JPH10325922A - 投影光学系 - Google Patents
投影光学系Info
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- JPH10325922A JPH10325922A JP9152857A JP15285797A JPH10325922A JP H10325922 A JPH10325922 A JP H10325922A JP 9152857 A JP9152857 A JP 9152857A JP 15285797 A JP15285797 A JP 15285797A JP H10325922 A JPH10325922 A JP H10325922A
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- JP
- Japan
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- lens
- lens group
- positive
- negative
- lenses
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Landscapes
- Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】高い解像力と広い露光領域を有し、しかも使用
レンズ枚数が十分に少ない投影光学系を提供する。 【解決手段】第１面Ｒの像を第２面Ｗに投影する固定焦
点の投影光学系において、第１面Ｒ側から第２面Ｗ側に
向けて順に、２枚以上の正レンズを含む正屈折力の第１
レンズ群Ｇ1と、２枚以上の負レンズを含む負屈折力の
第２レンズ群Ｇ2と、３枚以上の正レンズを含む正屈折
力の第３レンズ群Ｇ3と、２枚以上の負レンズを含む負
屈折力の第４レンズ群Ｇ4と、連続した少なくとも５枚
以上の正レンズを含む正屈折力の第５レンズ群Ｇ5とで
構成され、第１レンズ群と第２レンズ群とのいずれか一
方に１面の非球面＊を含み、第４レンズ群と第５レンズ
群とのいずれか一方に１面の非球面＊を含み、且つ、Σ
iＤi：レンズの中心厚の総和、Ｌ：第１面Ｒから第２面
Ｗまでの距離、としたとき、０．４＜ΣiＤi／Ｌ＜０．
６、その他の条件を満たすことを特徴とする。
レンズ枚数が十分に少ない投影光学系を提供する。 【解決手段】第１面Ｒの像を第２面Ｗに投影する固定焦
点の投影光学系において、第１面Ｒ側から第２面Ｗ側に
向けて順に、２枚以上の正レンズを含む正屈折力の第１
レンズ群Ｇ1と、２枚以上の負レンズを含む負屈折力の
第２レンズ群Ｇ2と、３枚以上の正レンズを含む正屈折
力の第３レンズ群Ｇ3と、２枚以上の負レンズを含む負
屈折力の第４レンズ群Ｇ4と、連続した少なくとも５枚
以上の正レンズを含む正屈折力の第５レンズ群Ｇ5とで
構成され、第１レンズ群と第２レンズ群とのいずれか一
方に１面の非球面＊を含み、第４レンズ群と第５レンズ
群とのいずれか一方に１面の非球面＊を含み、且つ、Σ
iＤi：レンズの中心厚の総和、Ｌ：第１面Ｒから第２面
Ｗまでの距離、としたとき、０．４＜ΣiＤi／Ｌ＜０．
６、その他の条件を満たすことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レチクルやマスク
などの投影原版上に描かれた電子回路パターンなどのパ
ターンを、投影ホトリソグラフィーにより、感光剤を塗
布した半導体ウエハやガラスプレートなどの感光基板上
に転写する際に用いられる、投影光学系に関するもので
ある。
などの投影原版上に描かれた電子回路パターンなどのパ
ターンを、投影ホトリソグラフィーにより、感光剤を塗
布した半導体ウエハやガラスプレートなどの感光基板上
に転写する際に用いられる、投影光学系に関するもので
ある。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】近年、ＩＣやＬＳＩ等
の集積回路や液晶等のフラットディスプレー等に、必要
なパターンを転写する際、投影露光法による方法がかな
り一般的に行なわれている。特に半導体の集積回路の製
造や、半導体チップの実装基板の製造では、そのパター
ンはますます微細化してきており、また液晶用フラット
ディスプレー等には、より投影面積の広いものが要求さ
れてきている。このため、これらのパターンを焼き付け
る露光装置、特に投影光学系には、より解像力の高いも
の、より露光面積の広いものが要求されてきている。
の集積回路や液晶等のフラットディスプレー等に、必要
なパターンを転写する際、投影露光法による方法がかな
り一般的に行なわれている。特に半導体の集積回路の製
造や、半導体チップの実装基板の製造では、そのパター
ンはますます微細化してきており、また液晶用フラット
ディスプレー等には、より投影面積の広いものが要求さ
れてきている。このため、これらのパターンを焼き付け
る露光装置、特に投影光学系には、より解像力の高いも
の、より露光面積の広いものが要求されてきている。
【０００３】しかし、従来これらの露光に用いられる投
影光学系には、高い解像力と広い露光領域を必要とする
ため、使用レンズ枚数が増加し、例えば全体のレンズ枚
数が２９枚程度となり、全体のレンズ体積も増加する一
方であった。これは投影レンズの製造に際し、大幅なコ
スト上昇をもたらし、投影露光装置の高価格化を招く要
因となっていた。そこで、本発明は、高い解像力と広い
露光領域を有し、しかも使用レンズ枚数が十分に少ない
投影光学系を提供することを課題とする。
影光学系には、高い解像力と広い露光領域を必要とする
ため、使用レンズ枚数が増加し、例えば全体のレンズ枚
数が２９枚程度となり、全体のレンズ体積も増加する一
方であった。これは投影レンズの製造に際し、大幅なコ
スト上昇をもたらし、投影露光装置の高価格化を招く要
因となっていた。そこで、本発明は、高い解像力と広い
露光領域を有し、しかも使用レンズ枚数が十分に少ない
投影光学系を提供することを課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、レンズ
の枚数を減らし、レンズの径を縮小し、使用レンズの体
積を減らすために、非球面レンズ面を採用することによ
り、上記課題を解決したものである。すなわち本発明
は、第１面の像を第２面に投影する固定焦点の投影光学
系において、第１面側から第２面側に向けて順に、２枚
以上の正レンズを含む正屈折力の第１レンズ群と、２枚
以上の負レンズを含む負屈折力の第２レンズ群と、３枚
以上の正レンズを含む正屈折力の第３レンズ群と、２枚
以上の負レンズを含む負屈折力の第４レンズ群と、連続
した少なくとも５枚以上の正レンズを含む正屈折力の第
５レンズ群とで構成され、第１レンズ群と第２レンズ群
とのいずれか一方に１面の非球面を含み、第４レンズ群
と第５レンズ群とのいずれか一方に１面の非球面を含
み、且つ、以下の条件を満たすことを特徴とする投影光
学系である。 ０．４＜ΣiＤi／Ｌ＜０．６ （１） ０．０５＜ｆ2／ｆ4＜６ （２） ０．０１＜ｆ5／Ｌ＜１．２ （３） −０．８＜ｆ4／Ｌ＜−０．００８ （４） −０．５＜ｆ2／Ｌ＜−０．００５ （５） 但し、ΣiＤi：レンズの中心厚の総和 Ｌ：第１面から第２面までの距離 ｆ2：第２レンズ群の焦点距離 ｆ4：第４レンズ群の焦点距離 ｆ5：第５レンズ群の焦点距離 である。
の枚数を減らし、レンズの径を縮小し、使用レンズの体
積を減らすために、非球面レンズ面を採用することによ
り、上記課題を解決したものである。すなわち本発明
は、第１面の像を第２面に投影する固定焦点の投影光学
系において、第１面側から第２面側に向けて順に、２枚
以上の正レンズを含む正屈折力の第１レンズ群と、２枚
以上の負レンズを含む負屈折力の第２レンズ群と、３枚
以上の正レンズを含む正屈折力の第３レンズ群と、２枚
以上の負レンズを含む負屈折力の第４レンズ群と、連続
した少なくとも５枚以上の正レンズを含む正屈折力の第
５レンズ群とで構成され、第１レンズ群と第２レンズ群
とのいずれか一方に１面の非球面を含み、第４レンズ群
と第５レンズ群とのいずれか一方に１面の非球面を含
み、且つ、以下の条件を満たすことを特徴とする投影光
学系である。 ０．４＜ΣiＤi／Ｌ＜０．６ （１） ０．０５＜ｆ2／ｆ4＜６ （２） ０．０１＜ｆ5／Ｌ＜１．２ （３） −０．８＜ｆ4／Ｌ＜−０．００８ （４） −０．５＜ｆ2／Ｌ＜−０．００５ （５） 但し、ΣiＤi：レンズの中心厚の総和 Ｌ：第１面から第２面までの距離 ｆ2：第２レンズ群の焦点距離 ｆ4：第４レンズ群の焦点距離 ｆ5：第５レンズ群の焦点距離 である。
【０００５】このように本発明では非球面のレンズ面を
採用しているが、非球面を採用する場合、非球面の製造
コストは球面のレンズ面よりも高価であるから、非球面
１面あたりのレンズ体積削減率が問題となる。削減率が
わずかなのに、多くの非球面を使う訳には行かない。よ
って、本発明では、この削減率に注目し、一番非球面の
効果の高い部分に、なるべく少ない枚数の非球面を採用
している。
採用しているが、非球面を採用する場合、非球面の製造
コストは球面のレンズ面よりも高価であるから、非球面
１面あたりのレンズ体積削減率が問題となる。削減率が
わずかなのに、多くの非球面を使う訳には行かない。よ
って、本発明では、この削減率に注目し、一番非球面の
効果の高い部分に、なるべく少ない枚数の非球面を採用
している。
【０００６】そもそも、収差論によれば、光学系の収差
には、ザイデルの５収差といわれる５種類の収差が存在
することが分かっている。先ず、光学系の明るさに関係
した収差としては、球面収差、コマ収差が挙げられる。
このうちコマ収差は光学系の画角にも関係してくる収差
のため、非球面による補正の効果が複雑となる。そこで
本発明では、主として球面収差を補正する目的で、その
補正に一番非球面の効果の高い部分として、光束径が広
がった第５レンズ群、又は第４レンズ群の光学系の開口
絞り付近に非球面を適用している。
には、ザイデルの５収差といわれる５種類の収差が存在
することが分かっている。先ず、光学系の明るさに関係
した収差としては、球面収差、コマ収差が挙げられる。
このうちコマ収差は光学系の画角にも関係してくる収差
のため、非球面による補正の効果が複雑となる。そこで
本発明では、主として球面収差を補正する目的で、その
補正に一番非球面の効果の高い部分として、光束径が広
がった第５レンズ群、又は第４レンズ群の光学系の開口
絞り付近に非球面を適用している。
【０００７】さらに、光学系の画角に関する収差として
は、歪曲収差、非点収差、コマ収差が挙げられる。この
うち非点収差とコマ収差は、レンズの明るさにも関係す
る収差であるため、非球面による補正の効果が複雑にな
る。そこで本発明では、主として歪曲収差を優先して補
正する目的で、その補正に一番非球面の効果の高い部分
として、光学系の物体面に近い第２レンズ群、又は第１
レンズ群に非球面を適用している。また第５レンズ群
は、連続した少なくとも５枚以上の正レンズを有する
が、このように負レンズを介在させることなく正レンズ
を連続させることにより、光束径が過度に広がることを
防止し、レンズ体積の削減を図っている。
は、歪曲収差、非点収差、コマ収差が挙げられる。この
うち非点収差とコマ収差は、レンズの明るさにも関係す
る収差であるため、非球面による補正の効果が複雑にな
る。そこで本発明では、主として歪曲収差を優先して補
正する目的で、その補正に一番非球面の効果の高い部分
として、光学系の物体面に近い第２レンズ群、又は第１
レンズ群に非球面を適用している。また第５レンズ群
は、連続した少なくとも５枚以上の正レンズを有する
が、このように負レンズを介在させることなく正レンズ
を連続させることにより、光束径が過度に広がることを
防止し、レンズ体積の削減を図っている。
【０００８】次に各条件について説明すると、先ず条件
（１）は、第１面（レチクル面）から第２面（ウエハ
面）までの光路長に占めるレンズの割合の適切な範囲を
規定したものである。条件（１）の下限を越えると、第
１面から第２面までの距離Ｌが過度に長くなり、全系の
大型化を招いて好ましくない。逆に条件（１）の上限を
越えると、レンズの割合が過度に多くなり、使用レンズ
の体積が増大するから、高価格化を招いて好ましくな
い。
（１）は、第１面（レチクル面）から第２面（ウエハ
面）までの光路長に占めるレンズの割合の適切な範囲を
規定したものである。条件（１）の下限を越えると、第
１面から第２面までの距離Ｌが過度に長くなり、全系の
大型化を招いて好ましくない。逆に条件（１）の上限を
越えると、レンズの割合が過度に多くなり、使用レンズ
の体積が増大するから、高価格化を招いて好ましくな
い。
【０００９】条件（２）は、負屈折力の第４レンズ群と
負屈折力の第２レンズ群との屈折力比の適切な範囲を規
定したものであり、主にペッツバール和を０に近づける
ことにより、広い露光領域を確保しつつ像面湾曲を良好
に補正するためのものである。条件（２）の下限を越え
ると、第４レンズ群の屈折力が第２レンズ群の屈折力に
対して相対的に弱くなるため、正のペッツバール和が大
きく発生して好ましくない。逆に条件（２）の上限を越
えると、第２レンズ群の屈折力が第４レンズ群の屈折力
に対して相対的に弱くなるため、正のペッツバール和が
大きく発生して好ましくない。
負屈折力の第２レンズ群との屈折力比の適切な範囲を規
定したものであり、主にペッツバール和を０に近づける
ことにより、広い露光領域を確保しつつ像面湾曲を良好
に補正するためのものである。条件（２）の下限を越え
ると、第４レンズ群の屈折力が第２レンズ群の屈折力に
対して相対的に弱くなるため、正のペッツバール和が大
きく発生して好ましくない。逆に条件（２）の上限を越
えると、第２レンズ群の屈折力が第４レンズ群の屈折力
に対して相対的に弱くなるため、正のペッツバール和が
大きく発生して好ましくない。
【００１０】条件（３）は、正屈折力の第５レンズ群の
屈折力の適切な範囲を規定したものであり、大きな開口
数を保ちながら、球面収差、歪曲収差及びペッツバール
和をバランス良く補正するためのものである。条件
（３）の下限を越えると、第５レンズ群の屈折力が大き
くなりすぎ、第５レンズ群にて負の歪曲収差のみならず
負の球面収差が甚大に発生するようになり、好ましくな
い。逆に条件（３）の上限を越えると、第５レンズ群の
屈折力が弱くなりすぎ、これに伴って負の屈折力の第４
レンズ群の屈折力も必然的に弱くなり、この結果、ペッ
ツバール和を良好に補正することができない。
屈折力の適切な範囲を規定したものであり、大きな開口
数を保ちながら、球面収差、歪曲収差及びペッツバール
和をバランス良く補正するためのものである。条件
（３）の下限を越えると、第５レンズ群の屈折力が大き
くなりすぎ、第５レンズ群にて負の歪曲収差のみならず
負の球面収差が甚大に発生するようになり、好ましくな
い。逆に条件（３）の上限を越えると、第５レンズ群の
屈折力が弱くなりすぎ、これに伴って負の屈折力の第４
レンズ群の屈折力も必然的に弱くなり、この結果、ペッ
ツバール和を良好に補正することができない。
【００１１】条件（４）は、負屈折力の第４レンズ群の
屈折力の適切な範囲を規定したものである。条件（４）
の下限を越えると、球面収差の補正が困難となるため好
ましくない。逆に条件（４）の上限を越えると、コマ収
差が発生するため好ましくない。なお、球面収差及びペ
ッツバール和を良好に補正するためには、条件（４）の
下限値を−０．０７８とすることが好ましく、更にコマ
収差の発生を抑えるためには、条件（４）の上限値を−
０．０４７とすることが好ましい。
屈折力の適切な範囲を規定したものである。条件（４）
の下限を越えると、球面収差の補正が困難となるため好
ましくない。逆に条件（４）の上限を越えると、コマ収
差が発生するため好ましくない。なお、球面収差及びペ
ッツバール和を良好に補正するためには、条件（４）の
下限値を−０．０７８とすることが好ましく、更にコマ
収差の発生を抑えるためには、条件（４）の上限値を−
０．０４７とすることが好ましい。
【００１２】条件（５）は、負屈折力の第２レンズ群の
屈折力の適切な範囲を規定したものである。条件（５）
の下限を越えると、ペッツバール和が正の大きな値にな
るため好ましくない。逆に条件（５）の上限を越える
と、負の歪曲収差が発生するため好ましくない。なお、
ペッツバール和を更に良好に補正するためには、条件
（５）の下限値を−０．１６とすることが好ましく、負
の歪曲収差とコマ収差を更に良好に補正するためには、
条件（５）の上限値を−０．０７１とすることが好まし
い。
屈折力の適切な範囲を規定したものである。条件（５）
の下限を越えると、ペッツバール和が正の大きな値にな
るため好ましくない。逆に条件（５）の上限を越える
と、負の歪曲収差が発生するため好ましくない。なお、
ペッツバール和を更に良好に補正するためには、条件
（５）の下限値を−０．１６とすることが好ましく、負
の歪曲収差とコマ収差を更に良好に補正するためには、
条件（５）の上限値を−０．０７１とすることが好まし
い。
【００１３】次に、本発明においては、第５レンズ群中
に少なくとも１枚の負レンズを配置することが好まし
く、この構成により、歪曲収差を良好に補正することが
できる。また、負屈折力の第４レンズ群中に、互いに向
き合った凹面のレンズ面を少なくとも２組配置すること
が好ましい。この構成により、光線を緩やかに曲げるこ
とができるから、特に球面収差の発生を抑制することが
できる。同様に、負屈折力の第２レンズ群中に、互いに
向き合った凹面のレンズ面を少なくとも２組配置するこ
とが好ましい。この構成により、光線を緩やかに曲げる
ことができるから、特に軸外の収差の発生を抑制するこ
とができる。同様に、正屈折力の第５レンズ群中に、互
いに向き合った凸面のレンズ面を少なくとも１組配置す
ることが好ましい。この構成により、光線を緩やかに曲
げることができるから、特に球面収差の発生を抑制する
ことができる。同様に、正屈折力の第３レンズ群中に、
互いに向き合った凸面のレンズ面を少なくとも１組配置
することが好ましい。この構成により、光線を緩やかに
曲げることができるから、特に軸外の収差の発生を抑制
することができる。また開口絞りは、第５レンズ群内に
配置することが好ましい。
に少なくとも１枚の負レンズを配置することが好まし
く、この構成により、歪曲収差を良好に補正することが
できる。また、負屈折力の第４レンズ群中に、互いに向
き合った凹面のレンズ面を少なくとも２組配置すること
が好ましい。この構成により、光線を緩やかに曲げるこ
とができるから、特に球面収差の発生を抑制することが
できる。同様に、負屈折力の第２レンズ群中に、互いに
向き合った凹面のレンズ面を少なくとも２組配置するこ
とが好ましい。この構成により、光線を緩やかに曲げる
ことができるから、特に軸外の収差の発生を抑制するこ
とができる。同様に、正屈折力の第５レンズ群中に、互
いに向き合った凸面のレンズ面を少なくとも１組配置す
ることが好ましい。この構成により、光線を緩やかに曲
げることができるから、特に球面収差の発生を抑制する
ことができる。同様に、正屈折力の第３レンズ群中に、
互いに向き合った凸面のレンズ面を少なくとも１組配置
することが好ましい。この構成により、光線を緩やかに
曲げることができるから、特に軸外の収差の発生を抑制
することができる。また開口絞りは、第５レンズ群内に
配置することが好ましい。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面によっ
て説明する。図１と図４は、それぞれ本発明による投影
光学系の第１実施例と第２実施例を示す。両各実施例の
投影光学系とも、レチクルＲ上のパターンを縮小倍率に
てウエハＷ上に投影露光するものであり、レチクルＲ側
からウエハＷ側に向けて順に、正屈折力の第１レンズ群
Ｇ1と、負屈折力の第２レンズ群Ｇ2と、正屈折力の第３
レンズ群Ｇ3と、負屈折力の第４レンズ群Ｇ4と、正屈折
力の第５レンズ群Ｇ5とで構成されている。また、図中
＊印は非球面レンズ面を表す。
て説明する。図１と図４は、それぞれ本発明による投影
光学系の第１実施例と第２実施例を示す。両各実施例の
投影光学系とも、レチクルＲ上のパターンを縮小倍率に
てウエハＷ上に投影露光するものであり、レチクルＲ側
からウエハＷ側に向けて順に、正屈折力の第１レンズ群
Ｇ1と、負屈折力の第２レンズ群Ｇ2と、正屈折力の第３
レンズ群Ｇ3と、負屈折力の第４レンズ群Ｇ4と、正屈折
力の第５レンズ群Ｇ5とで構成されている。また、図中
＊印は非球面レンズ面を表す。
【００１５】先ず第１実施例の第１レンズ群Ｇ1は、３
枚の正レンズＬ1〜Ｌ3からなる。第２レンズ群Ｇ2は、
４枚の負レンズＬ4〜Ｌ7からなり、負レンズＬ4のウエ
ハＷ側レンズ面は非球面であり、負レンズＬ5と負レン
ズＬ6の向かい合うレンズ面は共に凹面であり、負レン
ズＬ6と負レンズＬ7の向かい合うレンズ面も共に凹面で
ある。第３レンズ群Ｇ3は、５枚の正レンズＬ8〜Ｌ12か
らなり、正レンズＬ8と正レンズＬ9、正レンズＬ9と正
レンズＬ10、正レンズＬ10と正レンズＬ11、正レンズＬ
11と正レンズＬ12の向かい合うレンズ面は、いずれも凸
面である。第４レンズ群Ｇ4は、３枚の負レンズＬ13〜
Ｌ15からなり、負レンズＬ13と負レンズＬ14の向かい合
うレンズ面は共に凹面であり、負レンズＬ14と負レンズ
Ｌ15の向かい合うレンズ面も共に凹面である。第５レン
ズ群Ｇ5は、連続した７枚の正レンズＬ16〜Ｌ22と、負
レンズＬ23と、正レンズＬ24からなり、正レンズＬ20の
ウエハＷ側レンズ面は非球面であり、正レンズＬ16と正
レンズＬ17、正レンズＬ18と正レンズＬ19の向かい合う
レンズ面は共に凸面である。また開口絞りＡＳは、第５
レンズ群Ｇ5内の正レンズＬ17と正レンズＬ18の間に配
置されている。
枚の正レンズＬ1〜Ｌ3からなる。第２レンズ群Ｇ2は、
４枚の負レンズＬ4〜Ｌ7からなり、負レンズＬ4のウエ
ハＷ側レンズ面は非球面であり、負レンズＬ5と負レン
ズＬ6の向かい合うレンズ面は共に凹面であり、負レン
ズＬ6と負レンズＬ7の向かい合うレンズ面も共に凹面で
ある。第３レンズ群Ｇ3は、５枚の正レンズＬ8〜Ｌ12か
らなり、正レンズＬ8と正レンズＬ9、正レンズＬ9と正
レンズＬ10、正レンズＬ10と正レンズＬ11、正レンズＬ
11と正レンズＬ12の向かい合うレンズ面は、いずれも凸
面である。第４レンズ群Ｇ4は、３枚の負レンズＬ13〜
Ｌ15からなり、負レンズＬ13と負レンズＬ14の向かい合
うレンズ面は共に凹面であり、負レンズＬ14と負レンズ
Ｌ15の向かい合うレンズ面も共に凹面である。第５レン
ズ群Ｇ5は、連続した７枚の正レンズＬ16〜Ｌ22と、負
レンズＬ23と、正レンズＬ24からなり、正レンズＬ20の
ウエハＷ側レンズ面は非球面であり、正レンズＬ16と正
レンズＬ17、正レンズＬ18と正レンズＬ19の向かい合う
レンズ面は共に凸面である。また開口絞りＡＳは、第５
レンズ群Ｇ5内の正レンズＬ17と正レンズＬ18の間に配
置されている。
【００１６】第２実施例の第１レンズ群Ｇ1は、３枚の
正レンズＬ1〜Ｌ3からなり、正レンズＬ1のレチクルＲ
側レンズ面は非球面である。第２レンズ群Ｇ2は、４枚
の負レンズＬ4〜Ｌ7からなり、負レンズＬ5と負レンズ
Ｌ6の向かい合うレンズ面は共に凹面であり、負レンズ
Ｌ6と負レンズＬ7の向かい合うレンズ面も共に凹面であ
る。第３レンズ群Ｇ3は、５枚の正レンズＬ8〜Ｌ12から
なり、正レンズＬ9と正レンズＬ10、正レンズＬ10と正
レンズＬ11、正レンズＬ11と正レンズＬ12の向かい合う
レンズ面は、いずれも凸面である。第４レンズ群Ｇ
4は、３枚の負レンズＬ13〜Ｌ15からなり、負レンズＬ
13と負レンズＬ14の向かい合うレンズ面は共に凹面であ
り、負レンズＬ14と負レンズＬ15の向かい合うレンズ面
も共に凹面である。第５レンズ群Ｇ5は、連続した７枚
の正レンズＬ16〜Ｌ22と、負レンズＬ23と、正レンズＬ
24からなり、正レンズＬ17のウエハＷ側レンズ面は非球
面であり、正レンズＬ17と正レンズＬ18、正レンズＬ18
と正レンズＬ19の向かい合うレンズ面は共に凸面であ
る。また開口絞りＡＳは、第５レンズ群Ｇ5内の正レン
ズＬ17と正レンズＬ18の間に配置されている。
正レンズＬ1〜Ｌ3からなり、正レンズＬ1のレチクルＲ
側レンズ面は非球面である。第２レンズ群Ｇ2は、４枚
の負レンズＬ4〜Ｌ7からなり、負レンズＬ5と負レンズ
Ｌ6の向かい合うレンズ面は共に凹面であり、負レンズ
Ｌ6と負レンズＬ7の向かい合うレンズ面も共に凹面であ
る。第３レンズ群Ｇ3は、５枚の正レンズＬ8〜Ｌ12から
なり、正レンズＬ9と正レンズＬ10、正レンズＬ10と正
レンズＬ11、正レンズＬ11と正レンズＬ12の向かい合う
レンズ面は、いずれも凸面である。第４レンズ群Ｇ
4は、３枚の負レンズＬ13〜Ｌ15からなり、負レンズＬ
13と負レンズＬ14の向かい合うレンズ面は共に凹面であ
り、負レンズＬ14と負レンズＬ15の向かい合うレンズ面
も共に凹面である。第５レンズ群Ｇ5は、連続した７枚
の正レンズＬ16〜Ｌ22と、負レンズＬ23と、正レンズＬ
24からなり、正レンズＬ17のウエハＷ側レンズ面は非球
面であり、正レンズＬ17と正レンズＬ18、正レンズＬ18
と正レンズＬ19の向かい合うレンズ面は共に凸面であ
る。また開口絞りＡＳは、第５レンズ群Ｇ5内の正レン
ズＬ17と正レンズＬ18の間に配置されている。
【００１７】このように両実施例とも、非球面レンズ面
を２面導入することにより、総計２４枚のレンズによっ
て投影光学系を構成しており、従来例と比較して４枚の
レンズ枚数の削減を図っている。この結果、第１実施例
では、従来例と比較して２１．６％のレンズ体積の削減
を達成しており、第２実施例では、従来例と比較して２
１．４％のレンズ体積の削減を達成している。
を２面導入することにより、総計２４枚のレンズによっ
て投影光学系を構成しており、従来例と比較して４枚の
レンズ枚数の削減を図っている。この結果、第１実施例
では、従来例と比較して２１．６％のレンズ体積の削減
を達成しており、第２実施例では、従来例と比較して２
１．４％のレンズ体積の削減を達成している。
【００１８】以下の表１と表２に、それぞれ第１、第２
実施例の諸元を示す。両表の［主要諸元］中、ＮＡは像
側開口数、βは結像倍率、Ｙは最大像高である。［レン
ズ諸元］中、第１欄ＮｏはレチクルＲ側からのレンズ面
の番号、第２欄ｒは各レンズ面の曲率半径、第３欄ｄは
各レンズ面から次のレンズ面までの間隔、第４欄は各レ
ンズの番号とレンズ群の番号を示す。また第１欄中＊印
を付したレンズ面は非球面を示し、非球面レンズ面につ
いての第２欄ｒは、頂点曲率半径である。非球面の形状
は、 ｙ：光軸からの高さ ｚ：接平面から非球面までの光軸方向の距離 ｒ：頂点曲率半径 κ：円錐係数 Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ：非球面係数 によって表わしており、［非球面データ］に円錐係数κ
と非球面係数Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄを示した。
実施例の諸元を示す。両表の［主要諸元］中、ＮＡは像
側開口数、βは結像倍率、Ｙは最大像高である。［レン
ズ諸元］中、第１欄ＮｏはレチクルＲ側からのレンズ面
の番号、第２欄ｒは各レンズ面の曲率半径、第３欄ｄは
各レンズ面から次のレンズ面までの間隔、第４欄は各レ
ンズの番号とレンズ群の番号を示す。また第１欄中＊印
を付したレンズ面は非球面を示し、非球面レンズ面につ
いての第２欄ｒは、頂点曲率半径である。非球面の形状
は、 ｙ：光軸からの高さ ｚ：接平面から非球面までの光軸方向の距離 ｒ：頂点曲率半径 κ：円錐係数 Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ：非球面係数 によって表わしており、［非球面データ］に円錐係数κ
と非球面係数Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄを示した。
【００１９】第１実施例、第２実施例とも、すべてのレ
ンズの硝材は合成石英であり、合成石英の屈折率はｎ＝
１．５０８３９である。またレンズの設計波長λは、λ
＝２４８．４ｎｍである。また、以下の表３に、第１、
第２実施例について、条件（１）〜（５）中のパラメー
タの値を示す。
ンズの硝材は合成石英であり、合成石英の屈折率はｎ＝
１．５０８３９である。またレンズの設計波長λは、λ
＝２４８．４ｎｍである。また、以下の表３に、第１、
第２実施例について、条件（１）〜（５）中のパラメー
タの値を示す。
【００２０】
【表１】 ［主要諸元］ ＮＡ＝0.60 β＝0.25 Ｌ＝1000 Ｙ＝13.2 ［レンズ諸元］ Ｎｏ ｒ ｄ 0 ∞ 95.000000 Ｒ 1 433.91190 20.000000 Ｌ1 Ｇ1 2 -264.07352 0.1OOOOO 3 267.56195 21.000000 Ｌ2 Ｇ1 4 -2927.69949 0.100000 5 202.61124 18.000000 Ｌ3 Ｇ1 6 522.59265 0.563450 7 215.00000 11.000000 Ｌ4 Ｇ2 ＊ 8 111.70344 13.518226 9 ∞ 11.000000 Ｌ5 Ｇ2 10 97.72313 22.612443 11 -161.65981 11.000000 Ｌ6 Ｇ2 12 180.00000 24.316478 13 -105.44867 11.000000 Ｌ7 Ｇ2 14 -449.26370 11.629003 15 -142.00299 18.000000 Ｌ8 Ｇ3 16 -125.57186 1.240603 17 161179.01126 33.000000 Ｌ9 Ｇ3 18 -175.00000 0.10OOOO 19 754.11968 33.000000 Ｌ10 Ｇ3 20 -278.94419 0.100000 21 222.68425 41.060395 Ｌ11 Ｇ3 22 -1335.18288 0.100000 23 149.08484 36.038073 Ｌ12 Ｇ3 24 574.21220 28.493823 25 1941.96297 14.OOOOO0 Ｌ13 Ｇ4 26 94.01546 31.013254 27 -171.67213 12.000000 Ｌ14 Ｇ4 28 156.42171 26.273017 29 -146.90061 14.000000 Ｌ15 Ｇ4 30 ∞ 21.271558 31 -2448.91477 20.000000 Ｌ16 Ｇ5 32 -279.25287 54.050059 33 1956.20721 35.OOOOO0 Ｌ17 Ｇ5 34 -261.00005 4.336349 35 − 16.728433 ＡＳ 36 -1834.43885 25.000000 Ｌ18 Ｇ5 37 -312.69618 0.100000 38 173.57958 35.000000 Ｌ19 Ｇ5 39 433.19719 0.849054 40 180.44461 25.000000 Ｌ20 Ｇ5 ＊41 291.85469 82.093107 42 136.98791 22.000000 Ｌ21 Ｇ5 43 255.88804 0.134540 44 93.25391 22.000000 Ｌ22 Ｇ5 45 212.44729 7.000000 46 ∞ 12.000000 Ｌ23 Ｇ5 47 294.29622 20.883660 48 143.75769 22.000000 Ｌ24 Ｇ5 49 1025.52781 15.294472 50 ∞ Ｗ ［非球面データ］ Ｎｏ＝8 κ＝0.0 Ａ＝-0.581076×10-7 Ｂ＝-0.674572×10-11 Ｃ＝-0.482837×10-15 Ｄ＝-0.435664×10-19 Ｎｏ＝41 κ＝0.0 Ａ＝ 0.201362×10-7 Ｂ＝ 0.181546×10-12 Ｃ＝ 0.642414×10-17 Ｄ＝ 0.234689×10-21
【００２１】
【表２】 ［主要諸元］ ＮＡ＝0.60 β＝0.25 Ｌ＝1000 Ｙ＝13.2 ［レンズ諸元］ Ｎｏ ｒ ｄ 0 ∞ 95.000000 Ｒ ＊ 1 353.08200 20.000000 Ｌ1 Ｇ1 2 -491.41418 0.1OOOOO 3 245.00000 21.000000 Ｌ2 Ｇ1 4 -1839.62387 0.100000 5 186.36312 18.000000 Ｌ3 Ｇ1 6 1642.88042 4.100638 7 215.00000 11.000000 Ｌ4 Ｇ2 8 89.23763 16.000000 9 ∞ 11.000000 Ｌ5 Ｇ2 10 104.04661 19.000000 11 -199.21064 11.000000 Ｌ6 Ｇ2 12 180.00000 22.846797 13 -100.78545 11.000000 Ｌ7 Ｇ2 14 -755.40154 10.542476 15 -161.98672 18.000000 Ｌ8 Ｇ3 16 -134.89402 0.100000 17 -2176.47687 33.000000 Ｌ9 Ｇ3 18 -175.00000 0.10OOOO 19 1536.19231 39.822807 Ｌ10 Ｇ3 20 -213.43088 0.100000 21 197.93991 42.438507 Ｌ11 Ｇ3 22 -1888.95126 0.100000 23 155.30262 35.021892 Ｌ12 Ｇ3 24 652.83877 21.537227 25 4814.07929 14.OOOOO0 Ｌ13 Ｇ4 26 98.80218 32.221298 27 -177.88393 12.000000 Ｌ14 Ｇ4 28 172.85884 28.000000 29 -121.13045 14.000000 Ｌ15 Ｇ4 30 ∞ 21.859596 31 -990.90790 20.000000 Ｌ16 Ｇ5 32 -239.29178 47.826366 33 -2075.72041 35.OOOOO0 Ｌ17 Ｇ5 ＊34 -190.00000 1.690000 35 − 16.728433 ＡＳ 36 377.61272 30.000000 Ｌ18 Ｇ5 37 -924.11191 0.100000 38 285.99684 30.000000 Ｌ19 Ｇ5 39 1265.47224 0.100000 40 161.08253 25.000000 Ｌ20 Ｇ5 41 249.08563 98.969690 42 118.40375 20.000000 Ｌ21 Ｇ5 43 179.37070 0.968540 44 88.27417 25.000000 Ｌ22 Ｇ5 45 217.06775 5.500000 46 ∞ 12.000000 Ｌ23 Ｇ5 47 124.72685 17.467883 48 108.58000 22.000000 Ｌ24 Ｇ5 49 -1009.70305 8.657760 50 ∞ Ｗ ［非球面データ］ Ｎｏ＝1 κ＝0.0 Ａ＝ 0.104005×10-7 Ｂ＝-0.676866×10-12 Ｃ＝ 0.235303×10-17 Ｄ＝ 0.483488×10-21 Ｎｏ＝34 κ＝0.0 Ａ＝ 0.328220×10-8 Ｂ＝ 0.596778×10-13 Ｃ＝ 0.870329×10-18 Ｄ＝ 0.355535×10-22
【００２２】
【表３】
【００２３】図２に第１実施例の球面収差、非点収差、
歪曲収差を示し、図３に同実施例の横収差を示す。同様
に図５と図６に第２実施例の諸収差を示す。各収差図
中、ＮＡは開口数、Ｙは像高を示す。非点収差図中点線
はメリジオナル像面を表し、実線はサジタル像面を表
す。各収差図より明らかなように、所要のレンズ構成を
取り、条件（１）〜（５）を満たすことにより、各実施
例とも少ないレンズ枚数にてきわめて優れた結像性能を
持つことが分かる。
歪曲収差を示し、図３に同実施例の横収差を示す。同様
に図５と図６に第２実施例の諸収差を示す。各収差図
中、ＮＡは開口数、Ｙは像高を示す。非点収差図中点線
はメリジオナル像面を表し、実線はサジタル像面を表
す。各収差図より明らかなように、所要のレンズ構成を
取り、条件（１）〜（５）を満たすことにより、各実施
例とも少ないレンズ枚数にてきわめて優れた結像性能を
持つことが分かる。
【００２４】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、高い解像
力と広い露光領域を有し、しかも使用レンズ枚数が十分
に少ない投影光学系が得られる。
力と広い露光領域を有し、しかも使用レンズ枚数が十分
に少ない投影光学系が得られる。
【図１】本発明による投影光学系の第１実施例のレンズ
構成を示す断面図
構成を示す断面図
【図２】第１実施例の球面収差、非点収差、歪曲収差を
示す収差図
示す収差図
【図３】第１実施例の横収差を示す収差図
【図４】第２実施例のレンズ構成を示す断面図
【図５】第２実施例の球面収差、非点収差、歪曲収差を
示す収差図
示す収差図
【図６】第２実施例の横収差を示す収差図
Ｌ1〜Ｌ24…レンズ Ｇ1〜Ｇ5…レンズ群 Ｒ…レチクル Ｗ…ウエハ ＡＳ…開口絞り ＊…非球面レンズ面
Claims (7)
- 【請求項１】第１面の像を第２面に投影する固定焦点の
投影光学系において、 前記第１面側から第２面側に向けて順に、２枚以上の正
レンズを含む正屈折力の第１レンズ群と、２枚以上の負
レンズを含む負屈折力の第２レンズ群と、３枚以上の正
レンズを含む正屈折力の第３レンズ群と、２枚以上の負
レンズを含む負屈折力の第４レンズ群と、連続した少な
くとも５枚以上の正レンズを含む正屈折力の第５レンズ
群とで構成され、 前記第１レンズ群と第２レンズ群とのいずれか一方に１
面の非球面を含み、前記第４レンズ群と第５レンズ群と
のいずれか一方に１面の非球面を含み、且つ、以下の条
件を満たすことを特徴とする投影光学系。 ０．４＜ΣiＤi／Ｌ＜０．６ （１） ０．０５＜ｆ2／ｆ4＜６ （２） ０．０１＜ｆ5／Ｌ＜１．２ （３） −０．８＜ｆ4／Ｌ＜−０．００８ （４） −０．５＜ｆ2／Ｌ＜−０．００５ （５） 但し、ΣiＤi：レンズの中心厚の総和 Ｌ：前記第１面から第２面までの距離 ｆ2：前記第２レンズ群の焦点距離 ｆ4：前記第４レンズ群の焦点距離 ｆ5：前記第５レンズ群の焦点距離 である。 - 【請求項２】前記第５レンズ群は少なくとも１枚の負レ
ンズを含む、請求項１記載の投影光学系。 - 【請求項３】前記第４レンズ群は互いに向き合った凹面
のレンズ面を少なくとも２組含む、請求項１又は２記載
の投影光学系。 - 【請求項４】前記第２レンズ群は互いに向き合った凹面
のレンズ面を少なくとも２組含む、請求項１、２又は３
記載の投影光学系。 - 【請求項５】前記第５レンズ群は互いに向き合った凸面
のレンズ面を少なくとも１組含む、請求項１、２、３又
は４記載の投影光学系。 - 【請求項６】前記第３レンズ群は互いに向き合った凸面
のレンズ面を少なくとも１組含む、請求項１、２、３、
４又は５記載の投影光学系。 - 【請求項７】前記第５レンズ群内に開口絞りを配置し
た、請求項１〜６のいずれか１項記載の投影光学系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9152857A JPH10325922A (ja) | 1997-05-26 | 1997-05-26 | 投影光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9152857A JPH10325922A (ja) | 1997-05-26 | 1997-05-26 | 投影光学系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10325922A true JPH10325922A (ja) | 1998-12-08 |
Family
ID=15549648
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9152857A Abandoned JPH10325922A (ja) | 1997-05-26 | 1997-05-26 | 投影光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10325922A (ja) |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1094350A2 (en) * | 1999-10-21 | 2001-04-25 | Carl Zeiss | Optical projection lens system |
| WO2001050171A1 (de) * | 1999-12-29 | 2001-07-12 | Carl Zeiss | Projektionsobjektiv mit benachbart angeordneten asphärischen linsenoberflächen |
| US6459534B1 (en) | 1999-06-14 | 2002-10-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system and projection exposure apparatus with the same, and device manufacturing method |
| US6556353B2 (en) | 2001-02-23 | 2003-04-29 | Nikon Corporation | Projection optical system, projection exposure apparatus, and projection exposure method |
| US6606144B1 (en) | 1999-09-29 | 2003-08-12 | Nikon Corporation | Projection exposure methods and apparatus, and projection optical systems |
| US6621555B1 (en) | 1999-06-14 | 2003-09-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system and projection exposure apparatus with the same, and device manufacturing method |
| US6674513B2 (en) | 1999-09-29 | 2004-01-06 | Nikon Corporation | Projection exposure methods and apparatus, and projection optical systems |
| US6862078B2 (en) | 2001-02-21 | 2005-03-01 | Nikon Corporation | Projection optical system and exposure apparatus with the same |
| US6867922B1 (en) | 1999-06-14 | 2005-03-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system and projection exposure apparatus using the same |
| US7190527B2 (en) | 2002-03-01 | 2007-03-13 | Carl Zeiss Smt Ag | Refractive projection objective |
| US7339743B2 (en) | 2002-03-01 | 2008-03-04 | Carl Zeiss Smt Ag | Very-high aperture projection objective |
| US8908269B2 (en) | 2004-01-14 | 2014-12-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Immersion catadioptric projection objective having two intermediate images |
| US8913316B2 (en) | 2004-05-17 | 2014-12-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective with intermediate images |
| US9772478B2 (en) | 2004-01-14 | 2017-09-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective with parallel, offset optical axes |
-
1997
- 1997-05-26 JP JP9152857A patent/JPH10325922A/ja not_active Abandoned
Cited By (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6459534B1 (en) | 1999-06-14 | 2002-10-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system and projection exposure apparatus with the same, and device manufacturing method |
| US6867922B1 (en) | 1999-06-14 | 2005-03-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system and projection exposure apparatus using the same |
| US6621555B1 (en) | 1999-06-14 | 2003-09-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system and projection exposure apparatus with the same, and device manufacturing method |
| US6864961B2 (en) | 1999-09-29 | 2005-03-08 | Nikon Corporation | Projection exposure methods and apparatus, and projection optical systems |
| US6606144B1 (en) | 1999-09-29 | 2003-08-12 | Nikon Corporation | Projection exposure methods and apparatus, and projection optical systems |
| US6674513B2 (en) | 1999-09-29 | 2004-01-06 | Nikon Corporation | Projection exposure methods and apparatus, and projection optical systems |
| US6930837B2 (en) | 1999-10-21 | 2005-08-16 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical projection lens system |
| US6560031B1 (en) | 1999-10-21 | 2003-05-06 | Carl-Ziess-Stiftung | Optical projection lens system |
| US6791761B2 (en) | 1999-10-21 | 2004-09-14 | Zeiss Smt Ag | Optical projection lens system |
| EP1094350A3 (en) * | 1999-10-21 | 2001-08-16 | Carl Zeiss | Optical projection lens system |
| EP1094350A2 (en) * | 1999-10-21 | 2001-04-25 | Carl Zeiss | Optical projection lens system |
| KR100832153B1 (ko) * | 1999-10-21 | 2008-05-27 | 칼 짜이스 에스엠테 아게 | 광학 투영 렌즈 시스템 |
| US7154678B2 (en) | 1999-12-29 | 2006-12-26 | Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag | Projection objective having adjacently mounted aspheric lens surfaces |
| US6646718B2 (en) | 1999-12-29 | 2003-11-11 | Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag | Projection objective having adjacently mounted aspheric lens surfaces |
| WO2001050171A1 (de) * | 1999-12-29 | 2001-07-12 | Carl Zeiss | Projektionsobjektiv mit benachbart angeordneten asphärischen linsenoberflächen |
| US6862078B2 (en) | 2001-02-21 | 2005-03-01 | Nikon Corporation | Projection optical system and exposure apparatus with the same |
| US6556353B2 (en) | 2001-02-23 | 2003-04-29 | Nikon Corporation | Projection optical system, projection exposure apparatus, and projection exposure method |
| US7190527B2 (en) | 2002-03-01 | 2007-03-13 | Carl Zeiss Smt Ag | Refractive projection objective |
| US7339743B2 (en) | 2002-03-01 | 2008-03-04 | Carl Zeiss Smt Ag | Very-high aperture projection objective |
| US7382540B2 (en) | 2002-03-01 | 2008-06-03 | Carl Zeiss Smt Ag | Refractive projection objective |
| US8908269B2 (en) | 2004-01-14 | 2014-12-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Immersion catadioptric projection objective having two intermediate images |
| US9772478B2 (en) | 2004-01-14 | 2017-09-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective with parallel, offset optical axes |
| US8913316B2 (en) | 2004-05-17 | 2014-12-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective with intermediate images |
| US9019596B2 (en) | 2004-05-17 | 2015-04-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective with intermediate images |
| US9134618B2 (en) | 2004-05-17 | 2015-09-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective with intermediate images |
| US9726979B2 (en) | 2004-05-17 | 2017-08-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective with intermediate images |
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