JPH10335417A

JPH10335417A - 基板搬送機構およびこれを利用した基板処理装置

Info

Publication number: JPH10335417A
Application number: JP14234297A
Authority: JP
Inventors: Koji Hasegawa; 公二長谷川
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1997-05-30
Filing date: 1997-05-30
Publication date: 1998-12-18

Abstract

(57)【要約】【課題】基板をスムーズに搬送することができる基板搬
送機構を提供する。【解決手段】第１および第２シリンダ室11,12 に対して
空気を流入／流出させるための第１および第２空気流通
路21,22 の途中部には、第１および第２流量調節部25,2
6 がそれぞれ介装されている。ピストン4bを第２ストッ
パ16に向けて移動させる場合、ピストン4bが移動始端付
近の第１変位位置17に達したことがセンサMS1 にて検出
されると、第２電磁弁26b が開成され、ピストン4bの移
動速度が向上させられる。ピストン4bが移動終端付近の
第２変位位置18に達したことがセンサMS2 にて検出され
ると、第２電磁弁26b が閉成され、ピストン4bの移動速
度が低下させられる。これにより、第２ストッパ16に当
たる際の衝撃がピストン4bに加わるのを和らげることが
できる。また、速度切替時にはバッファタンクAT2への
空気の待避によって、いわゆるハンマリング現象の発生
を防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、液
晶表示装置用ガラス基板およびＰＤＰ（プラズマディス
プレイパネル）用基板などの各種の被処理基板を搬送す
るための基板搬送機構に関する。また、この基板搬送機
構を用いた基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、半導体ウエハ（以下単に「ウ
エハ」という。）に対して処理を施すためのウエハ処理
装置が知られている。この種のウエハ処理装置には、通
常、複数の処理部が備えられ、これら複数の処理部間に
おいてウエハを搬送することにより、ウエハに一連の処
理が施されるようになっている。また、１つの処理部内
においても、ウエハの搬送が行われる場合がある。たと
えば、処理槽に貯留された処理液に複数枚のウエハを浸
漬させて処理する処理部では、未処理のウエハを処理液
に浸漬させたり処理済みのウエハを処理液から引き上げ
たりする動作が行われる。このようなウエハの搬送に
は、通常、シリンダ駆動機構が用いられる。

【０００３】図８は、シリンダ駆動機構の構成例を示す
空気圧回路図である。このシリンダ駆動機構は、片側ロ
ッド式のシリンダ９０を有している。シリンダ９０のロ
ッド９０ａの一端には、たとえばウエハを保持するウエ
ハ保持装置（図示せず）が取り付けられており、ロッド
９０ａの他端にはピストン９０ｂが取り付けられてい
る。ピストン９０ｂが往復移動すると、これに伴ってウ
エハ保持装置が往復移動する。このようにして、ウエハ
の搬送が行われる。

【０００４】ピストン９０ｂのストローク長は予め設定
されており、そのストローク長の端部には、ピストン９
０ｂを停止させるための第１ストッパ９１および第２ス
トッパ９２がそれぞれ配置されている。ピストン９０ｂ
の往復移動時の速度制御は、メータアウト式制御によっ
て行われる。すなわち、シリンダ９０内の第１シリンダ
室９３および第２シリンダ室９４への空気の流入／流出
路である第１空気流通路９５および第２空気流通路９６
の途中部には、それぞれ、メータアウト回路を構成する
第１スピードコントローラ９７および第２スピードコン
トローラ９８が介装されている。

【０００５】たとえば、ピストン９０ｂを図８において
右方向に移動させる場合、マスタバルブ９９により、空
気供給源に接続された空気供給路１００と第１空気流通
路９５とが接続されるとともに、第２空気流通路９６は
大気に接続される。その結果、第１スピードコントロー
ラ９７では空気のスムーズな流通が許可されるから、第
１シリンダ室９３の空気圧は速やかに上昇する。一方、
第２シリンダ室９４から流出する空気は第２スピードコ
ントローラ９８によってその流量が絞られる。その結
果、ピストン９０ｂは、この絞り量に応じた速度で右方
向に向けて移動する。この場合、移動開始から移動終了
まで、ピストン９０ｂの速度はほぼ一定に保たれる。そ
して、ピストン９０ｂは、第２ストッパ９２にて停止さ
せられる。

【０００６】一方、マスタバルブ９９において、空気供
給路１００と第２空気流通路９６とを接続し、第１空気
流通路９５を大気に接続すれば、ピストン９０ｂは図に
おいて左方向に移動する。この場合、ピストン９０ｂは
第１ストッパ９１にて停止させられる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかし、ピストン９０
ｂは移動開始から移動終了までほぼ一定速度で移動する
から、ピストン９０ｂをストッパによって停止させる場
合には、その際の大きな衝撃がピストン９０ｂに作用す
る。その結果、当該衝撃がロッド９０ａを介してウエハ
保持装置に伝達される。この場合、ウエハ保持装置に保
持されているウエハが暴れ、ウエハの安定保持を維持す
ることができなくなる。そのため、ウエハをスムーズに
搬送することができないという問題がある。

【０００８】しかも、ウエハ保持装置内に保持されてい
るウエハが暴れると、ウエハとウエハ保持装置との衝突
やウエハ同士の衝突により、パーティクルが発生する。
そのため、ウエハ汚染の原因となっていた。これに対処
するため、たとえば、ピストン９０ｂの移動速度を遅く
することが考えられる。しかし、この場合には、搬送タ
クトが低下するという別の問題が生じることになり、あ
まり好ましくない。

【０００９】そこで、本発明の目的は、上述の技術的課
題を解決し、基板をスムーズに搬送することができる基
板搬送機構を提供することである。また、本発明の他の
目的は、パーティクルの発生を抑えつつ、基板を搬送す
ることができる基板搬送機構を提供することである。さ
らに、本発明の他の目的は、搬送タクトの低下を抑制し
つつ、基板を搬送することができる基板搬送機構を提供
することである。

【００１０】さらにまた、本発明の他の目的は、上述の
ような基板搬送機構を用いることにより、パーティクル
の発生を抑制して基板を良好に処理できるとともに、処
理タクトの向上を図ることができる基板処理装置を提供
することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段および発明の効果】上記目
的を達成するための請求項１記載の発明は、基板保持手
段に保持された基板を搬送するための基板搬送機構であ
って、ピストンによって第１シリンダ室と第２シリンダ
室とに区切られたシリンダ室、上記第１シリンダ室に接
続される第１ポート、および上記第２シリンダ室に接続
される第２ポートを有し、上記基板保持手段を移動させ
るためのシリンダ手段と、上記第１ポートに接続され、
上記第１シリンダ室に対して気体を供給／排出するため
の第１気体流通路と、上記第２ポートに接続され、上記
第２シリンダ室に対して気体を供給／排出するための第
２気体流通路と、気体供給源に接続された気体供給路
と、上記第１気体流通路および第２気体流通路とを選択
的に接続するための切替えバルブと、上記第１気体流通
路を流通する気体の流量を少なくとも２段階に調節する
ための第１流量調節手段と、上記第２気体流通路を流通
する気体の流量を少なくとも２段階に調節するための第
２流量調節手段と、上記第１気体流通路に関連して設け
られ、第１気体流通路を流通する気体を一時的にバッフ
ァするための第１バッファ手段と、上記第２気体流通路
に関連して設けられ、第２気体流通路を流通する気体を
一時的にバッファするための第２バッファ手段と、を備
えたことを特徴とする基板搬送機構である。

【００１２】本発明では、第１気体流通路および第２気
体流通路を流通する気体の流量を調節することができる
から、たとえば基板保持手段の移動終了直前に基板保持
手段の移動速度が遅くなるように気体の流量を調節すれ
ば、ストッパなどに当たって停止する際の衝撃が基板保
持手段に加わるのを和らげることができる。しかも、第
１気体流通路および第２気体流通路にはバッファ手段が
設けられているから、基板搬送速度が切り替わる際のハ
ンマリング現象による衝撃をも和らげることができる。
したがって、基板が基板保持手段内で暴れるのを抑える
ことができるから、基板をスムーズに搬送することがで
きる。

【００１３】また、基板搬送をスムーズに行えることに
関連して、基板と基板保持手段との衝突や基板同士の衝
突を回避できるから、パーティクルの発生を抑えること
ができる。請求項２記載の発明は、上記基板保持手段の
位置を検出するための位置検出手段と、この位置検出手
段により検出された位置に基づいて、上記第１流量調節
手段または第２流量調節手段を制御し、上記第１気体流
通路または第２気体流通路を流通する気体の流量を調節
するための流量制御機構と、をさらに備えたことを特徴
とする請求項１記載の基板搬送機構である。

【００１４】本発明によれば、基板保持手段の位置を検
出する手段が設けられているから、たとえば、基板保持
手段が移動終了直前であるか否かを確実に把握できる。
そのため、流量調節を確実に行うことができる。請求項
３記載の発明は、上記流量制御機構は、上記位置検出手
段により上記基板保持手段が移動終端付近に位置するこ
とが検出された場合に、上記第１流量調節手段または第
２流量調節手段を制御し、上記第１気体流通路または第
２気体流通路を流通する気体の流量を減少させるもので
あることを特徴とする請求項２記載の基板搬送機構であ
る。

【００１５】本発明では、たとえば、基板保持手段が第
１シリンダ室側から第２シリンダ室側に向けて移動する
場合、基板保持手段が移動終端付近に達したときに、第
２気体流通路を流通する気体の流量を減少させることが
できる。また、基板保持手段が上述とは逆方向に移動す
る場合、基板保持手段が移動終端付近に達したときに、
第１気体流通路を流通する気体の流量を減少させること
ができる。つまり、シリンダ室から気体が流出する側の
気体流通路を流通する気体の流量が減少させることがで
きるから、基板保持手段の移動速度を低下させることが
できる。また、シリンダ室に気体を流入する側の気体流
通路を流通する気体の流量を減少させても、基板保持手
段の移動速度を低下させることができる。そのため、ス
トッパなどに当たって停止する際の衝撃が基板保持手段
に加わるのを和らげることができる。

【００１６】請求項４記載の発明は、上記流量制御機構
は、上記位置検出手段により上記基板保持手段が移動始
端付近に位置することが検出された場合に、上記第１流
量調節手段または第２流量調節手段を制御し、上記第１
気体流通路または第２気体流通路を流通する気体の流量
を増加させるものであることを特徴とする請求項２また
は請求項３記載の基板搬送機構である。

【００１７】本発明では、基板保持手段が第１シリンダ
室側から第２シリンダ室側に向けて移動する場合、基板
保持手段が移動始端付近に達したときに、第２気体流通
路を流通する気体の流量を増加させることができる。ま
た、基板保持手段が上述とは逆方向に移動する場合、基
板保持手段が移動始端付近に達したときに、第１気体流
通路を流通する気体の流量を増加させることができる。
つまり、シリンダ室から気体が流出する側の気体流通路
を流通する気体の流量が増加することができるから、基
板保持手段の移動速度を向上させることができる。ま
た、シリンダ室に気体を流入する側の気体流通路を流通
する気体の流量を増加させても、基板保持手段の移動速
度を向上させることができる。

【００１８】したがって、基板保持手段に衝撃が加わる
心配のない移動途中において基板保持手段の移動速度を
向上できるから、基板搬送タクトの向上を図ることがで
きる。請求項５記載の発明は、上記第１流量調節手段
は、上記第１気体流通路の途中部に介装され、第１気体
流通路内の気体の流通を許可／禁止するための開閉可能
な第１バルブ、上記第１気体流通路の上記第１バルブの
両側にその両端がそれぞれ接続された第１バイパス路、
および、この第１バイパス路の途中部に介装され、第１
バイパス路を流通する気体の流量を調節するための第１
流量調節バルブを含むものであり、上記第２流量調節手
段は、上記第２気体流通路の途中部に介装され、第２気
体流通路内の気体の流通を許可／禁止するための開閉可
能な第２バルブ、上記第２気体流通路の上記第２バルブ
の両側にその両端がそれぞれ接続された第２バイパス
路、および、この第２バイパス路の途中部に介装され、
第２バイパス路を流通する気体の流量を調節するための
第２流量調節バルブを含むものであることを特徴とする
請求項１記載の基板搬送機構である。

【００１９】本発明では、第１バルブが開成している場
合、気体は第１気体流通路および第１バイパス路の両方
を流通する。一方、第１バルブが閉成している場合に
は、気体は、当該第１バルブが介装されている第１気体
流通路を避けて第１バイパス路に流れ込む。すなわち、
第１バルブが開成している場合には気体流量が増加し、
第１バルブが閉成していれば気体流量が減少する。この
ことは、第２バルブについても同様であって、第２バル
ブが開成していれば気体流量が増加し、第２バルブが閉
成していれば気体流量が減少する。

【００２０】このように、上述の構成によれば、簡単な
構成で、気体流量を２段階に確実に調節することができ
る。請求項６記載の発明は、上記基板保持手段の位置を
検出するための位置検出手段と、この位置検出手段によ
り検出された位置に基づいて、上記第１バルブまたは第
２バルブの開閉を制御することにより、上記第１気体流
通路または第２気体流通路を流通する気体の流量を調節
する制御回路を含む流量制御機構と、をさらに備えたこ
とを特徴とする請求項５記載の基板搬送機構である。

【００２１】本発明によれば、第１バルブまたは第２バ
ルブの開閉を制御することによって流量調節が行われる
から、流量調節を自動的に行うことができる。請求項７
記載の発明は、上記基板保持手段の移動両端付近をそれ
ぞれ検出するための位置検出手段をさらに備え、上記第
１バルブは、上記位置検出手段により上記基板保持手段
が第１シリンダ側の端部付近に位置することが検出され
た場合に、当該検出結果が機械的に伝達されて開閉する
第１メカニカルバルブであり、上記第２バルブは、上記
位置検出手段により上記基板保持手段が第２シリンダ側
の端部付近に位置することが検出された場合に、当該検
出結果が機械的に伝達されて開閉する第２メカニカルバ
ルブであることを特徴とする請求項５記載の基板搬送機
構である。

【００２２】本発明では、基板保持手段が第１シリンダ
室側から第２シリンダ室側に移動する場合、基板保持手
段が移動終端付近に達したことが検出されたときに、当
該検出結果は第２バルブに機械的に伝達される。したが
って、この場合に第２バルブが閉成するようにしておけ
ば、第２シリンダ室から流出する気体流量を減少させる
ことができる。そのため、基板保持手段の移動速度を低
下させることができる。

【００２３】一方、基板保持手段が反対方向に移動して
いる場合には、基板保持手段が移動終端付近に達したこ
とは第１バルブに機械的に伝達されるから、この場合に
第１バルブが閉成するようにしておけば、基板保持手段
の移動速度を低下させることができる。このように、基
板保持手段が移動終端付近に達した場合に基板保持手段
の移動速度を低下させることができるから、移動終端の
ストッパなどに当たって停止する際の衝撃が基板保持手
段に加わるのを和らげることができる。

【００２４】また、基板保持手段が第１シリンダ室側か
ら第２シリンダ室側に移動する場合、基板保持手段が移
動始端付近に達したことが検出されたときに、当該検出
結果は第１バルブに機械的に伝達される。したがって、
この場合に、第１バルブが開成するようにしておけば、
第１シリンダ室に流入する気体流量を増加させることが
できるから、基板保持手段の移動速度を向上させること
ができる。基板保持手段が反対方向に移動する場合に
は、基板保持手段が移動始端付近に達したことは第２バ
ルブに機械的に伝達されるから、この場合に第２バルブ
を開成するようにしておけば、基板保持手段の移動速度
を向上させることができる。したがって、基板保持手段
に衝撃が加わる心配のない移動途中において基板保持手
段の移動速度を向上させることができるから、基板搬送
タクトを向上できる。

【００２５】このように、この請求項７記載の発明によ
れば、位置検出手段とメカニカルバルブとが協同するこ
とにより、流量制御機構の機能が実現される。さらに、
位置検出手段の検出結果が第１バルブおよび第２バルブ
に機械的に伝達されるから、第１バルブおよび第２バル
ブの開閉動作を迅速に行うことができる、また、バルブ
の開閉に電力を使用していないから、停電時などの非常
時においても、基板保持手段の移動速度を確実に切り替
えることができる。

【００２６】請求項８記載の発明は、基板を保持するた
めの基板保持手段と、上記請求項１ないし７のいずれか
に記載の基板搬送機構と、基板に対して所定の処理を施
すための処理部と、この処理部に対して基板を受け渡す
ために、上記基板搬送機構を動作させる搬送制御手段
と、備えたことを特徴とする基板処理装置である。本発
明によれば、基板を搬送する場合に、パーティクルの発
生を抑制でき、しかも基板保持手段に対して衝撃が加わ
るのを和らげつつ、基板搬送タクトの向上を図ることが
できるから、基板汚染を防止しつつ基板を効率よく処理
することができる。そのため、高品質な基板を効率よく
生産することができる。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下では、本発明の実施の形態
を、添付図面を参照して詳細に説明する。図１は、本発
明の第１実施形態の基板処理装置であるウエハ処理装置
の構成を示す概念図である。このウエハ処理装置は、複
数枚のウエハＷを処理槽１に貯留された処理液に浸漬さ
せ、この状態において処理液をオーバーフローさせるこ
とによりウエハＷを処理（ウエハＷの表面を洗浄する洗
浄処理や、ウエハＷの表面に形成された薄膜をエッチン
グするエッチング処理等）するものである。このウエハ
処理装置は、複数枚のウエハＷを一括して保持できるウ
エハ保持装置２と、このウエハ保持装置２を昇降させる
ためのシリンダ駆動機構３とを備えている。

【００２８】シリンダ駆動機構３は、未処理のウエハＷ
を図示しない搬送ロボットから受け取る場合、および処
理済みのウエハＷをこの搬送ロボットに渡す場合に、ウ
エハ保持装置２を上昇させる。また、シリンダ駆動機構
３は、搬送ロボットから受け取ったウエハＷを処理液に
浸漬させる場合に、ウエハ保持装置２を下降させる。シ
リンダ駆動機構３は、ウエハ保持装置２に取り付けられ
たロッド４ａ、およびロッド４ａの下端部に取り付けら
れたピストン４ｂを有するシリンダ４と、空気圧によっ
てピストン４ｂを上下方向に往復移動させるための空気
圧回路部５とを備えている。

【００２９】図２は、シリンダ駆動機構３の構成を示す
空気圧回路図である。シリンダ４の内部に形成されたシ
リンダ室１０（たとえば、内径３２(mm)）は、ピストン
４ｂによって第１シリンダ室１１と第２シリンダ室１２
とに区切られている。第１シリンダ室１１および第２シ
リンダ室１２には、それぞれ、空気の流入／流出口であ
る第１ポートＰ１および第２ポートＰ２が設けられてい
る。ピストン４ｂは、第１シリンダ室１１および第２シ
リンダ室１２の各空気圧の差により、第１基準端１３と
第２基準端１４との間のストローク長（たとえば300(m
m) ）の範囲で移動できるようになっている。シリンダ
４の第１基準端１３および第２基準端１４には、それぞ
れ、ピストン４ｂの移動を停止させるための第１ストッ
パ１５および第２ストッパ１６が設けられている。

【００３０】シリンダ４には、ピストン４ｂの位置を検
出するために、第１マグネットセンサＭＳ１および第２
マグネットセンサＭＳ２が設けられている。第１マグネ
ットセンサＭＳ１は、第１基準端１３よりも所定距離ｒ
１（たとえばｒ１＝10(mm)）だけシリンダ４の内側に変
位した位置（以下「第１変位位置」という。）１７に配
設されている。第１マグネットセンサＭＳ１は、ピスト
ン４ｂが第１変位位置１７に位置する場合にオンし、位
置検出信号を出力するものであり、ピストン４ｂが第１
変位位置１７に位置していない場合にはオフする。第２
マグネットセンサＭＳ２は、シリンダ４の第２基準端１
４よりも所定距離ｒ２（たとえばｒ２＝ｒ１＝10(mm)）
だけシリンダ４の内側に変位した位置（以下「第２変位
位置」という。）１８に配設されている。第２マグネッ
トセンサＭＳ２は、ピストン４ｂが第２変位位置１８に
位置する場合にオンし、位置検出信号を出力するもので
あり、ピストン４ｂが第２変位位置１８に位置していな
い場合にはオフする。

【００３１】またその他、ピストン４ｂの移動速度の条
件として一例を示すと、たとえば、第１基準端１３と第
１変位位置１７との間の移動速度が５(mm/sec)、第１変
位位置１７と第２変位位置１８との間の移動速度が７０
(mm/sec)、および第２変位位置１８と第２基準端１４と
の間の移動速度が５(mm/sec)となるように、後述するこ
の空気圧回路の各要素部品を設定している。すなわち、
ピストン４ｂは第１基準端１３と第１変位位置１７との
間の１０(mm)の距離を２(sec) 、第１変位位置１７と第
２変位位置１８との間の２８０(mm)を４(sec) 、および
第２変位位置１８と第２基準端１４との間の１０(mm)を
２(sec) で移動することとなり、よって、ピストン４ｂ
が移動し始めてから停止されるまで、合計８(sec) かか
ることとなる。

【００３２】空気圧回路部５は、第１ポートＰ１に接続
され、第１シリンダ室１１への空気の流入路および第１
シリンダ室１１からの空気の流出路として機能する第１
空気流通路２１と、第２ポートＰ２に接続され、第２シ
リンダ室１２への空気の流入路および第２シリンダ室１
２からの空気の流出路として機能する第２空気流通路２
２とを備えている。各空気流通路２１、２２は、マスタ
バルブ２３の所定の２つのポートにそれぞれ接続されて
いる。マスタバルブ２３の他のポートには、空気供給源
ＡＳに接続された空気供給路２４が接続されている。マ
スタバルブ２３は、第１空気流通路２１および第２空気
流通路２２と空気供給路２４とを選択的に接続するため
のものである。マスタバルブ２３は、第１空気流通路２
１および第２空気流通路２２のうち、空気供給路２４と
接続されない側の空気流通路を大気と接続する。

【００３３】第１空気流通路２１および第２空気流通路
２２の途中部には、ピストン４ｂの移動速度を決定する
ための第１スピードコントローラＳＰ１および第２スピ
ードコントローラＳＰ２がそれぞれ介装されている。第
１および第２スピードコントローラＳＰ１、ＳＰ２は、
シリンダ４から流出する空気の流量を調整するメータア
ウト回路を構成している。

【００３４】第１空気流通路２１および第２空気流通路
２２の途中部には、それぞれ、空気の流量を２段階に切
り換えることができる第１流量調節部２５および第２流
量調節部２６が設けられている。第１流量調節部２５
は、第１空気流通路２１において、第１スピードコント
ローラＳＰ１よりもマスタバルブ２３側の途中部に介装
された第１電磁弁２５ａと、第１空気流通路２１の第１
電磁弁２５ａの両側にその両端がそれぞれ接続された第
１バイパス路２５ｂと、第１バイパス路２５ｂの途中部
に介装された第１絞り弁２５ｃとを含む。この構成によ
り、第１電磁弁２５ａを開成すれば多量の空気が流通
し、第１電磁弁２５ａを閉成すれば少量の空気が流通す
る。すなわち、空気の流量を２段階に調節できる。

【００３５】同様に、第２流量調節部２６は、第２空気
流通路２２において、第２スピードコントローラＳＰ２
よりもマスタバルブ２３側の途中部に介装された第２電
磁弁２６ａと、第２空気流通路２２の第２電磁弁２６ａ
の両側にその両端がそれぞれ接続された第２バイパス路
２６ｂと、第２バイパス路２６ｂの途中部に介装された
第２絞り弁２６ｃとを含む。この構成により、第２電磁
弁２６ａを開成すれば多量の空気が流通し、第２電磁弁
２６ａを閉成すれば少量の空気が流通する。すなわち、
空気の流量を２段階に調節できる。

【００３６】第１絞り弁２５ｃおよび第２絞り弁２６ｃ
の絞り量は、たとえば、ピストン４ｂからロッド４ａを
介して連結されたウエハ保持装置２が移動した後に停止
する際に、ウエハＷに対して衝撃を与えないように、か
つ、ウエハＷの搬送タクトに影響を与えないように適切
に設定される。第１空気流通路２１の途中部の第１スピ
ードコントローラＳＰ１と第１流量調節部２５との間に
は、第１エアバッファタンクＡＴ１が接続されている。
同様に、第２空気流通路２２の途中部の第２スピードコ
ントローラＳＰ２と第２流量調節部２６との間には、第
２エアバッファタンクＡＴ２が接続されている。これら
各エアバッファタンクＡＴ１、ＡＴ２は、空気の流量を
変化させる際におけるピストン４ｂからロッド４ａを介
して連結されたウエハ保持装置２の振動（ハンマリング
現象）を和らげるために空気を待避させるためのもの
で、たとえばチューブにより構成される。この場合、チ
ューブの長さおよび径は、たとえばピストン４ｂの設定
スピードを考慮し、それぞれ、１(m) および８(mm)に設
定されている。

【００３７】図３は、ウエハ処理装置の電気的構成を示
すブロック図である。このウエハ処理装置は、制御中枢
としての制御部４０を備えている。制御部４０は、たと
えばマイクロコンピュータで構成され、予め設定された
制御プログラムに従って、ピストン移動処理を含む種々
の処理を実行する。制御部４０は、制御プログラムに従
って、マスタバルブ２３の接続状態を制御する。また、
制御部４０は、第１マグネットセンサＭＳ１および第２
マグネットセンサＭＳ２から出力される位置検出信号に
基づいて、第１電磁弁２５ａおよび第２電磁弁２６ａの
開閉を制御する。

【００３８】図４は、制御部４０におけるピストン移動
処理を説明するための概念図である。ピストン４ｂが第
１基準端１３に位置している場合において（図４(a)
）、このピストン４ｂを第２基準端１４に向けて移動
させるとき、制御部４０は、マスタバルブ２３の接続状
態を制御し、第１空気流通路２１を空気供給路２４に接
続させる。この場合、第２空気流通路２２は大気に接続
される。また、第１電磁弁２５ａを開成するとともに、
第２電磁弁２６ａを閉成する。その結果、空気供給源Ａ
Ｓからの空気は、第１空気流通路２１および第１バイパ
ス路２５ｂの両方を通って第１シリンダ室１１に流れ込
む。一方、第２シリンダ室１２内の空気は、第２空気流
通路２２からいったん第２バイパス路２６ｂを流れた後
第２空気流通路２２に戻って大気中に排気される。この
場合、第２シリンダ室１２から排出される空気流量は、
第２スピードコントローラＳＰ２によって絞られている
うえに第２流量調節部２６の第２絞り弁２６ｃによって
さらに絞られるから、ピストン４ｂは、第１基準端１３
から第２基準端１４に向けてゆっくりと移動する。これ
により、急激に移動を開始させる場合に比べて速度変化
が滑らかであるから、ピストン４ｂの振動を防ぐことが
できる。よって、ウエハ保持装置２の振動を防止できる
から、ウエハＷの安定保持に寄与できる。

【００３９】制御部４０は、第１マグネットセンサＭＳ
１から位置検出信号が出力されたか否かを監視してい
る。第１マグネットセンサＭＳ１から位置検出信号が出
力されれば、ピストン４ｂが第１変位位置１７に達した
と考えられる（図４(b) ）。そこで、制御部４０は、ピ
ストン４ｂの移動速度を上昇させるために、第２電磁弁
２６ａを開成する。その結果、第２空気流通路２２を流
通する空気流量が増加する。すなわち、第２シリンダ室
１２から排出される空気量が増加するから、ピストン４
ｂの移動速度が上昇する。

【００４０】この場合、第２空気流通路２２を流通する
空気の一部は第２エアバッファタンクＡＴ２に待避する
から、第２シリンダ室１２からの空気排出量の急激な増
加による急激な速度変化が緩和される。その結果、ピス
トン４ｂの移動速度は滑らかに上昇する。そのため、ピ
ストン４ｂの速度変化時にピストン４ｂが振動したりす
ることがなく、いわゆるハンマリング現象の発生を防止
できる。

【００４１】その後、制御部４０は、第２マグネットセ
ンサＭＳ２から位置検出信号が出力されたか否かを監視
する。第２マグネットセンサＭＳ２から位置検出信号が
出力されれば、ピストン４ｂが第２基準端１４の手前の
第２変位位置１８に達したと考えることができる（図４
(c) ）。そこで、制御部４０は、ピストン４ｂの移動速
度を低下させるために、第２電磁弁２６ａを閉成する。
その結果、第２空気流通路２２を流通する空気流量が減
少するから、ピストン４ｂの移動速度が低下する。

【００４２】この場合、第２シリンダ室１２から流出す
る空気の一部は第２エアバッファタンクＡＴ２に待避す
るから、第２シリンダ室１２からの空気排出量の急激な
減少による速度変化が緩和される。したがって、ピスト
ン４ｂの移動速度は滑らかに低下する。そのため、ピス
トン４ｂの減速時においても、いわゆるハンマリング現
象の発生を防止できる。

【００４３】その後、ピストン４ｂは、最終的に第２ス
トッパ１６にて停止させられ、ウエハ保持装置２の移動
が停止される（図４(d) ）。この場合、ピストン４ｂの
移動速度は低くなっているから、ピストン４ｂは、第２
ストッパ１６に緩やかに当たる。これにより、ロッド４
ａの振動を防止できるから、ウエハ保持装置２の揺れも
防止できる。よって、ウエハＷの振動を阻止できる。

【００４４】一方、ピストン４ｂを第２基準端１４から
第１基準端１３に向けて移動させる場合には、上述の場
合とは逆に、マスタバルブ２３の接続状態を制御し、第
２空気流通路２２を空気供給路２４に接続させ、さら
に、第２電磁弁２６ａを開成するとともに第１電磁弁２
５ａを閉成する。その後、第２マグネットセンサＭＳ２
から位置検出信号が出力されたことに応答して第１電磁
弁２５ａを開成し、ピストン４ｂの移動速度を上昇させ
る。さらに、第１マグネットセンサＭＳ１から位置検出
信号が出力されたことに応答して第１電磁弁２５ａを閉
成し、ピストン４ｂの移動速度を低下させる。その結
果、ピストン４ｂは、第１ストッパ１５にて停止させら
れ、ウエハ保持装置２の移動が停止される。

【００４５】図５は、時間ｔに対するピストン４ｂの移
動速度ｖの変化を示すグラフである。一方の基準端に位
置しているピストン４ｂの速度は、初速度０から上昇し
ていき、第１中間速度ｖ１に達して、この速度で推移す
る。ピストン４ｂが一方の基準端近傍の変位位置に達す
るタイミングｔ１において、最高速度ｖ２に滑らかに立
ち上がる。その後、最高速度ｖ２で推移した後、ピスト
ン４ｂが他方の基準端近傍の変位位置に達するタイミン
グｔ２において低下し始め、たとえばｖ１よりも低い第
２中間速度ｖ３に達して、この速度で推移する。最終的
に、ピストン４ｂが他方の基準端に達するタイミングｔ
３において停止させられる。

【００４６】以上のようにこの第１実施形態によれば、
ピストン４ｂの移動終端の手前においてピストン４ｂの
移動速度を低下させているから、ピストン４ｂを滑らか
に停止させることができる。しかも、ピストン４ｂの加
減速時には、ピストン４ｂへの衝撃をエアバッファタン
クＡＴ２に空気を一時的に待避させることによって回避
している。したがって、このようなシリンダ駆動機構３
によって昇降駆動されるウエハ保持装置２の振動を防止
できる。そのため、ウエハＷをスムーズに搬送すること
ができる。また、パーティクルの発生を防止できるか
ら、ウエハＷを良好に処理することができる。

【００４７】また、ピストン４ｂの移動初端付近から移
動終端手前まではピストン４ｂの移動速度を速くしてい
るから、ウエハＷの振動発生を防止しつつ、ウエハＷの
搬送速度を向上できる。そのため、ウエハＷの搬送タク
トの向上を図ることができる。図６は、本発明の第２実
施形態の基板処理装置であるウエハ処理装置の構成を示
す概略図であり、図７は、このウエハ処理装置に適用さ
れるシリンダ駆動機構の構成を示す空気圧回路図であ
る。図６および図７において、図１および図２と同じ機
能部分については同一の参照符号を使用する。

【００４８】上記第１実施形態では、ウエハ保持装置２
を昇降させるためのシリンダ駆動機構３において、片側
ロッド式のシリンダ４を使用している。また、ピストン
４ｂの位置を第１マグネットセンサＭＳ１および第２マ
グネットセンサＭＳ２で検出し、この検出結果に基づい
て第１電磁弁２５ａおよび第２電磁弁２６ａを電気的に
開閉制御して空気の流量を調節している。

【００４９】これに対して、この第２実施形態では、ウ
エハＷが収容されているカセットＣを、ウエハＷを処理
するための２つの処理部５０、５１間で搬送するための
搬送装置５２を駆動する機構として、ロッドレスシリン
ダ５３を使用している。また、ピストン７０ａに連結さ
れたスライダ６７の移動両端付近の位置をそれぞれ検出
するとともに、各検出結果がそれぞれ機械的に伝達され
ることにより開閉動作をする第１メカニカルバルブＭＶ
１および第２メカニカルバルブＭＶ２を使用することに
より、空気の流量を調節している。

【００５０】さらに具体的には、ロッドレスシリンダ５
３は、第１基準端６１に配置された第１ストッパ６２
と、第２基準端６３に配置された第２ストッパ６４と、
第１ストッパ６２および第２ストッパ６４を接続する２
本のガイド軸６５、６６と、ガイド軸６５、６６が挿通
し、ガイド軸６５、６６に沿って往復移動するスライダ
６７とを備えている。スライダ６７の上部には、ウエハ
Ｗが収容されているカセットＣを載置するためのテーブ
ル６８が取り付けられている。

【００５１】一方のガイド軸６５の内部には、チューブ
６９が挿通されている。チューブ６９の内部はシリンダ
室７０となっており、このシリンダ室７０は、スライダ
６７に対して連結されたピストン７０ａによって第１シ
リンダ室７１および第２シリンダ室７２に区切られてい
る。第１シリンダ室７１の第１ストッパ６２側の端部に
は、第１空気流通路２１が接続された第１ポートＰ１が
設けられており、第２シリンダ室７２の第２ストッパ６
４側の端部には、第２空気流通路２２が接続された第２
ポートＰ２が設けられている。

【００５２】第１ストッパ６２よりも第２ストッパ６４
側に所定距離ｒ１だけ変位した第１変位位置７５には、
第１メカニカルバルブＭＶ１が配設されている。また、
第２ストッパ６４よりも第１ストッパ６２側に所定距離
ｒ２だけ変位した第２変位位置７６には、第２メカニカ
ルバルブＭＶ２が配設されている。第１メカニカルバル
ブＭＶ１および第２メカニカルバルブＭＶ２は、第１ロ
ーラレバーＲＬ１および第２ローラレバーＲＬ２を有し
ている。第１ローラレバーＲＬ１および第２ローラレバ
ーＲＬ２は、通常は起立しており、スライダ６７が第１
ローラレバーＲＬ１および第２ローラレバーＲＬ２の配
設位置に位置している場合に、スライダ６７によって倒
されるようになっている。第１メカニカルバルブＭＶ１
および第２メカニカルバルブＭＶ２は、第１空気流通路
２１および第２空気流通路２２の途中部にそれぞれ介装
されており、第１ローラレバーＲＬ１および第２ローラ
レバーＲＬ２の状態に機械的に連動して、第１空気流通
路２１および第２空気流通路２２をそれぞれ開閉するよ
うになっている。すなわち、メカニカルバルブのローラ
レバーが起立された状態のときは、そのバルブは開成さ
れ、ローラレバーが倒された状態のときは、閉成される
ようになっている。

【００５３】スライダ６７が図６に示すように第１スト
ッパ６２の近傍に位置している場合、第１メカニカルバ
ルブＭＶ１の第１ローラレバーＲＬ１は傾いている。こ
の場合、第１メカニカルバルブＭＶ１は閉成している。
一方、第２メカニカルバルブＭＶ２の第２ローラレバー
ＲＬ２は起立しており、この場合、第２メカニカルバル
ブＭＶ２は開成している。

【００５４】ここで、図７の空気圧回路図を用いて説明
する。この状態において、制御部４０は、マスタバルブ
２３の接続状態を制御し、第１空気流通路２１と空気供
給路２４とを接続させ、第２空気流通路２２を大気に接
続させる。この場合、第１空気流通路２１を流通する空
気の流量は第１流量調節部２５において絞られているか
ら、第１シリンダ室７１に流入する空気量は少ない。し
たがって、スライダ６７はゆっくりと移動を開始する。

【００５５】移動開始後スライダ６７の後端が第１メカ
ニカルバルブＭＶ１を通過すると、第１ローラレバーＲ
Ｌ１が起立する。これに応答して、第１メカニカルバル
ブＭＶ１は開成する。その結果、第１空気流通路２１を
流通する空気の流量が増大するから、スライダ６７の移
動速度は上昇する。この場合、第１シリンダ室７１に流
入する空気の一部は第１エアバッファタンクＡＴ１に待
避するから、スライダ６７の移動速度は滑らかに上昇す
る。

【００５６】さらに、スライダ６７が移動し、第２メカ
ニカルバルブＭＶ２の配設位置に達して第２ローラレバ
ーＲＬ２が倒されると、これに応答して第２メカニカル
バルブＭＶ２が閉成する。その結果、第２空気流通路２
２を流通する空気の流量は第２流通調節部２６において
絞られるから、スライダ６７の移動速度は低下する。こ
の場合においても、第２シリンダ室７２から流出する空
気の一部は第２エアバッファタンクＡＴ２に待避するか
ら、スライダ６７の移動速度は滑らかに低下する。これ
により、スライダ６７は低速で移動し、最終的に、第２
ストッパ６４にて停止する。

【００５７】第２ストッパ６４の近傍にスライダ６７が
位置している場合に、スライダ６７を第１ストッパ６３
に向けて移動させる場合には、空気供給路２４に接続さ
れる空気流通路が第１空気流通路２１から第２空気流通
路２２に切り替わるとともに、流路の開閉パターンが上
述とは反対になるだけである。したがって、その説明は
省略する。

【００５８】このようにこの第２実施形態によれば、移
動終端手前においてスライダ６７の移動速度を低下させ
ているから、スライダ６７がストッパに当たる際の衝撃
の発生を抑え、その結果カセットＣに収容されているウ
エハＷの暴れを防止することができる。したがって、ウ
エハＷをスムーズに搬送させることができる。しかも、
スライダ６７の速度切替えは機械的に行われるから、バ
ルブの開閉を迅速に行える。また、電力を使用しないか
ら、停電時などの非常時においても、スライダ６７の移
動速度を確実に切り換えることができる。よって、高信
頼性の装置を提供できる。

【００５９】なお、この第２実施形態においては、スラ
イダ６７の位置を検出するための手段としてリミットス
イッチであるローラレバーを用いている。しかし、スラ
イダ６７の位置を検出する手段としては、たとえば、イ
ンピーダンスの変化を利用した近接スイッチ、光の変化
を利用した光電スイッチ、および磁気の変化を利用した
シリンダスイッチなどの種々のものを適用することがで
きる。

【００６０】また、この第２実施形態においては、スラ
イダ６７の移動開始時の移動速度は遅くなるようにして
いる。しかし、たとえば図７に示すように、第１流量調
節部２５の第１絞り弁２５ｃに並列に、かつロッドレス
シリンダ５３側からの空気の流通を禁止するように、逆
止弁８１を取り付けるとともに、第２流量調節部２６の
第２絞り弁２６ｃに並列に、かつロッドレスシリンダ５
３側からの空気の流通を禁止するように、逆止弁８２を
取り付ければ（すなわち、絞り弁２５ｃ、２６ｃに代え
て、それぞれスピードコントローラを取り付けることと
同等）、スライダ６７の移動開始時の移動速度を向上で
きる。すなわち、移動開始時には、第１空気流通路２１
および第２空気流通路２２を流通する空気流量が増加す
るから、スライダ６７の移動速度を向上できる。

【００６１】以上、本発明の２つの実施形態について説
明しているが、本発明は上述の実施形態に限定されるも
のではない。たとえば、上記実施形態では、第１スピー
ドコントローラＳＰ１および第２スピードコントローラ
ＳＰ２の回路構成としてメータアウト回路を採用する例
について説明しているが、たとえばメータイン回路を採
用してもよい。メータイン回路は、メータアウト回路に
備えられている第１スピードコントローラＳＰ１および
第２スピードコントローラＳＰ２の逆止弁の向きを反転
させることによって構成することができる。この場合、
空気が排出する側の流量調節部に備えられている弁の開
閉を制御するのではなく、空気を流入する側の流量調節
部に備えられている弁の開閉を制御する必要がある。

【００６２】また、上記実施形態では、エアバッファタ
ンクをスピードコントローラと流量調節部との間に分岐
接続する構成を例にとっているが、エアバッファタンク
は、たとえば流量調節部に備えられている絞り弁の直前
のように、空気流通路のうち流量調節部に備えられてい
る絞り弁よりもシリンダ側に分岐接続すればよい。ま
た、エアバッファタンクは、空気流通路に分岐接続され
る必要はなく、たとえば空気流通路の途中部に介装する
ようにしてもよい。要するに、エアバッファタンクは、
空気流通路に関連して設けられて、空気流通路を流通す
る空気が一時的に待避させ、バッファさせることができ
るものであればよい。

【００６３】また、上記実施形態では、エアバッファタ
ンクをチューブで構成する例を取って説明しているが、
チューブのような管状のものではなく、俵形や球形の容
器であってもよく、要するに、必要所定量の空気を収容
することのできるものであればよい。さらに、上記実施
形態では、第１および第２空気流通路２１、２２を流通
する空気の流量を２段階に調節する場合について説明し
ているが、たとえば３段階以上に調節するようにしても
よい。空気の流量を調節する段階を多くすればするほ
ど、ピストン４ｂやスライダ６７の移動速度変化時の速
度差を小さくすることができるので、さらに、前述のハ
ンマリング現象の発生を抑え、ウエハＷに与える振動の
影響を防止することができる。

【００６４】さらにまた、上記各実施形態では、ピスト
ン４ｂ、スライダ６７がいずれの方向に移動する場合で
あっても空気流量を調節するようにしているが、たとえ
ば一方向に移動する場合にのみ空気流量を調節するよう
にしてもよい。また、上記各実施形態では、マグネット
センサＭＳ１、ＭＳ２やローラレバーＲＬ1 、ＲＬ２な
どの位置検出手段は、ピストン４ｂやスライダ６７の位
置を検出するものとなっているが、たとえば、テーブル
６８やカセットＣ自体の位置を検出するものであっても
よい。要するに、位置検出手段は、ウエハＷを保持する
部材（基板保持手段）に対して機械的に連結された部材
の位置を検出するものであればよい。

【００６５】さらに、上記実施形態では、ウエハＷを浸
漬処理するためのウエハ処理装置に用いられるシリンダ
駆動機構３やウエハＷに一連の処理を施すためのウエハ
処理装置に用いられる搬送装置５２に本発明が適用され
る場合を例にとっているが、本発明は、たとえば液晶表
示装置用ガラス基板を搬送する装置やＰＤＰ用ガラス基
板を搬送する装置に対しても適用することができる。

【００６６】その他、特許請求の範囲に記載された範囲
で種々の設計変更を施すことが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施形態の基板処置装置であるウ
エハ処理装置の構成を示す概念図である。

【図２】シリンダ駆動機構の構成を示す回路図である。

【図３】ウエハ処理装置の電気的構成を示すブロック図
である。

【図４】制御部におけるピストン移動処理を説明するた
めの概略図である。

【図５】時間に対するピストンの移動速度の変化を示す
グラフである。

【図６】本発明の第２実施形態の基板処置装置であるウ
エハ処理装置の構成を示す概念図である。

【図７】ウエハ処理装置の回路図である。

【図８】従来のシリンダ駆動機構の構成例を示す回路図
である。

【符号の説明】

１処理槽（処理部）２ウエハ保持装置（基板保持手段）４シリンダ（シリンダ手段）４ｂピストン１０、７０シリンダ室１１、７１第１シリンダ室１２、７２第２シリンダ室１３、６１第１基準端（移動始端、移動終端、第１シ
リンダ側の端部）１４、６３第２基準端（移動始端、移動終端、第２シ
リンダ側の端部）１７、７５第１変位位置（移動始端付近、移動終端付
近）１８、７６第２変位位置（移動始端付近、移動終端付
近）２１第１空気流通路２２第２空気流通路２３マスタバルブ（切替えバルブ）２４空気供給路（気体供給路）２５第１流量調節部（流量調節手段、第１流量調節手
段）２５ａ第１電磁弁（第１バルブ）２５ｂ第１バイパス路２５ｃ第１絞り弁（第１流量調節バルブ）２６第２流量調節部（流量調節手段、第２流量調節手
段）２６ａ第２電磁弁（第２バルブ）２６ｂ第２バイパス路２６ｃ第２絞り弁（第２流量調節バルブ）４０制御部（流量調節手段、第１流量調節手段、第２
流量調節手段）５０、５１処理部５３ロッドレスシリンダＡＳ空気供給源（気体供給源）ＡＴ１第１エアバッファタンク（第１バッファ手段）ＡＴ２第２エアバッファタンク（第２バッファ手段）Ｃカセット（基板保持手段）ＭＳ１第１マグネットセンサ（位置検出手段）ＭＳ２第２マグネットセンサ（位置検出手段）ＭＶ１第１メカニカルバルブ（第１バルブ）ＭＶ２第２メカニカルバルブ（第２バルブ）Ｐ１第１ポートＰ２第２ポートＲＬ１第１ローラレバー（位置検出手段）ＲＬ２第２ローラレバー（位置検出手段）Ｗウエハ（基板）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板保持手段に保持された基板を搬送する
ための基板搬送機構であって、ピストンによって第１シリンダ室と第２シリンダ室とに
区切られたシリンダ室、上記第１シリンダ室に接続され
る第１ポート、および上記第２シリンダ室に接続される
第２ポートを有し、上記基板保持手段を移動させるため
のシリンダ手段と、上記第１ポートに接続され、上記第１シリンダ室に対し
て気体を供給／排出するための第１気体流通路と、上記第２ポートに接続され、上記第２シリンダ室に対し
て気体を供給／排出するための第２気体流通路と、気体供給源に接続された気体供給路と、上記第１気体流
通路および第２気体流通路とを選択的に接続するための
切替えバルブと、上記第１気体流通路を流通する気体の流量を少なくとも
２段階に調節するための第１流量調節手段と、上記第２気体流通路を流通する気体の流量を少なくとも
２段階に調節するための第２流量調節手段と、上記第１気体流通路に関連して設けられ、第１気体流通
路を流通する気体を一時的にバッファするための第１バ
ッファ手段と、上記第２気体流通路に関連して設けられ、第２気体流通
路を流通する気体を一時的にバッファするための第２バ
ッファ手段と、を備えたことを特徴とする基板搬送機
構。
【請求項２】上記基板保持手段の位置を検出するための
位置検出手段と、この位置検出手段により検出された位置に基づいて、上
記第１流量調節手段または第２流量調節手段を制御し、
上記第１気体流通路または第２気体流通路を流通する気
体の流量を調節するための流量制御機構と、をさらに備
えたことを特徴とする請求項１記載の基板搬送機構。
【請求項３】上記流量制御機構は、上記位置検出手段に
より上記基板保持手段が移動終端付近に位置することが
検出された場合に、上記第１流量調節手段または第２流
量調節手段を制御し、上記第１気体流通路または第２気
体流通路を流通する気体の流量を減少させるものである
ことを特徴とする請求項２記載の基板搬送機構。
【請求項４】上記流量制御機構は、上記位置検出手段に
より上記基板保持手段が移動始端付近に位置することが
検出された場合に、上記第１流量調節手段または第２流
量調節手段を制御し、上記第１気体流通路または第２気
体流通路を流通する気体の流量を増加させるものである
ことを特徴とする請求項２または請求項３記載の基板搬
送機構。
【請求項５】上記第１流量調節手段は、上記第１気体流
通路の途中部に介装され、第１気体流通路内の気体の流
通を許可／禁止するための開閉可能な第１バルブ、上記
第１気体流通路の上記第１バルブの両側にその両端がそ
れぞれ接続された第１バイパス路、および、この第１バ
イパス路の途中部に介装され、第１バイパス路を流通す
る気体の流量を調節するための第１流量調節バルブを含
むものであり、上記第２流量調節手段は、上記第２気体流通路の途中部
に介装され、第２気体流通路内の気体の流通を許可／禁
止するための開閉可能な第２バルブ、上記第２気体流通
路の上記第２バルブの両側にその両端がそれぞれ接続さ
れた第２バイパス路、および、この第２バイパス路の途
中部に介装され、第２バイパス路を流通する気体の流量
を調節するための第２流量調節バルブを含むものである
ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の
基板搬送機構。
【請求項６】上記基板保持手段の位置を検出するための
位置検出手段と、この位置検出手段により検出された位置に基づいて、上
記第１バルブまたは第２バルブの開閉を制御することに
より、上記第１気体流通路または第２気体流通路を流通
する気体の流量を調節する制御回路を含む流量制御機構
と、をさらに備えたことを特徴とする請求項５記載の基板搬
送機構。
【請求項７】上記基板保持手段の移動両端付近をそれぞ
れ検出するための位置検出手段をさらに備え、上記第１バルブは、上記位置検出手段により上記基板保
持手段が第１シリンダ側の端部付近に位置することが検
出された場合に、当該検出結果が機械的に伝達されて開
閉する第１メカニカルバルブであり、上記第２バルブは、上記位置検出手段により上記基板保
持手段が第２シリンダ側の端部付近に位置することが検
出された場合に、当該検出結果が機械的に伝達されて開
閉する第２メカニカルバルブであることを特徴とする請
求項５記載の基板搬送機構。
【請求項８】基板を保持するための基板保持手段と、上記請求項１ないし７のいずれかに記載の基板搬送機構
と、基板に対して所定の処理を施すための処理部と、この処理部に対して基板を受け渡すために、上記基板搬
送機構を動作させる搬送制御手段と、を備えたことを特
徴とする基板処理装置。