JPH10336013A - Input level variable buffer and its adjusting method - Google Patents

Input level variable buffer and its adjusting method

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JPH10336013A
JPH10336013A JP9157970A JP15797097A JPH10336013A JP H10336013 A JPH10336013 A JP H10336013A JP 9157970 A JP9157970 A JP 9157970A JP 15797097 A JP15797097 A JP 15797097A JP H10336013 A JPH10336013 A JP H10336013A
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JP
Japan
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information
buffer circuit
input buffer
input
mos transistor
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JP9157970A
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Japanese (ja)
Inventor
Tomokazu Enami
智和 榎並
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To adjust an input level without remaking even in the case of the deterioration of an input level caused by noise, etc., by changing a threshold value from one selected information among information from a storing information and information of a control information. SOLUTION: In manufacturing a semiconductor integrated circuit with an input buffer circuit, a storing content (the controlling content of an MOS transistor) is already determined and a two-input selector 118 selects the set value of a storing block 120 to use and only when a set value is used to a control block 119, selects the other. MOS transistor control information of the block 119 or 120 is transmitted to an input buffer circuit 121 by selection by the selector 118. Then, the threshold of an inverter circuit is changed by one information selected by the circuit 118 form among information from the block 120 and information of the block 119.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置に関
し、特に、半導体集積回路に用いられる入力バッファ回
路を有する装置に関する。
The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly, to a device having an input buffer circuit used for a semiconductor integrated circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置の入力信号を内部に取り込む
ための入力バッファ回路として、CMOS構造の回路が
用いられる場合、CMOS構造のインバータ回路で構成
される場合が多い。従って、入力バッファ回路の出力値
は、入力値の論理反転値があらわれる。
2. Description of the Related Art When a circuit having a CMOS structure is used as an input buffer circuit for taking in an input signal of a semiconductor device inside, an inverter circuit having a CMOS structure is often used. Therefore, a logically inverted value of the input value appears as the output value of the input buffer circuit.

【0003】入力バッファ回路には、入力信号レベルが
規定されており、前段の外部と接続する素子に対応して
TTL、CMOS等の各レベルがある。
[0005] The input buffer circuit has an input signal level defined, and has various levels such as TTL and CMOS corresponding to the elements connected to the outside at the preceding stage.

【0004】入力バッファ回路において、特に、入力高
レベル(「VIH」という)と入力低レベル(「VI
L」という)の規定が必要となる。これは、VIH以上
の入力レベルを高レベル(論理値:High)、VIL
以下の入力レベルを低レベル(論理値:Low)とし
て、集積回路内部に取り込むことを規定するものであ
る。理想的には、VIHは低ければ低いほど、VILは
高ければ高いほど、この入力バッファ回路は利用しやす
くなる。
In the input buffer circuit, in particular, the input high level (referred to as "VIH") and the input low level ("VI
L ”) is required. This means that an input level equal to or higher than VIH is set to a high level (logical value: High), VIL
The following input level is defined as a low level (logic value: Low) and is taken into the integrated circuit. Ideally, the lower the VIH and the higher the VIL, the easier this input buffer circuit is to use.

【0005】しかし、入力バッファ回路は、VIHとV
ILの双方ともTTLレベルの規定を満足しなければな
らないこと、半導体製造時には各種設計パラメータのバ
ラツキを避けることが不可能なこと等の理由から、結
局、VIHとVILの双方が、規定に対してできるだけ
マージンをとれるように、入力バッファ回路を設計す
る。
However, the input buffer circuit has VIH and V
Because both IL must satisfy the TTL level specification, and it is impossible to avoid variations in various design parameters at the time of semiconductor manufacturing, ultimately, both VIH and VIL exceed the specification. Design the input buffer circuit so that the margin is as large as possible.

【0006】図5に、従来の入力バッファ回路の回路構
成の一例を示す。図5を参照すると、このインバータ回
路においては、PチャネルのMOSトランジスタ501
とNチャネルのMOSトランジスタ502のドレイン端
子が接続され、PチャネルMOSトランジスタ501の
ソース端子には高電位側電源VDD403、Nチャネル
トランジスタ502のソース端子には低電位側電源VS
S404がそれぞれ接続され、入力端子は、MOSトラ
ンジスタ501と502のゲート端子に接続されてお
り、出力端子は、MOSトランジスタ501と502の
ドレイン端子に接続されている。
FIG. 5 shows an example of a circuit configuration of a conventional input buffer circuit. Referring to FIG. 5, in this inverter circuit, a P-channel MOS transistor 501 is provided.
And the drain terminal of an N-channel MOS transistor 502 are connected, the source terminal of the P-channel MOS transistor 501 is the high-potential power supply VDD 403, and the source terminal of the N-channel transistor 502 is the low-potential power supply VS
S404 is respectively connected, the input terminal is connected to the gate terminals of the MOS transistors 501 and 502, and the output terminal is connected to the drain terminals of the MOS transistors 501 and 502.

【0007】入力レベルは、このNチャネルトランジス
タ502とPチャネルトランジスタ501の閾値が各々
どこにあるかで決まる。
The input level is determined by where the threshold values of the N-channel transistor 502 and the P-channel transistor 501 are.

【0008】MOSトランジスタの構成パラメータは数
多くあるが、MOSトランジスタの閾値を調整する容易
な方法として、MOSトランジスタのチャネル長(L)
とチャネル幅(W)の値を変更する方法が用いられてい
る。従って、入力バッファ回路のVIHとVILを変更
するために、チャネル長とチャネル幅を変更する方法が
一般的である。さらに、チャネル長Lに対してチャネル
長Wの値は非常に大きいため、チャネル長Lを一定にし
て、チャネル長Wを変更することによって、半導体製造
時のバラツキの影響をできるだけ小さくするのが一般的
である。
Although there are many configuration parameters of a MOS transistor, an easy method for adjusting the threshold value of the MOS transistor is to use a channel length (L) of the MOS transistor.
And a method of changing the value of the channel width (W). Therefore, in order to change VIH and VIL of the input buffer circuit, it is common to change the channel length and channel width. Furthermore, since the value of the channel length W is very large with respect to the channel length L, it is general to make the channel length L constant and change the channel length W to minimize the influence of variations during semiconductor manufacturing. It is a target.

【0009】ただ、回路構成やレートなどの要因によ
り、VDDやVSSに変動が生じ、設計通りの電位差を
保つことができなくなった時や、何らかの原因によって
入力信号のレベルが変動した時は、設計したインバータ
回路の閾値で入力バッファ回路が動作しなくなり、誤動
作の原因となる。
However, when VDD and VSS fluctuate due to factors such as the circuit configuration and the rate, and it becomes impossible to maintain the potential difference as designed, or when the level of the input signal fluctuates for some reason, the design is made. The input buffer circuit does not operate at the threshold value of the inverter circuit thus set, which causes a malfunction.

【0010】入力バッファ回路の再設計になると、さら
に下地からのリワークが必要になり、開発期間が延びて
しまう。
[0010] When the input buffer circuit is redesigned, rework from the base is further required, and the development period is extended.

【0011】そこで、例えば特開平5−152930号
公報には、並列に接続したCMOS構造の複数のインバ
ータ回路(それぞれしきい値が異なる)のうち、駆動回
路を適宜導通/遮断して、入力バッファ回路の閾値を容
易に変更することを可能としたしきい値可変バッファ回
路が提案されている。
For example, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 5-152930 discloses that, among a plurality of inverter circuits of a CMOS structure (each having a different threshold value) connected in parallel, a drive circuit is appropriately turned on / off to provide an input buffer. There has been proposed a variable threshold voltage buffer circuit that can easily change the threshold value of the circuit.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記特開平5
−152930号公報に提案されるしきい値可変バッフ
ァ回路においては、入力レベルの変更は容易であるが、
量産は不可能であるという問題点を有している。つま
り、電源投入後又は、リセット後の数クロック後の変更
前までは、変更前の入力レベルのままであるため、この
変更前の入力レベルの悪化した値が、端子の入力レベル
として規定される。
However, the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open
In the variable threshold voltage buffer circuit proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 152930, the input level can be easily changed.
There is a problem that mass production is impossible. In other words, the input level remains unchanged before the change after a few clocks after the power is turned on or after the reset. Therefore, the value of the input level before the change is defined as the input level of the terminal. .

【0013】従って、製造/量産するためには、製造時
に、導通/遮断トランジスタが特定できていなければな
らない。
Therefore, in order to manufacture / mass-produce, it is necessary that the conducting / cut-off transistor be specified at the time of manufacturing.

【0014】また、たとえ、ヒューズ(fuse)を使
用して、製造時に導通/遮断トランジスタを特定できて
いたとしても、すでに特定したサンプルとは製造条件が
異なっている。従って、製造条件は製造ロットによって
バラツキがあるため、実使用時に近い状況で導通/遮断
トランジスタを決定し、その製造条件での製品に反映す
る必要がある。
Further, even if a conduction / shutoff transistor can be specified at the time of manufacture using a fuse, the manufacturing conditions are different from those of the already specified sample. Therefore, since the manufacturing conditions vary depending on the manufacturing lot, it is necessary to determine the conduction / shutoff transistor in a state close to the time of actual use, and reflect it in the product under the manufacturing conditions.

【0015】さらに、バッファ回路のノイズによる誤動
作は、原因の追及が困難であり、ノイズを考慮した設計
は非常に難しく、現段階では不可能に近い。このため、
実使用時に近い状況で導通/非導通トランジスタを決定
することが、最も確度が高い。
Further, it is difficult to find the cause of a malfunction due to noise in the buffer circuit, and it is very difficult to design the circuit in consideration of the noise. For this reason,
It is most accurate to determine the conducting / non-conducting transistor in a situation close to the time of actual use.

【0016】また、上記特開平5−152930号公報
に提案されるバッファ回路においては、半導体集積回路
内の全入力端子に付加する時など、導通/遮断するトラ
ンジスタの制御線や処理するヒューズ(fuse)の数
が多くなってしまうという問題点がある。
In the buffer circuit proposed in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-152930, a control line of a transistor to be turned on / off or a fuse to be processed (fuse), for example, when added to all input terminals in a semiconductor integrated circuit. ) Is increased.

【0017】これら制御線やヒューズ(fuse)の数
は少なければ少ないほど、レイアウト上の問題等を回避
できるため、チップサイズが小さくなり、コスト削減が
可能となる。
The smaller the number of these control lines and fuses, the more the layout problem and the like can be avoided. Therefore, the chip size is reduced and the cost can be reduced.

【0018】したがって、本発明は、上記問題点に鑑み
てなされたものであって、その目的は、CMOS構造の
インバータ回路を入力バッファ回路として有する半導体
集積回路において、ノイズ等を原因とする入力レベル悪
化時にも、リワーク無しに容易に入力レベルを調整可能
とした入力レベル可変バッファおよびその調整方法を提
供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit having an inverter circuit having a CMOS structure as an input buffer circuit, in which an input level caused by noise or the like is reduced. It is an object of the present invention to provide an input level variable buffer capable of easily adjusting the input level without rework even when the deterioration occurs, and a method of adjusting the input level variable buffer.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は、CMOS構造の入力バッファ回路として
インバータ回路を有する半導体集積回路において、量産
時に情報を不揮発的に格納できる記憶手段と、ソフトウ
ェアで制御可能なレジスタを有する制御手段と、駆動で
きるトランジスタの数を適宜変更することにより閾値を
変更できる、少なくとも1つ以上並列接続されたインバ
ータ回路とを設け、前記記憶手段からの情報と前記制御
手段の情報のうち、どちらか一方の選択された情報から
閾値を変更することを特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention relates to a semiconductor integrated circuit having an inverter circuit as an input buffer circuit having a CMOS structure. Control means having a register which can be controlled by a control circuit, and at least one or more inverter circuits connected in parallel which can change a threshold value by appropriately changing the number of transistors which can be driven. The method is characterized in that the threshold value is changed from one of the pieces of information of the means.

【0020】本発明の入力レベル調整方法は、CMOS
構造のインバータ回路を構成する動作トランジスタの数
を、前記駆動トランジスタの間に挿入されたスイッチト
ランジスタの導通/非導通により適宜変更することによ
り、閾値が変更可能とされた少なくとも一つ以上のイン
バータ回路を含む入力バッファ回路を備え、さらに不揮
発性記憶手段を有する半導体集積回路の入力レベルを調
整する方法において、ソフトウェア的に、前記入力バッ
ファ回路に対して、導通または非導通トランジスタを設
定する第1のステップと、設定値を前記入力バッファ回
路に入力するように制御する第2のステップと、ICテ
スタで入力レベルを測定する第3のステップと、前記測
定結果から、導通または非導通トランジスタを決定する
第4のステップと、前記決定した情報を、量産時に反映
できるように、不揮発性記憶部へ格納する第5のステッ
プと、前記格納情報が前記入力バッファ回路へ入力する
ように制御する第6のステップと、を有することを特徴
とする。
The input level adjusting method of the present invention uses a CMOS
At least one or more inverter circuits whose threshold values can be changed by appropriately changing the number of operation transistors constituting the inverter circuit having the structure according to conduction / non-conduction of a switch transistor inserted between the drive transistors. A method of adjusting an input level of a semiconductor integrated circuit further comprising an input buffer circuit including a nonvolatile memory means, wherein a first conductive or non-conductive transistor is set for the input buffer circuit by software. A step, a second step of controlling a set value to be input to the input buffer circuit, a third step of measuring an input level with an IC tester, and determining a conductive or non-conductive transistor from the measurement result. In the fourth step, an error is made so that the determined information can be reflected at the time of mass production. A fifth step of storing the nonvolatile storage unit, the storage information and having a sixth step of controlling so as to input to the input buffer circuit.

【0021】[作用]また、本発明の入力バッファ回路
によれば、調整用の制御信号線を少なくすることができ
るので、レイアウト上の問題等の回避ができるため、チ
ップサイズが小さくなり、コスト削減が可能となる。
[Operation] Further, according to the input buffer circuit of the present invention, the number of control signal lines for adjustment can be reduced, so that layout problems and the like can be avoided. Therefore, the chip size is reduced and the cost is reduced. Reduction is possible.

【0022】また本発明による調整方法をとれば、入力
レベルの特性が設計目的に達しない時でも、下地からの
リワークが不要となる。また、実使用時に近い状況での
入力バッファ回路の入力レベルの調整が可能なので、確
度の高い特性改善策をとることができ、開発期間を大幅
に短縮することができる。
According to the adjusting method of the present invention, even when the characteristics of the input level do not reach the design purpose, the rework from the base is not required. In addition, since the input level of the input buffer circuit can be adjusted in a state close to the time of actual use, a highly accurate characteristic improvement measure can be taken, and the development period can be greatly reduced.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について以下
に説明する。本発明の入力バッファ回路は、その好まし
い実施の形態において、高位側電源VDDと低位側電源
VSS間に挿入されるPチャネルMOSトランジスタと
NチャネルMOSトランジスタよりなり互いに並列接続
された複数のインバータ回路のうち、1又は複数のイン
バータにおいて、PチャネルMOSトランジスタとNチ
ャネルMOSトランジスタに、直列にスイッチ用トラン
ジスタ(図1の106、107、110、111、11
4、115)を挿入し、スイッチ用トランジスタのオン
・オフにより、動作インバータの数が変更され閾値が可
変に設定自在とされるインバータ回路と、インバータの
選択を設定する情報を不揮発的に格納できる記憶手段
(図1の120)と、ソフトウェアで制御可能なレジス
タを有する制御手段(図1の119)と、を備え、記憶
手段(図1の120)からの情報と制御手段(図1の1
19)の情報のうちセレクタ(図1の118)で選択さ
れたいずれか一方の情報により、前記インバータ回路の
閾値を変更する、ようにしたものである。
Embodiments of the present invention will be described below. In a preferred embodiment, the input buffer circuit according to the present invention comprises a plurality of inverter circuits, which are composed of a P-channel MOS transistor and an N-channel MOS transistor inserted between a high-potential power supply VDD and a low-potential power supply VSS and are connected in parallel to each other. In one or a plurality of inverters, a switching transistor (106, 107, 110, 111, 11 in FIG. 1) is connected in series to a P-channel MOS transistor and an N-channel MOS transistor.
4, 115), the number of operating inverters is changed by turning on / off the switching transistor, and the threshold value can be set variably, and information for setting the selection of the inverter can be stored in a nonvolatile manner. A storage means (120 in FIG. 1) and a control means (119 in FIG. 1) having a register which can be controlled by software are provided, and information from the storage means (120 in FIG. 1) and the control means (1 in FIG. 1) are provided.
The threshold value of the inverter circuit is changed according to one of the information items (19) selected by the selector (118 in FIG. 1).

【0024】上記本発明の実施の形態について、更に詳
細に説明するため、本発明の実施例について図面を参照
して以下に説明する。
In order to describe the above-mentioned embodiment of the present invention in more detail, an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0025】[実施例1]図1は、本発明の一実施例の
回路構成を示す図である。本発明の一実施例の入力バッ
ファ回路、および入力レベル調整方法について以下に説
明する。
[Embodiment 1] FIG. 1 is a diagram showing a circuit configuration of an embodiment of the present invention. An input buffer circuit and an input level adjusting method according to an embodiment of the present invention will be described below.

【0026】図1を参照すると、入力バッファ回路12
1は、複数のCMOSインバータ構造が並列に接続され
ている。NチャネルMOSトランジスタ103、10
5、109、113の各ソース端子は低電位側電源VS
Sに接続されている。NチャネルMOSトランジスタ1
06、110、114のドレイン端子は出力端子102
に接続され、ソース端子は、NチャネルMOSトランジ
スタ105、109、113のドレイン端子と接続され
ている。またNチャネルMOSトランジスタ103のド
レイン端子も出力端子102に接続されている。
Referring to FIG. 1, the input buffer circuit 12
1, a plurality of CMOS inverter structures are connected in parallel. N channel MOS transistors 103, 10
5, 109 and 113 are connected to the low potential side power source VS
Connected to S. N channel MOS transistor 1
06, 110 and 114 are output terminals 102
, And the source terminal is connected to the drain terminals of the N-channel MOS transistors 105, 109, and 113. The drain terminal of the N-channel MOS transistor 103 is also connected to the output terminal 102.

【0027】PチャネルMOSトランジスタ104、1
08、112、116の各ソース端子には高電位側電源
VDDが接続されている。PチャネルMOSトランジス
タ107、111、115のドレイン端子は出力端子1
02に接続され、ソース端子は、PチャネルMOSトラ
ンジスタ108、112、116のドレイン端子と接続
されている。またPチャネルMOSトランジスタ104
のドレイン端子も出力端子102に接続されている。
P channel MOS transistors 104, 1
The high-potential-side power supply VDD is connected to each of the source terminals 08, 112, and 116. The drain terminals of P-channel MOS transistors 107, 111, and 115 are output terminal 1
02, and the source terminal is connected to the drain terminals of the P-channel MOS transistors 108, 112 and 116. P-channel MOS transistor 104
Are also connected to the output terminal 102.

【0028】入力端子101は、NチャネルMOSトラ
ンジスタ104、108、112、116と、Pチャネ
ルMOSトランジスタ103、105、109、113
のゲート端子に共通接続されている。
The input terminal 101 is connected to N-channel MOS transistors 104, 108, 112 and 116 and P-channel MOS transistors 103, 105, 109 and 113.
Are commonly connected to the gate terminals of

【0029】エンコーダ(Encoder)回路117
は、3ビットのデコードされた信号を8ビットにエンコ
ードする公知の論理ブロックからなり、セレクタ118
は、2入力セレクタである。制御ブロック119は、C
PU(不図示)等のデータバス経由でソフトウェア的に
制御が可能なレジスタを有しており、セレクタ118の
選択制御を行うことにより、容易にインバータ回路12
1を構成するMOSトランジスタ107、111、11
5、106、110、114を制御可能である。Pチャ
ネルMOSトランジスタ107、111、115、Nチ
ャネルMOSトランジスタ106、110、114のゲ
ート端子はエンコーダ117の出力に接続されており、
エンコーダ117の出力によりこれらMOSトランジス
タのオン/オフが制御される。
Encoder circuit 117
Consists of a well-known logic block that encodes a 3-bit decoded signal into 8-bit,
Is a two-input selector. The control block 119 uses C
It has a register that can be controlled by software via a data bus such as a PU (not shown). By controlling the selection of the selector 118, the inverter circuit 12 can be easily controlled.
MOS transistors 107, 111, 11 constituting
5, 106, 110 and 114 can be controlled. The gate terminals of the P-channel MOS transistors 107, 111, 115 and the N-channel MOS transistors 106, 110, 114 are connected to the output of the encoder 117,
ON / OFF of these MOS transistors is controlled by the output of the encoder 117.

【0030】記憶ブロック120は、外部及びCPUか
ら設定可能な不揮発性メモリより構成されている。
The storage block 120 is composed of a nonvolatile memory that can be set from the outside and the CPU.

【0031】2入力セレクタ回路118における選択に
より、制御ブロック119または記憶ブロック120の
MOSトランジスタ制御情報が、入力バッファ回路12
1へ伝達される。
By the selection in the two-input selector circuit 118, the MOS transistor control information of the control block 119 or the storage block 120 is transferred to the input buffer circuit 12
1 is transmitted.

【0032】図1に示した入力バッファ回路を有する半
導体集積回路の製造時には、既に記憶内容(MOSトラ
ンジスタの制御内容)が決定されており、2入力セレク
タ118は、記憶ブロック120の設定値を使用するよ
うに選択して、制御ブロック119への設定値を使用す
る時のみ、他方を選択するようにする。
When the semiconductor integrated circuit having the input buffer circuit shown in FIG. 1 is manufactured, the storage contents (the control contents of the MOS transistors) are already determined, and the two-input selector 118 uses the set value of the storage block 120. The other is selected only when the set value in the control block 119 is used.

【0033】入力バッファ回路121において、Nチャ
ネルMOSトランジスタ106、110、114と、P
チャネルMOSトランジスタ107、111、115
は、各々ソース端子に接続されているMOSトランジス
タ動作制御用のスイッチである。
In the input buffer circuit 121, N-channel MOS transistors 106, 110, 114 and P
Channel MOS transistors 107, 111, 115
Are switches for controlling the operation of the MOS transistors connected to the respective source terminals.

【0034】一方、NチャネルMOSトランジスタ10
3、105、109、113とPチャネルMOSトラン
ジスタ104、108、112、116は入力レベルを
調整及び決定するためのトランジスタであり、Nチャネ
ルとPチャネルのトランジスタサイズ比により入力レベ
ルが決定される。
On the other hand, N-channel MOS transistor 10
3, 105, 109 and 113 and P-channel MOS transistors 104, 108, 112 and 116 are transistors for adjusting and determining the input level, and the input level is determined by the transistor size ratio between the N-channel and the P-channel.

【0035】ノイズなど、設計時に、予測不可能な要因
により入力レベルが悪化した時、リワークをなくすため
に、次のような入力レベルの調整方法が有効である。
When the input level deteriorates due to an unpredictable factor such as noise at the time of design, the following input level adjustment method is effective to eliminate rework.

【0036】製造当初は、設計目標通りに、Nチャネル
MOSトランジスタとPチャネルトランジスタのサイズ
比を設定するのは従来方式と同じである。そして、設計
目標通りであれば、これ以上なにもすることはない。
At the beginning of manufacture, setting the size ratio between the N-channel MOS transistor and the P-channel transistor according to the design target is the same as in the conventional method. If the design goals are met, there is nothing more to do.

【0037】しかし、ノイズ等の要因で設計目標より悪
化した場合には、以下のような手順を踏む。図2は、こ
の処理フローを説明するための流れ図である。
However, if it is worse than the design target due to noise or the like, the following steps are taken. FIG. 2 is a flowchart for explaining this processing flow.

【0038】[評価段階] 1.制御ブロック119をソフトウェア的に導通トラン
ジスタを設定する(ステップS1)。
[Evaluation Stage] In the control block 119, the conduction transistor is set by software (step S1).

【0039】2.制御ブロック119の設定値を入力バ
ッファ回路121へ伝達できるようにセレクタ118を
選択する(ステップS2)。
2. The selector 118 is selected so that the set value of the control block 119 can be transmitted to the input buffer circuit 121 (step S2).

【0040】3.LSIテスタ(ICテスタ)等で測定
端子の入力レベルが測定可能なテストパターンを使用し
て測定する(ステップS3)。
3. The input level of the measurement terminal is measured using a test pattern that can be measured by an LSI tester (IC tester) or the like (step S3).

【0041】4.上記ステップ1.とステップ2.を繰
り返し、導通/非導通トランジスタの組み合せを見つけ
る(ステップS4)。
4. Step 1 above. And step 2. Is repeated to find a combination of conducting / non-conducting transistors (step S4).

【0042】5.上記ステップ3.を、製造マージンを
考慮するため(製造バラツキがあるため)、多種の製造
条件で行う(ステップS5)。
5. Step 3 above. Is performed under various manufacturing conditions in order to consider a manufacturing margin (because of manufacturing variations) (step S5).

【0043】6.上記ステップ4.までの各製造条件に
おける測定結果により、入力レベルを改善することを目
的として、導通/非導通トランジスタの組み合せを決定
する(ステップS6)。
6. Step 4 above. Based on the measurement results under the above manufacturing conditions, a combination of conducting / non-conducting transistors is determined for the purpose of improving the input level (step S6).

【0044】上記各ステップにおいて、測定自体は従来
の測定方法と原理的に全く同一のものである。
In each of the above steps, the measurement itself is in principle exactly the same as the conventional measurement method.

【0045】[製造段階] 7.上記ステップの結果を反映して、外部よりアクセス
可能な不揮発性メモリ(フラッシュメモリ等)へ設定値
を書き込む(ステップS7)。
[Manufacturing stage] The set value is written into a non-volatile memory (flash memory or the like) accessible from the outside, reflecting the result of the above step (step S7).

【0046】製造時には、記憶ブロック120のMOS
トランジスタ制御情報が入力バッファ回路に伝達される
ように選択されるので、リワーク(re−work)が
不要となり、入力レベルの改善がはかれる。
At the time of manufacture, the MOS
Since the transistor control information is selected so as to be transmitted to the input buffer circuit, rework is not required, and the input level is improved.

【0047】また、本発明の一実施例として、図3に示
すような入力バッファ回路の構成とすれば、さらに有効
である。
Further, it is more effective to adopt an input buffer circuit as shown in FIG. 3 as an embodiment of the present invention.

【0048】図3は、図1に示したの入力バッファ回路
121と接続関係においては全く同一のものであるが、
インバータ回路を構成する各トランジスタのサイズに、
特に注意している点が異なる。
FIG. 3 is exactly the same as the connection relationship with the input buffer circuit 121 shown in FIG.
The size of each transistor that constitutes the inverter circuit
The points to note are different.

【0049】インバータ回路を構成する各MOSトラン
ジスタについてチャネル長Lを一定にして、チャネル幅
Wのみを一定の比率で変更して配置する。
The channel length L of each MOS transistor constituting the inverter circuit is fixed, and only the channel width W is changed at a fixed ratio.

【0050】図3に示す例では、NチャネルMOSトラ
ンジスタ303のチャネル幅を4W′とすれば、Nチャ
ネルMOS305/309/313のチャネル幅は、3
W′/2W′/1W′、PチャネルMOSトランジスタ
304のチャネル幅を4Wとすれば、PチャネルMOS
トランジスタ308/312/316のチャネル幅には
3W/2W/1Wとする。
In the example shown in FIG. 3, if the channel width of N channel MOS transistor 303 is 4W ', the channel width of N channel MOS 305/309/313 is 3
If the channel width of W '/ 2W' / 1W 'and P-channel MOS transistor 304 is 4 W, the P-channel MOS
The channel width of the transistors 308/312/316 is 3W / 2W / 1W.

【0051】この組み合せでは、ある範囲内で、全ての
整数の組み合せが可能(本例では、単位サイズ×1〜×
15まで)となり、なおかつ最小限の制御線でNチャネ
ルMOSトランジスタ側とPチャネルMOSトランジス
タ側のサイズ比の微調整が可能である。
In this combination, all integers can be combined within a certain range (in this example, the unit size × 1 to ×
15), and the size ratio between the N-channel MOS transistor side and the P-channel MOS transistor side can be finely adjusted with a minimum number of control lines.

【0052】さらに、制御線の数を減らすことができる
ため、チップサイズの縮小化、コスト削減の効果を期待
できる。
Furthermore, since the number of control lines can be reduced, the effects of reducing the chip size and cost can be expected.

【0053】本実施例に示した通り、入力端子毎に微調
整可能であるが、チップサイズ等コスト面で厳しい場合
は、各機能ブロック単位の入力端子グループ毎や、チッ
プの各辺の入力端子グループを作成して、グループ単位
毎複数の入力端子をまとめて調整する方法もある。さら
に、並列に接続するインバータ回路の数を増やせば、さ
らに細かい微調整が可能となる。
As shown in the present embodiment, fine adjustment can be made for each input terminal. However, if cost is severe in terms of chip size or the like, input terminals for each functional block or input terminals for each side of the chip may be used. There is also a method of creating a group and adjusting a plurality of input terminals collectively for each group. Further, if the number of inverter circuits connected in parallel is increased, finer fine adjustment can be performed.

【0054】また、図4に、本発明の第2実施例の入力
バッファ回路の構成を示す。図4において、図1と同じ
構成要素ついては同一の参照番号を付し、重複をさける
ため同一構成の説明は適宜省略する。
FIG. 4 shows the configuration of an input buffer circuit according to a second embodiment of the present invention. 4, the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description of the same components will be appropriately omitted to avoid duplication.

【0055】図4は、不揮発性記憶手段を使用せずに、
ヒューズ(fuse)による信号線の断線による方法を
用いたものである。
FIG. 4 shows a state in which the nonvolatile storage means is not used.
In this method, a signal line is broken by a fuse.

【0056】駆動トランジスタと出力端子102との間
にヒューズ(fuse)122を挿入することによっ
て、前記実施形例1と同様に、詳細な入力レベル閾値微
調整が可能である。
By inserting a fuse 122 between the driving transistor and the output terminal 102, fine adjustment of the input level threshold can be performed in the same manner as in the first embodiment.

【0057】また、この調整結果を量産時に反映させる
ために、評価結果による非導通のMOSトランジスタに
対応するヒューズ(fuse)を断線させればよい。
In order to reflect this adjustment result at the time of mass production, the fuse (fuse) corresponding to the non-conductive MOS transistor based on the evaluation result may be disconnected.

【0058】従って、本実施例によれば、前記実施例1
の不揮発性記憶手段の格納ステップのかわりに、対応す
るヒューズ(fuse)の断線ステップが必要となる。
Therefore, according to this embodiment, the first embodiment is used.
Instead of the storing step of the non-volatile storage means, a step of disconnecting the corresponding fuse is required.

【0059】[0059]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ノイズ等、設計時に考慮が難しい原因に対して、確度の
高い修正が可能となり、リワークの必要がなくなる、と
いう効果を奏する。
As described above, according to the present invention,
This makes it possible to perform highly accurate correction of a cause such as noise that is difficult to consider at the time of design, thereby eliminating the need for rework.

【0060】その理由は、本発明においては、入力レベ
ルが設計目標値に達しない場合、制御線により、入力バ
ッファ回路のインバータ回路のNチャネルトランジスタ
とPチャネルトランジスタのサイズ比を選択して変更で
きる手段を有し、評価時には、制御線を制御ブロックに
よる設定値に変更できる手段を有し、製造時には評価結
果を反映できるように、導通/非導通トランジスタ設定
を外部などから設定できる手段を有する不揮発性の記憶
手段を有し、製造時にはこの設定値を選択することによ
る。
The reason is that in the present invention, when the input level does not reach the design target value, the size ratio between the N-channel transistor and the P-channel transistor of the inverter circuit of the input buffer circuit can be selected and changed by the control line. Means for changing a control line to a set value by a control block at the time of evaluation, and means for externally setting conductive / non-conductive transistor settings so as to reflect the evaluation result at the time of manufacture It has a storage means of the characteristics, and this set value is selected at the time of manufacture.

【0061】また、本発明によれば、入力バッファ回路
のサイズを変えて配置することにより、少ない制御線で
より細かい微調整ができるという効果があり、さらに従
来の入力レベル可変バッファに比較して、レイアウト上
チップサイズの縮小化に寄与し、コスト削減の効果もあ
る。
Further, according to the present invention, by arranging the input buffer circuits with different sizes, there is an effect that finer fine adjustment can be performed with a smaller number of control lines. This contributes to a reduction in chip size in layout, and has an effect of cost reduction.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例の構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例の入力レベル調整方法を示す
図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating an input level adjustment method according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施例の入力バッファ回路の構成の
一例を示す図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a configuration of an input buffer circuit according to one embodiment of the present invention;

【図4】本発明を第2の実施例の構成を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing the configuration of a second embodiment of the present invention.

【図5】従来の入力バッファ回路の構成を示す図であ
る。
FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a conventional input buffer circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 入力バッファ回路の入力端子 102 入力バッファ回路の出力端子 103 NチャネルMOSトランジスタ 104 PチャネルMOSトランジスタ 105 NチャネルMOSトランジスタ 106 NチャネルMOSトランジスタ 107 PチャネルMOSトランジスタ 108 PチャネルMOSトランジスタ 109 NチャネルMOSトランジスタ 110 NチャネルMOSトランジスタ 111 PチャネルMOSトランジスタ 112 PチャネルMOSトランジスタ 113 NチャネルMOSトランジスタ 114 NチャネルMOSトランジスタ 115 PチャネルMOSトランジスタ 116 PチャネルMOSトランジスタ 117 3to8エンコーダ 118 2入力セレクタ 119 制御ブロック 120 記憶ブロック 121 入力バッファ回路 122 fuse 301 入力バッファ回路の入力端子 302 入力バッファ回路の出力端子 303 NチャネルMOSトランジスタ(L=一定、W
=4W′) 304 PチャネルMOSトランジスタ(L=一定、W
=4W) 305 NチャネルMOSトランジスタ(L=一定、W
=3W′) 306 NチャネルMOSトランジスタ 307 PチャネルMOSトランジスタ 308 PチャネルMOSトランジスタ(L=一定、W
=3W) 309 NチャネルMOSトランジスタ(L=一定、W
=2W′) 310 NチャネルMOSトランジスタ 311 PチャネルMOSトランジスタ 312 PチャネルMOSトランジスタ(L=一定、W
=2W) 313 NチャネルMOSトランジスタ(L=一定、W
=1W′) 314 NチャネルMOSトランジスタ 315 PチャネルMOSトランジスタ 316 PチャネルMOSトランジスタ(L=一定、W
=1W) 317 MOSトランジスタ307制御端子 318 MOSトランジスタ311制御端子 319 MOSトランジスタ315制御端子 320 MOSトランジスタ306制御端子 321 MOSトランジスタ310制御端子 322 MOSトランジスタ314制御端子 323 入力バッファ回路 501 PチャネルMOSトランジスタ 502 NチャネルMOSトランジスタ 503 高電位側電源(VDD) 504 低電位側電源(VSS) 505 入力端子 506 出力端子
101 Input terminal of input buffer circuit 102 Output terminal of input buffer circuit 103 N-channel MOS transistor 104 P-channel MOS transistor 105 N-channel MOS transistor 106 N-channel MOS transistor 107 P-channel MOS transistor 108 P-channel MOS transistor 109 N-channel MOS transistor 110 N-channel MOS transistor 111 P-channel MOS transistor 112 P-channel MOS transistor 113 N-channel MOS transistor 114 N-channel MOS transistor 115 P-channel MOS transistor 116 P-channel MOS transistor 117 3 to 8 encoder 118 2-input selector 119 control block 120 storage block 121 input buffer Road 122 fuse 301 output terminal 303 N-channel MOS transistor of the input terminal 302 an input buffer circuit of the input buffer circuit (L = constant, W
= 4W ') 304 P-channel MOS transistor (L = constant, W
= 4W) 305 N-channel MOS transistor (L = constant, W
= 3W ′) 306 N-channel MOS transistor 307 P-channel MOS transistor 308 P-channel MOS transistor (L = constant, W
= 3W) 309 N-channel MOS transistor (L = constant, W
= 2W ′) 310 N-channel MOS transistor 311 P-channel MOS transistor 312 P-channel MOS transistor (L = constant, W
= 2W) 313 N-channel MOS transistor (L = constant, W
= 1W ′) 314 N-channel MOS transistor 315 P-channel MOS transistor 316 P-channel MOS transistor (L = constant, W
= 1 MOS transistor 317 Control terminal 318 MOS transistor 311 control terminal 319 MOS transistor 315 control terminal 320 MOS transistor 306 control terminal 321 MOS transistor 310 control terminal 322 MOS transistor 314 control terminal 323 Input buffer circuit 501 P-channel MOS transistor 502 N Channel MOS transistor 503 High-potential-side power supply (VDD) 504 Low-potential-side power supply (VSS) 505 Input terminal 506 Output terminal

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】CMOS構造の入力バッファ回路としてイ
ンバータ回路を有する半導体集積回路において、 量産時等に、情報を、不揮発的に格納できる記憶手段
と、 ソフトウェアで制御可能なレジスタを有する制御手段
と、 駆動できるトランジスタの数を適宜変更することにより
閾値が変更可能な、少なくとも1つ以上並列接続された
インバータ回路と、 を備え、 前記記憶手段からの情報と前記制御手段の情報のうち選
択されたいずれか一方の情報により前記インバータ回路
の閾値を変更する、ようにしたことを特徴とする入力バ
ッファ回路。
1. A semiconductor integrated circuit having an inverter circuit as an input buffer circuit having a CMOS structure, comprising: storage means capable of storing information in a nonvolatile manner during mass production; control means having a register controllable by software; At least one or more inverter circuits connected in parallel, the threshold value of which can be changed by appropriately changing the number of transistors that can be driven, wherein any one of information from the storage means and information from the control means is selected. An input buffer circuit characterized in that a threshold value of the inverter circuit is changed according to one of the information.
【請求項2】高位側電源と低位側電源間に挿入されるP
チャネルMOSトランジスタとNチャネルMOSトラン
ジスタよりなり、互いに並列に接続された複数のインバ
ータ回路のうち、1又は複数のインバータにおいて前記
PチャネルMOSトランジスタとNチャネルMOSトラ
ンジスタに直列にスイッチを挿入し、前記スイッチのオ
ン・オフにより、動作インバータの数が変更され閾値が
可変に設定自在とされるインバータ回路と、 前記動作インバータの選択を設定する情報を、不揮発的
に格納できる記憶手段と、 ソフトウェアで制御可能なレジスタを有する制御手段
と、 を備え前記記憶手段からの情報と前記制御手段の情報の
うち選択されたいずれか一方の情報により前記インバー
タ回路の閾値を変更する、ようにしたことを特徴とする
入力バッファ回路。
2. A P inserted between a higher power supply and a lower power supply.
A switch is inserted in series with the P-channel MOS transistor and the N-channel MOS transistor in one or a plurality of inverters among a plurality of inverter circuits composed of a channel MOS transistor and an N-channel MOS transistor and connected in parallel with each other; An inverter circuit in which the number of operation inverters is changed and the threshold value can be variably set by turning on / off the power supply; storage means capable of storing information for setting the selection of the operation inverter in a nonvolatile manner; And a control means having a register, wherein the threshold value of the inverter circuit is changed by one of information selected from the information from the storage means and the information from the control means. Input buffer circuit.
【請求項3】CMOS構造のインバータ回路を構成する
動作トランジスタの数を、前記駆動トランジスタの間に
挿入されたスイッチトランジスタの導通/非導通により
適宜変更することにより、閾値が変更可能とされた少な
くとも一つ以上のインバータ回路を含む入力バッファ回
路を備え、さらに不揮発性記憶手段を有する半導体集積
回路の入力レベルを調整する方法において、 ソフトウェア的に、前記入力バッファ回路に対して、導
通または非導通トランジスタを設定する第1のステップ
と、 設定値を前記入力バッファ回路に入力するように制御す
る第2のステップと、 ICテスタで入力レベルを測定する第3のステップと、 前記測定結果から、導通または非導通トランジスタを決
定する第4のステップと、 前記決定した情報を、量産時に反映できるように、不揮
発性記憶部へ格納する第5のステップと、 前記格納情報が前記入力バッファ回路へ入力するように
制御する第6のステップと、 を有することを特徴とする入力レベル調整方法。
3. The threshold value can be changed at least by appropriately changing the number of operation transistors constituting an inverter circuit having a CMOS structure according to conduction / non-conduction of a switch transistor inserted between the drive transistors. A method for adjusting an input level of a semiconductor integrated circuit having an input buffer circuit including one or more inverter circuits and further having a non-volatile memory means, comprising: A first step of setting an input level to the input buffer circuit; a third step of measuring an input level with an IC tester; A fourth step of determining a non-conducting transistor; and mass-producing the determined information. Input level adjustment, comprising: a fifth step of storing the information in the nonvolatile storage unit, and a sixth step of controlling the storage information to be input to the input buffer circuit so that the input information can be reflected in the input buffer circuit. Method.
【請求項4】量産時に格納できる記憶手段が、ヒューズ
よりなることを特徴とする請求項1記載の入力バッファ
回路。
4. The input buffer circuit according to claim 1, wherein the storage means capable of storing the data during mass production comprises a fuse.
【請求項5】動作トランジスタ決定情報を不揮発性記憶
部へ格納するステップが、ヒューズの断線ステップであ
ることを特徴とする請求項3記載の入力レベル調整方
法。
5. The input level adjusting method according to claim 3, wherein the step of storing the operating transistor determination information in the nonvolatile storage unit is a step of disconnecting a fuse.
【請求項6】CMOS構造のインバータ回路を複数並列
接続し、動作トランジスタを変更することにより閾値を
変更させる入力バッファ回路において、 並列接続されたインバータ回路を構成するトランジスタ
のディメンジョンサイズをそれぞれ相違させたことを特
徴とする入力バッファ回路。
6. An input buffer circuit in which a plurality of CMOS-structured inverter circuits are connected in parallel and a threshold value is changed by changing an operation transistor, wherein the transistors constituting the inverter circuits connected in parallel have different dimension sizes. An input buffer circuit characterized in that:
【請求項7】CMOS構造のインバータ回路を複数並列
接続し、動作トランジスタを変更することにより閾値を
変更させる入力バッファ回路において、 並列接続されたインバータ回路を構成するトランジスタ
のディメンジョンサイズをそれぞれ相違させた2n(n
は自然数)倍ずつ変更したトランジスタで構成すること
を特徴とする入力バッファ回路。
7. An input buffer circuit in which a plurality of CMOS-structured inverter circuits are connected in parallel and a threshold value is changed by changing an operation transistor, wherein transistors constituting the inverter circuits connected in parallel have different dimension sizes. 2 n (n
(Where n is a natural number).
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