JPH09161486A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPH09161486A
JPH09161486A JP7324600A JP32460095A JPH09161486A JP H09161486 A JPH09161486 A JP H09161486A JP 7324600 A JP7324600 A JP 7324600A JP 32460095 A JP32460095 A JP 32460095A JP H09161486 A JPH09161486 A JP H09161486A
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JP
Japan
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input
node
level
transistor
mos transistor
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP7324600A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ryuichi Matsuo
龍一 松尾
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH09161486A publication Critical patent/JPH09161486A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily and inexpensively mount on a board without any malfunction due to input noise. SOLUTION: When input signals are at high and low levels, an NMOS transistor 111 and a PMOS transistor 113 are respectively turned on and an input node A is fixed to each level. When an external input terminal IN is in floating state, an internal signal S1 becomes a low level and an NMOS transistor 109 is turned off and an output node B and a node C are separated and the NMOS transistor 111 is turned on by a pull-up resistor 107 and a power supply potential is given to the input node A, thus internally forcing to fix the node A to a high level.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路装置
に関し、特に、内部回路に入力する信号を出力する入力
回路を構成する半導体集積回路装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and more particularly to a semiconductor integrated circuit device forming an input circuit that outputs a signal input to an internal circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路の入力回路の外部入力端
子(入力ピン)が100ピン前後以上になると、実装ボ
ード上での各結線が大変になる。しかし、アドレス入出
力ピンやデータ入出力ピンは必ず接続が必要となるが、
特殊モードの信号ピンなどは、一般にそのボード仕様に
合わせてH(論理ハイ)レベルまたはL(論理ロー)レ
ベルに固定するものが多くある。たとえば、高速動作モ
ードのバーストシーケンスやデータ入出力の出力方式な
どがその例である。
2. Description of the Related Art When the number of external input terminals (input pins) of an input circuit of a semiconductor integrated circuit is about 100 pins or more, each wiring on a mounting board becomes difficult. However, although the address input / output pins and data input / output pins must be connected,
Many of the signal pins in the special mode are generally fixed at H (logical high) level or L (logical low) level according to the board specifications. For example, a burst sequence in a high-speed operation mode and a data input / output output method are examples.

【0003】これらの外部入力端子には、Hレベルまた
はLレベルを与える端子にわざわざボード上で結線せず
に、フローティング(無接続)状態にして動作させる方
が、ピン数に比例してボード上のアセンブリコストが下
がり、結線などの不良率も低下させることができ有利で
ある。
It is in proportion to the number of pins on the board that the external input terminals are operated in a floating (unconnected) state without connecting them on the board to terminals for giving H level or L level. This is advantageous in that the assembly cost can be reduced and the defect rate such as wiring can be reduced.

【0004】そこで、以下に示す図7および8のよう
に、プルアップ抵抗やプルダウン抵抗を用いて、外部入
力端子がフローティング状態のときにHレベルまたはL
レベルの入力信号を入力バッファであるインバータの入
力ノードに与えている。
Therefore, as shown in FIGS. 7 and 8 below, a pull-up resistor or a pull-down resistor is used to set the H level or L when the external input terminal is in a floating state.
The input signal of the level is given to the input node of the inverter which is the input buffer.

【0005】図7および8は、従来の半導体集積回路装
置の入力回路の一例を示す回路図である。
7 and 8 are circuit diagrams showing an example of an input circuit of a conventional semiconductor integrated circuit device.

【0006】図7を参照して、入力回路1100は、外
部入力端子INと、入力バッファであるインバータ11
01の入力ノードAとの間に、プルアップ抵抗107が
接続されている。このプルアップ抵抗107により、外
部入力端子INに特定の電位が印加されないフローティ
ング状態のときでも、入力ノードAにHレベルの電位が
与えられ、インバータ1101のNチャネルMOSトラ
ンジスタ(以下、NMOSトランジスタと略す)121
がオンして、出力ノードBの電位はLレベルとなる。
Referring to FIG. 7, an input circuit 1100 includes an external input terminal IN and an inverter 11 which is an input buffer.
The pull-up resistor 107 is connected to the input node A of 01. The pull-up resistor 107 applies an H-level potential to the input node A even in a floating state in which a specific potential is not applied to the external input terminal IN, and an N-channel MOS transistor (hereinafter abbreviated as an NMOS transistor) of the inverter 1101. ) 121
Is turned on, and the potential of the output node B becomes L level.

【0007】図8を参照して、入力回路1200は、外
部入力端子INと、入力バッファであるインバータ11
01の入力ノードAとの間に、プルダウン抵抗207が
接続されている。このプルダウン抵抗207により、外
部入力端子INに特定の電位が印加されないフローティ
ング状態のときでも、入力ノードAにLレベルの電位が
与えられ、インバータ1101のPチャネルMOSトラ
ンジスタ(以下、PMOSトランジスタと略す)119
がオンして、出力ノードBの電位はHレベルとなる。
Referring to FIG. 8, an input circuit 1200 includes an external input terminal IN and an inverter 11 which is an input buffer.
The pull-down resistor 207 is connected to the input node A of 01. The pull-down resistor 207 applies an L-level potential to the input node A even in a floating state in which a specific potential is not applied to the external input terminal IN, and the P-channel MOS transistor of the inverter 1101 (hereinafter abbreviated as a PMOS transistor). 119
Is turned on, and the potential of the output node B becomes H level.

【0008】図9は、特開平3−107213号公報に
開示されている従来の半導体集積回路の入力回路の回路
図である。
FIG. 9 is a circuit diagram of an input circuit of a conventional semiconductor integrated circuit disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 3-107213.

【0009】図9を参照して、従来の半導体集積回路装
置の入力回路は、入力端子100と入力バッファ1との
間にリセット信号RSTにより制御されるラッチ回路
(2〜4,T4,T5)が接続されている。
Referring to FIG. 9, an input circuit of a conventional semiconductor integrated circuit device is a latch circuit (2-4, T4, T5) controlled by a reset signal RST between an input terminal 100 and an input buffer 1. Are connected.

【0010】入力端子100がフローティング状態であ
るか、またはHレベルであれば、CPUから出力される
リセット信号RSTが所定時間Hレベルになって、ラッ
チ回路のNMOSトランジスタT5がオフし、PMOS
トランジスタT6がオンして、Hレベルの電位が入力端
子100に与えられ、入力端子100はHレベルに保持
される。
When the input terminal 100 is in a floating state or is at H level, the reset signal RST output from the CPU is at H level for a predetermined time, the NMOS transistor T5 of the latch circuit is turned off, and the PMOS transistor T5 is turned off.
The transistor T6 is turned on, an H level potential is applied to the input terminal 100, and the input terminal 100 is held at the H level.

【0011】入力端子100がLレベルであれば、リセ
ット信号RSTがLレベルになるとPMOSトランジス
タT6がオフし、NMOSトランジスタT5がオンし
て、Lレベルが入力端子100に与えられ、入力端子1
00がLレベルに保持される。
When the input terminal 100 is at the L level, when the reset signal RST becomes the L level, the PMOS transistor T6 is turned off, the NMOS transistor T5 is turned on, the L level is given to the input terminal 100, and the input terminal 1
00 is held at the L level.

【0012】したがって、システムの立上がり時点、あ
るいはシステム動作中にフローティング状態になって
も、入力バッファ1においてPMOSトランジスタT1
のソース電極に接続されたVDDからNMOSトランジ
スタT2のソース電極に接続されたGNDに流れる貫通
電流を抑えることができるため、低消費電力化が達成さ
れる。
Therefore, even when the system is in a floating state at the time of system start-up or during system operation, the PMOS transistor T1 in the input buffer 1 is
Since the through current flowing from VDD connected to the source electrode of the NMOS transistor to the GND connected to the source electrode of the NMOS transistor T2 can be suppressed, low power consumption is achieved.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図7に
示した従来の半導体集積回路装置の入力回路1100の
ように、プルアップ抵抗107が接続されている場合、
Lレベルの入力信号が入力されると、プルアップ抵抗1
07を介して電源Vccから外部入力端子INへリーク
電流が流れるという問題点があった。
However, when the pull-up resistor 107 is connected as in the input circuit 1100 of the conventional semiconductor integrated circuit device shown in FIG. 7,
When an L level input signal is input, pull-up resistor 1
There is a problem that a leak current flows from the power source Vcc to the external input terminal IN via 07.

【0014】また、図8に示した従来の半導体集積回路
装置の入力回路1200のように、プルダウン抵抗20
7が接続されている場合は、Hレベルの入力信号が入力
されると、プルダウン抵抗207を介して外部入力端子
INからグランドへリーク電流が流れるという問題点が
あった。
Further, like the input circuit 1200 of the conventional semiconductor integrated circuit device shown in FIG. 8, the pull-down resistor 20 is used.
When 7 is connected, there is a problem that when an H-level input signal is input, a leak current flows from the external input terminal IN to the ground via the pull-down resistor 207.

【0015】そして、通常の入力回路では常にHレベル
またはLレベルの入力信号が入力されるが、入力信号が
一定時間入力された後の出力信号の変化時や選択デバイ
スの変化時などに発生するスパイクノイズなどの入力ノ
イズを拾って、半導体集積回路が誤動作することがある
という問題点があった。
In the normal input circuit, an H level or L level input signal is always input, but this occurs when the output signal changes after the input signal is input for a certain time or when the selection device changes. There is a problem that the semiconductor integrated circuit may malfunction by picking up input noise such as spike noise.

【0016】図9に示した従来の半導体集積回路の入力
回路は、図11のようにプルアップ抵抗や図8のように
プルダウン抵抗が接続された場合と比較すると、ラッチ
回路の分回路素子数が増えるので、この入力回路が各入
力ピンごとに必要となる場合、その占有レイアウト面積
が大きくなるという問題点があった。
The input circuit of the conventional semiconductor integrated circuit shown in FIG. 9 has the number of branch circuit elements of the latch circuit as compared with the case where a pull-up resistor is connected as shown in FIG. 11 or a pull-down resistor is connected as shown in FIG. Therefore, if this input circuit is required for each input pin, the occupied layout area becomes large.

【0017】さらに、図7および8の従来の半導体集積
回路装置の入力回路1100,1200と同様に、ラッ
チ回路にラッチされているデータのレベルと逆相の入力
信号が入力端子から入力されると、瞬間的に入力端子と
ラッチ回路の出力ノードとの間でリーク電流が流れると
いう問題点があった。
Further, like the input circuits 1100 and 1200 of the conventional semiconductor integrated circuit device of FIGS. 7 and 8, when an input signal having a phase opposite to the level of the data latched by the latch circuit is input from the input terminal. However, there has been a problem that a leak current flows between the input terminal and the output node of the latch circuit instantaneously.

【0018】本発明は、以上のような問題点を解決する
ためになされたもので、電源などの電位供給手段から外
部入力端子へのリーク電流、あるいは外部入力端子から
グランドなどの電位供給手段へのリーク電流を防止し、
スパイクノイズなどの入力ノイズや入力レベルの切換に
よる半導体集積回路の誤動作を防止することが可能な半
導体集積回路装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and leaks current from a potential supply means such as a power supply to an external input terminal, or from an external input terminal to a potential supply means such as a ground. Prevent the leakage current of
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device capable of preventing malfunction of the semiconductor integrated circuit due to input noise such as spike noise and switching of the input level.

【0019】また、外部入力端子をフローティング状態
にしても、所定の出力レベルを安定して保持することが
できるので、多数の入力ピンを有する場合でもボード実
装が容易かつ安価な半導体集積回路装置を提供する。
Since a predetermined output level can be stably maintained even when the external input terminal is in a floating state, a semiconductor integrated circuit device which is easy and inexpensive to mount on a board even when it has a large number of input pins. provide.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る半導体集
積回路装置は、外部入力端子から入力された入力信号に
応答して出力信号を出力する入力バッファと、一方導通
電極が電源に接続された第1のNチャネルMOSトラン
ジスタと、一方導通電極が接地され、他方導通電極がN
チャネルMOSトランジスタの他方導通電極と入力バッ
ファの入力ノードとに接続された第1のPチャネルMO
Sトランジスタと、NチャネルMOSトランジスタおよ
びPチャネルMOSトランジスタのゲート電極に電源電
位または接地電位を供給する電位供給手段と、入力バッ
ファの出力ノードと、第1のNチャネルMOSトランジ
スタおよび第1のPチャネルMOSトランジスタのゲー
ト電極との間に接続され、入力信号が外部入力端子に与
えられるときオンになり、入力信号が外部入力端子に与
えられないときオフになる第1のスイッチング手段とを
設けたものである。
According to another aspect of the semiconductor integrated circuit device of the present invention, an input buffer that outputs an output signal in response to an input signal input from an external input terminal, and one conductive electrode is connected to a power supply. And the first N-channel MOS transistor, one conduction electrode is grounded, and the other conduction electrode is N
A first P-channel MO connected to the other conduction electrode of the channel MOS transistor and the input node of the input buffer.
A potential supply means for supplying a power supply potential or a ground potential to the gate electrodes of the S transistor, the N channel MOS transistor and the P channel MOS transistor, the output node of the input buffer, the first N channel MOS transistor and the first P channel. First switching means connected between the gate electrode of the MOS transistor and turned on when an input signal is applied to the external input terminal and turned off when the input signal is not applied to the external input terminal Is.

【0021】請求項2に係る半導体集積回路装置は、請
求項1の半導体集積回路装置において、活性化信号に応
答して外部入力端子と入力バッファの入力ノードとを接
続する第2のスイッチング手段を設けたものである。
A semiconductor integrated circuit device according to a second aspect is the semiconductor integrated circuit device according to the first aspect, further comprising second switching means for connecting an external input terminal and an input node of the input buffer in response to an activation signal. It is provided.

【0022】請求項3に係る半導体集積回路装置は、請
求項1または2の半導体集積回路装置において、電位供
給手段に抵抗素子を設け、入力バッファに、一方導通電
極が電源に接続された第2のPチャネルMOSトランジ
スタと、一方導通電極が接地され、他方導通電極が第2
のPチャネルMOSトランジスタの他方導通電極と出力
ノードとに接続され、ゲート電極が第2のPチャネルM
OSトランジスタのゲート電極に接続された第2のNチ
ャネルMOSトランジスタとを設け、抵抗素子の抵抗値
は第2のNチャネルMOSトランジスタのオン抵抗の1
0倍以上の大きさを有する。
A semiconductor integrated circuit device according to a third aspect is the semiconductor integrated circuit device according to the first or second aspect, in which a resistance element is provided in the potential supply means, the input buffer is provided, and one conduction electrode is connected to a power supply. P-channel MOS transistor, and one conduction electrode is grounded, and the other conduction electrode is the second
Connected to the other conduction electrode of the P channel MOS transistor and the output node, and the gate electrode of the second P channel M transistor.
A second N-channel MOS transistor connected to the gate electrode of the OS transistor is provided, and the resistance value of the resistance element is 1 of the ON resistance of the second N-channel MOS transistor.
It has a size of 0 times or more.

【0023】請求項4に係る半導体集積回路装置は、請
求項1または2の半導体集積回路装置において、電位供
給手段に抵抗素子を設け、入力バッファに、一方導通電
極が電源に接続された第2のPチャネルMOSトランジ
スタと、一方導通電極が接地され、他方導通電極が第2
のPチャネルMOSトランジスタの他方導通電極と出力
ノードとに接続され、ゲート電極が第2のPチャネルM
OSトランジスタのゲート電極に接続された第2のNチ
ャネルMOSトランジスタとを設け、抵抗素子の抵抗値
は、第2のPチャネルMOSトランジスタのオン抵抗の
10倍以上の大きさを有する。
A semiconductor integrated circuit device according to a fourth aspect is the semiconductor integrated circuit device according to the first or second aspect, in which a resistance element is provided in the potential supply means, the input buffer is provided, and one conduction electrode is connected to a power supply. P-channel MOS transistor, and one conduction electrode is grounded, and the other conduction electrode is the second
Connected to the other conduction electrode of the P channel MOS transistor and the output node, and the gate electrode of the second P channel M transistor.
A second N-channel MOS transistor connected to the gate electrode of the OS transistor is provided, and the resistance value of the resistance element is 10 times or more the ON resistance of the second P-channel MOS transistor.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、本発明の半導体集積回路装
置の実施の形態を図面を参照しながら説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of a semiconductor integrated circuit device of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0025】(1) 実施の形態1 図1は、本発明の半導体集積回路装置の実施の形態1の
入力回路103の回路図である。
(1) First Embodiment FIG. 1 is a circuit diagram of an input circuit 103 according to a first embodiment of a semiconductor integrated circuit device of the present invention.

【0026】図1を参照して、入力回路103は、入力
バッファ105と、プルアップ抵抗107と、NMOS
トランジスタ109,111と、PMOSトランジスタ
113とを含む。入力バッファ105は、インバータ1
15,117をさらに含み、インバータ115は、PM
OSトランジスタ119とNMOSトランジスタ121
とをさらに含み、インバータ117は、PMOSトラン
ジスタ123とNMOSトランジスタ125とをさらに
含む。
Referring to FIG. 1, the input circuit 103 includes an input buffer 105, a pull-up resistor 107, and an NMOS.
It includes transistors 109 and 111 and a PMOS transistor 113. The input buffer 105 is the inverter 1
15, 117, and the inverter 115 includes PM
OS transistor 119 and NMOS transistor 121
The inverter 117 further includes a PMOS transistor 123 and an NMOS transistor 125.

【0027】入力バッファ105において、インバータ
115とインバータ117とはノードDで直列に接続さ
れ、インバータ119のPMOSトランジスタ119の
ゲート電極とNMOSトランジスタ121のゲート電極
との接続ノードが入力バッファ105の入力ノードAで
あり、インバータ117のPMOSトランジスタ123
のドレイン電極とNMOSトランジスタ125のドレイ
ン電極との接続ノードが入力バッファ105の出力ノー
ドBである。
In input buffer 105, inverter 115 and inverter 117 are connected in series at node D, and the connection node between the gate electrode of PMOS transistor 119 of inverter 119 and the gate electrode of NMOS transistor 121 is the input node of input buffer 105. A, and the PMOS transistor 123 of the inverter 117
A connection node between the drain electrode of the input buffer 105 and the drain electrode of the NMOS transistor 125 is the output node B of the input buffer 105.

【0028】ここで、入力バッファ105は、NORロ
ジック回路などでもよい。NMOSトランジスタ109
のドレイン電極は、入力バッファ105の出力ノードB
に接続され、ソース電極はNMOSトランジスタ111
およびPMOSトランジスタ113のゲート電極とノー
ドCで接続され、ゲート電極には、外部入力端子INか
ら入力される入力信号がLまたはHレベルのときHレベ
ルになり、外部入力端子INがフローティング状態のと
きにLレベルとなる内部信号S1が印加される。ノード
Cには、さらに、プルアップ抵抗107が接続されてい
る。
Here, the input buffer 105 may be a NOR logic circuit or the like. NMOS transistor 109
The drain electrode of is the output node B of the input buffer 105.
Connected to the source electrode of the NMOS transistor 111
And the gate electrode of the PMOS transistor 113 is connected to the node C, and the gate electrode becomes H level when the input signal input from the external input terminal IN is L or H level, and when the external input terminal IN is in a floating state. An internal signal S1 of L level is applied to. The pull-up resistor 107 is further connected to the node C.

【0029】NMOSトランジスタ111のドレイン電
極は電源Vccに接続され、ソース電極はPMOSトラ
ンジスタ113のソース電極に接続され、PMOSトラ
ンジスタ113のドレイン電極は接地されている。
The drain electrode of the NMOS transistor 111 is connected to the power supply Vcc, the source electrode is connected to the source electrode of the PMOS transistor 113, and the drain electrode of the PMOS transistor 113 is grounded.

【0030】次に、入力回路103の動作を説明する。
外部入力端子INにHレベルの入力信号が入力される
と、入力バッファ105内のノードDはLレベル、出力
ノードBはHレベルとなる。ここで、Hレベルの内部信
号S1が印加されているNMOSトランジスタ109が
オンしており、また、プルアップ抵抗107によりノー
ドCはHレベルとなっているので、NMOSトランジス
タ111がオンして、電源VccからNMOSトランジ
スタ111を介して入力ノードAに電源電圧が供給さ
れ、入力ノードAは入力回路内部で強制的にHレベルに
固定される。
Next, the operation of the input circuit 103 will be described.
When an H level input signal is input to the external input terminal IN, the node D in the input buffer 105 becomes L level and the output node B becomes H level. Here, the NMOS transistor 109 to which the H-level internal signal S1 is applied is turned on, and the node C is at the H level by the pull-up resistor 107, so the NMOS transistor 111 is turned on and the power supply is turned on. A power supply voltage is supplied from Vcc to the input node A through the NMOS transistor 111, and the input node A is forcibly fixed to the H level inside the input circuit.

【0031】一方、外部入力端子INにLレベルの入力
信号が入力されると、入力バッファ105内のノードD
はHレベル、出力ノードBはLレベルとなる。ここで、
Hレベルの内部信号S1が印加されているNMOSトラ
ンジスタ109がオンしており、プルアップ抵抗107
の抵抗値を入力バッファ105に含まれているインバー
タ117のNMOSトランジスタ125のオン抵抗より
十分大きく(たとえば10倍程度以上に)していれば、
ノードCは十分にLレベルとなるので、PMOSトラン
ジスタ113がオンして、入力ノードAは入力回路内部
で強制的にLレベルに固定される。
On the other hand, when an L level input signal is input to the external input terminal IN, a node D in the input buffer 105 is input.
Becomes H level, and the output node B becomes L level. here,
The NMOS transistor 109 to which the H-level internal signal S1 is applied is turned on, and the pull-up resistor 107
If the resistance value of is sufficiently larger than the ON resistance of the NMOS transistor 125 of the inverter 117 included in the input buffer 105 (for example, about 10 times or more),
Since the node C becomes sufficiently L level, the PMOS transistor 113 is turned on, and the input node A is forcibly fixed to L level inside the input circuit.

【0032】外部入力端子INがフローティング状態で
使用される場合は、内部信号S1はLレベルになり、N
MOSトランジスタ109はオフして、出力ノードBと
ノードCとは切り離される。ノードCはプルアップ抵抗
107によりHレベルとなり、NMOSトランジスタ1
11がオンし、PMOSトランジスタ113がオフし
て、入力ノードAは入力回路内部で強制的にHレベルに
固定される。したがって、入力ノードAを安定してHレ
ベルに保持することができる。
When the external input terminal IN is used in a floating state, the internal signal S1 becomes L level and N
The MOS transistor 109 is turned off, and the output node B and the node C are separated. The node C becomes H level by the pull-up resistor 107, and the NMOS transistor 1
11 is turned on, the PMOS transistor 113 is turned off, and the input node A is forcibly fixed to the H level inside the input circuit. Therefore, input node A can be stably maintained at H level.

【0033】以上のように、本発明の実施の形態1の半
導体集積回路装置の入力回路103は、入力回路内部で
強制的に入力ノードのレベルが固定されるので、入力信
号が一定時間入力された後の出力信号の変化時や選択デ
バイスの変化時などに発生するスパイクノイズなどの入
力ノイズを拾って、半導体集積回路が誤動作することが
がなく、また外部入力端子をフローティング状態にして
も、Hレベルの出力を安定して保持することが可能なの
で、多数の入力ピンを有する場合でも、常時出力レベル
がHレベルに固定される入力回路にこの入力回路を用い
ることによって、ボード実装が容易かつ安価な半導体集
積回路装置を提供することが可能となる。
As described above, in the input circuit 103 of the semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment of the present invention, since the level of the input node is forcibly fixed inside the input circuit, the input signal is input for a fixed time. Input noise such as spike noise that occurs when the output signal changes after a change or when the selected device changes, the semiconductor integrated circuit does not malfunction, and even when the external input terminal is in the floating state, Since an H-level output can be held stably, even if a large number of input pins are used, by using this input circuit for an input circuit whose output level is always fixed at the H level, board mounting is easy and It is possible to provide an inexpensive semiconductor integrated circuit device.

【0034】(2) 実施の形態2 図2は、本発明の半導体集積回路装置の実施の形態2の
入力回路200の回路図である。
(2) Second Embodiment FIG. 2 is a circuit diagram of an input circuit 200 according to a second embodiment of the semiconductor integrated circuit device of the present invention.

【0035】図2を参照して、入力回路200は、図1
の入力回路103のプルアップ抵抗107の代わりに、
プルダウン抵抗207をノードCに接続したものであ
る。
Referring to FIG. 2, the input circuit 200 is similar to that of FIG.
Instead of the pull-up resistor 107 of the input circuit 103 of
The pull-down resistor 207 is connected to the node C.

【0036】次に、入力回路203の動作を説明する。
外部入力端子INにLレベルの入力信号が入力される
と、入力バッファ105のノードDはHレベル、出力ノ
ードBはLレベルとなる。ここで、Hレベルの内部信号
S1が印加されているNMOSトランジスタ109がオ
ンしており、また、プルダウン抵抗207によりノード
CはLレベルとなっているので、PMOSトランジスタ
113がオンして、ノードAが入力回路内部で強制的に
Lレベルに固定される。
Next, the operation of the input circuit 203 will be described.
When an L level input signal is input to the external input terminal IN, the node D of the input buffer 105 becomes H level and the output node B becomes L level. Here, since the NMOS transistor 109 to which the H-level internal signal S1 is applied is on and the node C is at the L level due to the pull-down resistor 207, the PMOS transistor 113 is turned on and the node A Is forcibly fixed to the L level inside the input circuit.

【0037】一方、外部入力端子INにHレベルの入力
信号が入力されると、入力バッファ105のノードDは
Lレベル、出力ノードBはHレベルとなる。ここで、H
レベルの内部信号S1が印加されているNMOSトラン
ジスタ109はオンしており、また、プルダウン抵抗2
07の抵抗値を、入力バッファ105に含まれているイ
ンバータ117のPMOSトランジスタ123のオン抵
抗により十分大きく(たとえば、10倍程度以上に)し
ていれば、ノードCは十分にHレベルとなるので、NM
OSトランジスタ111がオンして、入力ノードAが入
力回路内部で強制的にHレベルに固定される。
On the other hand, when an H level input signal is input to the external input terminal IN, the node D of the input buffer 105 becomes L level and the output node B becomes H level. Where H
The NMOS transistor 109 to which the level internal signal S1 is applied is turned on, and the pull-down resistor 2
If the resistance value of 07 is made sufficiently large (for example, about 10 times or more) by the ON resistance of the PMOS transistor 123 of the inverter 117 included in the input buffer 105, the node C becomes sufficiently H level. , NM
The OS transistor 111 is turned on, and the input node A is forcibly fixed to the H level inside the input circuit.

【0038】外部入力端子INがフローティング状態で
使用される場合は、内部信号S1はLレベルになり、N
MOSトランジスタ109はオフして、出力ノードBと
ノードCとは切り離される。ノードCはプルダウン抵抗
207によりLレベルとなり、PMOSトランジスタ1
13がオンし、NMOSトランジスタ111がオフし
て、入力ノードAは入力回路内部で強制的にLレベルに
固定される。したがって、入力ノードAを安定してLレ
ベルに保持することができる。
When the external input terminal IN is used in a floating state, the internal signal S1 becomes L level and N
The MOS transistor 109 is turned off, and the output node B and the node C are separated. The node C becomes L level by the pull-down resistor 207, and the PMOS transistor 1
13 is turned on, the NMOS transistor 111 is turned off, and the input node A is forcibly fixed to the L level inside the input circuit. Therefore, input node A can be stably maintained at the L level.

【0039】以上のように、本発明の実施の形態2の半
導体集積回路装置の入力回路200は、入力回路内部で
強制的に入力ノードのレベルが固定されるので、入力信
号が一定時間入力された後の出力信号の変化時や選択デ
バイスの変化時などに発生するスパイクノイズなどの入
力ノイズを拾って、半導体集積回路が誤動作することが
がなく、また外部入力端子をフローティング状態にして
も、Lレベルの出力を保持することができるので、多数
の入力ピンを有する場合でも、常時出力レベルがLレベ
ルである入力回路にこの入力回路を用いることによっ
て、ボード実装が容易かつ安価な半導体集積回路装置を
提供することが可能となる。
As described above, in the input circuit 200 of the semiconductor integrated circuit device according to the second embodiment of the present invention, since the level of the input node is forcibly fixed inside the input circuit, the input signal is input for a fixed time. Input noise such as spike noise that occurs when the output signal changes after a change or when the selected device changes, the semiconductor integrated circuit does not malfunction, and even when the external input terminal is in the floating state, Since an L level output can be held, a semiconductor integrated circuit which is easy and inexpensive to mount on a board by using this input circuit for an input circuit whose output level is always L level even when it has a large number of input pins. It becomes possible to provide a device.

【0040】(3) 実施の形態3 図3は、本発明の半導体集積回路装置の実施の形態3の
入力回路300の回路図である。
(3) Third Embodiment FIG. 3 is a circuit diagram of an input circuit 300 according to a third embodiment of the semiconductor integrated circuit device of the present invention.

【0041】図3を参照して、入力回路300は、図1
の入力回路103において、NMOSトランジスタ10
9に並列に接続されたPMOSトランジスタ327と、
入力端子から内部信号S1が入力され出力端子がPMO
Sトランジスタ327のゲート電極に接続されたインバ
ータ329とをさらに含む。
Referring to FIG. 3, the input circuit 300 is similar to that of FIG.
Of the NMOS transistor 10 in the input circuit 103 of
9 and a PMOS transistor 327 connected in parallel,
Internal signal S1 is input from the input terminal and the output terminal is PMO
And an inverter 329 connected to the gate electrode of S-transistor 327.

【0042】PMOSトランジスタ327のゲート電極
には内部信号S1の反転信号が印加され、NMOSトラ
ンジスタ109とこのPMOSトランジスタ327とで
により出力ノードBとノードCとをスイッチングするト
ランスファゲート309が構成されている。
An inverted signal of the internal signal S1 is applied to the gate electrode of the PMOS transistor 327, and the NMOS transistor 109 and the PMOS transistor 327 constitute a transfer gate 309 for switching between the output node B and the node C. .

【0043】したがって、本発明の実施の形態3の半導
体集積回路装置の入力回路300は、実施の形態1の入
力回路103の効果に加えて、トランスファゲート30
9により、図1の入力回路103と比較して、入力回路
300は、出力ノードBの電位を、NMOSトランジス
タ109のしきい電圧分の低下なしにノードCに与える
ことが可能となる。
Therefore, in addition to the effect of the input circuit 103 of the first embodiment, the input circuit 300 of the semiconductor integrated circuit device of the third embodiment of the present invention has the transfer gate 30.
9, the input circuit 300 can apply the potential of the output node B to the node C without lowering the threshold voltage of the NMOS transistor 109, as compared with the input circuit 103 of FIG.

【0044】また、プルアップ抵抗107の代わりに、
ドレイン電極とゲート電極とが電源Vccに接続された
NMOSトランジスタ307が出力ノードBとノードC
との間に接続されており、NMOSトランジスタ307
には、チャネル長が長く、チャネル幅が短い抵抗値の大
きいものが用いられる。
Further, instead of the pull-up resistor 107,
The NMOS transistor 307 having the drain electrode and the gate electrode connected to the power supply Vcc has output nodes B and C.
And NMOS transistor 307 connected between
A material having a long channel length and a short channel width and a large resistance value is used as the material.

【0045】(4) 実施の形態4 図4は、本発明の半導体集積回路装置の実施の形態4の
入力回路400の回路図である。
(4) Fourth Embodiment FIG. 4 is a circuit diagram of an input circuit 400 according to a fourth embodiment of the semiconductor integrated circuit device of the present invention.

【0046】図4を参照して、入力回路400は、図3
の場合と同様に、図2の入力回路200において、NM
OSトランジスタ109に並列に接続されたPMOSト
ランジスタ327と、PMOSトランジスタ327のゲ
ート電極に接続され内部信号S1の反転信号を印加する
インバータ329とをさらに含む。
Referring to FIG. 4, the input circuit 400 is similar to that of FIG.
In the input circuit 200 of FIG.
It further includes a PMOS transistor 327 connected in parallel to the OS transistor 109, and an inverter 329 connected to the gate electrode of the PMOS transistor 327 and applying an inverted signal of the internal signal S1.

【0047】したがって、本発明の実施の形態4の半導
体集積回路装置の入力回路400は、実施の形態2の入
力回路200の効果に加えて、NMOSトランジスタ1
09とこのPMOSトランジスタ327とで構成された
トランスファゲート309により、図2の入力回路20
3と比較して、入力回路400は、出力ノードBの電位
をNMOSトランジスタ109のしきい電圧分の低下な
しにノードCに与えることが可能となる。
Therefore, in addition to the effect of the input circuit 200 of the second embodiment, the input circuit 400 of the semiconductor integrated circuit device of the fourth embodiment of the present invention has the NMOS transistor 1
2 and the transfer gate 309 composed of the PMOS transistor 327 and the input circuit 20 of FIG.
Compared with 3, the input circuit 400 can apply the potential of the output node B to the node C without lowering the potential of the NMOS transistor 109 by the threshold voltage.

【0048】また、プルダウン抵抗207の代わりに、
ドレイン電極とゲート電極とが接地されたPMOSトラ
ンジスタ407が出力ノードBとノードCとの間に接続
されており、PMOSトランジスタ407には、チャネ
ル長が長く、チャネル幅が短い抵抗値の大きいものが用
いられる。
Further, instead of the pull-down resistor 207,
A PMOS transistor 407 whose drain electrode and gate electrode are grounded is connected between the output node B and the node C. The PMOS transistor 407 has a long channel length and a short channel width and a large resistance value. Used.

【0049】(5) 実施の形態5 図5は、本発明の半導体集積回路装置の実施の形態5の
入力回路500の回路図である。
(5) Fifth Embodiment FIG. 5 is a circuit diagram of an input circuit 500 according to a fifth embodiment of the semiconductor integrated circuit device of the present invention.

【0050】図5を参照して、入力回路500は、図1
の入力回路103において、トランスファゲート531
と、インバータ537と、NMOSトランジスタ539
と、PMOSトランジスタ541とをさらに含む。
Referring to FIG. 5, the input circuit 500 is similar to that of FIG.
In the input circuit 103 of the transfer gate 531
, Inverter 537, and NMOS transistor 539
And a PMOS transistor 541.

【0051】トランスファゲート531は、外部入力端
子INと入力バッファ105の入力ノードAとの間に直
列に接続され、PMOSトランジスタ533と、PMO
Sトランジスタ533と並列に接続されたNMOSトラ
ンジスタ535とを含む。
The transfer gate 531 is connected in series between the external input terminal IN and the input node A of the input buffer 105, and is connected to the PMOS transistor 533 and the PMO.
It includes an S transistor 533 and an NMOS transistor 535 connected in parallel.

【0052】NMOSトランジスタ535のゲート電極
には半導体集積回路装置を活性化するチップセレクト信
号CSが印加され、PMOSトランジスタ533のゲー
ト電極にはインバータ537が接続され、インバータ5
37により反転されたチップセレクト信号CSの反転信
号が印加される。また、NMOSトランジスタ539の
ドレイン電極はNMOSトランジスタ125のソース電
極に接続され、NMOSトランジスタ539のソース電
極は接地されている。PMOSトランジスタ541のソ
ース電極は電源Vccに接続され、ドレイン電極は入力
バッファ105の出力ノードBに接続されている。NM
OSトランジスタ539およびPMOSトランジスタ5
41のゲート電極にはチップセレクト信号CSが印加さ
れる。
A chip select signal CS for activating the semiconductor integrated circuit device is applied to the gate electrode of the NMOS transistor 535, and an inverter 537 is connected to the gate electrode of the PMOS transistor 533.
An inverted signal of the chip select signal CS inverted by 37 is applied. The drain electrode of the NMOS transistor 539 is connected to the source electrode of the NMOS transistor 125, and the source electrode of the NMOS transistor 539 is grounded. The source electrode of the PMOS transistor 541 is connected to the power supply Vcc, and the drain electrode thereof is connected to the output node B of the input buffer 105. NM
OS transistor 539 and PMOS transistor 5
The chip select signal CS is applied to the gate electrode of 41.

【0053】次に、入力回路500の動作を説明する。
チップセレクト信号CSは、通常動作時(フローティン
グ状態のときも含む)、Hレベルになり、スタンバイ時
は、低消費電力となるLレベルになる。
Next, the operation of the input circuit 500 will be described.
The chip select signal CS is at H level during normal operation (including in the floating state), and is at L level during standby, which is low power consumption.

【0054】通常動作時、チップセレクト信号CSがH
レベルであるので、PMOSトランジスタ533とNM
OSトランジスタ535とがオンし、トランスファゲー
ト531を介して、外部入力端子INから入力バッファ
105の入力ノードAに入力信号が入力される。また、
NMOSトランジスタ539がオンし、NMOSトラン
ジスタ539を介してNMOSトランジスタ125のソ
ース電極が接地され、PMOSトランジスタ541はオ
フする。このとき、入力回路500は、図1の実施の形
態1の入力回路103と同様の回路となり、同様の動作
を行なう。
During normal operation, the chip select signal CS is at H level.
Since it is the level, the PMOS transistor 533 and the NM
The OS transistor 535 is turned on, and an input signal is input from the external input terminal IN to the input node A of the input buffer 105 via the transfer gate 531. Also,
The NMOS transistor 539 turns on, the source electrode of the NMOS transistor 125 is grounded via the NMOS transistor 539, and the PMOS transistor 541 turns off. At this time, input circuit 500 becomes the same circuit as input circuit 103 of the first embodiment shown in FIG. 1 and performs the same operation.

【0055】ところで、外部入力端子INからLレベル
の入力信号が入力されると、実施の形態1で説明したよ
うに、入力バッファ105の出力ノードBの電位はLレ
ベルになる。この状態から入力回路500がスタンバイ
状態になると、内部信号S1はHレベルであるから、プ
ルアップ抵抗109により出力ノードBがHレベルにな
る。
When an L level input signal is input from the external input terminal IN, the potential of the output node B of the input buffer 105 becomes L level, as described in the first embodiment. When the input circuit 500 enters the standby state from this state, the internal signal S1 is at the H level, so that the output node B becomes the H level by the pull-up resistor 109.

【0056】一方、スタンバイ状態では、チップセレク
ト信号CSがLレベルになり、PMOSトランジスタ5
41がオンし、NMOSトランジスタ539がオフし
て、NMOSトランジスタ125のソース電極はフロー
ティング状態となる。PMOSトランジスタ123はオ
フしているので、出力ノードBにはPMOSトランジス
タ541を介して電源Vccから電源電圧が供給され、
出力ノードBはHレベルとなる。したがって、スタンバ
イ状態となる直前の通常動作時に入力信号がLレベルで
あった場合、Lレベルになっている出力ノードBをHレ
ベルにすることによって、プルアップ抵抗107を介し
て電源Vccから出力ノードBに電流が流れるのを防
ぎ、消費電力を削減することが可能となる。
On the other hand, in the standby state, the chip select signal CS becomes L level and the PMOS transistor 5
41 is turned on, the NMOS transistor 539 is turned off, and the source electrode of the NMOS transistor 125 is in a floating state. Since the PMOS transistor 123 is off, the power supply voltage is supplied to the output node B from the power supply Vcc via the PMOS transistor 541,
The output node B becomes H level. Therefore, when the input signal is at the L level during the normal operation immediately before entering the standby state, the output node B, which is at the L level, is set to the H level, and the output node B is output from the power supply Vcc via the pull-up resistor 107. It is possible to prevent current from flowing to B and reduce power consumption.

【0057】入力回路500のプルアップ抵抗107
は、実施の形態3の入力回路300の場合と同様に、ド
レイン電極とゲート電極とが電源Vccに接続されたN
MOSトランジスタ307を代わりに用いることが可能
である。
The pull-up resistor 107 of the input circuit 500
Is the same as in the case of the input circuit 300 of the third embodiment, the drain electrode and the gate electrode are connected to the power supply Vcc.
The MOS transistor 307 can be used instead.

【0058】また、入力回路500のNMOSトランジ
スタ109の代わりに、実施の形態3の入力回路300
のトランスファゲート309およびインバータ329を
用いることが可能であり、実施の形態3の入力回路30
0と同様の効果を得ることができる。
Further, instead of the NMOS transistor 109 of the input circuit 500, the input circuit 300 of the third embodiment.
It is possible to use the transfer gate 309 and the inverter 329 of the input circuit 30 of the third embodiment.
The same effect as 0 can be obtained.

【0059】さらに、図2の実施の形態2の入力回路2
00や図4の実施の形態4の入力回路400のように、
実施の形態5の入力回路500のプルアップ抵抗107
を、プルダウン抵抗207やドレイン電極とゲート電極
とが接地されたPMOSトランジスタ407に置換え、
ソース電極が電源Vccに接続されたPMOSトランジ
スタ541をソース電極が接地されたNMOSトランジ
スタに置換えて構成することができ、この場合、スタン
バイ状態となる直前の通常動作時に入力信号がHレベル
であった場合、Hレベルになっている出力ノードBをL
レベルにすることによって、プルダウン抵抗207また
はPMOSトランジスタ407を介して出力ノードBか
らグランドに電流が流れるのを防ぐことができ、消費電
力を削減することが可能となる。
Further, the input circuit 2 of the second embodiment shown in FIG.
00 or the input circuit 400 of the fourth embodiment shown in FIG.
Pull-up resistor 107 of input circuit 500 of the fifth embodiment
Is replaced with a pull-down resistor 207 or a PMOS transistor 407 whose drain and gate electrodes are grounded,
The PMOS transistor 541 whose source electrode is connected to the power supply Vcc can be replaced with an NMOS transistor whose source electrode is grounded. In this case, the input signal was at the H level during the normal operation immediately before the standby state. The output node B which is at H level is
By setting the level, it is possible to prevent current from flowing from the output node B to the ground via the pull-down resistor 207 or the PMOS transistor 407, and it is possible to reduce power consumption.

【0060】また、スタンバイ時は、チップセレクト信
号CSがLレベルであるから、PMOSトランジスタ5
33とNMOSトランジスタ535とがともにオフし、
電源Vccから外部入力端子INへNMOSトランジス
タ111を介して流れるリーク電流を、あるいは、外部
入力端子INからグランドへPMOSトランジスタ11
3を介して流れるリーク電流を遮断することができる。
Further, since the chip select signal CS is at the L level in the standby mode, the PMOS transistor 5
33 and the NMOS transistor 535 are both turned off,
A leak current flowing from the power supply Vcc to the external input terminal IN via the NMOS transistor 111, or from the external input terminal IN to the ground PMOS transistor 11
It is possible to cut off the leak current flowing through 3.

【0061】特に、外部入力端子INがフローティング
状態であって、Lレベルの内部信号S1が入力され、N
MOSトランジスタ109がオフし、ノードCがプルア
ップ抵抗107によりHレベルとなって、NMOSトラ
ンジスタ111がオンし、入力ノードAにHレベルが印
加されているときに、外部入力端子INに予期せずLレ
ベルが入力された場合に発生する電源VccからNMO
Sトランジスタ111を介して外部入力端子INへ流れ
るリーク電流を遮断することができる。
Particularly, when the external input terminal IN is in a floating state, the L-level internal signal S1 is input, and N
When the MOS transistor 109 is turned off, the node C becomes H level by the pull-up resistor 107, the NMOS transistor 111 is turned on, and the H level is applied to the input node A, the external input terminal IN is unexpectedly turned on. NMO from power supply Vcc generated when L level is input
A leak current flowing to the external input terminal IN via the S transistor 111 can be blocked.

【0062】以上のように、本発明の半導体集積回路装
置の実施の形態5の入力回路500は、図1の実施の形
態1の入力回路103の効果に加え、電源Vccのよう
な電位供給手段から外部入力端子へのリーク電流、ある
いは、外部入力端子からグランドのような電位供給手段
へのリーク電流を防止することが可能となる。
As described above, the input circuit 500 of the fifth embodiment of the semiconductor integrated circuit device of the present invention has the effect of the input circuit 103 of the first embodiment of FIG. 1 and the potential supply means such as the power supply Vcc. It is possible to prevent a leak current from the external input terminal to the external input terminal or a leak current from the external input terminal to the potential supply means such as the ground.

【0063】(6) 実施の形態6 図6は、本発明の半導体集積回路装置の実施の形態6の
入力回路600の回路図である。
(6) Sixth Embodiment FIG. 6 is a circuit diagram of an input circuit 600 according to a sixth embodiment of the semiconductor integrated circuit device of the present invention.

【0064】図6を参照して、入力回路600は、図1
の実施の形態1の入力回路103において、内部回路
(図示せず)へ伝える信号を出力ノードBではなくイン
バータ115の出力とインバータ117の入力との接続
ノードであるノードDから出力している。
Referring to FIG. 6, the input circuit 600 is similar to that of FIG.
In the input circuit 103 of the first embodiment, the signal transmitted to the internal circuit (not shown) is output not from the output node B but from the node D which is a connection node between the output of the inverter 115 and the input of the inverter 117.

【0065】出力ノードBは、プルアップ抵抗やトラン
ジスタが接続されているので、負荷容量も大きくなり、
また、電位も若干接地電位より浮いたり電源電位より落
ちたりするので、ノードDから出力した信号を使用する
方が内部回路はより高速に動作する。
Since the output node B is connected to the pull-up resistor and the transistor, the load capacity also increases,
In addition, the potential slightly floats above the ground potential or falls below the power supply potential, so that the internal circuit operates faster when the signal output from the node D is used.

【0066】以上のように、本発明の半導体集積回路装
置の実施の形態6の入力回路600は、実施の形態1の
入力回路103の効果に加え、内部回路のより高速な動
作を実現することが可能となる。
As described above, the input circuit 600 of the sixth embodiment of the semiconductor integrated circuit device of the present invention realizes higher speed operation of the internal circuit in addition to the effect of the input circuit 103 of the first embodiment. Is possible.

【0067】図2〜5の実施の形態2〜5の各入力回路
についても図6の入力回路600の場合と同様に、ノー
ドDから内部回路へ伝える信号を出力することにより、
内部回路の高速動作が可能となる。
Similarly to the case of the input circuit 600 of FIG. 6, the input circuits of the second to fifth embodiments of FIGS. 2 to 5 output the signal transmitted from the node D to the internal circuit.
High speed operation of the internal circuit becomes possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の半導体集積回路装置の実施の形態1
の入力回路103の回路図である。
FIG. 1 is a first embodiment of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention.
3 is a circuit diagram of the input circuit 103 of FIG.

【図2】 本発明の半導体集積回路装置の実施の形態2
の入力回路200の回路図である。
FIG. 2 is a second embodiment of the semiconductor integrated circuit device of the present invention.
3 is a circuit diagram of the input circuit 200 of FIG.

【図3】 本発明の半導体集積回路装置の実施の形態3
の入力回路300の回路図である。
FIG. 3 is a third embodiment of the semiconductor integrated circuit device of the present invention.
3 is a circuit diagram of the input circuit 300 of FIG.

【図4】 本発明の半導体集積回路装置の実施の形態4
の入力回路400の回路図である。
FIG. 4 is a fourth embodiment of the semiconductor integrated circuit device of the present invention.
3 is a circuit diagram of the input circuit 400 of FIG.

【図5】 本発明の半導体集積回路装置の実施の形態5
の入力回路500の回路図である。
FIG. 5 is a fifth embodiment of the semiconductor integrated circuit device of the present invention.
3 is a circuit diagram of an input circuit 500 of FIG.

【図6】 本発明の半導体集積回路装置の実施の形態6
の入力回路600の回路図である。
FIG. 6 is a sixth embodiment of the semiconductor integrated circuit device of the present invention.
3 is a circuit diagram of an input circuit 600 of FIG.

【図7】 従来の半導体集積回路装置の入力回路の一例
を示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing an example of an input circuit of a conventional semiconductor integrated circuit device.

【図8】 従来の半導体集積回路装置の入力回路の一例
を示す回路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram showing an example of an input circuit of a conventional semiconductor integrated circuit device.

【図9】 従来の半導体集積回路装置の入力回路の一例
を示す回路図である。
FIG. 9 is a circuit diagram showing an example of an input circuit of a conventional semiconductor integrated circuit device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

103,200,300,400,500,600 入
力回路、109,111,307,535,539 N
MOSトランジスタ、111,327,407,53
3,541 PMOSトランジスタ、107 抵抗、3
29,537 インバータ、309,531 トランス
ファゲート、S1 内部信号。
103, 200, 300, 400, 500, 600 Input circuit, 109, 111, 307, 535, 539 N
MOS transistor, 111, 327, 407, 53
3,541 PMOS transistor, 107 resistor, 3
29,537 inverter, 309,531 transfer gate, S1 internal signal.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 外部から与えられる活性化信号に応答し
て活性化される半導体集積回路装置であって、 外部入力端子から入力された入力信号に応答して出力信
号を出力する入力バッファと、 一方導通電極が電源に接続された第1のNチャネルMO
Sトランジスタと、 一方導通電極が接地され、他方導通電極が前記Nチャネ
ルMOSトランジスタの他方導通電極と前記入力バッフ
ァの入力ノードとに接続された第1のPチャネルMOS
トランジスタと、 前記NチャネルMOSトランジスタおよび前記Pチャネ
ルMOSトランジスタのゲート電極に電源電位または接
地電位を供給する電位供給手段と、 前記入力バッファの入力ノードと、前記第1のNチャネ
ルMOSトランジスタおよび前記第1のPチャネルMO
Sトランジスタのゲート電極との間に接続され、前記入
力信号が前記外部入力端子に与えられるときオンにな
り、前記入力信号が前記外部入力端子に与えられないと
きオフになる第1のスイッチング手段と、を備えた半導
体集積回路装置。
1. A semiconductor integrated circuit device activated in response to an activation signal applied from the outside, the input buffer outputting an output signal in response to an input signal input from an external input terminal, On the other hand, the first N-channel MO whose conducting electrode is connected to the power supply
An S transistor and a first P-channel MOS transistor having one conduction electrode grounded and the other conduction electrode connected to the other conduction electrode of the N-channel MOS transistor and an input node of the input buffer.
A transistor, a potential supplying means for supplying a power supply potential or a ground potential to the gate electrodes of the N-channel MOS transistor and the P-channel MOS transistor, an input node of the input buffer, the first N-channel MOS transistor and the first N-channel MOS transistor. 1 P-channel MO
First switching means connected between the gate electrode of the S transistor and turned on when the input signal is given to the external input terminal and turned off when the input signal is not given to the external input terminal; And a semiconductor integrated circuit device including.
【請求項2】 前記活性化信号に応答して前記外部入力
端子と前記入力バッファの入力ノードとを接続する第2
のスイッチング手段を備えた請求項1に記載の半導体集
積回路装置。
2. A second connection for connecting the external input terminal and an input node of the input buffer in response to the activation signal.
The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, further comprising:
【請求項3】 前記電位供給手段は、 抵抗素子を備え、前記入力バッファは、 一方導通電極が電源に接続された第2のPチャネルMO
Sトランジスタと、 一方導通電極が接地され、他方導通電極が前記第2のP
チャネルMOSトランジスタの他方導通電極と前記出力
ノードとに接続され、ゲート電極が前記第2のPチャネ
ルMOSトランジスタのゲート電極に接続された第2の
NチャネルMOSトランジスタと、 を備え、前記抵抗素子の抵抗値は、前記第2のNチャネ
ルMOSトランジスタのオン抵抗の10倍以上の大きさ
を有する請求項1または2に記載の半導体集積回路装
置。
3. The potential supply means includes a resistance element, and the input buffer has a second P-channel MO whose one conductive electrode is connected to a power source.
The S transistor and one conduction electrode are grounded, and the other conduction electrode is the second P electrode.
A second N-channel MOS transistor connected to the other conduction electrode of the channel MOS transistor and the output node, and having a gate electrode connected to the gate electrode of the second P-channel MOS transistor; 3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the resistance value is 10 times or more as large as the on resistance of the second N-channel MOS transistor.
【請求項4】 前記電位供給手段は、 抵抗素子を備え、前記入力バッファは、 一方導通電極が電源に接続された第2のPチャネルMO
Sトランジスタと、 一方導通電極が接地され、他方導通電極が前記第2のP
チャネルMOSトランジスタの他方導通電極と前記出力
ノードとに接続され、ゲート電極が前記第2のPチャネ
ルMOSトランジスタのゲート電極に接続された第2の
NチャネルMOSトランジスタと、を備え、前記抵抗素
子の抵抗値は、前記第2のPチャネルMOSトランジス
タのオン抵抗の10倍以上の大きさを有する請求項1ま
たは2に記載の半導体集積回路装置。
4. The potential supply means includes a resistance element, and the input buffer has a second P-channel MO whose one conductive electrode is connected to a power source.
The S transistor and one conduction electrode are grounded, and the other conduction electrode is the second P electrode.
A second N-channel MOS transistor connected to the other conduction electrode of the channel MOS transistor and the output node, and having a gate electrode connected to the gate electrode of the second P-channel MOS transistor; 3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the resistance value is 10 times or more as large as the on resistance of the second P-channel MOS transistor.
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