JPH103630A - 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH103630A JPH103630A JP15400496A JP15400496A JPH103630A JP H103630 A JPH103630 A JP H103630A JP 15400496 A JP15400496 A JP 15400496A JP 15400496 A JP15400496 A JP 15400496A JP H103630 A JPH103630 A JP H103630A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 摺動特性の向上及び磁電変換素子の耐腐食性
の向上を図った薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供
すること。 【解決手段】 スライダ部とコア部とを備えた薄膜磁気
ヘッドにおいて、スライダ部の空気軸受面１１上にカー
ボンを主成分とするストレスの小さい第１のカーボン保
護膜１３が形成され、この第１のカーボン保護膜１３上
にカーボンを主成分とする硬度の高い第２のカーボン保
護膜１４が積層されて成ること。
の向上を図った薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供
すること。 【解決手段】 スライダ部とコア部とを備えた薄膜磁気
ヘッドにおいて、スライダ部の空気軸受面１１上にカー
ボンを主成分とするストレスの小さい第１のカーボン保
護膜１３が形成され、この第１のカーボン保護膜１３上
にカーボンを主成分とする硬度の高い第２のカーボン保
護膜１４が積層されて成ること。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、薄膜磁気ヘッド及
びその製造方法に係り、特に、磁気抵抗効果素子型磁気
ヘッドなどの薄膜磁気ヘッド及びその製造方法に関す
る。
びその製造方法に係り、特に、磁気抵抗効果素子型磁気
ヘッドなどの薄膜磁気ヘッド及びその製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置の高密度化を実現する
為、磁気ヘッドと磁気ディスク媒体との距離を接近させ
る手法が採られる。この場合、コンタクト・スタート・
ストップ（以下、ＣＳＳという）又はシーク動作による
薄膜磁気ヘッドスライダの摩耗損傷が問題となる。従来
技術では、ＣＳＳ或いはシーク動作時の磁気ヘッドと磁
気ディスクとの接触により生ずる機械的摩耗から保護す
るために、各種保護膜層が磁気ヘッドのスライダ空気軸
受面上に形成されていた。
為、磁気ヘッドと磁気ディスク媒体との距離を接近させ
る手法が採られる。この場合、コンタクト・スタート・
ストップ（以下、ＣＳＳという）又はシーク動作による
薄膜磁気ヘッドスライダの摩耗損傷が問題となる。従来
技術では、ＣＳＳ或いはシーク動作時の磁気ヘッドと磁
気ディスクとの接触により生ずる機械的摩耗から保護す
るために、各種保護膜層が磁気ヘッドのスライダ空気軸
受面上に形成されていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、磁気抵
抗効果素子型磁気ヘッド等では、スライダの空気軸受面
（ＡｌＴｉＣ面）に対するストレスを低減させ、また、
磁気ディスク媒体との密着性を挙げる為に、空気軸受面
の保護膜の硬度を下げて成膜していたので、ＣＳＳ又は
シーク動作により当該保護膜の摩耗及びスクラッチを生
ずる不都合があった。
抗効果素子型磁気ヘッド等では、スライダの空気軸受面
（ＡｌＴｉＣ面）に対するストレスを低減させ、また、
磁気ディスク媒体との密着性を挙げる為に、空気軸受面
の保護膜の硬度を下げて成膜していたので、ＣＳＳ又は
シーク動作により当該保護膜の摩耗及びスクラッチを生
ずる不都合があった。
【０００４】また、ＣＳＳ或いはシーク動作によりトレ
ーリングエッヂ部の摩耗が生じると、磁電変換素子が露
出した状態となり、磁電変換素子の腐食が起こり易くな
る不都合があった。
ーリングエッヂ部の摩耗が生じると、磁電変換素子が露
出した状態となり、磁電変換素子の腐食が起こり易くな
る不都合があった。
【０００５】一方、特開平１−１８９０１９号公報に
は、スライダ部上に炭素または炭素を主成分とする被膜
をコーティングし、その表面での耐摩耗性等の機械的強
度を補強しようという磁気ヘッドが開示されている。ま
た、特開平１−１２８２１６号公報においては、連続成
膜により性質の異なる二層膜を形成することも開示され
ており、保護膜形成方法についてはスパッタ法以外の例
えば真空蒸着法，真空蒸着とイオン照射の併用なども適
用できると述べている。しかしながら、何れの従来例に
おいても、具体的な成膜条件の選定やその効果について
述べられておらず、実用に供せられるところまでには達
していない。
は、スライダ部上に炭素または炭素を主成分とする被膜
をコーティングし、その表面での耐摩耗性等の機械的強
度を補強しようという磁気ヘッドが開示されている。ま
た、特開平１−１２８２１６号公報においては、連続成
膜により性質の異なる二層膜を形成することも開示され
ており、保護膜形成方法についてはスパッタ法以外の例
えば真空蒸着法，真空蒸着とイオン照射の併用なども適
用できると述べている。しかしながら、何れの従来例に
おいても、具体的な成膜条件の選定やその効果について
述べられておらず、実用に供せられるところまでには達
していない。
【０００６】
【発明の目的】本発明は、かかる従来例の有する不都合
を改善し、特に、摺動特性の向上及び磁電変換素子の耐
腐食性の向上を図った薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
を提供することを、その目的とする。
を改善し、特に、摺動特性の向上及び磁電変換素子の耐
腐食性の向上を図った薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
を提供することを、その目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１記載の発明では、スライダ部とコア部とを
備えた薄膜磁気ヘッドにおいて、スライダ部の空気軸受
面上にカーボンを主成分とするストレスの小さい第１の
カーボン保護膜が形成され、この第１のカーボン保護膜
上にカーボンを主成分とする硬度の高い第２のカーボン
保護膜が積層されて成る、という構成を採っている。
め、請求項１記載の発明では、スライダ部とコア部とを
備えた薄膜磁気ヘッドにおいて、スライダ部の空気軸受
面上にカーボンを主成分とするストレスの小さい第１の
カーボン保護膜が形成され、この第１のカーボン保護膜
上にカーボンを主成分とする硬度の高い第２のカーボン
保護膜が積層されて成る、という構成を採っている。
【０００８】請求項２記載の発明では、第１又は第２の
カーボン保護膜が水素添加カーボンで形成されている、
という構成を採っている。
カーボン保護膜が水素添加カーボンで形成されている、
という構成を採っている。
【０００９】請求項３記載の発明では、請求項２記載の
薄膜磁気ヘッドにおいて、第１のカーボン保護膜を水素
分圧２０パーセントの条件下で形成する、という方法を
採っている。
薄膜磁気ヘッドにおいて、第１のカーボン保護膜を水素
分圧２０パーセントの条件下で形成する、という方法を
採っている。
【００１０】請求項４記載の発明では、請求項２記載の
薄膜磁気ヘッドにおいて、第２のカーボン保護膜を水素
分圧０パーセントの条件下で形成する、という方法を採
っている。
薄膜磁気ヘッドにおいて、第２のカーボン保護膜を水素
分圧０パーセントの条件下で形成する、という方法を採
っている。
【００１１】請求項５記載の発明では、請求項２記載の
薄膜磁気ヘッドにおいて、第１又は第２のカーボン保護
膜をスパッタ法により形成する、という方法を採ってい
る。
薄膜磁気ヘッドにおいて、第１又は第２のカーボン保護
膜をスパッタ法により形成する、という方法を採ってい
る。
【００１２】請求項６記載の発明では、請求項２記載の
薄膜磁気ヘッドにおいて、第１又は第２のカーボン保護
膜をＣＤＶ法により形成する、という方法を採ってい
る。
薄膜磁気ヘッドにおいて、第１又は第２のカーボン保護
膜をＣＤＶ法により形成する、という方法を採ってい
る。
【００１３】これらの発明では、ヘッドの浮上量が少な
いときは、硬度の高い第２のカーボン保護膜が磁気ディ
スク媒体に接触し、そのときの接触圧は、ストレスの小
さい第１のカーボン保護膜により調整される。特に、請
求項３記載の発明では、第１のカーボン保護膜のストレ
スが最も小さくなり、請求項４記載の発明では、第２の
カーボン保護膜の硬度が最も高くなる。
いときは、硬度の高い第２のカーボン保護膜が磁気ディ
スク媒体に接触し、そのときの接触圧は、ストレスの小
さい第１のカーボン保護膜により調整される。特に、請
求項３記載の発明では、第１のカーボン保護膜のストレ
スが最も小さくなり、請求項４記載の発明では、第２の
カーボン保護膜の硬度が最も高くなる。
【００１４】これらにより、前述した目的を達成しよう
とするものである。
とするものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図１
乃至図５に基づいて説明する。
乃至図５に基づいて説明する。
【００１６】図１に示す磁気ディスク装置は、情報を記
録する磁気ディスク媒体１と、この磁気ディスク媒体１
を回転させるスピンドル２と、磁気ディスク媒体１への
情報の書き込み又は磁気ディスク媒体１からの情報の読
み出しを行う磁気ヘッド３と、この磁気ヘッド３を支持
するアクチュエータ４と、このアクチュエータ４を回動
させて磁気ヘッド３を磁気ディスク媒体１上の目標位置
に設定するボイスコイルモーター５と、磁気ディスク装
置の内部を清浄に保つ為のエアフィルタ６とを備えてい
る。
録する磁気ディスク媒体１と、この磁気ディスク媒体１
を回転させるスピンドル２と、磁気ディスク媒体１への
情報の書き込み又は磁気ディスク媒体１からの情報の読
み出しを行う磁気ヘッド３と、この磁気ヘッド３を支持
するアクチュエータ４と、このアクチュエータ４を回動
させて磁気ヘッド３を磁気ディスク媒体１上の目標位置
に設定するボイスコイルモーター５と、磁気ディスク装
置の内部を清浄に保つ為のエアフィルタ６とを備えてい
る。
【００１７】図２は、磁気ヘッド３の構成を示す概略斜
視図である。この図２において、磁気ヘッド３の磁気デ
ィスク媒体１との対向面には、レール加工が施されると
共に中央に溝部７が形成されている。この溝部７の両側
にはスライダレール８，９が平行に形成されている。ま
た、符号１０は、磁電変換素子を示し、一方のスライダ
レール８のトレーリング面に装備されている。
視図である。この図２において、磁気ヘッド３の磁気デ
ィスク媒体１との対向面には、レール加工が施されると
共に中央に溝部７が形成されている。この溝部７の両側
にはスライダレール８，９が平行に形成されている。ま
た、符号１０は、磁電変換素子を示し、一方のスライダ
レール８のトレーリング面に装備されている。
【００１８】図３に、スライダレール８，９の空気軸受
面における保護膜の形成状態を示す。この図３は、図２
におけるａ−ａ′線に沿った縦断面図であり、スライダ
レール９の空気軸受面における保護膜の形成状態を示す
が、スライダレール８についても同様に構成されてい
る。ここで、図３では、図の上側が磁気ディスク媒体と
の対向面になる。
面における保護膜の形成状態を示す。この図３は、図２
におけるａ−ａ′線に沿った縦断面図であり、スライダ
レール９の空気軸受面における保護膜の形成状態を示す
が、スライダレール８についても同様に構成されてい
る。ここで、図３では、図の上側が磁気ディスク媒体と
の対向面になる。
【００１９】図３において、ＡｌＴｉＣ面１１上には、
アモルファスＳｉ下地膜１２がスパッタされている。ま
た、このアモルファスＳｉ下地膜１２上には、第１のカ
ーボン保護膜１３を成膜する。この第１のカーボン保護
膜１３は、水素分圧２０％の条件下で成膜する。これ
は、図４に示すように、当該保護膜のストレスが最も小
さくなるからである（０［Ｇｐａ］に近いほどストレス
が低い）。そして、更にその上に、第２のカーボン保護
膜１４を成膜して二層の水素添加カーボン膜を形成す
る。この第２のカーボン保護膜１４は、水素分圧０％の
条件下で成膜する。これは、図５に示すように、当該保
護膜の硬度が最も高くなるからである。
アモルファスＳｉ下地膜１２がスパッタされている。ま
た、このアモルファスＳｉ下地膜１２上には、第１のカ
ーボン保護膜１３を成膜する。この第１のカーボン保護
膜１３は、水素分圧２０％の条件下で成膜する。これ
は、図４に示すように、当該保護膜のストレスが最も小
さくなるからである（０［Ｇｐａ］に近いほどストレス
が低い）。そして、更にその上に、第２のカーボン保護
膜１４を成膜して二層の水素添加カーボン膜を形成す
る。この第２のカーボン保護膜１４は、水素分圧０％の
条件下で成膜する。これは、図５に示すように、当該保
護膜の硬度が最も高くなるからである。
【００２０】以上説明した本実施形態によれば、硬度の
高い第２のカーボン保護膜が磁気ディスク媒体に接触す
ると共に、その接触圧がストレスの低い第１のカーボン
保護膜により調整されるので、磁気ヘッドスライダの摺
動特性を向上することができ、保護膜の摩耗を抑制する
ことによって、磁電変換素子の耐腐食性をも格段に向上
させることができ、装置寿命の長い磁気ディスク装置の
提供が可能となる。
高い第２のカーボン保護膜が磁気ディスク媒体に接触す
ると共に、その接触圧がストレスの低い第１のカーボン
保護膜により調整されるので、磁気ヘッドスライダの摺
動特性を向上することができ、保護膜の摩耗を抑制する
ことによって、磁電変換素子の耐腐食性をも格段に向上
させることができ、装置寿命の長い磁気ディスク装置の
提供が可能となる。
【００２１】ここで、本実施形態によらず、例えば三層
以上の水素添加カーボン膜を積層することも可能であ
り、また、このカーボン保護膜がスパッタカーボン或い
はＣＶＤカーボンで構成されていても良い。
以上の水素添加カーボン膜を積層することも可能であ
り、また、このカーボン保護膜がスパッタカーボン或い
はＣＶＤカーボンで構成されていても良い。
【００２２】
【発明の効果】本発明は、以上のように構成され機能す
るので、これによると、スライダ部の空気軸受面上にス
トレスの小さい第１のカーボン保護膜を形成し、その上
に硬度の高い第２のカーボン保護膜を形成したので、硬
度の高い第２のカーボン保護膜が磁気ディスク媒体に接
触すると共に、その接触圧がストレスの低い第１のカー
ボン保護膜により調整され、磁気ヘッドスライダの摺動
特性を向上することができ、保護膜の摩耗を抑制するこ
とによって、磁電変換素子の耐腐食性をも格段に向上さ
せることができ、装置寿命の長い磁気ディスク装置の提
供が可能となる。特に、請求項３記載の発明では、水素
分圧２０パーセントの条件下で第１の保護膜を形成する
ことにより、当該保護膜のストレスを最も小さくするこ
とができ、請求項４記載の発明では、水素分圧０パーセ
ントの条件下で第２の保護膜を形成することにより、当
該保護膜の硬度を最も高くすることができるので、磁気
ヘッドスライダの摺動特性及び磁電変換素子の耐腐食性
を最も効率的にに向上させることができる、という従来
にない優れた薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供す
ることができる。
るので、これによると、スライダ部の空気軸受面上にス
トレスの小さい第１のカーボン保護膜を形成し、その上
に硬度の高い第２のカーボン保護膜を形成したので、硬
度の高い第２のカーボン保護膜が磁気ディスク媒体に接
触すると共に、その接触圧がストレスの低い第１のカー
ボン保護膜により調整され、磁気ヘッドスライダの摺動
特性を向上することができ、保護膜の摩耗を抑制するこ
とによって、磁電変換素子の耐腐食性をも格段に向上さ
せることができ、装置寿命の長い磁気ディスク装置の提
供が可能となる。特に、請求項３記載の発明では、水素
分圧２０パーセントの条件下で第１の保護膜を形成する
ことにより、当該保護膜のストレスを最も小さくするこ
とができ、請求項４記載の発明では、水素分圧０パーセ
ントの条件下で第２の保護膜を形成することにより、当
該保護膜の硬度を最も高くすることができるので、磁気
ヘッドスライダの摺動特性及び磁電変換素子の耐腐食性
を最も効率的にに向上させることができる、という従来
にない優れた薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供す
ることができる。
【図１】本発明の薄膜磁気ヘッドが搭載された磁気ディ
スク装置の概略構成図である。
スク装置の概略構成図である。
【図２】図１における磁気ヘッドの構成を示す概略斜視
図である。
図である。
【図３】図２におけるａ−ａ’線に沿った縦断面図であ
る。
る。
【図４】保護膜のストレスと水素分圧の関係を示すグラ
フである。
フである。
【図５】保護膜の硬度と水素分圧の関係を示すグラフで
ある。
ある。
１ 磁気ディスク媒体 ２ スピンドル ３ 磁気ヘッド ４ アクチュエーター ５ ボイスコイルモーター ６ エアフィルタ ７ 溝部 ８，９ スライダレール １０ 磁電変換素子 １１ ＡｌＴｉＣ面 １２ アモルファスＳｉ下地膜 １３ 第１のカーボン保護膜 １４ 第２のカーボン保護膜
Claims (6)
- 【請求項１】 スライダ部とコア部とを備えた薄膜磁気
ヘッドにおいて、 前記スライダ部の空気軸受面上にカーボンを主成分とす
るストレスの小さい第１のカーボン保護膜が形成され、
この第１のカーボン保護膜上にカーボンを主成分とする
硬度の高い第２のカーボン保護膜が積層されて成ること
を特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項２】 前記第１又は第２のカーボン保護膜が水
素添加カーボンで形成されていることを特徴とした請求
項１記載の薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項３】 請求項２記載の薄膜磁気ヘッドにおい
て、 前記第１のカーボン保護膜を水素分圧２０パーセントの
条件下で形成することを特徴とした薄膜磁気ヘッドの製
造方法。 - 【請求項４】 請求項２記載の薄膜磁気ヘッドにおい
て、 前記第２のカーボン保護膜を水素分圧０パーセントの条
件下で形成することを特徴とした薄膜磁気ヘッドの製造
方法。 - 【請求項５】 請求項２記載の薄膜磁気ヘッドにおい
て、 前記第１又は第２のカーボン保護膜をスパッタ法により
形成することを特徴とした薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項６】 請求項２記載の薄膜磁気ヘッドにおい
て、 前記第１又は第２のカーボン保護膜をＣＤＶ法により形
成することを特徴とした薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15400496A JP2943696B2 (ja) | 1996-06-14 | 1996-06-14 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15400496A JP2943696B2 (ja) | 1996-06-14 | 1996-06-14 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH103630A true JPH103630A (ja) | 1998-01-06 |
| JP2943696B2 JP2943696B2 (ja) | 1999-08-30 |
Family
ID=15574816
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15400496A Expired - Fee Related JP2943696B2 (ja) | 1996-06-14 | 1996-06-14 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2943696B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7130154B2 (en) | 1999-12-28 | 2006-10-31 | Alps Electric Co., Ltd. | Magnetic head slider having protrusions provided on the medium-facing surface and manufacturing method therefor |
| US7551398B2 (en) | 2004-10-05 | 2009-06-23 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Magnetic head with air bearing surface protection film and manufacturing method thereof |
| US7746597B2 (en) | 2005-11-24 | 2010-06-29 | Sae Magnetics (H.K.) Ltd. | Slider having protective films of differing hydrogen content |
| JP2015008031A (ja) * | 2013-06-24 | 2015-01-15 | シーゲイト テクノロジー エルエルシー | 少なくとも１つの接着層を含む装置および接着層を形成する方法 |
| JP2016522529A (ja) * | 2013-06-07 | 2016-07-28 | パーデュー・リサーチ・ファウンデーションＰｕｒｄｕｅ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｆｏｕｎｄａｔｉｏｎ | 熱アシスト磁気記録のための近接場トランスデューサ |
-
1996
- 1996-06-14 JP JP15400496A patent/JP2943696B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7130154B2 (en) | 1999-12-28 | 2006-10-31 | Alps Electric Co., Ltd. | Magnetic head slider having protrusions provided on the medium-facing surface and manufacturing method therefor |
| US7551398B2 (en) | 2004-10-05 | 2009-06-23 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Magnetic head with air bearing surface protection film and manufacturing method thereof |
| US7746597B2 (en) | 2005-11-24 | 2010-06-29 | Sae Magnetics (H.K.) Ltd. | Slider having protective films of differing hydrogen content |
| JP2016522529A (ja) * | 2013-06-07 | 2016-07-28 | パーデュー・リサーチ・ファウンデーションＰｕｒｄｕｅ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｆｏｕｎｄａｔｉｏｎ | 熱アシスト磁気記録のための近接場トランスデューサ |
| JP2015008031A (ja) * | 2013-06-24 | 2015-01-15 | シーゲイト テクノロジー エルエルシー | 少なくとも１つの接着層を含む装置および接着層を形成する方法 |
| US9799353B2 (en) | 2013-06-24 | 2017-10-24 | Seagate Technology Llc | Devices including at least one adhesion layer and methods of forming adhesion layers |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2943696B2 (ja) | 1999-08-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19990525 |
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