JP2999117B2 - Liquid crystal device and method of manufacturing the same - Google Patents

Liquid crystal device and method of manufacturing the same

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JP2999117B2
JP2999117B2 JP7769894A JP7769894A JP2999117B2 JP 2999117 B2 JP2999117 B2 JP 2999117B2 JP 7769894 A JP7769894 A JP 7769894A JP 7769894 A JP7769894 A JP 7769894A JP 2999117 B2 JP2999117 B2 JP 2999117B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、種々の表示または光情
報処理などに用いられる液晶装置およびその製造方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal device used for various displays or optical information processing, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、液晶装置は、種々の分野において
表示や光情報処理などに用いられている。この液晶装置
は、各々電極が形成された一対の基板間に液晶層が狭持
され、画素と呼ばれる最小の表示単位が規則的に配列さ
れた構成を有している。それらの画素に各々独立して電
圧を印加して、各画素を構成する液晶の光学特性を変化
させることにより、画像や文字が表示される。このよう
な液晶装置のうち、特に高品位な表示装置として用いら
れるアクティブマトリクス型カラー液晶装置において
は、一方の基板上に、複数の画素電極と、各画素電極に
接続されたスイッチング素子としての薄膜トランジスタ
やダイオードなどの非線形素子アレイとを形成してい
る。また、他方の基板上には、画素以外の部分からの光
の漏れを防止しすると共に非線形素子の光照射による特
性変化を防止するために、画素以外の部分に金属薄膜の
フォトリソグラフィーにより遮光膜を形成し、その上に
加法混色系における光の三原色である赤、青および緑の
三色の染料または顔料を含んだカラーフィルターをパタ
ーニングし、さらにその上に透明導電膜からなる対向電
極を形成している。この両基板を貼り合わせることによ
り液晶装置を製造していた。
2. Description of the Related Art Conventionally, liquid crystal devices have been used in various fields for display and optical information processing. This liquid crystal device has a configuration in which a liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates on which electrodes are formed, and a minimum display unit called a pixel is regularly arranged. By applying a voltage to each of the pixels independently to change the optical characteristics of the liquid crystal constituting each pixel, images and characters are displayed. Among such liquid crystal devices, in an active matrix type color liquid crystal device used as a high-quality display device in particular, a plurality of pixel electrodes and a thin film transistor as a switching element connected to each pixel electrode are provided on one substrate. And a non-linear element array such as a diode. In addition, on the other substrate, a light-shielding film is formed by photolithography of a metal thin film on portions other than the pixels in order to prevent leakage of light from portions other than the pixels and to prevent changes in characteristics due to light irradiation of the nonlinear element. Is formed thereon, and a color filter containing dyes or pigments of red, blue, and green, which are the three primary colors of light in the additive color mixture system, is patterned thereon, and a counter electrode made of a transparent conductive film is formed thereon. are doing. A liquid crystal device has been manufactured by bonding these two substrates together.

【0003】上記カラーフィルターとしては、400〜
700nmの可視光のうち、特定の波長領域の光を少な
くとも50%、好ましくは80%以上透過し、それ以外
の波長領域の光を吸収するようなものが要求される。こ
のカラーフィルターの形成方法としては、フォトリソグ
ラフィーによる方法以外に電着法や印刷法が挙げられる
が、電着法や印刷法は価格的には有利であるもののパタ
ーニング精度や色純度などの点から高品位の液晶装置を
得ることが困難であるので、フォトリソグラフィーによ
る方法を用いるのが好ましい。これらカラーフィルター
の製造方法については、例えば液晶デバイスハンドブッ
ク(日本学術進行界第142委員会編)に詳しく記載さ
れている。
[0003] As the color filter, 400 to
Of the 700 nm visible light, one that transmits at least 50%, preferably 80% or more of light in a specific wavelength region and absorbs light in other wavelength regions is required. As a method for forming this color filter, an electrodeposition method or a printing method may be used in addition to the method using photolithography, but the electrodeposition method or the printing method is advantageous in terms of price, but from the viewpoint of patterning accuracy and color purity. Since it is difficult to obtain a high-quality liquid crystal device, a method using photolithography is preferably used. The method for manufacturing these color filters is described in detail in, for example, a liquid crystal device handbook (edited by the 142nd Committee of the Japan Society for the Promotion of Science).

【0004】上記遮光膜としては、可視光の全波長領域
で最大20%、好ましくは10%以下の透過率であるこ
とが要求され、一般に金属膜が用いられている。しか
し、金属膜を用いた場合には、光の反射率が大きく、外
光によって液晶装置の表示品位が著しく低下するため、
金属膜の代わりに金属酸化物膜や顔料または染料を分散
した樹脂膜などが用いられる場合がある。
The light-shielding film is required to have a transmittance of at most 20%, preferably 10% or less in the entire wavelength region of visible light, and a metal film is generally used. However, when a metal film is used, the reflectance of light is large, and the display quality of the liquid crystal device is significantly reduced due to external light.
In some cases, a metal oxide film, a resin film in which a pigment or a dye is dispersed, or the like is used instead of the metal film.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記画素電極と非線形
素子とが形成された一方の基板と、遮光膜とカラーフィ
ルターとが形成された他方の基板とを貼り合わせる際に
は、高精度の位置合わせ技術が必要である。このため、
大型基板から多数の表示装置を同時に製造するというコ
スト面で有利な方法では、基板の伸縮、パターンのず
れ、貼り合わせ装置の精度などを総合して考えると、3
0cm角の基板で±10μm程度のマージンを見ておく
必要がある。この場合、画素電極に対して遮光膜の開口
部を上下左右に各々10μmずつ小さくする必要があ
り、表示装置の開口率が著しく低下していた。
When one substrate on which the pixel electrode and the non-linear element are formed and the other substrate on which the light-shielding film and the color filter are formed are bonded together, a high-precision position is required. Matching technology is required. For this reason,
In a cost-effective method of simultaneously manufacturing a large number of display devices from a large substrate, considering the expansion and contraction of the substrate, the displacement of the pattern, and the accuracy of the bonding device, etc.
It is necessary to keep a margin of about ± 10 μm in a 0 cm square substrate. In this case, the aperture of the light-shielding film needs to be reduced by 10 μm in each of the upper, lower, left, and right sides with respect to the pixel electrode, and the aperture ratio of the display device has been significantly reduced.

【0006】これを防ぐために、非線形素子が形成され
た基板上に遮光膜を形成する方法が提案されている。こ
の場合においても、カラーフィルターが対向する基板上
に形成されるので、両基板を貼り合わせる際の位置合わ
せは必要であるが、カラーフィルターを遮光膜の開口部
よりも上下左右に各々10μmずつ大きくすればよい。
表示装置の開口率は、遮光膜と非線形素子形成側基板の
各パターンとのアライメント精度および遮光膜のパター
ニング精度で決定されるが、遮光膜のパターンが画素電
極を上下左右とも3μm程度被覆するようにすればよい
ので、大幅な開口率の向上を期待することができる。
In order to prevent this, there has been proposed a method of forming a light-shielding film on a substrate on which a non-linear element is formed. Also in this case, since the color filters are formed on the opposing substrates, it is necessary to perform alignment when the two substrates are bonded to each other. do it.
The aperture ratio of the display device is determined by the alignment accuracy of the light-shielding film and each pattern of the non-linear element forming side substrate and the patterning accuracy of the light-shielding film. Therefore, a significant improvement in the aperture ratio can be expected.

【0007】このような遮光膜としては導電性の大きい
金属膜を用いることは困難であるので、染料や顔料を高
分子樹脂バインダー中に分散させたものが一般に用いら
れている。しかし、樹脂からなる遮光膜は、塗布および
パターニングの際に比較的ピンホールが発生し易く、ピ
ンホール発生部分を光が透過するために表示コントラス
トが低下するという問題があった。また、十分な色純度
を得るためにはカラーフィルターの厚みが2μm程度必
要であるが、そのために基板上の表示部における段差が
大きくなって液晶の配向が乱れ易いという問題があっ
た。さらに、非線形素子が形成された基板に遮光膜が形
成されているので、非線形素子に光が照射されることに
より特性変化が生じるという問題があった。
Since it is difficult to use a metal film having high conductivity as such a light-shielding film, a film in which a dye or a pigment is dispersed in a polymer resin binder is generally used. However, a light-shielding film made of a resin has a problem that a pinhole is relatively easily generated at the time of coating and patterning, and light is transmitted through a portion where the pinhole is generated. Further, in order to obtain sufficient color purity, the thickness of the color filter is required to be about 2 μm. However, there is a problem that the step in the display section on the substrate becomes large and the orientation of the liquid crystal is easily disturbed. Furthermore, since the light-shielding film is formed on the substrate on which the non-linear element is formed, there is a problem that a characteristic change occurs when the non-linear element is irradiated with light.

【0008】このような問題を解決するために、カラー
フィルターが形成された対向基板側にも遮光膜を形成す
るという方法が考えられる。この方法によれば、非線形
素子に光が照射されることによる特性変化も防ぐことが
できる。しかし、その場合には3色のカラーフィルター
に対して4回のパターニングが必要となり、製造プロセ
スが繁雑になってコストが高くなるという問題が大きか
った。
In order to solve such a problem, a method of forming a light-shielding film on the side of the counter substrate on which the color filter is formed may be considered. According to this method, it is possible to prevent a change in characteristics due to irradiation of the nonlinear element with light. However, in such a case, patterning must be performed four times for the three color filters, and the production process is complicated and the cost is high.

【0009】本発明は、上記従来の問題を解決するもの
で、表示装置の開口率を向上させることができ、遮光膜
のピンホールによるコントラスト低下および基板上の表
示部における段差による液晶の配向乱れを防ぐことがで
き、非線形素子に光が照射されることによる特性変化を
防ぐことができ、さらにスループットを向上させて安価
に製造できる液晶装置およびその製造方法を提供するこ
とを目的とする。
The present invention solves the above-mentioned conventional problems. The aperture ratio of a display device can be improved, the contrast is reduced by a pinhole in a light-shielding film, and the alignment of liquid crystal is disturbed by a step in a display portion on a substrate. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal device and a method for manufacturing the liquid crystal device, which can prevent characteristics change due to irradiation of light to a nonlinear element, can further improve throughput, and can be manufactured at low cost.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems] 本発明の液晶装置は、電The liquid crystal device of the present invention
極がそれぞれ形成された一対の基板間に液晶層が狭持さThe liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates with each pole formed
れ、複数の画素が形成された液晶装置において、少なくIn a liquid crystal device in which a plurality of pixels are formed,
とも一方の基板上に、該複数の画素のうちの一部に対応Both of which correspond to some of the pixels on one substrate
するように、可視光線のうち、特定の波長領域の光を5As shown in FIG.
0%以上透過する一種類以上のカラーフィルターを島状One or more color filters that transmit 0% or more are island-shaped
に設け、該島状のカラーフィルター形成部以外の基板上On the substrate other than the island-shaped color filter forming portion
部分に、可視光線のうち、該特定の波長領域とは異なるPart of the visible light, different from the specific wavelength region
特定の波長領域の光を50%以上透過するカラーフィルColor filter that transmits 50% or more of light in a specific wavelength range
ターを該島状のカラーフィルターを取り囲むように設To surround the island-shaped color filter.
け、前記島状のカラーフィルターを取り囲むように形成Formed to surround the island-shaped color filter
されたカラーフィルターが50%以上透過させる特定のSpecific color filter that transmits more than 50%
波長領域は、該島状のカラーフィルターが50%以上透In the wavelength region, the island-shaped color filter transmits 50% or more.
過させる波長領域に比べて視感度の低いものであり、そLow visibility compared to the wavelength range
のことにより上記目的が達成される。Thus, the above object is achieved.

【0011】[0011] 本発明の液晶装置は、電極がそれぞれ形成In the liquid crystal device of the present invention, each electrode is formed.
された一対の基板間に液晶層が狭持され、複数の画素がThe liquid crystal layer is sandwiched between the pair of substrates, and a plurality of pixels
形成された液晶装置において、少なくとも一方の基板上In the formed liquid crystal device, on at least one substrate
に、該複数の画素のうちの一部に対応するように、可視In order to correspond to a part of the plurality of pixels,
光線のうち、特定の波長領域の光を50%以上透過するTransmits at least 50% of light in a specific wavelength region among light rays
一種類以上のカラーフィルターを島状に設け、該島状のAt least one type of color filter is provided in the form of an island,
カラーフィルター形成部以外の基板上部分に、可視光線Visible light is applied to the part on the substrate other than the color filter formation part.
のうち、該特定の波長領域とは異なる特定の波長領域のOf the specific wavelength region different from the specific wavelength region,
光を50%以上透過するカラーフィルターを該島状のカA color filter that transmits 50% or more of light
ラーフィルターを取り囲むように設け、前記カラーフィProvided to surround the color filter,
ルターのうち、少なくとも島状に形成されるカラーフィColor filters formed at least in island shape
ルターは、430nm以下の波長領域の光透過率が20Luter has a light transmittance of 20 in the wavelength region of 430 nm or less.
%以下であり、そのことにより上記目的が達成される。% Or less, thereby achieving the above object.

【0012】[0012] 本発明の液晶装置の製造方法は、電極がそIn the method of manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, the electrodes are
れぞれ形成された一対の基板間に液晶層が狭持されて複A liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates formed respectively, and
数の画素が形成され、少なくとも一方の基板上に、該複Pixels are formed on at least one substrate.
数の画素のうちの一部に対応するように、可視光線のうVisible light rays to correspond to some of the pixels
ち、特定の波長領域の光を50%以上透過するカラーフThat is, a color filter that transmits 50% or more of light in a specific wavelength region.
ィルターの一種類以上が島状に形成され、該島状のカラOne or more types of filters are formed in an island shape, and the island-shaped color
ーフィルター形成部以外の基板上部分に、可視光線のう-Apply visible light rays to the
ち、該特定の波長領域とは異なる特定の波長領域の光をThat is, light of a specific wavelength range different from the specific wavelength range is
50%以上透過するカラーフィルターが該島状のカラーThe color filter that transmits 50% or more is the island color
フィルターを取り囲むように形成される液晶装置の製造Manufacture of liquid crystal devices formed around filters
方法であって、少なくとも一方の基板上に島状のカラーAn island-shaped collar on at least one substrate
フィルターを形成する工程と、該島状のカラーフィルタForming a filter, and the island-shaped color filter
ーが形成された基板上に、該島状のカラーフィルターをThe island-shaped color filter is formed on the substrate on which
取り囲むように形成するカラーフィルターの材料を塗布Apply color filter material to surround
し、基板のカラーフィルター形成面と反対側の面から光Light from the surface of the substrate opposite to the color filter formation surface.
を照射することによりカラーフィルターのパターニングPatterning of color filters by irradiating
を行う工程とを含み、そのことにより上記目的が達成さPerforming the step of achieving the above object.
れる。It is.

【0013】[0013]

【0014】[0014]

【0015】[0015]

【0016】[0016]

【0017】[0017]

【0018】[0018]

【0019】[0019]

【0020】[0020]

【0021】[0021]

【0022】[0022]

【0023】[0023]

【0024】[0024]

【0025】[0025]

【作用】本発明の液晶装置においては、少なくとも一方
の基板上に、複数の画素のうちの一部に対応するよう
に、可視光線のうち、特定の波長領域の光を50%以上
透過するカラーフィルターの一種類以上が島状に設けら
れている。この島状のカラーフィルター形成部以外の基
板上部分には、可視光線のうち、島状のカラーフィルタ
ーの特定の波長領域とは異なる特定の波長領域の光を5
0%以上透過するカラーフィルターが、島状のカラーフ
ィルターを取り囲むように設けられている。例えば、3
色のカラーフィルターを形成する際に、通常の島状パタ
ーンで2色を形成し、残りの1色はこれら島状パターン
を取り囲むように形成するため、十分な色純度を得るた
めにはカラーフィルターの厚みを2μm程度にしても、
基板上の表示部における段差を著しく小さくすることが
でき、液晶の配向乱れが生じにくい。
In the liquid crystal device according to the present invention, at least one substrate is provided with a color that transmits 50% or more of light of a specific wavelength region in visible light so as to correspond to a part of a plurality of pixels. One or more types of filters are provided in an island shape. On a portion of the substrate other than the island-shaped color filter forming portion, light of a specific wavelength region different from the specific wavelength region of the
A color filter that transmits 0% or more is provided so as to surround the island-shaped color filter. For example, 3
When forming a color filter of a color, two colors are formed with a normal island pattern, and the remaining one color is formed so as to surround these island patterns. Even if the thickness of the
The step in the display portion on the substrate can be significantly reduced, and alignment disorder of the liquid crystal hardly occurs.

【0026】カラーフィルターとしては、各々赤、青お
よび緑を50%以上透過させる3色のカラーフィルター
であってもよく、これに無色透明を加えて4色としても
よく、これら以外の色、例えばシアン、マゼンタ、黄色
などの色としてもよい。これらの色のうちのいくつかを
島状パターンに形成し、1つを島状パターンを取り囲む
カラーフィルターとして用いることができる。無色透明
も1色と考えて、2色以上のカラーフィルターを形成す
ることができる。上記カラーフィルターは、各々50%
以上透過させる特定の波長領域の異なる3種類以上のも
のであってもよい。
The color filters may be three color filters each transmitting 50% or more of red, blue and green, and may be colorless and transparent to make four colors. Colors such as cyan, magenta, and yellow may be used. Some of these colors can be formed in an island pattern, and one can be used as a color filter surrounding the island pattern. Colorless and transparent are considered to be one color, and a color filter of two or more colors can be formed. The above color filters are 50% each
There may be three or more types having different specific wavelength regions to be transmitted.

【0027】カラーフィルターが一方の基板上に形成さ
れ、他方の基板上の画素以外の部分に、400nm以上
700nm以下の波長領域の光の透過率が20%以下で
ある遮光膜が形成されていてもよい。この場合、画素で
ない部分からの光漏れを防止することができる。
A color filter is formed on one substrate, and a light-shielding film having a light transmittance of 20% or less in a wavelength region of 400 nm or more and 700 nm or less is formed on a portion other than the pixels on the other substrate. Is also good. In this case, light leakage from a portion other than the pixel can be prevented.

【0028】また、少なくともいずれかの基板上に、複
数の画素をスイッチングする非線形素子が形成されてい
てもよい。この場合、片方の基板上に非線形素子が形成
され、残る片方の基板上にカラーフィルターが形成され
ている構成とすることができる。さらに、非線形素子が
形成された基板上の画素以外の部分に、400nm以上
700nm以下の波長領域の光の透過率が20%以下で
ある遮光膜を形成すると、両基板の位置合わせの際に遮
光膜の開口部を大きくしても問題無いので、大幅な開口
率の向上が期待できる。
A non-linear element for switching a plurality of pixels may be formed on at least one of the substrates. In this case, it is possible to adopt a configuration in which a non-linear element is formed on one substrate and a color filter is formed on the other substrate. Further, when a light-shielding film having a light transmittance of 20% or less in a wavelength region of 400 nm or more and 700 nm or less is formed in a portion other than the pixels on the substrate on which the nonlinear element is formed, light is shielded when the two substrates are aligned. Since there is no problem even if the opening of the film is enlarged, a significant improvement in the aperture ratio can be expected.

【0029】遮光膜に導電性の大きい材料を用いると、
画素電極間のリークが生じるおそれがあるので、遮光膜
の導電率は10-3Ωcm以下であるのが望ましい。この
ような遮光膜としては、樹脂バインダ中に染料または顔
料を分散させたものを用いることができる。
When a material having high conductivity is used for the light shielding film,
It is preferable that the conductivity of the light-shielding film is 10 −3 Ωcm or less, because there is a possibility that a leak occurs between the pixel electrodes. As such a light-shielding film, a material in which a dye or a pigment is dispersed in a resin binder can be used.

【0030】島状のカラーフィルターを取り囲むように
形成されたカラーフィルターが50%以上透過させる特
定の波長領域は、島状のカラーフィルターが50%以上
透過させる波長領域に比べて視感度の低いものであるの
が望ましい。例えば、赤、緑、青の3色のカラーフィル
ターを用いる場合には、島状のカラーフィルターを取り
囲むように形成されたカラーフィルターは、青色カラー
フィルターとするのが望ましい。このようにすると、遮
光膜にピンホールが生じても光漏れが生じにくいので、
表示コントラストの低下を防ぐことができる。この場
合、カラーフィルターが形成された対向基板側にも遮光
膜を形成する必要が無いので、製造プロセスの簡略化お
よびが低コスト化を図ることができる。
The specific wavelength region in which the color filter formed so as to surround the island-shaped color filter transmits 50% or more has lower luminosity than the wavelength region in which the island-shaped color filter transmits 50% or more. It is desirable that For example, when three color filters of red, green, and blue are used, it is preferable that the color filter formed so as to surround the island-shaped color filter be a blue color filter. In this case, light leakage hardly occurs even if a pinhole occurs in the light shielding film,
A decrease in display contrast can be prevented. In this case, there is no need to form a light-shielding film on the side of the counter substrate on which the color filter is formed, so that the manufacturing process can be simplified and the cost can be reduced.

【0031】カラーフィルターとして、ネガ型フォトレ
ジストに染料または顔料を分散させたものを用いると、
信頼性を良好にすることができる。
When a dye or a pigment is dispersed in a negative photoresist as a color filter,
The reliability can be improved.

【0032】カラーフィルターのうち、少なくとも島状
に形成されるカラーフィルターとしてフォトレジストが
感応する波長に対して十分な遮光性を有するものを用い
ると、この島状カラーフィルターをマスクとして基板裏
面(カラーフィルターの形成面と反対側の面)から光を
照射して、セルフアライメントにより島状パターンを取
り囲むカラーフィルターを形成することができる。この
ようなカラーフィルターとしては、430nm以下の波
長領域の光透過率が20%以下であるものを用いること
ができ、例えば、紫外線吸収剤が含有されているものが
挙げられる。また、島状パターンを取り囲むように形成
するカラーフィルターの材料に紫外線吸収剤を含有させ
ておくと、遮光膜を形成しなくても、非線形素子に光が
照射されることによる特性変化を防ぐことができる。
When at least a color filter formed in an island shape having a sufficient light-shielding property with respect to a wavelength sensitive to a photoresist is used among the color filters, the back surface of the substrate (color By irradiating light from the surface opposite to the surface on which the filter is formed), a color filter surrounding the island pattern can be formed by self-alignment. As such a color filter, those having a light transmittance of 20% or less in a wavelength region of 430 nm or less can be used, and examples thereof include those containing an ultraviolet absorber. In addition, if the material of the color filter formed so as to surround the island-shaped pattern contains an ultraviolet absorber, it is possible to prevent a change in characteristics due to irradiation of the nonlinear element with light without forming a light shielding film. Can be.

【0033】[0033]

【実施例】以下、本発明の実施例について、図面を参照
しながら説明する。なお、以下の実施例においては、ア
モルファスシリコン薄膜トランジスタをスイッチング素
子として形成したアクティブマトリクス型液晶装置につ
いて説明するが、本発明はこれに限られず、ポリシリコ
ン、単結晶シリコンまたはその他の材料を用いたトラン
ジスタやダイオードなどの非線形素子を形成したアクテ
ィブマトリクス型液晶装置にも適用することができ、さ
らに、非線形素子を有さない単純マトリクス型液晶装置
にも適用することができる。また、カラーフィルターと
しては赤、緑、青の3色を形成したが、これに無色透明
を加えて4色としてもよく、これら以外の色、例えばシ
アン、マゼンタ、黄色などの色としてもよい。これらの
色のうちのいくつかの色のみとしてもよく、無色透明も
1色と考えて2色以上のカラーフィルターを形成すれば
よい。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following embodiments, an active matrix type liquid crystal device in which an amorphous silicon thin film transistor is formed as a switching element will be described. However, the present invention is not limited to this, and transistors using polysilicon, single crystal silicon, or other materials are used. The present invention can be applied to an active matrix type liquid crystal device having a nonlinear element such as a diode or a diode, and further to a simple matrix type liquid crystal device having no nonlinear element. Further, although three colors of red, green and blue are formed as the color filters, four colors may be added by adding colorless and transparent to the color filters, and other colors such as cyan, magenta and yellow may be used. Only some of these colors may be used, and colorless and transparent may be considered as one color, and two or more color filters may be formed.

【0034】(実施例1)図1は本発明の実施例1にお
ける液晶装置を示す断面図である。図1において、一対
の基板4および5の間に液晶8が挟持されており、基板
5上にはTFT6と画素電極7とが設けられている。基
板4上には、複数の画素のうちの一部に対応するよう
に、赤、緑および青の光を50%以上、好ましくは80
%以上透過するカラーフィルター(赤)9、カラーフィ
ルター(緑)10、カラーフィルター(青)11が形成
され、その上に透明導電膜からなる対向電極12が形成
されている。両基板4、5の上には、液晶8の配向状態
を制御するための配向膜13、14が形成され、スペー
サー15により基板間隙が一定にされている。また、カ
ラーフィルター9、10、11は、液晶8側からみる
と、図2に示すような配置とされている。
Embodiment 1 FIG. 1 is a sectional view showing a liquid crystal device according to Embodiment 1 of the present invention. In FIG. 1, a liquid crystal 8 is sandwiched between a pair of substrates 4 and 5, and a TFT 6 and a pixel electrode 7 are provided on the substrate 5. On the substrate 4, red, green, and blue lights are provided at 50% or more, preferably 80%, so as to correspond to a part of the plurality of pixels.
%, A color filter (red) 9, a color filter (green) 10, and a color filter (blue) 11 are formed, and a counter electrode 12 made of a transparent conductive film is formed thereon. Alignment films 13 and 14 for controlling the alignment state of the liquid crystal 8 are formed on both substrates 4 and 5, and the gap between the substrates is made constant by spacers 15. The color filters 9, 10, and 11 are arranged as shown in FIG. 2 when viewed from the liquid crystal 8 side.

【0035】この液晶装置の製造は、以下のようにして
行うことができる。
The production of this liquid crystal device can be performed as follows.

【0036】まず、カラーフィルター形成側基板につい
て説明する。ガラス、樹脂または石英などでできた基板
4上に、必要に応じて酸化タンタル、酸化シリコンまた
は窒化シリコンなどからなるオーバーコート膜(図示せ
ず)を形成し、その上にカラーフィルター9、10、1
1を形成する。
First, the color filter forming substrate will be described. An overcoat film (not shown) made of tantalum oxide, silicon oxide, silicon nitride, or the like is formed on a substrate 4 made of glass, resin, quartz, or the like, if necessary, and color filters 9, 10, 1
Form one.

【0037】これらカラーフィルター9、10、11を
形成するための材料としては、樹脂中に顔料や染料を加
えたものを用いることができるが、耐熱性の点からは顔
料を加えたものを用いるのが好ましい。また、製造プロ
セスを簡略化するためには、感光性樹脂を用いるのが好
ましい。カラーフィルターはセル内部に形成されるの
で、現時点ではポジ型よりもネガ型樹脂材料の方が良好
な信頼性を示す。
As a material for forming the color filters 9, 10, and 11, a material obtained by adding a pigment or a dye to a resin can be used, but from the viewpoint of heat resistance, a material obtained by adding a pigment is used. Is preferred. Further, in order to simplify the manufacturing process, it is preferable to use a photosensitive resin. Since the color filter is formed inside the cell, the negative resin material shows better reliability than the positive resin at present.

【0038】このようなカラーフィルター材料として
は、例えばカラーモザイク(製品名:富士ハントエレク
トロニクステクノロジー(株)製)などの市販品を用い
ることができる。カラーモザイクを用いたカラーフィル
ターの形成は、以下のようにして行うことができる。ま
ず、基板上にスピンコーター、バーコーター、ロールコ
ーターなどによりカラーモザイクを塗布し、80℃程度
の温度で5分程度仮焼成した後、ポリビニルアルコール
などからなる酸素遮断膜を塗布・乾燥する。これを所定
パターンのフォトマスクを用いて紫外光で露光し、炭酸
水素ナトリウムなどの現像液で現像する。これを純水で
リンスした後、200℃程度の温度で30分程度焼成す
る。
Commercially available products such as color mosaic (product name: manufactured by Fuji Hunt Electronics Technology Co., Ltd.) can be used as such a color filter material. The formation of a color filter using a color mosaic can be performed as follows. First, a color mosaic is applied on a substrate by a spin coater, a bar coater, a roll coater or the like, and calcined at a temperature of about 80 ° C. for about 5 minutes, and then an oxygen barrier film made of polyvinyl alcohol or the like is applied and dried. This is exposed to ultraviolet light using a photomask of a predetermined pattern, and developed with a developing solution such as sodium hydrogen carbonate. After rinsing this with pure water, it is baked at a temperature of about 200 ° C. for about 30 minutes.

【0039】その他のカラーフィルター材料としては、
ネガ型レジストに顔料を加えた膜、酸素遮断膜および保
護膜を多層フィルムに形成したドライフィルム型のレジ
ストを用いてもよい。
As other color filter materials,
A dry film type resist in which a film obtained by adding a pigment to a negative type resist, an oxygen barrier film, and a protective film are formed in a multilayer film may be used.

【0040】カラーフィルターは、上述のようなフォト
レジストを用いる方法以外に、電着法、印刷法などのそ
れ以外の方法、またはこれらを組み合わせた方法でも、
十分なパターニング精度が得られれば、いずれの方法で
形成してもよい。
In addition to the above-described method using a photoresist, a color filter can be formed by other methods such as an electrodeposition method and a printing method, or a method combining these methods.
Any method may be used as long as sufficient patterning accuracy can be obtained.

【0041】本実施例では、ガラス基板(商品名#70
59:コーニングジャパン(株)製)4上に、カラーモ
ザイクCR(赤)のカラーフィルター9を島状パターン
に形成し、続いてカラーモザイクCG(緑)のカラーフ
ィルター10を島状パターンに形成した。その後、カラ
ーモザイクCB(青)のカラーフィルター11をこれら
島状パターンを取り囲むように形成して図2に示すよう
なカラーフィルター層を得た。ここではストライプのパ
ターンを形成したが、デルタ配列でもよい。また、カラ
ーフィルターの形状も、円、楕円、6角形など種々の形
状にすることができる。
In this embodiment, a glass substrate (trade name: # 70)
59: Corning Japan Co., Ltd.) 4, the color filter 9 of color mosaic CR (red) was formed in an island pattern, and the color filter 10 of color mosaic CG (green) was formed in an island pattern. . Thereafter, a color filter 11 of color mosaic CB (blue) was formed so as to surround these island-like patterns to obtain a color filter layer as shown in FIG. Here, a stripe pattern is formed, but a delta arrangement may be used. In addition, the shape of the color filter can be various shapes such as a circle, an ellipse, and a hexagon.

【0042】その上に、ITO(Indium Tin
Oxide)などからなる対向電極12を形成して一
方の基板を形成した。ここで、カラーフィルター上の平
坦度および対向電極12との密着性などの点から必要で
あれば、カラーフィルターと対向電極12との間にアク
リルまたはポリイミドなどからなる保護膜(図示せず)
を形成してもよい。
On top of that, ITO (Indium Tin)
Oxide) and the like were formed to form one substrate. Here, if necessary in terms of flatness on the color filter and adhesion to the counter electrode 12, a protective film (not shown) made of acrylic or polyimide is provided between the color filter and the counter electrode 12.
May be formed.

【0043】次に、画素電極7とTFT6形成側の基板
について説明する。ガラス基板(#7059:コーニン
グジャパン(株)製)5上に、タンタルなどをスパッタ
リングにより堆積し、これをフォトリソグラフィーによ
りパターニングしてゲート電極を形成した。さらに、窒
化シリコンをCVD法により堆積してゲート絶縁膜を形
成した。続いて、アモルファスシリコン膜およびn+
アモルファスシリコン膜をCVD法により形成し、フォ
トリソグラフィーによりパターニングして半導体層を形
成した。その後、チタンをスパッタリングにより堆積
し、これをフォトリソグラフィーによりパターニングし
てソース電極およびドレイン電極を形成した。以上によ
り、画素電極7をスイッチングするTFT6が形成され
る。
Next, the substrate on the pixel electrode 7 and TFT 6 formation side will be described. Tantalum or the like was deposited on a glass substrate (# 7059: manufactured by Corning Japan KK) 5 by sputtering, and this was patterned by photolithography to form a gate electrode. Further, silicon nitride was deposited by a CVD method to form a gate insulating film. Subsequently, the amorphous silicon film and n +
An amorphous silicon film was formed by a CVD method, and was patterned by photolithography to form a semiconductor layer. Thereafter, titanium was deposited by sputtering, and this was patterned by photolithography to form a source electrode and a drain electrode. Thus, the TFT 6 for switching the pixel electrode 7 is formed.

【0044】次に、ITOをスパッタリングにより堆積
し、これをフォトリソグラフィーによりパターニングす
ることにより画素電極7を形成した。その上に、必要に
応じて、窒化シリコン、酸化シリコンなどからなる保護
膜(図示せず)を形成してもよい。
Next, a pixel electrode 7 was formed by depositing ITO by sputtering and patterning it by photolithography. A protective film (not shown) made of silicon nitride, silicon oxide, or the like may be formed thereon as needed.

【0045】ここでは、材料、製法などとして一般的な
例を示したが、これらに限定されるものではない。例え
ばゲート電極、ソース電極、ドレイン電極などの電極に
は、上述した材料以外にモリブデン、アルミニウム、ク
ロム、銅、ITOなどの材料を使用することができ、そ
の形成方法として、蒸着、メッキなどの方法を用いても
よい。ゲート絶縁膜は、酸化シリコン、五酸化タンタル
などの材料を用いることができ、その形成方法として、
溶液の塗布、焼成や陽極酸化などの方法を用いてもよ
い。画素電極7や対向電極12は、酸化錫などの材料を
用いて形成してもよい。
Here, general examples of materials, manufacturing methods, and the like have been described, but the present invention is not limited to these. For example, materials such as molybdenum, aluminum, chromium, copper, and ITO can be used for the electrodes such as the gate electrode, the source electrode, and the drain electrode in addition to the above-described materials. May be used. For the gate insulating film, a material such as silicon oxide or tantalum pentoxide can be used.
A method such as application of a solution, baking, or anodic oxidation may be used. The pixel electrode 7 and the counter electrode 12 may be formed using a material such as tin oxide.

【0046】以上のようにして形成した2枚の基板上に
ポリイミドからなる液晶配向膜13、14を形成し、ラ
ビング法により所定の方向に配向処理を行って表面を純
水で処理した。さらに、基板上にスペーサー散布し、画
面周囲をシールして2枚の基板を貼り合わせた。その
後、基板間隙に液晶8を注入して注入口を封止し、焼成
することにより液晶セルを得た。この液晶セルと偏光
板、液晶駆動用ドライバ、駆動回路および電源などと組
み合わせることにより、捩れネマティック型の液晶装置
を得た。ここで、液晶表示モードとしては、捩れネマテ
ィック型以外に超捩れネマティック型、電界効果複屈折
型、ゲストホスト型、高分子分散型、銅的散乱型などの
他の表示モードを用いてもよい。その場合、液晶配向膜
や配向処理、偏光板などが不要になることもある。
Liquid crystal alignment films 13 and 14 made of polyimide were formed on the two substrates formed as described above, and were subjected to an alignment treatment in a predetermined direction by a rubbing method, and the surfaces were treated with pure water. Further, spacers were sprayed on the substrates, and the periphery of the screen was sealed, and the two substrates were bonded. Thereafter, the liquid crystal 8 was injected into the gap between the substrates, the injection port was sealed, and baked to obtain a liquid crystal cell. By combining this liquid crystal cell with a polarizing plate, a liquid crystal driving driver, a driving circuit and a power supply, a twisted nematic liquid crystal device was obtained. Here, as the liquid crystal display mode, other display modes such as a super-twisted nematic type, a field-effect birefringence type, a guest-host type, a polymer dispersion type, and a copper-like scattering type may be used in addition to the twisted nematic type. In that case, a liquid crystal alignment film, alignment treatment, a polarizing plate, and the like may not be required.

【0047】得られた液晶装置においては、3色のカラ
ーフィルター9、10、11を形成する際に、島状パタ
ーンで2色が形成され、残りの1色はこれら島状パター
ンを取り囲むように形成されているので、十分な色純度
を得るためにカラーフィルター層の厚みを2μm程度に
しても、基板上の表示部における段差を著しく小さくす
ることができ、液晶の配向乱れが生じにくかった。この
ため、カラーフィルター形成側基板4上に遮光膜を形成
する必要がなく、製造工程の簡略化および低コスト化を
図ることができた。カラーフィルター9、10、11と
して、ネガ型フォトレジストに染料または顔料を分散さ
せたものを用いているので、信頼性を良好にすることが
できた。
In the obtained liquid crystal device, when forming the three color filters 9, 10, and 11, two colors are formed in an island pattern, and the remaining one color is formed so as to surround these island patterns. As a result, even if the thickness of the color filter layer was set to about 2 μm in order to obtain sufficient color purity, the step in the display portion on the substrate could be significantly reduced, and alignment disorder of the liquid crystal was hardly generated. For this reason, there is no need to form a light-shielding film on the color filter formation side substrate 4, and the manufacturing process can be simplified and the cost can be reduced. As the color filters 9, 10, and 11 were used, in which a dye or a pigment was dispersed in a negative photoresist, the reliability was improved.

【0048】(実施例2)本実施例2では、実施例1と
同様にしてTFT6および画素電極7を形成した基板5
上の遮光する必要がある領域、例えば画面領域における
画素電極以外の部分に、400nm以上700nm以下
の波長領域の光の透過率が20%以下、好ましくは10
%以下である遮光膜を形成した。このとき、両基板の位
置合わせマージンを考慮して遮光膜が画素電極を2〜3
μm程度覆うように形成してもよい。
(Embodiment 2) In this embodiment 2, a substrate 5 on which a TFT 6 and a pixel electrode 7 are formed in the same manner as in the embodiment 1
The transmittance of light in the wavelength region of 400 nm or more and 700 nm or less is 20% or less, preferably 10% or less, in a region other than the pixel electrode in the upper region where light needs to be shielded, for example, a screen region.
% Or less. At this time, in consideration of the alignment margin between the two substrates, the light-shielding film forms the pixel electrodes 2 to 3
It may be formed so as to cover about μm.

【0049】このような遮光膜の材料としては、金属、
金属酸化物、カーボン、染料または顔料を分散させた樹
脂などを用いることができるが、画素電極間のリークを
避けるためには遮光膜の導電率が10-3Ωcm以下であ
ることが必要である。よって、樹脂中に染料または顔料
を分散させたものを用いることが望ましい。このような
材料としては、例えばカラーモザイクCK2000(商
品名:富士ハントエレクトロニクステクノロジー(株)
製)などの市販品を用いることができる。この遮光膜の
形成は、カラーモザイクを用いたカラーフィルターの形
成と同様にフォトレジストを用いた方法により行うこと
ができ、さらに電着法、印刷法などのそれ以外の方法、
またはこれらを組み合わせた方法でも、十分なパターニ
ング精度が得られれば、いずれの方法で形成してもよ
い。
As a material of such a light shielding film, a metal,
A metal oxide, carbon, a resin in which a dye or a pigment is dispersed, or the like can be used, but the conductivity of the light-shielding film needs to be 10 −3 Ωcm or less in order to avoid leakage between pixel electrodes. . Therefore, it is desirable to use a resin in which a dye or pigment is dispersed. As such a material, for example, Color Mosaic CK2000 (trade name: Fuji Hunt Electronics Technology Co., Ltd.)
Commercially available products. The formation of this light-shielding film can be performed by a method using a photoresist in the same manner as the formation of a color filter using a color mosaic, and furthermore, other methods such as an electrodeposition method and a printing method,
Alternatively, any combination of these methods may be used as long as sufficient patterning accuracy is obtained.

【0050】この実施例では、実施例1と同様にしてT
FT6と画素電極7を形成した後、カラーモザイクCK
を用いて遮光膜を形成して一方の基板とした。この基板
を、実施例1と同様にしてカラーフィルターを形成した
他方の基板と組み合わせて、実施例1と同様な方法で液
晶装置を作製した。この実施例では、カラーフィルター
9、10、11と遮光膜の開口部(点線で示した部分)
は図3に示すようなパターンで配置される。
In this embodiment, as in the first embodiment, T
After forming the FT 6 and the pixel electrode 7, the color mosaic CK
Was used to form a light-shielding film to form one substrate. This substrate was combined with the other substrate on which a color filter was formed in the same manner as in Example 1, and a liquid crystal device was manufactured in the same manner as in Example 1. In this embodiment, the color filters 9, 10, 11 and the openings of the light-shielding film (portions indicated by dotted lines)
Are arranged in a pattern as shown in FIG.

【0051】本実施例2では、TFT形成側基板上の画
素以外の部分に、遮光膜が形成されているので、両基板
の位置合わせの際に遮光膜が画素電極を覆う部分を2〜
3μm程度と小さくして遮光膜の開口部を大きくしても
問題無く、大幅に開口率の向上を図ることができた。こ
の遮光膜としては、染料または顔料を分散させた樹脂を
用いているので、遮光膜の導電率を10-3Ωcm以下に
することができ、画素電極間のリークを防ぐことができ
た。
In the second embodiment, since a light-shielding film is formed on a portion other than the pixel on the TFT forming side substrate, a portion where the light-shielding film covers the pixel electrode is required to be two to two when aligning the two substrates.
There was no problem even if the aperture of the light-shielding film was increased to about 3 μm, and the aperture ratio could be greatly improved. Since a resin in which a dye or a pigment was dispersed was used as the light-shielding film, the conductivity of the light-shielding film could be made 10 −3 Ωcm or less, and leakage between pixel electrodes could be prevented.

【0052】島状のカラーフィルターを取り囲むように
形成されたカラーフィルター11が50%以上透過させ
る特定の波長領域(青)は、島状のカラーフィルター
9、10が50%以上透過させる波長領域(赤、緑)に
比べて視感度の低いので、遮光膜にピンホールが生じて
も光漏れが生じにくく、表示コントラストの低下を防ぐ
ことができた。この場合にも、カラーフィルター形成側
基板4上に遮光膜を形成する必要が無いので、製造プロ
セスの簡略化およびが低コスト化を図ることができた。
The specific wavelength region (blue) where the color filter 11 formed so as to surround the island-shaped color filter transmits 50% or more (blue) is the wavelength region where the island-shaped color filters 9 and 10 transmit 50% or more (blue). (Red, green) as compared with (red, green), light leakage hardly occurs even if a pinhole is formed in the light shielding film, and a decrease in display contrast was prevented. Also in this case, since it is not necessary to form a light-shielding film on the color filter forming side substrate 4, the manufacturing process can be simplified and the cost can be reduced.

【0053】(実施例3)本実施例3では、カラーフィ
ルター材料としてネガ型フォトレジストに染料または顔
料を分散させたものを用い、島状カラーフィルター9、
10としてフォトレジストが感応する波長(例えば43
0nm以下の波長領域)に対して十分な遮光性(例えば
光透過率が20%以下)を有するものを形成した。
Example 3 In Example 3, a color filter material in which a dye or pigment was dispersed in a negative photoresist was used.
10 is the wavelength to which the photoresist is sensitive (for example, 43
A material having a sufficient light-shielding property (for example, a light transmittance of 20% or less) with respect to a wavelength region of 0 nm or less was formed.

【0054】このような島状カラーフィルター材料とし
ては、例えば紫外線吸収剤を混入させたものを用いるこ
とができる。この紫外線吸収剤を混入させたカラーフィ
ルター材料を用いて基板4上に島状カラーフィルター
9、10を形成し、その上に島状パターンを取り囲むよ
うにして形成するカラーフィルター11の材料を塗布し
て基板の裏面(カラーフィルター形成側と反対側面)か
ら露光・現像する。このとき、島状カラーフィルター
9、10の上部分は露光されないので除去され、セルフ
アライメントによって実施例1と同様なカラーフィルタ
ー層を形成することができる。
As such an island-shaped color filter material, for example, a material mixed with an ultraviolet absorbent can be used. Island color filters 9 and 10 are formed on the substrate 4 using the color filter material mixed with the ultraviolet absorber, and the material of the color filter 11 formed so as to surround the island pattern is applied thereon. Exposure and development are performed from the back surface of the substrate (the side opposite to the color filter forming side). At this time, the upper portions of the island-shaped color filters 9 and 10 are removed because they are not exposed, and a color filter layer similar to that of the first embodiment can be formed by self-alignment.

【0055】ここでは、カラーモザイクCRおよびCG
(製品名:富士ハントエレクトロニクステクノロジー
(株)製)に紫外線吸収剤として酸化亜鉛を40重量%
混入したものを実施例1と同様にして島状にパターニン
グし、その上にカラーモザイクCB(製品名:富士ハン
トエレクトロニクステクノロジー(株)製)を塗布して
基板の裏面から露光した後、現像・焼成することにより
実施例1と同様なカラーフィルター層を高スループット
かつ安価に形成することができた。
Here, the color mosaic CR and CG
(Product name: Fuji Hunt Electronics Technology Co., Ltd.) 40% by weight of zinc oxide as an ultraviolet absorber
The mixed material was patterned into an island shape in the same manner as in Example 1, and a color mosaic CB (product name: manufactured by Fuji Hunt Electronics Technology Co., Ltd.) was applied thereon and exposed from the back surface of the substrate. By firing, the same color filter layer as in Example 1 could be formed at high throughput and at low cost.

【0056】このとき、島状パターンを取り囲むように
形成するカラーフィルター11の材料に紫外線吸収剤を
含有させておくと、遮光膜を形成しなくてもTFT6に
光が照射されることを防ぐことができ、特性変化が生じ
なかった。
At this time, if the material of the color filter 11 formed so as to surround the island pattern contains an ultraviolet absorber, it is possible to prevent the TFT 6 from being irradiated with light without forming a light shielding film. And no characteristic change occurred.

【0057】[0057]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、基板上の
表示部における段差を著しく小さくして、液晶の配向状
態が良好な表示品位に優れた液晶装置を得ることができ
る。カラーフィルター形成側基板に遮光膜を設ける必要
が無いので、製造プロセスの簡略化およびが低コスト化
を図ることができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to obtain a liquid crystal device in which the step in the display portion on the substrate is extremely reduced and the liquid crystal alignment state is excellent and the display quality is excellent. Since it is not necessary to provide a light-shielding film on the color filter formation side substrate, the manufacturing process can be simplified and the cost can be reduced.

【0058】また、カラーフィルター形成側基板と対向
する基板上に遮光膜を設けた場合、その遮光膜にピンホ
ールが生じても光漏れが生じにくいため、表示コントラ
ストの低下を防ぐことができる。カラーフィルター形成
側と対向する基板上に非線形素子を形成した場合には、
非線形素子形成側基板に遮光膜を形成して大幅な開口率
の向上を図ることができる。この遮光膜として導電性の
小さい材料を用いると画素電極間のリークを防ぐことが
できる。
When a light-shielding film is provided on a substrate facing the color filter-forming side substrate, light leakage hardly occurs even if a pinhole is formed in the light-shielding film, so that a reduction in display contrast can be prevented. When a nonlinear element is formed on the substrate facing the color filter formation side,
By forming a light-shielding film on the non-linear element forming side substrate, the aperture ratio can be greatly improved. If a material having low conductivity is used as the light-shielding film, leakage between pixel electrodes can be prevented.

【0059】さらに、カラーフィルターとして、ネガ型
フォトレジストに染料または顔料を分散させたものを用
いると信頼性を良好にすることができる。また、カラー
フィルターのうち、少なくとも島状に形成されるカラー
フィルターとしてフォトレジストが感応する波長に対し
て十分な遮光性を有するものを用いると、セルフアライ
メントにより島状パターンを取り囲むカラーフィルター
を形成することができ、高スループットかつ安価にカラ
ーフィルター層を得ることができる。さらに、島状パタ
ーンを取り囲むように形成するカラーフィルターの材料
に紫外線吸収剤を含有させておくと、遮光膜を形成しな
くても、非線形素子に光が照射されることによる特性変
化を防ぐことができる。
Further, when a color filter in which a dye or a pigment is dispersed in a negative photoresist is used, the reliability can be improved. In addition, when a color filter having at least a light-shielding property with respect to a wavelength sensitive to a photoresist is used as a color filter formed in an island shape, a color filter surrounding the island pattern is formed by self-alignment. Thus, a color filter layer can be obtained at high throughput and at low cost. Furthermore, if the material of the color filter formed so as to surround the island-shaped pattern contains an ultraviolet absorber, it is possible to prevent a characteristic change due to light irradiation on the nonlinear element without forming a light shielding film. Can be.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例1における液晶装置の要部を示
す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a main part of a liquid crystal device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例1の液晶装置におけるカラーフ
ィルターを示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view illustrating a color filter in the liquid crystal device according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例2の液晶装置におけるカラーフ
ィルターを示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view illustrating a color filter in a liquid crystal device according to a second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

4、5 基板 6 TFT 7 画素電極 8 液晶 9、10、11 カラーフィルター 12 対向電極 13、14 液晶配向膜 15 スペーサー 4, 5 Substrate 6 TFT 7 Pixel electrode 8 Liquid crystal 9, 10, 11 Color filter 12 Counter electrode 13, 14 Liquid crystal alignment film 15 Spacer

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】(1) 電極がそれぞれ形成された一対の基板間Between a pair of substrates on which electrodes are respectively formed
に液晶層が狭持され、複数の画素が形成された液晶装置Liquid crystal device in which a plurality of pixels are formed with a liquid crystal layer sandwiched between
において、At 少なくとも一方の基板上に、該複数の画素のうちの一部A part of the plurality of pixels on at least one substrate;
に対応するように、可視光線のうち、特定の波長領域のCorresponding to the specific wavelength range of visible light
光が50%以上透過する一種類以上のカラーフィルターOne or more color filters that transmit 50% or more of light
を島状に設け、該島状のカラーフィルター形成部以外のAre provided in the shape of an island, and the portions other than the island-shaped color filter forming portion
基板上部分に、可視光線のうち、該特定の波長領域とはIn the portion on the substrate, of the visible light, the specific wavelength region is
異なる特定の波長領域の光が50%以上透過するカラーColor that transmits 50% or more of light of different specific wavelength range
フィルターを該島状のカラーフィルターを取り囲むようFilter so as to surround the island-shaped color filter
に設け、前記島状のカラーフィルターを取り囲むようにProvided so as to surround the island-shaped color filter.
形成されたカラーフィルターが50%以上透過させる特Features that the formed color filter transmits more than 50%
定の波長領域は、該島状のカラーフィルターが50%以In the constant wavelength region, the island-shaped color filter is 50% or less.
上透過させる波長領域に比べて視感度の低いものであるIt has low visibility compared to the wavelength range of transmission
液晶装置。Liquid crystal devices.
【請求項2】(2) 電極がそれぞれ形成された一対の基板間Between a pair of substrates on which electrodes are respectively formed
に液晶層が狭持され、複数の画素が形成された液晶装置Liquid crystal device in which a plurality of pixels are formed with a liquid crystal layer sandwiched between
において、At 少なくとも一方の基板上に、該複数の画素のうちの一部A part of the plurality of pixels on at least one substrate;
に対応するように、可視光線のうち、特定の波長領域のCorresponding to the specific wavelength range of visible light
光が50%以上透過する一種類以上のカラーフィルターOne or more color filters that transmit 50% or more of light
を島状に設け、該島状のカラーフィルター形成部以外のAre provided in the shape of an island, and the portions other than the island-shaped color filter forming portion
基板上部分に、可視光線のうち、該特定の波長領域とはIn the portion on the substrate, of the visible light, the specific wavelength region is
異なる特定の波長領域の光が50%以上透過するカラーColor that transmits 50% or more of light of different specific wavelength range
フィルターを該島状のカラーフィルターを取り囲むようFilter so as to surround the island-shaped color filter
に設け、前記カラーフィルターのうち、少なくとも島状And at least an island-like color filter is provided.
に形成されるカラーフィルターは、430nm以下の波The color filter formed on the
長領域の光透過率が20%以下である液晶装置。A liquid crystal device having a long-range light transmittance of 20% or less.
【請求項3】(3) 電極がそれぞれ形成された一対の基板間Between a pair of substrates on which electrodes are respectively formed
に液晶層が狭持されて複数の画素が形成され、少なくとThe liquid crystal layer is interposed to form a plurality of pixels, at least
も一方の基板上に、該複数の画素のうちの一部に対応すAlso correspond to a part of the plurality of pixels on one substrate.
るように、可視光線のうち、特定の波長領域の光を50As described above, light of a specific wavelength
%以上透過するカラーフィルターの一種類以上が島状にMore than one type of color filter that transmits at least
形成され、該島状のカラーフィルター形成部以外の基板Substrate formed other than the island-shaped color filter forming portion
上部分に、可視光線のうち、該特定の波長領域とは異なIn the upper part, visible light that is different from the specific wavelength
る特定の波長領域の光を50%以上透過するカラーフィColor filter that transmits 50% or more of light in a specific wavelength region
ルターが該島状のカラーフィルターを取り囲むように形Luther surrounds the island-shaped color filter.
成されている液晶装置の製造方法であって、A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising: 少なくとも一方の基板上に島状のカラーフィルターを形Form an island-shaped color filter on at least one substrate
成する工程と、The process of 該島状のカラーフィルターが形成された基板上に、該島On the substrate on which the island-shaped color filters are formed,
状のカラーフィルターColor filter を取り囲むように形成するカラーColor to surround the
フィルターの材料を塗布し、基板のカラーフィルター形Apply the filter material and use the color filter
成面と反対側の面から光を照射することによりカラーフBy irradiating light from the surface opposite to the
ィルターのパターニングを行う工程とを含む液晶装置のPatterning the filter.
製造方法。Production method.
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