JPH10338809A - Composite film comprising low-permittivity resin and p-directing polyamide, prepreg thereof and use thereof - Google Patents

Composite film comprising low-permittivity resin and p-directing polyamide, prepreg thereof and use thereof

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JPH10338809A
JPH10338809A JP10091021A JP9102198A JPH10338809A JP H10338809 A JPH10338809 A JP H10338809A JP 10091021 A JP10091021 A JP 10091021A JP 9102198 A JP9102198 A JP 9102198A JP H10338809 A JPH10338809 A JP H10338809A
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resin
composite film
film
para
prepreg
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JP10091021A
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Japanese (ja)
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Tsutomu Takahashi
勉 高橋
Hiroaki Kumada
浩明 熊田
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a composite film having low permittivity, being uniform, having uniform formation, being lightweight and having a low coefficient of thermal expansion and a flexible printed circuit board made thereof. SOLUTION: This composite film is one having a structure having a continuous phase comprising a p-directing aromatic polyamide and a phase comprising a low-permittivity resin and having a permittivity of 3.2 or below at 1 MHz or below and a coefficient of thermal expansion within ±50×10<-6> / deg.C. In this film, the part of the p-directing aromatic polyamide film is composed of fibrils having a diameter of 1 μm or below and has a structure in which the fibrils are arranged in a plane in the form a network or a nonwoven fabric. The composite film is impregnated with a thermoplastic resin and/or a thermosetting resin to obtain a prepreg, and a printed circuit board or laminate is obtained by using such prepregs.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、誘電率が低く、材
質として均質であり、地合が均一な複合フィルムに関す
る。また、本発明は、誘電率の低い均質な多孔質複合フ
ィルムに関する。また、かかる複合フィルムを基材とし
て用いてなるフレキシブルプリント基板に関するもので
ある。さらには、多孔質複合フィルムからなるプリプレ
グ並びにこれらを用いてなる回路用基材および回路用積
層板に関するものである。
The present invention relates to a composite film having a low dielectric constant, a homogeneous material, and a uniform formation. The present invention also relates to a homogeneous porous composite film having a low dielectric constant. The present invention also relates to a flexible printed circuit board using such a composite film as a base material. Furthermore, the present invention relates to a prepreg made of a porous composite film, a circuit substrate and a circuit laminate using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の電子機器においては、高機能化の
ための高速信号処理化、デジタル化への要求が一層高ま
っている。芳香族ポリアミド(以下、アラミドというこ
とがある。)の不織布を基体とした積層板は、低誘電
率、軽量、低熱線膨張率という特徴を有しており、かか
る分野、特に多層プリント基板での用途開発が進められ
ている。また、フレキシブル基板においてはポリイミド
からなるフィルムが使用されているが、高速信号処理化
の目的のためには更なる低誘電率化が求められている。
2. Description of the Related Art In recent years, demands for high-speed signal processing and digitalization for higher functions have been further increased in electronic devices. BACKGROUND ART Laminates made of a nonwoven fabric of aromatic polyamide (hereinafter sometimes referred to as aramid) have characteristics of low dielectric constant, light weight and low coefficient of linear thermal expansion. Applications are being developed. Further, a film made of polyimide is used for a flexible substrate, but a further lowering of the dielectric constant is required for the purpose of high-speed signal processing.

【0003】アラミドは2種類に大別される。即ち、メ
タ配向芳香族ポリアミド(以下、メタアラミドというこ
とがある。)とパラ配向芳香族ポリアミド(以下、パラ
アラミドということがある。)である。メタアラミドか
らなる紙の強度・引裂強度は実用上充分であるが、熱線
膨張係数が高くそのままでは回路用基材としては不適で
ある。一方、パラアラミド繊維は高強度、高剛性、高耐
熱性および低熱線膨張係数といった優れた性質を有して
いるが、パラアラミドは溶融しないのでパラアラミドパ
ルプから製造されたパラアラミド紙は膠着部(絡合部と
いうこともある。)を有しない。この結果、パラアラミ
ド紙は強度が低く、回路用基材としては取扱いが困難で
あった。このため、パラアラミドの紙または不織布に耐
熱性樹脂からなるバインダーを施す方法がよく用いられ
ている。
Aramid is roughly classified into two types. That is, a meta-oriented aromatic polyamide (hereinafter, sometimes referred to as meta-aramid) and a para-oriented aromatic polyamide (hereinafter, sometimes referred to as para-aramid). Although the strength and tear strength of paper made of meta-aramid are practically sufficient, the coefficient of linear thermal expansion is so high that it is unsuitable as a circuit substrate. On the other hand, para-aramid fiber has excellent properties such as high strength, high rigidity, high heat resistance and low coefficient of linear thermal expansion. However, since para-aramid does not melt, para-aramid paper manufactured from para-aramid pulp has an agglutinated portion (entangled portion). Part). As a result, the para-aramid paper had low strength and was difficult to handle as a circuit substrate. For this reason, a method of applying a binder made of a heat-resistant resin to para-aramid paper or nonwoven fabric is often used.

【0004】例えば、米国特許第5,314,742号
明細書には、メタアラミドからなるフィブリルとパラア
ラミド・フロックとからなる不織布が、低熱線膨張率を
有する積層板の基体として有用であると記載されてい
る。また、特開平5−327148号公報には、パラア
ラミド繊維を50%以上含有するクロス、紙、不織布を
基体とすることで、面方向の熱線膨張係数を低減できる
ことが記載されている。しかし、不織布の場合には、製
法上の特質として均質な物が得られにくいという欠点が
あり、改善が望まれていた。また、パラアラミドの1M
Hzでの誘電率は約3.5であり、従来の単にエポキシ
樹脂を含浸しプリント基板用プリプレグとする方法では
低誘電率化は困難であった。
For example, US Pat. No. 5,314,742 discloses that a nonwoven fabric comprising fibrils composed of meta-aramid and para-aramid flocs is useful as a substrate for a laminate having a low coefficient of linear thermal expansion. ing. JP-A-5-327148 describes that the coefficient of linear thermal expansion in the plane direction can be reduced by using a cloth, paper or nonwoven fabric containing 50% or more para-aramid fiber as a base material. However, in the case of a nonwoven fabric, there is a drawback in that a uniform product is difficult to obtain as a characteristic in the production method, and improvement has been desired. In addition, 1M of para-aramid
The dielectric constant at Hz is about 3.5, and it has been difficult to reduce the dielectric constant by a conventional method of simply impregnating with an epoxy resin to form a prepreg for a printed circuit board.

【0005】誘電率を下げる目的で、基材に誘電率の低
いフッ素樹脂を添加する方法が幾つか開示されている。
欧州特許320901号公開明細書にはアラミド織布ま
たは不織布で補強されたフッ素樹脂からなる積層板の製
造技術が開示されている。しかしこれら織布、不織布を
形成する繊維の径は約15〜20μmであり、近年のプ
リント基板製造における微細加工の必要性から、より地
合いが均一で材質として均質性の高い基材が望まれてい
る。
Several methods have been disclosed for adding a fluororesin having a low dielectric constant to a substrate for the purpose of lowering the dielectric constant.
EP-A 320 901 discloses a technique for producing a laminate made of a fluororesin reinforced with aramid woven or nonwoven fabric. However, the diameter of the fibers forming these woven and non-woven fabrics is about 15 to 20 μm, and the necessity of fine processing in the production of printed circuit boards in recent years has demanded a base material having a more uniform formation and a higher homogeneity as a material. I have.

【0006】また、同じく誘電率を下げる目的で、特開
平4−55437号公報にはアラミド繊維からなる織
布、不織布にフッ素樹脂とガラス球の分散液を含浸させ
た基板材料が、また、特開平2−268486号公報に
はフッ素樹脂繊維と有機繊維を混抄した基材を用いる基
板材料が開示されているが、これらはいずれも微細加工
を行う際に基材に要求される高度な均質性が損なわれ
る。
For the purpose of lowering the dielectric constant, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-55437 discloses a substrate material in which a woven or nonwoven fabric made of aramid fiber is impregnated with a dispersion of a fluororesin and glass spheres. Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 2-268486 discloses a substrate material using a base material in which a fluororesin fiber and an organic fiber are mixed. However, any of these materials has a high degree of homogeneity required for the base material when performing fine processing. Is impaired.

【0007】また特公平1−33493号公報には湿潤
状態の芳香族ポリアミドフィルムの表面にフッ素樹脂水
分散液を塗布、乾燥した後、熱処理することにより芳香
族ポリアミドフィルムの片面または両面にフッ素樹脂層
を形成させる方法が示されている。さらに特公平6−9
4206号公報では熱硬化性樹脂と基材からなる層に、
特開平3−273695号公報ではフッ素樹脂と繊維補
強材とを組み合わせた層の上にそれぞれフッ素樹脂膜を
含む層を積層し、全体として誘電率の低い積層板を製造
する方法が開示されている。しかしこのような形態では
フィルム全体としては異なる物質の積層物の形態をな
し、均一性があるとは言えない。さらに低誘電層を積層
するという方法ではプリント基板自身の薄葉化が困難で
ある。
In Japanese Patent Publication No. 33493/1989, an aqueous dispersion of a fluororesin is applied to the surface of an aromatic polyamide film in a wet state, dried, and then heat-treated to give a fluororesin on one or both sides of the aromatic polyamide film. A method for forming a layer is shown. 6-9
No. 4206 discloses that a layer composed of a thermosetting resin and a base material includes:
JP-A-3-27395 discloses a method of manufacturing a laminate having a low dielectric constant as a whole by laminating layers each containing a fluororesin film on a layer combining a fluororesin and a fiber reinforcing material. . However, in such a form, the film as a whole is in the form of a laminate of different substances and cannot be said to be uniform. Further, it is difficult to make the printed circuit board itself thinner by a method of laminating a low dielectric layer.

【0008】誘電率の低いフィルムとしては、他に内部
に気泡を有する芳香族ポリエステルフィルムがPolymer
Preprints 37巻 No.1(1996年、Divisio
n ofPolymer Chemistry, Inc. American Chemical
Society)の160頁に記載されている。これによる
と低熱線膨張率を有する芳香族ポリエステルの低誘電率
化に誘電率の低い空気相として気泡を内部に作ることが
提案されている。しかし、フィルム内に気泡を有するの
では、現実的にはプリント基板に加工中におけるエッチ
ング液の混入や水分流入などが懸念される。
[0008] As a film having a low dielectric constant, an aromatic polyester film having air bubbles therein is also a Polymer.
Preprints 37 vol. 1 (Divisio, 1996
n ofPolymer Chemistry, Inc. American Chemical
Society), page 160. According to this, it has been proposed to create air bubbles as an air phase having a low dielectric constant in order to lower the dielectric constant of an aromatic polyester having a low coefficient of linear thermal expansion. However, if bubbles are present in the film, in reality, there is a concern that the etchant may be mixed or water may flow during processing on the printed circuit board.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】かかる現状において、
本発明の課題は、低誘電率であり、プリント基板として
の機械的強度が良好で、材質として均質であり、かつ地
合が均一で軽量な熱線膨張率が低い複合フィルム、およ
びかかるフィルムを用いたフレキシブルプリント基板用
の基材を提供することにある。また、本発明の課題は、
複合フィルムの中でも多孔性を有する多孔質複合フィル
ムおよびかかるフィルムに熱可塑性樹脂および/または
熱硬化性樹脂(以下、単に樹脂ということがある。)を
含浸してなるプリプレグを提供することにある。さら
に、本発明は、かかるプリプレグを使用したプリント回
路用基材および積層板を提供することにある。
Under such circumstances,
An object of the present invention is to provide a composite film having a low dielectric constant, a good mechanical strength as a printed circuit board, a uniform material, a uniform formation, a low coefficient of linear thermal expansion, and such a film. To provide a base material for a flexible printed circuit board. The object of the present invention is to
It is an object of the present invention to provide a porous composite film having porosity among composite films and a prepreg obtained by impregnating such a film with a thermoplastic resin and / or a thermosetting resin (hereinafter, may be simply referred to as a resin). Another object of the present invention is to provide a printed circuit board and a laminate using such a prepreg.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
解決の為に鋭意研究し本発明に到達した。即ち、本発明
は、先ず、パラ配向芳香族ポリアミドからなる連続相と
低誘電率樹脂からなる相とを有するフイルムであり、該
フィルムの1MHzでの誘電率が3.2以下であり(以
下、本明細書での誘電率は特に明記しない限り1MHz
での測定値である)、かつ200〜300℃での熱線膨
張係数が±50×10-6/℃以内である複合フィルムに
係るものである。
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and have reached the present invention. That is, the present invention firstly provides a film having a continuous phase composed of para-oriented aromatic polyamide and a phase composed of a low dielectric constant resin, wherein the dielectric constant at 1 MHz of the film is 3.2 or less (hereinafter, referred to as The dielectric constant in this specification is 1 MHz unless otherwise specified.
And a coefficient of linear thermal expansion at 200 to 300 ° C. is within ± 50 × 10 −6 / ° C.

【0011】次に、本発明は、上記の複合フィルムが、
さらに230℃未満で溶融しない高耐熱の短繊維および
/またはパルプを含有する複合フィルムに係るものであ
る。
Next, the present invention provides the above composite film,
Further, the present invention relates to a composite film containing short fibers and / or pulp which does not melt at a temperature of less than 230 ° C.

【0012】次に、本発明は、パラ配向芳香族ポリアミ
ドフィルムの部分が、フィブリルの径が1μm以下のフ
ィブリルから構成され、フィブリルが網目状または不織
布状に平面に配置されかつ層状に重なっている構造を有
する複合フィルムに係るものである。
Next, according to the present invention, the portion of the para-oriented aromatic polyamide film is composed of fibrils having a fibril diameter of 1 μm or less, and the fibrils are arranged in a mesh or nonwoven fabric on a plane and overlapped in layers. The present invention relates to a composite film having a structure.

【0013】さらに、本発明は、かかる複合フイルム
が、多孔質複合フィルムであり、その空隙率が30〜9
5%である複合フィルムに係るものである。
Further, according to the present invention, the composite film is a porous composite film having a porosity of 30-9.
It is related to a composite film of 5%.

【0014】また、本発明は、この複合フィルムの内部
に空隙を有する多孔質複合フィルムに熱可塑性樹脂およ
び/または熱硬化性樹脂を含浸してなるプリプレグに係
るものである。
Further, the present invention relates to a prepreg obtained by impregnating a thermoplastic resin and / or a thermosetting resin into a porous composite film having voids inside the composite film.

【0015】さらに、本発明は、上記複合フィルムを用
いてなるフレキシブルプリント基板に係るものである。
また、上記プリプレグを用いてなるプリント回路用基
材、およびこのプリント回路用基材からなる絶縁層と金
属箔とからなる導電層を有するプリント回路用積層板に
係るものである。
Further, the present invention relates to a flexible printed circuit board using the above composite film.
The present invention also relates to a printed circuit board using the prepreg, and a printed circuit board having a conductive layer made of an insulating layer and a metal foil made of the printed circuit board.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳しく説明
する。本発明にいう複合フイルムとは、パラ配向芳香族
ポリアミドからなる連続相と低誘電率樹脂からなる相と
が存在する構造を有するフイルムである。ここに連続相
とは、フィルムの片面の表面からフィルムの内部を経て
反対の面に達するまで同一の物質が形態を同じくして存
在している状態をいう。また、低誘電率樹脂からなる相
とは、上記連続相の間隙に、低誘電率樹脂が分散して存
在する状態か、または連続相の間隙を充填する状態で存
在することをいう。なお、低誘電率樹脂からなる相の一
部がフィルム表面に存在することもある。本発明の複合
フイルムの1MHzでの誘電率は3.2以下であり、か
つ200〜300℃での熱線膨張係数は±50×10-6
/℃以内である。ここに、本発明にいう誘電率とは、A
STM−D150に準拠した方法によって測定した誘電
率をいう。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. The composite film referred to in the present invention is a film having a structure in which a continuous phase composed of para-oriented aromatic polyamide and a phase composed of a low dielectric constant resin exist. Here, the continuous phase refers to a state in which the same substance is present in the same form from one surface of the film to the other surface through the inside of the film. Further, the phase made of a low dielectric constant resin means that the low dielectric constant resin is dispersed in the gaps of the continuous phase or exists in a state of filling the gaps of the continuous phase. Note that a part of the phase made of the low dielectric resin may be present on the film surface. The dielectric constant at 1 MHz of the composite film of the present invention is 3.2 or less, and the coefficient of linear thermal expansion at 200 to 300 ° C. is ± 50 × 10 −6.
/ ° C or less. Here, the permittivity referred to in the present invention is A
It refers to the dielectric constant measured by a method based on STM-D150.

【0017】そして、本発明にいう複合フィルムは、低
誘電率樹脂とパラアラミドとを主成分とする複合フィル
ムであり、パラアラミド部分はパラアラミドのフィブリ
ルからなり、微視的に見ると不織布状の形態を有してい
る。本発明の複合フィルムのパラアラミドの相は、パラ
アラミドからなる径が1μm以下のフィブリルが網目状
または不織布状に平面に配置され、かつ層状に重なって
いる構造を有することが好ましい。ここで、平面に配置
されたとは、フィブリルがフィルム面にほぼ平行に配置
されていることをいう。
The composite film according to the present invention is a composite film containing a low dielectric constant resin and para-aramid as main components, and the para-aramid portion is composed of para-aramid fibrils, and has a nonwoven fabric form when viewed microscopically. Have. The para-aramid phase of the composite film of the present invention preferably has a structure in which fibrils having a diameter of 1 μm or less, which are composed of para-aramid, are arranged in a network or nonwoven fabric on a plane, and are layered. Here, "disposed in a plane" means that the fibrils are disposed substantially parallel to the film surface.

【0018】本発明の連続相を構成するパラ配向芳香族
ポリアミドは、パラ配向芳香族ジアミンとパラ配向芳香
族ジカルボン酸ハライドの縮合重合により得られるもの
であり、アミド結合が芳香族環のパラ位またはそれに準
じた配向位(例えば、4,4’−ビフェニレン、1,5
−ナフタレン、2,6−ナフタレン等のような反対方向
に同軸または平行に延びる配向位)で結合される繰り返
し単位から実質的になるものである。
The para-oriented aromatic polyamide constituting the continuous phase of the present invention is obtained by condensation polymerization of a para-oriented aromatic diamine and a para-oriented aromatic dicarboxylic acid halide, wherein the amide bond has a para-position on the aromatic ring. Or an orientation position corresponding thereto (for example, 4,4′-biphenylene, 1,5
-An alignment position extending coaxially or parallel in the opposite direction, such as -naphthalene, 2,6-naphthalene, etc.).

【0019】具体的には、ポリ(パラフェニレンテレフ
タルアミド)、ポリ(パラベンズアミド)、ポリ(4,
4’−ベンズアニリドテレフタルアミド)、ポリ(パラ
フェニレン−4,4’−ビフェニレンジカルボン酸アミ
ド)、ポリ(パラフェニレン−2,6−ナフタレンジカ
ルボン酸アミド)、ポリ(2−クロロ−パラフェニレン
テレフタルアミド)、パラフェニレンジアミン/2,6
−ジクロロパラフェニレンジアミン/テレフタル酸ジク
ロライドからなる共重合体等のパラ配向型またはパラ配
向型に準じた構造を有するパラアラミドが例示される。
また、本発明ではパラアラミドの末端官能基がフェノー
ル性水酸基であるパラアラミドを使用することもでき
る。
Specifically, poly (paraphenylene terephthalamide), poly (parabenzamide), poly (4,4)
4'-benzanilide terephthalamide), poly (paraphenylene-4,4'-biphenylenedicarboxylic amide), poly (paraphenylene-2,6-naphthalenedicarboxylic amide), poly (2-chloro-paraphenylene terephthalamide) ), Paraphenylenediamine / 2,6
And para-aramid having a para-oriented structure or a structure conforming to the para-oriented type, such as a copolymer of dichloroparaphenylenediamine / terephthalic acid dichloride.
Further, in the present invention, para-aramid whose terminal functional group is a phenolic hydroxyl group can also be used.

【0020】末端官能基がフェノール性水酸基であるパ
ラアラミドとは、上記パラ配向芳香族ポリアミドの末端
官能基の一部または全部が水酸基である水酸基末端パラ
配向芳香族ポリアミドをいう。かかる水酸基末端パラ配
向芳香族ポリアミドはパラ配向芳香族ポリアミドの分子
鎖末端に一部または全部に水酸基を有する芳香族化合物
が結合しているパラ配向芳香族ポリアミドに代表される
ものである。
The term "para-aramid having a terminal functional group of a phenolic hydroxyl group" means a hydroxyl-terminated para-oriented aromatic polyamide in which part or all of the terminal functional groups of the para-oriented aromatic polyamide are hydroxyl groups. Such a hydroxyl group-terminated para-oriented aromatic polyamide is represented by a para-oriented aromatic polyamide in which an aromatic compound having a hydroxyl group at a part or the whole thereof is bonded to the molecular chain terminal of the para-oriented aromatic polyamide.

【0021】一方、本発明において、低誘電率樹脂と
は、1MHzでの誘電率が3.0以下で300℃以下で
熱分解しないものが好ましい。このような低誘電率樹脂
の具体例としては、四フッ化エチレン樹脂、パーフルオ
ロアルコキシ樹脂、四フッ化エチレン−六フッ化プロピ
レン共重合樹脂、四フッ化エチレン−エチレン共重合樹
脂、フッ化ビニリデン樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂
(PCTFE)などが挙げられる。この中でも、四フッ
化エチレン樹脂が好ましく使用できる。1MHzでの誘
電率が3.0を越えると、もともとのパラアラミドの1
MHzでの誘電率が3.5なので、誘電率の低減の効果
が小さくなり少量添加では低減の効果が得られにくい。
また、プリント基板は加工工程で半田浴に浸漬されるの
で、300℃以下で分解する樹脂は好ましくない。
On the other hand, in the present invention, the low dielectric constant resin is preferably a resin having a dielectric constant at 1 MHz of 3.0 or less and not thermally decomposing at 300 ° C. or less. Specific examples of such a low dielectric constant resin include ethylene tetrafluoride resin, perfluoroalkoxy resin, ethylene tetrafluoride-propylene hexafluoride copolymer resin, ethylene tetrafluoride-ethylene copolymer resin, vinylidene fluoride Resins, ethylene trifluoride ethylene resin (PCTFE) and the like. Among them, ethylene tetrafluoride resin can be preferably used. When the dielectric constant at 1 MHz exceeds 3.0, the original para-aramid becomes 1
Since the dielectric constant at MHz is 3.5, the effect of reducing the dielectric constant is small, and it is difficult to obtain the effect of reduction by adding a small amount.
Further, since the printed circuit board is immersed in a solder bath in the processing step, a resin that decomposes at 300 ° C. or lower is not preferable.

【0022】低誘電率樹脂の添加量は特に限定されない
が、本発明の複合フィルムの全重量を100重量%とし
たときに、20〜80重量%が好ましい。20重量%未
満では低誘電率化の効果が充分ではなく、80重量%を
越えるとプリント基板として重要な寸法安定性が損なわ
れる。特に、寸法安定性の観点からは、上記のフッ素樹
脂の場合には弾性率がパラアラミドに比較して一桁近く
小さいので、パラアラミドの熱線膨張係数が支配的とな
る結果、寸法安定性に優れた材料となる。
The amount of the low dielectric resin to be added is not particularly limited, but is preferably 20 to 80% by weight when the total weight of the composite film of the present invention is 100% by weight. If it is less than 20% by weight, the effect of lowering the dielectric constant is not sufficient, and if it exceeds 80% by weight, dimensional stability important as a printed circuit board is impaired. In particular, from the viewpoint of dimensional stability, in the case of the above-mentioned fluororesin, since the elastic modulus is nearly one order of magnitude smaller than that of para-aramid, the thermal expansion coefficient of para-aramid becomes dominant, resulting in excellent dimensional stability. Material.

【0023】本発明において、フィルムの取扱い性を改
良する目的で、具体的には引裂エネルギーを向上させる
のに、高耐熱の短繊維および/またはパルプで補強する
ことができる。本発明において、高耐熱の短繊維とは、
アスペクト比(繊維長/繊維径)が50以上であり、2
00〜300℃での熱線膨張係数が±50×10-6/℃
以内、好ましくは、±25×10-6/℃以内であり、か
つ温度が230℃未満、好ましくは250℃未満で溶融
しない繊維からなる短繊維である。本発明の短繊維の原
料となる有機繊維の具体例としては、ポリパラフェニレ
ンテレフタルアミド、ポリパラベンズアミドのような芳
香族ポリアミド類;ポリパラベンゾエート、ポリパラフ
ェニレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート
のようなポリエステル類;ポリパラフェニレンベンゾビ
スチアゾール、ポリパラフェニレンビスオキサゾールの
ような芳香族複素環状ポリマー類などからなる有機繊維
が挙げられる。この中でも、芳香族ポリアミド類からな
る有機繊維が好ましく、特にポリパラフェニレンテレフ
タルアミドからなる有機繊維が多孔質フイルムとの馴染
みが良いことから好適に使用できる。
In the present invention, the film can be reinforced with high heat-resistant short fibers and / or pulp in order to improve the handleability of the film, specifically, to improve the tear energy. In the present invention, a high heat-resistant short fiber is
An aspect ratio (fiber length / fiber diameter) of 50 or more;
The coefficient of linear thermal expansion at 00 to 300 ° C is ± 50 × 10 -6 / ° C.
And preferably within ± 25 × 10 −6 / ° C. and having a temperature of less than 230 ° C., preferably less than 250 ° C., and short fibers composed of fibers that do not melt. Specific examples of the organic fiber used as a raw material of the short fiber of the present invention include aromatic polyamides such as polyparaphenylene terephthalamide and polyparabenzamide; polyesters such as polyparabenzoate, polyparaphenylene terephthalate and polyethylene terephthalate. Organic fibers made of aromatic heterocyclic polymers such as polyparaphenylenebenzobisthiazole and polyparaphenylenebisoxazole. Among these, organic fibers made of aromatic polyamides are preferable, and organic fibers made of polyparaphenylene terephthalamide are particularly preferably used because they have good compatibility with the porous film.

【0024】本発明において、高耐熱のパルプとは、温
度が230℃未満、好ましくは250℃未満で溶融しな
い繊維からなるパルプである。該パルプは、200〜3
00℃での熱線膨張係数が±50×10-6/℃以内であ
る原料繊維から製造されたものであることが好ましい。
本発明のパルプの原料となる有機繊維の具体例として
は、ポリパラフェニレンテレフタルアミド、ポリパラベ
ンズアミドのような芳香族ポリアミド類;ポリパラベン
ゾエート、ポリパラフェニレンテレフタレート、ポリエ
チレンテレフタレートのようなポリエステル類;ポリパ
ラフェニレンベンゾビスチアゾール、ポリパラフェニレ
ンビスオキサゾールのような芳香族複素環状ポリマー類
などからなる有機繊維が挙げられる。この中でも、芳香
族ポリアミド類からなる有機繊維が好ましく、特にポリ
パラフェニレンテレフタルアミドからなる有機繊維が複
合フィルムとの馴染みが良いことから好適に使用でき
る。
In the present invention, the high heat-resistant pulp is a pulp made of fibers that do not melt at a temperature of less than 230 ° C., preferably less than 250 ° C. The pulp is 200-3
It is preferably manufactured from a raw material fiber having a coefficient of linear thermal expansion at 00 ° C. within ± 50 × 10 −6 / ° C.
Specific examples of the organic fiber used as a raw material of the pulp of the present invention include aromatic polyamides such as polyparaphenylene terephthalamide and polyparabenzamide; polyesters such as polyparabenzoate, polyparaphenylene terephthalate and polyethylene terephthalate; Organic fibers made of aromatic heterocyclic polymers such as polyparaphenylene benzobisthiazole and polyparaphenylene bisoxazole are exemplified. Among them, organic fibers made of aromatic polyamides are preferable, and organic fibers made of polyparaphenylene terephthalamide are particularly preferably used because they are well compatible with the composite film.

【0025】短繊維またはパルプの添加量は特に限定さ
れないが、パラ配向芳香族ポリアミドを100%とした
ときに、5〜50%が好ましい。5%未満では補強の効
果が充分ではなく、50%を越えると短繊維および/ま
たはパルプによるフィルムの凹凸が露になりフィルムと
しての平滑性が損なわれる。
The amount of the short fibers or pulp added is not particularly limited, but is preferably 5 to 50% when the para-oriented aromatic polyamide is 100%. If it is less than 5%, the reinforcing effect is not sufficient, and if it exceeds 50%, irregularities of the film due to short fibers and / or pulp are exposed and the smoothness of the film is impaired.

【0026】また、本発明のプリプレグの用途の一つで
ある多層プリント回路基板の製造工程で、絶縁層間の回
路形成のためレーザーで穿孔する場合には不適だが、無
機繊維も使用することができる。無機繊維ではウィスカ
ーなども含まれるが、繊維の具体例としては、ガラス繊
維、ボロン繊維、アルミナ繊維などが挙げられる。
Also, in the process of manufacturing a multilayer printed circuit board, which is one of the uses of the prepreg of the present invention, it is not suitable when a laser is used to form a circuit between insulating layers, but inorganic fibers can also be used. . Whisker and the like are included in the inorganic fiber, and specific examples of the fiber include glass fiber, boron fiber, and alumina fiber.

【0027】また、短繊維および/またはパルプで補強
された本発明の複合フィルムでは、該短繊維は、フィル
ムの中に、フィルム面とほぼ平行に配置されている。ま
たパルプはフィルム内で均一に分散した状態で配置され
た構造を有しており、さらに望ましくはフィブリルが開
繊した状態で配置された構造を有しており、このため、
引裂エネルギーが特に改良されている。即ち、複合フィ
ルムだけでは引裂の開始抵抗はあるが、一旦切れると亀
裂が容易に伝搬する。しかし、短繊維がフィルム面と平
行に配置されていたり、パルプが均一に分散した状態で
配置されていると、亀裂の伝搬に対し効果的に抵抗でき
るので、引裂抵抗が向上する。また、本発明の複合フィ
ルムは、色々な改質を目的に熱可塑性樹脂および/また
は熱硬化性樹脂が塗布されていても良い。特に、フレキ
シブルプリント基板で電子回路を形成するのに使用され
る銅箔との接着力を向上させるのに、熱硬化樹脂なかで
もエポキシ樹脂を塗布すると効果的である。
In the composite film of the present invention reinforced with short fibers and / or pulp, the short fibers are arranged in the film substantially parallel to the film surface. Also, the pulp has a structure arranged in a state of being uniformly dispersed in the film, and more desirably has a structure arranged in a state where the fibrils are opened,
The tear energy is particularly improved. That is, the composite film alone has a resistance to the initiation of tearing, but once cut, the crack easily propagates. However, if the short fibers are arranged in parallel with the film surface or the pulp is arranged in a uniformly dispersed state, the propagation of cracks can be effectively prevented, and the tear resistance is improved. Further, the composite film of the present invention may be coated with a thermoplastic resin and / or a thermosetting resin for the purpose of various modifications. In particular, it is effective to apply an epoxy resin even among thermosetting resins in order to improve the adhesive strength with a copper foil used for forming an electronic circuit on a flexible printed circuit board.

【0028】また、本発明の複合フィルムには、空隙を
有する次の多孔質複合フィルムが包含される。即ち、本
発明にいう多孔質複合フイルムとは、低誘電率樹脂とパ
ラアラミドから得られた多孔質フィルムであり、該フィ
ルムはパラアラミドのフィブリルからなり、微視的に見
ると不織布状の形態を有している。本発明の多孔質複合
フィルムは、パラアラミドからなる径が1μm以下のフ
ィブリルが網目状または不織布状に平面に配置され、か
つ層状に重なっている構造を有する。ここで、平面に配
置されたとは、フィブリルがフィルム面に平行に配置さ
れていることをいう。
The composite film of the present invention includes the following porous composite films having voids. That is, the porous composite film referred to in the present invention is a porous film obtained from a low dielectric constant resin and para-aramid, and the film is formed from para-aramid fibrils, and has a nonwoven fabric form when viewed microscopically. doing. The porous composite film of the present invention has a structure in which fibrils having a diameter of 1 μm or less, which are made of para-aramid, are arranged in a mesh or nonwoven fabric on a plane, and are layered. Here, being arranged in a plane means that the fibrils are arranged in parallel to the film surface.

【0029】そして、本発明の多孔質複合フィルムは、
多くの空隙を有しており、その空隙率が好ましくは30
〜95%、さらに好ましくは35〜90%のものであ
る。空隙率が30%未満では、実質的に多孔質とはいえ
ず、後述するプリプレグを得る場合に、熱可塑性樹脂お
よび/または熱硬化性樹脂を溶剤に溶解したワニスの含
浸量が不十分となる。一方、95%を越えると多孔質複
合フィルムの強度が不足して取扱いが困難となる。ここ
に、空隙率は、以下の方法で求めたものをいう。 空隙率:多孔質複合フィルムを正方形状に切取り(一辺
の長さL:cm)、重量(W:g)、厚み(D:cm)
を測定する。フィルム中に含まれる低誘電率樹脂の含有
率をA(重量%)とすると該フィルム中の低誘電率樹脂
の含有重量Wf(g)は以下の式により表される。 Wf=(W×A/100) 該低誘電率樹脂の真比重をσ(g/cm3) とする
と、低誘電率樹脂が占める体積(Vf:cm3)は以下
の式で表される。 Vf=Wf/σ さらにパラアラミドの真比重を1.45g/cm3 と仮
定するとアラミドの占める体積Vaは以下の式で示され
る。 Va=(W−Wf)/1.45 上記の各値から空隙率(体積%)は以下の式により求め
られる。 空隙率(体積%)=100−100×(Va+Vf)/
(L2 ×D)
And, the porous composite film of the present invention
It has many voids, and its porosity is preferably 30
~ 95%, more preferably 35 ~ 90%. If the porosity is less than 30%, the varnish obtained by dissolving a thermoplastic resin and / or a thermosetting resin in a solvent is insufficient when a prepreg to be described later is obtained because the porosity is not substantially porous. . On the other hand, if it exceeds 95%, the strength of the porous composite film becomes insufficient and handling becomes difficult. Here, the porosity means a value obtained by the following method. Porosity: Cut the porous composite film into a square shape (length of one side L: cm), weight (W: g), thickness (D: cm)
Is measured. Assuming that the content of the low dielectric constant resin contained in the film is A (% by weight), the content weight Wf (g) of the low dielectric constant resin in the film is represented by the following equation. Wf = (W × A / 100) Assuming that the true specific gravity of the low dielectric constant resin is σ (g / cm 3 ), the volume (Vf: cm 3 ) occupied by the low dielectric constant resin is expressed by the following equation. Vf = Wf / σ Assuming that the true specific gravity of para-aramid is 1.45 g / cm 3 , the volume Va occupied by aramid is represented by the following equation. Va = (W−Wf) /1.45 From the above values, the porosity (volume%) is obtained by the following equation. Porosity (volume%) = 100−100 × (Va + Vf) /
(L 2 × D)

【0030】また、本発明の多孔質フィルムは、200
〜300℃での熱線膨張係数(平面方向)が±50×1
-6/℃以内、好ましくは±25×10-6/℃以内であ
る。この熱線膨張係数が小さいことは、平面方向の寸法
安定性が良いことを示している。
Further, the porous film of the present invention has a thickness of 200
The coefficient of linear thermal expansion (up to 300 ° C) (± 50 × 1)
Within 0 -6 / ° C, preferably within ± 25 × 10 -6 / ° C. The small coefficient of linear thermal expansion indicates good dimensional stability in the planar direction.

【0031】以下に本発明の複合フィルムの製造方法の
例を詳しく説明する。これらは、単なる例示であり本発
明を何ら制限するものではない。本発明の複合フィルム
および多孔質複合フィルムの製造方法の代表例として
は、下記の(a)〜(d)の工程が挙げられる。 (a)極性アミド系溶媒または極性尿素系溶媒中に、固
有粘度が1.0〜2.8dl/gであるパラ配向芳香族
ポリアミドを1〜10重量%、アルカリ金属またはアル
カリ土類金属の塩化物を1〜10重量%、および低誘電
率樹脂を含む溶液から膜状物を形成する工程。 (b)該膜状物を20℃以上または5℃以下の温度に保
持し、膜状物からパラ配向芳香族ポリアミドを析出させ
る工程。 (c)工程(b)で得られた膜状物を水系溶液またはア
ルコール系溶液に浸漬し、溶媒とアルカリ金属またはア
ルカリ土類金属の塩化物を溶出させ、次いで乾燥させ多
孔質複合フィルムを得る工程。 (d)工程(c)で得られた多孔質複合フィルムをロー
ル圧延して複合フィルムを得る工程。また、後述するプ
リプレグを同時に製造することもできる。即ち、ロール
圧延の前に、熱可塑性樹脂および/または熱硬化性樹脂
は溶剤に溶かしたワニスとして、乾燥された多孔質複合
フィルムに含浸させ、溶剤を蒸発除去する工程を入れる
ことで熱可塑性樹脂および/または熱硬化性樹脂で含浸
された多孔質複合フィルムからなるプリプレグを製造で
きる。
Hereinafter, an example of the method for producing the composite film of the present invention will be described in detail. These are merely examples and do not limit the present invention in any way. Representative examples of the method for producing a composite film and a porous composite film of the present invention include the following steps (a) to (d). (A) 1 to 10% by weight of a para-oriented aromatic polyamide having an intrinsic viscosity of 1.0 to 2.8 dl / g in a polar amide-based solvent or a polar urea-based solvent, Forming a film from a solution containing 1 to 10% by weight of a substance and a low dielectric constant resin. (B) maintaining the film at a temperature of 20 ° C. or more and 5 ° C. or less to precipitate para-oriented aromatic polyamide from the film. (C) The film obtained in step (b) is immersed in an aqueous solution or an alcoholic solution to elute the solvent and the alkali metal or alkaline earth metal chloride, and then dried to obtain a porous composite film. Process. (D) rolling the porous composite film obtained in step (c) to obtain a composite film; Also, a prepreg described later can be manufactured at the same time. That is, before rolling, the thermoplastic resin and / or the thermosetting resin is impregnated into a dried porous composite film as a varnish dissolved in a solvent, and a step of evaporating and removing the solvent is performed. And / or a prepreg comprising a porous composite film impregnated with a thermosetting resin can be produced.

【0032】工程(a)で使用されるパラアラミド溶液
は、例えば、以下に記すような操作により好適に製造で
きる。すなわち、アルカリ金属またはアルカリ土類金属
の塩化物を1〜10重量%溶解した極性アミド系溶媒ま
たは極性尿素系溶媒中で、パラ配向芳香族ジアミン1.
0モルに対して、パラ配向芳香族ジカルボン酸ハライド
0.94〜0.99モルを添加して、温度−20℃〜5
0℃で縮合重合して、パラアラミド濃度が1〜10重量
%であるパラアラミド溶液を製造する。水酸基末端パラ
アラミドを製造するときには、パラ配向芳香族ジアミン
の一部をアミノ基と水酸基を有する芳香族化合物に換
え、この時のアミノ基総量1モルに対しカルボン酸ハラ
イドが等モルとなるようにパラ配向芳香族ジカルボン酸
ハライドを添加する。このようにして製造されたパラア
ラミド溶液に所定量の低誘電率樹脂を混合して、膜状物
を形成する原料溶液が製造される。この工程で、強化用
短繊維を配合することができる。
The para-aramid solution used in the step (a) can be suitably produced, for example, by the following operation. That is, in a polar amide solvent or a polar urea solvent in which 1 to 10% by weight of an alkali metal or alkaline earth metal chloride is dissolved, para-oriented aromatic diamine 1.
With respect to 0 mol, 0.94 to 0.99 mol of para-oriented aromatic dicarboxylic acid halide is added, and the temperature is -20 ° C to 5 ° C.
Condensation polymerization at 0 ° C. produces a para-aramid solution having a para-aramid concentration of 1 to 10% by weight. When producing hydroxyl-terminated para-aramid, a part of the para-oriented aromatic diamine is replaced with an aromatic compound having an amino group and a hydroxyl group, and the carboxylic acid halide is equimolar to 1 mol of the total amino group. An oriented aromatic dicarboxylic acid halide is added. A predetermined amount of a low-permittivity resin is mixed with the para-aramid solution thus produced to produce a raw material solution for forming a film. In this step, short fibers for reinforcement can be blended.

【0033】本発明にいう多孔質複合フィルムは、色々
な改質を目的に熱可塑性樹脂および/または熱硬化性樹
脂を含浸して、いわゆるプリプレグとして使用すること
ができる。特に、プリント基板で電子回路を形成するの
に使用される銅箔との接着力を向上させるのに、熱硬化
樹脂なかでもエポキシ樹脂を含浸させると効果的であ
る。熱可塑性樹脂および/または熱硬化性樹脂の含浸量
としては、5〜60%が好ましい。5%未満では銅箔と
の接着力が十分に得られず、また、60%を越えると熱
線膨張係数が高くなり、かつ本発明の低誘電率という特
徴が失われるので好ましくない。
The porous composite film according to the present invention can be used as a so-called prepreg by impregnating a thermoplastic resin and / or a thermosetting resin for various purposes. In particular, it is effective to impregnate an epoxy resin among thermosetting resins in order to improve the adhesive strength with a copper foil used for forming an electronic circuit on a printed circuit board. The impregnation amount of the thermoplastic resin and / or the thermosetting resin is preferably 5 to 60%. If it is less than 5%, a sufficient adhesive force to the copper foil cannot be obtained, and if it exceeds 60%, the coefficient of linear thermal expansion becomes high, and the characteristic of the present invention having a low dielectric constant is lost.

【0034】熱可塑性樹脂としては、熱可塑性を有する
樹脂であれば特に限定されないが、融点が150℃以上
の熱可塑性樹脂が好ましい。本発明に係るプリプレグの
主用途と考えられるプリント回路用積層板を目的とした
場合には電子回路を形成する材料との接着性が充分であ
るものが好ましい。かかる熱可塑性樹脂としては、ポリ
エーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリエーテルイ
ミド、ポリスルフィドスルフォン、ポリカーボネート、
ポリイミド、ポリアミドイミドまたはポリエーテルケト
ンを例示することができる。これらは、単独または適宜
組み合わせて使用することができる。
The thermoplastic resin is not particularly limited as long as it is a resin having thermoplasticity, but is preferably a thermoplastic resin having a melting point of 150 ° C. or higher. When a prepreg according to the present invention is intended for a printed circuit laminate which is considered to be a main use, a prepreg preferably has sufficient adhesiveness to a material for forming an electronic circuit. Such thermoplastic resins include polyethersulfone, polysulfone, polyetherimide, polysulfidesulfone, polycarbonate,
Examples include polyimide, polyamide imide or polyether ketone. These can be used alone or in appropriate combination.

【0035】一方、熱硬化性樹脂としては、特に限定さ
れないが、エポキシ樹脂、ビスマレイミド−トリアジン
樹脂、ポリイミド樹脂、ジアリルフタレート樹脂、不飽
和ポリエステル樹脂、シアネート樹脂またはアリール変
成ポリフェニレンエーテル樹脂を例示することができ
る。これらは、単独または適宜組み合わせて使用するこ
とができる。
On the other hand, examples of the thermosetting resin include, but are not particularly limited to, an epoxy resin, a bismaleimide-triazine resin, a polyimide resin, a diallyl phthalate resin, an unsaturated polyester resin, a cyanate resin, and an aryl-modified polyphenylene ether resin. Can be. These can be used alone or in appropriate combination.

【0036】本発明のプレプリグは、厚みを薄くして薄
葉化が可能である。しかし、フィルム厚みが10μm未
満では皺ができやすく取り扱いが難しいので好ましくな
い。具体的には、パラアラミドフィルムの厚みとして1
0〜150μmが好ましく、さらに、好ましくは30〜
100μmである。また、該フィルム厚みが特に上限は
規定しないが、150μmを越えると積層板において重
要な軽くて薄いという特徴が失われるので好ましくな
い。
The prepreg of the present invention can be made thinner by reducing its thickness. However, if the film thickness is less than 10 μm, it is not preferable because wrinkles are easily formed and handling is difficult. Specifically, the thickness of the para-aramid film is 1
It is preferably from 0 to 150 μm, more preferably from 30 to 150 μm.
100 μm. Although the upper limit of the thickness of the film is not particularly specified, it is not preferable that the thickness exceeds 150 μm because important light and thin characteristics of the laminate are lost.

【0037】本発明において、多孔質複合フィルムに熱
可塑性樹脂および/または熱硬化性樹脂を含浸させる方
法は特に限定されず、従来知られている紙またはガラス
クロスへ熱硬化性樹脂を含浸させる方法などを適用する
ことができる。例えば、熱可塑性樹脂および熱硬化性樹
脂からなる組成物を溶剤に溶解したワニスを調製し、該
複合フィルムに塗布して含浸させた後、溶剤を蒸発させ
てプリプレグを製造することができる。
In the present invention, the method of impregnating the porous composite film with a thermoplastic resin and / or a thermosetting resin is not particularly limited, and a conventionally known method of impregnating a paper or glass cloth with a thermosetting resin. Etc. can be applied. For example, a varnish in which a composition comprising a thermoplastic resin and a thermosetting resin is dissolved in a solvent is prepared, applied to the composite film and impregnated, and then the solvent is evaporated to produce a prepreg.

【0038】上記のプリプレグは、熱線膨張率が低く、
機械的強度に優れ、また、金属箔との接着性も良好なこ
とからプリント回路用基材および積層板として好適に使
用できる。特に、フレキシブルプリント基板としても有
用である。かかるプリント回路用基材や積層板は一般に
行われている方法(例えば「プリント配線板のすべて」
電子技術86年度版6月別冊)により作製することがで
きる。即ち、本発明のプリプレグを絶縁層として用い、
さらに金属箔からなる導線層を積層してプリント回路用
積層板を作製する。金属箔としては、金、銀、銅、ニッ
ケル、アルミニウム等を用いることができる。
The above prepreg has a low coefficient of linear thermal expansion,
Since it has excellent mechanical strength and good adhesion to metal foil, it can be suitably used as a printed circuit board and a laminate. In particular, it is useful as a flexible printed circuit board. Such a printed circuit board and a laminated board can be formed by a commonly used method (for example, “all of printed wiring boards”).
(Electronic technology, 1986 edition, separate volume). That is, using the prepreg of the present invention as an insulating layer,
Further, a conductor layer made of metal foil is laminated to produce a printed circuit laminate. Gold, silver, copper, nickel, aluminum, or the like can be used as the metal foil.

【0039】[0039]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。これらは、単なる例示であり本発明を何ら制限する
ものではない。なお、実施例および比較例における試
験、評価方法または判定基準は、次に示すとおりであ
る。
The present invention will be described below in detail with reference to examples. These are merely examples and do not limit the present invention in any way. In addition, the test, the evaluation method, or the criterion in Examples and Comparative Examples are as follows.

【0040】(1)固有粘度 96〜98%硫酸100mlにパラアラミド重合体0.
5gを溶解した溶液および96〜98%硫酸について、
それぞれ毛細管粘度計により30℃にて流動時間を測定
し、求められた流動時間の比から次式により固有粘度を
求めた。 固有粘度=ln(T/T0 )/C 〔単位:dl/g〕 ここでTおよびTO は、それぞれパラアラミド硫酸溶
液および硫酸の流動時間であり、Cは、パラアラミド硫
酸溶液中のパラアラミド濃度(g/dl)を示す。
(1) Intrinsic viscosity 96 to 98% sulfuric acid 100 ml in 100 ml of para-aramid polymer.
For a solution of 5 g and 96-98% sulfuric acid,
The flow time was measured at 30 ° C. using a capillary viscometer, and the intrinsic viscosity was determined from the ratio of the determined flow times according to the following equation. Intrinsic viscosity = ln (T / T 0 ) / C [unit: dl / g] Here, T and T O are the flow times of the para-aramid sulfate solution and sulfuric acid, respectively, and C indicates the para-aramid concentration (g / dl) in the para-aramid sulfate solution.

【0041】(2)引張試験 複合フィルム、プリプレグまたはプリプレグを硬化させ
たシートからダンベル社製ダンベルカッターにて試験片
を打ち抜き、インストロンジャパン社製インストロン万
能引張試験機モデル4301を用い、JIS K−71
27に準じて引張強度を求めた。
(2) Tensile test A test piece was punched out from a composite film, a prepreg or a sheet obtained by curing the prepreg with a dumbbell cutter manufactured by Dumbbell Co., Ltd., and JIS K was applied using an Instron universal tensile tester model 4301 manufactured by Instron Japan. −71
The tensile strength was determined according to No. 27.

【0042】(3)銅箔との剥離強度 JIS C−6481に準拠して測定した。(3) Peel strength with copper foil Measured according to JIS C-6481.

【0043】(4)熱線膨張係数 ASTM D696に従い、セイコー電子(株)製熱分
析装置TMA120を用いて測定し、以下の式によって
算出した。但し、測定前にアニールしていない測定用試
片については、装置内で該試片を一旦300℃まで昇温
した後に再測定した結果を測定値とした。 α1=ΔL/L0 ・ΔT ここで、α1:熱線膨張係数(/℃) ΔL:試験片の変化長 L0 :試験前の試験片長 ΔT:温度差(℃)
(4) Coefficient of linear thermal expansion Measured using a thermal analyzer TMA120 manufactured by Seiko Electronics Co., Ltd. according to ASTM D696, and calculated by the following equation. However, as for the measurement specimen which was not annealed before the measurement, the specimen was once heated to 300 ° C. in the apparatus and then re-measured. α1 = ΔL / L 0 · ΔT where, [alpha] 1: linear thermal expansion coefficient (/ ℃) ΔL: change in specimen length L 0 : Specimen length before test ΔT: Temperature difference (° C)

【0044】(5)誘電率 実施例1を除き、誘電率はASTM−D150に準拠し
て測定した。即ち横河・ヒューレット・パッカード
(株)製のプレシジョンLCRメーターHP―4284
Aを用い、電極に安藤電気製、SE−70を用い測定し
た。試験片は5cm角に切り出し、両面にシルバーペイ
ントした。その後120℃で2時間乾燥処理した後、2
2℃、60%RH下で90分間状態調整後、1MHzに
おいて測定した。実施例1に記載の誘電率はJIS K
6911に準拠し、間隙法により測定した。即ち横河・
ヒューレット・パッカード(株)製のプレシジョンLC
RメーターHP―4285Aと電極として同社製、HP
16451Bを用いて測定した。試験片は複合フィルム
を5cm角に切り出し、両面にシルバーペイントした。
その後120℃で2時間乾燥処理した後、22℃、60
%RH下で90分間状態調整後、1MHzにおいて測定
した。なお一般的にJIS K6911に準拠して得た
誘電率の結果はASTM−D150による結果とほとん
ど変りない。
(5) Dielectric constant Except for Example 1, the dielectric constant was measured according to ASTM-D150. That is, precision LCR meter HP-4284 manufactured by Yokogawa Hewlett-Packard Co., Ltd.
A was measured using A and SE-70 manufactured by Ando Electric Co., Ltd. The test piece was cut into a 5 cm square, and silver paint was applied to both sides. After drying at 120 ° C. for 2 hours,
After adjusting the condition at 2 ° C. and 60% RH for 90 minutes, the measurement was performed at 1 MHz. The dielectric constant described in Example 1 is JIS K
It was measured by the gap method according to 6911. That is, Yokogawa
Precision LC manufactured by Hewlett-Packard Co., Ltd.
R meter HP-4285A and electrodes as electrodes, HP
It measured using 16451B. As a test piece, a composite film was cut into a 5 cm square, and silver paint was applied to both sides.
After drying at 120 ° C. for 2 hours,
After conditioning for 90 minutes under% RH, the measurement was performed at 1 MHz. Generally, the result of the dielectric constant obtained in accordance with JIS K6911 is almost the same as the result of ASTM-D150.

【0045】(6)吸水率 プリプレグを70mm角に切出し、硬化させたシートを
試験片とし、これを120℃で2時間乾燥後、25℃、
相対湿度65%の条件下で、24時間静置し、重量変化
を測定した。
(6) Water Absorption Ratio A prepreg was cut into a 70 mm square, and a cured sheet was used as a test piece.
The sample was allowed to stand for 24 hours under the condition of a relative humidity of 65%, and the change in weight was measured.

【0046】(7)引裂エネルギー 多孔質フィルム、プリプレグまたはプリプレグを硬化さ
せたシートからダンベル社製のJIS K−7128−
1991C法(直角形引裂法)用ダンベルカッターにて
試験片を打ち抜き、インストロンジャパン社製インスト
ロン万能引張試験機モデル4301を用い、JIS K
−7128−1991Cに準じて引裂強度を求めた。引
裂強度の測定結果を示すチャート(縦軸は負荷(kg/
mm)、横軸は変位(mm))において、測定S−S曲
線と負荷0の線および破断を示す縦線で囲まれる面積を
引裂エネルギー(単位kg/mm×mm)と定義した。
(7) Tear energy A porous film, a prepreg or a sheet obtained by curing a prepreg is subjected to JIS K-7128- manufactured by Dumbbell Co., Ltd.
A test piece was punched out with a dumbbell cutter for the 1991C method (right angle tearing method), and JIS K was used using an Instron universal tensile tester model 4301 manufactured by Instron Japan.
The tear strength was determined according to -7128-1991C. A chart showing the measurement results of the tear strength (the vertical axis indicates the load (kg /
mm) and the horizontal axis is the displacement (mm), and the area surrounded by the measured SS curve, the line with no load, and the vertical line indicating the fracture was defined as the tear energy (unit kg / mm × mm).

【0047】実施例1 1)水酸基末端ポリ(パラフェニレンテレフタルアミ
ド)の合成 撹拌翼、温度計、窒素流入管および粉体添加口を有する
3リットル(l)のセパラブルフラスコを使用して水酸
基末端ポリ(パラフェニレンテレフタルアミド)(以
下、水酸基末端PPTAと略す。)の合成を行った。フ
ラスコを十分乾燥し,N−メチル−2−ピロリドン(以
下、NMPと略すことがある。)2220gを仕込み、
200℃で2時間乾燥した塩化カルシウム149.2g
を添加して100℃に昇温した。塩化カルシウムが完全
に溶解した後室温に戻して、パラフェニレンジアミン
(以下、PPDと略すことがある。)67.2gと4ー
アミノメタクレゾール(以下、4−AMCと略すことが
ある。)を6.7g添加し完全に溶解させた。この溶液
を20±2℃に保ったまま、テレフタル酸ジクロライド
(以下、TPCと略すことがある。)130.7gを1
0分割して約5分おきに添加した。その後溶液を20±
2℃に保ったまま1時間熟成し、気泡を抜くため減圧下
30分撹拌した。得られた重合液(重合体ドープ)は、
光学的異方性を示した。一部をサンプリングして水で再
沈してポリマーとして取り出し、得られた水酸基末端P
PTAの固有粘度を測定したところ2.11dl/gで
あった。
Example 1 1) Synthesis of hydroxyl-terminated poly (paraphenylene terephthalamide) A hydroxyl-terminated poly (paraphenylene terephthalamide) was prepared using a 3-liter (l) separable flask having a stirring blade, a thermometer, a nitrogen inlet tube and a powder addition port. Poly (paraphenylene terephthalamide) (hereinafter abbreviated as hydroxyl-terminated PPTA) was synthesized. The flask was sufficiently dried and charged with 2220 g of N-methyl-2-pyrrolidone (hereinafter sometimes abbreviated as NMP).
149.2 g of calcium chloride dried at 200 ° C. for 2 hours
Was added and the temperature was raised to 100 ° C. After the calcium chloride is completely dissolved, the temperature is returned to room temperature, and 67.2 g of paraphenylenediamine (hereinafter may be abbreviated as PPD) and 4-aminomethcresol (hereinafter may be abbreviated as 4-AMC). 6.7 g was added and completely dissolved. While keeping this solution at 20 ± 2 ° C., 130.7 g of terephthalic acid dichloride (hereinafter, sometimes abbreviated as TPC) was added in 1 part.
It was added in about 0 minutes and added about every 5 minutes. Then the solution was
The mixture was aged for 1 hour while maintaining at 2 ° C., and stirred under reduced pressure for 30 minutes to remove bubbles. The resulting polymerization solution (polymer dope)
It showed optical anisotropy. A part is sampled, reprecipitated with water, taken out as a polymer, and the obtained hydroxyl terminal P
The intrinsic viscosity of PTA was measured and found to be 2.11 dl / g.

【0048】2)水酸基末端PPTAと低誘電率樹脂か
らなる複合フィルムの作製 水酸基末端PPTAと低誘電率樹脂(ポリテトラフルオ
ロエチレン微粒子(以下、PTFE微粒子と略す。ダイ
キン工業(株)製ルブロンL−5F))および補強用ア
ラミド短繊維からなる複合フィルムを上記項1)の重合
液から作製した。即ち繊維長1mmのアラミド短繊維
1.2gと誘電率が2.2のPTFE微粒子8.7g
を、攪拌翼、窒素注入管および液体添加口を有する50
0mlのセパラブルフラスコに秤取し、項1)の重合液
100gを添加して窒素気流中で撹拌した。アラミド短
繊維とPTFE微粒子が充分分散したので、NMP20
0gを加えて希釈した。得られた溶液を使用して、テス
ター産業株式会社製バーコーター(膜厚1.2mm)に
より、ガラス板上に当該溶液の膜状物を作製し、蓋付の
アルミ製パットに入れ、80℃の加熱オーブンに約10
分間保持した。アルミ製パットには、事前に純水で濡ら
したモップを敷き80℃のオーブンに入れおいたものを
使った。この間に、水酸基末端PPTAが析出し、膜状
物が得られた。膜状物をイオン交換水に浸漬した。5分
後に膜状物をガラス板から剥離した。イオン交換水を流
しながら充分に水洗した後、水中より湿潤した膜状物を
取り出し、遊離水をふき取った。この膜状物をアラミド
製フェルトに挟み、さらにガラスクロスに挟んだ。膜状
物を濾紙とガラスクロスではさんだ状態で、アルミ板を
乗せ、その上にナイロンフィルムを被せ、ナイロンフィ
ルムとアルミ板とをガムでシールして、減圧のための導
管をつけた。全体を熱オーブンに入れ120℃で減圧し
ながら膜状物を乾燥し多孔質複合フィルムを得た。また
得られた多孔質複合フィルムを厚さ0.8mmのアルミ
板でサンドイッチし、(株)大東製作所製の小型圧延機
で熱圧延加工した。この時のロール温度は、165℃で
線圧は、80kg/cmであった。この複合フィルムを
水に浸漬し超音波に10分かけた。この操作前後の複合
フィルムの重量を測定したが、有意差は無かった。しか
し、熱圧延前の乾燥した多孔質複合フィルムについて同
じ操作をしたところ、22.6%の重量増加が観察され
た。この結果より、熱圧延工程前の多孔質複合フィルム
には空隙が存在することが確認され、熱圧延工程で該フ
ィルムの空隙が消失することが確認された。
2) Preparation of Composite Film Consisting of Hydroxyl-Terminal PPTA and Low Dielectric Resin Resin Hydroxyl-terminated PPTA and low dielectric constant resin (polytetrafluoroethylene fine particles (hereinafter abbreviated as PTFE fine particles; Lubron L- manufactured by Daikin Industries, Ltd.) 5F)) and a composite film comprising aramid short fibers for reinforcement were prepared from the polymerization solution of the above item 1). That is, 1.2 g of aramid short fiber having a fiber length of 1 mm and 8.7 g of PTFE fine particles having a dielectric constant of 2.2.
With a stirring blade, a nitrogen injection tube and a liquid addition port.
The mixture was weighed in a 0 ml separable flask, 100 g of the polymerization solution of item 1) was added, and the mixture was stirred in a nitrogen stream. Since aramid short fibers and PTFE fine particles were sufficiently dispersed, NMP20
0 g was added for dilution. Using the obtained solution, a film-like material of the solution was prepared on a glass plate using a bar coater (1.2 mm in thickness) manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd., and placed in an aluminum pad with a lid. About 10 in a heating oven
Hold for minutes. The aluminum pad used was a mop which had been wetted with pure water in advance and placed in an oven at 80 ° C. During this time, hydroxyl-terminated PPTA was precipitated, and a film was obtained. The film was immersed in ion-exchanged water. After 5 minutes, the film was peeled from the glass plate. After sufficient washing with flowing ion-exchanged water, a wet film was taken out of the water and free water was wiped off. This film was sandwiched between felts made of aramid and further sandwiched between glass cloths. An aluminum plate was placed with the film material sandwiched between filter paper and glass cloth, a nylon film was placed on the aluminum plate, the nylon film and the aluminum plate were sealed with gum, and a conduit for decompression was provided. The whole was put in a hot oven and dried at 120 ° C. while reducing the pressure to obtain a porous composite film. Further, the obtained porous composite film was sandwiched between aluminum plates having a thickness of 0.8 mm, and subjected to hot rolling with a small rolling mill manufactured by Daito Seisakusho Co., Ltd. The roll temperature at this time was 165 ° C., and the linear pressure was 80 kg / cm. This composite film was immersed in water and subjected to ultrasonic wave for 10 minutes. The weight of the composite film before and after this operation was measured, but there was no significant difference. However, when the same operation was performed on the dried porous composite film before hot rolling, a weight increase of 22.6% was observed. From this result, it was confirmed that voids existed in the porous composite film before the hot rolling step, and it was confirmed that the voids in the film disappeared in the hot rolling step.

【0049】実施例2 実施例1の2)項でPTFE微粒子の添加量を10.4
gにした以外は、2)項と同じようにして複合フィルム
を作製した。乾燥した多孔質複合フィルム、および複合
フィルムを350℃で焼成したものそれぞれを少しだけ
引き裂いて、引き裂いた部分を走査型電子顕微鏡で観察
した結果をそれぞれ図1、3、5に示す。図1が倍率1
50倍で、図3と図5は、倍率200倍の写真である。
図1、3、5の引き裂かれた破面の一部を倍率2000
倍にした走査型電子顕微鏡写真をそれぞれ図2、4、6
に示す。図1では、引き裂かれた複合フィルムの中から
アラミド短繊維がむき出しになっている様子が観察さ
れ、フィルム表面には、PTFE微粒子の凝集粒が水酸
基末端PPTAで被覆されているのが観察された。ま
た、図2の写真中央には、水酸基末端PPTAからなる
層構造に取り込まれたPTFEの凝集粒を見ることがで
きる。図3では、圧延によりPTFEの凝集粒が押しつ
ぶされて平滑な面となっているのが見える。図4では、
PTFE凝集粒を形成していた一次粒がほぼ完全に膠着
している様子が観察される。図6では、PTFE部分が
焼成された結果、複合フィルムを引き裂くときに一部が
繊維状に引きちぎられた様子が、破れた破面に認められ
る。いずれの写真でも、水酸基末端PPTA部分は、フ
ィブリルからなる層が幾重にも重なっており、それぞれ
の層は、フィブリルが平面状に広がっている状態が明ら
かである。
Example 2 In the section 2) of Example 1, the added amount of the PTFE fine particles was 10.4.
A composite film was produced in the same manner as in 2), except that g was used. Each of the dried porous composite film and the fired composite film at 350 ° C. was slightly torn, and the torn portions were observed with a scanning electron microscope. The results are shown in FIGS. Fig. 1 is magnification 1
FIGS. 3 and 5 are photographs at 50 × magnification and 200 × magnification.
A part of the torn fracture surface in FIGS.
Scanning electron micrographs at × 2 magnification are shown in FIGS.
Shown in In FIG. 1, it was observed that the aramid short fibers were exposed from the torn composite film, and it was observed that the agglomerated particles of PTFE fine particles were covered with the hydroxyl-terminated PPTA on the film surface. . In the center of the photograph in FIG. 2, aggregated particles of PTFE incorporated in the layer structure composed of hydroxyl-terminated PPTA can be seen. In FIG. 3, it can be seen that the agglomerated particles of PTFE are crushed by rolling to form a smooth surface. In FIG.
It is observed that the primary particles forming the PTFE aggregated particles are almost completely adhered. In FIG. 6, as a result of baking the PTFE portion, when the composite film is torn, a part of the fibrous portion is torn off in a fibrous form, which is observed in the broken surface. In each of the photographs, the hydroxyl group-terminated PPTA portion has multiple layers of fibrils overlapping each other, and it is clear that each layer has fibrils spread in a plane.

【0050】次に、上述の複合フィルムの物性を測定し
た。1MHzでの誘電率は、2.6であった。引張強度
の測定結果は、表1に示す。また、複合フィルムの吸水
率は0.9%であった。
Next, the physical properties of the composite film were measured. The dielectric constant at 1 MHz was 2.6. Table 1 shows the measurement results of the tensile strength. The water absorption of the composite film was 0.9%.

【0051】[0051]

【表1】 表1 実施例/比較例 引張強度 引張伸び kg/mm2 % 実施例2の複合フィルム 7.3 2.8 焼成された複合フィルム 7.2 2.1 実施例3硬化物 9.1 3.1Table 1 Example / Comparative Example Tensile Strength Tensile Elongation kg / mm 2 % Composite Film of Example 2 7.3 2.8 Composite Film Fired 7.2 2.1 Example 3 Cured Product 9 1 3.1

【0052】実施例3 実施例2と同じようにして水酸基末端PPTAとPTF
E微粒子および補強用アラミド短繊維からなる水に湿潤
した膜状物を得、次いでこの膜状物を乾燥した多孔質複
合フィルムを作製した。次に、プリプレグ、プリント回
路用基材および積層板を作製した。 (1)ワニスの調製 下記の組成の混合物に溶媒(メチルエチルケトン、以
下、MEKと略す。)を加え、還流管を付けた300m
lの三角フラスコ中、マグネチックスターラーで撹拌し
ながら90分間加熱還流しワニスを得た。 ワニス配合組成: (重量部) 主剤:スミエポキシESB−400(住友化学工業製) 44 スミエポキシESCN−195(住友化学工業製) 28 硬化剤:フェノールノボラック(群栄化学製) 28 触媒:2−メチル−4−エチルイミダゾール (四国化成製、キュアゾール2E4MZ) 0.4
Example 3 In the same manner as in Example 2, hydroxyl-terminated PPTA and PTF
A film composed of E fine particles and reinforcing aramid short fibers wetted in water was obtained, and then the film was dried to produce a porous composite film. Next, a prepreg, a printed circuit board, and a laminate were prepared. (1) Preparation of Varnish A solvent (methyl ethyl ketone, hereinafter abbreviated as MEK) was added to a mixture having the following composition, and a 300 m
In a 1 Erlenmeyer flask, the mixture was heated and refluxed for 90 minutes while stirring with a magnetic stirrer to obtain a varnish. Varnish composition: (parts by weight) Main agent: Sumiepoxy ESB-400 (Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 44 Sumiepoxy ESCN-195 (Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 28 Curing agent: Phenol novolak (Gunei Chemical Co., Ltd.) 28 Catalyst: 2-methyl- 4-ethylimidazole (manufactured by Shikoku Chemicals, Cureazole 2E4MZ) 0.4

【0053】(2)プリプレグの作製 上述の多孔質複合フィルムをアラミド紙に挟み、さらに
0.2mm厚のアルミ板で挟んだ。これをさらにアラミ
ドフェルトと1mm厚アルミ板で挟み込み、280℃・
10kg/cm2で10分間プレスして、アニールした。
この多孔質複合フィルムを100mm角に切断し、
(1)で調製したワニスを両面に塗布した。ワニスが含
浸する間、溶媒が揮発しないようにフッ素フィルム(商
品名:トヨフロン50F、東レ(株)製)に挟み、さら
に押し付け、一様にワニスを広げた。10分間放置し、
ワニスを該膜状物に均一に含浸させた後、ガラスクロス
(製品記号:YES−2101、日本板硝子繊維(株)
製)上に移して150℃で3分間加熱して溶媒を除去
し、エポキシ樹脂を半硬化させてプリプレグを作製し
た。エポキシ樹脂の含浸量を減らすには、半硬化する前
に室温で圧延してエポキシ樹脂を絞り出すことも可能だ
が、本実験では、単に半硬化してプリプレグとした。
(2) Preparation of Prepreg The above-described porous composite film was sandwiched between aramid papers, and further sandwiched between aluminum plates having a thickness of 0.2 mm. This is further sandwiched between aramid felt and a 1 mm thick aluminum plate,
It was annealed by pressing at 10 kg / cm 2 for 10 minutes.
Cut this porous composite film into 100 mm square,
The varnish prepared in (1) was applied to both sides. During the impregnation of the varnish, the varnish was uniformly spread by sandwiching it between fluorine films (trade name: TOYOFLON 50F, manufactured by Toray Industries, Inc.) so that the solvent would not evaporate. Leave for 10 minutes,
After uniformly impregnating the film with a varnish, a glass cloth (product code: YES-2101, Nippon Sheet Glass Fiber Co., Ltd.)
Was heated at 150 ° C. for 3 minutes to remove the solvent, and the epoxy resin was semi-cured to prepare a prepreg. In order to reduce the impregnation amount of the epoxy resin, it is possible to squeeze out the epoxy resin by rolling at room temperature before semi-curing. However, in this experiment, the prepreg was simply semi-cured to obtain a prepreg.

【0054】(3)プリプレグ単身の硬化および銅箔と
の積層硬化と物性測定 上記(2)項のプリプレグを45μmのスペーサーの隙
間に置き、テフロン製シートで挟み、175℃でプレス
硬化した。また、厚み35μmの銅箔でこのプリプレグ
を挟んだものを、115μmのスペーサーの隙間に置
き、175℃でプレス硬化した。プリプレグ単身の硬化
物は、吸水率が0.9%で、熱線膨張係数が24×10
-6/ ℃であった。この硬化物の引張り強度を表1に併
せて示す。また、銅箔との剥離強度は、0.7kg/c
mであった。
(3) Hardening of the prepreg alone, lamination hardening with copper foil and measurement of physical properties The prepreg of the above item (2) was placed in a gap between 45 μm spacers, sandwiched between Teflon sheets, and press-cured at 175 ° C. The prepreg sandwiched between copper foils having a thickness of 35 μm was placed in a gap between 115 μm spacers, and press-cured at 175 ° C. The cured product of prepreg alone has a water absorption of 0.9% and a coefficient of linear thermal expansion of 24 × 10
−6 / ° C. The tensile strength of this cured product is also shown in Table 1. The peel strength with the copper foil is 0.7 kg / c.
m.

【0055】実施例4 実施例1(1)と同様にして合成した水酸基末端PPT
A重合液1237gに平均繊維長1mmのアラミド短繊
維13.92g、3mmのアラミド短繊維 4.64
g、NMP2474gを加え窒素気流下で攪拌・脱泡し
たポリマー溶液を調整した。該ポリマー溶液1000g
を別の攪拌装置に移送し、該溶液中ににPTFE微粒子
20gを添加し、塗工用ポリマー溶液を調整した。該溶
液を該ポリマー溶液をテスター産業製の塗工機を用い、
PETフィルム上に塗工し、得られた膜状物をやはり実
施例1の項2)と同様にして水洗乾燥し多孔質複合フィ
ルムを得た。該フィルムに実施例3と同様の熱硬化性樹
脂ワニスを含浸しプリプレグを得て、さらに硬化させ
た。該硬化物の線膨張係数、1MHzでの誘電率、吸水
率を測定した。結果を表2に示す。
Example 4 Hydroxyl-terminated PPT synthesized in the same manner as in Example 1 (1)
13.92 g of aramid short fibers having an average fiber length of 1 mm in 1237 g of the A polymerization liquid 4.64 mm of aramid short fibers 4.64
g and 2474 g of NMP were added, and a polymer solution stirred and defoamed under a nitrogen stream was prepared. 1000 g of the polymer solution
Was transferred to another stirring device, and 20 g of PTFE fine particles were added to the solution to prepare a polymer solution for coating. The solution was applied to the polymer solution using a tester industry coating machine,
It was coated on a PET film, and the obtained film was washed with water and dried in the same manner as in item 2) of Example 1 to obtain a porous composite film. The film was impregnated with the same thermosetting resin varnish as in Example 3 to obtain a prepreg, which was further cured. The coefficient of linear expansion of the cured product, the dielectric constant at 1 MHz, and the water absorption were measured. Table 2 shows the results.

【0056】比較例1 市販のポリイミドフィルム、カプトン(東レ・デュポン
社製)の1MHzでの誘電率を測定したところ、3.3
であった。
Comparative Example 1 The dielectric constant at 1 MHz of a commercially available polyimide film, Kapton (manufactured by Toray DuPont) was measured.
Met.

【0057】比較例2 PTFE微粒子を含まない以外は、実施例4と同様にし
て硬化物を得た。線膨張係数、1MHzでの誘電率、吸
水率を測定した。結果を表2に示す。
Comparative Example 2 A cured product was obtained in the same manner as in Example 4 except that no PTFE fine particles were contained. The coefficient of linear expansion, the dielectric constant at 1 MHz, and the water absorption were measured. Table 2 shows the results.

【0058】[0058]

【表2】 表2 実施例/比較例 誘電率 線膨張係数(100〜200℃) 吸水率 (×10-6/℃) (%) 実施例4 3.39 11.4 1.0 比較例2 4.11 8.9 1.5Table 2 Example / comparative example Dielectric constant Linear expansion coefficient (100 to 200 ° C) Water absorption (× 10 −6 / ° C) (%) Example 4 3.39 11.4 1.0 Comparative example 2 4.11 8.9 1.5

【0059】参考例1 窒素気流下、3000mlセパラブルフラスコ中に希釈
用NMP1283g、平均繊維長1mmのアラミド短繊
維8.25g、平均繊維長3mmのアラミド短繊維2.
75gを加え、攪拌した。この繊維分散液に実施例1の
項1)と同様にして作った水酸基末端PPTA溶液を9
17g加えさらに攪拌した。均一化したところで脱泡し
塗工用ポリマー溶液を得た。該ポリマー溶液をテスター
産業製塗工機を用い、PETフィルム上に塗工し、得ら
れた膜状物をやはり実施例1の項2)と同様にして水洗
乾燥した。フィルムについて引張強度測定を行った。ま
た引裂強度を測定し、引裂エネルギーを算出した。結果
を表3に示す。 参考例2 上記塗工用ポリマー溶液を調整する際にアラミド短繊維
を添加しない以外は、参考例1と同様にして多孔質フィ
ルムを製造した。フィルムについて引張強度測定を行っ
た。また引裂強度を測定し、引裂エネルギーを算出し
た。結果を表3に示す。
Reference Example 1 In a 3000 ml separable flask under a nitrogen stream, 1,283 g of NMP for dilution, 8.25 g of aramid short fibers having an average fiber length of 1 mm, and aramid short fibers having an average fiber length of 3 mm.
75 g was added and stirred. To this fiber dispersion was added a hydroxyl-terminated PPTA solution prepared in the same manner as in item 1) of Example 1 to 9
17 g was further added and stirred. After homogenization, the mixture was defoamed to obtain a coating polymer solution. The polymer solution was coated on a PET film using a coating machine manufactured by Tester Sangyo, and the resulting film was washed with water and dried in the same manner as in item 2) of Example 1. The film was measured for tensile strength. The tear strength was measured, and the tear energy was calculated. Table 3 shows the results. Reference Example 2 A porous film was produced in the same manner as in Reference Example 1, except that aramid short fibers were not added when preparing the coating polymer solution. The film was measured for tensile strength. The tear strength was measured, and the tear energy was calculated. Table 3 shows the results.

【0060】[0060]

【表3】 表3 アラミド短繊維 引張強度 引張伸び 引裂エネルギー kg/mm2 % kg/mmxmm 参考例1 あり 5.8 2.1 9.2 参考例2 なし 10.8 6.6 3.2 上記表3に示すとおり、PTFE微粒子を含まない複合
フィルムにおいては、アラミド短繊維によって補強する
ことにより引張強度は低下するが引裂エネルギーが増加
した。このことから本発明のPTFE微粒子を含む複合
フィルムにおいても短繊維補強により同様の効果が期待
できる。
Table 3 Table 3 Aramid short fibers Tensile strength Tensile elongation Tear energy kg / mm 2 % kg / mmxmm Reference example 1 Yes 5.8 2.1 9.2 Reference example 2 None 10.8 6.6 3.2 Above As shown in Table 3, in the composite film containing no PTFE fine particles, the tensile strength was decreased but the tear energy was increased by reinforcing with the aramid short fiber. From this, the same effect can be expected by the short fiber reinforcement in the composite film containing the PTFE fine particles of the present invention.

【0061】[0061]

【発明の効果】本発明により低誘電率でありプリント基
板としての機械的強度が良好で、材質として均一であ
り、かつ地合が均一(フイルム表面が平滑であることを
示す。)で軽量な熱線膨張率の低い複合フィルム、およ
びかかるフィルムを用いたフレキシブルプリント基板用
の基材として有用な材料が提供される。さらに、高耐熱
の短繊維および/またはパルプを含有する複合フィルム
は、引裂エネルギーが大きく、取扱い性に優れる。ま
た、本発明により多孔質複合フィルムおよびかかるフィ
ルムに熱可塑性樹脂および/または、熱硬化性樹脂を含
浸してなるプリプレグが提供される。さらに、本発明に
より、かかるプリプレグを使用したプリント回路用基材
および積層板が提供される。
According to the present invention, a low dielectric constant, good mechanical strength as a printed circuit board, uniform material, uniform formation (indicating that the film surface is smooth), and light weight. Provided are a composite film having a low coefficient of linear thermal expansion and a material useful as a substrate for a flexible printed circuit board using such a film. Further, a composite film containing short fibers and / or pulp having high heat resistance has a large tear energy and is excellent in handleability. Further, the present invention provides a porous composite film and a prepreg obtained by impregnating such a film with a thermoplastic resin and / or a thermosetting resin. Further, according to the present invention, there is provided a printed circuit board and a laminate using the prepreg.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例2で得られた複合フィルムのフィブリル
の形状(多孔質複合フイルムを引き裂いた部分の構造)
を示す。図面に代わる写真(倍率150倍の走査型電子
顕微鏡写真)
FIG. 1 shows the fibril shape of the composite film obtained in Example 2 (the structure of the portion where the porous composite film is torn).
Is shown. Photograph substitute for drawing (scanning electron micrograph at 150x magnification)

【図2】実施例2で得られた複合フィルムのフィブリル
の形状(多孔質複合フイルムを引き裂いた部分の破面の
構造)を示す。図面に代わる写真(倍率2000倍の走
査型電子顕微鏡写真)
FIG. 2 shows the shape of fibrils of the composite film obtained in Example 2 (the structure of the fracture surface at the portion where the porous composite film was torn). Photograph substitute for drawing (scanning electron micrograph at 2000x magnification)

【図3】実施例2で得られた複合フィルムのフィブリル
の形状(複合フイルムを引き裂いた部分の構造)を示
す。図面に代わる写真(倍率200倍の走査型電子顕微
鏡写真)
FIG. 3 shows the shape of fibrils of a composite film obtained in Example 2 (the structure of a portion where the composite film is torn). Photograph substitute for drawing (scanning electron micrograph at 200x magnification)

【図4】実施例2で得られた複合フィルムのフィブリル
の形状(複合フイルムを引き裂いた部分の構造)を示
す。図面に代わる写真(倍率2000倍の走査型電子顕
微鏡写真)
FIG. 4 shows the shape of fibrils (structure of a portion where the composite film is torn) of the composite film obtained in Example 2. Photograph substitute for drawing (scanning electron micrograph at 2000x magnification)

【図5】実施例2で得られた複合フィルムのフィブリル
の形状(複合フイルムを引き裂いた部分の構造)を示
す。図面に代わる写真(倍率200倍の走査型電子顕微
鏡写真)
FIG. 5 shows the shape of fibrils of the composite film obtained in Example 2 (the structure of a portion where the composite film is torn). Photograph substitute for drawing (scanning electron micrograph at 200x magnification)

【図6】実施例2で得られた複合フィルムのフィブリル
の形状(複合フイルムを引き裂いた部分の構造)を示
す。図面に代わる写真(倍率2000倍の走査型電子顕
微鏡写真)
FIG. 6 shows the shape of fibrils (structure of a portion where the composite film is torn) of the composite film obtained in Example 2. Photograph substitute for drawing (scanning electron micrograph at 2000x magnification)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H05K 1/00 H05K 1/00 // B29K 105:06 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H05K 1/00 H05K 1/00 // B29K 105: 06

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 パラ配向芳香族ポリアミドからなる連続
相と低誘電率樹脂からなる相とを有するフィルムであ
り、該フィルムの1MHzでの誘電率が3.2以下であ
り、かつ200〜300℃での熱線膨張係数が±50×
10-6/℃以内であることを特徴とする複合フィルム。
1. A film having a continuous phase comprising a para-oriented aromatic polyamide and a phase comprising a low dielectric constant resin, wherein the dielectric constant of the film at 1 MHz is 3.2 or less, and 200 to 300 ° C. ± 50 × linear thermal expansion coefficient
A composite film having a temperature within 10 -6 / ° C.
【請求項2】 請求項1記載の複合フィルムが、さらに
230℃未満で溶融しない高耐熱の短繊維および/また
はパルプを含有することを特徴とする複合フィルム。
2. The composite film according to claim 1, further comprising a high heat-resistant short fiber and / or pulp that does not melt at a temperature lower than 230 ° C.
【請求項3】 パラ配向芳香族ポリアミドからなる連続
相が、フィブリルの径が1μm以下のフィブリルから構
成され、フィブリルが網目状または不織布状に平面に配
置されかつ層状に重なっている構造を有することを特徴
とする請求項1または2記載の複合フィルム。
3. A continuous phase comprising a para-oriented aromatic polyamide, comprising fibrils having a fibril diameter of 1 μm or less, having a structure in which the fibrils are arranged in a network or a non-woven fabric on a plane and layered. The composite film according to claim 1, wherein:
【請求項4】 低誘電率樹脂が、300℃以下で熱分解
せず、その1MHzでの誘電率が3.0以下であること
を特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の複合フィ
ルム。
4. The composite according to claim 1, wherein the low dielectric resin does not thermally decompose at a temperature of 300 ° C. or less and has a dielectric constant at 1 MHz of 3.0 or less. the film.
【請求項5】 低誘電率樹脂が、四フッ化エチレン樹
脂、パーフルオロアルコキシ樹脂、四フッ化エチレン−
六フッ化プロピレン共重合樹脂、四フッ化エチレン−エ
チレン共重合樹脂、フッ化ビニリデン樹脂または三フッ
化塩化エチレン樹脂であることを特徴とする請求項1〜
4のいずれかに記載の複合フィルム。
5. The low dielectric constant resin is a tetrafluoroethylene resin, a perfluoroalkoxy resin, or a tetrafluoroethylene resin.
It is a propylene hexafluoride copolymer resin, an ethylene tetrafluoride-ethylene copolymer resin, a vinylidene fluoride resin or an ethylene trifluoride ethylene resin.
5. The composite film according to any one of 4.
【請求項6】 低誘電率樹脂の割合が、複合フィルムの
20〜80重量%であることを特徴とする請求項1〜5
のいずれかに記載の複合フィルム。
6. The composite film according to claim 1, wherein a ratio of the low dielectric resin is 20 to 80% by weight of the composite film.
The composite film according to any one of the above.
【請求項7】 パラ配向芳香族ポリアミドが、ポリ(パ
ラフェニレンテレフタルアミド)、ポリ(パラベンズア
ミド) 、ポリ(4,4’−ベンズアニリドテレフタル
アミド)、ポリ(パラフェニレン−4,4’−ビフェニ
レンジカルボン酸アミド)、ポリ(パラフェニレン−
2,6−ナフタレンジカルボン酸アミド)、ポリ(2−
クロロ−パラフェニレンテレフタルアミド)またはパラ
フェニレンアミン/2,6−ジクロロパラフェニレンジ
アミン/テレフタル酸ジクロライドからなる共重合体で
あることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の
複合フィルム。
7. The para-oriented aromatic polyamide is poly (paraphenylene terephthalamide), poly (parabenzamide), poly (4,4′-benzanilide terephthalamide), poly (paraphenylene-4,4′-biphenylene). Dicarboxylic acid amide), poly (paraphenylene-)
2,6-naphthalenedicarboxylic acid amide), poly (2-
The composite film according to any one of claims 1 to 6, wherein the composite film is a copolymer composed of (chloro-paraphenyleneterephthalamide) or paraphenyleneamine / 2,6-dichloroparaphenylenediamine / terephthalic acid dichloride.
【請求項8】 請求項2記載の複合フィルムにおいて、
短繊維のアスペクト比が50以上および200〜300
℃での熱線膨張係数が±50×10-6/℃以内であり、
該短繊維はフィルム内に存在しかつフィルム面と平行に
配置された構造を有し、かつパルプは200〜300℃
での熱線膨張係数が±50×10-6/℃以内である原料
繊維から製造されたものであり、該パルプはフィルム内
に存在しかつフィルム内に均一に分散した状態で配置さ
れた構造を有することを特徴とする複合フィルム。
8. The composite film according to claim 2, wherein
Short fiber aspect ratio of 50 or more and 200 to 300
The coefficient of linear thermal expansion at ℃ is within ± 50 × 10 -6 / ° C,
The staple fibers have a structure present in the film and arranged parallel to the film surface, and the pulp is at 200 to 300 ° C.
Manufactured from raw material fibers having a coefficient of linear thermal expansion within ± 50 × 10 −6 / ° C., wherein the pulp is present in the film and has a structure in which the pulp is uniformly dispersed in the film. A composite film comprising:
【請求項9】 複合フィルムが、多孔質複合フィルムで
あり、その空隙率が30〜95%であることを特徴とす
る請求項1〜8のいずれかに記載の複合フィルム。
9. The composite film according to claim 1, wherein the composite film is a porous composite film, and has a porosity of 30 to 95%.
【請求項10】 請求項1〜9のいずれかに記載の複合
フィルムを基材として用いてなることを特徴とするフレ
キシブルプリント基板。
10. A flexible printed circuit board comprising the composite film according to claim 1 as a substrate.
【請求項11】 請求項9記載の多孔質複合フィルムに
熱可塑性樹脂および/または熱硬化性樹脂を含浸してな
ることを特徴とするプリプレグ。
11. A prepreg, wherein the porous composite film according to claim 9 is impregnated with a thermoplastic resin and / or a thermosetting resin.
【請求項12】 熱可塑性樹脂が、ポリエーテルスルフ
ォン、ポリスルフォン、ポリエーテルイミド、ポリスル
フィドスルフォンまたはポリカーボネートであることを
特徴とする請求項11記載のプリプレグ。
12. The prepreg according to claim 11, wherein the thermoplastic resin is polyethersulfone, polysulfone, polyetherimide, polysulfidesulfone or polycarbonate.
【請求項13】 熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂、ビス
マレイミド−トリアジン樹脂、ポリイミド樹脂、ジアリ
ルフタレート樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シアネー
ト樹脂またはアリール変成ポリフェニレンエーテル樹脂
であることを特徴とする請求項11記載のプリプレグ。
13. The thermosetting resin according to claim 11, wherein the thermosetting resin is an epoxy resin, a bismaleimide-triazine resin, a polyimide resin, a diallyl phthalate resin, an unsaturated polyester resin, a cyanate resin or an aryl-modified polyphenylene ether resin. The prepreg described.
【請求項14】 請求項11〜13のいずれかに記載の
プリプレグを用いてなることを特徴とするプリント回路
用基材。
14. A printed circuit board comprising the prepreg according to claim 11. Description:
【請求項15】 請求項14記載のプリント回路用基材
からなる絶縁層と金属箔からなる導電層とを有すること
を特徴とするプリント回路用積層板。
15. A printed circuit laminate, comprising: an insulating layer comprising the printed circuit board base according to claim 14; and a conductive layer comprising a metal foil.
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