JPH10333135A - Liquid crystal display element - Google Patents

Liquid crystal display element

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Publication number
JPH10333135A
JPH10333135A JP14626197A JP14626197A JPH10333135A JP H10333135 A JPH10333135 A JP H10333135A JP 14626197 A JP14626197 A JP 14626197A JP 14626197 A JP14626197 A JP 14626197A JP H10333135 A JPH10333135 A JP H10333135A
Authority
JP
Japan
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transparent substrate
shielding
liquid crystal
light
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP14626197A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akiko Toriyama
山 亜希子 鳥
Takeshi Yamamoto
本 武 志 山
Shoichi Kurauchi
内 昭 一 倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP14626197A priority Critical patent/JPH10333135A/en
Publication of JPH10333135A publication Critical patent/JPH10333135A/en
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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent light leakage from a display area peripheral edge part while securing the uniformity of the thickness of a liquid crystal layer without giving an influence to cause malfunction to a driving circuit by sticking a polarizing plate at the outside of a liquid crystal cell to cover a coloring layer and a sealing material forming area. SOLUTION: At the time of forming a red coloring layer 3R, a mask by which the red coloring layer 3R is formed so as to cover the nearly whole part of the peripheral light shielding area Y of the display area peripheral edge part in addition to a coloring pattern part constituting a color filter at a display area X is used, and the red coloring layer 3R is formed at the peripheral light shielding area Y, so that a color filter substrate 1 is made. Then, oriented films 5 and 9 are formed at both substrates 1 and 6, and rubbing processing is performed. Also, an adhesive 12 is formed so as to be superposed on the red coloring layer 3R of the peripheral light shielding area Y. Then, the polarizing plates covering the peripheral light shielding area Y where the adhesive 12 and the red coloring layer 3R are formed are used as the polarizing plates 35 and 36, and are stuck on surfaces at the outside of both substrates 1 and 6.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子に関
する。
[0001] The present invention relates to a liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】図6は、従来のアクティブマトリクス型
液晶表示素子の概略断面構造図である。
2. Description of the Related Art FIG. 6 is a schematic sectional view of a conventional active matrix type liquid crystal display device.

【0003】図6のアクティブマトリクス型液晶表示素
子は、以下のように構成されている。第1の透明基板1
上には厚さ約0.1μmのクロム金属膜を所定の形状に
パターニングした遮光層2’が形成され、遮光層2’の
開口部に顔料分散法、電着法、印刷法等により着色層3
が形成されている。遮光層2’及び着色層3の上にはI
TOからなる透明電極である共通電極4が形成され、さ
らにその上にはポリイミドからなる配向膜5が形成され
ている。
The active matrix type liquid crystal display element shown in FIG. 6 is configured as follows. First transparent substrate 1
A light-shielding layer 2 ′ formed by patterning a chromium metal film having a thickness of about 0.1 μm into a predetermined shape is formed on the light-shielding layer 2 ′. 3
Are formed. On the light shielding layer 2 ′ and the coloring layer 3,
A common electrode 4 which is a transparent electrode made of TO is formed, and an alignment film 5 made of polyimide is further formed thereon.

【0004】一方、第2の透明基板6上の遮光層2’に
対向した位置には薄膜トランジスタ(以下、「TFT」
という。)7が配設され、遮光層2’の開口部に対向し
た位置にはITOからなる透明電極である画素電極8が
形成され、TFT7と画素電極8とは電気的に接続され
ている。TFT7及び画素電極8上には全面にポリイミ
ドからなる配向膜9が形成されている。
On the other hand, a thin film transistor (hereinafter, referred to as a “TFT”) is located on the second transparent substrate 6 at a position facing the light shielding layer 2 ′.
That. A pixel electrode 8 which is a transparent electrode made of ITO is formed at a position facing the opening of the light shielding layer 2 ', and the TFT 7 and the pixel electrode 8 are electrically connected. An alignment film 9 made of polyimide is formed on the entire surface of the TFT 7 and the pixel electrode 8.

【0005】これら2枚の透明基板間にスペーサ11を
挟み込んで基板間隔を保持しながら組み立てられた液晶
セルの基板間に封入された液晶材料が液晶層10となっ
ている。2枚の基板の外部側の面上には偏光板が貼り付
けられている(図示せず。)。
A liquid crystal material sealed between the substrates of a liquid crystal cell assembled while holding a space between the two transparent substrates with a spacer 11 interposed therebetween constitutes a liquid crystal layer 10. A polarizing plate is attached to the outer surfaces of the two substrates (not shown).

【0006】以上のように構成された液晶表示素子は、
TFT7をスイッチングさせ、画素電極8に映像用信号
を印加して液晶層10に含まれている液晶分子の配向を
制御し、着色層3を透過する光を変調することにより画
像の表示を行うことができる。
[0006] The liquid crystal display device configured as described above is
Displaying an image by switching the TFT 7, applying a video signal to the pixel electrode 8 to control the orientation of liquid crystal molecules contained in the liquid crystal layer 10, and modulating light transmitted through the colored layer 3. Can be.

【0007】図7は、従来の駆動回路一体型液晶表示素
子の概略断面構造図である。ここで、駆動回路一体型液
晶表示素子とは、スイッチング素子が配設されたアレイ
基板上に、スイッチング素子に接続された信号線又は走
査線を駆動する駆動回路が組み込まれた液晶表示素子を
いう。
FIG. 7 is a schematic sectional view of a conventional liquid crystal display device integrated with a driving circuit. Here, the driving circuit-integrated liquid crystal display element refers to a liquid crystal display element in which a driving circuit for driving a signal line or a scanning line connected to the switching element is incorporated on an array substrate provided with the switching element. .

【0008】この駆動回路一体型液晶表示素子の構成部
分は、表示領域Xと、周辺遮光領域Yと、駆動回路部Z
とに分けることができ、駆動回路部Zの駆動回路が、表
示領域Xにおける形成物とともにアレイ基板6上に一体
的に形成されるので、製造コストの低減及び表示装置の
コンパクト化を図ることができる。
The driving circuit integrated type liquid crystal display element comprises a display area X, a peripheral light shielding area Y, and a driving circuit section Z.
Since the driving circuit of the driving circuit portion Z is integrally formed on the array substrate 6 together with the formation in the display area X, the manufacturing cost can be reduced and the display device can be made more compact. it can.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の液晶表示素子の構成においては、表示領域X周
縁部からの光漏れを防止するために、アレイ基板に対向
する対向基板、即ち、カラーフィルタが形成された基板
上の表示領域X周縁部に、クロム等の金属又は黒色樹脂
からなる遮光層が形成された周辺遮光領域Yが設けられ
ており、その結果、以下のような問題が生じていた。
However, in the structure of the above-mentioned conventional liquid crystal display element, in order to prevent light from leaking from the peripheral portion of the display area X, a counter substrate facing the array substrate, that is, a color filter is used. Is provided on the periphery of the display area X on the substrate on which the light-shielding layer Y made of a metal such as chrome or a black resin is formed. As a result, the following problem occurs. Was.

【0010】即ち、上記従来の液晶表示素子のうち駆動
回路一体型液晶表示素子においては、アレイ基板の周縁
部には、各辺に沿って信号線又は走査線に各種信号を供
給する信号線駆動回路及び走査線駆動回路が配設されて
いるが、対向基板上の遮光層の材料としてクロム等の金
属を用いた場合、駆動回路と遮光層との間で寄生容量が
発生することにより、駆動速度が低下したり、駆動信号
波形に異常が発生し、誤動作の原因となる。
That is, in the above-mentioned conventional liquid crystal display element, in a liquid crystal display element integrated with a drive circuit, a signal line drive for supplying various signals to signal lines or scanning lines is provided along the periphery of the array substrate. Although a circuit and a scanning line driving circuit are provided, when a metal such as chromium is used as a material of the light shielding layer on the opposite substrate, a parasitic capacitance is generated between the driving circuit and the light shielding layer. The speed is reduced or an abnormality occurs in the drive signal waveform, which causes a malfunction.

【0011】また、上記従来の液晶表示素子のいずれの
構成においても、表示領域X周縁部の遮光層の材料とし
て黒色樹脂を用いた場合、カラーフィルタの着色層の膜
厚と表示領域X周縁部の遮光層の膜厚とが異なったもの
となるため、表示領域X周縁部における液晶層の厚みが
表示領域X中央部における液晶層の厚みと異なったもの
となり、表示品質が低下することとなる。
In any of the above-mentioned conventional liquid crystal display devices, when a black resin is used as the material of the light-shielding layer at the peripheral portion of the display region X, the thickness of the colored layer of the color filter and the peripheral portion of the display region X are reduced. And the thickness of the liquid crystal layer at the periphery of the display area X is different from the thickness of the liquid crystal layer at the center of the display area X, and the display quality is degraded. .

【0012】本発明は上記問題点に鑑みてなされたもの
で、その目的は、駆動回路に対して誤動作の原因となる
ような影響を及ぼすことなく、液晶層の厚みの均一性を
確保しながら、表示領域周縁部からの光漏れが防止され
る構成の液晶表示装置を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to ensure uniformity of the thickness of a liquid crystal layer without affecting a driving circuit to cause a malfunction. Another object of the present invention is to provide a liquid crystal display device having a configuration in which light leakage from a peripheral portion of a display area is prevented.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明に係る液晶表示素
子によれば、第一の透明基板と、第一の透明基板の一主
面上に形成された共通電極と、共通電極上に形成された
第一の配向膜と、第二の透明基板と、第二の透明基板の
一主面上の表示領域の所定の位置に配設されたスイッチ
ング素子と、スイッチング素子に信号を印加し駆動する
ために形成された電極配線と、スイッチング素子に電気
的に接続され、スイッチング素子を介して電圧信号が印
加される画素電極と、スイッチング素子及び電極配線、
画素電極を覆って形成された第二の配向膜と、第一の透
明基板又は第二の透明基板のいずれかの一主面上の表示
領域周縁部の周辺遮光領域に形成された遮光補助用着色
層と、第一の透明基板又は第二の透明基板のうち遮光補
助用着色層が形成された一方の透明基板の一主面上の遮
光補助用着色層が形成された部分の全部又は一部を含む
周辺遮光領域の部分と、他方の透明基板の一主面上の表
示領域周縁部の周辺遮光領域の部分とを貼り合わせるよ
うに形成された接着剤と、第一の透明基板と第二の透明
基板との間に封入された液晶層と、接着剤が形成された
周辺遮光領域まで覆うように、第一の透明基板の他主面
上及び第二の透明基板の他主面上にそれぞれ貼り付けら
れた第一の偏光板及び第二の偏光板と、第二の透明基板
の一主面上における周辺遮光領域外部に配設され、電極
配線を介してスイッチング素子を駆動する駆動回路と、
を備えたことを特徴とし、この構成により、駆動回路に
対して誤動作の原因となるような影響を及ぼすことな
く、液晶層の厚みの均一性を確保しながら、表示領域周
縁部からの光漏れが防止される構成の液晶表示装置を提
供することができる。
According to the liquid crystal display device of the present invention, a first transparent substrate, a common electrode formed on one main surface of the first transparent substrate, and a common electrode formed on the common electrode are formed. A first alignment film, a second transparent substrate, a switching element disposed at a predetermined position in a display area on one main surface of the second transparent substrate, and applying a signal to the switching element to drive the switching element. An electrode wiring formed in order to electrically connect to the switching element, a pixel electrode to which a voltage signal is applied via the switching element, a switching element and an electrode wiring,
A second alignment film formed to cover the pixel electrode, and a light-shielding auxiliary formed in a peripheral light-shielding region around a display region peripheral portion on one main surface of either the first transparent substrate or the second transparent substrate. A colored layer, and all or one of the portions of the first transparent substrate or the second transparent substrate on which the light-shielding auxiliary colored layer is formed on one main surface of one of the transparent substrates on which the light-shielding auxiliary colored layer is formed; An adhesive formed so as to bond the portion of the peripheral light-shielding region including the portion and the portion of the peripheral light-shielding region at the periphery of the display region on one main surface of the other transparent substrate, and the first transparent substrate and the first transparent substrate. On the other main surface of the first transparent substrate and on the other main surface of the second transparent substrate so as to cover the liquid crystal layer sealed between the second transparent substrate and the peripheral light-shielding region where the adhesive is formed. A first polarizing plate and a second polarizing plate respectively adhered to the first transparent substrate on one principal surface of the second transparent substrate Disposed in the peripheral light shielding region outside, a drive circuit for driving the switching element via the electrode wiring,
With this configuration, light leakage from the periphery of the display area is ensured while ensuring uniformity of the thickness of the liquid crystal layer without affecting the drive circuit, which may cause malfunction. This can provide a liquid crystal display device having a configuration in which the phenomenon is prevented.

【0014】必要に応じて、さらに、遮光補助用着色層
と同一の材料からなる着色層を含む一以上の着色層と遮
光層とから構成され、一方の透明基板の一主面上の表示
領域に形成されたカラーフィルタと、一方の透明基板の
一主面と遮光補助用着色層との間の一部に形成され、カ
ラーフィルタを構成する遮光層と同一の材料からなる周
辺遮光層と、を備えたものとするとよい。
If necessary, the light-shielding layer further includes one or more colored layers including a colored layer made of the same material as the light-shielding auxiliary colored layer, and a light-shielding layer. A color filter formed on the peripheral portion of the light-shielding layer, which is formed on a portion between one main surface of one of the transparent substrates and the light-shielding auxiliary coloring layer and is made of the same material as the light-shielding layer forming the color filter; It is good to have.

【0015】周辺遮光層は、一方の透明基板の一主面上
の周辺遮光領域のうち内周部に形成されたものとする
と、周辺遮光層を金属材料により形成した場合において
も、駆動回路に対して誤動作の原因となるような影響を
及ぼすことなく、液晶層の厚みの均一性を確保しなが
ら、表示領域周縁部からの光漏れが防止される構成の液
晶表示装置を提供することができる。
If the peripheral light-shielding layer is formed on the inner peripheral portion of the peripheral light-shielding region on one main surface of one of the transparent substrates, even if the peripheral light-shielding layer is formed of a metal material, the peripheral light-shielding layer is formed on the drive circuit. On the other hand, it is possible to provide a liquid crystal display device having a configuration in which light leakage from the periphery of the display area is prevented while ensuring the uniformity of the thickness of the liquid crystal layer without affecting the operation of the liquid crystal layer. .

【0016】また、本発明に係る液晶表示素子の他の構
成によれば、第一の透明基板と、第一の透明基板の一主
面上に形成された共通電極と、共通電極上に形成された
第一の配向膜と、第二の透明基板と、第二の透明基板の
一主面上の表示領域の所定の位置に配設されたスイッチ
ング素子と、スイッチング素子に信号を印加し駆動する
ために形成された電極配線と、スイッチング素子に電気
的に接続され、スイッチング素子を介して電圧信号が印
加される画素電極と、スイッチング素子及び電極配線、
画素電極を覆って形成された第二の配向膜と、第一の透
明基板又は第二の透明基板のいずれかの一主面上の表示
領域周縁部の周辺遮光領域の一部に形成された金属製周
辺遮光層と、第一の透明基板又は第二の透明基板のうち
金属製周辺遮光層が形成された一方の透明基板の一主面
上の周辺遮光領域に、金属製周辺遮光層を覆って形成さ
れた遮光補助用着色層と、一方の透明基板の一主面上の
遮光補助用着色層が形成された部分の全部又は一部を含
む周辺遮光領域の部分と、他方の透明基板の一主面上の
表示領域周縁部の周辺遮光領域の部分とを貼り合わせる
ように形成された接着剤と、第一の透明基板と第二の透
明基板との間に封入された液晶層と、接着剤が形成され
た周辺遮光領域まで覆うように、第一の透明基板の他主
面上及び第二の透明基板の他主面上にそれぞれ貼り付け
られた第一の偏光板及び第二の偏光板と、を備えたこと
を特徴とし、この構成により、液晶層の厚みの均一性を
確保しながら、表示領域周縁部からの光漏れが防止され
る構成の液晶表示装置を提供することができる。
According to another configuration of the liquid crystal display element of the present invention, the first transparent substrate, the common electrode formed on one main surface of the first transparent substrate, and the common electrode formed on the common electrode are formed. A first alignment film, a second transparent substrate, a switching element disposed at a predetermined position in a display area on one main surface of the second transparent substrate, and applying a signal to the switching element to drive the switching element. An electrode wiring formed in order to electrically connect to the switching element, a pixel electrode to which a voltage signal is applied via the switching element, a switching element and an electrode wiring,
A second alignment film formed to cover the pixel electrode, and formed on a part of a peripheral light-shielding region of a display region peripheral portion on one main surface of either the first transparent substrate or the second transparent substrate. Metal peripheral light-shielding layer, a metal peripheral light-shielding layer in a peripheral light-shielding region on one main surface of one of the first transparent substrate or the second transparent substrate on which the metal peripheral light-shielding layer is formed, A light-shielding auxiliary coloring layer formed so as to cover, a part of a peripheral light-shielding region including all or a part of a part on one main surface of the transparent substrate on which the light-shielding auxiliary coloring layer is formed, and the other transparent substrate An adhesive formed so as to bond a peripheral light-shielding region portion of a display region peripheral portion on one main surface, and a liquid crystal layer sealed between a first transparent substrate and a second transparent substrate. , On the other main surface of the first transparent substrate and on the second transparent substrate so as to cover the peripheral light-shielding region where the adhesive is formed. A first polarizing plate and a second polarizing plate attached to the other main surface of the substrate, respectively. With this configuration, the display is performed while ensuring the uniformity of the thickness of the liquid crystal layer. It is possible to provide a liquid crystal display device configured to prevent light leakage from the peripheral edge of the region.

【0017】金属製周辺遮光層は、一方の透明基板の一
主面上の周辺遮光領域のうち内周部に形成されたものと
すると、第二の透明基板の一主面上における周辺遮光領
域外部に、電極配線を介してスイッチング素子を駆動す
る駆動回路を一体的に形成した場合においても、駆動回
路に対して誤動作の原因となるような影響を及ぼすこと
なく、液晶層の厚みの均一性を確保しながら、表示領域
周縁部からの光漏れが防止される構成の液晶表示装置を
提供することができる。
If the metal peripheral light-shielding layer is formed on the inner peripheral portion of the peripheral light-shielding region on one main surface of one of the transparent substrates, the peripheral light-shielding region on one main surface of the second transparent substrate is provided. Even when a driving circuit for driving the switching element is integrally formed outside through the electrode wiring, the uniformity of the thickness of the liquid crystal layer can be obtained without affecting the driving circuit to cause a malfunction. It is possible to provide a liquid crystal display device having a configuration in which light leakage from the periphery of the display area is prevented while ensuring the above.

【0018】必要に応じて、さらに、遮光補助用着色層
と同一の材料からなる着色層を含む一以上の着色層と金
属製周辺遮光層と同一の材料からなる金属製遮光層とか
ら構成され、一方の透明基板の一主面上の表示領域に形
成されたカラーフィルタを備えたものとするとよい。ま
た、第二の透明基板の一主面上における周辺遮光領域外
部に、電極配線を介してスイッチング素子を駆動する駆
動回路をさらに備えたものとしてもよい。
If necessary, the light-shielding auxiliary coloring layer may further comprise one or more coloring layers including a coloring layer made of the same material as the coloring layer, and a metal light-shielding layer made of the same material as the metal peripheral light-shielding layer. And a color filter formed in a display area on one main surface of one of the transparent substrates. Further, a drive circuit for driving a switching element via an electrode wiring may be further provided outside the peripheral light-shielding region on one main surface of the second transparent substrate.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】本発明に係る液晶表示素子は、ア
レイ基板に対向し、カラーフィルタが形成される対向基
板の表示領域周縁部の周辺遮光領域となる部分にも着色
層が形成され、この着色層上にシール材(接着剤)が形
成されて液晶セルが組み立てられ、かつ、着色層及びシ
ール材形成領域まで覆うように偏光板が液晶セル外部に
貼り付けられている点に特徴がある。着色層とシール材
と偏光板とが重なった領域は遮光層として機能する。
尚、対向基板の周辺遮光領域のうち着色層を形成する部
分は、必要に応じて全部又は一部とする。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In a liquid crystal display device according to the present invention, a colored layer is also formed on a portion of a counter substrate on which a color filter is formed, which is to be a light-shielding region around the periphery of a display region. The liquid crystal cell is assembled by forming a sealing material (adhesive) on the coloring layer, and a polarizing plate is attached to the outside of the liquid crystal cell so as to cover the coloring layer and the sealing material forming region. is there. The region where the coloring layer, the sealing material, and the polarizing plate overlap functions as a light shielding layer.
The part of the peripheral light-shielding region of the counter substrate where the colored layer is formed may be all or part as necessary.

【0020】例えば、カラーフィルタの遮光層の材料と
してクロム等の金属を用いた場合、表示領域周縁部の周
辺遮光領域となる部分のうち、アレイ基板上の駆動回路
に対向する部分に上記構成を適用して着色層を形成し、
その着色層が形成された部分については、着色層とシー
ル材と偏光板とが重なるように構成する。このような構
成を採用することにより、駆動回路に対して誤動作の原
因となるような影響を及ぼすことなく、表示領域周縁部
からの光漏れを防止することができる。表示領域周縁部
の周辺遮光領域となる部分のうち、アレイ基板上の駆動
回路に対向する部分以外の部分については、カラーフィ
ルタの遮光層の材料と同様のクロム等の金属で遮光層を
形成してもよいし、着色層とシール材と偏光板とが重な
るように構成してもよい。
For example, when a metal such as chromium is used as the material of the light-shielding layer of the color filter, the above-described structure is provided in a portion facing the drive circuit on the array substrate in a portion to be a peripheral light-shielding region at the periphery of the display region. Apply to form a colored layer,
The portion where the coloring layer is formed is configured so that the coloring layer, the sealing material, and the polarizing plate overlap. By employing such a configuration, it is possible to prevent light leakage from the periphery of the display area without affecting the drive circuit, which may cause a malfunction. A portion of the peripheral light-shielding region around the periphery of the display region other than the portion facing the drive circuit on the array substrate is formed with a light-shielding layer made of a metal such as chrome similar to the material of the light-shielding layer of the color filter. Alternatively, the coloring layer, the sealing material, and the polarizing plate may be configured to overlap.

【0021】以上のような構成においては、周辺遮光領
域の遮光層の材料として黒色樹脂を用いる必要がないの
で、表示領域周縁部及び表示領域中央部における液晶層
の厚みの均一性が確保され、表示品質の低下を招くこと
なく表示領域周縁部の光漏れを防止することができる。
In the above configuration, it is not necessary to use black resin as the material of the light-shielding layer in the peripheral light-shielding region, so that the uniformity of the thickness of the liquid crystal layer at the periphery of the display region and at the center of the display region is ensured. Light leakage at the periphery of the display area can be prevented without lowering the display quality.

【0022】以下、本発明に係る液晶表示装置の実施の
形態について、図面を参照しながら説明する。
Hereinafter, embodiments of the liquid crystal display device according to the present invention will be described with reference to the drawings.

【0023】図1は、本発明の第1の実施の形態に係る
液晶表示素子の断面構造図である。第1の実施の形態に
係る液晶表示素子は、以下のように製造され、構成され
ている。
FIG. 1 is a sectional structural view of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention. The liquid crystal display device according to the first embodiment is manufactured and configured as follows.

【0024】アレイ基板となる透明基板6上には、TF
Tを形成する通常のプロセスによる成膜及びパターニン
グの繰り返しにより、TFT7と、TFT7のソース電
極に電気的に接続された画素電極8と、TFTを駆動す
るための電極配線とが形成されている。TFT7及び画
素電極8は縦横100画素、合計10000画素分形成
されて、アモルファスシリコンTFTアレイ基板6が構
成されている。
On a transparent substrate 6 serving as an array substrate, TF
The TFT 7, the pixel electrode 8 electrically connected to the source electrode of the TFT 7, and the electrode wiring for driving the TFT are formed by repeating the film formation and patterning in the usual process of forming T. The TFTs 7 and the pixel electrodes 8 are formed for a total of 10,000 pixels, that is, 100 pixels in length and width, and the amorphous silicon TFT array substrate 6 is formed.

【0025】一方、対向基板となる透明基板1上には、
以下のようにカラーフィルタ及び周辺遮光領域の着色層
等が形成されている。
On the other hand, on a transparent substrate 1 serving as a counter substrate,
As described below, a color filter and a colored layer in a peripheral light-shielding region are formed.

【0026】最初に、顔料レジストを用いたフォトリソ
グラフィ法又は染色法、印刷法、電着法等の方法によ
り、黒色樹脂からなる所定形状の遮光膜2を透明基板1
上に形成する。但し、第1の実施の形態においては、遮
光膜2は、周辺遮光領域Yには形成されないようにす
る。
First, a light shielding film 2 of a predetermined shape made of black resin is formed on a transparent substrate 1 by a method such as a photolithography method using a pigment resist or a dyeing method, a printing method, an electrodeposition method or the like.
Form on top. However, in the first embodiment, the light shielding film 2 is not formed in the peripheral light shielding region Y.

【0027】透明基板1上に遮光膜2を形成後、赤色顔
料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストCR
−2000(商品名、富士ハントテクノロジー(株)
製)をスピンナにより透明基板1上全面に塗布し、赤色
を着色する部分に光が照射されるフォトマスクを介して
波長365nmの光を露光量100mJ/cm2 で照射
してレジストを露光する。露光後、水酸化カリウム(K
OH)の1%水溶液で10秒間現像を行い、230℃の
温度で1時間焼成を行い、膜厚約2.0μmの赤色着色
層3Rを形成する。同様に、緑色、青色の着色層3G、
3Bを同様の工程で形成する。緑色着色層3Gの材料
は、緑色顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レ
ジストCG−2000(商品名、富士ハントテクノロジ
ー(株)製)、青色着色層3Bの材料は、青色顔料を分
散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストCB−20
00(商品名、富士ハントテクノロジー(株)製)を用
いた。図2は、本発明に係る液晶表示素子を構成する透
明基板に着色層及び遮光層が形成された状態を示した平
面図である。
After forming a light-shielding film 2 on a transparent substrate 1, a UV-curable acrylic resin resist CR in which a red pigment is dispersed is used.
-2000 (trade name, Fuji Hunt Technology Co., Ltd.)
Is applied to the entire surface of the transparent substrate 1 by a spinner, and the resist is exposed by irradiating light having a wavelength of 365 nm with a light exposure of 100 mJ / cm2 through a photomask that irradiates the red colored portion with light. After exposure, potassium hydroxide (K
Developing for 10 seconds in a 1% aqueous solution of OH) and baking at a temperature of 230 ° C. for 1 hour to form a red colored layer 3R having a thickness of about 2.0 μm. Similarly, green and blue colored layers 3G,
3B is formed in a similar step. The material of the green coloring layer 3G is a UV-curable acrylic resin resist CG-2000 (trade name, manufactured by Fuji Hunt Technology Co., Ltd.) in which a green pigment is dispersed, and the material of the blue coloring layer 3B is a blue pigment dispersed therein. UV curable acrylic resin resist CB-20
00 (trade name, manufactured by Fuji Hunt Technology Co., Ltd.). FIG. 2 is a plan view showing a state in which a colored layer and a light shielding layer are formed on a transparent substrate constituting a liquid crystal display element according to the present invention.

【0028】第1の実施の形態においては、上述のよう
に赤色着色層3Rを形成する際、表示領域Xにおけるカ
ラーフィルタを構成する所定の着色パターン部分の他、
表示領域周縁部の周辺遮光領域Yのほぼ全部が覆われる
ように赤色着色層3Rが形成されるようなマスクを用
い、周辺遮光領域Yにも赤色着色層3Rを形成する。
In the first embodiment, when the red colored layer 3R is formed as described above, in addition to a predetermined colored pattern portion forming a color filter in the display area X,
The red coloring layer 3R is also formed in the peripheral light-shielding region Y using a mask that forms the red coloring layer 3R so as to cover almost the entire peripheral light-shielding region Y at the periphery of the display region.

【0029】以上のようにカラーフィルタ及び周辺遮光
領域Yの赤色着色層3Rを形成した後、スパッタ法によ
りITO膜を1500オングストロームの厚さに成膜し
て透明電極4を形成し、カラーフィルタ基板1とする。
After the color filter and the red colored layer 3R of the peripheral light-shielding region Y are formed as described above, an ITO film is formed to a thickness of 1500 angstroms by the sputtering method to form the transparent electrode 4, and the color filter substrate is formed. Let it be 1.

【0030】その後、両基板に配向膜材料AL−105
1(商品名、日本合成ゴム(株)製)をからなる配向膜
5,9をそれぞれ形成し、ラビング処理を行う。
Thereafter, the alignment film material AL-105 is applied to both substrates.
1 (trade name, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) are formed, and rubbing treatment is performed.

【0031】さらに、熱硬化性樹脂ES−4000(商
品名、三井東圧化学(株)製)からなる接着剤12をデ
ィスペンサーを用いて、図1に示すように周辺遮光領域
Yの赤色着色層3R上に重なるように形成する。
Further, an adhesive 12 made of a thermosetting resin ES-4000 (trade name, manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) was applied to the red colored layer of the peripheral light shielding area Y as shown in FIG. It is formed so as to overlap on 3R.

【0032】次いで、スペーサとして直径5μmのミク
ロパール(商品名、積水ファインケミカル(株)製)1
1を一方の基板上全面に散布し、アクティブマトリクス
基板(TFTアレイ基板)6から対向電極1に電圧を印
加するための電極転移材(図示せず)を接着剤12の外
周部の電極転移電極(図示せず)上に形成する。そし
て、各基板の配向膜5と配向膜9とが対向し、それぞれ
のラビング方向が相互に90度の角度をなすように基板
1及び6を配置し、加熱して接着剤12を硬化させ、基
板1と基板6とを貼り合わせる。両基板を貼り合わせて
組み立てた液晶セルの注入口から通常の方法により、液
晶材料として、ZLI−1565(商品名、E.メルク
社製)にS811を0.1wt%添加したものを注入
し、注入後、注入口を紫外線硬化樹脂で封止する。
Next, micropearls (trade name, manufactured by Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.) having a diameter of 5 μm as spacers 1
The electrode transfer material (not shown) for applying a voltage from the active matrix substrate (TFT array substrate) 6 to the counter electrode 1 is spread over the entire surface of one of the substrates. (Not shown). Then, the substrates 1 and 6 are arranged so that the alignment film 5 and the alignment film 9 of each substrate face each other, and the respective rubbing directions make an angle of 90 degrees with each other, and the adhesive 12 is cured by heating, The substrate 1 and the substrate 6 are bonded. As a liquid crystal material, a material obtained by adding 0.1 wt% of S811 to ZLI-1565 (trade name, manufactured by E. Merck) is injected from an injection port of a liquid crystal cell assembled by bonding both substrates, After the injection, the injection port is sealed with an ultraviolet curable resin.

【0033】偏光板35,36は、接着剤12及び赤色
着色層3Rが形成された周辺遮光領域Yも覆うものを用
い、両基板の外部側の面上に貼り付ける。
The polarizing plates 35 and 36 are used to cover the peripheral light-shielding region Y on which the adhesive 12 and the red coloring layer 3R are formed, and are attached on the outer surfaces of both substrates.

【0034】以上のように構成したカラー表示型アクテ
ィブマトリクス液晶表示素子、即ち、本発明の第1の実
施の形態に係る液晶表示素子の周辺遮光領域YのOD
(Optical Density)値を測定したところその値は3.
5であり、周辺遮光領域Yからの光漏れは非常に少な
く、また、表示画像のコントラスト比が高く、高表示品
質が得られた。尚、着色層の形成方法は、顔料レジスト
のフォトリソグラフィ法に限らず、染色法、印刷法、電
着法等その他いずれの方法を用いてもよい。
The color display type active matrix liquid crystal display device constructed as described above, that is, the OD of the peripheral light shielding region Y of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.
When the (Optical Density) value was measured, the value was 3.
The light leakage from the peripheral light-shielding region Y was very small, and the contrast ratio of the displayed image was high, and high display quality was obtained. The method for forming the colored layer is not limited to the photolithography method of the pigment resist, and any other method such as a dyeing method, a printing method, and an electrodeposition method may be used.

【0035】図3は、本発明の第2の実施の形態に係る
液晶表示素子の断面構造図である。
FIG. 3 is a sectional structural view of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【0036】第2の実施の形態に係る液晶表示素子の構
成は、第1の実施の形態に係る液晶表示素子とほぼ同様
であるが、以下の点が異なっている。即ち、遮光層2’
は、スパッタリング法により透明基板1に被膜したクロ
ム膜を所定形状にフォトエッチングして形成したもので
あり、表示領域Xの所定部分のみならず周辺遮光領域Y
のうち表示領域Xに沿った内周部にも形成されている
が、周辺遮光領域Yのうち外周部には形成されていな
い。そして、周辺遮光領域Yの外周部に赤色着色層3R
が形成され、第1の実施の形態における周辺遮光領域Y
と同様に、接着剤12及び赤色着色層3R並びに偏光板
35,36が重なり合うように構成されている。
The structure of the liquid crystal display device according to the second embodiment is almost the same as that of the liquid crystal display device according to the first embodiment, except for the following points. That is, the light shielding layer 2 ′
Is formed by photo-etching a chromium film coated on the transparent substrate 1 into a predetermined shape by a sputtering method.
Are formed in the inner peripheral portion along the display region X, but are not formed in the outer peripheral portion in the peripheral light shielding region Y. Then, a red colored layer 3R is formed on the outer peripheral portion of the peripheral light-shielding region Y.
Is formed, and the peripheral light-shielding region Y in the first embodiment is formed.
Similarly to the above, the adhesive 12, the red coloring layer 3 </ b> R, and the polarizing plates 35 and 36 are configured to overlap.

【0037】本発明の第2の実施の形態に係る液晶表示
素子の周辺遮光領域YのOD値を測定したところその値
は3.5であり、第1の実施の形態と同様に、周辺遮光
領域Yからの光漏れは非常に少なく、また、表示画像の
コントラスト比が高く、高表示品質が得られた。
When the OD value of the peripheral light-shielding region Y of the liquid crystal display element according to the second embodiment of the present invention was measured, the value was 3.5, which was similar to that of the first embodiment. Light leakage from the region Y was very small, and the contrast ratio of the displayed image was high, and high display quality was obtained.

【0038】本発明に係る第3の実施の形態に係る液晶
表示素子は、上記第1又は第2の実施の形態に係る液晶
表示素子のそれぞれにおいて、図1乃至図3に示された
周辺遮光領域Yに形成した赤色着色層3Rを青色着色層
3Bに置き換え、その他の部分は第1又は第2の実施の
形態に係る液晶表示素子と同様に構成する。
The liquid crystal display device according to the third embodiment of the present invention is different from the liquid crystal display device according to the first or second embodiment in that the peripheral light shielding shown in FIGS. The red coloring layer 3R formed in the region Y is replaced with the blue coloring layer 3B, and the other portions are configured in the same manner as the liquid crystal display device according to the first or second embodiment.

【0039】本発明の第3の実施の形態に係る液晶表示
素子を製造し、その周辺遮光領域YのOD値を測定した
ところその値は4.3であり、第1又は第2の実施の形
態に係る液晶表示素子と比較して、周辺遮光領域Yから
の光漏れはさらに少なく、より高品質の表示を行うこと
ができた。
A liquid crystal display device according to the third embodiment of the present invention was manufactured, and when the OD value of the peripheral light-shielding region Y was measured, the value was 4.3. Light leakage from the peripheral light-shielding region Y was further reduced as compared with the liquid crystal display element according to the embodiment, and higher quality display could be performed.

【0040】図4は、本発明の第4の実施の形態に係る
液晶表示素子の断面構造図である。図4に示された第4
の実施の形態に係る液晶表示素子は、駆動回路一体型液
晶表示素子であり、以下のように製造され、構成されて
いる。
FIG. 4 is a sectional structural view of a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention. The fourth shown in FIG.
The liquid crystal display device according to the embodiment is a drive circuit integrated type liquid crystal display device, and is manufactured and configured as follows.

【0041】アレイ基板となる透明基板6上には、プラ
ズマCVD法、常圧CVD法等により、窒化シリコン、
酸化シリコン等の材料からなる絶縁性のアンダーコート
膜13が形成されている。アンダーコート膜13上に
は、プラズマCVD法により第1のアモルファスシリコ
ン層(遮光層)14が形成されている。第1のアモルフ
ァスシリコン層(遮光層)14は、形成後の加熱工程に
より層中の水素が低減されている。第1のアモルファス
シリコン層(遮光層)14上には、窒化シリコンから成
る絶縁層15が形成され、その上にプラズマCVD法に
より形成された第2のアモルファスシリコン層は、脱水
素化の工程と、その後のエキシマレーザを用いたアニー
ルの工程とにより、ポリシリコン化され、ポリシリコン
層16となっている。このポリシリコン膜16はフォト
エッチングプロセスによりパターニングされ、駆動回路
領域の能動素子(回路TFT)17,18のチャネル層
19,20、表示領域内の画素のスイッチング素子21
のチャネル層22及び各画素の補助容量電極の下部電極
23等が形成される。ポリシリコン膜16上には、常圧
CVD法により、補助容量の絶縁膜24’となる酸化シ
リコン層24”が形成されており、また、酸化シリコン
層24”の一部はゲート絶縁膜24となっている。酸化
シリコン層24”は高温加熱工程を経ることにより、欠
陥の少ない緻密な膜となっている。
On a transparent substrate 6 serving as an array substrate, silicon nitride,
An insulating undercoat film 13 made of a material such as silicon oxide is formed. A first amorphous silicon layer (light-shielding layer) 14 is formed on the undercoat film 13 by a plasma CVD method. Hydrogen in the first amorphous silicon layer (light-shielding layer) 14 is reduced by a heating step after formation. An insulating layer 15 made of silicon nitride is formed on the first amorphous silicon layer (light shielding layer) 14, and a second amorphous silicon layer formed thereon by a plasma CVD method is subjected to a dehydrogenation step. And a subsequent annealing step using an excimer laser, thereby forming a polysilicon layer 16. The polysilicon film 16 is patterned by a photo-etching process, and the channel layers 19 and 20 of the active elements (circuit TFTs) 17 and 18 in the drive circuit area, and the switching elements 21 of the pixels in the display area.
Channel layer 22, the lower electrode 23 of the auxiliary capacitance electrode of each pixel, and the like. On the polysilicon film 16, a silicon oxide layer 24 "to be an auxiliary capacitance insulating film 24 'is formed by a normal pressure CVD method, and a part of the silicon oxide layer 24" is formed as a gate insulating film 24. Has become. The silicon oxide layer 24 ″ is a dense film with few defects due to a high-temperature heating step.

【0042】ゲート絶縁膜24上には、スパッタ法によ
り成膜されフォトエッチングプロセスによりパターニン
グされた第1のモリブデン・タングステン(MoW)薄
膜25が形成されている。第1のモリブデン・タングス
テン薄膜25は、n型TFT17,21と、補助容量を
構成する下部電極23とを形成するためのイオンドーピ
ングによる不純物注入の際はマスクとして用いられる。
第1のモリブデン・タングステン薄膜25上には、スパ
ッタ法により成膜されフォトエッチングプロセスにより
パターニングされた第2のモリブデン・タングステン薄
膜26が形成されている。第2のモリブデン・タングス
テン薄膜26は、駆動回路領域のp型TFT18を形成
するための不純物注入の際はマスクとして用いられる。
第1,第2のモリブデン・タングステン薄膜25,26
は、不純物注入の際のマスクとして用いられた後に再度
パターニングされ、各TFTのゲート電極、駆動回路内
の各種配線、補助容量電極の上部電極27及び補助容量
線を形成している。n型ポリシリコンLDD(Lightly
Doped Drain)領域28は、第1,第2のモリブデン・
タングステン薄膜25,26のパターニング後に行われ
る不純物注入と、高温工程での基板のアニールによる注
入不純物の活性化とにより形成されたものである。
On the gate insulating film 24, a first molybdenum-tungsten (MoW) thin film 25 formed by a sputtering method and patterned by a photo-etching process is formed. The first molybdenum / tungsten thin film 25 is used as a mask at the time of impurity implantation by ion doping for forming the n-type TFTs 17 and 21 and the lower electrode 23 forming an auxiliary capacitance.
On the first molybdenum / tungsten thin film 25, a second molybdenum / tungsten thin film 26 formed by a sputtering method and patterned by a photo etching process is formed. The second molybdenum / tungsten thin film 26 is used as a mask when implanting impurities for forming the p-type TFT 18 in the drive circuit region.
First and second molybdenum / tungsten thin films 25 and 26
Are used again as a mask for impurity implantation and then patterned again to form the gate electrode of each TFT, various wirings in the drive circuit, the upper electrode 27 of the auxiliary capacitance electrode, and the auxiliary capacitance line. n-type polysilicon LDD (Lightly
Doped drain region 28 includes first and second molybdenum
This is formed by impurity implantation performed after patterning of the tungsten thin films 25 and 26 and activation of the implanted impurities by annealing the substrate in a high temperature process.

【0043】酸化シリコン層24”及び第2のモリブデ
ン・タングステン薄膜26上には、第1の層間絶縁膜2
9となる酸化シリコン層が常圧CVD法により形成され
ている。第1の層間絶縁膜29に対するその後の加工に
より形成されたコンタクトホール部に、アルミ薄膜がス
パッタ法により形成され、そのアルミ薄膜がフォトエッ
チングプロセスによりパターニングされて、TFTのソ
ース電極30、ドレイン電極31、信号線、駆動回路領
域の電源電圧配線32及びグランド電圧配線33等の各
種配線が形成されている。上記各種配線が形成された第
1の層間絶縁膜29上には、第2の層間絶縁膜34とな
る窒化シリコン層がプラズマCVD法により形成されて
おり、この第2の層間絶縁膜34にはその後の加工によ
りコンタクトホールが開設されている。第2の層間絶縁
膜34上には、スパッタ法により形成された透明電極で
あるITO膜をパターニングした画素電極8が配設され
ている。画素電極8は、第2の層間絶縁膜34のコンタ
クトホール部においてソース電極30に電気的に接続さ
れている。そして、透明基板6上の最上層としてポリイ
ミドからなる配向膜9が形成されている。
The first interlayer insulating film 2 is formed on the silicon oxide layer 24 ″ and the second molybdenum / tungsten thin film 26.
A silicon oxide layer 9 is formed by a normal pressure CVD method. An aluminum thin film is formed by a sputtering method in a contact hole portion formed by a subsequent processing for the first interlayer insulating film 29, and the aluminum thin film is patterned by a photo-etching process to form a source electrode 30 and a drain electrode 31 of the TFT. , Signal lines, and various wirings such as a power supply voltage wiring 32 and a ground voltage wiring 33 in the drive circuit area. On the first interlayer insulating film 29 on which the various wirings are formed, a silicon nitride layer serving as a second interlayer insulating film 34 is formed by a plasma CVD method. A contact hole has been opened by subsequent processing. On the second interlayer insulating film 34, a pixel electrode 8 obtained by patterning an ITO film, which is a transparent electrode formed by a sputtering method, is provided. The pixel electrode 8 is electrically connected to the source electrode 30 at a contact hole portion of the second interlayer insulating film 34. Then, an alignment film 9 made of polyimide is formed as an uppermost layer on the transparent substrate 6.

【0044】一方、対向基板となる透明基板1上には、
以下のようにカラーフィルタ及び周辺遮光領域の着色層
等が形成されている。
On the other hand, on the transparent substrate 1 serving as the opposite substrate,
As described below, a color filter and a colored layer in a peripheral light-shielding region are formed.

【0045】最初に、顔料レジストを用いたフォトリソ
グラフィ法又は染色法、印刷法、電着法等の方法によ
り、黒色樹脂からなる所定形状の遮光膜2を透明基板1
上に形成する。但し、第4の実施の形態においては、遮
光膜2は、表示領域Xの所定部分のみならず周辺遮光領
域Yのうち表示領域Xに沿った内周部にも形成されてい
るが、周辺遮光領域Yのうち外周部には形成されていな
い。
First, a light-shielding film 2 of a predetermined shape made of black resin is formed on a transparent substrate 1 by a method such as photolithography or dyeing using a pigment resist, printing, or electrodeposition.
Form on top. However, in the fourth embodiment, the light-shielding film 2 is formed not only on a predetermined portion of the display area X but also on the inner peripheral portion along the display area X in the peripheral light-shielding area Y. It is not formed on the outer peripheral portion of the region Y.

【0046】透明基板1上に遮光膜2を形成後、赤色顔
料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストCR
−2000(商品名、富士ハントテクノロジー(株)
製)をスピンナにより透明基板1上全面に塗布し、赤色
を着色する部分に光が照射されるフォトマスクを介して
波長365nmの光を露光量100mJ/cm2 で照射
してレジストを露光する。露光後、水酸化カリウム(K
OH)の1%水溶液で10秒間現像を行い、230℃の
温度で1時間焼成を行い、膜厚約2.0μmの赤色着色
層3Rを形成する。同様に、緑色、青色の着色層3G、
3Bを同様の工程で形成する。緑色着色層3Gの材料
は、緑色顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レ
ジストCG−2000(商品名、富士ハントテクノロジ
ー(株)製)、青色着色層3Bの材料は、青色顔料を分
散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストCB−20
00(商品名、富士ハントテクノロジー(株)製)を用
いた。第4の実施の形態においては、上述のように青色
着色層3Bを形成する際、表示領域Xにおけるカラーフ
ィルタを構成する所定の着色パターン部分の他、図2に
おける表示領域周縁部の周辺遮光領域Yのほぼ全部が覆
われるように青色着色層3Bが形成されるようなマスク
を用い、周辺遮光領域Yにも青色着色層3Bを形成す
る。
After forming the light-shielding film 2 on the transparent substrate 1, an ultraviolet-curing acrylic resin resist CR in which a red pigment is dispersed is used.
-2000 (trade name, Fuji Hunt Technology Co., Ltd.)
Is applied to the entire surface of the transparent substrate 1 by a spinner, and the resist is exposed by irradiating light having a wavelength of 365 nm with a light exposure of 100 mJ / cm2 through a photomask that irradiates the red colored portion with light. After exposure, potassium hydroxide (K
Developing for 10 seconds in a 1% aqueous solution of OH) and baking at a temperature of 230 ° C. for 1 hour to form a red colored layer 3R having a thickness of about 2.0 μm. Similarly, green and blue colored layers 3G,
3B is formed in a similar step. The material of the green coloring layer 3G is a UV-curable acrylic resin resist CG-2000 (trade name, manufactured by Fuji Hunt Technology Co., Ltd.) in which a green pigment is dispersed, and the material of the blue coloring layer 3B is a blue pigment dispersed therein. UV curable acrylic resin resist CB-20
00 (trade name, manufactured by Fuji Hunt Technology Co., Ltd.). In the fourth embodiment, when the blue colored layer 3B is formed as described above, in addition to the predetermined colored pattern portion forming the color filter in the display area X, the peripheral light shielding area around the display area peripheral part in FIG. A blue colored layer 3B is also formed in the peripheral light-shielding region Y using a mask that forms the blue colored layer 3B so that almost all of Y is covered.

【0047】以上のようにカラーフィルタ及び周辺遮光
領域Yの赤色着色層3Rを形成した後、スパッタ法によ
りITO膜を1500オングストロームの厚さに成膜し
て透明電極である共通電極4を形成し、カラーフィルタ
基板1とする。
After the color filter and the red colored layer 3R of the peripheral light-shielding region Y are formed as described above, an ITO film is formed to a thickness of 1500 angstroms by the sputtering method to form the common electrode 4 which is a transparent electrode. , A color filter substrate 1.

【0048】その後、両基板に配向膜材料AL−105
1(商品名、日本合成ゴム(株)製)をからなる配向膜
5,9をそれぞれ形成し、ラビング処理を行う。
Thereafter, the alignment film material AL-105 is applied to both substrates.
1 (trade name, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) are formed, and rubbing treatment is performed.

【0049】さらに、熱硬化性樹脂ES−4000(商
品名、三井東圧化学(株)製)からなる接着剤12をデ
ィスペンサーを用いて、図1に示すように周辺遮光領域
Yの赤色着色層3R上に重なるように形成する。
Further, an adhesive 12 made of a thermosetting resin ES-4000 (trade name, manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) was applied to the red colored layer of the peripheral light shielding area Y as shown in FIG. It is formed so as to overlap on 3R.

【0050】次いで、スペーサとして直径5μmのミク
ロパール(商品名、積水ファインケミカル(株)製)1
1を一方の基板上全面に散布し、アクティブマトリクス
基板(TFTアレイ基板)6から対向電極1に電圧を印
加するための電極転移材(図示せず)を接着剤12の外
周部の電極転移電極(図示せず)上に形成する。そし
て、各基板の配向膜5と配向膜9とが対向し、それぞれ
のラビング方向が相互に90度の角度をなすように基板
1及び6を配置し、加熱して接着剤12を硬化させ、基
板1と基板6とを貼り合わせる。両基板を貼り合わせて
組み立てた液晶セルの注入口から通常の方法により、液
晶材料として、ZLI−1565(商品名、E.メルク
社製)にS811を0.1wt%添加したものを注入
し、注入後、注入口を紫外線硬化樹脂で封止する。
Next, micropearl (trade name, manufactured by Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.) having a diameter of 5 μm was used as a spacer.
The electrode transfer material (not shown) for applying a voltage from the active matrix substrate (TFT array substrate) 6 to the counter electrode 1 is spread over the entire surface of one of the substrates. (Not shown). Then, the substrates 1 and 6 are arranged so that the alignment film 5 and the alignment film 9 of each substrate face each other, and the respective rubbing directions make an angle of 90 degrees with each other, and the adhesive 12 is cured by heating, The substrate 1 and the substrate 6 are bonded. As a liquid crystal material, a material obtained by adding 0.1 wt% of S811 to ZLI-1565 (trade name, manufactured by E. Merck) is injected from an injection port of a liquid crystal cell assembled by bonding both substrates, After the injection, the injection port is sealed with an ultraviolet curable resin.

【0051】偏光板35,36は、接着剤12及び赤色
着色層3Rが形成された周辺遮光領域Yも覆うものを用
い、両基板の外部側の面上に貼り付ける。以上のように
構成した第4の実施の形態に係る駆動回路一体型液晶表
示素子においては、駆動回路部ZのTFT17,18及
び配線32,33等は、表示領域部XのTFT21及び
配線30,31等と同一の工程で形成される。尚、補助
容量電極の上部電極27及び補助容量線はゲート電極2
5及び26を構成する金属薄膜層の一部と同一のプロセ
スで形成され、第1の層間絶縁膜29に形成されたスル
ーホールを介して、駆動回路部Zの電源電圧配線32に
接続される。
The polarizing plates 35 and 36 are used to cover the peripheral light-shielding region Y on which the adhesive 12 and the red coloring layer 3R are formed, and are attached on the outer surfaces of both substrates. In the drive circuit integrated type liquid crystal display element according to the fourth embodiment configured as described above, the TFTs 17 and 18 and the wirings 32 and 33 of the drive circuit portion Z are the same as the TFT 21 and the wiring 30 of the display region portion X. 31 and the like. The upper electrode 27 of the auxiliary capacitance electrode and the auxiliary capacitance line are connected to the gate electrode 2.
5 and 26 are formed in the same process as a part of the metal thin film layer, and are connected to the power supply voltage wiring 32 of the drive circuit unit Z via through holes formed in the first interlayer insulating film 29. .

【0052】本発明の第4の実施の形態に係る液晶表示
素子について、その周辺遮光領域YのOD値を測定した
ところその値は4.3であり、周辺遮光領域Yからの光
漏れは極めて少なく、また、アレイ基板上に一体形成さ
れた駆動回路が周辺遮光領域Yの形成物から誤動作の原
因となるような影響を受けることなく、非常に高品質の
表示を行うことができた。
With respect to the liquid crystal display device according to the fourth embodiment of the present invention, when the OD value of the peripheral light-shielding region Y was measured, the value was 4.3, and light leakage from the peripheral light-shielding region Y was extremely small. In addition, a very high-quality display could be performed without being affected by the drive circuit integrally formed on the array substrate from the formation of the peripheral light-shielding region Y, which would cause a malfunction.

【0053】図5は、本発明の第5の実施の形態に係る
液晶表示素子の断面構造図である。図5に示された第5
の実施の形態に係る液晶表示素子は、第4の実施の形態
に係る液晶表示素子と同様に、駆動回路一体型液晶表示
素子である。
FIG. 5 is a sectional structural view of a liquid crystal display device according to a fifth embodiment of the present invention. The fifth shown in FIG.
The liquid crystal display element according to the fourth embodiment is a drive circuit-integrated liquid crystal display element like the liquid crystal display element according to the fourth embodiment.

【0054】第5の実施の形態に係る液晶表示素子の構
成は、第4の実施の形態に係る液晶表示素子とほぼ同様
であるが、以下の点が異なっている。即ち、遮光層2’
は、スパッタリング法により透明基板1に被膜したクロ
ム膜を所定形状にフォトエッチングして形成したもので
あり、表示領域Xの所定部分のみならず周辺遮光領域Y
のうち表示領域Xに沿った内周部にも形成されている
が、周辺遮光領域Yのうち外周部には形成されていな
い。そして、周辺遮光領域Yの外周部に青色着色層3B
が形成され、第4の実施の形態における周辺遮光領域Y
と同様に、接着剤12及び青色着色層3B並びに偏光板
35,36が重なり合うように構成されている。
The structure of the liquid crystal display device according to the fifth embodiment is almost the same as that of the liquid crystal display device according to the fourth embodiment, except for the following points. That is, the light shielding layer 2 ′
Is formed by photo-etching a chromium film coated on the transparent substrate 1 into a predetermined shape by a sputtering method.
Are formed in the inner peripheral portion along the display region X, but are not formed in the outer peripheral portion in the peripheral light shielding region Y. Then, the blue colored layer 3B is formed on the outer peripheral portion of the peripheral light-shielding region Y.
Are formed, and the peripheral light-shielding region Y in the fourth embodiment is formed.
Similarly to the above, the adhesive 12, the blue colored layer 3 </ b> B, and the polarizing plates 35 and 36 are configured to overlap.

【0055】本発明の第5の実施の形態に係る液晶表示
素子について、その周辺遮光領域YのOD値を測定した
ところその値は4.3であり、第4の実施の形態に係る
液晶表示素子と同様に、周辺遮光領域Yからの光漏れは
極めて少なく、また、アレイ基板上に一体形成された駆
動回路が周辺遮光領域Yの形成物から誤動作の原因とな
るような影響を受けることなく、非常に高品質の表示を
行うことができた。
With respect to the liquid crystal display device according to the fifth embodiment of the present invention, when the OD value of the peripheral light-shielding region Y was measured, the value was 4.3, and the liquid crystal display device according to the fourth embodiment was measured. Like the element, light leakage from the peripheral light-shielding region Y is extremely small, and the drive circuit integrally formed on the array substrate is not affected by the formation of the peripheral light-shielding region Y to cause a malfunction. , Very high quality display could be done.

【0056】[0056]

【発明の効果】本発明に係る液晶表示素子によれば、ア
レイ基板に対向し、カラーフィルタが形成される対向基
板の表示領域周縁部の周辺遮光領域となる部分にも着色
層を形成し、この着色層上にシール材(接着剤)を形成
して液晶セルを組み立て、かつ、着色層及びシール材形
成領域まで覆うように偏光板を液晶セル外部に貼り付け
た構成としたので、着色層とシール材と偏光板とが重な
った領域は遮光層として機能し、周辺遮光領域の遮光層
の材料として黒色樹脂を用いる必要がなく、表示領域周
縁部及び表示領域中央部における液晶層の厚みの均一性
が確保され、表示品質の低下を招くことなく表示領域周
縁部の光漏れを防止することができる。
According to the liquid crystal display device of the present invention, a colored layer is also formed on a portion of the opposing substrate on which a color filter is formed, which is to be a light-shielding region around the periphery of the display region, where the color filter is formed. A liquid crystal cell is assembled by forming a sealing material (adhesive) on the coloring layer, and a polarizing plate is attached to the outside of the liquid crystal cell so as to cover the coloring layer and the sealing material forming region. The region where the sealing material and the polarizing plate overlap with each other functions as a light-shielding layer, and there is no need to use a black resin as a material of the light-shielding layer in the peripheral light-shielding region. Uniformity is ensured, and light leakage at the periphery of the display area can be prevented without deteriorating display quality.

【0057】アレイ基板の周辺遮光領域外部に、電極配
線を介してスイッチング素子を駆動する駆動回路を備え
た液晶表示素子に上記構成を適用した場合には、対向基
板の周辺遮光領域のうち、駆動回路に対して誤動作の原
因となるような影響を及ぼす可能性のある部分には、金
属製の遮光膜を形成せずに着色層を形成する構成とした
ので、駆動回路に対して誤動作の原因となるような影響
を及ぼすことなく、液晶層の厚みの均一性を確保しなが
ら、表示領域周縁部からの光漏れが防止される構成の液
晶表示装置を提供することができる。
In the case where the above configuration is applied to a liquid crystal display element having a drive circuit for driving a switching element via an electrode wiring outside the peripheral light-shielding area of the array substrate, when the liquid crystal display element is driven, Because a colored layer is formed without forming a metal light-shielding film on the part that may have an effect on the circuit that may cause malfunction, the malfunction of the drive circuit may be caused. Thus, it is possible to provide a liquid crystal display device having a configuration in which light leakage from the periphery of the display region is prevented while ensuring the uniformity of the thickness of the liquid crystal layer without any influence.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態に係る液晶表示素子
の断面構造図。
FIG. 1 is a sectional structural view of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明に係る液晶表示素子を構成する透明基板
に着色層及び遮光層が形成された状態を示した平面図。
FIG. 2 is a plan view showing a state in which a coloring layer and a light shielding layer are formed on a transparent substrate constituting the liquid crystal display element according to the present invention.

【図3】本発明の第2の実施の形態に係る液晶表示素子
の断面構造図。
FIG. 3 is a sectional structural view of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第4の実施の形態に係る液晶表示素子
の断面構造図。
FIG. 4 is a sectional structural view of a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第5の実施の形態に係る液晶表示素子
の断面構造図。
FIG. 5 is a sectional structural view of a liquid crystal display device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図6】従来のアクティブマトリクス型液晶表示素子の
概略断面構造図。
FIG. 6 is a schematic sectional structural view of a conventional active matrix type liquid crystal display element.

【図7】従来の駆動回路一体型液晶表示素子の概略断面
構造図。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional structural view of a conventional driving circuit-integrated liquid crystal display element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,6 透明基板 2 遮光層(樹脂) 2’ 遮光層(クロム) 3 着色層 4 共通電極(透明電極) 5,9 配向膜 7 TFT 8 画素電極(透明電極) 10 液晶材料 11 スペーサ 12 シール剤 13 アンダーコート膜 14 遮光層(第1のアモルファスシリコン層) 15 絶縁膜(窒化シリコン層) 16 ポリシリコン活性層 17 回路TFT(n型TFT) 18 回路TFT(p型TFT) 19 チャネル領域(n型ポリシリコン領域) 20 チャネル領域(p型ポリシリコン領域) 21 画素TFT 22 チャネル領域(n型ポリシリコン領域) 23 補助容量電極の下部電極(n型ポリシリコン領
域) 24 ゲート絶縁膜 24’ 補助容量の絶縁膜 24” 酸化シリコン層 25 ゲート電極(第1のモリブデン・タングステン薄
膜) 26 ゲート電極(第2のモリブデン・タングステン薄
膜) 27 補助容量電極の上部電極(n型ポリシリコン領
域) 28 ライトドープn型ポリシリコン領域 29 第1の層間絶縁膜(酸化シリコン層) 30 ソース電極(アルミ薄膜) 31 ドレイン電極(アルミ薄膜) 32 電源電圧配線 33 グランド電圧配線 34 第2の層間絶縁膜(窒化シリコン層) 35,36 偏光板 X 表示領域 Y 周辺遮光領域 Z 駆動回路部
1, 6 transparent substrate 2 light-shielding layer (resin) 2 'light-shielding layer (chrome) 3 coloring layer 4 common electrode (transparent electrode) 5, 9 alignment film 7 TFT 8 pixel electrode (transparent electrode) 10 liquid crystal material 11 spacer 12 sealant Reference Signs List 13 undercoat film 14 light shielding layer (first amorphous silicon layer) 15 insulating film (silicon nitride layer) 16 polysilicon active layer 17 circuit TFT (n-type TFT) 18 circuit TFT (p-type TFT) 19 channel region (n-type) 20 channel region (p-type polysilicon region) 21 pixel TFT 22 channel region (n-type polysilicon region) 23 lower electrode of auxiliary capacitance electrode (n-type polysilicon region) 24 gate insulating film 24 ′ of auxiliary capacitance Insulating film 24 ″ silicon oxide layer 25 gate electrode (first molybdenum / tungsten thin film) 26 gate electrode (Second molybdenum-tungsten thin film) 27 Upper electrode of auxiliary capacitance electrode (n-type polysilicon region) 28 Lightly doped n-type polysilicon region 29 First interlayer insulating film (silicon oxide layer) 30 Source electrode (aluminum thin film) Reference Signs List 31 drain electrode (aluminum thin film) 32 power supply voltage wiring 33 ground voltage wiring 34 second interlayer insulating film (silicon nitride layer) 35, 36 polarizing plate X display area Y peripheral light shielding area Z drive circuit section

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G09F 9/35 321 G09F 9/35 321 Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G09F 9/35 321 G09F 9/35 321

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】第一の透明基板と、 前記第一の透明基板の一主面上に形成された共通電極
と、 前記共通電極上に形成された第一の配向膜と、 第二の透明基板と、 前記第二の透明基板の一主面上の表示領域の所定の位置
に配設されたスイッチング素子と、 前記スイッチング素子に信号を印加し駆動するために形
成された電極配線と、 前記スイッチング素子に電気的に接続され、前記スイッ
チング素子を介して電圧信号が印加される画素電極と、 前記スイッチング素子及び前記電極配線、前記画素電極
を覆って形成された第二の配向膜と、 前記第一の透明基板又は前記第二の透明基板のいずれか
の前記一主面上の表示領域周縁部の周辺遮光領域に形成
された遮光補助用着色層と、 前記第一の透明基板又は前記第二の透明基板のうち前記
遮光補助用着色層が形成された一方の前記透明基板の前
記一主面上の前記遮光補助用着色層が形成された部分の
全部又は一部を含む前記周辺遮光領域の部分と、他方の
前記透明基板の前記一主面上の表示領域周縁部の周辺遮
光領域の部分とを貼り合わせるように形成された接着剤
と、 前記第一の透明基板と前記第二の透明基板との間に封入
された液晶層と、 前記接着剤が形成された前記周辺遮光領域まで覆うよう
に、前記第一の透明基板の他主面上及び前記第二の透明
基板の他主面上にそれぞれ貼り付けられた第一の偏光板
及び第二の偏光板と、 前記第二の透明基板の前記一主面上における前記周辺遮
光領域外部に配設され、前記電極配線を介して前記スイ
ッチング素子を駆動する駆動回路と、 を備えたことを特徴とする液晶表示素子。
A first transparent substrate; a common electrode formed on one main surface of the first transparent substrate; a first alignment film formed on the common electrode; A substrate, a switching element disposed at a predetermined position in a display area on one main surface of the second transparent substrate, an electrode wiring formed for applying a signal to the switching element and driving the switching element, A pixel electrode electrically connected to a switching element, to which a voltage signal is applied via the switching element; a second alignment film formed to cover the switching element and the electrode wiring; and the pixel electrode; A light-shielding auxiliary coloring layer formed in a peripheral light-shielding region of a peripheral edge portion of a display region on the one main surface of either the first transparent substrate or the second transparent substrate, and the first transparent substrate or the first Of the two transparent substrates, A part of the peripheral light-shielding region including all or a part of the part on which the light-shielding auxiliary coloring layer is formed on the one main surface of one of the transparent substrates on which the coloring layer is formed, and the other transparent substrate An adhesive formed so as to bond a peripheral light-shielding region portion of a display region peripheral portion on the one main surface, and sealed between the first transparent substrate and the second transparent substrate. A liquid crystal layer, and the second transparent substrate and the second transparent substrate, each of which is attached to the other main surface of the second transparent substrate so as to cover up to the peripheral light-shielding region where the adhesive is formed. A first polarizing plate and a second polarizing plate, and a driving circuit disposed outside the peripheral light-shielding region on the one main surface of the second transparent substrate and driving the switching element via the electrode wiring; A liquid crystal display device comprising:
【請求項2】請求項1に記載の液晶表示素子において、
さらに、 前記遮光補助用着色層と同一の材料からなる着色層を含
む一以上の着色層と遮光層とから構成され、前記一方の
前記透明基板の前記一主面上の前記表示領域に形成され
たカラーフィルタと、 前記一方の前記透明基板の前記一主面と前記遮光補助用
着色層との間の一部に形成され、前記カラーフィルタを
構成する前記遮光層と同一の材料からなる周辺遮光層
と、を備えたことを特徴とする液晶表示素子。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein
Further, the light-shielding auxiliary coloring layer includes at least one colored layer including a colored layer made of the same material as the colored layer and a light-shielding layer, and is formed in the display region on the one main surface of the one transparent substrate. And a peripheral light-shielding layer formed on a portion between the one main surface of the one transparent substrate and the light-shielding auxiliary coloring layer, and made of the same material as the light-shielding layer constituting the color filter. And a liquid crystal display element.
【請求項3】請求項2に記載の液晶表示素子において、 前記周辺遮光層は、前記一方の前記透明基板の前記一主
面上の前記周辺遮光領域のうち内周部に形成されたもの
であることを特徴とする液晶表示素子。
3. The liquid crystal display element according to claim 2, wherein the peripheral light-shielding layer is formed on an inner peripheral portion of the peripheral light-shielding region on the one main surface of the one transparent substrate. A liquid crystal display device, comprising:
【請求項4】第一の透明基板と、 前記第一の透明基板の一主面上に形成された共通電極
と、 前記共通電極上に形成された第一の配向膜と、 第二の透明基板と、 前記第二の透明基板の一主面上の表示領域の所定の位置
に配設されたスイッチング素子と、 前記スイッチング素子に信号を印加し駆動するために形
成された電極配線と、 前記スイッチング素子に電気的に接続され、前記スイッ
チング素子を介して電圧信号が印加される画素電極と、 前記スイッチング素子及び前記電極配線、前記画素電極
を覆って形成された第二の配向膜と、 前記第一の透明基板又は前記第二の透明基板のいずれか
の前記一主面上の表示領域周縁部の周辺遮光領域の一部
に形成された金属製周辺遮光層と、 前記第一の透明基板又は前記第二の透明基板のうち前記
金属製周辺遮光層が形成された一方の前記透明基板の前
記一主面上の前記周辺遮光領域に、前記金属製周辺遮光
層を覆って形成された遮光補助用着色層と、 前記一方の前記透明基板の前記一主面上の前記遮光補助
用着色層が形成された部分の全部又は一部を含む前記周
辺遮光領域の部分と、他方の前記透明基板の前記一主面
上の表示領域周縁部の周辺遮光領域の部分とを貼り合わ
せるように形成された接着剤と、 前記第一の透明基板と前記第二の透明基板との間に封入
された液晶層と、 前記接着剤が形成された前記周辺遮光領域まで覆うよう
に、前記第一の透明基板の他主面上及び前記第二の透明
基板の他主面上にそれぞれ貼り付けられた第一の偏光板
及び第二の偏光板と、を備えたことを特徴とする液晶表
示素子。
4. A first transparent substrate; a common electrode formed on one main surface of the first transparent substrate; a first alignment film formed on the common electrode; A substrate, a switching element disposed at a predetermined position in a display area on one main surface of the second transparent substrate, an electrode wiring formed for applying a signal to the switching element and driving the switching element, A pixel electrode electrically connected to a switching element, to which a voltage signal is applied via the switching element; a second alignment film formed to cover the switching element and the electrode wiring; and the pixel electrode; A metal peripheral light-shielding layer formed on a part of a peripheral light-shielding region at a periphery of a display area on the one main surface of either the first transparent substrate or the second transparent substrate; and the first transparent substrate. Or the second transparent substrate out of the In the peripheral light-shielding region on the one main surface of the one transparent substrate on which the metal peripheral light-shielding layer is formed, a light-shielding auxiliary coloring layer formed so as to cover the metal peripheral light-shielding layer, A portion of the peripheral light-shielding region including all or a part of the portion on the one main surface of the transparent substrate on which the light-shielding auxiliary colored layer is formed, and a periphery of a display region on the one main surface of the other transparent substrate An adhesive formed so as to bond a part of the peripheral light-shielding region of the portion, a liquid crystal layer sealed between the first transparent substrate and the second transparent substrate, and the adhesive is formed. A first polarizing plate and a second polarizing plate attached to the other main surface of the first transparent substrate and the other main surface of the second transparent substrate, respectively, so as to cover the peripheral light-shielding region. And a liquid crystal display element comprising:
【請求項5】請求項4に記載の液晶表示素子において、 前記金属製周辺遮光層は、前記一方の前記透明基板の前
記一主面上の前記周辺遮光領域のうち内周部に形成され
たものであることを特徴とする液晶表示素子。
5. The liquid crystal display element according to claim 4, wherein the metal peripheral light-shielding layer is formed on an inner peripheral portion of the peripheral light-shielding region on the one main surface of the one transparent substrate. A liquid crystal display element characterized by the above.
【請求項6】請求項4又は5のいずれかに記載の液晶表
示素子において、さらに、 前記遮光補助用着色層と同一の材料からなる着色層を含
む一以上の着色層と前記金属製周辺遮光層と同一の材料
からなる金属製遮光層とから構成され、前記一方の前記
透明基板の前記一主面上の前記表示領域に形成されたカ
ラーフィルタを備えたことを特徴とする液晶表示素子。
6. The liquid crystal display element according to claim 4, further comprising at least one colored layer including a colored layer made of the same material as the light-shielding auxiliary colored layer, and the metal peripheral light-shielding. A liquid crystal display element comprising: a layer; and a metal light-shielding layer made of the same material, and a color filter formed in the display area on the one main surface of the one transparent substrate.
【請求項7】請求項4乃至6のいずれかに記載の液晶表
示素子において、 前記第二の透明基板の前記一主面上における前記周辺遮
光領域外部に、前記電極配線を介して前記スイッチング
素子を駆動する駆動回路をさらに備えたことを特徴とす
る液晶表示素子。
7. The switching element according to claim 4, wherein the switching element is provided outside the peripheral light-shielding region on the one main surface of the second transparent substrate via the electrode wiring. A liquid crystal display device further comprising a drive circuit for driving the liquid crystal display.
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