である。
式(V) の化合物の使用割合、式(VI)の化合物に対する式
(V) の化合物の使用割合及び式(VII) の化合物に対する
式(IV)の化合物の使用割合は、厳密には制限されない
が、通常、式(III )、式(VI)及び式(VII) の化合物
1モル当たり式(IV)及び式(V) の化合物は、 0.5〜2
モル、特に0.9 〜1.1 モルの範囲内で用いるのが好都合
である。
【0083】生成する式(I-1 )、(I-2 )、(I-3 )
及び(I-4 )の化合物の反応混合物からの分離、精製は
それ自体既知の方法、例えば、抽出、再結晶、クロマト
グラフィー等により行うことができる。
及び(I-4 )の化合物の反応混合物からの分離、精製は
それ自体既知の方法、例えば、抽出、再結晶、クロマト
グラフィー等により行うことができる。
【0084】B法
【0085】
【化12】
【0086】[式中、A、R1 及びG1 は、前記一般式
(I)における定義と同じ意味を示し、Yはハロゲン原
子、アルキルスルフォニルオキシ基またはアリールスル
フォニルオキシ基を示す。] 式(I-1-1 )、(I-1-2 )、(I-2-1 )及び(I-2-2 )
の化合物は式(VI)で表わされる化合物を適宜、酸化反
応及び式(V) で表される化合物と適当な溶媒中または無
溶媒で酸結合剤の存在下での反応に供するか、又は、式
(I-1 )及び式(I-2 )の化合物を酸化反応に供する事
により得ることが出来る。
(I)における定義と同じ意味を示し、Yはハロゲン原
子、アルキルスルフォニルオキシ基またはアリールスル
フォニルオキシ基を示す。] 式(I-1-1 )、(I-1-2 )、(I-2-1 )及び(I-2-2 )
の化合物は式(VI)で表わされる化合物を適宜、酸化反
応及び式(V) で表される化合物と適当な溶媒中または無
溶媒で酸結合剤の存在下での反応に供するか、又は、式
(I-1 )及び式(I-2 )の化合物を酸化反応に供する事
により得ることが出来る。
【0087】式(V) で表される化合物との反応の、反応
温度は、 -80℃から 150℃もしくは溶媒の沸点の範囲で
任意に設定できる。溶媒を使用する場合の溶媒としては
原料と反応しないものであれば、特に制限なく使用で
き、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等
の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素類、ジエチルエ−テル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル
類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エ
チル等のエステル類、アセトニトリル、プロピオニトリ
ル等のニトリル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルフォキシド、水等が挙げられ、これらの溶媒は単独で
用いる事もできるし必要に応じて混合することもでき
る。また反応時間は、反応温度、反応溶媒等の条件にも
依るが一般に 0.1〜24時間の範囲で行うことができる。
使用される酸結合剤としては、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化カルシウム等の金属水酸化物類、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸カル
シウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金
属炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金
属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコ
キシド類、ピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメ
チルピリジン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシ
クロオクタン等の有機塩基類が挙げられる。
温度は、 -80℃から 150℃もしくは溶媒の沸点の範囲で
任意に設定できる。溶媒を使用する場合の溶媒としては
原料と反応しないものであれば、特に制限なく使用で
き、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等
の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素類、ジエチルエ−テル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル
類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エ
チル等のエステル類、アセトニトリル、プロピオニトリ
ル等のニトリル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルフォキシド、水等が挙げられ、これらの溶媒は単独で
用いる事もできるし必要に応じて混合することもでき
る。また反応時間は、反応温度、反応溶媒等の条件にも
依るが一般に 0.1〜24時間の範囲で行うことができる。
使用される酸結合剤としては、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化カルシウム等の金属水酸化物類、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸カル
シウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金
属炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金
属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコ
キシド類、ピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメ
チルピリジン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシ
クロオクタン等の有機塩基類が挙げられる。
【0088】式(VI-1)及び(VI-2)の化合物に対する
式(V) の化合物の使用割合は、厳密には制限されない
が、通常、式(VI-1)及び(VI-2)の化合物1モル当た
り式(V) の化合物は、 0.5〜2モル、特に 0.9〜1.1 モ
ルの範囲内で用いるのが好都合である。
式(V) の化合物の使用割合は、厳密には制限されない
が、通常、式(VI-1)及び(VI-2)の化合物1モル当た
り式(V) の化合物は、 0.5〜2モル、特に 0.9〜1.1 モ
ルの範囲内で用いるのが好都合である。
【0089】酸化反応の反応温度は、 -80℃から 150℃
もしくは溶媒の沸点の範囲で任意に設定できる。また反
応時間は、反応温度、反応溶媒等の条件にも依るが一般
に0.1 〜24時間の範囲で行うことができる。使用される
酸化剤としては、過酢酸、過安息香酸、m−クロロ過安
息香酸、モノ過フタル酸マグネシウム塩等の過酸類及び
過酸化水素が挙げられ、又、反応溶媒としては、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン
化炭化水素類、蟻酸、酢酸、プロピオン酸等のカルボン
酸類、水等が挙げられ、これらの溶媒は単独で用いる事
もできるし必要に応じて混合することもできる。
もしくは溶媒の沸点の範囲で任意に設定できる。また反
応時間は、反応温度、反応溶媒等の条件にも依るが一般
に0.1 〜24時間の範囲で行うことができる。使用される
酸化剤としては、過酢酸、過安息香酸、m−クロロ過安
息香酸、モノ過フタル酸マグネシウム塩等の過酸類及び
過酸化水素が挙げられ、又、反応溶媒としては、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン
化炭化水素類、蟻酸、酢酸、プロピオン酸等のカルボン
酸類、水等が挙げられ、これらの溶媒は単独で用いる事
もできるし必要に応じて混合することもできる。
【0090】生成する式(I-1-1 )、(I-1-2 )、(I-
2-1 )及び(I-2-2 )の化合物の反応混合物からの分
離、精製はそれ自体既知の方法、例えば、抽出、再結
晶、クロマトグラフィー等により行うことができる。
2-1 )及び(I-2-2 )の化合物の反応混合物からの分
離、精製はそれ自体既知の方法、例えば、抽出、再結
晶、クロマトグラフィー等により行うことができる。
【0091】C法
【0092】
【化13】
【0093】[式中、A、R1 及びG1 は、前記一般式
(I)における定義と同じ意味を示し、Yはハロゲン原
子、アルキルスルフォニルオキシ基又はアリールスルフ
ォニルオキシ基を示す。] 式(I-3-1 )、(I-3-2 )、(I-4-1 )及び(I-4-2 )
の化合物は式(VII )で表わされる化合物を適宜、酸化
反応及び式(IV)で表される化合物と適当な溶媒中又は
無溶媒で酸結合剤の存在下での反応に供するか、式(I-
3 )又は式(I-4 )の化合物を酸化反応に供する事によ
り得ることが出来る。
(I)における定義と同じ意味を示し、Yはハロゲン原
子、アルキルスルフォニルオキシ基又はアリールスルフ
ォニルオキシ基を示す。] 式(I-3-1 )、(I-3-2 )、(I-4-1 )及び(I-4-2 )
の化合物は式(VII )で表わされる化合物を適宜、酸化
反応及び式(IV)で表される化合物と適当な溶媒中又は
無溶媒で酸結合剤の存在下での反応に供するか、式(I-
3 )又は式(I-4 )の化合物を酸化反応に供する事によ
り得ることが出来る。
【0094】式(IV)で表される化合物との反応の反応
温度は、 -80℃から 150℃もしくは溶媒の沸点の範囲で
任意に設定できる。溶媒を使用する場合の溶媒としては
原料と反応しないものであれば特に制限なく使用でき、
例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂
肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの
芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル類、
ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハ
ロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、イソプ
ロパノール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エチル
等のエステル類、アセトニトリル、プロピオニトリル等
のニトリル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルフ
ォキシド、水等が挙げられ、これらの溶媒は単独で用い
る事もできるし必要に応じて混合することもできる。ま
た反応時間は、反応温度、反応溶媒等の条件にも依るが
一般に0.1 〜24時間の範囲で行うことができる。使用さ
れる酸結合剤としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化カルシウム等の金属水酸化物類、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸カルシウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭
酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水
素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコキ
シド類、ピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチ
ルピリジン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシク
ロオクタン等の有機塩基類が挙げられる。
温度は、 -80℃から 150℃もしくは溶媒の沸点の範囲で
任意に設定できる。溶媒を使用する場合の溶媒としては
原料と反応しないものであれば特に制限なく使用でき、
例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂
肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの
芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル類、
ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハ
ロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、イソプ
ロパノール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エチル
等のエステル類、アセトニトリル、プロピオニトリル等
のニトリル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルフ
ォキシド、水等が挙げられ、これらの溶媒は単独で用い
る事もできるし必要に応じて混合することもできる。ま
た反応時間は、反応温度、反応溶媒等の条件にも依るが
一般に0.1 〜24時間の範囲で行うことができる。使用さ
れる酸結合剤としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化カルシウム等の金属水酸化物類、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸カルシウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭
酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水
素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコキ
シド類、ピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチ
ルピリジン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシク
ロオクタン等の有機塩基類が挙げられる。
【0095】式(VII-1 )及び(VII-2 )の化合物に対
する式(V) の化合物の使用割合は、厳密には制限されな
いが、通常、式(VII-1 )及び(VII-2 )の化合物1モ
ル当たり式(IV)の化合物は、 0.5〜2モル、特に 0.9
〜1.1 モルの範囲内で用いるのが好都合である。
する式(V) の化合物の使用割合は、厳密には制限されな
いが、通常、式(VII-1 )及び(VII-2 )の化合物1モ
ル当たり式(IV)の化合物は、 0.5〜2モル、特に 0.9
〜1.1 モルの範囲内で用いるのが好都合である。
【0096】酸化反応の反応温度は、 -80℃から 150℃
もしくは溶媒の沸点の範囲で任意に設定できる。また反
応時間は、反応温度、反応溶媒等の条件にも依るが一般
に0.1 〜24時間の範囲で行うことができる。使用される
酸化剤としては、過酢酸、過安息香酸、m−クロロ過安
息香酸、モノ過フタル酸マグネシウム塩等の過酸類及び
過酸化水素が挙げられ、又、反応溶媒としては、原料と
反応しないものであれば特に制限なく使用でき、例え
ば、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素類、蟻酸、酢酸、プロピオン酸等
のカルボン酸類、水等が挙げられ、これらの溶媒は単独
で用いる事もできるし必要に応じて混合することもでき
る。
もしくは溶媒の沸点の範囲で任意に設定できる。また反
応時間は、反応温度、反応溶媒等の条件にも依るが一般
に0.1 〜24時間の範囲で行うことができる。使用される
酸化剤としては、過酢酸、過安息香酸、m−クロロ過安
息香酸、モノ過フタル酸マグネシウム塩等の過酸類及び
過酸化水素が挙げられ、又、反応溶媒としては、原料と
反応しないものであれば特に制限なく使用でき、例え
ば、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素類、蟻酸、酢酸、プロピオン酸等
のカルボン酸類、水等が挙げられ、これらの溶媒は単独
で用いる事もできるし必要に応じて混合することもでき
る。
【0097】生成する式(I-3-1 )、(I-3-2 )、(I-
4-1 )及び(I-4-2 )の化合物の反応混合物からの分
離、精製はそれ自体既知の方法、例えば、抽出、再結
晶、クロマトグラフィー等により行うことができる。
4-1 )及び(I-4-2 )の化合物の反応混合物からの分
離、精製はそれ自体既知の方法、例えば、抽出、再結
晶、クロマトグラフィー等により行うことができる。
【0098】D法
【0099】
【化14】
【0100】[式中、Jは、前記一般式(I)における
定義と同じ意味を示す。]式(I-6 )の化合物は、式
(I-5 )の化合物と式(VIII)の化合物とを、適当な溶
媒中で反応させることにより得ることが出来る。
定義と同じ意味を示す。]式(I-6 )の化合物は、式
(I-5 )の化合物と式(VIII)の化合物とを、適当な溶
媒中で反応させることにより得ることが出来る。
【0101】反応温度は、 -80℃から 150℃もしくは溶
媒の沸点の範囲で任意に設定できる。溶媒を使用する場
合の溶媒としては原料と反応しないものであれば特に制
限なく使用でき、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ン等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジ
クロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、
エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、酢酸
メチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル、
プロピオニトリル等のニトリル類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルフォキシド、水等が挙げられ、これら
の溶媒は単独で用いる事もできるし必要に応じて混合す
ることもできる。また反応時間は、反応温度、反応溶媒
等の条件にも依るが、一般に 0.1〜24時間の範囲で行う
ことができる。
媒の沸点の範囲で任意に設定できる。溶媒を使用する場
合の溶媒としては原料と反応しないものであれば特に制
限なく使用でき、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ン等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジ
クロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、
エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、酢酸
メチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル、
プロピオニトリル等のニトリル類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルフォキシド、水等が挙げられ、これら
の溶媒は単独で用いる事もできるし必要に応じて混合す
ることもできる。また反応時間は、反応温度、反応溶媒
等の条件にも依るが、一般に 0.1〜24時間の範囲で行う
ことができる。
【0102】式(I-6 )の化合物に対する式(VIII)の
化合物の使用割合は、厳密には制限されないが、通常、
式(I-6 )の化合物1モル当たり式(VIII)の化合物
は、0.5 〜10モル、特に 1〜5 モルの範囲内で用いるの
が好都合である。
化合物の使用割合は、厳密には制限されないが、通常、
式(I-6 )の化合物1モル当たり式(VIII)の化合物
は、0.5 〜10モル、特に 1〜5 モルの範囲内で用いるの
が好都合である。
【0103】生成する式(I-6 )の化合物の反応混合物
からの分離、精製はそれ自体既知の方法、例えば、抽
出、再結晶、クロマトグラフィー等により行うことがで
きる。
からの分離、精製はそれ自体既知の方法、例えば、抽
出、再結晶、クロマトグラフィー等により行うことがで
きる。
【0104】E法
【0105】
【化15】
【0106】[式中、Jは、前記一般式(I)における
定義と同じ意味を示す。] 式(I-6 n=1) の化合物は、式(I-6 n=0) の化合物を適当
な酸化剤により酸化することにより得ることが出来る。
また、式(I-6 n=2) の化合物は、式(I-6 n=0)の化合物
又は式(I-6 n=1) の化合物を適当な酸化剤により酸化す
ることにより得ることが出来る。
定義と同じ意味を示す。] 式(I-6 n=1) の化合物は、式(I-6 n=0) の化合物を適当
な酸化剤により酸化することにより得ることが出来る。
また、式(I-6 n=2) の化合物は、式(I-6 n=0)の化合物
又は式(I-6 n=1) の化合物を適当な酸化剤により酸化す
ることにより得ることが出来る。
【0107】酸化反応の反応温度は、 -80℃から 150℃
もしくは溶媒の沸点の範囲で任意に設定できる。また反
応時間は、反応温度、反応溶媒等の条件にも依るが一般
に0.1 〜24時間の範囲で行うことができる。使用される
酸化剤としては、過酢酸、過安息香酸、m−クロロ過安
息香酸、モノ過フタル酸マグネシウム塩等の過酸類及び
過酸化水素が挙げられ、また反応溶媒としては原料と反
応しないものであれば特に制限なく使用でき、例えば、
ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハ
ロゲン化炭化水素類、蟻酸、酢酸、プロピオン酸等のカ
ルボン酸類、水等が挙げられこれらの溶媒は単独で用い
る事もできるし必要に応じて混合することもできる。
もしくは溶媒の沸点の範囲で任意に設定できる。また反
応時間は、反応温度、反応溶媒等の条件にも依るが一般
に0.1 〜24時間の範囲で行うことができる。使用される
酸化剤としては、過酢酸、過安息香酸、m−クロロ過安
息香酸、モノ過フタル酸マグネシウム塩等の過酸類及び
過酸化水素が挙げられ、また反応溶媒としては原料と反
応しないものであれば特に制限なく使用でき、例えば、
ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハ
ロゲン化炭化水素類、蟻酸、酢酸、プロピオン酸等のカ
ルボン酸類、水等が挙げられこれらの溶媒は単独で用い
る事もできるし必要に応じて混合することもできる。
【0108】生成する式(I-6 n=1) および(I-6 n=2) の
化合物の反応混合物からの分離、精製はそれ自体既知の
方法、例えば、抽出、再結晶、クロマトグラフィー等に
より行うことができる。
化合物の反応混合物からの分離、精製はそれ自体既知の
方法、例えば、抽出、再結晶、クロマトグラフィー等に
より行うことができる。
【0109】本発明の一般式(I)で表されるトリアゾ
ール誘導体は農園芸用殺菌剤の有効成分として有用であ
り、例えば稲いもち病(Pyricuraria oryzae)、稲紋枯病
(Rhizoctonia solani)、稲胡麻葉枯病(Cochibolus mi
yabeanus) 、大麦及び小麦等のうどんこ病(Erysiphe gr
aminis) 、の如き種々の宿主植物についてのうどんこ
病、エンバクの冠さび病(Puccinia coronata) 、トマト
の疫病(Phytophthora infestans)、及び他の植物の疫
病、キュウリのべと病(Pseudoperonospora cubensi
s)、ブドウのべと病(Plasmopara viticola )等の種
々植物のべと病、リンゴ黒星病(Venturia inaequalis
)、リンゴ斑点落葉病(Alternaria mali )、ナシ黒
斑病(Alternaria kikuchiana) 、カンキツ黒点病(Diapo
rthe citri) 等の病気に対して極めて高い防除効果を有
するものである。
ール誘導体は農園芸用殺菌剤の有効成分として有用であ
り、例えば稲いもち病(Pyricuraria oryzae)、稲紋枯病
(Rhizoctonia solani)、稲胡麻葉枯病(Cochibolus mi
yabeanus) 、大麦及び小麦等のうどんこ病(Erysiphe gr
aminis) 、の如き種々の宿主植物についてのうどんこ
病、エンバクの冠さび病(Puccinia coronata) 、トマト
の疫病(Phytophthora infestans)、及び他の植物の疫
病、キュウリのべと病(Pseudoperonospora cubensi
s)、ブドウのべと病(Plasmopara viticola )等の種
々植物のべと病、リンゴ黒星病(Venturia inaequalis
)、リンゴ斑点落葉病(Alternaria mali )、ナシ黒
斑病(Alternaria kikuchiana) 、カンキツ黒点病(Diapo
rthe citri) 等の病気に対して極めて高い防除効果を有
するものである。
【0110】本発明の殺菌剤は、前記一般式(I)の新
規トリアゾール誘導体を有効成分として含有するもので
ある。
規トリアゾール誘導体を有効成分として含有するもので
ある。
【0111】本発明の前記化合物を殺菌剤として用いる
場合には、担体もしくは希釈剤、添加剤及び補助剤等と
公知の手法で混合して、通常農薬として用いられる製剤
形態、例えば粉剤、粒剤、水和剤、乳剤、フロアブル剤
等に調製して使用される。また他の農薬、例えば殺菌
剤、殺虫剤、殺ダニ剤、除草剤、植物生長調節剤等、肥
料又は土壌改良剤等と混合又は併用して使用することが
できる。
場合には、担体もしくは希釈剤、添加剤及び補助剤等と
公知の手法で混合して、通常農薬として用いられる製剤
形態、例えば粉剤、粒剤、水和剤、乳剤、フロアブル剤
等に調製して使用される。また他の農薬、例えば殺菌
剤、殺虫剤、殺ダニ剤、除草剤、植物生長調節剤等、肥
料又は土壌改良剤等と混合又は併用して使用することが
できる。
【0112】特に他の殺菌剤と混合使用することによ
り、使用農薬量を減少させ、また省力化をもたらすのみ
ならず、両薬剤の共力作用による殺菌スペクトラムの拡
大及び相乗作用による一層高い効果も期待できる。
り、使用農薬量を減少させ、また省力化をもたらすのみ
ならず、両薬剤の共力作用による殺菌スペクトラムの拡
大及び相乗作用による一層高い効果も期待できる。
【0113】製剤に際して用いられる担体もしくは希釈
剤としては、一般に農薬の製剤に使用される固体ないし
は液体の担体が挙げられる。
剤としては、一般に農薬の製剤に使用される固体ないし
は液体の担体が挙げられる。
【0114】固体担体としては、例えば、カオリナイト
群、モンモリロナイト群、イライト群あるいはポリグロ
スカイト群等で代表されるクレー類、詳しくはパイロフ
ライト、アタパルジャイト、セピオライト、カオリナイ
ト、ベントナイト、バーミキュライト、雲母やタルク
等;石膏、炭酸カルシウム、ドロマイト、けいそう土、
マグネシウム石灰、りん石灰、ゼオライト、無水珪酸、
合成珪酸カルシウム等のその他の無機物質;大豆粉、タ
バコ粉、クルミ粉、小麦粉、木粉、デンプン、結晶セル
ロース等の植物性有機物質;クマロン樹脂、石油樹脂、
アルキッド樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリアルキレングリ
コール、ケトン樹脂、エステルガム、コーバルガム、ダ
ンマルガム等の合成又は天然の高分子化合物;カルナウ
バロウ、蜜ロウ等のワックス類あるいは尿素等が例示で
きる。
群、モンモリロナイト群、イライト群あるいはポリグロ
スカイト群等で代表されるクレー類、詳しくはパイロフ
ライト、アタパルジャイト、セピオライト、カオリナイ
ト、ベントナイト、バーミキュライト、雲母やタルク
等;石膏、炭酸カルシウム、ドロマイト、けいそう土、
マグネシウム石灰、りん石灰、ゼオライト、無水珪酸、
合成珪酸カルシウム等のその他の無機物質;大豆粉、タ
バコ粉、クルミ粉、小麦粉、木粉、デンプン、結晶セル
ロース等の植物性有機物質;クマロン樹脂、石油樹脂、
アルキッド樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリアルキレングリ
コール、ケトン樹脂、エステルガム、コーバルガム、ダ
ンマルガム等の合成又は天然の高分子化合物;カルナウ
バロウ、蜜ロウ等のワックス類あるいは尿素等が例示で
きる。
【0115】適当な液体担体としては、例えば、ケロシ
ン、鉱油、スピンドル油、ホワイトオイル等のパラフィ
ン系又はナフテン系炭化水素;キシレン、エチルベンゼ
ン、クメン、メチルナフタリン等の芳香族炭化水素;ト
リクロロエチレン、モノクロロベンゼン、オルトクロロ
トルエン等の塩素化炭化水素;ジオキサン、テトラヒド
ロフランのようなエーテル類;アセトン、メチルエチル
ケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセ
トフェノン、イソホロン等のケトン類;酢酸エチル、酢
酸アミル、エチレングリコールアセテート、ジエチレン
グリコールアセテート、マレイン酸ジブチル、コハク酸
ジエチル等のエステル類;メタノール、n-ヘキサノー
ル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、シク
ロヘキサノール、ベンジルアルコール等のアルコール
類;エチレングリコールエチルエーテル、ジエチレング
リコールブチルエーテル等のエーテルアルコール類;ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶
媒あるいは水等が挙げられる。
ン、鉱油、スピンドル油、ホワイトオイル等のパラフィ
ン系又はナフテン系炭化水素;キシレン、エチルベンゼ
ン、クメン、メチルナフタリン等の芳香族炭化水素;ト
リクロロエチレン、モノクロロベンゼン、オルトクロロ
トルエン等の塩素化炭化水素;ジオキサン、テトラヒド
ロフランのようなエーテル類;アセトン、メチルエチル
ケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセ
トフェノン、イソホロン等のケトン類;酢酸エチル、酢
酸アミル、エチレングリコールアセテート、ジエチレン
グリコールアセテート、マレイン酸ジブチル、コハク酸
ジエチル等のエステル類;メタノール、n-ヘキサノー
ル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、シク
ロヘキサノール、ベンジルアルコール等のアルコール
類;エチレングリコールエチルエーテル、ジエチレング
リコールブチルエーテル等のエーテルアルコール類;ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶
媒あるいは水等が挙げられる。
【0116】その他本発明の化合物の乳化、分散、湿
潤、展着、拡展、結合、崩壊性調節、有効成分安定化、
流動性改良、防錆、凍結防止等の目的で、1種又は2種
以上の界面活性剤及び/又はその他の補助剤を使用する
こともできる。
潤、展着、拡展、結合、崩壊性調節、有効成分安定化、
流動性改良、防錆、凍結防止等の目的で、1種又は2種
以上の界面活性剤及び/又はその他の補助剤を使用する
こともできる。
【0117】使用される界面活性剤の例としては、非イ
オン性、陰イオン性、陽イオン性及び両性イオン性のい
ずれのものをも使用しうるが、通常は非イオン性及び
(又は)陰イオン性のものが使用される。
オン性、陰イオン性、陽イオン性及び両性イオン性のい
ずれのものをも使用しうるが、通常は非イオン性及び
(又は)陰イオン性のものが使用される。
【0118】適当な非イオン性界面活性剤としては、例
えば、ラウリルアルコール、ステアリルアルコール、オ
レイルアルコール等の高級アルコールにエチレンオキシ
ドを重合付加させた化合物;イソオクチルフェノール、
ノニルフェノール等のアルキルフェノールにエチレンオ
キシドを重合付加させた化合物;ブチルナフトール、オ
クチルナフトール等のアルキルナフトールにエチレンオ
キシドを重合付加させた化合物;パルミチン酸、ステア
リン酸、オレイン酸等の高級脂肪酸にエチレンオキシド
を重合付加させた化合物;ソレビタン等の多価アルコー
ル高級脂肪酸エステル及びそれにエチレンオキシドを重
合付加させた化合物、エチレンオキシドとプロピレンオ
キシドをブロック重合付加させた化合物等が挙げられ
る。
えば、ラウリルアルコール、ステアリルアルコール、オ
レイルアルコール等の高級アルコールにエチレンオキシ
ドを重合付加させた化合物;イソオクチルフェノール、
ノニルフェノール等のアルキルフェノールにエチレンオ
キシドを重合付加させた化合物;ブチルナフトール、オ
クチルナフトール等のアルキルナフトールにエチレンオ
キシドを重合付加させた化合物;パルミチン酸、ステア
リン酸、オレイン酸等の高級脂肪酸にエチレンオキシド
を重合付加させた化合物;ソレビタン等の多価アルコー
ル高級脂肪酸エステル及びそれにエチレンオキシドを重
合付加させた化合物、エチレンオキシドとプロピレンオ
キシドをブロック重合付加させた化合物等が挙げられ
る。
【0119】適当な陰イオン性界面活性剤としては、例
えば、ラウリル硫酸ナトリウム、オレイルアルコール硫
酸エステルアミン塩等のアルキル硫酸エステル塩、スル
ホコハク酸ジオクチルエステルナトリウム、2-エチルヘ
キセンスルホン酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸
塩、イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メ
チレンビスナフタレンスルホン酸ナトリウム、リグニン
スルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナ
トリウム等のアリールスルホン酸塩等が挙げられる。
えば、ラウリル硫酸ナトリウム、オレイルアルコール硫
酸エステルアミン塩等のアルキル硫酸エステル塩、スル
ホコハク酸ジオクチルエステルナトリウム、2-エチルヘ
キセンスルホン酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸
塩、イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メ
チレンビスナフタレンスルホン酸ナトリウム、リグニン
スルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナ
トリウム等のアリールスルホン酸塩等が挙げられる。
【0120】更に、本発明の殺菌剤には、製剤の性状を
改善し殺菌効果を高める目的で、カゼイン、ゼラチン、
アルブミン、ニカワ、アルギン酸ソーダ、カルボキシメ
チルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチル
セルロース、ポリビニルアルコール等の高分子化合物や
他の補助剤を併用することもできる。 上記担体及び種
々の補助剤は製剤の剤型、適用場面等を考慮して、目的
に応じてそれぞれ単独あるいは組み合わせて適宜使用さ
れる。
改善し殺菌効果を高める目的で、カゼイン、ゼラチン、
アルブミン、ニカワ、アルギン酸ソーダ、カルボキシメ
チルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチル
セルロース、ポリビニルアルコール等の高分子化合物や
他の補助剤を併用することもできる。 上記担体及び種
々の補助剤は製剤の剤型、適用場面等を考慮して、目的
に応じてそれぞれ単独あるいは組み合わせて適宜使用さ
れる。
【0121】このようにして得られた各種製剤形におけ
る本発明化合物有効成分含有率は製剤形により種々変化
するものであるが、通常0.1〜99重量%が適当であ
り、好ましくは1〜60重量%が最も適当である。
る本発明化合物有効成分含有率は製剤形により種々変化
するものであるが、通常0.1〜99重量%が適当であ
り、好ましくは1〜60重量%が最も適当である。
【0122】水和剤の場合は、例えば有効成分化合物を
通常10〜60重量%含有し、残部は固体担体及び分散
湿潤剤であって、必要に応じて保護コロイド剤、消泡剤
等が加えられる。
通常10〜60重量%含有し、残部は固体担体及び分散
湿潤剤であって、必要に応じて保護コロイド剤、消泡剤
等が加えられる。
【0123】粒剤の場合は、例えば有効成分化合物を通
常1〜35重量%含有し、残部は固体担体及び界面活性
剤等である。有効成分化合物は固体担体と均一に混合さ
れているか、あるいは固体担体の表面に均一に固着また
は吸着されており、粒の径は約0.2ないし1.5mmで
ある。
常1〜35重量%含有し、残部は固体担体及び界面活性
剤等である。有効成分化合物は固体担体と均一に混合さ
れているか、あるいは固体担体の表面に均一に固着また
は吸着されており、粒の径は約0.2ないし1.5mmで
ある。
【0124】乳剤の場合は、例えば有効成分化合物を通
常5〜30重量%含有しており、これに約5ないし20
重量%の乳化剤が含まれ、残部は液体担体であり、必要
に応じて展着剤及び防錆剤等が加えられる。
常5〜30重量%含有しており、これに約5ないし20
重量%の乳化剤が含まれ、残部は液体担体であり、必要
に応じて展着剤及び防錆剤等が加えられる。
【0125】フロアブル剤の場合は、例えば有効成分化
合物を通常5〜50重量%含有しており、これに3ない
し10重量%の分散湿潤剤が含まれ、残部は水であり必
要に応じて保護コロイド剤、防腐剤、消泡剤等が加えら
れる。
合物を通常5〜50重量%含有しており、これに3ない
し10重量%の分散湿潤剤が含まれ、残部は水であり必
要に応じて保護コロイド剤、防腐剤、消泡剤等が加えら
れる。
【0126】本発明のトリアゾール誘導体は、前記一般
式(I)の化合物のまま、あるいは上記の様な任意の製
剤形態で剤として使用することが出来る。
式(I)の化合物のまま、あるいは上記の様な任意の製
剤形態で剤として使用することが出来る。
【0127】本発明化合物の使用濃度又は使用薬量は、
対象作物、使用方法、製剤形態、施用量等の違いによっ
て異なり、一概に規定できないが、茎葉処理の場合、有
効成分当たり 0.1〜10,000 ppm、好ましくは、1〜500
ppm である。土壌処理の場合には、10〜100,000 g /h
a、好ましくは、 200〜20,000 g/haである。
対象作物、使用方法、製剤形態、施用量等の違いによっ
て異なり、一概に規定できないが、茎葉処理の場合、有
効成分当たり 0.1〜10,000 ppm、好ましくは、1〜500
ppm である。土壌処理の場合には、10〜100,000 g /h
a、好ましくは、 200〜20,000 g/haである。
【0128】
【実施例】以下に本発明の代表的な実施例を挙げるが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明はこれらに限定されるものではない。
【0129】製造例 1 メチル 2−{2−(1−ベンジル−1,2,4−トリ
アゾール−3−イル)チオメチル}フェニル−3−メト
キシアクリレート(化合物番号 1.1 )、及びメチル
2−{2−(2−ベンジル−1,2,4−トリアゾール
−3−イル)チオメチル}フェニル−3−メトキシアク
リレート(化合物番号 4.1)の製造。
アゾール−3−イル)チオメチル}フェニル−3−メト
キシアクリレート(化合物番号 1.1 )、及びメチル
2−{2−(2−ベンジル−1,2,4−トリアゾール
−3−イル)チオメチル}フェニル−3−メトキシアク
リレート(化合物番号 4.1)の製造。
【0130】(1)メチル 2−(2−ブロモメチル)
フェニル−3−メトキシアクリレート5.7 g、3−メル
カプトトリアゾール2.0 g及び炭酸カリウム3.3 gを10
0 mlのアセトニトリル中で、室温下、18時間撹拌し
反応させた。反応終了後、反応液を水に注ぎ、酢酸エチ
ルを用いて抽出、乾燥、溶媒留去後、カラムクロマトグ
ラフィーにより精製し、メチル 2−{2−(1,2,
4−トリアゾール−3−イル)チオメチル}フェニル−
3−メトキシアクリレートを収量 4.3g(収率71%)で
得た。この化合物のプロトンNMRは、 3.75(s,3H);3.
83(s,3H);4.16(bs,2H);7.10-7.30(m,4H);7.60(s,1H);7.
94(s,1H)(溶媒CDCl3 、ppm)であった。
フェニル−3−メトキシアクリレート5.7 g、3−メル
カプトトリアゾール2.0 g及び炭酸カリウム3.3 gを10
0 mlのアセトニトリル中で、室温下、18時間撹拌し
反応させた。反応終了後、反応液を水に注ぎ、酢酸エチ
ルを用いて抽出、乾燥、溶媒留去後、カラムクロマトグ
ラフィーにより精製し、メチル 2−{2−(1,2,
4−トリアゾール−3−イル)チオメチル}フェニル−
3−メトキシアクリレートを収量 4.3g(収率71%)で
得た。この化合物のプロトンNMRは、 3.75(s,3H);3.
83(s,3H);4.16(bs,2H);7.10-7.30(m,4H);7.60(s,1H);7.
94(s,1H)(溶媒CDCl3 、ppm)であった。
【0131】(2)メチル 2−{2−(1,2,4−
トリアゾール−3−イル)チオメチル}フェニル−3−
メトキシアクリレート3.05g、ベンジルブロミド1.71g
及び炭酸カリウム1.66gを50mlのアセトニトリル中
で、加熱還流下、4時間反応させた。反応終了後、反応
液を水に注ぎ、酢酸エチルを用いて抽出、乾燥、溶媒留
去後、カラムクロマトグラフィーにより精製し、高極性
生成物メチル 2−{2−(1−ベンジル−1,2,4
−トリアゾール−3−イル)チオメチル}フェニル−3
−メトキシアクリレート(化合物番号 1.1)収量1.0 g
(収率25%)及び低極性生成物メチル 2−{2−(2
−ベンジル−1,2,4−トリアゾール−3−イル)チ
オメチル}フェニル−3−メトキシアクリレート(化合
物番号 4.1)収量 0.6g(収率15%)を得た。これらの
生成物は、以下のプロトンNMRスペクトラム(溶媒C
DCl3 、ppm)を示した。
トリアゾール−3−イル)チオメチル}フェニル−3−
メトキシアクリレート3.05g、ベンジルブロミド1.71g
及び炭酸カリウム1.66gを50mlのアセトニトリル中
で、加熱還流下、4時間反応させた。反応終了後、反応
液を水に注ぎ、酢酸エチルを用いて抽出、乾燥、溶媒留
去後、カラムクロマトグラフィーにより精製し、高極性
生成物メチル 2−{2−(1−ベンジル−1,2,4
−トリアゾール−3−イル)チオメチル}フェニル−3
−メトキシアクリレート(化合物番号 1.1)収量1.0 g
(収率25%)及び低極性生成物メチル 2−{2−(2
−ベンジル−1,2,4−トリアゾール−3−イル)チ
オメチル}フェニル−3−メトキシアクリレート(化合
物番号 4.1)収量 0.6g(収率15%)を得た。これらの
生成物は、以下のプロトンNMRスペクトラム(溶媒C
DCl3 、ppm)を示した。
【0132】化合物番号 1.1 3.68(s,3H);3.80(s,3H);4.29(bs,3H);5.26(s,2H);7.10
(m,1H);7.25(m,4H); 7.38(m,3H);7.50(m,1H);7.57(s,1
H);7.92(s,1H) 化合物番号 4.1 3.65(s,3H);3.77(s,3H);4.32(s,2H);5.08(s,2H);7.10
(m,3H);7.25(m,6H)7.57(s,1H);7.91(s,1H) 製造例 2 メチル 2−{2−(3−ベンジルチオ−1,2,4−
トリアゾール−1−イル)メチル}フェニル−3−メト
キシアクリレート(化合物番号 7.1)及びメチル2−
{2−(3−ベンジルチオ−1,2,4−トリアゾール
−2−イル)メチル}フェニル−3−メトキシアクリレ
ート(化合物番号10.1)の製造 (1)ベンジルブロミド17.1g、3−メルカプトトリア
ゾール10.1g及び炭酸カリウム15.2gを200 mlのアセ
トニトリル中で、室温下、18時間撹拌し反応させた。
反応終了後、反応液を水に注ぎ、酢酸エチルを用いて抽
出、乾燥、溶媒留去後、カラムクロマトグラフィーによ
り精製し、3−ベンジルチオ−1,2,4−トリアゾー
ルを収量18.1g(収率95%)で得た。この化合物のプロ
トンNMRは、4.36(s,2H);7.23-7.35(m,5H);8.01(s,1
H) (溶媒CDCl3 、ppm)であった。
(m,1H);7.25(m,4H); 7.38(m,3H);7.50(m,1H);7.57(s,1
H);7.92(s,1H) 化合物番号 4.1 3.65(s,3H);3.77(s,3H);4.32(s,2H);5.08(s,2H);7.10
(m,3H);7.25(m,6H)7.57(s,1H);7.91(s,1H) 製造例 2 メチル 2−{2−(3−ベンジルチオ−1,2,4−
トリアゾール−1−イル)メチル}フェニル−3−メト
キシアクリレート(化合物番号 7.1)及びメチル2−
{2−(3−ベンジルチオ−1,2,4−トリアゾール
−2−イル)メチル}フェニル−3−メトキシアクリレ
ート(化合物番号10.1)の製造 (1)ベンジルブロミド17.1g、3−メルカプトトリア
ゾール10.1g及び炭酸カリウム15.2gを200 mlのアセ
トニトリル中で、室温下、18時間撹拌し反応させた。
反応終了後、反応液を水に注ぎ、酢酸エチルを用いて抽
出、乾燥、溶媒留去後、カラムクロマトグラフィーによ
り精製し、3−ベンジルチオ−1,2,4−トリアゾー
ルを収量18.1g(収率95%)で得た。この化合物のプロ
トンNMRは、4.36(s,2H);7.23-7.35(m,5H);8.01(s,1
H) (溶媒CDCl3 、ppm)であった。
【0133】(2)3−ベンジルチオ−1,2,4−ト
リアゾール0.95g、メチル 2−(2−ブロモメチル)
フェニル−3−メトキシアクリレート1.43g及び炭酸カ
リウム0.83gを30mlのアセトニトリル中で、加熱還流
下、5 時間反応させた。反応終了後、反応液を水に注
ぎ、酢酸エチルを用いて抽出、乾燥、溶媒留去後、カラ
ムクロマトグラフィーにより精製し、高極性生成物メチ
ル 2−{2−(3−ベンジルチオ−1,2,4−トリ
アゾール−1−イル)メチル}フェニル−3−メトキシ
アクリレート(化合物番号 7.1)収量1.40g(収率71
%)及び低極性生成物メチル 2−{2−(3−ベンジ
ルチオ−1,2,4−トリアゾール−2−イル)メチ
ル}フェニル−3−メトキシアクリレート(化合物番号
10.1)収量0.12g(収率 7%)を得た。これらの生成物
は、以下のプロトンNMRスペクトラム(溶媒CDCl
3 、ppm)を示した。
リアゾール0.95g、メチル 2−(2−ブロモメチル)
フェニル−3−メトキシアクリレート1.43g及び炭酸カ
リウム0.83gを30mlのアセトニトリル中で、加熱還流
下、5 時間反応させた。反応終了後、反応液を水に注
ぎ、酢酸エチルを用いて抽出、乾燥、溶媒留去後、カラ
ムクロマトグラフィーにより精製し、高極性生成物メチ
ル 2−{2−(3−ベンジルチオ−1,2,4−トリ
アゾール−1−イル)メチル}フェニル−3−メトキシ
アクリレート(化合物番号 7.1)収量1.40g(収率71
%)及び低極性生成物メチル 2−{2−(3−ベンジ
ルチオ−1,2,4−トリアゾール−2−イル)メチ
ル}フェニル−3−メトキシアクリレート(化合物番号
10.1)収量0.12g(収率 7%)を得た。これらの生成物
は、以下のプロトンNMRスペクトラム(溶媒CDCl
3 、ppm)を示した。
【0134】化合物番号 7.1 3.66(s,3H);3.70(s,3H);4.33(s,2H);5.15(s,2H);7.20-
7.40(m,9H);7.53(s,1H);7.76(s,1H) 化合物番号10.1 3.64(s,3H);3.72(s,3H);4.35(s,2H);5.03(s,2H);6.98
(d,1H);7.12(d,1H);7.22-7.30(m,7H);7.54(s,1H);7.89
(s,1H) 製造例 3 メチル 2−{2−(1−ベンジル−5−シクロプロピ
ル−1,2,4−トリアゾール−3−イル)チオメチ
ル}フェニル−3−メトキシアクリレート(化合物番号
1.16)及びメチル 2−{2−(1−ベンジル−3−シ
クロプロピル−1,2,4−トリアゾール−5−イル)
チオメチル}フェニル−3−メトキシアクリレート(化
合物番号4.16)の製造 (1)メチル 2−(2−ブロモメチル)フェニル−3
−メトキシアクリレート5.8 g及び5−シクロプロピル
−3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール2.82g
を、100 mlのメタノール中で室温で一夜、更に還流温
度で3時間反応させた。反応終了後、溶媒を留去した
後、残渣に水及び酢酸エチルを加え撹拌しながら、炭酸
水素ナトリウム 2.5gを加え液性をアルカリ性とした。
有機層を水洗後、乾燥、溶媒留去し、カラムクロマトグ
ラフィーにより精製し、2−{2−(5−シクロプロピ
ル−1,2,4−トリアゾール−3−イル)チオメチ
ル}フェニル−3−メトキシアクリレートを収量 6.6g
(収率95%)で得た。この化合物のプロトンNMRは、
0.98(m,4H);1.95(m,1H);3.73(s,3H):3.83(s,3H);4.13
(s,2H); 7.10(dd,1H);7.16-7.20(m,3H);7.58(s,1H)(溶
媒CDCl3 、ppm)であった。
7.40(m,9H);7.53(s,1H);7.76(s,1H) 化合物番号10.1 3.64(s,3H);3.72(s,3H);4.35(s,2H);5.03(s,2H);6.98
(d,1H);7.12(d,1H);7.22-7.30(m,7H);7.54(s,1H);7.89
(s,1H) 製造例 3 メチル 2−{2−(1−ベンジル−5−シクロプロピ
ル−1,2,4−トリアゾール−3−イル)チオメチ
ル}フェニル−3−メトキシアクリレート(化合物番号
1.16)及びメチル 2−{2−(1−ベンジル−3−シ
クロプロピル−1,2,4−トリアゾール−5−イル)
チオメチル}フェニル−3−メトキシアクリレート(化
合物番号4.16)の製造 (1)メチル 2−(2−ブロモメチル)フェニル−3
−メトキシアクリレート5.8 g及び5−シクロプロピル
−3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール2.82g
を、100 mlのメタノール中で室温で一夜、更に還流温
度で3時間反応させた。反応終了後、溶媒を留去した
後、残渣に水及び酢酸エチルを加え撹拌しながら、炭酸
水素ナトリウム 2.5gを加え液性をアルカリ性とした。
有機層を水洗後、乾燥、溶媒留去し、カラムクロマトグ
ラフィーにより精製し、2−{2−(5−シクロプロピ
ル−1,2,4−トリアゾール−3−イル)チオメチ
ル}フェニル−3−メトキシアクリレートを収量 6.6g
(収率95%)で得た。この化合物のプロトンNMRは、
0.98(m,4H);1.95(m,1H);3.73(s,3H):3.83(s,3H);4.13
(s,2H); 7.10(dd,1H);7.16-7.20(m,3H);7.58(s,1H)(溶
媒CDCl3 、ppm)であった。
【0135】(2)2−{2−(5−シクロプロピル−
1,2,4−トリアゾール−3−イル)チオメチル}フ
ェニル−3−メトキシアクリレート3.46g、ベンジルブ
ロミド1.71g及び炭酸カリウム1.66gを50mlのアセト
ニトリル中で、加熱還流下、3時間反応させた。反応終
了後、反応液を水に注ぎ、酢酸エチルを用いて抽出、乾
燥、溶媒留去後、カラムクロマトグラフィーにより精製
し、高極性生成物メチル2−{2−(1−ベンジル−5
−シクロプロピル−1,2,4−トリアゾール−3−イ
ル)チオメチル}フェニル−3−メトキシアクリレート
(化合物番号1.16)収量1.9 g(収率44%)及び低極性
生成物メチル 2−{2−(1−ベンジル−3−シクロ
プロピル−1,2,4−トリアゾール−5−イル)チオ
メチル}フェニル−3−メトキシアクリレート(化合物
番号4.16)収量 1.7g(収率39%)を得た。これらの生
成物は、以下のプロトンNMRスペクトラム(溶媒CD
Cl3 、ppm)を示した。
1,2,4−トリアゾール−3−イル)チオメチル}フ
ェニル−3−メトキシアクリレート3.46g、ベンジルブ
ロミド1.71g及び炭酸カリウム1.66gを50mlのアセト
ニトリル中で、加熱還流下、3時間反応させた。反応終
了後、反応液を水に注ぎ、酢酸エチルを用いて抽出、乾
燥、溶媒留去後、カラムクロマトグラフィーにより精製
し、高極性生成物メチル2−{2−(1−ベンジル−5
−シクロプロピル−1,2,4−トリアゾール−3−イ
ル)チオメチル}フェニル−3−メトキシアクリレート
(化合物番号1.16)収量1.9 g(収率44%)及び低極性
生成物メチル 2−{2−(1−ベンジル−3−シクロ
プロピル−1,2,4−トリアゾール−5−イル)チオ
メチル}フェニル−3−メトキシアクリレート(化合物
番号4.16)収量 1.7g(収率39%)を得た。これらの生
成物は、以下のプロトンNMRスペクトラム(溶媒CD
Cl3 、ppm)を示した。
【0136】化合物番号1.16 1.00(m,2H);1.08(m,2H);1.75(m,1H);3.68(s,3H);3.79
(s,3H);4.24(bs,2H);5.33(s,2H);7.10(m,1H);7.18-7.26
(m,4H);7.31-7.39(m,3H);7.50(m,1H);7.56(s,1H) 化合物番号4.16 0.90-1.00(m,4H);2.00(m,1H);3.64(s,3H);3.75(s,3H);
4.24(s,2H);4.97(s,2H);7.05-7.13(m,3H);7.21-7.30(m,
6H);7.56(s,1H) 製造例 4 メチル 2−{2−(1−ベンジル−1,2,4−トリ
アゾール−3−イル)スルフィニルメチル}フェニル−
3−メトキシアクリレート(化合物番号 1.2)及びメチ
ル 2−{2−(1−ベンジル−1,2,4−トリアゾ
ール−3−イル)スルフォニルメチル}フェニル−3−
メトキシアクリレート(化合物番号1.3 )の製造 メチル 2−{2−(1−ベンジル−1,2,4−トリ
アゾール−3−イル)チオメチル}フェニル−3−メト
キシアクリレート0.78gのジクロロメタン30ml溶液を
氷冷下撹拌した中に、m−クロロ過安息香酸0.52gを加
え、同温度で1時間更に室温で2時間撹拌し反応させ
た。反応終了後炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで水で
洗浄した後、乾燥、溶媒留去後、カラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、低極性生成物メチル 2−{2−
(1−ベンジル−1,2,4−トリアゾール−3−イ
ル)スルフォニルメチル}フェニル−3−メトキシアク
リレート(化合物番号1.3 )収量0.32g(収率38%)及
び高極性生成物メチル 2−{2−(1−ベンジル−
1,2,4−トリアゾール−3−イル)スルフィニルメ
チル}フェニル−3−メトキシアクリレート(化合物番
号 1.2)収量0.35g(収率43%)を得た。これらの生成
物は、以下のプロトンNMRスペクトラム(溶媒CDC
l3 、ppm)を示した。
(s,3H);4.24(bs,2H);5.33(s,2H);7.10(m,1H);7.18-7.26
(m,4H);7.31-7.39(m,3H);7.50(m,1H);7.56(s,1H) 化合物番号4.16 0.90-1.00(m,4H);2.00(m,1H);3.64(s,3H);3.75(s,3H);
4.24(s,2H);4.97(s,2H);7.05-7.13(m,3H);7.21-7.30(m,
6H);7.56(s,1H) 製造例 4 メチル 2−{2−(1−ベンジル−1,2,4−トリ
アゾール−3−イル)スルフィニルメチル}フェニル−
3−メトキシアクリレート(化合物番号 1.2)及びメチ
ル 2−{2−(1−ベンジル−1,2,4−トリアゾ
ール−3−イル)スルフォニルメチル}フェニル−3−
メトキシアクリレート(化合物番号1.3 )の製造 メチル 2−{2−(1−ベンジル−1,2,4−トリ
アゾール−3−イル)チオメチル}フェニル−3−メト
キシアクリレート0.78gのジクロロメタン30ml溶液を
氷冷下撹拌した中に、m−クロロ過安息香酸0.52gを加
え、同温度で1時間更に室温で2時間撹拌し反応させ
た。反応終了後炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで水で
洗浄した後、乾燥、溶媒留去後、カラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、低極性生成物メチル 2−{2−
(1−ベンジル−1,2,4−トリアゾール−3−イ
ル)スルフォニルメチル}フェニル−3−メトキシアク
リレート(化合物番号1.3 )収量0.32g(収率38%)及
び高極性生成物メチル 2−{2−(1−ベンジル−
1,2,4−トリアゾール−3−イル)スルフィニルメ
チル}フェニル−3−メトキシアクリレート(化合物番
号 1.2)収量0.35g(収率43%)を得た。これらの生成
物は、以下のプロトンNMRスペクトラム(溶媒CDC
l3 、ppm)を示した。
【0137】化合物番号 1.2 3.69(s,3H);3.84(s,3H);4.39(d,1H);4.40(b,1H);5.36
(s,2H);7.13-7.30(m,6H);7.38(m,3H);7.62(s,1H);8.09
(s,1H) 化合物番号 1.3 3.67(s,3H);3.81(s,3H);4.58(b,2H);5.35(s,2H);7.13-
7.50(m,9H);7.58(s,1H);7.99(s,1H) 上記製造例1、2、3及び4と同様な手法によって製造
された化合物を表2に示す。
(s,2H);7.13-7.30(m,6H);7.38(m,3H);7.62(s,1H);8.09
(s,1H) 化合物番号 1.3 3.67(s,3H);3.81(s,3H);4.58(b,2H);5.35(s,2H);7.13-
7.50(m,9H);7.58(s,1H);7.99(s,1H) 上記製造例1、2、3及び4と同様な手法によって製造
された化合物を表2に示す。
【0138】
【表27】
【0139】次に、本発明の化合物を用いた製剤例の実
施例を示す。なお下記製剤中の「部」は重量基準であ
る。
施例を示す。なお下記製剤中の「部」は重量基準であ
る。
【0140】 製剤例1(乳剤) 化合物番号:1.1 10部 キシレン 45部 ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム 7部 ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル 13部 ジメチルホルムアミド 25部 以上を均一に混合溶解して乳剤100 部を得た。
【0141】 製剤例2(水和剤) 化合物番号:5.61 20部 ケイソウ土 70部 リグニンスルホン酸カルシウム 5部 ナフタリンスルホン酸ホルマリン縮合物 5部 以上を混合粉砕して水和剤100 部を得た。
【0142】 製剤例3(粒剤) 化合物番号:2.3 5部 ベントナイト 50部 タルク 42部 リグニンスルホン酸ソーダ 2部 ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル 1部 以上を充分に混合した後、適量の水を加えて混練し、押
し出し造粒機を用いて造粒して粒剤100 部を得た。
し出し造粒機を用いて造粒して粒剤100 部を得た。
【0143】 製剤例4(フロアブル剤) 化合物番号:6.1 30部 スルホコハク酸ジ−2−エチルヘキシルエステルナトリウム塩 2部 ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル 3部 消泡剤 1部 プロピレングリコール 5部 水 59部 以上を湿式ボールミルで均一に粉砕混合し、フロアブル
剤 100部を得た。
剤 100部を得た。
【0144】次に試験例により、本発明殺菌剤による、
各種植物病防除効果を具体的に説明する。
各種植物病防除効果を具体的に説明する。
【0145】試験例 1 (イネいもち病に対する防除試験)水稲(品種:コシヒ
カリ)を直径7cmのプラスチックカップに7粒ずつ播種
し、温室内で3週間育成した。製剤例1に従い乳剤化し
た供試薬剤を500ppmとなるように水で希釈し、イ
ネの葉面に充分付着するように散布した。散布1日後、
イネいもち病菌の胞子懸濁液を接種し、更に25℃の湿
室に1日保った後温室内で発病させた。接種7日後、1
葉当たりの平均病斑数を調査し、無処理区と対比して下
記の基準で効果を判定した。
カリ)を直径7cmのプラスチックカップに7粒ずつ播種
し、温室内で3週間育成した。製剤例1に従い乳剤化し
た供試薬剤を500ppmとなるように水で希釈し、イ
ネの葉面に充分付着するように散布した。散布1日後、
イネいもち病菌の胞子懸濁液を接種し、更に25℃の湿
室に1日保った後温室内で発病させた。接種7日後、1
葉当たりの平均病斑数を調査し、無処理区と対比して下
記の基準で効果を判定した。
【0146】 A: 防除価 100〜95% B: 防除価 94〜80% C: 防除価 79〜60% D: 防除価 59〜 0% 試験の結果、良好な活性を示した化合物を表3に示す。
【0147】
【表28】
【0148】試験例 2 (イネ紋枯病に対する防除試験)6.5cm のプラスチック
カップに水稲種子6粒ずつ播種し、温室内で4〜6週間
育成した。第5葉が展開したイネ苗に製剤例1に従い乳
剤化した供試薬剤を500ppmとなるように水で希釈
し、1鉢当たり25ml散布した。風乾後,PSA培地で
培養した紋枯病菌の菌糸を株元に接種し、直ちに28
℃、湿度100%の湿室内に入れた。接種3日後、病斑
高を調査し、試験例1と同じ基準で判定を行った。試験
の結果、良好な活性を示した化合物を表4に示す。
カップに水稲種子6粒ずつ播種し、温室内で4〜6週間
育成した。第5葉が展開したイネ苗に製剤例1に従い乳
剤化した供試薬剤を500ppmとなるように水で希釈
し、1鉢当たり25ml散布した。風乾後,PSA培地で
培養した紋枯病菌の菌糸を株元に接種し、直ちに28
℃、湿度100%の湿室内に入れた。接種3日後、病斑
高を調査し、試験例1と同じ基準で判定を行った。試験
の結果、良好な活性を示した化合物を表4に示す。
【0149】
【表29】
【0150】
【発明の効果】本発明の前記一般式(I)で表されるト
リアゾール誘導体は、文献未記載の化合物である。この
トリアゾール誘導体は、トリアゾールに結合した硫黄原
子及びトリアゾール環の窒素原子上に2個のベンジル誘
導体を置換基として有し、かつ、少なくともその一方は
2位に酢酸誘導体残基を有することが特徴であり、その
構造的特徴によって、このトリアゾール誘導体を含有す
る殺菌剤の有する優れた特性が発揮されるものと考えら
れる。
リアゾール誘導体は、文献未記載の化合物である。この
トリアゾール誘導体は、トリアゾールに結合した硫黄原
子及びトリアゾール環の窒素原子上に2個のベンジル誘
導体を置換基として有し、かつ、少なくともその一方は
2位に酢酸誘導体残基を有することが特徴であり、その
構造的特徴によって、このトリアゾール誘導体を含有す
る殺菌剤の有する優れた特性が発揮されるものと考えら
れる。
【0151】本発明の化合物及び殺菌剤は、水田作物、
畑作物、果樹、野菜、その他の作物及び花卉等に被害を
与える病害に対して顕著な殺菌効果を示し、作物に対し
ては害を及ぼさない。
畑作物、果樹、野菜、その他の作物及び花卉等に被害を
与える病害に対して顕著な殺菌効果を示し、作物に対し
ては害を及ぼさない。
フロントページの続き (72)発明者 郷 敦 茨城県稲敷郡阿見町中央8−3−1 ロー ヌ・プーラン油化アグロ株式会社阿見研究 所内 (72)発明者 沢井 伸光 茨城県稲敷郡阿見町中央8−3−1 ロー ヌ・プーラン油化アグロ株式会社阿見研究 所内 (72)発明者 前田 貴子 茨城県稲敷郡阿見町中央8−3−1 ロー ヌ・プーラン油化アグロ株式会社阿見研究 所内
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 [式中Jは、下記式、(J−1)、(J−2)、(J−
3)又は(J−4)であり、 【化2】 Aは、下記式、(II)であり、 【化3】 R1 は、水素原子、(置換されていてもよい)低級アル
キル基、(置換されていてもよい)低級アルケニル基、
(置換されていてもよい)低級アルキニル基、(置換さ
れていてもよい)低級シクロアルキル基又は(置換され
ていてもよい)フェニル基を示し、R2 は、水素原子、
(置換されていてもよい)低級アルキル基、(置換され
ていてもよい)低級アルコキシ基又は(置換されていて
もよい)低級シクロアルキル基を示し、Xは、ハロゲン
原子、シアノ基、低級アルコキシカルボニル基、低級ア
ルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級
シクロアルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチ
オ基、低級アルキルスルフェニル基、低級アルキルスル
ホニル基、低級ハロアルコキシカルボニル基、低級ハロ
アルキル基、低級ハロアルケニル基、低級ハロアルキニ
ル基、低級ハロシクロアルキル基、低級ハロアルコキシ
基、低級ハロアルキルチオ基、低級ハロアルキルスルフ
ェニル基、又は低級ハロアルキルスルホニル基を示し、
nは、0、1、又は2を示し、mは、0、1、2、又は
3を示し、G1 は、窒素原子又は基CHを示し、G
2 は、酸素原子又は基NHを示す。]で表わされるトリ
アゾール誘導体。 - 【請求項2】 一般式(I) 【化4】 [式中Jは、下記式、(J−1)、(J−2)、(J−
3)又は(J−4)であり、 【化5】 Aは、下記式、(II)であり、 【化6】 R1 は、水素原子、(置換されていてもよい)低級アル
キル基、(置換されていてもよい)低級アルケニル基、
(置換されていてもよい)低級アルキニル基、(置換さ
れていてもよい)低級シクロアルキル基又は(置換され
ていてもよい)フェニル基を示し、R2 は、水素原子、
(置換されていてもよい)低級アルキル基、(置換され
ていてもよい)低級アルコキシ基又は(置換されていて
もよい)低級シクロアルキル基を示し、Xは、ハロゲン
原子、シアノ基、低級アルコキシカルボニル基、低級ア
ルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級
シクロアルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチ
オ基、低級アルキルスルフェニル基、低級アルキルスル
ホニル基、低級ハロアルコキシカルボニル基、低級ハロ
アルキル基、低級ハロアルケニル基、低級ハロアルキニ
ル基、低級ハロシクロアルキル基、低級ハロアルコキシ
基、低級ハロアルキルチオ基、低級ハロアルキルスルフ
ェニル基、又は低級ハロアルキルスルホニル基を示し、
nは、0、1、又は2を示し、mは、0、1、2、又は
3を示し、G1 は、窒素原子又は基CHを示し、G
2 は、酸素原子又は基NHを示す。]で表わされるトリ
アゾール誘導体を有効成分として含有することを特徴と
する農園芸用殺菌剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8196619A JPH1036357A (ja) | 1996-07-25 | 1996-07-25 | トリアゾール誘導体並びにそれを含有する農園芸用殺菌剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8196619A JPH1036357A (ja) | 1996-07-25 | 1996-07-25 | トリアゾール誘導体並びにそれを含有する農園芸用殺菌剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1036357A true JPH1036357A (ja) | 1998-02-10 |
Family
ID=16360773
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8196619A Pending JPH1036357A (ja) | 1996-07-25 | 1996-07-25 | トリアゾール誘導体並びにそれを含有する農園芸用殺菌剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1036357A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000035553A1 (fr) * | 1998-12-16 | 2000-06-22 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Procede de separation d'un compose metallique du groupe iii ou iv |
US6894054B2 (en) | 2001-02-09 | 2005-05-17 | Telik, Inc. | Heterocyclic inhibitors of glycine transporter 2 |
CN114634456A (zh) * | 2022-03-22 | 2022-06-17 | 赣南师范大学 | 一种5-硝基亚氨基-4h-1,2,4-三唑类化合物及其制备方法和应用 |
-
1996
- 1996-07-25 JP JP8196619A patent/JPH1036357A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000035553A1 (fr) * | 1998-12-16 | 2000-06-22 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Procede de separation d'un compose metallique du groupe iii ou iv |
US6894054B2 (en) | 2001-02-09 | 2005-05-17 | Telik, Inc. | Heterocyclic inhibitors of glycine transporter 2 |
CN114634456A (zh) * | 2022-03-22 | 2022-06-17 | 赣南师范大学 | 一种5-硝基亚氨基-4h-1,2,4-三唑类化合物及其制备方法和应用 |
CN114634456B (zh) * | 2022-03-22 | 2024-02-20 | 赣南师范大学 | 一种5-硝基亚氨基-4h-1,2,4-三唑类化合物及其制备方法和应用 |
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