JPH10339785A - 摺動体の支持装置 - Google Patents

摺動体の支持装置

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JPH10339785A
JPH10339785A JP14923697A JP14923697A JPH10339785A JP H10339785 A JPH10339785 A JP H10339785A JP 14923697 A JP14923697 A JP 14923697A JP 14923697 A JP14923697 A JP 14923697A JP H10339785 A JPH10339785 A JP H10339785A
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slider
guide member
guide
distance
movable mechanism
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JP14923697A
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Hisashi Natsu
恒 夏
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Kuroda Precision Industries Ltd
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Kuroda Precision Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ガイドの撓みによって変位計を支持するスラ
イダが鉛直方向に変位し、変位計の測定結果に悪影響が
生じる。これを改善する。 【解決手段】 ガイドの一端をリニアアクチュエータで
支持し、支点の高さを調整可能に構成して、変位計の位
置での撓みによる変位分を、支点位置の高さ調整により
自動的に補償する。測定開始前に走査を実施して、ガイ
ドと測定対象物の面との傾きを検出し、傾きが0になる
ように支点位置の高さを調整し、アライメント調整を自
動化する。ストレートマスタなどの基準器をガイドに沿
って配置し、スライダに距離検出器を設けて基準器との
距離を検出し、距離が一定になるように、ガイドの支点
位置の高さを自動調整する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は摺動体の支持装置に
関し、例えば超精密平面度測定器において測定ヘッド部
分を所定の軸方向に移動自在な状態で支持するための機
構に適用しうる。
【0002】
【従来の技術】例えば超精密平面度測定器では、微小変
位計を用いてそれと測定対象物とのZ軸方向(一般に鉛
直方向)の距離を検出しながら、Z軸と直交するX及び
Y軸方向に微小変位計及び測定対象物の少なくとも一方
を移動して、検出距離の変化から測定面の平坦度を識別
する。
【0003】この種の装置では、一般に微小変位計をX
軸方向に移動自在な状態で保持するために、微小変位計
を保持するスライダと、このスライダをX軸に沿って摺
動自在に案内するガイドを備えている。ガイドは、その
構造上、両端で支持される場合が多いので、それの自重
やスライダ及び変位計の荷重によって撓みが生じる。こ
の種の撓みは、僅かであっても超精密測定や超精密加工
の分野では重大な悪影響を及ぼす場合がある。
【0004】このため従来より、例えば特公平6−31
736号公報及び特公平6−44051号公報に示され
るように、ガイドの材質を工夫したりそれを中空体に構
成し、ガイドの剛性を高めて撓み量を低減している。一
方、図13に示すように直定規を支点1、支点2の2点
で支持し、a/Lの係数が0.5228になるように支
点位置を定めると、直定規の中央部では撓みが生じない
ことが良く知られており(日本機械学会編:機械工学便
覧、B2加工学・加工機器、p197)支点の範囲内の
みを利用する場合に都合がよい。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ようにガイドの材質や構造を工夫してもなお、ガイドの
撓みによる悪影響は残る。例えば特公平6−31736
号公報に示された例では、材質としてアルミナセラミッ
クスを用いた場合に、ストロークが240mmの両端支
持中空直進案内機構において、最大撓み量は0.2μ
m、スライダの位置に応じた撓み量の変化は0.1μm
であるが、この程度の撓み量であっても、精度をナノメ
ートルオーダーとする超精密加工や超精密測定において
は大きな影響を及ぼす。
【0006】図13に示した直定規の原理を、超精密測
定器や超精密加工機における摺動体の支持装置に適用す
れば、ガイドの撓みを大幅に低減しうる。しかしなが
ら、この原理では実際にスライダの移動に利用される支
点間の距離の約2倍の長さのガイドが必要になり、材料
費用やガイドが占有する空間の無駄が多いので、実用性
が低い。
【0007】またこの原理を用いても、撓みの影響を十
分に低減できない。つまり、ガイドの自重によって生じ
る静的な撓みについては図13の原理で低減できるが、
スライダの重みによる撓みについては、それの移動に伴
ってガイド各部の撓み量が動的に変化するため対応でき
ない。ところで、一般に微小変位計は、分解能が高くな
るにつれてその測定可能範囲が狭くなる。従って、精度
の高い変位測定を実現するためには、最大変位をできる
限り小さくする必要がある。超精密平面度測定器におい
ては、スライダの移動面と測定対象物の面とが傾斜して
いると、この傾斜によって位置に応じた変位が現れるの
で、これらの面が平行になるように測定前に調整しなけ
ればならない。この種の調整は、一般に、アライメント
調整と呼ばれる。
【0008】本発明は、上述のような摺動体の支持装置
において、装置の大型化やコストの上昇を抑えると共
に、ガイドの自重によるそれの静的な撓みとスライダの
移動によって生じるガイドの動的な撓みの両者の影響を
低減して、スライダの位置決め精度を更に改善すること
を1つの目的とし、スライダの移動面と測定対象物の面
とのアライメント調整を自動化することをもう1つの目
的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
(請求項1)それ自身の両端もしくはその近傍の少なく
とも2点が支持されたガイド部材と、該ガイド部材に案
内されて所定の方向に摺動自在なスライダ部材とからな
る摺動体の支持装置において、前記ガイド部材上におけ
る前記スライダ部材の摺動方向位置を検出する位置検出
手段と、前記ガイド部材の一端もしくはその近傍を支持
する部材の鉛直方向の位置を調整する可動機構と、前記
ガイド部材の撓みによる前記スライダ部材の鉛直方向の
位置変位を修正するために、前記位置検出手段が検出し
た位置情報に応じて決定した制御量に従って前記可動機
構を位置決めする位置修正制御手段を設けたことを特徴
とする。
【0010】(請求項2)請求項1記載の摺動体の支持
装置において、前記ガイド部材に沿って配置される測定
対象物の表面とそれ自身との距離を検出可能な距離検出
手段を前記スライダ部材に搭載し、前記スライダ部材の
位置を前記ガイド部材に沿って移動するX軸駆動手段を
設け、予め定めた条件が成立した場合に、前記X軸駆動
手段を制御して、前記スライダ部材の位置を変えなが
ら、複数の位置で前記距離検出手段の検出した距離情報
を入力し、入力した複数の距離情報に基づいて、前記測
定対象物と前記ガイド部材との相対的な傾きを小さくす
るように、前記可動機構の位置を調整して該可動機構の
基準位置を決定する、平行度自動調整手段を設けたこと
を特徴とする。
【0011】(請求項3)請求項1記載の摺動体の支持
装置において、前記ガイド部材の撓みによる前記スライ
ダ部材の鉛直方向の位置変位量、もしくはそれを修正す
るための前記可動機構の位置修正量を、複数の位置につ
いてそれぞれ記憶するためのメモリ手段を前記位置修正
制御手段に設けたことを特徴とする。
【0012】(請求項4)請求項1記載の摺動体の支持
装置において、前記位置修正制御手段が、前記スライダ
部材のガイド部材に沿う方向の位置と、その位置での前
記ガイド部材の撓みによる鉛直方向の前記スライダ部材
の変位量と、前記ガイド部材の支点間の距離に基づい
て、前記可動機構の基準位置に対する位置修正量を決定
することを特徴とする。
【0013】(請求項5)それ自身の両端もしくはその
近傍の少なくとも2点が支持されたガイド部材と、該ガ
イド部材に案内されて所定の方向に摺動自在なスライダ
部材とからなる摺動体の支持装置において、前記ガイド
部材上の各位置における前記スライダ部材の鉛直方向の
予め定められた基準位置と平行な基準面が形成され、前
記ガイド部材に沿う位置に設置された位置基準部材と、
前記スライダ部材に搭載され、前記位置基準部材の基準
面とそれ自身との距離を検出する距離検出手段と、前記
ガイド部材の一端もしくはその近傍を支持する部材の鉛
直方向の位置を調整する可動機構と、前記距離検出手段
が検出した距離に基づいて、その変化を抑制するように
前記可動機構を位置決めする位置修正制御手段を設けた
ことを特徴とする。
【0014】(請求項6)請求項5記載の摺動体の支持
装置において、前記位置修正制御手段が、前記スライダ
部材のガイド部材に沿う方向の位置と、前記距離検出手
段の検出した距離の基準値に対する変位量と、前記ガイ
ド部材の支点間の距離に基づいて、前記可動機構の基準
位置に対する位置修正量を決定することを特徴とする。
【0015】(作用)例えば、図3に示すように支点1
と支点2の2点で両端が支持されたガイド3が存在し、
このガイド3に支持されたスライダ4が、ガイド3に案
内されてX軸方向に移動(摺動)する場合、スライダ4
のZ方向位置はその基準位置(撓みがない場合のガイド
3の軸位置)に対して変位し、この際の変位量(δ1,
δ2)はスライダ4のX方向位置(x1,x2)に応じ
て変化する。つまり、ガイド3及びスライダ4の重量に
よってスライダ4に撓みが生じ、またスライダ4の移動
に伴ってガイド3に加わる荷重の配分が変化するので、
ガイド3の撓み形状と撓み量が動的に変化する。
【0016】ガイドを支持する2つの支点1,2の少な
くとも一方の高さを調整可能に構成すれば、支点1,2
における高さの動的な修正によって、スライダ4の位置
に生じる変位を常に零にすることができる。例えば、図
6に示すように、支点1,2間の距離がL、スライダ4
の支点1からの距離がxの場合に、一方の支点2のみの
高さ調整によりスライダ4における変位δを0にするた
めに必要な、支点2の高さ調整量z0は、次式で表され
る。
【0017】z0=δ・L/x ・・・(1) 上記第1式におけるδはxに応じて変わる。なお、両方
の支点1,2の高さを同じだけ調整する場合には、z0
をδと同一にすればよい。 (請求項1記載の発明の作用)請求項1では、位置検出
手段が検出したスライダ部材の摺動方向位置(x)に基
づいて、上記z0を決定し、z0に従って可動機構を位
置決めすれば、前記ガイド部材の撓みによる前記スライ
ダ部材の鉛直方向の位置変位を修正することができる。
【0018】(請求項2記載の発明の作用)請求項2で
は、予め定めた条件が成立すると(例えば電源投入直後
に)、前記X軸駆動手段により前記スライダ部材が駆動
され、スライダ部材の位置が変わる。そして、平行度自
動調整手段は、複数の位置で前記距離検出手段の検出し
た距離情報を入力し、入力した複数の距離情報に基づい
て求められる、前記測定対象物と前記ガイド部材との相
対的な傾きを小さくするように、前記可動機構の位置を
調整し該可動機構の基準位置を決定する。
【0019】これにより、ガイド部材に沿う方向のアラ
イメント調整が自動化される。前記ガイド部材の撓みに
よる前記スライダ部材の鉛直方向の位置変位を修正する
ためのz0相当の可動部材の位置調整は、アライメント
調整によって決定された前記可動部材の基準位置に対す
る相対的な位置の修正として実施される。 (請求項3記載の発明の作用)前記ガイド部材の撓みに
よる前記スライダ部材の鉛直方向の位置変位量を求める
には、比較的複雑な計算処理を必要とする。この計算処
理をスライダが微小距離移動する度に繰り返し実施する
ためには、高性能な計算機が不可欠である。
【0020】しかし、請求項3では、特別に設けたメモ
リ手段に、前記ガイド部材の撓みによる前記スライダ部
材の鉛直方向の位置変位量、もしくはそれを修正するた
めの前記可動機構の位置修正量を、複数の位置について
それぞれ記憶することができるので、予め計算した結果
を前記メモリ手段に記憶しておくことにより、スライダ
の移動中の処理が単純化される。従って高性能な計算機
が不要になる。
【0021】(請求項4記載の発明の作用)前記スライ
ダ部材のガイド部材に沿う方向の位置と、その位置での
前記ガイド部材の撓みによる鉛直方向の前記スライダ部
材の変位量と、前記ガイド部材の支点間の距離に基づい
て、前記可動機構の基準位置に対する位置修正量z0を
決定するので、図6に示すように、一方の支点の位置を
調整するだけでも、スライダの位置の変位を零にしう
る。
【0022】(請求項5記載の発明の作用)請求項5で
は、位置修正制御手段が、距離検出手段の検出した距離
が常に一定になるように前記可動機構を位置決めするの
で、スライダは前記位置基準部材の基準面と平行に移動
する。従って、位置基準部材がストレートマスタである
場合には、それの軸と平行にスライダが移動する。ガイ
ド部材に撓みが生じている場合でも、それの鉛直方向の
変位分は、前記可動部材の位置修正によって自動的に修
正されるので、スライダには鉛直方向の変位が生じな
い。
【0023】位置基準部材は、ストレートマスタに限ら
ない。基準面が曲面の位置基準部材を用いれば、その曲
面形状に倣うようにスライダを移動させることができ
る。 (請求項6記載の発明の作用)請求項6では、前記位置
修正制御手段が、前記スライダ部材のガイド部材に沿う
方向の位置と、前記距離検出手段の検出した距離の基準
値に対する変位量と、前記ガイド部材の支点間の距離に
基づいて、前記可動機構の基準位置に対する位置修正量
を決定する。つまり、フィードフォワード制御により可
動機構の目標位置を決定するので、高速で位置決めを実
施しうる。
【0024】
【発明の実施の形態】
(第1の実施の形態)第1の実施の形態を、図1,図
2,図7及び図8に示す。この実施の形態は、請求項
1,請求項2,請求項3及び請求項4に対応する。超精
密平面度測定器の機構部外観を図1に示す。基礎定盤1
0は、環境温度変化の影響を受け難いようにグラナイト
で構成してあり、外部からの振動の影響を抑制するた
め、空気ばね式除振機構11で支持されている。この基
礎定盤10上に、測定対象物をY軸方向に移動するため
のY軸移動機構12と、測定手段である微小変位計13
をY軸と直交するX軸の方向に移動するX軸移動機構1
4とが構成されている。
【0025】Y軸移動機構12は、Y軸方向に摺動自在
なスライダ15と、それをY軸に沿って案内するガイド
16を備えている。剛性を高めるために、ガイド16は
アルミナセラミックスで構成されている。また摺動抵抗
を小さくするため、スライダ15とガイド16との間の
間隙に空気を循環させて、スライダ15をガイド16か
ら僅かに浮かせるように構成されている。
【0026】ガイド16は、低熱膨張合金製の土台17
を介して基礎定盤10上に固定されている。スライダ1
5上にアライメント定盤18が設置されている。測定対
象物はアライメント定盤18上に配置される。測定時に
は、測定ピッチに合わせて細かく、かつ滑らかに加減速
しながらスライダ15を移動する必要があるので、高精
度ボールねじ機構とACサーボモータでなるY軸駆動機
構(図2の180)がスライダ15に連結されている。
【0027】X軸移動機構14は、Y軸移動機構12を
またぐ形で構成されており、微小変位計13を保持しX
軸方向に摺動自在なスライダ21と、それをX軸に沿っ
て案内するガイド22を備えている。ガイド22はアル
ミナセラミックス製であり、その両端近傍が支柱23及
び24で支持されている。支柱23及び24はグラナイ
ト製である。また摺動抵抗を低減するため、スライダ2
1とガイド22の間の間隙に空気を循環させて、スライ
ダ21をガイド22から僅かに浮かせるように構成され
ている。
【0028】微小変位計13は、スライダ21の側面に
設けられた取付部25に装着されている。取付部25
は、測定対象物の高さに合わせて微小変位計13の位置
を高さ方向(Z方向)に調整するための調整機構(図示
せず)を備えている。測定時には、微小変位計13を測
定範囲内で一定の速度でX軸方向に移動しながら、微小
変位計13が出力するデータを読み取る必要があり、駆
動機構に起因する振動などの影響を極力排除しなければ
ならない。そこで、機械的な結合部を一切もたないAC
リニアサーボモータからなるX軸駆動機構(図2の16
0)が、スライダ21の移動機構として備わっている。
【0029】このACリニアサーボモータは、スライダ
21に内蔵された永久磁石とガイド22に内蔵された多
数の電気コイルで構成されている。これらの電気コイル
に所定の交流電力を印加することにより、永久磁石が電
気コイルに沿って移動し、スライダ21がX軸方向に移
動する。この例では、Y軸移動機構12のスライダ15
とX軸移動機構14のスライダ21は、いずれも300
mmの移動ストロークを有している。
【0030】図1のX軸移動機構14の主要部分を拡大
して図2に示す。図2に示すように、ガイド22はその
一端22aの近傍が支柱23の凹部23aに位置し、他
端22bの近傍は支柱24の凹部24aに位置してい
る。そして、ガイド22は、その一端22aが凹部23
aに配置された突起31で支持され、他端22bが凹部
24aに配置されたリニアアクチュエータ32によりZ
軸方向に移動可能に支持されている。
【0031】ガイド22は、断面が矩形の中空体に構成
してあり、その寸法は、Y軸方向が0.08m、Z軸方向が
0.12m、X軸方向は一端22aから他端22bまでが
1.0mになっている。突起31及びリニアアクチュエ
ータ32の頂部(支持部)は、ガイド22を支持するた
めに、Y軸方向に0.1m程度の長さを有している。ス
ライダ21のX方向位置を検出するために、スライダ2
1の内部には、位置検出ユニット35が備わっている。
この位置検出ユニット35は、その検出面がガイド22
に向けられた3つの反射型光学センサを内蔵している。
また、ガイド22上の位置検出ユニット35の各光学セ
ンサの検出面と対向する位置には、リニアスケール36
及び図示しない2つの基準位置マークがそれぞれ形成さ
れている。
【0032】リニアスケール36は、一定の微小間隔で
バーコードのように明部と暗部とが交互に配列された光
学的なマークである。スライダ21がX軸に沿って移動
する場合、一定の微小距離を移動する毎に、位置検出ユ
ニット35の1つの光学センサがそれを検出し、1つの
パルス信号を出力する。この信号のパルス数を計数すれ
ば、スライダ21のX方向の移動量が把握できる。
【0033】位置検出ユニット35の残りの2つの光学
センサは、スライダ21の位置に関するX軸方向の基準
位置と限界位置を検出するために備わっている。基準位
置からの移動量を把握することで、スライダ21の絶対
位置を知ることができる。限界位置は、スライダ21の
機械的な移動範囲を制限するために利用される。リニア
アクチュエータ32の縦断面を図7に示す。図7を参照
すると、リニアアクチュエータ32にはガイド41と該
ガイド41の内空間41aに配置されたスライダ42が
備わっている。スライダ42は、ガイド41に支持され
てZ軸方向に摺動する。
【0034】また摺動抵抗を低減するため、スライダ4
2とガイド41の間の間隙に空気を循環させて、スライ
ダ42をガイド41から僅かに浮かせるように構成され
ている。スライダ42の表面の一部分に永久磁石43が
装着され、ガイド41内壁の永久磁石43と対向する部
分には、電気コイル44が装着されている。永久磁石4
3と電気コイル44とでリニアモータが形成されてい
る。即ち、電気コイル44に所定の電力を印加すること
により、永久磁石43が装着されたスライダ42をZ軸
方向に駆動することができる。
【0035】スライダ42の表面には、リニアスケール
45と基準位置マーク46が形成されている。ガイド4
1上に設けた反射型の光学センサ47は、リニアスケー
ル45と対向する位置に配置され、ガイド41上の別の
位置に設けた反射型の光学センサ48及び49は、いず
れも基準位置マーク46の通る位置に対向して配置され
ている。
【0036】リニアスケール46は、一定の微小間隔で
バーコードのように明部と暗部とが交互に配列された光
学的なマークである。スライダ42がZ軸方向に移動す
る場合、一定の微小距離を移動する毎に、光学センサ4
7がそれを検出し、1つのパルス信号を出力する。この
信号のパルス数を計数すれば、スライダ42のZ方向の
移動量が把握できる。
【0037】2つの光学センサ48及び49は、基準位
置マーク46の検出により、スライダ42の位置に関す
るZ軸方向の基準位置と限界位置を識別する。この基準
位置からの移動量を把握することで、スライダ42の絶
対位置を知ることができる。限界位置は、スライダ42
の機械的な移動範囲を制限するために利用される。リニ
アアクチュエータ32は、非常に精度の高い位置決めが
できるように構成されている。但し、リニアアクチュエ
ータ32に要求される移動ストロークは、1μm以下で
ある。
【0038】再び図2を参照する。主制御ユニット10
0は、市販の32ビットパーソナルコンピュータに、ド
ライバ回路、センサアンプ、A/D変換器などの一般的
なインターフェースと制御用の特別なソフトウェアプロ
グラムを搭載して構成したものである。主制御ユニット
100は、X軸走査制御回路150を介してX軸走査機
構160を制御し、Y軸走査制御回路170を介してY
軸走査機構180を制御し、更にリニアアクチュエータ
32を駆動してその高さを制御する。
【0039】X軸走査制御回路150は、所定の指示を
与えることにより、X軸駆動機構160の位置制御を実
施する。この位置制御により、スライダ21は、X方向
の予め定めた範囲内を一定の速度で移動し、所定の走査
終了位置に達すると、走査開始位置まで戻るか、あるい
はその位置に止まるように制御される。Y軸走査制御回
路170は、所定の指示を与えることにより、Y軸駆動
機構180の位置制御を実施する。この位置制御によ
り、スライダ15は、Y方向に予め指定した微小距離だ
け移動して停止する。また、Y方向の走査終了位置に達
すると、走査開始位置まで戻るか、あるいはその位置に
止まるように制御される。
【0040】主制御ユニット100の入力には、リニア
アクチュエータ32の位置(高さ)を把握するために信
号S1(47,48,49の各出力)が印加され、スラ
イダ21のX方向位置を把握するために位置検出ユニッ
ト35が出力する信号Spが印加され、更に微小変位計
13の出力信号S3が印加される。次にX軸移動機構1
4のガイド22の撓みによる微小変位計13のZ方向変
位を修正する原理について説明する。
【0041】ガイド3をその両端2箇所の支点1,2で
支持する場合のガイド3とスライダ4の重量によるガイ
ド3撓み変形モデルを図4(M1)に示す。図4におい
て、Wsはスライダ4の重量に相当する集中荷重
[N]、Wgは単位長さ当たりのガイド3の重量に相当
する分布荷重[N/m]を示す。また、Lはガイド3の
一端から他端までの長さ[m]を示す。
【0042】図4(M1)のモデルには、重ね合わせの
法則を適用できるので、これを図4に示す(M1a)と
(M1b)の2つのモデルに分解できる。(M1a)は
分布荷重のみのモデルであり、(M1b)は集中荷重の
みのモデルである。ここで、Eをヤング率(縦弾性係
数)[N/m2]、Iを断面二次モーメント[m4]とす
ると、モデル(M1a)における位置x(支点1からの
距離)でのZ方向変位Z1aは次に示す第2式で表わされ
る。また、モデル(M1b)における位置xでのZ方向
変位Z1bは次に示す第3式で表わされる。更にモデル
(M1)における位置xでのZ方向変位Z1は次に示す
第4式で表わされる。また、第4式を変形すると第5式
が得られる。
【数1】 モデル(M1)における位置xでのZ方向変位Z1の計
算結果の例を、図5に示す。この例では、ガイド3の材
料をアルミナセラミックス、その密度を3980[Kg
/m3]、ヤング率を4120[GPa]、スライダ4
の重さを145[N]として計算した。第4式又は第5
式において、特定の装置上で変化するのは、xとWsで
ある。微小変位計13の重量が変化しなければ、Wsも
変化しないので、微小変位計13のZ方向変位は、図5
に示されるようにスライダ21のX方向位置(x)のみ
によって定まる。
【0043】そこで、図6に示すように、一方(両方で
も良い)の支点の高さをz0だけ変えてガイド3を故意
に傾斜させれば、微小変位計13の位置でのZ方向変位
を零にすることができる。微小変位計13のX方向位置
をx、微小変位計13の位置でのZ方向変位をδとすれ
ば、調整すべき変位量z0は、次の第6式で表される。 z0=δ・L/x ・・・(6) 図2に示す装置においては、リニアアクチュエータ32
の高さ調整により、ガイド22の一端の支点位置を変え
ることで、微小変位計13の位置でのZ方向変位を無く
することができる。
【0044】図2に示す主制御ユニット100が実行す
る制御(ソフトウェアの処理)の概要を図8に示す。図
8の各処理ステップの内容について説明する。なお、特
に指摘しない限り、処理をするのは主制御ユニット10
0に内蔵されたマイクロコンピュータである。装置の電
源が投入されると、ステップ201でシステムの初期化
を実施する。ここで、スライダ15はY方向の走査開始
位置に位置決めされ、スライダ21はX方向の走査開始
位置に位置決めされ、リニアアクチュエータ32のスラ
イダ42はZ方向の基準位置(基準位置マーク46と光
学センサ48との位置関係で決まる)に位置決めされ
る。
【0045】また、予めハードディスクなどの補助記憶
装置上に用意されたデータテーブルの内容を、内部メモ
リ上にコピーする。このデータテーブルには、微小変位
計13の種別と重量の関係を示す変換テーブルが含まれ
ている。ステップ202では、この装置に実際に装着さ
れている微小変位計13の種別(番号など)をオペレー
タの入力操作によって入力する。
【0046】ステップ203では、微小変位計13の重
量を識別する。即ち、内部メモリ上の変換テーブルを参
照して、ステップ202で入力された種別の情報から重
量の情報を得る。ステップ204では、スライダ21が
X方向の様々な位置(x)にある時の、微小変位計13
の位置でのZ方向変位(図6のδに相当)を、前記第5
式に基づいてそれぞれ計算し、各々の計算結果を、内部
メモリ上に位置(x)に対応付けてテーブルの形で記憶
する。
【0047】この計算においては、ステップ203で得
た微小変位計13の重量によって特定されるスライダ2
1の総重量が、Wsとして利用される。ステップ205
では、X軸走査制御回路150に所定の指示を与え、ス
ライダ21を駆動して、微小変位計13をX軸方向に予
め定めた範囲内で走査する。そして、走査しながら、各
々の位置で微小変位計13が出力する距離データを主制
御ユニット100のメモリに記憶する。
【0048】なお、ステップ205では、予めアライメ
ント定盤18上に測定対象物が配置されていると想定し
ている。つまり、ステップ205では、微小変位計13
と測定対象物との距離を各位置で測定する。ステップ2
05の測定で得られた距離データには、ガイド22の撓
みの影響が含まれている。また、ガイド22の撓みによ
る微小変位計13のZ方向変位δの値は、ステップ20
4で計算され、メモリ上にテーブルとして存在してい
る。
【0049】そこで、ステップ206ではこのテーブル
を参照し、位置xに対応する変位δを入力し、測定結果
の距離データから変位δを減算して、補正された距離デ
ータを得る。ステップ207では、ステップ206で補
正されたX方向の各位置での距離データに基づいて、ガ
イド22の傾きθを求める。具体的には、得られた多数
の距離データを最小二乗法を用いて処理し、図12に示
すように、ガイド22のX軸の測定対象物の面の近似軸
に対する相対的な傾きをθとして求める。
【0050】ステップ208では、ステップ207で求
めた傾きθが0であるか否かを識別する。θが0で無け
ればステップ209に進み、ステップ205,206,
207の処理が繰り返される。ステップ209では、リ
ニアアクチュエータ32の高さを調整して、ステップ2
07で求めた傾きθが0に近づく方向に、ガイド22の
傾きを修正する。即ち、次の第7式で求められる高さH
だけ、リニアアクチュエータ32のスライダ42の位置
を変更する。
【0051】H=L・tan θ ・・・(7) 傾きθが0になるまで、ステップ205,206,20
7,208,209の処理が繰り返される。θが0にな
ると、ステップ208から210に進む。ステップ21
0では、傾きθが0になり、ガイド22と測定対象物の
面とがX軸について平行になったので、この状態でのガ
イド22の位置を原点に定める。即ち、リニアアクチュ
エータ32のスライダ42の現在位置を原点(あるいは
基準位置)として記憶する。また、微小変位計13で測
定対象物との距離を測定しこのとき得られた距離を原点
の距離として記憶する。この原点の距離に対する相対的
な距離の変化が、測定すべき測定対象物の面の変位であ
る。
【0052】上記処理によって、X軸方向のアライメン
ト調整が自動的に実施されたことになる。なお、Y軸方
向のアライメントについては、アライメント定盤18の
傾き調整によって修正することができる。オペレータに
よって所定の測定開始指示が与えられると、ステップ2
11から212に進む。
【0053】ステップ212では、X軸走査制御回路1
50及びY軸走査制御回路170に所定の指示を与え、
X軸駆動機構160及びY軸駆動機構180を駆動し
て、微小変位計13をX,Y方向に走査する。測定中は
微小変位計13をX軸方向に一定の速度で移動し、Y軸
方向の移動は禁止する。ステップ213では、微小変位
計13のX軸方向の現在位置(x)を入力する。
【0054】ステップ214では、ステップ204で作
成されたテーブルを参照し、位置xに対応する変位δを
入力する。そして、前記第6式に基づいて求められる位
置修正量z0に相当する距離だけ、リニアアクチュエー
タ32のスライダ42をその原点に対して移動する。こ
れによって、図6の例と同様に、微小変位計13の位置
でのスライダ21のZ方向変位が0になり、ガイド22
の撓みの影響が打ち消される。
【0055】ステップ212,213,214は繰り返
し実行されるので、スライダ21のX方向位置が変わる
度に、その位置でのガイド22の撓みの影響を無くする
ように、リニアアクチュエータ32が駆動され、ガイド
22の支点の位置が自動調整される。 (第2の実施の形態)この形態の装置主要部の構成を図
9に示し、図9の主制御ユニット101の動作の概要を
図10に示す。図9において、第1の実施の形態と同一
の構成要素には同一の符号を付して示してある。この形
態は、請求項5及び請求項6に対応する。
【0056】図9を参照し、図2の構成に対し変更され
た部分について説明する。スライダ21上には、検出軸
を上方に向けて配置した距離検出器60が搭載してあ
り、この距離検出器60の上方には、基準器61が設置
してある。基準器61は、その両端が支柱23及び24
で支持された板状の部材であり、距離検出器60と対向
する下面に、基準面61aが形成されている。基準面6
1aは、アライメント定盤18上に配置される測定対象
物の被測定面の基準形状に沿った形に正確に形成されて
いる。
【0057】この例では、基準器61の基準面61aが
曲面に形成されているが、測定対象物の基準面が平面で
ある場合には、ストレートマスタのように平坦な基準面
が形成されたものを用いればよい。主制御ユニット10
1は図2の主制御ユニット100と同一の構成であり、
動作のみが異なる。主制御ユニット101の各ステップ
の動作について、図10を参照して説明する。特に指摘
しない限り、処理を実施する主体は、主制御ユニット1
01に内蔵されたマイクロコンビュータである。
【0058】装置の電源が投入されると、ステップ30
1でシステムの初期化を実施する。ここで、スライダ1
5はY方向の走査開始位置に位置決めされ、スライダ2
1はX方向の走査開始位置に位置決めされ、リニアアク
チュエータ32のスライダ42はZ方向の基準位置(基
準位置マーク46と光学センサ48との位置関係で決ま
る)に位置決めされる。
【0059】ステップ302では、X軸走査制御回路1
50に所定の指示を与え、スライダ21を駆動して、ス
ライダ21上の距離検出器60をX方向に一定の速度で
走査する。
【0060】ステップ302を実行した後、スライダ2
1がX方向に所定の微小距離を移動する毎に、ステップ
303及び304を通り、ステップ305に進む。ステ
ップ305では、距離検出器60により、それと基準器
61の基準面61aとの距離を検出し、次のステップ3
06では、検出された距離の値を、その時のX方向位置
に対応付けて内部メモリに記憶する。
【0061】スライダ21がX方向所定範囲の一端から
他端まで移動する間、ステップ303,304,30
5,306の処理が繰り返される。この走査が終了する
と、ステップ307に進む。この時には、X方向の各位
置における、距離検出器60と基準面61aとの距離を
示すデータが、メモリ上に保持されている。ステップ3
07では、距離検出器60と基準面61aとの距離を一
定にするために必要な、位置変位量δ(距離検出器60
の位置でのZ方向変位)をX方向の各位置について求め
る。
【0062】δの決定方法には様々なものがあるが、こ
の例では、ステップ305で検出した多数の距離データ
の中の最大値と最小値との中間値と、各位置で検出した
距離との差分がδである。求めた各位置の位置変位量δ
は、X方向の位置に対応付けて各々内部メモリに記憶す
る。ステップ308では、現在の状態を原点として定め
る。所定の測定開始指示があると、ステップ309を通
ってステップ310に進む。
【0063】ステップ310では、X軸走査制御回路1
50及びY軸走査制御回路170に所定の指示を与え、
X軸駆動機構160及びY軸駆動機構180を駆動し
て、微小変位計13及び距離検出器60をX,Y方向に
走査する。測定中は微小変位計13をX軸方向に一定の
速度で移動し、Y軸方向の移動は禁止する。ステップ3
11では、微小変位計13のX軸方向の現在位置(x)
を入力する。なお、微小変位計13と距離検出器60の
X方向位置は同一である。
【0064】ステップ312では、現在のX方向位置x
に対応する位置変位量δ(ステップ307で求めたも
の)を、内部メモリを参照して入力する。そして、前記
第6式に基づいて求められる位置修正量z0に相当する
距離だけ、リニアアクチュエータ32のスライダ42を
その原点に対して移動する。これによって、図6の例と
同様に、微小変位計13の位置でのスライダ21のZ方
向変位が0になる。
【0065】ステップ310,311,312は繰り返
し実行されるので、スライダ21のX方向位置が変わる
度に、その位置で距離検出器60と基準面61aとの距
離が一定になるように、リニアアクチュエータ32が駆
動され、ガイド22の支点の位置が自動調整される。こ
れにより、結果的に、ガイド22の撓みによるスライダ
21のZ方向位置変位の影響は、変位検出器13の測定
結果に現れない。測定対象物の基準面が曲面であって
も、その基準面に対する変位だけを測定することができ
る。
【0066】なお、以上説明したいずれの実施の形態に
おいても、X方向の両端でガイド22を支持する場合を
説明したが、例えば図11に示すように、ガイド22の
一端を固定して片持ち梁とし、さらにガイド22の他端
をリニアアクチュエータ32で支持する場合にも、リニ
アアクチュエータ32の高さを調整することにより、ス
ライダ21の位置でのガイド22の撓みによるZ方向変
位を無くすることができる。
【0067】なお、以上に説明した実施の形態は各々一
例であり、例えば次のように変形しても同様に実施しう
る。リニアアクチュエータ32の構造については、電気
モータの出力を精密ボールねじ機構を介して減速し、精
密ボールねじ機構の出力でスライダ42を動かすように
変形しても良い。
【0068】図8に示す処理においては、ステップ21
4でδからz0を計算により求めているが、予めz0を
計算し、その結果をテーブルに登録しておき、ステップ
214では、X方向の現在位置に基づいて前記テーブル
を参照し、直接z0を得るように変更しても良い。図2
及び図9の突起31をリニアアクチュエータで構成し、
ガイド22の両端の高さを同じだけ調整して、ガイドの
撓みによるスライダ21の変位δを修正しても良い。そ
の場合、リニアアクチュエータの高さ調整量z0は、変
位量δと同一になる。
【0069】
【発明の効果】
(請求項1)ガイド部材の撓みによるスライダ部材の鉛
直方向位置変位が、測定に悪影響を及ぼすのを防止しう
る。 (請求項2)ガイド部材に沿う方向のアライメント調整
が自動化される。
【0070】(請求項3)予め計算した結果をメモリ手
段に記憶しておくことにより、スライダ部材の移動中の
処理が単純化される。従って高性能な計算機が不要にな
る。 (請求項4)ガイド部材の一方の支点の位置を調整する
だけでも、スライダ部材の位置の変位を零にしうる。
【0071】(請求項5)ガイド部材に撓みが生じてい
る場合でも、それの鉛直方向の変位分は、可動部材の位
置修正によって自動的に修正されるので、スライダには
鉛直方向の変位が生じない。 (請求項6)フィードフォワード制御により可動機構の
目標位置を決定するので、高速で位置決めを実施しう
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】超精密平面度測定装置の機構部外観を示す斜視
図である。
【図2】X軸移動機構12の主要部分を拡大して示すブ
ロック図である。
【図3】摺動体の支持装置の重量による撓みを示す模式
図である。
【図4】ガイドの撓み変形モデルを示す模式図である。
【図5】スライダの位置とZ方向変位の例を示すグラフ
である。
【図6】スライダのZ方向変位を修正する原理を示す模
式図である。
【図7】リニアアクチュエータ32の構造を示す縦断面
図である。
【図8】主制御ユニット100の動作を示すフローチャ
ートである。
【図9】X軸移動機構12の主要部分を拡大して示すブ
ロック図である。
【図10】主制御ユニット101の動作を示すフローチ
ャートである。
【図11】ガイドの支持構造の概略を示す正面図であ
る。
【図12】距離データと近似された面の傾きθの関係を
示す模式図である。
【図13】公知技術の直定規を示す模式図である。
【符号の説明】
10 基礎定盤 11 空気ばね式除振機構 12 Y軸移動機構 13 微小変位計 14 X軸移動機構 15,21 スライダ 16,22 ガイド 17 土台 18 アライメント定盤 23,24 支柱 22a 一端 22b 他端 23a,24a 凹部 31 突起 32 リニアアクチュエータ 35 位置検出ユニット 36 リニアスケール 41 ガイド 42 スライダ 43 永久磁石 44 電気コイル 45 リニアスケール 46 基準位置マーク 47,48,49 光学センサ 60 距離検出器 61 基準器 61a 基準面 100,101 主制御ユニット 150 X軸走査制御回路 160 X軸駆動機構 170 Y軸走査制御回路 180 Y軸駆動機構

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 それ自身の両端もしくはその近傍の少な
    くとも2点が支持されたガイド部材と、該ガイド部材に
    案内されて所定の方向に摺動自在なスライダ部材とから
    なる摺動体の支持装置において、 前記ガイド部材上における前記スライダ部材の摺動方向
    位置を検出する位置検出手段と、 前記ガイド部材の一端もしくはその近傍を支持する部材
    の鉛直方向の位置を調整する可動機構と、 前記ガイド部材の撓みによる前記スライダ部材の鉛直方
    向の位置変位を修正するために、前記位置検出手段が検
    出した位置情報に応じて決定した制御量に従って前記可
    動機構を位置決めする位置修正制御手段を設けたことを
    特徴とする摺動体の支持装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の摺動体の支持装置におい
    て、 前記ガイド部材に沿って配置される測定対象物の表面と
    それ自身との距離を検出可能な距離検出手段を前記スラ
    イダ部材に搭載し、 前記スライダ部材の位置を前記ガイド部材に沿って移動
    するX軸駆動手段を設け、 予め定めた条件が成立した場合に、前記X軸駆動手段を
    制御して、前記スライダ部材の位置を変えながら、複数
    の位置で前記距離検出手段の検出した距離情報を入力
    し、入力した複数の距離情報に基づいて、前記測定対象
    物と前記ガイド部材との相対的な傾きを小さくするよう
    に、前記可動機構の位置を調整して該可動機構の基準位
    置を決定する、平行度自動調整手段を設けたことを特徴
    とする摺動体の支持装置。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の摺動体の支持装置におい
    て、前記ガイド部材の撓みによる前記スライダ部材の鉛
    直方向の位置変位量、もしくはそれを修正するための前
    記可動機構の位置修正量を、複数の位置についてそれぞ
    れ記憶するためのメモリ手段を前記位置修正制御手段に
    設けたことを特徴とする摺動体の支持装置。
  4. 【請求項4】 請求項1記載の摺動体の支持装置におい
    て、前記位置修正制御手段が、前記スライダ部材のガイ
    ド部材に沿う方向の位置と、その位置での前記ガイド部
    材の撓みによる鉛直方向の前記スライダ部材の変位量
    と、前記ガイド部材の支点間の距離に基づいて、前記可
    動機構の基準位置に対する位置修正量を決定することを
    特徴とする摺動体の支持装置。
  5. 【請求項5】 それ自身の両端もしくはその近傍の少な
    くとも2点が支持されたガイド部材と、該ガイド部材に
    案内されて所定の方向に摺動自在なスライダ部材とから
    なる摺動体の支持装置において、 前記ガイド部材上の各位置における前記スライダ部材の
    鉛直方向の予め定められた基準位置と平行な基準面が形
    成され、前記ガイド部材に沿う位置に設置された位置基
    準部材と、 前記スライダ部材に搭載され、前記位置基準部材の基準
    面とそれ自身との距離を検出する距離検出手段と、 前記ガイド部材の一端もしくはその近傍を支持する部材
    の鉛直方向の位置を調整する可動機構と、 前記距離検出手段が検出した距離に基づいて、その変化
    を抑制するように前記可動機構を位置決めする位置修正
    制御手段を設けたことを特徴とする摺動体の支持装置。
  6. 【請求項6】 請求項5記載の摺動体の支持装置におい
    て、前記位置修正制御手段が、前記スライダ部材のガイ
    ド部材に沿う方向の位置と、前記距離検出手段の検出し
    た距離の基準値に対する変位量と、前記ガイド部材の支
    点間の距離に基づいて、前記可動機構の基準位置に対す
    る位置修正量を決定することを特徴とする摺動体の支持
    装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005214943A (ja) * 2004-02-02 2005-08-11 Mitsutoyo Corp 三次元測定機の測定座標補正方法及び三次元測定システム

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