JP2023030680A - Copper-clad laminate and electronic circuit board - Google Patents

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雅貴 野口
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Abstract

To provide a copper-clad laminate which reduces surface roughness of a polyimide film and suppresses warpage in a manufacturing process.SOLUTION: A copper-clad laminate has a polyimide film and a copper film, wherein the polyimide film contains a polyimide resin and liquid crystal polymer particles, and in the liquid crystal polymer particles, a major axis, a minor axis and a thickness defined below satisfy the following conditions (A) and (B): (A) an average value of a major axis/minor axis ratio that is a ratio of the major axis to the minor axis of 1.2 or more; and (B) an average value of a degree of flatness that is a ratio of the minor axis to the thickness of 1.2 or more.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、銅張積層板に関する。また、本発明は、当該銅張積層板を用いた電子回路基板の製造方法に関する。 The present invention relates to copper-clad laminates. The present invention also relates to a method for manufacturing an electronic circuit board using the copper-clad laminate.

電子回路基板は、携帯電話やスマートフォン等のモバイル型通信機器やその基地局装置、サーバー・ルーター等のネットワーク関連電子機器、大型コンピュータ等の製品で汎用されている。それらの製品においては、大容量の情報を高速で伝送・処理するため、高周波の電気信号が使用されているが、高周波信号は非常に減衰しやすいため、電子回路基板にも伝送損失をなるべく抑える工夫が求められる。 Electronic circuit boards are widely used in products such as mobile communication devices such as mobile phones and smart phones, their base station devices, network-related electronic devices such as servers and routers, and large computers. These products use high-frequency electrical signals in order to transmit and process large amounts of information at high speed, but since high-frequency signals are very susceptible to attenuation, the electronic circuit board should also be designed to minimize transmission loss. Ingenuity is required.

近年、電子回路基板には、銅層と、樹脂層とを備えるフレキシブルな銅張積層板が用いられている。フレキシブルな銅張積層板を製造する過程では熱硬化等による熱が銅張積層板に付加されるが、銅張積層板は銅層と樹脂層の積層体であり、銅層も樹脂層も熱による膨張・収縮が起こり、これらの膨張・収縮による寸法変動が問題となっている。このような問題に対して、加工後の寸法安定性の向上を目的として、特定のポリイミドフィルムの少なくとも一方の表面に接着剤を介することなく下地金属層と特定の厚みの銅層が積層された2層銅張積層板において、長手(MD)方向に特定の寸法変化を有する2層銅張積層板が提案されている(特許文献1参照)。しかし、依然として、製造工程における反りが抑制された銅張積層板が求められている。 In recent years, flexible copper-clad laminates including a copper layer and a resin layer have been used for electronic circuit boards. In the process of manufacturing flexible copper-clad laminates, heat is applied to copper-clad laminates due to thermosetting, etc., but copper-clad laminates are laminates of copper and resin layers, and both the copper and resin layers are heat sensitive. Due to expansion and contraction, dimensional fluctuation due to these expansion and contraction is a problem. In order to solve such problems, a base metal layer and a copper layer of a specific thickness are laminated on at least one surface of a specific polyimide film without using an adhesive for the purpose of improving the dimensional stability after processing. A two-layer copper-clad laminate having a specific dimensional change in the longitudinal (MD) direction has been proposed (see Patent Document 1). However, there is still a demand for a copper-clad laminate in which warpage during the manufacturing process is suppressed.

特開2016-87898号公報JP 2016-87898 A

また、銅張積層板を構成するポリイミドフィルムに添加剤として微粒子を添加した場合、ポリイミドフィルム内で配向の制御が困難であったり、ポリイミドフィルムの表面粗さに悪影響を及ぼしたりすることがあった。 In addition, when fine particles are added as an additive to the polyimide film that constitutes the copper-clad laminate, it is difficult to control the orientation within the polyimide film, and the surface roughness of the polyimide film may be adversely affected. .

したがって、本発明の目的は、ポリイミドフィルムの表面粗さを低減し、かつ、製造工程における反りを抑制した銅張積層板を提供することにある。また、本発明の目的は、当該銅張積層板を用いた電子回路基板を提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a copper-clad laminate in which the surface roughness of the polyimide film is reduced and warping during the manufacturing process is suppressed. Another object of the present invention is to provide an electronic circuit board using the copper-clad laminate.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、ポリイミドフィルムと銅箔とを備える銅張積層板において、ポリイミドフィルムに添加剤として特定の偏平状の液晶ポリマー粒子を含有させることで、偏平状の液晶ポリマー粒子の長軸がポリイミドフィルムの横軸(MD方向)に配向し易くなり、ポリイミドフィルムの表面粗さを低減し、かつ、製造工程における銅張積層板の反りを抑制できることを知見した。本発明は、かかる知見に基づいて完成されたものである。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors found that in a copper clad laminate comprising a polyimide film and a copper foil, the polyimide film contains specific flat liquid crystal polymer particles as an additive. , the long axis of the flat liquid crystal polymer particles can be easily oriented in the horizontal axis (MD direction) of the polyimide film, the surface roughness of the polyimide film can be reduced, and warping of the copper clad laminate in the manufacturing process can be suppressed. I found out. The present invention has been completed based on such findings.

すなわち、本発明の一態様によれば、
ポリイミドフィルムと銅箔とを備える銅張積層板であって、
前記ポリイミドフィルムが、ポリイミド樹脂と液晶ポリマー粒子とを含み、
前記液晶ポリマー粒子が、下記で定義される長径、短径、および厚みが下記(A)および(B)の条件:
(A)長径と短径の比である長短度の平均値が1.2以上であること、
(B)短径と厚みの比である偏平度の平均値が1.2以上であること、
を満たす、銅張積層板が提供される。
That is, according to one aspect of the present invention,
A copper-clad laminate comprising a polyimide film and a copper foil,
The polyimide film contains polyimide resin and liquid crystal polymer particles,
The liquid crystal polymer particles have the following conditions (A) and (B):
(A) the average value of the length, which is the ratio of the length and breadth, is 1.2 or more;
(B) the average value of the flatness, which is the ratio of the minor axis to the thickness, is 1.2 or more;
A copper clad laminate is provided that satisfies:

本発明の態様においては、前記液晶ポリマー粒子の粒径分布における累積分布50%径D50が20μm以下であり、かつ、累積分布90%径D90がD50の2.5倍以下であることが好ましい。 In an aspect of the present invention, the cumulative distribution 50% diameter D50 in the particle size distribution of the liquid crystal polymer particles is 20 μm or less, and the cumulative distribution 90% diameter D90 is 2.5 times or less of D50 . is preferred.

本発明の態様においては、前記液晶ポリマー粒子が、ヒドロキシカルボン酸に由来する構成単位(I)と、ジオール化合物に由来する構成単位(II)と、ジカルボン酸に由来する構成単位(III)とを含むことが好ましい。 In an aspect of the present invention, the liquid crystal polymer particles contain a structural unit (I) derived from a hydroxycarboxylic acid, a structural unit (II) derived from a diol compound, and a structural unit (III) derived from a dicarboxylic acid. preferably included.

本発明の態様においては、前記ヒドロキシカルボン酸に由来する構成単位(I)が、6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸に由来する構成単位であることが好ましい。 In the aspect of the present invention, the structural unit (I) derived from hydroxycarboxylic acid is preferably a structural unit derived from 6-hydroxy-2-naphthoic acid.

本発明の態様においては、前記構成単位(I)の組成比が、前記液晶ポリマー粒子全体の構成単位に対して、40モル%以上80モル%以下であることが好ましい。 In the aspect of the present invention, the composition ratio of the structural unit (I) is preferably 40 mol % or more and 80 mol % or less with respect to the structural units of the liquid crystal polymer particles as a whole.

本発明の態様においては、前記液晶ポリマー粒子の含有量が、前記ポリイミド樹脂100質量部に対して、10質量部以上90質量部以下であることが好ましい。 In the aspect of this invention, it is preferable that content of the said liquid crystal polymer particle is 10 mass parts or more and 90 mass parts or less with respect to 100 mass parts of said polyimide resins.

本発明の態様においては、前記ポリイミドフィルムの厚さが5μm以上100μm以下であることが好ましい。 In the aspect of this invention, it is preferable that the thickness of the said polyimide film is 5 micrometers or more and 100 micrometers or less.

本発明の態様においては、前記ポリイミドフィルムの表面粗さRaが1.0μm以下であることが好ましい。 In the aspect of this invention, it is preferable that surface roughness Ra of the said polyimide film is 1.0 micrometers or less.

本発明の他の態様によれば、上記の銅張積層板を備える電子回路基板であって、前記銅張積層板の銅箔面に回路パターンを有する電子回路基板が提供される。 According to another aspect of the present invention, there is provided an electronic circuit board comprising the above copper clad laminate, the electronic circuit board having a circuit pattern on the copper foil surface of the copper clad laminate.

本発明によるポリイミドフィルムと銅箔とを備える銅張積層板によれば、ポリイミドフィルムの表面粗さを低減し、かつ、製造工程における銅張積層板の反りを抑制することができる。また、本発明によれば、当該銅張積層板を用いた電子回路基板を提供することができる。 According to the copper-clad laminate comprising the polyimide film and the copper foil according to the present invention, the surface roughness of the polyimide film can be reduced, and warping of the copper-clad laminate during the manufacturing process can be suppressed. Further, according to the present invention, it is possible to provide an electronic circuit board using the copper-clad laminate.

実施例の液晶ポリマー粒子Aを用いて得られたポリイミドフィルムの断面方向の超薄切片を光学顕微鏡で撮影した写真である。1 is a photograph of an ultra-thin section in the cross-sectional direction of a polyimide film obtained using liquid crystal polymer particles A of an example, taken with an optical microscope.

発明を実施するための態様Modes for carrying out the invention

[銅張積層板]
本発明による銅張積層板は、ポリイミドフィルムと銅箔とを備えるものである。ポリイミドフィルムは、銅箔の少なくとも一方の面に積層されていてればよく、両方の面に積層されていてもよい。
[Copper clad laminate]
A copper-clad laminate according to the present invention comprises a polyimide film and a copper foil. The polyimide film may be laminated on at least one surface of the copper foil, and may be laminated on both surfaces.

(銅箔)
銅箔としては、特に限定されず、従来公知の銅箔を用いることができる。銅箔としては、例えば、圧延銅箔や電解銅箔が挙げられる。また、銅箔としては、各種の表面処理(粗化、防錆化等)が施されたものも使用できる。防錆化処理は、Ni、Zn、Sn等を含むメッキ液を用いたメッキ処理、クロメート処理等の鏡面化処理が挙げられる。銅箔の厚みは、特に限定されず、例えば、好ましくは1~100μmであり、より好ましくは5~50μmである。
(Copper foil)
The copper foil is not particularly limited, and conventionally known copper foils can be used. Examples of copper foil include rolled copper foil and electrolytic copper foil. As the copper foil, one subjected to various surface treatments (roughening, rust prevention, etc.) can also be used. The antirust treatment includes plating using a plating solution containing Ni, Zn, Sn, etc., and mirror surface treatment such as chromate treatment. The thickness of the copper foil is not particularly limited, and is preferably 1 to 100 μm, more preferably 5 to 50 μm, for example.

(ポリイミドフィルム)
ポリイミドフィルムは、ポリイミド樹脂と液晶ポリマー粒子とを含むものである。ポリイミドフィルム中に特定の偏平状の液晶ポリマー粒子を含有させることで、ポリイミドフィルムの表面粗さを低減し、かつ、製造工程における銅張積層板の反りを抑制することができる。
(polyimide film)
A polyimide film contains a polyimide resin and liquid crystal polymer particles. By including specific flat liquid crystal polymer particles in the polyimide film, the surface roughness of the polyimide film can be reduced and the warping of the copper-clad laminate during the manufacturing process can be suppressed.

本発明は理論に束縛されるものではないが、ポリイミドフィルム中に特定の偏平状の液晶ポリマー粒子を含有させることで銅張積層板の反りを抑制できる効果のメカニズムは以下の様に考えられる。ポリイミドフィルムに添加剤として真球状の液晶ポリマー粒子の代わりに偏平状の液晶ポリマー粒子を含有させた場合、銅張積層板の反りが大きくなることがあった。これは、銅張積層板の製造工程における加熱・硬化時にポリイミドフィルム内の液晶ポリマー粒子が移動し、偏平状の液晶ポリマー粒子の長軸がランダムに、特にポリイミドフィルム表面に垂直方向に存在すると、硬化終了時にポリイミドフィルムの収縮が大きくなり、銅張積層板の反りも大きくなると考えられる。しかし、ポリイミドフィルムの硬化時に徐々に昇温することで、偏平状の液晶ポリマー粒子の動きが抑制され、偏平状の液晶ポリマー粒子の長軸がポリイミドフィルムの横軸(MD方向)に配向し易くなると考えられる。その結果、真球状の液晶ポリマー粒子の代わりに特定の偏平状の液晶ポリマー粒子を用いることで、製造工程における反り抑制効果の大きい銅板積層体を得ることができる。 Although the present invention is not bound by theory, the mechanism of the effect of suppressing the warping of the copper-clad laminate by containing the specific flat liquid crystal polymer particles in the polyimide film is considered as follows. When the polyimide film contained flat liquid crystal polymer particles instead of spherical liquid crystal polymer particles as an additive, the warpage of the copper-clad laminate was sometimes increased. This is because when the liquid crystal polymer particles in the polyimide film move during heating and curing in the manufacturing process of the copper clad laminate, and the long axes of the flat liquid crystal polymer particles exist randomly, especially in the direction perpendicular to the surface of the polyimide film, It is thought that the shrinkage of the polyimide film increases at the end of curing, and the warpage of the copper-clad laminate also increases. However, by gradually raising the temperature during curing of the polyimide film, the movement of the flat liquid crystal polymer particles is suppressed, and the long axis of the flat liquid crystal polymer particles tends to be oriented along the horizontal axis (MD direction) of the polyimide film. It is considered to be. As a result, by using specific flat liquid crystal polymer particles instead of spherical liquid crystal polymer particles, it is possible to obtain a copper plate laminate having a large effect of suppressing warping in the manufacturing process.

ポリイミドフィルムのフィルム化の条件(加熱・硬化条件)は特に限定されるものではないが、ポリイミドフィルムは、例えば、1.5℃/分以下の昇温速度で180~220℃まで加熱し、続いて、5.0℃/分以上の昇温速度で、少なくとも300℃まで加熱して、硬化されたであることが好ましい。 The conditions for film formation of the polyimide film (heating/curing conditions) are not particularly limited. It is preferable that the resin is cured by heating to at least 300° C. at a rate of temperature increase of 5.0° C./min or more.

ポリイミドフィルムの厚さは、特に限定されないが、好ましくは5μm以上100μm以下であり、より好ましくは10μm以上70μm以下であり、さらに好ましくは15μm以上50μm以下である。ポリイミドフィルムの厚さが上記数値範囲内であれば、銅張積層板は、フレキシブルプリント配線板として好適である。 Although the thickness of the polyimide film is not particularly limited, it is preferably 5 μm or more and 100 μm or less, more preferably 10 μm or more and 70 μm or less, and still more preferably 15 μm or more and 50 μm or less. If the thickness of the polyimide film is within the above numerical range, the copper-clad laminate is suitable as a flexible printed wiring board.

ポリイミドフィルムの表面粗さRaは、好ましくは1.0μm以下であり、より好ましくは0.9μm以下であり、さらに好ましくは0.8μm以下である。ポリイミドフィルムの表面粗さRaが上記数値範囲内であれば、伝送損失を抑えることができる。ポリイミドフィルムの表面粗さRaは、市販のレーザー顕微鏡を用いて測定することができる。 The surface roughness Ra of the polyimide film is preferably 1.0 μm or less, more preferably 0.9 μm or less, and even more preferably 0.8 μm or less. If the surface roughness Ra of the polyimide film is within the above numerical range, transmission loss can be suppressed. The surface roughness Ra of the polyimide film can be measured using a commercially available laser microscope.

(液晶ポリマー粒子)
液晶ポリマー粒子は、下記で定義される長径、短径、および厚みが下記(A)および(B)の条件:
(A)長径と短径の比である長短度の平均値が1.2以上であること、
(B)短径と厚みの比である偏平度の平均値が1.2以上であること、
を満たすことを特徴とする。このような偏平状の液晶ポリマー粒子をポリイミドフィルムに添加することで、液晶ポリマー粒子の長軸がポリイミドフィルムの横軸(MD方向)に配向し易くなり、表面粗さを抑えながら、銅張積層板の反り抑制効果を高めることができる。
(liquid crystal polymer particles)
The liquid crystal polymer particles have the major axis, minor axis, and thickness defined below under the following conditions (A) and (B):
(A) the average value of the length, which is the ratio of the length and breadth, is 1.2 or more;
(B) the average value of the flatness, which is the ratio of the minor axis to the thickness, is 1.2 or more;
is characterized by satisfying By adding such flattened liquid crystal polymer particles to the polyimide film, the long axis of the liquid crystal polymer particles becomes easier to align with the horizontal axis (MD direction) of the polyimide film, and while suppressing surface roughness, copper clad lamination It is possible to enhance the effect of suppressing warpage of the plate.

さらに、液晶ポリマー粒子は、(A)長径と短径の比である長短度の平均値が、好ましくは1.5以上であり、より好ましくは1.7以上であり、また、上限値は特に限定されないが、例えば、10以下であってもよく、5以下であってもよく、3以下であってもよい。また、(B)短径と厚みの比である偏平度の平均値が、好ましくは1.5以上であり、より好ましくは1.7以上であり、また、上限値は特に限定されないが、例えば、10以下であってもよく、5以下であってもよく、3以下であってもよい。上記(A)および(B)の平均値が上記数値範囲を満たすことで、表面粗さをより抑えながら、銅張積層板の反り抑制効果をより高めることができる。
液晶ポリマー粒子の長径、短径、および厚みは、液晶ポリマー粒子を添加したフィルムの断面を光学顕微鏡で観察し、その断面画像を解析することによって、算出することができる。具体的には、少なくとも100個以上の液晶ポリマー粒子の長径、短径、および厚みのフェレー径を測定し、その平均値を算出したものである。なお、液晶ポリマー粒子の長径、短径、および厚みは、液晶ポリマー粒子の合成方法、粉砕方法や粉砕後の篩の条件等によって、調節することができる。
Furthermore, the liquid crystal polymer particles (A) preferably have an average value of length and shortness, which is the ratio of the length and breadth, of 1.5 or more, more preferably 1.7 or more, and the upper limit is particularly Although not limited, it may be, for example, 10 or less, 5 or less, or 3 or less. In addition, (B) the average value of the flatness, which is the ratio of the minor axis to the thickness, is preferably 1.5 or more, more preferably 1.7 or more, and the upper limit is not particularly limited, but for example , may be 10 or less, 5 or less, or 3 or less. When the average value of (A) and (B) satisfies the above numerical range, the effect of suppressing warpage of the copper-clad laminate can be further enhanced while suppressing surface roughness.
The major axis, minor axis and thickness of the liquid crystal polymer particles can be calculated by observing the cross section of the film to which the liquid crystal polymer particles have been added with an optical microscope and analyzing the cross section image. Specifically, at least 100 or more liquid crystal polymer particles were measured for their major diameter, minor diameter and thickness Feret diameter, and the average value was calculated. The major axis, minor axis and thickness of the liquid crystal polymer particles can be adjusted by the synthesis method of the liquid crystal polymer particles, the pulverization method, the sieve conditions after pulverization, and the like.

液晶ポリマー粒子の粒径分布は、レーザー回折・散乱法粒径分布測定装置を用いて測定することができる。粒径分布における累積分布50%径D50と(以下、「D50」という)は、小粒径側からの累積分布が50%となる粒径の値を表し、累積分布90%径D90(以下、「D90」という)とは、小粒径側からの累積分布が90%となる粒径の値を表す。
液晶ポリマー粒子は、粒径分布におけるD50が20μm以下であり、かつ、D90がD50の2.5倍以下であることが好ましい。
50は、好ましくは0.1μm以上であり、より好ましくは1μm以上であり、さらに好ましくは3μm以上であり、より好ましくは4μm以上であり、また、好ましくは15μm以下であり、より好ましくは12μm以下であり、さらに好ましくは10μm以下、さらにより好ましくは6μm以下である。
90はD50の好ましくは2.2倍以下であり、より好ましくは2.0倍以下であり、さらに好ましくは1.8倍以下である。
液晶ポリマー粒子の粒径分布におけるパラメータであるD50およびD90の値を上記範囲内に調節することによって、ポリイミドフィルムが薄膜であっても液晶ポリマー粒子を添加することができ、その結果、薄膜の銅張積層板の反りを抑制することができる。なお、D50およびD90の値は、液晶ポリマー粒子の粉砕方法や粉砕後の篩の条件等によって、調節することができる。
The particle size distribution of the liquid crystal polymer particles can be measured using a laser diffraction/scattering particle size distribution analyzer. The cumulative distribution 50% diameter D 50 (hereinafter referred to as “D 50 ”) in the particle size distribution represents the value of the particle size at which the cumulative distribution from the small particle size side is 50%, and the cumulative distribution 90% diameter D 90 (hereinafter referred to as “D 90 ”) represents the value of the particle size at which the cumulative distribution from the small particle size side is 90%.
The liquid crystal polymer particles preferably have a D50 of 20 μm or less in the particle size distribution and a D90 of 2.5 times or less of the D50 .
D50 is preferably 0.1 μm or more, more preferably 1 μm or more, still more preferably 3 μm or more, more preferably 4 μm or more, and preferably 15 μm or less, more preferably 12 μm. or less, more preferably 10 μm or less, still more preferably 6 μm or less.
D90 is preferably 2.2 times or less, more preferably 2.0 times or less, and even more preferably 1.8 times or less of D50 .
By adjusting the values of D50 and D90 , which are parameters in the particle size distribution of the liquid crystal polymer particles, within the above range, the liquid crystal polymer particles can be added even if the polyimide film is a thin film, resulting in a thin film. warpage of the copper-clad laminate can be suppressed. The values of D50 and D90 can be adjusted by the pulverization method of the liquid crystal polymer particles, the sieve conditions after pulverization, and the like.

液晶ポリマー粒子の液晶性は、メトラー製の顕微鏡用ホットステージ(商品名:FP82HT)を備えたオリンパス(株)製の偏光顕微鏡(商品名:BH-2)等を用い、液晶ポリマー粒子を顕微鏡加熱ステージ上にて加熱溶融させた後、光学異方性の有無を観察することにより確認することができる。 The liquid crystallinity of the liquid crystal polymer particles is measured by using a polarizing microscope (trade name: BH-2) manufactured by Olympus Co., Ltd. equipped with a microscope hot stage (trade name: FP82HT) manufactured by Mettler Co., Ltd., and heating the liquid crystal polymer particles with a microscope. It can be confirmed by observing the presence or absence of optical anisotropy after heating and melting on a stage.

液晶ポリマー粒子の融点は、好ましくは270℃以上であり、下限値として、好ましくは280℃以上であり、より好ましくは290℃以上であり、さらに好ましくは300℃以上であり、上限値として、好ましくは370℃以下であり、好ましくは360℃以下であり、さらに好ましくは350℃以下である。液晶ポリマーの融点を上記数値範囲とすることにより、液晶ポリマー粒子を添加して得られたポリイミドフィルムの耐熱性を向上させることができる。なお、本明細書において、液晶ポリマー粒子の融点は、ISO11357、ASTM D3418の試験方法に準拠するものであり、日立ハイテクサイエンス(株)製の示差走査熱量計(DSC)等を用いて、測定することができる。 The melting point of the liquid crystal polymer particles is preferably 270° C. or higher, and the lower limit is preferably 280° C. or higher, more preferably 290° C. or higher, and still more preferably 300° C. or higher. is 370° C. or lower, preferably 360° C. or lower, and more preferably 350° C. or lower. By setting the melting point of the liquid crystal polymer within the above numerical range, the heat resistance of the polyimide film obtained by adding the liquid crystal polymer particles can be improved. In this specification, the melting point of the liquid crystal polymer particles conforms to the test methods of ISO11357 and ASTM D3418, and is measured using a differential scanning calorimeter (DSC) manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd. be able to.

液晶ポリマー粒子の含有量は、ポリイミド樹脂100質量部に対して、好ましくは10質量部以上90質量部以下であり、より好ましくは20質量部以上80質量部以下であり、さらに好ましくは30質量部以上70質量部以下である。液晶ポリマー粒子の含有量が上記数値範囲内であれば、銅張積層板の反り抑制効果を高めることができる。 The content of the liquid crystal polymer particles is preferably 10 parts by mass or more and 90 parts by mass or less, more preferably 20 parts by mass or more and 80 parts by mass or less, and still more preferably 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyimide resin. It is more than 70 mass parts or less. If the content of the liquid crystal polymer particles is within the above numerical range, the effect of suppressing warping of the copper-clad laminate can be enhanced.

(液晶ポリマー)
液晶ポリマー粒子の原料である液晶ポリマーは、その組成は特に限定されるものではないが、芳香族ヒドロキシカルボン酸に由来する構成単位(I)、芳香族ジオール化合物に由来する構成単位(II)、および芳香族ジカルボン酸に由来する構成単位(III)を含むことが好ましい。さらに、液晶ポリマーは、構成単位(I)~(III)以外の構成単位として、構成単位(IV)をさらに含んでもよい。以下、液晶ポリマーに含まれる各構成単位について説明する。
(liquid crystal polymer)
The composition of the liquid crystal polymer, which is the raw material of the liquid crystal polymer particles, is not particularly limited. and a structural unit (III) derived from an aromatic dicarboxylic acid. Furthermore, the liquid crystal polymer may further contain a structural unit (IV) as a structural unit other than the structural units (I) to (III). Each structural unit contained in the liquid crystal polymer will be described below.

(ヒドロキシカルボン酸に由来する構成単位(I))
液晶ポリマーを構成する単位(I)は、ヒドロキシカルボン酸に由来する構成単位であり、下記式(I)で表される芳香族ヒドロキシカルボン酸に由来する構成単位であることが好ましい。なお、構成単位(I)は、1種のみが含まれてもよいし、2種以上含まれていてもよい。
(Structural unit (I) derived from hydroxycarboxylic acid)
The unit (I) constituting the liquid crystal polymer is a structural unit derived from a hydroxycarboxylic acid, preferably a structural unit derived from an aromatic hydroxycarboxylic acid represented by the following formula (I). In addition, as for structural unit (I), only 1 type may be contained and 2 or more types may be contained.

Figure 2023030680000002
上記式中Arは、所望により置換基を有するフェニル基、ビフェニル基、4,4’-イソプロピリデンジフェニル基、ナフチル基、アントリル基およびフェナントリル基からなる群より選択される。これらの中でもナフチル基が好ましい。置換基としては、水素、アルキル基、アルコキシ基、ならびにフッ素等が挙げられる。アルキル基が有する炭素数は、1~10であることが好ましく、1~5であることがより好ましい。また、直鎖状のアルキル基であっても、分岐鎖状のアルキル基であってもよい。アルコキシ基が有する炭素数は、1~10であることが好ましく、1~5であることがより好ましい。
Figure 2023030680000002
Ar 1 in the above formula is selected from the group consisting of optionally substituted phenyl, biphenyl, 4,4'-isopropylidenediphenyl, naphthyl, anthryl and phenanthryl groups. Among these, a naphthyl group is preferred. Substituents include hydrogen, alkyl groups, alkoxy groups, fluorine, and the like. The number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1-10, more preferably 1-5. Moreover, it may be a linear alkyl group or a branched alkyl group. The number of carbon atoms in the alkoxy group is preferably 1-10, more preferably 1-5.

上記式(I)で表される構成単位を与えるモノマーとしては、6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸(HNA、下記式(1))、およびこれらのアシル化物、エステル誘導体、酸ハロゲン化物等が挙げられる。

Figure 2023030680000003
Examples of monomers that give the structural unit represented by formula (I) include 6-hydroxy-2-naphthoic acid (HNA, formula (1) below), and acylates, ester derivatives, and acid halides thereof. be done.
Figure 2023030680000003

液晶ポリマー全体の構成単位に対する構成単位(I)の組成比(モル%)は、下限値としては好ましくは40モル%以上であり、より好ましくは45モル%以上であり、さらに好ましくは50モル%以上であり、さらにより好ましくは55モル%以上であり、上限値としては、好ましくは80モル%以下であり、より好ましくは75モル%以下であり、さらに好ましくは70モル%以下であり、さらにより好ましくは65モル%以下である。構成単位(I)が2種以上含まれる場合、それらの合計モル比が上記組成比の範囲内であればよい。 The lower limit of the composition ratio (mol%) of the structural unit (I) to the structural units of the entire liquid crystal polymer is preferably 40 mol% or more, more preferably 45 mol% or more, and still more preferably 50 mol%. is more preferably 55 mol% or more, and the upper limit is preferably 80 mol% or less, more preferably 75 mol% or less, still more preferably 70 mol% or less, and furthermore More preferably, it is 65 mol % or less. When two or more kinds of structural units (I) are contained, the total molar ratio thereof should be within the range of the above compositional ratio.

(ジオール化合物に由来する構成単位(II))
液晶ポリマーを構成する単位(II)は、ジオール化合物に由来する構成単位であり、下記式(II)で表される芳香族ジオール化合物に由来する構成単位であることが好ましい。なお、構成単位(II)は、1種のみが含まれてもよいし、2種以上含まれていてもよい。
(Structural Unit (II) Derived from Diol Compound)
The unit (II) constituting the liquid crystal polymer is a structural unit derived from a diol compound, preferably a structural unit derived from an aromatic diol compound represented by the following formula (II). In addition, as for structural unit (II), only 1 type may be contained and 2 or more types may be contained.

Figure 2023030680000004
上記式中Arは、所望により置換基を有するフェニル基、ビフェニル基、4,4’-イソプロピリデンジフェニル基、ナフチル基、アントリル基およびフェナントリル基からなる群より選択される。これらの中でもフェニル基およびビフェニル基が好ましい。置換基としては、水素、アルキル基、アルコキシ基、ならびにフッ素等が挙げられる。アルキル基が有する炭素数は、1~10であることが好ましく、1~5であることがより好ましい。また、直鎖状のアルキル基であっても、分岐鎖状のアルキル基であってもよい。アルコキシ基が有する炭素数は、1~10であることが好ましく、1~5であることがより好ましい。
Figure 2023030680000004
Ar 2 in the above formula is selected from the group consisting of optionally substituted phenyl, biphenyl, 4,4'-isopropylidenediphenyl, naphthyl, anthryl and phenanthryl groups. Among these, a phenyl group and a biphenyl group are preferred. Substituents include hydrogen, alkyl groups, alkoxy groups, fluorine, and the like. The number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1-10, more preferably 1-5. Moreover, it may be a linear alkyl group or a branched alkyl group. The number of carbon atoms in the alkoxy group is preferably 1-10, more preferably 1-5.

構成単位(II)を与えるモノマーとしては、例えば、4,4-ジヒドロキシビフェニル(BP、下記式(2))、ハイドロキノン(HQ、下記式(3))、メチルハイドロキノン(MeHQ、下記式(4))、4,4’-イソプロピリデンジフェノール(BisPA、下記式(5))、およびこれらのアシル化物、エステル誘導体、酸ハロゲン化物等が挙げられる。これらの中でも4,4-ジヒドロキシビフェニル(BP)およびこれらのアシル化物、エステル誘導体、酸ハロゲン化物を用いることが好ましい。

Figure 2023030680000005
Figure 2023030680000006
Figure 2023030680000007
Figure 2023030680000008
Monomers that give the structural unit (II) include, for example, 4,4-dihydroxybiphenyl (BP, formula (2) below), hydroquinone (HQ, formula (3) below), methylhydroquinone (MeHQ, formula (4) below. ), 4,4′-isopropylidenediphenol (BisPA, formula (5) below), and acylated products, ester derivatives, and acid halides thereof. Among these, 4,4-dihydroxybiphenyl (BP) and their acylated products, ester derivatives and acid halides are preferably used.
Figure 2023030680000005
Figure 2023030680000006
Figure 2023030680000007
Figure 2023030680000008

液晶ポリマー全体の構成単位に対する構成単位(II)の組成比(モル%)は、下限値としては好ましくは10モル%以上であり、より好ましくは12.5モル%以上であり、さらに好ましくは15モル%以上であり、さらにより好ましくは17.5モル%以上であり、上限値としては、好ましくは30モル%以下であり、より好ましくは27.5モル%以下であり、さらに好ましくは25モル%以下であり、さらにより好ましくは22.5モル%以下である。構成単位(II)が2種以上含まれる場合、それらの合計モル比が上記組成比の範囲内であればよい。 The lower limit of the composition ratio (mol%) of the structural unit (II) to the structural units of the entire liquid crystal polymer is preferably 10 mol% or more, more preferably 12.5 mol% or more, and still more preferably 15 mol%. mol% or more, and more preferably 17.5 mol% or more, and the upper limit is preferably 30 mol% or less, more preferably 27.5 mol% or less, and still more preferably 25 mol%. % or less, and more preferably 22.5 mol % or less. When two or more kinds of structural units (II) are contained, the total molar ratio thereof should be within the range of the above compositional ratio.

(芳香族ジカルボン酸に由来する構成単位(III))
液晶ポリマーを構成する単位(III)は、ジカルボン酸に由来する構成単位であり、下記式(III)で表される芳香族ジカルボン酸に由来する構成単位であることが好ましい。なお、構成単位(III)は、1種のみが含まれてもよいし、2種以上含まれていてもよい。
(Structural Unit (III) Derived from Aromatic Dicarboxylic Acid)
The unit (III) constituting the liquid crystal polymer is a structural unit derived from a dicarboxylic acid, preferably a structural unit derived from an aromatic dicarboxylic acid represented by the following formula (III). In addition, as for structural unit (III), only 1 type may be contained and 2 or more types may be contained.

Figure 2023030680000009
上記式中Arは、所望により置換基を有するフェニル基、ビフェニル基、4,4’-イソプロピリデンジフェニル基、ナフチル基、アントリル基およびフェナントリル基からなる群より選択される。これらの中でもフェニル基およびナフチル基が好ましい。置換基としては、水素、アルキル基、アルコキシ基ならびにフッ素等が挙げられる。アルキル基が有する炭素数は、1~10であることが好ましく、1~5であることがより好ましい。また、直鎖状のアルキル基であっても、分岐鎖状のアルキル基であってもよい。アルコキシ基が有する炭素数は、1~10であることが好ましく、1~5であることがより好ましい。
Figure 2023030680000009
Ar 3 in the above formula is selected from the group consisting of optionally substituted phenyl, biphenyl, 4,4'-isopropylidenediphenyl, naphthyl, anthryl and phenanthryl groups. Among these, a phenyl group and a naphthyl group are preferred. Substituents include hydrogen, alkyl groups, alkoxy groups, fluorine, and the like. The number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1-10, more preferably 1-5. Moreover, it may be a linear alkyl group or a branched alkyl group. The number of carbon atoms in the alkoxy group is preferably 1-10, more preferably 1-5.

構成単位(III)を与えるモノマーとしては、テレフタル酸(TPA、下記式(6))、イソフタル酸(IPA、下記式(7))、2,6-ナフタレンジカルボン酸(NADA、下記式(8))、およびそれらのアシル化物、エステル誘導体、酸ハロゲン化物等が挙げられる。

Figure 2023030680000010
Figure 2023030680000011
Figure 2023030680000012
Monomers that give the structural unit (III) include terephthalic acid (TPA, formula (6) below), isophthalic acid (IPA, formula (7) below), and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid (NADA, formula (8) below. ), and their acylated products, ester derivatives, acid halides and the like.
Figure 2023030680000010
Figure 2023030680000011
Figure 2023030680000012

液晶ポリマー全体の構成単位に対する構成単位(III)の組成比(モル%)は、下限値としては好ましくは10モル%以上であり、より好ましくは12.5モル%以上であり、さらに好ましくは15モル%以上であり、さらにより好ましくは17.5モル%以上であり、上限値としては、好ましくは30モル%以下であり、より好ましくは27.5モル%以下であり、さらに好ましくは25モル%以下であり、さらにより好ましくは22.5モル%以下である。構成単位(II)が2種以上含まれる場合、それらの合計モル比が上記組成比の範囲内であればよい。なお、構成単位(II)の組成比と構成単位(III)の組成比は実質的に当量((構成単位(II)≒構成単位(III))となる。 The lower limit of the composition ratio (mol%) of the structural unit (III) to the structural units of the entire liquid crystal polymer is preferably 10 mol% or more, more preferably 12.5 mol% or more, and still more preferably 15 mol%. mol% or more, and more preferably 17.5 mol% or more, and the upper limit is preferably 30 mol% or less, more preferably 27.5 mol% or less, and still more preferably 25 mol%. % or less, and more preferably 22.5 mol % or less. When two or more kinds of structural units (II) are contained, the total molar ratio thereof should be within the range of the above compositional ratio. The composition ratio of the structural unit (II) and the compositional ratio of the structural unit (III) are substantially equivalent ((structural unit (II)≈structural unit (III)).

(他のモノマーに由来する構成単位(IV))
液晶ポリマーは、上記構成単位(I)~(III)以外の他の構成単位をさらに含んでもよい。構成単位(IV)は、上記構成単位(I)~(III)を与えるモノマー以外の他のモノマーに由来するものであって、上記構成単位(I)~(III)を与えるモノマーと重合可能な重合性を有するモノマーに由来するものであれば特に限定されない。重合性基としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミン基、ならびにアミド基が挙げられる。構成単位(IV)を与えるモノマーはこれらの重合性基を1つ以上、好ましくは2つ以上有するものである。重合性基が2つ以上含まれる場合、それらの重合性基は同一であってもよいし、異なっていてもよい。構成単位(IV)は、1種のみが含まれてもよいし、2種以上含まれていてもよい。
(Structural Unit (IV) Derived from Another Monomer)
The liquid crystal polymer may further contain structural units other than the above structural units (I) to (III). Structural unit (IV) is derived from a monomer other than the monomer that gives the structural units (I) to (III), and is polymerizable with the monomer that gives the structural units (I) to (III). It is not particularly limited as long as it is derived from a polymerizable monomer. Polymerizable groups include, for example, hydroxy groups, carboxyl groups, amine groups, and amide groups. The monomer that gives the structural unit (IV) has one or more, preferably two or more of these polymerizable groups. When two or more polymerizable groups are included, those polymerizable groups may be the same or different. Only one kind of structural unit (IV) may be contained, or two or more kinds thereof may be contained.

構成単位(IV)としては、例えば、下記の構成単位(IV-1):

Figure 2023030680000013
が挙げられる。 Examples of the structural unit (IV) include the following structural unit (IV-1):
Figure 2023030680000013
is mentioned.

構成単位(IV-1)を与えるモノマーとしては、アセトアミノフェノン(AAP、下記式(9))、p-アミノフェノール、4’-アセトキシアセトアニリド、およびこれらのアシル化物、エステル誘導体、酸ハロゲン化物等が挙げられる。

Figure 2023030680000014
Monomers that give the structural unit (IV-1) include acetaminophenone (AAP, the following formula (9)), p-aminophenol, 4′-acetoxyacetanilide, and acylates, ester derivatives, and acid halides thereof. is mentioned.
Figure 2023030680000014

また、構成単位(IV)としては、例えば、下記の構成単位(IV-2):

Figure 2023030680000015
が挙げられる。 Further, as the structural unit (IV), for example, the following structural unit (IV-2):
Figure 2023030680000015
is mentioned.

構成単位(V-2)を与えるモノマーとしては、1,4-シクロへキサンジカルボン酸(CHDA、下記式(10))およびこれらのアシル化物、エステル誘導体、酸ハロゲン化物等が挙げられる。

Figure 2023030680000016
Examples of monomers that give the structural unit (V-2) include 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid (CHDA, formula (10) below), acylated products, ester derivatives, and acid halides thereof.
Figure 2023030680000016

液晶ポリマー全体の構成単位に対する構成単位(IV)の組成比(モル%)は、構成単位(I)~(III)の組成比に応じて、適宜設定することができる。具体的には、モノマー仕込みにおけるカルボキシル基と、ヒドロキシ基および/またはアミン基とのモノマー比(モル比)がおおよそ1:1の範囲になるように、各構成単位の組成比を適宜設定すればよい。 The composition ratio (mol %) of the structural unit (IV) to the structural units of the liquid crystal polymer as a whole can be appropriately set according to the composition ratio of the structural units (I) to (III). Specifically, if the composition ratio of each structural unit is appropriately set so that the monomer ratio (molar ratio) between the carboxyl group and the hydroxy group and/or amine group in the monomer charge is in the range of about 1:1. good.

液晶ポリマーの好ましい配合としては、以下が挙げられる。
45モル%≦6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸に由来する構成単位(I)≦75モル%
12モル%≦芳香族ジオール化合物に由来する構成単位(II)≦27.5モル%
3モル%≦テレフタル酸に由来する構成単位構成単位(IIIA)≦25モル%
2モル%≦2,6-ナフタレンジカルボン酸に由来する構成単位(IIIB)≦9モル%
である。
さらに、液晶ポリマーのより好ましい配合としては、以下が挙げられる。
50モル%≦6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸に由来する構成単位(I)≦70モル%
15モル%≦芳香族ジオール化合物に由来する構成単位(II)≦25モル%
9モル%≦テレフタル酸に由来する構成単位構成単位(IIIA)≦22モル%
3モル%≦2,6-ナフタレンジカルボン酸に由来する構成単位(IIIB)≦6モル%
である。
さらに、液晶ポリマーのさらにより好ましい配合としては、以下が挙げられる。
54モル%≦6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸に由来する構成単位(I)≦66モル%
17モル%≦芳香族ジオール化合物に由来する構成単位(II)≦23モル%
11モル%≦テレフタル酸に由来する構成単位構成単位(IIIA)≦20モル%
3モル%≦2,6-ナフタレンジカルボン酸に由来する構成単位(IIIB)≦6モル%
である。
液晶ポリマー全体の構成単位に対して、各構成単位が上記範囲内であれば、誘電正接の低い液晶ポリマー粒子を得ることができる。
Preferred formulations of the liquid crystal polymer include the following.
45 mol% ≤ 6-hydroxy-2-naphthoic acid-derived structural unit (I) ≤ 75 mol%
12 mol% ≤ structural unit (II) derived from aromatic diol compound ≤ 27.5 mol%
3 mol% ≤ structural unit (IIIA) derived from terephthalic acid ≤ 25 mol%
2 mol% ≤ 2,6-naphthalene dicarboxylic acid-derived structural unit (IIIB) ≤ 9 mol%
is.
Furthermore, more preferred formulations of the liquid crystal polymer include the following.
50 mol% ≦ 6-hydroxy-2-naphthoic acid-derived structural unit (I) ≦ 70 mol%
15 mol% ≤ structural unit (II) derived from aromatic diol compound ≤ 25 mol%
9 mol% ≤ structural unit (IIIA) derived from terephthalic acid ≤ 22 mol%
Structural unit (IIIB) derived from 3 mol% ≤ 2,6-naphthalenedicarboxylic acid ≤ 6 mol%
is.
Further, even more preferred formulations of liquid crystal polymers include the following.
54 mol% ≤ 66 mol% structural unit (I) derived from 6-hydroxy-2-naphthoic acid
17 mol% ≤ structural unit (II) derived from aromatic diol compound ≤ 23 mol%
11 mol% ≤ structural unit (IIIA) derived from terephthalic acid ≤ 20 mol%
Structural unit (IIIB) derived from 3 mol% ≤ 2,6-naphthalenedicarboxylic acid ≤ 6 mol%
is.
If each structural unit is within the above range with respect to the structural units of the liquid crystal polymer as a whole, liquid crystal polymer particles having a low dielectric loss tangent can be obtained.

(液晶ポリマーの製造方法)
液晶ポリマーは、所望により構成単位(I)~(III)を与えるモノマーおよび所望により構成単位(IV)を与えるモノマーを、従来公知の方法で重合することにより製造することができる。一実施態様において、本発明に係る液晶ポリマーは、溶融重合によりプレポリマーを作製し、これをさらに固相重合する2段階重合によっても製造することができる。
(Method for producing liquid crystal polymer)
The liquid crystal polymer can be produced by polymerizing monomers that optionally give structural units (I) to (III) and optionally monomers that give structural unit (IV) by a conventionally known method. In one embodiment, the liquid crystal polymer according to the present invention can also be produced by two-step polymerization in which a prepolymer is prepared by melt polymerization and then polymerized in solid state.

溶融重合は、液晶ポリマーが効率よく得られる観点から、所望により上記構成単位(I)~(III)を与えるモノマーおよび所望により構成単位(IV)を与えるモノマーを、所定の配合で合わせて100モル%として、モノマーが有する全水酸基に対し、1.05~1.15モル当量の無水酢酸を存在させて酢酸還流下において行うことが好ましい。 In melt polymerization, from the viewpoint of efficiently obtaining a liquid crystal polymer, the monomers that optionally provide the structural units (I) to (III) and the monomers that optionally provide the structural unit (IV) are combined in a predetermined blend to 100 mol. %, it is preferable to conduct the reaction under reflux of acetic acid in the presence of 1.05 to 1.15 molar equivalents of acetic anhydride with respect to all the hydroxyl groups possessed by the monomer.

溶融重合とこれに続く固相重合の二段階により重合反応を行う場合は、溶融重合により得られたプレポリマーを冷却固化後に粉砕してパウダー状もしくはフレーク状にした後、公知の固相重合方法、例えば、窒素等の不活性雰囲気下、または真空下において200~350℃の温度範囲で1~30時間プレポリマー樹脂を熱処理する等の方法が好ましくは選択される。固相重合は、撹拌しながら行ってもよく、また撹拌することなく静置した状態で行ってもよい。 When the polymerization reaction is carried out in two steps of melt polymerization and subsequent solid phase polymerization, the prepolymer obtained by the melt polymerization is cooled and solidified, pulverized into powder or flakes, and then solid phase polymerized by a known solid phase polymerization method. For example, a method of heat-treating the prepolymer resin in an inert atmosphere such as nitrogen or under vacuum at a temperature range of 200 to 350° C. for 1 to 30 hours is preferably selected. The solid phase polymerization may be carried out while stirring, or may be carried out in a still state without stirring.

重合反応において触媒は使用してもよいし、また使用しなくてもよい。使用する触媒としては、液晶ポリマーの重合用触媒として従来公知のものを使用することができ、酢酸マグネシウム、酢酸第一錫、テトラブチルチタネート、酢酸鉛、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、三酸化アンチモン等の金属塩触媒、N-メチルイミダゾール等の窒素含有複素環化合物等、有機化合物触媒等が挙げられる。触媒の使用量は、特に限定されるものではないが、モノマーの総量100重量部に対して、0.0001~0.1重量部であることが好ましい。 A catalyst may or may not be used in the polymerization reaction. As the catalyst to be used, conventionally known catalysts for polymerization of liquid crystal polymers can be used, such as magnesium acetate, stannous acetate, tetrabutyl titanate, lead acetate, sodium acetate, potassium acetate, and antimony trioxide. Examples include metal salt catalysts, nitrogen-containing heterocyclic compounds such as N-methylimidazole, organic compound catalysts, and the like. The amount of the catalyst used is not particularly limited, but it is preferably 0.0001 to 0.1 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the monomers.

溶融重合における重合反応装置は特に限定されるものではないが、一般の高粘度流体の反応に用いられる反応装置が好ましく使用される。これらの反応装置の例としては、例えば、錨型、多段型、螺旋帯型、螺旋軸型等、あるいはこれらを変形した各種形状の撹拌翼をもつ撹拌装置を有する撹拌槽型重合反応装置、又は、ニーダー、ロールミル、バンバリーミキサー等の、一般に樹脂の混練に使用される混合装置等が挙げられる。 A polymerization reactor for melt polymerization is not particularly limited, but a reactor generally used for reactions of high-viscosity fluids is preferably used. Examples of these reactors include, for example, an anchor type, multi-stage type, spiral band type, spiral shaft type, etc., or a stirred tank type polymerization reactor having a stirring device with stirring blades of various shapes modified from these, or , kneaders, roll mills, Banbury mixers, and the like, which are generally used for kneading resins.

[銅張積層板の製造方法]
本発明によるポリイミドフィルムと銅箔とを備える銅張積層板の製造方法は、塗布工程と、フィルム化工程とを有するものである。以下、各工程について、詳細に説明する。
[Manufacturing method of copper-clad laminate]
A method for manufacturing a copper-clad laminate comprising a polyimide film and a copper foil according to the present invention includes a coating step and a film forming step. Each step will be described in detail below.

(塗布工程)
塗布工程は、銅箔の一方の面に、液晶ポリマー粒子とポリアミック酸とを含有する組成物を塗布する工程である。銅箔上への組成物の塗布方法は、特に限定されず、従来公知の方法により行うことができる。塗布方法としては、例えば、ダイやナイフコーター等による塗布が挙げられる。液晶ポリマー粒子については、上述の通りである。
(Coating process)
The coating step is a step of coating one side of the copper foil with a composition containing liquid crystal polymer particles and polyamic acid. A method for applying the composition onto the copper foil is not particularly limited, and a conventionally known method can be used. Examples of the coating method include coating with a die or knife coater. The liquid crystal polymer particles are as described above.

(フィルム化工程)
フィルム化工程は、上記組成物を塗布後の銅箔を2段階の加熱によって上記組成物を硬化させて、ポリイミドフィルムを形成する工程である。1段階目の加熱では、常温から180~220℃まで、1.5℃/分以下、好ましくは0.1℃/分以上1.4℃/分以下、より好ましくは0.5℃/分以上1.2℃/分以下の昇温速度で加熱する。続いて、2段階目の加熱では、180~220℃から、少なくとも300℃まで、5.0℃/分以上、好ましくは6.0℃/分以上15℃/分以下、より好ましくは7.0℃/分以上12℃/分以下の昇温速度で加熱する。最終的な到達温度は、300℃以上であればよく、好ましくは320~400℃であり、より好ましくは330~370℃である。さらに、当該到達温度まで昇温した後は、好ましくは1分以上、より好ましくは5分以上5時間以下、より好ましくは30分以上3時間以下の間で保持してもよい。これらの条件での加熱操作によって、硬化を進行させながら、銅張積層板の反りを抑制することができる。
(Filming process)
The film-forming step is a step of curing the composition by heating the copper foil coated with the composition in two stages to form a polyimide film. In the first stage of heating, from normal temperature to 180 to 220° C., 1.5° C./min or less, preferably 0.1° C./min or more and 1.4° C./min or less, more preferably 0.5° C./min or more. Heat at a heating rate of 1.2° C./min or less. Subsequently, in the second stage heating, from 180 to 220 ° C. to at least 300 ° C., 5.0 ° C./min or more, preferably 6.0 ° C./min or more and 15 ° C./min or less, more preferably 7.0 C./min or more and 12.degree. C./min or less. The final temperature reached may be 300°C or higher, preferably 320 to 400°C, more preferably 330 to 370°C. Furthermore, after the temperature is raised to the target temperature, it may be held for preferably 1 minute or more, more preferably 5 minutes or more and 5 hours or less, and more preferably 30 minutes or more and 3 hours or less. By heating under these conditions, it is possible to suppress warping of the copper-clad laminate while progressing curing.

(電子回路基板)
電子回路基板は、本発明による銅張積層板の銅箔面に回路パターンを有するものである。銅張積層板の銅箔面に回路パターンを形成するパターニングの方法としては、例えば、セミアディティブ法、サブトラクティブ法が挙げられる。セミアディティブ法としては、銅張積層板の銅箔面に、レジストフィルムでパターニングした後、電解銅メッキを行い、レジストを除去し、アルカリ液でエッチングする方法が挙げられる。また、当該プリント配線板における回路パターン層の厚みは特に限定されない。
(electronic circuit board)
The electronic circuit board has a circuit pattern on the copper foil surface of the copper-clad laminate according to the present invention. Patterning methods for forming a circuit pattern on the copper foil surface of a copper-clad laminate include, for example, a semi-additive method and a subtractive method. The semi-additive method includes a method of patterning the copper foil surface of the copper-clad laminate with a resist film, performing electrolytic copper plating, removing the resist, and etching with an alkaline solution. Moreover, the thickness of the circuit pattern layer in the printed wiring board is not particularly limited.

以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to examples below, but the present invention is not limited to the examples.

<液晶ポリマーの合成>
撹拌翼を有する重合容器に、6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸(HNA)60モル%、4,4-ジヒドロキシビフェニル(BP)20モル%、テレフタル酸(TPA)15.5モル%、2,6-ナフタレンジカルボン酸(NADA)4.5モル%を加え、触媒として酢酸カリウムおよび酢酸マグネシウムを仕込み、重合容器の減圧-窒素注入を3回行って窒素置換を行った後、無水酢酸(水酸基に対して1.08モル当量)を更に添加し、150℃まで昇温し、還流状態で2時間アセチル化反応を行った。
<Synthesis of liquid crystal polymer>
6-hydroxy-2-naphthoic acid (HNA) 60 mol%, 4,4-dihydroxybiphenyl (BP) 20 mol%, terephthalic acid (TPA) 15.5 mol%, 2,6 -Add 4.5 mol% of naphthalene dicarboxylic acid (NADA), charge potassium acetate and magnesium acetate as catalysts, depressurize the polymerization vessel-nitrogen injection three times to perform nitrogen substitution, then acetic anhydride (for hydroxyl groups 1.08 molar equivalents) was further added, the temperature was raised to 150° C., and the acetylation reaction was carried out under reflux for 2 hours.

アセチル化終了後、酢酸留出状態にした重合容器を0.5℃/分で昇温して、槽内の溶融体温度が310℃になったところで重合物を抜き出し、冷却固化した。得られた重合物を粉砕し目開き2.0mmの篩を通過する大きさに粉砕してプレポリマーを得た。 After the acetylation was completed, the polymerization vessel in which acetic acid was distilled was heated at a rate of 0.5° C./min, and when the melt temperature in the vessel reached 310° C., the polymer was withdrawn and cooled to solidify. The resulting polymer was pulverized to a size that passed through a sieve with an opening of 2.0 mm to obtain a prepolymer.

次に、上記で得られたプレポリマーを、ヤマト科学(株)製のオーブンでヒーターにより、温度を室温から14時間かけて310℃まで昇温した後、310℃で1時間保持して固相重合を行った。その後室温で自然放熱し、液晶ポリマーを得た。メトラー製の顕微鏡用ホットステージ(商品名:FP82HT)を備えたオリンパス(株)製の偏光顕微鏡(商品名:BH-2)を用い、液晶ポリマーを顕微鏡加熱ステージ上にて加熱溶融させ、光学異方性の有無から液晶性を示すことを確認した。 Next, the prepolymer obtained above is heated from room temperature to 310°C over 14 hours with a heater in an oven manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd., and then held at 310°C for 1 hour to form a solid phase. Polymerization was carried out. After that, the heat was spontaneously released at room temperature to obtain a liquid crystal polymer. Using an Olympus polarizing microscope (trade name: BH-2) equipped with a Mettler microscope hot stage (trade name: FP82HT), the liquid crystal polymer is heated and melted on the microscope heating stage to obtain an optical difference. It was confirmed from the presence or absence of tropism that it exhibits liquid crystallinity.

<液晶ポリマー粒子の製造>
(製造例A)
上記で合成した液晶ポリマーの粉末を、日本ニューマチック工業社製SPK-12型ジェットミルに同社製DSF-10型分級機を組み合わせた装置を用いて、粉砕圧0.65MPa、樹脂供給量5kg/hの条件で60分間、連続的に粉砕を行い、偏平状の液晶ポリマー粒子Aを得た。
<Production of liquid crystal polymer particles>
(Production example A)
The powder of the liquid crystal polymer synthesized above was pulverized at a pressure of 0.65 MPa and a resin feed rate of 5 kg/5 using a device that combined a SPK-12 jet mill manufactured by Nippon Pneumatic Industry Co., Ltd. with a DSF-10 classifier manufactured by the same company. Pulverization was continuously performed for 60 minutes under the conditions of h to obtain flat liquid crystal polymer particles A.

(製造例B)
上記で合成した液晶ポリマーの粉末100質量部に対して、熱可塑性樹脂としてポリスチレン(PSジャパン株式会社製、「SGP10」)を900質量部となるように、二軸押出機(株式会社日本製鋼所製、「TEX-α」)を用い、シリンダー温度340℃、スクリュー回転数125rpmで溶融混練して組成物を得た。組成物を円形ノズルから、樹脂押出速度10kg/hrで押出ストランドを得て、カットしてペレット化した。
続いて、得られた組成物ペレット100gを、2Lフラスコ中で40℃に加熱したトルエン900g中に投入し、30分間攪拌し、ポリスチレンをトルエン中に溶解させた。吸引ろ過により不溶成分を回収し、不溶成分を40℃のトルエン90gを用いて3回追加洗浄を行った。追加洗浄後の不溶成分を1μmのフィルターでろ過して回収し乾燥して、液晶ポリマー粒子Bを得た。
(Manufacturing example B)
For 100 parts by mass of the liquid crystal polymer powder synthesized above, a twin-screw extruder (Japan Steel Works, Ltd.) was added to 900 parts by mass of polystyrene (manufactured by PS Japan Co., Ltd., "SGP10") as a thermoplastic resin. (manufactured by TEX-α)), the mixture was melt-kneaded at a cylinder temperature of 340° C. and a screw rotation speed of 125 rpm to obtain a composition. The composition was extruded from a circular nozzle at a resin extrusion rate of 10 kg/hr to obtain extruded strands, cut and pelletized.
Subsequently, 100 g of the resulting composition pellets were put into 900 g of toluene heated to 40° C. in a 2 L flask and stirred for 30 minutes to dissolve polystyrene in toluene. The insoluble components were recovered by suction filtration, and the insoluble components were additionally washed three times with 90 g of toluene at 40°C. After the additional washing, the insoluble components were recovered by filtration through a 1 μm filter and dried to obtain liquid crystal polymer particles B.

<液晶ポリマー粒子の評価>
(粒子の長短度および偏平度の測定)
撹拌装置を備えたガラス製容器中にポリアミック酸ワニスを準備し、上記で合成した各液晶ポリマー粒子を分散媒に分散させたものを添加して攪拌し、懸濁液を得た。その際、液晶ポリマー粒子の濃度がポリアミック酸100質量部に対して10~20質量部になるように調整した。得られた懸濁液をガラス基板に塗布し、乾燥後、300℃で硬化させて、厚さ約25μmのフィルムを製造した。得られたフィルムを、クライオミクロトームを用いて断面方向に切削し、厚さ2.5μmの超薄切片を作成した。得られた超薄切片を光学顕微鏡((株)キーエンス製、型番:VHX6000)を用いて観察倍率1000倍で観察し、粒子少なくとも100個以上について画像処理によって二方向(短軸方向・垂直方向)のフェレー径を測定し、その比(短径/厚み)の平均値を粒子の偏平度とした。なお、図1は、液晶ポリマー粒子Aを用いて得られたフィルムの断面方向の超薄切片を光学顕微鏡で撮影した写真である。
<Evaluation of liquid crystal polymer particles>
(Measuring length and flatness of particles)
A polyamic acid varnish was prepared in a glass vessel equipped with a stirrer, and the liquid crystal polymer particles synthesized above dispersed in a dispersion medium were added and stirred to obtain a suspension. At that time, the concentration of the liquid crystal polymer particles was adjusted to 10 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of polyamic acid. The resulting suspension was applied to a glass substrate, dried and cured at 300° C. to produce a film with a thickness of about 25 μm. The obtained film was cut in the cross-sectional direction using a cryomicrotome to prepare an ultra-thin section with a thickness of 2.5 μm. The resulting ultra-thin section was observed with an optical microscope (manufactured by Keyence Corporation, model number: VHX6000) at a magnification of 1000 times, and at least 100 particles were subjected to image processing in two directions (minor axis direction / vertical direction). The Feret diameter was measured, and the average value of the ratio (minor diameter/thickness) was taken as the flatness of the particles. FIG. 1 is a photograph taken with an optical microscope of an ultra-thin section of the film obtained using the liquid crystal polymer particles A in the cross-sectional direction.

次に、クライオミクロトームを用いてフィルムを水平面方向に切削し、厚さ1μmの超薄切片を作成する。得られた超薄切片を光学顕微鏡で観察し、少なくとも100個以上の液晶ポリマー粒子を画像処理によって二方向(長軸方向・横軸方向)のフェレー径を測定し、その比(長径/短径)の平均値を粒子の長短度とした。 Next, a cryomicrotome is used to cut the film in the horizontal direction to prepare an ultra-thin section with a thickness of 1 μm. The resulting ultra-thin section was observed with an optical microscope, and at least 100 liquid crystal polymer particles were subjected to image processing to measure Feret diameters in two directions (major axis direction and lateral axis direction), and the ratio (major axis / minor axis ) was taken as the length of the particles.

(粒径分布の測定)
上記で合成した各液晶ポリマー粒子の粒径分布をレーザー回折・散乱法粒径分布測定装置(ベックマン・コールター社製、LS 13 320乾式システム、トルネードドライパウダーモジュール装着)で測定した。粒径分布を示すパラメータであるD50およびD90は、測定データから演算結果として得た。結果を表1に示した。
(Measurement of particle size distribution)
The particle size distribution of each of the liquid crystal polymer particles synthesized above was measured with a laser diffraction/scattering method particle size distribution analyzer (LS 13 320 dry system, manufactured by Beckman Coulter, equipped with a Tornado dry powder module). D50 and D90 , which are parameters indicating the particle size distribution, were obtained as calculation results from the measured data. Table 1 shows the results.

(融点の測定)
上記で合成した各液晶ポリマー粒子の融点を、ISO11357、ASTM D3418の試験方法に準拠して、日立ハイテクサイエンス(株)製の示差走査熱量計(DSC)により測定した。このとき、昇温速度10℃/分で室温から360~380℃まで昇温してポリマーを完全に融解させた後、速度10℃/分で30℃まで降温し、更に10℃/分の速度で380℃まで昇温するときに得られる吸熱ピークの頂点を融点(Tm)とした。測定結果を表1に示した。
(Measurement of melting point)
The melting point of each liquid crystal polymer particle synthesized above was measured by a differential scanning calorimeter (DSC) manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd. in accordance with the test methods of ISO11357 and ASTM D3418. At this time, after the temperature was raised from room temperature to 360 to 380°C at a temperature elevation rate of 10°C/min to completely melt the polymer, the temperature was lowered to 30°C at a rate of 10°C/min, and further at a rate of 10°C/min. The apex of the endothermic peak obtained when the temperature was raised to 380° C. was taken as the melting point (Tm 2 ). Table 1 shows the measurement results.

Figure 2023030680000017
Figure 2023030680000017

<銅張積層板の製造>
(実施例1)
撹拌装置を備えたガラス製容器中にm-トルイジン(tol)60%、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル(DDE)40%および所定の濃度になるようにN,N-ジメチルアセトアミドを入れ、窒素雰囲気下25℃で撹拌し、溶液を得た。この溶液にピロメリット酸二無水物(PMDA)100%を数回に分けて投入し、窒素雰囲気下25℃で撹拌し、ポリアミック酸ワニスを得た。得られたポリアミック酸ワニスに、ワニス中のポリアミック酸100質量部に対して50質量部の液晶ポリマー粒子Aを添加し、組成物を得た。
<Production of copper-clad laminate>
(Example 1)
60% m-toluidine (tol), 40% 4,4'-diaminodiphenyl ether (DDE), and N,N-dimethylacetamide to a given concentration were placed in a glass vessel equipped with a stirrer, and a nitrogen atmosphere was added. Stir at 25° C. to obtain a solution. 100% pyromellitic dianhydride (PMDA) was added in several portions to this solution and stirred at 25° C. under a nitrogen atmosphere to obtain a polyamic acid varnish. To the resulting polyamic acid varnish was added 50 parts by mass of liquid crystal polymer particles A per 100 parts by mass of polyamic acid in the varnish to obtain a composition.

得られた組成物を銅箔(厚さ:18μm)上に塗布した後、1.0℃/分の昇温速度で30℃から200℃まで加熱し、続いて、8.0℃/分の昇温速度で350℃まで加熱し、350℃で1時間保持した。加熱によって組成物を硬化させ、銅箔上にポリイミドフィルム(厚さ:40μm)を形成して、銅張積層板Aを製造した。 After applying the obtained composition on a copper foil (thickness: 18 μm), it was heated from 30° C. to 200° C. at a temperature increase rate of 1.0° C./min, followed by 8.0° C./min. It was heated up to 350° C. at a heating rate and held at 350° C. for 1 hour. The composition was cured by heating to form a polyimide film (thickness: 40 μm) on the copper foil to produce a copper-clad laminate A.

また、同様に、得られた組成物を銅箔上に塗布した後、2.0℃/分の昇温速度で30℃から200℃まで加熱し、続いて、8.0℃/分の昇温速度で350℃まで加熱し、350℃で1時間保持した以外は同様にして、対照となる銅張積層板(対照品)を製造した。 Similarly, after applying the obtained composition on a copper foil, it was heated from 30 ° C. to 200 ° C. at a temperature increase rate of 2.0 ° C./min. A control copper-clad laminate (control product) was produced in the same manner except that the material was heated to 350° C. at a temperature rate and held at 350° C. for 1 hour.

(比較例1)
液晶ポリマー粒子Aの代わりに液晶ポリマー粒子Bを用いた以外は、実施例1と同様にして、銅張積層板Bを製造した。
(Comparative example 1)
A copper clad laminate B was produced in the same manner as in Example 1, except that the liquid crystal polymer particles B were used instead of the liquid crystal polymer particles A.

また、同様に、得られた組成物を銅箔上に塗布した後、2.0℃/分の昇温速度で30℃から200℃まで加熱し、続いて、8.0℃/分の昇温速度で350℃まで加熱し、350℃で1時間保持した以外は同様にして、対照となる銅張積層板(対照品)を製造した。 Similarly, after applying the obtained composition on a copper foil, it was heated from 30 ° C. to 200 ° C. at a temperature increase rate of 2.0 ° C./min. A control copper-clad laminate (control product) was produced in the same manner except that the material was heated to 350° C. at a temperature rate and held at 350° C. for 1 hour.

(比較例2)
液晶ポリマー粒子Aの代わりにシリカ粒子(デンカ社製シリカ微粒子SFP-130MC)を用いた以外は、実施例1と同様にして、銅張積層板Cを製造した。
(Comparative example 2)
A copper-clad laminate C was produced in the same manner as in Example 1, except that silica particles (silica fine particles SFP-130MC manufactured by Denka Co., Ltd.) were used instead of the liquid crystal polymer particles A.

また、同様に、得られた組成物を銅箔上に塗布した後、2.0℃/分の昇温速度で30℃から200℃まで加熱し、続いて、8.0℃/分の昇温速度で350℃まで加熱し、350℃で1時間保持した以外は同様にして、対照となる銅張積層板(対照品)を製造した。 Similarly, after applying the obtained composition on a copper foil, it was heated from 30 ° C. to 200 ° C. at a temperature increase rate of 2.0 ° C./min. A control copper-clad laminate (control product) was produced in the same manner except that the material was heated to 350° C. at a temperature rate and held at 350° C. for 1 hour.

<銅張積層板の評価>
(配向性の測定)
上記で製造したポリイミドフィルムについて、クライオミクロトームを用いて断面方向に切削し、厚さ2.5μmの超薄切片を作成した。得られた超薄切片を光学顕微鏡((株)キーエンス製、型番:VHX6000)を用いて観察倍率1000倍で観察し、粒子少なくとも100個以上について画像処理によって長軸方向のフェレー径と垂直方向のフェレー径を測定した。長軸方向のフェレー径の平均値aと垂直方向のフェレー径の平均値bの比(a/b)を算出し、その結果を表2に示した。
<Evaluation of copper clad laminate>
(Measurement of orientation)
The polyimide film produced above was cut in the cross-sectional direction using a cryomicrotome to prepare an ultra-thin slice with a thickness of 2.5 μm. The obtained ultrathin section was observed with an optical microscope (manufactured by Keyence Corporation, model number: VHX6000) at an observation magnification of 1000 times, and image processing was performed for at least 100 particles to determine the Feret diameter in the longitudinal direction and the vertical direction. Feret diameter was measured. The ratio (a/b) of the average value a of Feret diameters in the longitudinal direction to the average value b of Feret diameters in the vertical direction was calculated, and the results are shown in Table 2.

(表面粗さの測定)
上記で製造した各フィルムを3mm×80mmの短冊状に切出してフィルムサンプルを得た。続いて、フィルムサンプルの表面粗さを、オリンパス社製OLS5000型レーザー顕微鏡を用いて測定した。測定結果を表2に示した。
(Measurement of surface roughness)
Each film produced above was cut into strips of 3 mm×80 mm to obtain film samples. Subsequently, the surface roughness of the film sample was measured using an Olympus OLS5000 laser microscope. Table 2 shows the measurement results.

(反り低減量の測定)
上記で製造した各銅張積層板を100mm×100mmのサイズに切り出して、サンプルを得た。サンプルの銅箔が下側、ポリイミドフィルムが上側を向くように、台(水平面)に静置した後、4隅の上がり幅を測定し、その平均値を反り値とした。同様に対照となる銅張積層板(対照品)についても反り値を測定した。反り低減量(mm)は、下記式:
反り低減量=対照品の反り値-銅張積層板の反り値
で算出し、結果を表2に示した。
(Measurement of warpage reduction amount)
Each copper-clad laminate produced above was cut into a size of 100 mm×100 mm to obtain a sample. After standing on a stand (horizontal surface) with the copper foil of the sample facing downward and the polyimide film facing upward, the width of rise at the four corners was measured, and the average value was taken as the warpage value. Similarly, the warpage value was measured for a copper-clad laminate (control product) as a control. The amount of warpage reduction (mm) is calculated using the following formula:
Warpage reduction amount=warpage value of control product−warpage value of copper-clad laminate, and the results are shown in Table 2.

Figure 2023030680000018
Figure 2023030680000018

Claims (9)

ポリイミドフィルムと銅箔とを備える銅張積層板であって、
前記ポリイミドフィルムが、ポリイミド樹脂と液晶ポリマー粒子とを含み、
前記液晶ポリマー粒子が、下記で定義される長径、短径、および厚みが下記(A)および(B)の条件:
(A)長径と短径の比である長短度の平均値が1.2以上であること、
(B)短径と厚みの比である偏平度の平均値が1.2以上であること、
を満たす、銅張積層板。
A copper-clad laminate comprising a polyimide film and a copper foil,
The polyimide film contains polyimide resin and liquid crystal polymer particles,
The liquid crystal polymer particles have the following conditions (A) and (B):
(A) the average value of the length, which is the ratio of the length and breadth, is 1.2 or more;
(B) the average value of the flatness, which is the ratio of the minor axis to the thickness, is 1.2 or more;
A copper clad laminate that satisfies
前記液晶ポリマー粒子の粒径分布における累積分布50%径D50が20μm以下であり、かつ、累積分布90%径D90がD50の2.5倍以下である、請求項1に記載の銅張積層板。 The copper according to claim 1, wherein the cumulative distribution 50% diameter D50 in the particle size distribution of the liquid crystal polymer particles is 20 µm or less, and the cumulative distribution 90% diameter D90 is 2.5 times or less of D50 . tension laminate. 前記液晶ポリマー粒子が、ヒドロキシカルボン酸に由来する構成単位(I)と、ジオール化合物に由来する構成単位(II)と、ジカルボン酸に由来する構成単位(III)とを含む、請求項1または2に記載の銅張積層板。 Claim 1 or 2, wherein the liquid crystal polymer particles contain a structural unit (I) derived from a hydroxycarboxylic acid, a structural unit (II) derived from a diol compound, and a structural unit (III) derived from a dicarboxylic acid. The copper-clad laminate according to . 前記ヒドロキシカルボン酸に由来する構成単位(I)が、6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸に由来する構成単位である、請求項1~3のいずれか一項に記載の銅張積層板。 4. The copper-clad laminate according to claim 1, wherein the structural unit (I) derived from hydroxycarboxylic acid is a structural unit derived from 6-hydroxy-2-naphthoic acid. 前記構成単位(I)の組成比が、前記液晶ポリマー粒子全体の構成単位に対して、40モル%以上80モル%以下である、請求項1~4のいずれか一項に記載の銅張積層板。 The copper clad laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the composition ratio of the structural unit (I) is 40 mol% or more and 80 mol% or less with respect to the structural units of the entire liquid crystal polymer particle. board. 前記液晶ポリマー粒子の含有量が、前記ポリイミド樹脂100質量部に対して、10質量部以上90質量部以下である、請求項1~5のいずれか一項に記載の銅張積層板。 The copper clad laminate according to any one of claims 1 to 5, wherein the content of the liquid crystal polymer particles is 10 parts by mass or more and 90 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polyimide resin. 前記ポリイミドフィルムの厚さが5μm以上100μm以下である、請求項1~6のいずれか一項に記載の銅張積層板。 The copper-clad laminate according to any one of claims 1 to 6, wherein the polyimide film has a thickness of 5 µm or more and 100 µm or less. 前記ポリイミドフィルムの表面粗さRaが1.0μm以下である、請求項1~7のいずれか一項に記載の銅張積層板。 The copper-clad laminate according to any one of claims 1 to 7, wherein the polyimide film has a surface roughness Ra of 1.0 µm or less. 請求項1~8のいずれか一項に記載の銅張積層板を備える電子回路基板であって、
前記銅張積層板の銅箔面に回路パターンを有する、電子回路基板。
An electronic circuit board comprising the copper clad laminate according to any one of claims 1 to 8,
An electronic circuit board having a circuit pattern on the copper foil surface of the copper-clad laminate.
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