KR20210122145A - Resin composition, method for producing same, resin film and metal clad laminate - Google Patents

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마이토 후지
도모유키 스즈키
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가츠후미 히라이시
고타 가키사카
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닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤
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Abstract

The present invention relates to a resin film including polyimide containing a filler for a liquid crystal polymer dispersed therein and having excellent dielectric properties compatible with dimensional stability. The present invention provides a resin composition including: (A) a polyamic acid formed by reacting a tetracarboxylic anhydride ingredient with a diamine ingredient; and (B) a filler having shape anisotropy including a liquid crystal polymer, wherein the filler of ingredient (B) preferably has a ratio (L/D) of average long axis diameter (L) to average short axis diameter (D) of 3-200, an average long axis diameter (L) of 50-3000 micrometers, and an average short axis diameter (D) of 1-50 micrometers. The present invention also provides a resin film obtained from the resin composition, and the resin film includes a polyimide layer having shape anisotropy and containing polyimide and a liquid crystal polymer dispersed in the polyimide.

Description

수지 조성물, 그의 제조 방법, 수지 필름 및 금속 피복 적층판{RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING SAME, RESIN FILM AND METAL CLAD LAMINATE}A resin composition, its manufacturing method, a resin film, and a metal-clad laminate TECHNICAL FIELD

본 발명은 예를 들어 회로 기판 재료로서 유용한 수지 필름 및 금속 피복 적층판, 거기에 사용되는 수지 조성물 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to, for example, a resin film and a metal-clad laminate useful as a circuit board material, a resin composition used therein, and a manufacturing method thereof.

플렉시블 회로 기판(Flexible Printed Circuit Board; FPC)은 한정된 스페이스에서도 입체적이며 또한 고밀도의 실장이 가능하기 때문에, 전자 기기의 가동 부분의 배선이나, 케이블, 커넥터 등의 부품으로 그 용도가 확대되어, 많은 분야의 기기에 탑재되고 있다. 그에 수반하여, FPC가 사용되는 환경의 다양화가 진행되어요구되는 성능도 고도화되고 있다.Flexible Printed Circuit Board (FPC) is three-dimensional and high-density mounting even in a limited space, so its use has been expanded to parts such as wiring of moving parts of electronic devices, cables, connectors, etc., and in many fields installed in the device of Concomitantly, the environment in which the FPC is used is diversified, and the performance required is also being advanced.

예를 들어 정보 처리나 정보 통신에 있어서는, 대용량 정보를 전송ㆍ처리하기 위해 전송 주파수를 높이는 대처가 행해지고 있어, 회로 기판의 절연 수지층의 유전 특성의 개선에 의한 전송 손실의 저하가 요구되고 있다. 회로 기판의 절연 수지층에 있어서의 유전 특성을 개선하는 기술로서, 열가소성 수지 또는 열경화성 수지에 액정성 폴리머 입자를 배합하는 것이 제안되어 있다(특허문헌 1). 단, 특허문헌 1은 열경화성 수지인 에폭시 수지 이외의 실시예가 없어, 열가소성 수지에 대해서는 상세한 검토가 되어 있지 않다.For example, in information processing and information communication, measures are taken to increase the transmission frequency in order to transmit and process large-capacity information, and a reduction in transmission loss by improvement of the dielectric properties of the insulating resin layer of the circuit board is required. As a technique of improving the dielectric properties in the insulating resin layer of a circuit board, it is proposed to mix|blend liquid crystalline polymer particle with a thermoplastic resin or a thermosetting resin (patent document 1). However, patent document 1 does not have an Example other than the epoxy resin which is a thermosetting resin, and detailed examination is not made about a thermoplastic resin.

또한, 고밀도 실장에 수반하는 미세화의 진전에 의해, 회로 기판의 절연 수지층에는 높은 치수 안정성도 요구되고 있다. 회로 기판의 절연 수지층에 있어서의 치수 안정성을 개선하기 위한 기술로서, 유기 필러나 무기 필러를 배합하는 것이 제안되어 있다(특허문헌 2 내지 4).Moreover, high dimensional stability is also calculated|required by the insulating resin layer of a circuit board by progress of miniaturization accompanying high-density packaging. As a technique for improving the dimensional stability in the insulating resin layer of a circuit board, mix|blending an organic filler or an inorganic filler is proposed (patent documents 2 - 4).

일본 특허 제6295013호 공보Japanese Patent Publication No. 6295013 일본 특허 공개 평11-273456호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 11-273456 일본 특허 공개 평10-338809호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 10-338809 일본 특허 공개 제2006-321853호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2006-321853

폴리이미드는 내열성, 내약품성 등이 우수한 성질을 갖는 수지로서, 회로 기판의 절연 수지층의 재료로서 범용되어 있다. 한편, 액정 폴리머도 회로 기판 재료로서 사용되고 있어, 유전 특성이 우수하다. 이러한 점에서, 폴리이미드 중에 액정 폴리머를 필러로서 배합함으로써, 폴리이미드 필름의 유전 특성을 개선하는 것을 생각할 수 있다. 그러나, 액정 폴리머는 열팽창 계수(CTE)가 커서, 절연 수지층의 치수 안정성을 훼손하는 것이 우려된다.Polyimide is a resin having excellent properties such as heat resistance and chemical resistance, and is widely used as a material for insulating resin layers of circuit boards. On the other hand, liquid crystal polymers are also used as circuit board materials, and are excellent in dielectric properties. From this point of view, it is conceivable to improve the dielectric properties of the polyimide film by blending the liquid crystal polymer as a filler in the polyimide. However, since the liquid crystal polymer has a large coefficient of thermal expansion (CTE), there is concern that the dimensional stability of the insulating resin layer is impaired.

따라서, 본 발명의 목적은 폴리이미드 중에 액정 폴리머의 필러가 분산되어, 우수한 유전 특성과 치수 안정성이 양립되어 있는 수지 필름을 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a resin film in which a liquid crystal polymer filler is dispersed in polyimide, and in which excellent dielectric properties and dimensional stability are compatible.

본 발명의 수지 조성물은, 하기의 성분 (A) 및 (B),The resin composition of the present invention comprises the following components (A) and (B);

(A) 테트라카르복실산 무수물 성분과, 디아민 성분을 반응시켜 이루어지는 폴리아미드산,(A) the polyamic acid formed by making a tetracarboxylic-acid anhydride component and a diamine component react;

and

(B) 액정 폴리머를 포함하는 형상 이방성을 갖는 필러(B) Filler with shape anisotropy containing liquid crystal polymer

를 함유한다.contains

본 발명의 수지 조성물은, 상기 (B) 성분의 필러의 평균 장축 직경(L)과 평균 단축 직경(D)의 비(L/D)가 3 내지 200의 범위 내여도 된다.In the resin composition of the present invention, the ratio (L/D) of the average major axis diameter (L) to the average minor axis diameter (D) of the filler of the component (B) may be in the range of 3 to 200.

본 발명의 수지 조성물은, 상기 (B) 성분의 필러의 평균 장축 직경(L)이 50 내지 3000㎛의 범위 내여도 되고, 평균 단축 직경(D)이 1 내지 50㎛의 범위 내여도 된다.As for the resin composition of this invention, the average major axis diameter (L) of the filler of the said (B) component may exist in the range of 50-3000 micrometers, and the average minor axis diameter (D) may exist in the range of 1-50 micrometers.

본 발명의 수지 조성물은, 상기 (B) 성분의 필러의 함유량이, 상기 (A) 성분 및 상기 (B) 성분의 합계량에 대하여 1 내지 70체적%의 범위 내여도 된다.In the resin composition of this invention, content of the filler of the said (B) component may exist in the range of 1-70 volume% with respect to the total amount of the said (A) component and the said (B) component.

본 발명의 수지 조성물은, 상기 액정 폴리머의 융점이 280℃ 이상이어도 된다.In the resin composition of the present invention, the liquid crystal polymer may have a melting point of 280°C or higher.

본 발명의 수지 조성물은, 상기 액정 폴리머가 폴리에스테르 구조를 갖는 것이어도 된다.In the resin composition of the present invention, the liquid crystal polymer may have a polyester structure.

본 발명의 수지 조성물은, 상기 (B) 성분의 필러의 장축 방향에 있어서의 인장 탄성률이 20GPa 이상이어도 된다.20 GPa or more may be sufficient as the resin composition of this invention in the long-axis direction of the filler of the said (B) component.

본 발명의 수지 조성물은, 상기 (A) 성분의 폴리아미드산을 경화시켜 얻어지는 폴리이미드의 인장 탄성률에 대한 상기 (B) 성분의 필러의 장축 방향에 있어서의 인장 탄성률의 비가 1 이상이어도 된다.In the resin composition of the present invention, the ratio of the tensile modulus of elasticity in the major axis direction of the filler of the component (B) to the tensile modulus of elasticity of the polyimide obtained by curing the polyamic acid of the component (A) may be 1 or more.

본 발명의 수지 조성물은, 상기 (A) 성분의 폴리아미드산을 경화시켜 얻어지는 폴리이미드의 진비중에 대한 상기 (B) 성분의 필러의 진비중의 비가 0.5 내지 2.0의 범위 내여도 된다.The ratio of the true specific gravity of the filler of the said (B) component with respect to the true specific gravity of the polyimide obtained by hardening the polyamic acid of the said (A) component in the resin composition of this invention may exist in the range of 0.5-2.0.

본 발명의 수지 조성물은, 상기 (B) 성분의 액정 폴리머의 1GHz에 있어서의 비유전율이 2.0 내지 3.5의 범위 내여도 되고, 유전 정접이 0.003 미만이어도 된다.In the resin composition of the present invention, the relative dielectric constant at 1 GHz of the liquid crystal polymer of the component (B) may be in the range of 2.0 to 3.5, and the dielectric loss tangent may be less than 0.003.

본 발명의 수지 조성물의 제조 방법은, 상기 어느 수지 조성물의 제조 방법이며, 상기 테트라카르복실산 무수물 성분과 상기 디아민 성분을 반응시켜 상기 폴리아미드산을 합성하는 반응이 완결되기 보다 전에, 상기 (B) 성분의 액정 폴리머를 포함하는 형상 이방성을 갖는 필러를 첨가하는 것을 특징으로 한다.The method for producing the resin composition of the present invention is a method for producing any of the above resin compositions, and before the reaction of synthesizing the polyamic acid by reacting the tetracarboxylic anhydride component with the diamine component is completed, (B ) is characterized by adding a filler having shape anisotropy containing a liquid crystal polymer as a component.

본 발명의 수지 조성물의 제조 방법은, 상기 테트라카르복실산 무수물 성분과 상기 디아민 성분의 반응액의 점도가 1500cps에 달하기 전에 상기 (B) 성분의 액정 폴리머를 포함하는 형상 이방성을 갖는 필러를 첨가하고, 혼합해도 된다.In the method for producing the resin composition of the present invention, before the viscosity of the reaction solution of the tetracarboxylic anhydride component and the diamine component reaches 1500 cps, a filler having shape anisotropy containing the liquid crystal polymer of the component (B) is added. and may be mixed.

본 발명의 수지 필름은, 폴리이미드층을 포함하는 수지 필름이며,The resin film of the present invention is a resin film comprising a polyimide layer,

상기 폴리이미드층이, 폴리이미드와, 상기 폴리이미드 중에 분산되어 있는 액정 폴리머를 포함하는 형상 이방성을 갖는 필러를 함유하는 것을 특징으로 한다.The said polyimide layer contains a polyimide and the filler which has shape anisotropy containing the liquid crystal polymer disperse|distributed in the said polyimide, It is characterized by the above-mentioned.

본 발명의 수지 필름은, 상기 폴리이미드층의 열팽창 계수가 30ppm/K 이하여도 된다.As for the resin film of this invention, 30 ppm/K or less may be sufficient as the thermal expansion coefficient of the said polyimide layer.

본 발명의 수지 필름은, 상기 폴리이미드층의 10GHz에 있어서의 비유전율이 2.0 내지 3.8의 범위 내여도 되고, 유전 정접이 0.004 이하여도 된다.As for the resin film of this invention, the dielectric constant in 10 GHz of the said polyimide layer may exist in the range of 2.0-3.8, and the dielectric loss tangent may be 0.004 or less.

본 발명의 수지 필름은, 상기 폴리이미드층 중의 수지 성분의 합계량에 대한 액정 폴리머를 포함하는 형상 이방성을 갖는 필러의 함유량이 1 내지 70체적%의 범위 내여도 된다.In the resin film of this invention, content of the filler which has shape anisotropy containing the liquid crystal polymer with respect to the total amount of the resin component in the said polyimide layer may exist in the range of 1-70 volume%.

본 발명의 수지 필름은, 상기 폴리이미드층 중에서, 상기 액정 폴리머의 길이 방향이 배향되어 있어도 된다.In the resin film of the present invention, the longitudinal direction of the liquid crystal polymer may be oriented in the polyimide layer.

본 발명의 금속 피복 적층판은, 절연 수지층과, 상기 절연 수지층의 적어도 한쪽 면에 적층된 금속층을 구비한 금속 피복 적층판이며,The metal-clad laminate of the present invention is a metal-clad laminate comprising an insulating resin layer and a metal layer laminated on at least one surface of the insulating resin layer,

상기 절연 수지층의 적어도 1층이 상기 어느 수지 필름인 것을 특징으로 한다.At least one layer of the insulating resin layer is any of the above resin films.

본 발명에 따르면, 폴리이미드 중에 액정 폴리머의 필러가 분산되어, 우수한 유전 특성과 치수 안정성이 양립되어 있는 수지 필름이 제공된다. 본 발명의 수지 필름은 고주파 신호 전송에 있어서의 손실이 저감되고, 치수 안정성도 유지할 수 있는 점에서, 각종 전자 기기에 있어서의 FPC 등의 회로 기판 재료로서 적합하게 사용할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the filler of a liquid crystal polymer is disperse|distributed in polyimide, and the resin film in which the outstanding dielectric property and dimensional stability are compatible is provided. The resin film of this invention can be used suitably as circuit board materials, such as FPC in various electronic devices, from the point which the loss in high frequency signal transmission is reduced and dimensional stability can also be maintained.

도 1은 실시예 7에서 제작한 동장 적층판의 수지층의 외관 사진이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a photograph of the external appearance of the resin layer of the copper clad laminated board produced in Example 7. FIG.

이하, 본 발명의 실시 형태에 대하여 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described.

[수지 조성물][resin composition]

본 실시 형태의 수지 조성물은, 하기의 성분 (A) 및 (B),The resin composition of this embodiment, the following components (A) and (B),

(A) 테트라카르복실산 무수물 성분과, 디아민 성분을 반응시켜 이루어지는 폴리아미드산,(A) the polyamic acid formed by making a tetracarboxylic-acid anhydride component and a diamine component react;

and

(B) 액정 폴리머를 포함하는 형상 이방성을 갖는 필러(이하, 「LCP 필러」라고 기재하는 경우가 있음)(B) Filler with shape anisotropy containing liquid crystal polymer (hereinafter, may be referred to as "LCP filler")

를 함유한다.contains

[성분 A: 폴리아미드산][Component A: polyamic acid]

성분 A의 폴리아미드산은 폴리이미드의 전구체이며, 테트라카르복실산 무수물 성분과, 디아민 성분을 반응시켜 얻어진다. 폴리이미드는 하기 일반식 (1)로 표시되는 이미드기를 갖는 폴리머이다. 또한 아미드기나 에테르 결합을 갖는 경우에는 폴리아미드이미드나 폴리에테르이미드라고 호칭되는 경우가 있지만, 본 명세서에서는 이들을 총칭하여 폴리이미드라고 기재한다. 폴리이미드는 디아민 성분과 산 이무수물 성분을 실질적으로 등몰 사용하고, 유기 극성 용매 중에서 중합시키는 공지의 방법에 의해 제조할 수 있다. 이 경우, 점도를 원하는 범위로 하기 위해, 디아민 성분에 대한 산 이무수물 성분의 몰비를 조정해도 되며, 그 범위는 예를 들어 0.98 내지 1.03의 몰비의 범위 내로 하는 것이 바람직하다.The polyamic acid of the component A is a precursor of a polyimide, and is obtained by making a tetracarboxylic-acid anhydride component and a diamine component react. A polyimide is a polymer which has an imide group represented by the following general formula (1). Moreover, when it has an amide group or an ether bond, it may be called polyamideimide or polyetherimide, but in this specification, these are generically described as polyimide. The polyimide can be produced by a known method in which a diamine component and an acid dianhydride component are used in substantially equimolar amounts and polymerized in an organic polar solvent. In this case, in order to make a viscosity into a desired range, you may adjust the molar ratio of the acid dianhydride component with respect to a diamine component, and it is preferable to make the range into the range of the molar ratio of 0.98 to 1.03, for example.

Figure pat00001
Figure pat00001

일반식 (1)에 있어서, Ar1은 테트라카르복실산 이무수물 잔기를 포함하는 산 무수물로부터 유도되는 4가의 기를 나타내며, R2는 디아민으로부터 유도되는 2가의 디아민 잔기를 나타내고, n은 1 이상의 정수이다.In the general formula (1), Ar 1 represents a tetravalent group derived from an acid anhydride containing a tetracarboxylic dianhydride residue, R 2 represents a divalent diamine residue derived from diamine, and n is an integer greater than or equal to 1 am.

산 이무수물로서는, 예를 들어 O(OC)2-Ar1-(CO)2O에 의해 표시되는 방향족 테트라카르복실산 이무수물이 바람직하고, 하기 방향족 산 무수물 잔기를 Ar1로서 부여하는 것이 예시된다.As the acid dianhydride, for example, an aromatic tetracarboxylic dianhydride represented by O(OC) 2 -Ar 1 -(CO) 2 O is preferable, and giving the following aromatic acid anhydride residue as Ar 1 is exemplified. do.

Figure pat00002
Figure pat00002

산 이무수물은 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도 피로멜리트산 이무수물(PMDA), 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물(BPDA), 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물(BTDA), 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복실산 이무수물(DSDA) 및 4,4'-옥시디프탈산 이무수물(ODPA)로부터 선택되는 것을 사용하는 것이 바람직하다.The acid dianhydride may be used alone or in combination of two or more. Among these, pyromellitic dianhydride (PMDA), 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride It is preferable to use one selected from water (BTDA), 3,3',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride (DSDA) and 4,4'-oxydiphthalic dianhydride (ODPA). .

디아민으로서는, 예를 들어 H2N-R2-NH2에 의해 표시되는 디아민이 바람직하고, 하기 디아민 잔기를 R2로서 부여하는 디아민이 예시된다.As the diamine, for example a diamine to a diamine represented by H 2 NR 2 -NH 2 are preferred, to give the diamine residue as R 2 and the like.

Figure pat00003
Figure pat00003

이들 디아민 중에서도 디아미노디페닐에테르(DAPE), 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐(m-TB), 파라페닐렌디아민(p-PDA), 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠(TPE-R), 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠(APB), 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠(TPE-Q), 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판(BAPP), 및 2,2-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB)이 적합한 것으로서 예시된다.Among these diamines, diaminodiphenyl ether (DAPE), 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl (m-TB), paraphenylenediamine (p-PDA), 1,3-bis( 4-aminophenoxy)benzene (TPE-R), 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene (APB), 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene (TPE-Q), 2 ,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane (BAPP), and 2,2-bis(trifluoromethyl)benzidine (TFMB) are exemplified as suitable.

합성된 폴리아미드산은, 통상, 반응 용매 용액으로서 사용하는 것이 유리하지만, 필요에 따라 농축, 희석 또는 다른 유기 용매로 치환하여 수지 조성물을 형성할 수 있다. 폴리아미드산을 이미드화시키는 방법은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 상기 용매 중에서, 80 내지 400℃의 범위 내의 온도 조건으로 1 내지 24시간에 걸쳐 가열하는 것과 같은 열처리가 적합하게 채용된다.The synthesized polyamic acid is usually advantageously used as a reaction solvent solution, but it can be concentrated, diluted or replaced with another organic solvent as needed to form a resin composition. The method for imidating the polyamic acid is not particularly limited, and for example, a heat treatment such as heating in the above solvent at a temperature within the range of 80 to 400° C. over 1 to 24 hours is suitably employed.

[성분 (B): LCP 필러][Component (B): LCP Filler]

LCP 필러는 액정 폴리머를 포함한다. 액정 폴리머는 유전 특성의 주파수 의존성이 거의 없고, 매우 우수한 유전 특성을 가짐과 함께, 난연성 향상에도 기여하는 점에서, 이것을 필러로서 배합함으로써 수지 필름의 유전 특성과 난연성을 개선할 수 있다. 수지 필름의 유전 특성을 개선할 목적으로 배합하는 경우, LCP 필러는 단체(單體)로서, 1GHz에 있어서의 비유전율이 바람직하게는 2.0 내지 3.5의 범위 내, 보다 바람직하게는 2.7 내지 3.2의 범위 내이며, 유전 정접이 바람직하게는 0.003 미만이고, 보다 바람직하게는 0.002 이하인 것을 사용하는 것이 좋다.The LCP filler comprises a liquid crystal polymer. Liquid crystal polymer has little frequency dependence of dielectric properties, has very excellent dielectric properties, and contributes to improvement of flame retardancy. When blending for the purpose of improving the dielectric properties of the resin film, the LCP filler is a single element, and the dielectric constant at 1 GHz is preferably in the range of 2.0 to 3.5, more preferably in the range of 2.7 to 3.2. and dielectric loss tangent is preferably less than 0.003, more preferably 0.002 or less.

액정 폴리머의 융점은 액정 전이 온도나 액정화 온도라고 칭해지는 경우가 있는데, 280℃ 이상이 바람직하다. 보다 바람직하게는 295℃ 이상, 더욱 바람직하게는 310℃ 이상이다.The melting point of the liquid crystal polymer is sometimes referred to as a liquid crystal transition temperature or a liquid crystallization temperature, but preferably 280°C or higher. More preferably, it is 295 degreeC or more, More preferably, it is 310 degreeC or more.

융점이 280℃를 하회하면 전자 기기 등의 제조 과정에서 융해되어, 특성의 변화를 초래할 우려가 있다.When melting|fusing point is less than 280 degreeC, it may melt|dissolve in the manufacturing process of an electronic device etc., and there exists a possibility of causing the change of a characteristic.

액정 폴리머로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 이하의 (1) 내지 (4)로 분류되는 화합물 및 그의 유도체로부터 유도되는 공지의 서모트로픽 액정 폴리에스테르 및 폴리에스테르아미드 등의 폴리에스테르 구조를 갖는 것이 바람직하다.Although it does not specifically limit as a liquid crystal polymer, For example, those having a polyester structure, such as well-known thermotropic liquid crystal polyester and polyesteramide derived from the compound classified into the following (1) to (4), and its derivative(s) desirable.

(1) 방향족 또는 지방족 디히드록시 화합물(1) aromatic or aliphatic dihydroxy compounds

(2) 방향족 또는 지방족 디카르복실산(2) aromatic or aliphatic dicarboxylic acids

(3) 방향족 히드록시카르복실산(3) aromatic hydroxycarboxylic acids

(4) 방향족 디아민, 방향족 히드록시아민 또는 방향족 아미노카르복실산(4) aromatic diamines, aromatic hydroxylamines or aromatic aminocarboxylic acids

이들 원료 화합물로부터 얻어지는 액정 폴리머의 대표예로서, 하기 식 (a) 내지 (j)에 나타내는 구조 단위로부터 선택되는 2개 이상의 조합을 갖는 공중합체 이며, 식 (a)로 나타내는 구조 단위 또는 식 (e)로 나타내는 구조 단위의 어느 것을 포함하는 공중합체가 바람직하고, 특히 식 (a)로 나타내는 구조 단위와 식 (e)로 나타내는 구조 단위를 포함하는 공중합체가 더 바람직하다. 또한, 액정 폴리머 중의 방향환이 많아질수록 유전 특성과 난연성을 향상시키는 효과를 기대할 수 있는 점에서, 상기 (1)로서 방향족 디히드록시 화합물을, 상기 (2)로서 방향족 디카르복실산을 포함하는 것이 바람직하다.Representative examples of liquid crystal polymers obtained from these raw material compounds are copolymers having a combination of two or more selected from structural units represented by the following formulas (a) to (j), and the structural unit represented by formula (a) or formula (e) ) is preferable, and a copolymer including a structural unit represented by formula (a) and a structural unit represented by formula (e) is particularly preferable. In addition, as the number of aromatic rings in the liquid crystal polymer increases, the effect of improving dielectric properties and flame retardancy can be expected. it is preferable

Figure pat00004
Figure pat00004

LCP 필러는 형상 이방성을 갖는다. 형상 이방성이란, LCP 필러의 평균 장축 직경(L)과 평균 단축 직경(D)의 비(L/D)가 3 이상인 것을 의미하며, 바람직하게는 3 내지 200의 범위 내이다. 여기서, 직선상으로 신장된 상태에서의 LCP 필러에 외접하는 가상의 직육면체를 상정하였을 때, 해당 직육면체의 서로 수직인 3변의 길이 중, 가장 짧은 변의 길이를 단축 직경, 가장 긴 변의 길이를 장축 직경으로 한다.LCP fillers have shape anisotropy. The shape anisotropy means that the ratio (L/D) of the average major axis diameter (L) to the average minor axis diameter (D) of the LCP filler is 3 or more, preferably within the range of 3 to 200. Here, assuming an imaginary cuboid circumscribed on the LCP pillar in a linearly stretched state, among the lengths of three perpendicular sides of the cuboid, the length of the shortest side is the minor axis diameter, and the length of the longest side is the major axis diameter. do.

LCP 필러의 평균 장축 직경(L)은 예를 들어 50 내지 3000㎛의 범위 내가 바람직하고, 100 내지 1000㎛의 범위 내가 더 바람직하다. 또한, LCP 필러의 평균 단축 직경(D)은 예를 들어 1 내지 50㎛의 범위 내가 바람직하고, 3 내지 30㎛의 범위 내가 더 바람직하다. 평균 장축 직경(L) 및 평균 단축 직경(D)이 상기 범위 내이면, 수지 조성물에 의해 수지 필름을 형성하였을 때의 표면 평활성을 악화시키는 경우가 없어, 외관이 양호한 수지 필름이 얻어진다.The average major axis diameter (L) of the LCP filler is, for example, preferably in the range of 50 to 3000 µm, more preferably in the range of 100 to 1000 µm. Moreover, the inside of the range of 1-50 micrometers is preferable, for example, and, as for the average minor axis diameter (D) of an LCP filler, the inside of the range of 3-30 micrometers is more preferable. If the average major axis diameter (L) and the average minor axis diameter (D) are within the above ranges, the surface smoothness when a resin film is formed from the resin composition is not deteriorated, and a resin film with a good appearance can be obtained.

LCP 필러의 구체적 형상으로서는, 예를 들어 섬유상(바늘상을 포함함), 판상 등을 들 수 있다. 섬유상으로서는, 예를 들어 밀드 파이버, 촙드 파이버, 커트 파이버 등이어도 된다. 판상으로서는, 원반상, 편평상, 평판상, 박편상, 인편상, 직사각형상 등이 예시된다. 또한, LCP 필러의 단면 형상은 원형에 한정되지 않고, 별형이나 꽃형, 십자형, 중공형이어도 된다. LCP 필러의 단면 형상을 바꿈으로써, LCP 필러의 표면적을 조정하여 폴리이미드와의 접착성을 제어하는 것이나, 수지 용액의 점도를 제어할 수 있다. 수지 필름의 CTE 제어의 용이성의 관점에서, 특히 단섬유상의 LCP 필러가 바람직하다.As a specific shape of an LCP filler, fibrous form (including needle form), plate form, etc. are mentioned, for example. As a fibrous form, milled fiber, a chopped fiber, a cut fiber etc. may be sufficient, for example. Examples of the plate shape include a disk shape, a flat shape, a flat shape, a flaky shape, a scale shape, and a rectangular shape. Further, the cross-sectional shape of the LCP filler is not limited to a circular shape, and may be a star shape, a flower shape, a cross shape, or a hollow shape. By changing the cross-sectional shape of the LCP filler, it is possible to control the surface area of the LCP filler to control adhesion to polyimide and to control the viscosity of the resin solution. From a viewpoint of the easiness of CTE control of a resin film, especially a short-fiber-form LCP filler is preferable.

LCP 필러는, 그의 장축 방향과 액정 폴리머 분자의 길이 방향이 대략 일치하도록 배향되어 있는 것이 바람직하다. 액정 폴리머 분자를 배향시키기 위해서는, 용융 공정과 압출 공정에 의한 성형을 거치는 것이 중요하고, 특히 다음 식에 의해 구해지는 압출 시의 최대 전단 속도 u를 바람직하게는 103sec-1 이상, 보다 바람직하게는 104sec-1 이상으로 하는 것이 좋다.It is preferable that the LCP filler is oriented so that the long axis direction thereof and the longitudinal direction of the liquid crystal polymer molecules substantially coincide. In order to orient the liquid crystal polymer molecules, it is important to undergo molding by a melting process and an extrusion process, and in particular, the maximum shear rate u at the time of extrusion obtained by the following formula is preferably 10 3 sec -1 or more, more preferably is preferably set to 10 4 sec -1 or more.

u=4Q/{π×(d/2)3}u=4Q/{π×(d/2) 3 }

[단, Q는 압출 토출구 단면을 단위 시간당 통과하는 폴리머 토출량(㎤/sec), d는 압출 토출구 단면의 가장 짧은 직경의 길이(㎝)를 나타내지만, 예를 들어 튜브 상 노즐이나 세공 등의 원형의 압출 토출구인 경우에는 그의 직경(㎝)으로 한다.][However, Q is the amount of polymer discharged per unit time (cm 3 /sec) that passes through the cross section of the extrusion outlet, and d represents the length (cm) of the shortest diameter of the cross section of the extrusion outlet, for example, a circular shape such as a nozzle or a pore on a tube. In the case of an extrusion outlet of

이러한 최대 전단 속도이면, 액정 분자의 배향이 충분해지고, LCP 필러로서 사용하였을 때의 CTE의 제어성이 얻어지기 쉬워진다.If it is such a maximum shear rate, the orientation of a liquid crystal molecule becomes sufficient, and controllability of CTE at the time of using it as an LCP filler becomes easy to be acquired.

또한, LCP 필러의 배향이 불충분한 경우, 유연 혹은 압출 공정 후에 연신함으로써 배향을 제어할 수 있다. 또한, 세공으로부터 수지를 토출함으로써 연신 공정의 생략이 가능하고, 그를 위해서는 방사 구금의 구멍 직경(직경)을 예를 들어 1.0㎜ 이하로 하는 것이 바람직하고, 0.5㎜ 이하로 하는 것이 더 바람직하다.Moreover, when the orientation of an LCP filler is inadequate, orientation can be controlled by extending|stretching after a casting|flow_spread or an extrusion process. In addition, by discharging the resin from the pores, the stretching step can be omitted, and for that purpose, the hole diameter (diameter) of the spinneret is preferably set to, for example, 1.0 mm or less, and more preferably 0.5 mm or less.

LCP 필러는, 상기 방법으로 제조된 장섬유를 묶어서 소정의 길이로 절단하거나, 분쇄함으로써 제조할 수 있다. 또한, 섬유상으로 하지 않고, 액정 폴리머 분자의 배향도를 높인 성형물을 분쇄하는 것에 의해서도 LCP 필러를 제조할 수 있다.The LCP filler may be prepared by bundling the long fibers prepared by the above method, cutting them to a predetermined length, or pulverizing them. Moreover, the LCP filler can be manufactured also by grinding|pulverizing the molded object which improved the orientation degree of liquid crystal polymer molecules without setting it as a fibrous form.

또한, LCP 필러의 장축 방향에 있어서의 인장 탄성률은, 수지 필름의 CTE를 저감시키기 위해 예를 들어 20GPa 이상인 것이 바람직하고, 40 내지 200GPa의 범위 내인 것이 더 바람직하다. 특히, (A) 성분의 폴리아미드산을 경화시켜 얻어지는 폴리이미드의 인장 탄성률 EP에 대한 LCP 필러의 장축 방향에 있어서의 인장 탄성률 EL의 비(EL/EP)가 1 이상인 것이 바람직하다. 수지 필름에 있어서의 매트릭스가 되는 폴리이미드의 인장 탄성률 EP와 LCP 필러의 인장 탄성률 EL의 관계가 EL≥EP인 경우에, CTE 저감의 효과가 커진다.Moreover, in order to reduce CTE of a resin film, it is preferable that it is 20 GPa or more, and, as for the tensile modulus in the long-axis direction of an LCP filler, it is more preferable to exist in the range of 40-200 GPa. In particular, it is preferable that the ratio ( EL / EP ) of the tensile modulus E L of the LCP filler in the major axis direction to the tensile modulus E P of the polyimide obtained by curing the polyamic acid of component (A) is 1 or more. . When the relationship between the tensile modulus E P of the polyimide used as the matrix in the resin film and the tensile modulus E L of the LCP filler is E LE P , the effect of CTE reduction becomes large.

또한, (A) 성분의 폴리아미드산을 경화시켜 얻어지는 폴리이미드의 진비중 SP에 대한 LCP 필러의 진비중 SL의 비(SL/SP)가 예를 들어 0.5 내지 2.0의 범위 내인 것이 바람직하다. 수지 필름에 있어서의 매트릭스가 되는 폴리이미드의 진비중 SP와 LCP 필러의 진비중 SL의 관계가 상기 범위 내인 것에 의해, LCP 필러의 분산성이 양호해짐과 함께, 수지 필름 전체의 경량화를 도모할 수 있다.In addition, the ratio (S L / SP ) of the true specific gravity S L of the LCP filler to the true specific gravity SP of the polyimide obtained by curing the polyamic acid of the component (A) is, for example, within the range of 0.5 to 2.0. desirable. When the relationship between the true specific gravity SP of the polyimide used as the matrix in the resin film and the true specific gravity S L of the LCP filler is in the above range, the dispersibility of the LCP filler becomes good and the weight of the entire resin film is reduced. can do.

LCP 필러는 분산성 및 폴리이미드와의 밀착성을 향상시킬 목적으로, 표면 개질 처리가 이루어져 있어도 된다. 표면 개질 처리로서는, 예를 들어 플라스마 처리, 코팅 처리 등을 들 수 있다. 또한, LCP 필러는 코어-시스형 구조여도 된다. 코어-시스형 구조로서는, 예를 들어 코어 부분이 액정 폴리머이고, 시스 부분이 폴리이미드와 접착성이 높은 수지인 것이 바람직하다. 폴리이미드와 접착성이 높은 수지로서는, 예를 들어 폴리이미드, 폴리아미드, 퍼플루오로알콕시 불소 수지(PFA), 폴리올레핀 등의 열가소성 수지가 적합하다.The LCP filler may be subjected to a surface modification treatment for the purpose of improving dispersibility and adhesion to polyimide. As a surface modification process, a plasma process, a coating process, etc. are mentioned, for example. In addition, the LCP pillar may have a core-sheath type structure. As the core-sheath structure, for example, it is preferable that the core portion is a liquid crystal polymer and the sheath portion is a resin having high adhesion to polyimide. As resin with high adhesiveness to polyimide, thermoplastic resins, such as a polyimide, polyamide, a perfluoroalkoxy fluororesin (PFA), and polyolefin, are suitable, for example.

LCP 필러는 시판품을 적절하게 선정하여 사용할 수 있다. 예를 들어 섬유상의 것으로서, 구라레사제 벡트란(상품명), 동 벡크리(상품명), 도레이사제 시베라스(상품명), KB 세이렌사제 젝시온(상품명) 등을 바람직하게 사용 가능하다. 또한, LCP 필러로서 2종 이상의 다른 것을 병용해도 된다.The LCP filler can be used by appropriately selecting a commercially available product. For example, as a fibrous thing, Vectran (trade name) manufactured by Kuraray Corporation, Vectran (trade name) manufactured by Toray Corporation, Siberas (trade name) manufactured by Toray Corporation, Xexion (trade name) manufactured by KB Siren Corporation, etc. can be preferably used. Moreover, you may use together 2 or more types of different things as an LCP filler.

[용제][solvent]

수지 조성물은 용제를 더 함유하는 것이 바람직하다. 용제로서는, 예를 들어 N,N-디메틸포름아미드(DMF), N,N-디메틸아세트아미드(DMAc), N,N-디에틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈(NMP), 2-부타논, 디메틸술폭시드(DMSO), 헥사메틸포스포르아미드, N-메틸카프로락탐, 황산디메틸, 시클로헥사논, 디옥산, 테트라히드로푸란, 디글라임, 트리글라임, 크레졸, 아세톤, 메틸이소부틸케톤 등의 유기 용매를 들 수 있다. 이들 용제를 2종 이상 병용할 수도 있고, 나아가 크실렌, 톨루엔과 같은 방향족 탄화수소의 병용도 가능하다. 용제의 함유량으로서는 특별히 제한되는 것은 아니지만, 수지 조성물에 있어서의 고형분 농도가 5 내지 50중량% 정도가 되는 사용량으로 조정하여 사용하는 것이 바람직하다.It is preferable that the resin composition further contains a solvent. Examples of the solvent include N,N-dimethylformamide (DMF), N,N-dimethylacetamide (DMAc), N,N-diethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), 2-butanone, dimethylsulfoxide (DMSO), hexamethylphosphoramide, N-methylcaprolactam, dimethyl sulfate, cyclohexanone, dioxane, tetrahydrofuran, diglyme, triglyme, cresol, acetone, methyl Organic solvents, such as isobutyl ketone, are mentioned. Two or more of these solvents may be used in combination, and further, an aromatic hydrocarbon such as xylene or toluene may be used in combination. Although it does not restrict|limit especially as content of a solvent, It is preferable to adjust and use the usage-amount from which the solid content concentration in a resin composition will be about 5 to 50 weight%.

[임의 성분][Optional Ingredients]

수지 조성물에는, 필요에 따라 임의 성분으로서, 폴리아미드산 이외의 수지 성분, 난연제, 가교제, 경화 촉진제, 화학 촉매, LCP 필러 이외의 유기 필러, 무기 필러, 가소제, 커플링제, 안료 등을 적절하게 배합할 수 있다.In the resin composition, if necessary, as optional components, resin components other than polyamic acid, flame retardants, crosslinking agents, curing accelerators, chemical catalysts, organic fillers other than LCP fillers, inorganic fillers, plasticizers, coupling agents, pigments, etc. are appropriately blended can do.

[조성][Furtherance]

수지 조성물에 있어서의 (B) 성분의 LCP 필러의 함유량은 수지 필름의 사용 목적에 따라 적절하게 설정할 수 있지만, 예를 들어 (A) 성분 및 (B) 성분의 합계량에 대하여 1 내지 70체적%의 범위 내인 것이 바람직하고, 5 내지 65체적%의 범위 내인 것이 더 바람직하다. LCP 필러의 배합량이 하한값 미만이면, 유전 특성의 개선 효과 및 CTE 저감 효과가 충분히 얻어지지 못하는 경우가 있고, 상한값을 초과하면 수지 용액의 증점에 의한 취급성의 저하나 수지 필름이 취약화되거나 하는 경우가 있다.Although content of the LCP filler of (B) component in a resin composition can be set suitably according to the purpose of use of a resin film, For example, 1-70 volume% with respect to the total amount of (A) component and (B) component. It is preferable to exist in the range, and it is more preferable to exist in the range of 5-65 volume%. If the blending amount of the LCP filler is less than the lower limit, the effect of improving dielectric properties and reducing CTE may not be sufficiently obtained. have.

또한, 용제는 (A) 성분의 폴리아미드산을 용해하여, 용액 상태로 할 수 있는 양으로 배합하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable to mix|blend the solvent in the quantity which can melt|dissolve the polyamic acid of (A) component and make it a solution state.

[점도][Viscosity]

수지 조성물의 점도는 수지 조성물을 도공할 때의 취급성을 높이고, 균일한 두께의 도막을 형성하기 쉬운 점도 범위로서, 예를 들어 3000cps 내지 100000cps의 범위 내로 하는 것이 바람직하고, 5000cps 내지 50000cps의 범위 내로 하는 것이 더 바람직하다. 상기 점도 범위를 벗어나면, 코터 등에 의한 도공 작업 시에 필름에 두께 불균일, 줄무늬 등의 불량이 발생하기 쉬워진다.The viscosity of the resin composition is preferably within the range of 3000 cps to 100000 cps, for example, in the range of 3000 cps to 100000 cps, as a viscosity range that improves handleability when coating the resin composition and is easy to form a coating film of uniform thickness. It is more preferable to do When it is out of the said viscosity range, it will become easy to generate|occur|produce defects, such as thickness non-uniformity and a stripe, in a film at the time of the coating operation by a coater etc.

[수지 조성물의 제조 방법][Method for producing resin composition]

수지 조성물은, (A) 성분의 원료인 테트라카르복실산 무수물 성분과 디아민 성분을 반응시켜 폴리아미드산을 합성하는 반응이 완결되기 보다 전에, (B) 성분의 LCP 필러를 첨가하는 것이 바람직하다. 폴리아미드산의 합성 반응이 완결된 후에 LCP 필러를 첨가해도, LCP 필러의 응집이 생기기 쉽고, 또한 응집 후의 분산 공정도 번잡해지기 쉽다. LCP 필러를 첨가하는 타이밍의 바람직한 기준으로서, 예를 들어 테트라카르복실산 무수물 성분과 디아민 성분의 반응액의 점도가 1500cps에 달하기보다 전에 LCP 필러를 첨가하고, 혼합하는 것이 좋다. 반응액의 점도가 1500cps에 도달한 후에 LCP 필러를 첨가해도, 균일한 혼합 상태가 얻어지지 않게 된다.It is preferable that the resin composition adds the LCP filler of (B) component before the reaction which makes the tetracarboxylic-acid anhydride component which is a raw material of (A) component, and a diamine component react, and synthesize|combines a polyamic acid is complete. Even if the LCP filler is added after the synthesis reaction of the polyamic acid is completed, the aggregation of the LCP filler tends to occur, and the dispersing process after the aggregation is likely to be complicated. As a preferable criterion for the timing of adding the LCP filler, it is preferable to add and mix the LCP filler before, for example, the viscosity of the reaction solution of the tetracarboxylic anhydride component and the diamine component reaches 1500 cps. Even if the LCP filler is added after the viscosity of the reaction solution reaches 1500 cps, a uniform mixed state is not obtained.

이상의 관점에서, 테트라카르복실산 무수물 성분과 디아민 성분을 반응시키기 전의 단계에서, 테트라카르복실산 무수물 성분 및/또는 디아민 성분에 LCP 필러를 첨가하는 것이 더 바람직하다.In view of the above, it is more preferable to add the LCP filler to the tetracarboxylic anhydride component and/or the diamine component in the step before the tetracarboxylic anhydride component and the diamine component are reacted.

구체적으로는, 테트라카르복실산 무수물 성분과 디아민 성분과 LCP 필러를 동시에 혼합한 후, 테트라카르복실산 무수물 성분과 디아민 성분을 반응시켜 폴리아미드산의 합성 반응을 진행시켜도 된다.Specifically, after mixing the tetracarboxylic anhydride component, the diamine component, and the LCP filler at the same time, the tetracarboxylic acid anhydride component and the diamine component may be reacted to advance the synthesis reaction of the polyamic acid.

또한, 테트라카르복실산 무수물 성분에 LCP 필러를 첨가한 혼합물에, 디아민 성분을 첨가하고, 혼합함으로써, 폴리아미드산의 합성 반응을 개시시켜도 된다.Moreover, you may start the synthesis reaction of a polyamic acid by adding and mixing a diamine component to the mixture which added the LCP filler to the tetracarboxylic-acid anhydride component.

또한, 디아민 성분에 LCP 필러를 첨가한 혼합물에, 테트라카르복실산 무수물 성분을 첨가하고, 혼합함으로써, 폴리아미드산의 합성 반응을 개시시켜도 된다.Moreover, you may start the synthesis reaction of a polyamic acid by adding and mixing a tetracarboxylic-acid anhydride component to the mixture which added the LCP filler to the diamine component.

어느 경우도, 원료가 되는 테트라카르복실산 무수물 성분, 디아민 성분, LCP 필러는 1회로 전량을 투입해도 되고, 수회로 나누어 약간씩 첨가해도 된다. 또한, 미리 LCP 필러를 분산시킨 용제를 사용해도 된다.In either case, the tetracarboxylic-acid anhydride component used as a raw material, a diamine component, and LCP filler may inject|throw-in whole quantity at one time, and may divide into several times and may add them little by little. Moreover, you may use the solvent in which the LCP filler was disperse|distributed previously.

[수지 필름][Resin Film]

본 실시 형태의 수지 필름은, 폴리이미드와, 폴리이미드 중에 분산되어 있는 LCP 필러를 함유하는 폴리이미드층(이하, 「LCP 필러 함유 폴리이미드층」이라고 기재하는 경우가 있음)을 포함하고 있다. LCP 필러 함유 폴리이미드층의 매트릭스 수지는 이미드화된 폴리이미드이며, 그 안에 LCP 필러가 분산된 상태로 되어 있다. 수지 필름은 단층이어도 되고, 복수층으로 구성되어 있어도 된다. 즉, 수지 필름의 전체가 LCP 필러 함유 폴리이미드층이어도 되고, LCP 필러 함유 폴리이미드층 이외의 수지층을 포함하고 있어도 된다. 단, LCP 필러 함유 폴리이미드층은 수지 필름의 주된 층인 것이 바람직하다. 여기서 「주된 층」이란, 수지 필름의 전체 두께에 대하여 50%를 초과하는 두께를 갖는 층을 의미한다.The resin film of this embodiment contains a polyimide and the polyimide layer (Hereinafter, it may describe as "LCP filler containing polyimide layer") containing the LCP filler disperse|distributed in the polyimide. The matrix resin of the LCP filler-containing polyimide layer is an imidized polyimide, in which the LCP filler is dispersed. A single layer may be sufficient as a resin film, and it may be comprised from multiple layers. That is, the LCP filler containing polyimide layer may be sufficient as the whole resin film, and resin layers other than an LCP filler containing polyimide layer may be included. However, it is preferable that an LCP filler containing polyimide layer is a main layer of a resin film. Here, a "main layer" means a layer which has a thickness exceeding 50% with respect to the total thickness of a resin film.

수지 필름에 있어서의 LCP 필러 함유 폴리이미드층의 열팽창 계수는, 회로 기판 재료로서의 치수 안정성을 고려하여 30ppm/K 이하인 것이 바람직하고, 1 내지 25ppm/K의 범위 내인 것이 더 바람직하다.It is preferable that it is 30 ppm/K or less in consideration of dimensional stability as a circuit board material, and, as for the thermal expansion coefficient of the polyimide layer containing LCP filler in a resin film, it is more preferable to exist in the range of 1-25 ppm/K.

또한, LCP 필러 함유 폴리이미드층의 10GHz에 있어서의 비유전율은, 고주파 신호 전송에 대한 대응을 도모하기 위해 2.0 내지 3.8의 범위 내인 것이 바람직하고, 2.5 내지 3.5의 범위 내인 것이 더 바람직하다. 또한, LCP 필러 함유 폴리이미드층의 10GHz에 있어서의 유전 정접은, 고주파 신호 전송에 대한 대응을 도모하기 위해 0.004 이하인 것이 바람직하고, 0.003 이하인 것이 더 바람직하다.Further, the relative dielectric constant at 10 GHz of the LCP filler-containing polyimide layer is preferably in the range of 2.0 to 3.8, more preferably in the range of 2.5 to 3.5, in order to cope with high-frequency signal transmission. Further, the dielectric loss tangent at 10 GHz of the LCP filler-containing polyimide layer is preferably 0.004 or less, and more preferably 0.003 or less in order to cope with high-frequency signal transmission.

LCP 필러 함유 폴리이미드층 중의 수지 성분의 합계량에 대한 LCP 필러의 함유량은 사용 목적에 따라 적절하게 설정할 수 있지만, 예를 들어 1 내지 70체적%의 범위 내인 것이 바람직하고, 5 내지 65체적%의 범위 내인 것이 더 바람직하다. LCP 필러의 함유량이 하한값 미만이면, 유전 특성의 개선 효과 및 CTE 저감 효과를 충분히 얻지 못하는 경우가 있으며, 상한값을 초과하면 수지 용액의 증점에 의한 취급성의 저하나 수지 필름이 취약화되거나 하는 경우가 있다. 또한, LCP 필러 함유 폴리이미드층에 있어서의 LCP 필러의 체적 비율은, 3차원 투과형 전자 현미경(TEM)에 의한 이미징상으로부터 산출할 수도 있고, 강알칼리 용해에 의한 분해 분석이나 열분해 분석법에 의해 얻어지는 중량비로부터 환산하여 구할 수도 있다. 또한, X선 회절에 의한 상 체적 비율 계측, 단면 SEM 화상의 면적비로부터 계산에 의해 구할 수도 있다.The content of the LCP filler with respect to the total amount of the resin component in the LCP filler-containing polyimide layer can be appropriately set depending on the intended use, but is preferably in the range of 1 to 70% by volume, for example, in the range of 5 to 65% by volume. Better be mine. If the content of the LCP filler is less than the lower limit, the effect of improving the dielectric properties and the effect of reducing the CTE may not be sufficiently obtained. . In addition, the volume ratio of the LCP filler in an LCP filler containing polyimide layer can also be computed from the imaging image by a three-dimensional transmission electron microscope (TEM), From the weight ratio obtained by the decomposition analysis by strong alkali dissolution or the thermal decomposition analysis method It can be obtained by conversion. In addition, it can also be calculated|required by calculation from the image volume ratio measurement by X-ray diffraction, and the area ratio of a cross-sectional SEM image.

LCP 필러 함유 폴리이미드층 중에서는, 액정 폴리머 분자의 길이 방향이 배향되어 있는 것이 바람직하다. 특히, LCP 필러 함유 폴리이미드층의 길이 방향(MD 방향)과 액정 폴리머 분자의 길이 방향이 거의 동일 방향인 것이 치수 안정성을 높인다는 관점에서 바람직하다. 그를 위해서는, 상술한 바와 같이, LCP 필러의 장축 방향과 액정 폴리머 분자의 길이 방향이 대략 일치하도록 배향시켜 두는 것이 바람직하다.In the LCP filler-containing polyimide layer, it is preferable that the longitudinal direction of the liquid crystal polymer molecules is oriented. In particular, it is preferable from the viewpoint of improving dimensional stability that the longitudinal direction (MD direction) of the LCP filler-containing polyimide layer and the longitudinal direction of the liquid crystal polymer molecules are substantially the same. For this purpose, as described above, it is preferable to orient the LCP filler so that the longitudinal direction of the LCP filler substantially coincides with the longitudinal direction of the liquid crystal polymer molecules.

<두께><thickness>

수지 필름의 두께는 사용 목적에 따라 적절히 설정할 수 있지만, 예를 들어 2 내지 150㎛의 범위 내가 바람직하고, 10 내지 120㎛의 범위 내인 것이 더 바람직하다. 수지 필름의 두께가 2㎛에 충족되지 않으면, 수지 필름의 제조 등에 있어서의 반송 시에 주름이 생기는 등의 문제가 생길 우려가 있고, 한편, 수지 필름의 두께가 150㎛를 초과하면 수지 필름의 생산성 저하의 우려가 있다.Although the thickness of a resin film can be set suitably according to the purpose of use, for example, the inside of the range of 2-150 micrometers is preferable, and it is more preferable that it exists in the range of 10-120 micrometers. When the thickness of the resin film is not satisfied to 2 µm, there is a fear that problems such as wrinkles are generated during conveyance in the production of the resin film or the like, and on the other hand, when the thickness of the resin film exceeds 150 µm, the productivity of the resin film There is a risk of deterioration.

수지 필름은 필름(시트)상이면 되며, 임의의 기재, 예를 들어 동박, 유리판, 폴리이미드계 필름, 폴리아미드계 필름, 폴리에스테르계 필름 등에 적층된 상태여도 된다.The resin film may be in the form of a film (sheet), and may be in a laminated state on an arbitrary base material, for example, a copper foil, a glass plate, a polyimide-based film, a polyamide-based film, or a polyester-based film.

[수지 필름의 제조 방법][Method for producing resin film]

수지 필름은 수지 조성물을 열처리하고, 폴리아미드산을 이미드화하는 것에 의해 LCP 필러 함유 폴리이미드층을 형성함으로써 제조할 수 있다. 수지 조성물을 열처리하여 LCP 필러 함유 폴리이미드층을 얻는 방법은 특별히 한정되는 것은 아니고, 공지된 방법을 채용할 수 있다.A resin film can be manufactured by heat-processing a resin composition and forming an LCP filler containing polyimide layer by imidating a polyamic acid. The method of heat-processing a resin composition to obtain an LCP filler containing polyimide layer is not specifically limited, A well-known method is employable.

먼저, 수지 조성물을 임의의 지지 기재 상에 직접 유연 도포하여 도포막을 형성한다. 이어서, 도포막을 150℃ 이하의 온도인 정도로 용제를 건조 제거한다. 그 후, 도포막에 대하여, 폴리아미드산의 이미드화 위해 예를 들어 100 내지 400℃, 바람직하게는 130 내지 380℃의 온도 범위에서 5 내지 30분간 정도의 열처리를 행한다. 이와 같이 하여 지지 기재 상에 LCP 필러 함유 폴리이미드층을 형성할 수 있다. 이미드화를 위한 열처리 온도가 100℃보다 낮으면 폴리이미드의 탈수 폐환 반응이 충분히 진행되지 않고, 반대로 400℃를 초과하면 폴리이미드층이 열화될 우려가 있다.First, a coating film is formed by directly casting a resin composition on an arbitrary supporting substrate. Next, the solvent is removed by drying to the extent that the coating film is at a temperature of 150°C or lower. Thereafter, the coating film is subjected to heat treatment for about 5 to 30 minutes in a temperature range of, for example, 100 to 400°C, preferably 130 to 380°C, in order to imidize the polyamic acid. In this way, an LCP filler containing polyimide layer can be formed on a support base material. If the heat treatment temperature for imidization is lower than 100° C., the dehydration ring closure reaction of the polyimide does not proceed sufficiently. On the contrary, if it exceeds 400° C., the polyimide layer may deteriorate.

수지 필름을 2층 이상의 폴리이미드층에 의해 형성하는 경우, 제1 폴리아미드산의 수지 조성물을 도포, 건조시킨 후, 제2 폴리아미드산의 수지 조성물을 도포, 건조시킨다. 그 이후는, 마찬가지로 하여 제3 폴리아미드산의 수지 조성물, 다음에 제4 폴리아미드산의 수지 조성물, …이라고 하는 것처럼, 폴리아미드산의 수지 조성물을 필요한 횟수만큼 순차 도포하고, 건조시킨다. 그 후, 통합하여 열처리를 행하여 이미드화를 행하는 것이 바람직하다. 또한, 이 중의 적어도 1층이 LCP 필러 함유 폴리이미드층이면 된다.When forming a resin film with two or more polyimide layers, after apply|coating and drying the resin composition of a 1st polyamic acid, the resin composition of a 2nd polyamic acid is apply|coated and dried. After that, in the same manner, the resin composition of the third polyamic acid, the resin composition of the fourth polyamic acid, ... As mentioned above, the resin composition of polyamic acid is sequentially applied as many times as necessary and dried. After that, it is preferable to perform imidization by performing heat treatment collectively. Moreover, what is necessary is just that at least 1 of these layers is an LCP filler containing polyimide layer.

또한, 이미드화한 임의의 폴리이미드층에 적절한 표면 처리 등을 행함으로써, 한층 더 거듭하여 수지 조성물의 도포, 건조 및 이미드화의 공정을 거쳐, 새롭게 층을 쌓아 올릴 수 있다. 그 경우, 도중 공정의 이미드화는 완결시킬 필요는 없으며, 최종 공정에서 통합하여 이미드화를 완결시킬 수 있다.Moreover, by performing suitable surface treatment etc. to the arbitrary polyimide layer imidated, it can layer up anew through the process of application|coating of a resin composition, drying, and imidation. In that case, it is not necessary to complete the imidization in the intermediate step, and it is possible to complete the imidization by integrating it in the final step.

또한, 이미드화한 임의의 폴리이미드층은, 별도로 형성한 수지 필름과 가열 압착할 수 있다.In addition, the arbitrary polyimide layer imidated can be thermocompression-bonded with the resin film formed separately.

또한, 수지 필름은 지지 기재를 갖는 상태여도 된다.In addition, the state which has a support base material may be sufficient as a resin film.

또한, 수지 필름을 형성하는 다른 예를 든다.In addition, another example of forming a resin film is given.

먼저, 임의의 지지 기재 상에, 수지 조성물을 유연 도포하여 필름상으로 성형한다. 이 필름상 성형물을 지지 기재 상에서 가열 건조시킴으로써 자기 지지성을 갖는 겔 필름으로 한다. 겔 필름을 지지 기재로부터 박리한 후, 예를 들어 100 내지 400℃, 바람직하게는 130 내지 380℃의 온도 범위에서 5 내지 30분간 정도 열처리하고, 폴리아미드산을 이미드화시켜 LCP 필러 함유 폴리이미드층을 포함하는 수지 필름을 얻을 수 있다. 또한, 필요에 따라, 수지 필름을 연신해도 된다.First, on an arbitrary supporting base material, the resin composition is cast-coated and molded into a film shape. This film-form molded product is heat-dried on a supporting substrate to obtain a gel film having self-supporting properties. After peeling the gel film from the supporting substrate, for example, heat treatment in a temperature range of 100 to 400° C., preferably 130 to 380° C. for about 5 to 30 minutes, imidizing polyamic acid, and LCP filler-containing polyimide layer A resin film comprising a can be obtained. Moreover, you may extend|stretch a resin film as needed.

[금속 피복 적층판][Metal Covered Laminate]

본 실시 형태의 금속 피복 적층판은, 절연 수지층과, 이 절연 수지층의 적어도 한쪽 면에 적층된 금속층을 구비한 금속 피복 적층판이며, 절연 수지층의 적어도 1층이 상기 방법에 의해 제조된 수지 필름을 포함한다. 금속 피복 적층판은, 절연 수지층의 편면측에만 금속층을 갖는 편면 금속 피복 적층판이어도 되고, 절연 수지층의 양면에 금속층을 갖는 양면 금속 피복 적층판이어도 된다.The metal-clad laminate of this embodiment is a metal-clad laminate comprising an insulating resin layer and a metal layer laminated on at least one surface of the insulating resin layer, wherein at least one of the insulating resin layers is a resin film produced by the above method. includes The metal-clad laminate may be a single-sided metal-clad laminate having a metal layer on only one side of the insulating resin layer, or a double-sided metal-clad laminate having a metal layer on both surfaces of the insulating resin layer.

<절연 수지층><Insulation resin layer>

절연 수지층은 단층 또는 복수층으로 구성되고, 상기 수지 필름을 포함하는 층을 포함하고 있다. 예를 들어 상기 수지 필름이, 기계 특성이나 열 물성을 담보하기 위한 절연 수지층의 주된 층으로서의 비열가소성 폴리이미드층을 형성하고 있어도 된다. 또한, 상기 수지 필름이, 동박 등의 금속층과의 접착 강도를 담당하는 접착제층으로서의 열가소성 폴리이미드층을 형성하고 있어도 된다. 또한 「주된 층」이란, 절연 수지층의 총 두께 50%를 초과하는 두께를 차지하는 층을 의미한다.The insulating resin layer is composed of a single layer or a plurality of layers, and includes a layer including the resin film. For example, the said resin film may form the non-thermoplastic polyimide layer as a main layer of the insulating resin layer for ensuring a mechanical characteristic and a thermal property. Moreover, the said resin film may form the thermoplastic polyimide layer as an adhesive bond layer which bears adhesive strength with metal layers, such as copper foil. In addition, a "main layer" means the layer which occupies the thickness exceeding 50% of the total thickness of an insulating resin layer.

수지 필름을 절연 수지층으로 하는 금속 피복 적층판을 제조하는 방법으로는, 예를 들어 수지 필름에 직접, 또는 임의의 접착제를 통하여 금속박을 가열 압착하는 방법이나, 금속 증착 등의 방법에 의해 수지 필름에 금속층을 형성하는 방법 등을 들 수 있다. 또한, 양면 금속 피복 적층판은 예를 들어 편면 금속 피복 적층판을 형성한 후, 서로 폴리이미드층을 대향하게 하여 열 프레스에 의해 압착해서 형성하는 방법이나, 편면 금속 피복 적층판의 폴리이미드층에 금속박을 압착해서 형성하는 방법 등에 의해 얻을 수 있다.As a method of manufacturing a metal-clad laminate using a resin film as an insulating resin layer, for example, a method of heat-compressing a metal foil directly to a resin film or through an optional adhesive, or a method such as metal vapor deposition to a resin film. The method of forming a metal layer, etc. are mentioned. In addition, the double-sided metal-clad laminate is formed by, for example, forming a single-sided metal-clad laminate, then making the polyimide layers face each other and pressing and pressing by hot press, or a method in which a metal foil is pressed against the polyimide layer of the single-sided metal-clad laminate. It can be obtained by a method of forming it.

<금속층><Metal layer>

금속층의 재질로서는 특별히 제한은 없지만, 예를 들어 구리, 스테인리스, 철, 니켈, 베릴륨, 알루미늄, 아연, 인듐, 은, 금, 주석, 지르코늄, 탄탈, 티타늄, 납, 마그네슘, 망간 및 이들의 합금 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 특히 구리 또는 구리 합금이 바람직하다. 금속층은 금속박을 포함하는 것이어도 되고, 필름에 금속 증착한 것, 페이스트 등을 인쇄한 것이어도 된다. 또한, 금속박이어도 금속판이어도 사용 가능하고, 동박 또는 동판이 바람직하다.The material of the metal layer is not particularly limited, but for example, copper, stainless steel, iron, nickel, beryllium, aluminum, zinc, indium, silver, gold, tin, zirconium, tantalum, titanium, lead, magnesium, manganese, alloys thereof, etc. can be heard Among these, copper or a copper alloy is especially preferable. A metal layer may contain metal foil, and the thing which metal-deposited on the film, the thing which printed the paste, etc. may be sufficient as it. Moreover, a metal foil or a metal plate can be used, and copper foil or a copper plate is preferable.

금속층의 두께는, 금속 피복 적층판의 사용 목적에 따라 적절하게 설정되기 때문에 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 5㎛ 내지 3㎜의 범위 내가 바람직하고, 12㎛ 내지 1㎜의 범위 내가 더 바람직하다. 금속층의 두께가 5㎛에 충족되지 않으면, 금속 피복 적층판의 제조 등에 있어서의 반송 시에 주름이 생기는 등의 문제가 발생할 우려가 있다. 반대로 금속층의 두께가 3㎜를 초과하면 단단하여 가공성이 나빠진다.Although the thickness of a metal layer is although it does not specifically limit since it is set suitably according to the purpose of use of a metal-clad laminated board, For example, the inside of the range of 5 micrometers - 3 mm is preferable, and the inside of the range of 12 micrometers - 1 mm is more preferable. When the thickness of the metal layer is not satisfied to 5 µm, there is a fear that problems such as wrinkles are generated during conveyance in the production of a metal-clad laminate. Conversely, when the thickness of the metal layer exceeds 3 mm, it is hard and the workability deteriorates.

이상과 같이 하여 얻어지는 수지 필름 및 금속 피복 적층판은 폴리이미드 중에 LCP 필러가 분산되어 있음으로써, 우수한 유전 특성과 치수 안정성이 양립되어 있다. 따라서, 수지 필름 및 금속 피복 적층판은 고주파 신호 전송에 있어서의 손실이 저감되고, 치수 안정성도 유지할 수 있는 점에서, 각종 전자 기기에 있어서의 FPC 등의 회로 기판 재료로서 적합하게 사용할 수 있다.As for the resin film and metal-clad laminate obtained by making it above, the outstanding dielectric characteristic and dimensional stability are compatible with the LCP filler disperse|distributed in polyimide. Therefore, a resin film and a metal-clad laminated board can be used suitably as circuit board materials, such as FPC in various electronic devices, from the point which the loss in high frequency signal transmission is reduced and dimensional stability can also be maintained.

<실시예><Example>

이하에 실시예를 나타내어 본 발명의 특징을 보다 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명의 범위는 실시예로 한정되지 않는다. 또한, 이하의 실시예에 있어서, 특별히 언급하지 않는 한 각종 측정, 평가는 하기에 의한 것이다.The features of the present invention will be described in more detail with reference to Examples below. However, the scope of the present invention is not limited to the examples. In addition, in the following examples, unless otherwise indicated, various measurements and evaluation are based on the following.

[점도의 측정][Measurement of viscosity]

E형 점도계(브룩필드사제, 상품명; DV-II+Pro)를 사용하여, 25℃에서의 점도를 측정하였다. 토크가 10% 내지 90%가 되도록 회전수를 설정하고, 측정을 개시하고 나서 1분 경과한 후, 점도가 안정되었을 때의 값을 판독하였다.The viscosity in 25 degreeC was measured using the E-type viscometer (The Brookfield company make, brand name; DV-II+Pro). The rotation speed was set so that the torque became 10% to 90%, and after 1 minute had elapsed from the start of the measurement, the value when the viscosity was stabilized was read.

[열팽창 계수(CTE)의 측정][Measurement of coefficient of thermal expansion (CTE)]

폴리이미드 필름을 TD 방향 3㎜×MD 방향 20㎜의 사이즈로 잘라내고, 서모 메커니컬 애널라이저(Bruker사제, 상품명; 4000SA)를 사용하여, MD 방향으로 5.0g의 하중을 가하면서 일정한 승온 속도로 30℃에서 260℃까지 승온시키고, 또한 그 온도에서 10분 유지한 후, 5℃/min의 속도로 냉각하여, 250℃에서 100℃까지의 평균 열팽창 계수(열팽창 계수)를 구하였다.The polyimide film was cut into a size of 3 mm in the TD direction × 20 mm in the MD direction, and a thermomechanical analyzer (manufactured by Bruker, trade name; 4000SA) was used to apply a load of 5.0 g in the MD direction to 30° C. at a constant temperature increase rate. The temperature was raised to 260 ° C., and then held at that temperature for 10 minutes, cooled at a rate of 5 ° C./min, and the average coefficient of thermal expansion (coefficient of thermal expansion) from 250 ° C. to 100 ° C. was obtained.

[융점의 측정][Measurement of melting point]

시차 주사 열량 분석 장치(DSC, SII사제, 상품명; DSC-6200)를 사용하여, 불활성 가스 분위기 중, 실온에서 450℃까지 1.5℃/min으로 승온시키고, 융점의 측정을 행하였다.Using a differential scanning calorimetry apparatus (DSC, manufactured by SII, trade name; DSC-6200), the temperature was raised from room temperature to 450°C at 1.5°C/min in an inert gas atmosphere, and the melting point was measured.

[인장 탄성률의 측정][Measurement of tensile modulus]

(수지 필름)(resin film)

텐션 테스터(오리엔테크제, 상품명; 텐실론)를 사용하여, 수지 필름으로부터, 시험편(폭 12.7mm×길이 127㎜)을 제작하였다. 이 시험편을 사용하여, 50㎜/min으로 인장 시험을 행하여, 25℃에서의 인장 탄성률을 구하였다.A test piece (width 12.7 mm x length 127 mm) was produced from the resin film using a tension tester (manufactured by Orientec, trade name; Tensilon). Using this test piece, a tensile test was performed at 50 mm/min, and the tensile modulus in 25 degreeC was calculated|required.

(필러)(filler)

무작위로 10개의 필러 가공 전의 장섬유를 취출하고, 각각을 200㎜의 길이로 가공하여, JISL 1013(2010)의 표준시 시험에 준하여 인장 시험기(시마즈 세이사쿠쇼사제, 상품명; AGS-500NX)를 사용하여, 인장 속도 200㎜/min으로 장섬유 각각에 대하여 인장 탄성률을 구하고, 평균값으로 나타내었다.Randomly take out ten long fibers before filler processing, process each to a length of 200 mm, and use a tensile tester (manufactured by Shimadzu Corporation, trade name; AGS-500NX) in accordance with the standard time test of JISL 1013 (2010). Accordingly, the tensile modulus of elasticity for each of the long fibers was calculated at a tensile rate of 200 mm/min and expressed as an average value.

[평균 장축 직경 및 평균 단축 직경의 측정 방법][Measurement method of average major axis diameter and average minor axis diameter]

무작위로 10개의 필러를 취출하고, 실체 현미경을 사용하여 독립적으로 관찰하고, 취출한 필러 각각에 대하여 장축 직경 및 단축 직경을 측정하여, 평균값으로서 구하였다.Ten fillers were taken out at random, observed independently using a stereoscopic microscope, and the major axis diameter and minor axis diameter of each of the taken out fillers were measured and obtained as an average value.

[진비중의 측정][Measurement of true specific gravity]

연속 자동 분체 진밀도 측정 장치(세이신 기교사제, 상품명; AUTO TRUE DENSERMAT-7000)를 사용하여, 피크노미터법(액상 치환법)에 의한 진비중의 측정을 행하였다.The true specific gravity was measured by the pycnometer method (liquid phase displacement method) using the continuous automatic powder true density measuring apparatus (The Seishin Industrial Co., Ltd. make, brand name; AUTO TRUE DENSERMAT-7000).

[응집 평가][Aggregation evaluation]

바니시를 지지체에 도포할 때, 500mL의 바니시를 500㎛의 갭 코터에 통과시켰을 때의 비통과 고형물 존재의 유무를 확인하였다.When the varnish was applied to the support, the presence or absence of non-passing solids was checked when 500 mL of the varnish was passed through a 500 µm gap coater.

[비유전율 및 유전 정접의 측정][Measurement of dielectric constant and dielectric loss tangent]

(수지 필름)(resin film)

벡터 네트워크 애널라이저(Agilent사제, 상품명; 벡터 네트워크 애널라이저E8363C) 및 SPDR 공진기를 사용하여, 주파수 10GHz에 있어서의 수지 필름(경화 후의 수지 필름)의 비유전율(ε1) 및 유전 정접(Tanδ1)을 측정하였다. 또한, 측정에 이용한 수지 필름은, 온도; 24 내지 26℃, 습도; 45 내지 55%의 조건 하에서, 24시간 방치한 것이다.Using a vector network analyzer (manufactured by Agilent, trade name; Vector Network Analyzer E8363C) and an SPDR resonator, the dielectric constant (ε1) and dielectric loss tangent (Tanδ1) of the resin film (cured resin film) at a frequency of 10 GHz were measured. In addition, the resin film used for a measurement is temperature; 24-26°C, humidity; It is allowed to stand for 24 hours under the conditions of 45 to 55%.

(액정 폴리머)(liquid crystal polymer)

벡터 네트워크 애널라이저(Agilent사제, 상품명; 벡터 네트워크 애널라이저E8363C) 및 SPDR 공진기를 사용하여, 액정 폴리머를 판상으로 용융 성형한 샘플의 주파수 1GHz에 있어서의 비유전율(ε1) 및 유전 정접(Tanδ1)을 측정하였다. 또한, 측정에 이용한 샘플은 온도; 24 내지 26℃, 습도; 45 내지 55%의 조건 하에서, 24시간 방치한 것이다.A vector network analyzer (manufactured by Agilent, trade name; Vector Network Analyzer E8363C) and an SPDR resonator were used to measure the dielectric constant (ε1) and dielectric loss tangent (Tanδ1) of a sample obtained by melt-molding a liquid crystal polymer into a plate shape at a frequency of 1 GHz. . In addition, the sample used for measurement is temperature; 24-26°C, humidity; It is allowed to stand for 24 hours under the conditions of 45 to 55%.

[단면 관찰][Cross-section observation]

1) 측정용 샘플의 제작1) Preparation of sample for measurement

동장 적층판(TD; 10㎜×MD; 10㎜)의 샘플의 관찰면(두께 방향의 단면)이 MD 방향이 되도록, 에폭시계 수지로 샘플을 포매 후, 회전판형 연마기를 사용하여, 복수의 에머리지(#1200까지) 및 버프 연마(다이아몬드 입자 페이스트의 1㎛까지) 그리고 약액에 의한 화학 연마를 행하여, 측정용 샘플을 제작하였다.After embedding the sample with an epoxy resin so that the observation surface (the cross section in the thickness direction) of the sample of the copper clad laminate (TD; 10 mm × MD; 10 mm) is in the MD direction, using a rotary plate type polishing machine, a plurality of emery paper (up to #1200), buffing (up to 1 µm of diamond particle paste), and chemical polishing with a chemical to prepare a measurement sample.

2) 측정용 샘플의 관찰2) Observation of the sample for measurement

측정용 샘플의 관찰면을 주사 전자 현미경(SEM)을 사용하여, 200 내지 3000배의 배율로 관찰하였다.The observation surface of the sample for measurement was observed at a magnification of 200 to 3000 times using a scanning electron microscope (SEM).

실시예 및 비교예에 사용한 약호는 이하의 화합물을 나타낸다.The symbol used for the Example and the comparative example shows the following compounds.

PMDA: 피로멜리트산 이무수물PMDA: pyromellitic dianhydride

BPDA: 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물BPDA: 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride

m-TB: 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐m-TB: 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl

DMAc: N,N-디메틸아세트아미드DMAc: N,N-dimethylacetamide

필러 1: 폴리에스테르 구조를 갖는 액정 폴리머, 단섬유상, 평균 단축 직경; 28㎛, 평균 장축 직경; 1000㎛, 융점(Tm); 350℃, 진비중; 1.4, 인장 탄성률; 85GPa, 비유전율; 3.1, 유전 정접; 0.0010Filler 1: liquid crystal polymer having a polyester structure, short fibers, average minor axis diameter; 28 μm, average major axis diameter; 1000 μm, melting point (Tm); 350°C, true specific gravity; 1.4, tensile modulus; 85 GPa, relative permittivity; 3.1, dielectric loss tangent; 0.0010

필러 2: 폴리에스테르 구조를 갖는 액정 폴리머, 단섬유상, 평균 단축 직경; 28㎛, 평균 장축 직경; 500㎛, 융점(Tm); 350℃, 진비중; 1.4, 인장 탄성률; 85GPa, 비유전율; 3.1, 유전 정접; 0.0010Filler 2: liquid crystal polymer having a polyester structure, short fibers, average minor axis diameter; 28 μm, average major axis diameter; 500 μm, melting point (Tm); 350°C, true specific gravity; 1.4, tensile modulus; 85 GPa, relative permittivity; 3.1, dielectric loss tangent; 0.0010

필러 3: 폴리에스테르 구조를 갖는 액정 폴리머, 단섬유상, 평균 단축 직경; 28㎛, 평균 장축 직경; 1000㎛, 융점(Tm); 330℃, 진비중; 1.4, 인장 탄성률; 160GPa, 비유전율; 3.4, 유전 정접; 0.0020Filler 3: liquid crystal polymer having a polyester structure, short fibers, average minor axis diameter; 28 μm, average major axis diameter; 1000 μm, melting point (Tm); 330°C, true specific gravity; 1.4, tensile modulus; 160 GPa, relative permittivity; 3.4, dielectric loss tangent; 0.0020

필러 4: 폴리에스테르 구조를 갖는 액정 폴리머, 단섬유상, 평균 단축 직경; 14㎛, 평균 장축 직경; 1000㎛, 융점(Tm); 330℃, 진비중; 1.4, 인장 탄성률; 140GPa, 비유전율; 3.4, 유전 정접; 0.0020Filler 4: liquid crystal polymer having a polyester structure, short fibers, average minor axis diameter; 14 μm, average major axis diameter; 1000 μm, melting point (Tm); 330°C, true specific gravity; 1.4, tensile modulus; 140 GPa, relative permittivity; 3.4, dielectric loss tangent; 0.0020

필러 5: 폴리에스테르 구조를 갖는 액정 폴리머 입자, 부정형상, 평균 단축 직경; 8㎛, 평균 장축 직경; 14㎛, 융점(Tm); 320℃, 진비중; 1.4, 비유전율; 3.4, 유전 정접; 0.0010Filler 5: liquid crystal polymer particles having a polyester structure, irregular shape, average minor axis diameter; 8 μm, average major axis diameter; 14 μm, melting point (Tm); 320°C, true specific gravity; 1.4, relative permittivity; 3.4, dielectric loss tangent; 0.0010

[실시예 1][Example 1]

300ml의 세퍼러블 플라스크에, 17g의 m-TB(82㎜ol), 230g의 DMAc를 투입하고, 실온, 질소 기류 하에서 교반하였다. 완전히 용해한 후, 4.5g의 PMDA(20㎜ol) 및 18g의 BPDA(62㎜ol), 4.2g의 필러 1을 첨가하고, 실온에서 18시간 교반하여 수지 용액 1(점도; 30,000cps, 불휘발성 성분에 대한 필러 1의 함유율; 10체적%)을 조제하였다.In a 300 ml separable flask, 17 g of m-TB (82 mmol) and 230 g of DMAc were charged, and the mixture was stirred at room temperature under a nitrogen stream. After complete dissolution, 4.5 g of PMDA (20 mmol), 18 g of BPDA (62 mmol), and 4.2 g of Filler 1 were added, followed by stirring at room temperature for 18 hours, and resin solution 1 (viscosity; 30,000 cps, nonvolatile component) The content rate of filler 1 with respect to; 10 volume%) was prepared.

동박(전해 동박, 두께; 12㎛) 상에 수지 용액 1을 약 350㎛의 두께로 도포하고, 130℃에서 5분간 건조시켜 수지층을 형성하였다. 그 후 150℃에서 380℃까지 20분간에 걸쳐 단계적으로 열처리를 행하여 이미드화를 완결하고, 동장 적층판 1을 조제하였다.Resin solution 1 was applied to a thickness of about 350 μm on a copper foil (electrolytic copper foil, thickness: 12 μm), and dried at 130° C. for 5 minutes to form a resin layer. Thereafter, heat treatment was performed stepwise from 150°C to 380°C over 20 minutes to complete imidization, and a copper clad laminate 1 was prepared.

동장 적층판 1의 동박을 에칭 제거하고, 수지 필름 1(두께; 48㎛)을 조제하였다. 수지 필름 1의 CTE는 13ppm/K, 비유전율은 3.1, 유전 정접은 0.0039였다.The copper foil of the copper clad laminated board 1 was removed by etching, and the resin film 1 (thickness; 48 micrometers) was prepared. The resin film 1 had a CTE of 13 ppm/K, a dielectric constant of 3.1, and a dielectric loss tangent of 0.0039.

[실시예 2][Example 2]

실시예 1에서의 필러 1의 첨가량을 17g으로 대신하고, 필러 1을 첨가한 후에, 추가로 94g의 DMAc를 추가하여 첨가한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 수지 용액 2(점도; 34,000cps, 불휘발성 성분에 대한 필러 1의 함유율; 30체적%)를 조제하였다.Resin solution 2 (viscosity; 34,000 cps) was carried out in the same manner as in Example 1 except that the amount of filler 1 added in Example 1 was replaced with 17 g, and after filler 1 was added, 94 g of DMAc was further added and added. , the content rate of the filler 1 with respect to the nonvolatile component; 30 vol%) was prepared.

동박(전해 동박, 두께; 12㎛) 상에 수지 용액 2를 약 350㎛의 두께로 도포하고, 130℃에서 5분간 건조시켜 수지층을 형성하였다. 그 후 150℃에서 380℃까지 20분간에 걸쳐 단계적으로 열처리를 행하여 이미드화를 완결하고, 동장 적층판 2를 조제하였다.Resin solution 2 was applied to a thickness of about 350 μm on a copper foil (electrolytic copper foil, thickness; 12 μm), and dried at 130° C. for 5 minutes to form a resin layer. After that, heat treatment was performed stepwise from 150°C to 380°C over 20 minutes to complete imidization, and a copper clad laminate 2 was prepared.

동장 적층판 2의 동박을 에칭 제거하고, 수지 필름 2(두께; 37㎛)를 조제하였다. 수지 필름 2의 CTE는 3ppm/K, 비유전율은 2.3, 유전 정접은 0.0035였다.The copper foil of the copper clad laminated board 2 was removed by etching, and the resin film 2 (thickness; 37 micrometers) was prepared. The resin film 2 had a CTE of 3 ppm/K, a relative permittivity of 2.3, and a dielectric loss tangent of 0.0035.

[실시예 3][Example 3]

실시예 1에서의 4.2g의 필러 1을 대신하여 4.3g의 필러 2를 첨가한 것, 및 필러 2를 첨가한 후에, 추가로 25g의 DMAc를 추가하여 첨가한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 수지 용액 3(점도; 28,000cps, 불휘발성 성분에 대한 필러 2의 함유율; 10체적%)을 조제하였다.In the same manner as in Example 1, except that 4.3 g of Filler 2 was added instead of 4.2 g of Filler 1 in Example 1, and 25 g of DMAc was further added after adding Filler 2 Thus, resin solution 3 (viscosity; 28,000 cps, content rate of filler 2 with respect to nonvolatile components; 10 vol%) was prepared.

동박(전해 동박, 두께; 12㎛) 상에 수지 용액 3을 약 350㎛의 두께로 도포하고, 130℃에서 5분간 건조시켜 수지층을 형성하였다. 그 후 150℃에서 380℃까지 20분간에 걸쳐 단계적으로 열처리를 행하여 이미드화를 완결하고, 동장 적층판 3을 조제하였다.The resin solution 3 was applied to a thickness of about 350 μm on a copper foil (electrolytic copper foil, thickness; 12 μm), and dried at 130° C. for 5 minutes to form a resin layer. Thereafter, heat treatment was performed stepwise from 150°C to 380°C over 20 minutes to complete imidization, and a copper-clad laminate 3 was prepared.

동장 적층판 3의 동박을 에칭 제거하고, 수지 필름 3(두께; 55㎛)을 조제하였다. 수지 필름 3의 CTE는 15ppm/K, 비유전율은 2.8, 유전 정접은 0.0037이었다.The copper foil of the copper clad laminate 3 was removed by etching, and the resin film 3 (thickness; 55 micrometers) was prepared. The resin film 3 had a CTE of 15 ppm/K, a dielectric constant of 2.8, and a dielectric loss tangent of 0.0037.

[실시예 4][Example 4]

실시예 2의 필러 1 대신에 필러 2를 사용한 것 이외는 실시예 2와 마찬가지로 하여 수지 용액 4(점도; 30,000cps, 불휘발성 성분에 대한 필러 2의 함유율; 30체적%)를 조제하였다.A resin solution 4 (viscosity; 30,000 cps, content of filler 2 with respect to nonvolatile components; 30% by volume) was prepared in the same manner as in Example 2 except that filler 2 was used instead of filler 1 of Example 2.

동박(전해 동박, 두께; 12㎛) 상에 수지 용액 4를 약 350㎛의 두께로 도포하고, 130℃에서 5분간 건조시켜 수지층을 형성하였다. 그 후 150℃에서 380℃까지 20분간에 걸쳐 단계적으로 열처리를 행하여 이미드화를 완결하고, 동장 적층판 4를 조제하였다.Resin solution 4 was applied to a thickness of about 350 μm on a copper foil (electrolytic copper foil, thickness; 12 μm), and dried at 130° C. for 5 minutes to form a resin layer. Thereafter, heat treatment was performed stepwise from 150° C. to 380° C. over 20 minutes to complete imidization, and a copper clad laminate 4 was prepared.

동장 적층판 4의 동박을 에칭 제거하고, 수지 필름 4(두께; 67㎛)를 조제하였다. 수지 필름 4의 CTE는 8ppm/K, 비유전율은 2.5, 유전 정접은 0.0034였다.The copper foil of the copper clad laminated board 4 was removed by etching, and the resin film 4 (thickness; 67 micrometers) was prepared. The resin film 4 had a CTE of 8 ppm/K, a relative permittivity of 2.5, and a dielectric loss tangent of 0.0034.

[실시예 5][Example 5]

실시예 1에서의 4.2g의 필러 1을 대신하여 34g의 필러 2를 첨가한 것, 및 필러 2의 첨가 후에, 추가로 180g의 DMAc를 첨가한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 수지 용액 5(점도; 45,000cps, 불휘발성 성분에 대한 필러 2의 함유율; 60체적%)를 조제하였다.Resin solution 5 in the same manner as in Example 1 except that 34 g of Filler 2 was added instead of 4.2 g of Filler 1 in Example 1, and that after addition of Filler 2, 180 g of DMAc was further added. (Viscosity; 45,000 cps, content rate of filler 2 with respect to a nonvolatile component; 60 volume%) was prepared.

동박(전해 동박, 두께; 12㎛) 상에 수지 용액 5를 약 350㎛의 두께로 도포하고, 130℃에서 5분간 건조시켜 수지층을 형성하였다. 그 후 150℃에서 380℃까지 20분간에 걸쳐 단계적으로 열처리를 행하여 이미드화를 완결하고, 동장 적층판 5를 조제하였다.Resin solution 5 was applied to a thickness of about 350 μm on a copper foil (electrolytic copper foil, thickness; 12 μm), and dried at 130° C. for 5 minutes to form a resin layer. After that, heat treatment was performed stepwise from 150°C to 380°C over 20 minutes to complete imidization, and a copper clad laminate 5 was prepared.

동장 적층판 5의 동박을 에칭 제거하고, 수지 필름 5(두께; 67㎛)를 조제하였다. 수지 필름 5의 CTE는 2ppm/K, 비유전율은 3.0, 유전 정접은 0.0029였다.The copper foil of the copper clad laminated board 5 was removed by etching, and the resin film 5 (thickness; 67 micrometers) was prepared. The resin film 5 had a CTE of 2 ppm/K, a dielectric constant of 3.0, and a dielectric loss tangent of 0.0029.

[실시예 6][Example 6]

실시예 1의 필러 1 대신에 필러 3을 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 수지 용액 6(점도; 30,000cps, 불휘발성 성분에 대한 필러 3의 함유율; 10체적%)을 조제하였다.A resin solution 6 (viscosity; 30,000 cps, content of filler 3 with respect to nonvolatile components; 10% by volume) was prepared in the same manner as in Example 1 except that filler 3 was used instead of filler 1 of Example 1.

동박(전해 동박, 두께; 12㎛) 상에 수지 용액 6을 약 350㎛의 두께로 도포하고, 130℃에서 5분간 건조시켜 수지층을 형성하였다. 그 후 150℃에서 380℃까지 20분간에 걸쳐 단계적으로 열처리를 행하여 이미드화를 완결하고, 동장 적층판 6을 조제하였다.Resin solution 6 was applied to a thickness of about 350 μm on a copper foil (electrolytic copper foil, thickness; 12 μm), and dried at 130° C. for 5 minutes to form a resin layer. Thereafter, heat treatment was performed stepwise from 150°C to 380°C over 20 minutes to complete imidization, and a copper-clad laminate 6 was prepared.

동장 적층판 6의 동박을 에칭 제거하고, 수지 필름 6(두께; 50㎛)을 조제하였다. 수지 필름 6의 CTE는 18ppm/K, 비유전율은 3.1, 유전 정접은 0.0039였다.The copper foil of the copper clad laminate 6 was removed by etching, and the resin film 6 (thickness; 50 micrometers) was prepared. The resin film 6 had a CTE of 18 ppm/K, a dielectric constant of 3.1 and a dielectric loss tangent of 0.0039.

[실시예 7][Example 7]

실시예 1의 필러 1 대신에 필러 4를 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 수지 용액 7(점도; 28,000cps, 불휘발성 성분에 대한 필러 4의 함유율; 10체적%)을 조제하였다.A resin solution 7 (viscosity; 28,000 cps, content of filler 4 with respect to nonvolatile components; 10% by volume) was prepared in the same manner as in Example 1 except that Filler 4 was used instead of Filler 1 of Example 1.

동박(전해 동박, 두께; 12㎛) 상에 수지 용액 7을 약 350㎛의 두께로 도포하고, 130℃에서 5분간 건조시켜 수지층을 형성하였다. 그 후 150℃에서 380℃까지 20분간에 걸쳐 단계적으로 열처리를 행하여 이미드화를 완결하고, 동장 적층판 7을 조제하였다. 얻어진 동장 적층판 7의 단면 구조를 도 1에 도시하였다. 폴리이미드 중에 배향되어 있는 필러 4의 단축 방향의 단면이 확인되었다.Resin solution 7 was applied to a thickness of about 350 μm on a copper foil (electrolytic copper foil, thickness; 12 μm), and dried at 130° C. for 5 minutes to form a resin layer. Thereafter, heat treatment was performed stepwise from 150°C to 380°C over 20 minutes to complete imidization, and a copper-clad laminate 7 was prepared. The cross-sectional structure of the obtained copper clad laminate 7 is shown in FIG. The cross section in the minor axis direction of the filler 4 orientated in the polyimide was confirmed.

동장 적층판 7의 동박을 에칭 제거하고, 수지 필름 7(두께; 45㎛)을 조제하였다. 수지 필름 7의 CTE는 16ppm/K, 비유전율은 3.0, 유전 정접은 0.0040이었다.The copper foil of the copper clad laminated board 7 was removed by etching, and the resin film 7 (thickness; 45 micrometers) was prepared. The resin film 7 had a CTE of 16 ppm/K, a dielectric constant of 3.0, and a dielectric loss tangent of 0.0040.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

동박(전해 동박, 두께; 12㎛) 상에 폴리아미드산 용액 1을 약 500㎛의 두께로 도포하고, 130℃에서 5분간 건조시켜 수지층을 형성하였다. 그 후 150℃에서 380℃까지 20분간에 걸쳐 단계적으로 열처리를 행하여 이미드화를 완결하고, 동장 적층판 8을 조제하였다.Polyamic acid solution 1 was applied to a thickness of about 500 μm on a copper foil (electrolytic copper foil, thickness: 12 μm), and dried at 130° C. for 5 minutes to form a resin layer. After that, heat treatment was performed stepwise from 150°C to 380°C over 20 minutes to complete imidization, and a copper-clad laminate 8 was prepared.

동장 적층판 8의 동박을 에칭 제거하고, 수지 필름 8(두께; 41㎛)을 조제하였다. 수지 필름 8의 CTE는 19ppm/K, 비유전율은 3.4, 유전 정접은 0.0041, 진비중은 1.4, 인장 탄성률은 8GPa이었다.The copper foil of the copper clad laminated board 8 was removed by etching, and the resin film 8 (thickness; 41 micrometers) was prepared. The resin film 8 had a CTE of 19 ppm/K, a relative permittivity of 3.4, a dielectric loss tangent of 0.0041, a true specific gravity of 1.4, and a tensile modulus of 8 GPa.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

140g의 폴리아미드산 용액 1 및 8.3g의 필러 3을 혼합하고, 교반하여, 수지 용액 9(불휘발성 성분에 대한 필러 3의 함유율; 30체적%)를 조제하였다.140 g of polyamic acid solution 1 and 8.3 g of filler 3 were mixed and stirred to prepare resin solution 9 (content rate of filler 3 with respect to nonvolatile components; 30 vol%).

동박(전해 동박, 두께; 12㎛) 상에 수지 용액 9를 약 350㎛의 두께로 도포한 바 필러의 응집된 고형물이 코터 갭 사이에 막혔다. 500㎛의 갭으로 확장시켜도 마찬가지로 고형물의 막힘이 발생하였다.Resin solution 9 was applied to a thickness of about 350 μm on a copper foil (electrolytic copper foil, thickness; 12 μm), and the aggregated solids of the filler were clogged between the coater gaps. Clogging of solids also occurred even when the gap was expanded to 500 μm.

(참고예 1)(Reference Example 1)

실시예 1의 필러 1 대신에 7g의 필러 5를 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 수지 용액 10(점도; 28000cps, 불휘발성 성분에 대한 필러 5의 함유율; 30체적%)을 조제하였다.A resin solution 10 (viscosity; 28000 cps, content of filler 5 relative to nonvolatile components; 30% by volume) was prepared in the same manner as in Example 1 except that 7 g of Filler 5 was used instead of Filler 1 of Example 1.

동박(전해 동박, 두께; 12㎛) 상에 수지 용액 10을 약 350㎛의 두께로 도포하고, 130℃에서 5분간 건조시켜 수지층을 형성하였다. 그 후 150℃에서 380℃까지 20분간에 걸쳐 단계적으로 열처리를 행하여 이미드화를 완결하고, 동장 적층판 10을 조제하였다.The resin solution 10 was applied to a thickness of about 350 μm on a copper foil (electrolytic copper foil, thickness: 12 μm), and dried at 130° C. for 5 minutes to form a resin layer. Thereafter, heat treatment was performed stepwise from 150°C to 380°C over 20 minutes to complete imidization, and a copper clad laminate 10 was prepared.

동장 적층판 10의 동박을 에칭 제거하고, 수지 필름 10(두께; 45㎛)을 조제하였다. 수지 필름 10의 CTE는 33ppm/K, 비유전율은 3.3, 유전 정접은 0.0030이었다.The copper foil of the copper clad laminate 10 was removed by etching, and the resin film 10 (thickness; 45 micrometers) was prepared. The resin film 10 had a CTE of 33 ppm/K, a dielectric constant of 3.3, and a dielectric loss tangent of 0.0030.

이상의 결과를 정리하여 표 1에 나타낸다.The above results are summarized and shown in Table 1.

Figure pat00005
Figure pat00005

실시예 1 내지 7, 비교예 1의 결과로부터, 필러 1 내지 4를 첨가함으로써, CTE의 상승을 억제하면서 유전율 및 유전 정접을 저감시킬 수 있는 것이 확인되었다. 비교예 2(배합법)에서는, 수지액 중에서 필러끼리가 서로 얽혀 응집이 발생하고, 도공이 불가능해졌다. 또한, 참고예 1에서 유전 정접은 저하되었지만, CTE가 현저하게 상승하였다.From the results of Examples 1 to 7 and Comparative Example 1, it was confirmed that by adding the fillers 1 to 4, the dielectric constant and dielectric loss tangent could be reduced while suppressing an increase in CTE. In Comparative Example 2 (blending method), fillers were entangled with each other in the resin solution, aggregation occurred, and coating became impossible. Further, in Reference Example 1, although the dielectric loss tangent was lowered, the CTE increased remarkably.

이상, 본 발명의 실시 형태를 예시의 목적으로 상세하게 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시 형태에 제약되는 경우가 없고, 다양한 변형이 가능하다.As mentioned above, although embodiment of this invention was described in detail for the purpose of illustration, this invention is not restrict|limited to the said embodiment, and various deformation|transformation is possible.

Claims (18)

하기의 성분 (A) 및 (B),
(A) 테트라카르복실산 무수물 성분과, 디아민 성분을 반응시켜 이루어지는 폴리아미드산,

(B) 액정 폴리머를 포함하는 형상 이방성을 갖는 필러
를 함유하는 수지 조성물.
The following components (A) and (B),
(A) the polyamic acid formed by making a tetracarboxylic-acid anhydride component and a diamine component react;
and
(B) Filler with shape anisotropy containing liquid crystal polymer
A resin composition containing
제1항에 있어서, 상기 (B) 성분의 필러의 평균 장축 직경(L)과 평균 단축 직경(D)의 비(L/D)가 3 내지 200의 범위 내인 수지 조성물.The resin composition according to claim 1, wherein the ratio (L/D) of the average major axis diameter (L) to the average minor axis diameter (D) of the filler of the component (B) is in the range of 3 to 200. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 (B) 성분의 필러의 평균 장축 직경(L)이 50 내지 3000㎛의 범위 내이며, 평균 단축 직경(D)이 1 내지 50㎛의 범위 내인 수지 조성물.The resin composition according to claim 1 or 2, wherein an average major axis diameter (L) of the filler of component (B) is in a range of 50 to 3000 µm, and an average minor axis diameter (D) is in a range of 1 to 50 µm. . 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (B) 성분의 필러의 함유량이 상기 (A) 성분 및 상기 (B) 성분의 합계량에 대하여 1 내지 70체적%의 범위 내인 수지 조성물.The resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the content of the filler of the component (B) is in the range of 1 to 70% by volume based on the total amount of the component (A) and the component (B). 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 액정 폴리머의 융점이 280℃ 이상인 수지 조성물.The resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the liquid crystal polymer has a melting point of 280°C or higher. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 액정 폴리머가 폴리에스테르 구조를 갖는 수지 조성물.The resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the liquid crystal polymer has a polyester structure. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (B) 성분의 필러의 장축 방향에 있어서의 인장 탄성률이 20GPa 이상인 수지 조성물.The resin composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the filler of the component (B) has a tensile modulus of elasticity of 20 GPa or more in the major axis direction. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (A) 성분의 폴리아미드산을 경화시켜 얻어지는 폴리이미드의 인장 탄성률에 대한 상기 (B) 성분의 필러의 장축 방향에 있어서의 인장 탄성률의 비가 1 이상인 수지 조성물.The ratio of the tensile modulus of elasticity in the major axis direction of the filler of the component (B) to the tensile modulus of elasticity of a polyimide obtained by curing the polyamic acid of the component (A) according to any one of claims 1 to 7 A resin composition having a ratio of 1 or more. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (A) 성분의 폴리아미드산을 경화시켜 얻어지는 폴리이미드의 진비중에 대한 상기 (B) 성분의 필러의 진비중의 비가 0.5 내지 2.0의 범위 내인 수지 조성물.The ratio of the true specific gravity of the filler of the said (B) component to the true specific gravity of the polyimide obtained by hardening the polyamic acid of the said (A) component in any one of Claims 1-8 of 0.5-2.0 resin composition within the range. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (B) 성분의 액정 폴리머의 1GHz에 있어서의 비유전율이 2.0 내지 3.5의 범위 내이며, 유전 정접이 0.003 미만인 수지 조성물.The resin composition according to any one of claims 1 to 9, wherein the liquid crystal polymer of the component (B) has a dielectric constant in the range of 2.0 to 3.5 at 1 GHz and a dielectric loss tangent of less than 0.003. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물의 제조 방법이며,
상기 테트라카르복실산 무수물 성분과 상기 디아민 성분을 반응시켜 상기 폴리아미드산을 합성하는 반응이 완결되기 보다 전에, 상기 (B) 성분의 액정 폴리머를 포함하는 형상 이방성을 갖는 필러를 첨가하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물의 제조 방법.
It is a manufacturing method of the resin composition in any one of Claims 1-10,
Before the reaction of synthesizing the polyamic acid by reacting the tetracarboxylic anhydride component with the diamine component is completed, a filler having shape anisotropy containing the liquid crystal polymer of the component (B) is added. A method for producing a resin composition.
제11항에 있어서, 상기 테트라카르복실산 무수물 성분과 상기 디아민 성분의 반응액의 점도가 1500cps에 달하기 전에 상기 (B) 성분의 액정 폴리머를 포함하는 형상 이방성을 갖는 필러를 첨가하고, 혼합하는 수지 조성물의 제조 방법.12. The method of claim 11, wherein before the viscosity of the reaction solution of the tetracarboxylic anhydride component and the diamine component reaches 1500 cps, a filler having shape anisotropy containing the liquid crystal polymer of the component (B) is added and mixed. A method for producing a resin composition. 폴리이미드층을 포함하는 수지 필름이며,
상기 폴리이미드층이, 폴리이미드와, 상기 폴리이미드 중에 분산되어 있는 액정 폴리머를 포함하는 형상 이방성을 갖는 필러를 함유하는 것을 특징으로 하는 수지 필름.
A resin film comprising a polyimide layer,
The said polyimide layer contains a polyimide and the filler which has shape anisotropy containing the liquid crystal polymer disperse|distributed in the said polyimide, The resin film characterized by the above-mentioned.
제13항에 있어서, 상기 폴리이미드층의 열팽창 계수가 30ppm/K 이하인 수지 필름.The resin film according to claim 13, wherein the polyimide layer has a coefficient of thermal expansion of 30 ppm/K or less. 제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 폴리이미드층의 10GHz에 있어서의 비유전율이 2.0 내지 3.8의 범위 내이며, 유전 정접이 0.004 이하인 수지 필름.The resin film of Claim 13 or 14 whose dielectric constant in 10 GHz of the said polyimide layer exists in the range of 2.0-3.8, and a dielectric loss tangent is 0.004 or less. 제13항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리이미드층 중의 수지 성분의 합계량에 대한 액정 폴리머를 포함하는 형상 이방성을 갖는 필러의 함유량이 1 내지 70체적%의 범위 내인 수지 필름.The resin film according to any one of claims 13 to 15, wherein the content of the filler having shape anisotropy containing the liquid crystal polymer relative to the total amount of the resin component in the polyimide layer is in the range of 1 to 70 vol%. 제13항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리이미드층 중에서, 상기 액정 폴리머의 길이 방향이 배향되어 있는 수지 필름.The resin film according to any one of claims 13 to 16, wherein the longitudinal direction of the liquid crystal polymer is oriented in the polyimide layer. 절연 수지층과, 상기 절연 수지층의 적어도 한쪽 면에 적층된 금속층을 구비한 금속 피복 적층판이며,
상기 절연 수지층의 적어도 1층이 제13항 내지 제17항 중 어느 한 항에 기재된 수지 필름인 것을 특징으로 하는 금속 피복 적층판.
A metal clad laminate comprising an insulating resin layer and a metal layer laminated on at least one surface of the insulating resin layer,
At least one layer of the said insulating resin layer is the resin film in any one of Claims 13-17, The metal-clad laminated board characterized by the above-mentioned.
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