JPH1032236A - Variable pitch wafer transfer hand - Google Patents
Variable pitch wafer transfer handInfo
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- JPH1032236A JPH1032236A JP20312996A JP20312996A JPH1032236A JP H1032236 A JPH1032236 A JP H1032236A JP 20312996 A JP20312996 A JP 20312996A JP 20312996 A JP20312996 A JP 20312996A JP H1032236 A JPH1032236 A JP H1032236A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、主として半導体製
造装置におけるピッチ可変ウェハ移載ハンドに関するも
のである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a variable-pitch wafer transfer hand in a semiconductor manufacturing apparatus.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体製造装置において、ウェハWを装
置内に搬入するにはキャリアステージ装置が使用されて
いる。このキャリアステージ装置は、図11に示される
ように、キャリア支柱51にキャリア台52を介して複
数台のキャリアスタンド53が円周方向に等間隔をおい
て装着され、多数枚のウェハWを水平状態で収納したウ
ェハキャリア54を前記キャリアスタンド53に載置
し、駆動手段によって前記キャリア支柱51を設定角度
ずつ回動させ、多関節ロボットRの先端のアーム55の
先端部に装着されたウェハ移載ハンド56によってウェ
ハキャリア54内のウェハWを取出し、前記多関節ロボ
ットRの作動によりウェハボート57に移載する構成で
ある。その際スループットの向上のため、一度に複数枚
(通常は5枚)のウェハWを、標準ピッチP1 (6.3
5mm)のウェハキャリア54側から、狭ピッチP
2 (4.76mm或いは5.2mm)のウェハボート5
7側へ移載するという方法が行われている。そのために
は、ウェハ移載ハンド56に、複数枚のウェハWの上下
方向のピッチを変更させる機構を設けることが必要であ
る。2. Description of the Related Art In a semiconductor manufacturing apparatus, a carrier stage apparatus is used to carry a wafer W into the apparatus. In this carrier stage device, as shown in FIG. 11, a plurality of carrier stands 53 are mounted on a carrier column 51 via a carrier table 52 at equal intervals in the circumferential direction, and a large number of wafers W are horizontally mounted. The wafer carrier 54 housed in the state is placed on the carrier stand 53, and the carrier column 51 is rotated by a set angle by a driving means, and the wafer transfer mounted on the distal end of the arm 55 at the distal end of the articulated robot R is moved. The configuration is such that the wafer W in the wafer carrier 54 is taken out by the mounting hand 56 and transferred to the wafer boat 57 by the operation of the articulated robot R. At this time, in order to improve the throughput, a plurality of (usually five) wafers W are simultaneously placed at the standard pitch P 1 (6.3).
5 mm) from the wafer carrier 54 side, the narrow pitch P
2 (4.76mm or 5.2mm) wafer boat 5
The method of transferring to the 7 side is performed. For this purpose, it is necessary to provide the wafer transfer hand 56 with a mechanism for changing the vertical pitch of the plurality of wafers W.
【0003】従来、この種のウェハ移載ハンドとして、
特開平7−37966号公報に記載されるものがある。
この公報にて開示された技術は、「ピッチ変換板(5)
の可変溝(9)の一面(9A)又は他面(9B)に、ウ
エハ保持プレート取付けブロック(4)を駆動源(8)
により押付け、2種類のウエハピッチに対応できること
を特徴とするウエハ可変ピッチウエハ保持器。」であ
る。しかし、この公報に記載される技術では、ピッチ変
換板(5)にウエハ保持プレート取付けブロック(4)
を押付け、それを引張りばね(6)で戻すという構成で
あり、安定性に欠けるという不具合がある。Conventionally, as this kind of wafer transfer hand,
There is one described in JP-A-7-37966.
The technology disclosed in this publication is described in “Pitch Conversion Plate (5)
A drive source (8) includes a wafer holding plate mounting block (4) on one surface (9A) or the other surface (9B) of the variable groove (9).
2. A wafer variable pitch wafer holder characterized in that it can cope with two types of wafer pitches by pressing. ". However, according to the technique described in this publication, the pitch conversion plate (5) is attached to the wafer holding plate mounting block (4).
Is pressed and returned by the tension spring (6), which is not stable.
【0004】また、他の技術として、特開平7−106
403号公報に記載された技術が開示されている。この
技術は、互いに反対方向にねじが切られたボールねじの
それぞれの可動体にアームを取付け、該ボールねじを所
定量回転させることによって前記可動体を互いに反対方
向に、同じ量だけ無段階に移動させるという構成であ
る。しかし、この方法ではボールねじを使用しているた
め装置が複雑化、大型化する。しかも高価である。ま
た、ウェハボート57側のウェハのピッチは限られてお
り、ほとんどの場合2種類のピッチ(4.76mm或い
は5.2mm)に対応できるだけでよい。[0004] Another technique is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 7-106.
The technology described in Japanese Patent Publication No. 403 is disclosed. In this technique, an arm is attached to each movable body of a ball screw which is threaded in a direction opposite to each other, and the movable body is steplessly rotated in the opposite direction by the same amount by rotating the ball screw by a predetermined amount. It is a configuration of moving. However, in this method, since a ball screw is used, the device becomes complicated and large. Moreover, it is expensive. Further, the pitch of the wafers on the wafer boat 57 side is limited, and in most cases, only the two types of pitches (4.76 mm or 5.2 mm) need to be supported.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記した問題
に鑑み、一度に複数枚のウェハを移載するハンドにおい
て、各フィンガーに載置されている各ウェハの上下方向
のピッチを簡単な構成で変更することができるようにす
ることを課題としている。SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-mentioned problems, the present invention has a simple structure in which a vertical pitch of each wafer placed on each finger is reduced in a hand for transferring a plurality of wafers at a time. The task is to be able to make changes in the
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明が採用した手段は、標準ピッチのウェハキャリ
ア側から狭ピッチのウェハボート側へウェハを移載する
際に、複数枚のフィンガーに載置されたウェハの上下方
向のピッチを変更して、一度に複数枚のウェハを移載す
るピッチ可変ウェハ移載ハンドであって、基準フィンガ
ーと、該基準フィンガーに対して多段に配置され、片持
状態で支持する支持部が設けられていると共に、個別に
昇降させるための昇降操作部が設けられた複数枚の昇降
フィンガーと、水平移動可能で、その移動方向の一端部
に各昇降フィンガーを標準ピッチに設定するための各支
持部材が多段にして設けられ、同じく他端部に各昇降フ
ィンガーを積層させて狭ピッチに設定するための平坦部
が設けられ、しかも該平坦部と前記支持部材との間に傾
斜面部が設けられたスライドブロックとを備え、前記し
た各昇降フィンガーの昇降操作部に配設されたスライド
ブロックを水平移動させることにより、基準フィンガー
のウェハに対するそれ以外の各ウェハの上下方向のピッ
チを変更可能にしたことである。Means adopted by the present invention to solve this problem is that a plurality of fingers are used when transferring a wafer from a standard pitch wafer carrier to a narrow pitch wafer boat. A variable-pitch wafer transfer hand for changing a vertical pitch of a wafer placed on a plurality of wafers at a time by changing a reference finger and a reference finger, and being arranged in multiple stages with respect to the reference finger. A plurality of lifting fingers provided with a supporting portion for supporting in a cantilevered state, and a lifting operation portion for individually lifting and lowering, and a vertically movable one end in the moving direction thereof Each support member for setting the fingers at a standard pitch is provided in multiple stages, and similarly, a flat portion for setting the narrow pitch by stacking each elevating finger at the other end is provided. A slide block provided with an inclined surface portion between the flat portion and the support member, and by horizontally moving the slide block disposed on the lifting / lowering operation portion of each of the lifting / lowering fingers, the wafer of the reference finger is provided. In other words, the vertical pitch of each other wafer can be changed.
【0007】ピッチ可変ウェハ移載ハンドの基準フィン
ガーに対する各昇降フィンガーの上下方向のピッチは、
予め標準ピッチに設定されている。そのため、各フィン
ガーに載置されている複数枚のウェハのピッチは、標準
ピッチに設定されている。このピッチ可変ウェハ移載ハ
ンドを標準ピッチのウェハキァリア側に移動させ、ウェ
ハキャリア側の各ウェハを、前記ピッチ可変ウェハ移載
ハンドの基準フィンガー及び各昇降フィンガーに載置し
て取出す。この状態でスライドブロックを水平移動させ
ると、各支持部材が昇降フィンガーの間から一定時間だ
けずれながら退避する。同時に、傾斜面部が下段の昇降
フィンガーから順に各昇降フィンガーを押上げる。すべ
ての昇降フィンガーが積層された状態で基準フィンガー
に当接すると、基準フィンガーに対する各昇降フィンガ
ーのピッチは狭ピッチに変更される。即ち、ウェハのピ
ッチが狭ピッチに設定される。ピッチ可変ウェハ移載ハ
ンドを狭ピッチのウェハボート側へ移動させ、各ウェハ
を収納する。その後、スライドブロックを反対方向へ水
平移動させて各昇降フィンガーを下降させ、標準ピッチ
に設定する。The vertical pitch of each elevating finger with respect to the reference finger of the variable-pitch wafer transfer hand is
The standard pitch is set in advance. Therefore, the pitch of the plurality of wafers placed on each finger is set to a standard pitch. The variable-pitch wafer transfer hand is moved to the standard-pitch wafer carrier side, and each wafer on the wafer carrier side is mounted on the reference finger and each lifting / lowering finger of the variable-pitch wafer transfer hand and taken out. When the slide block is horizontally moved in this state, each support member is retracted from the space between the elevating fingers for a predetermined time. At the same time, the inclined surfaces push up the respective lifting fingers in order from the lower lifting finger. When all the lifting fingers come into contact with the reference finger in a stacked state, the pitch of each lifting finger with respect to the reference finger is changed to a narrow pitch. That is, the pitch of the wafer is set to a narrow pitch. The variable-pitch wafer transfer hand is moved to the narrow-pitch wafer boat side to store each wafer. Thereafter, the slide block is horizontally moved in the opposite direction to lower each of the elevating fingers, thereby setting the pitch to the standard pitch.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】以下、実施例を挙げて本発明を詳
細に説明する。本実施例では、5枚のウェハの上下方向
のピッチを標準ピッチP1 (6.35mm)から狭ピッ
チP2 の一つ(4.76mm)に変更するためのウェハ
移載ハンドとして説明する。図1ないし図4に示される
ように、本発明に係るウェハ移載ハンドのフレーム1
は、ベース2と、該ベース2の上面に立設される逆
「コ」の字形状の枠体3と、該枠体3の上面に跨がって
固設される基準ブラケットB0 とから成っている。基準
ブラケットB0 には、長方形でプレート形状の基準フィ
ンガーF0 が固設されている。この基準フィンガーF0
は、前部のウェハ載置部4aと後部の支持部5aとから
成っていて、該ウェハ載置部4aがフレーム1から前方
に突出する形態で、基準ブラケットB0 に固設されてい
る。基準フィンガーF0 の下方には、前記基準フィンガ
ーF0 とほぼ同一形状を成す第1〜第4の昇降フィンガ
ーF1 〜F4 がこの順序で、しかも基準フィンガーF0
にほぼ重なる形状で配設されている。各昇降フィンガー
F1 〜F4 は、前方からウェハ載置部4b、支持部5b
及び昇降操作部6の各部分から構成されている。各支持
部5bは、後述する各昇降ブラケットB1 〜B4 に固設
されている。基準フィンガーF0 と各昇降フィンガーF
1 〜F4 のウェハ載置部4a,4b には、円形のウェハW
に対応した円形溝部7が設けられていて、この円形溝部
7にウェハWが片持の状態で載置される。図3に示され
るように、本実施例において、各昇降フィンガーF1 〜
F4 の厚みは狭ピッチP2 に等しい。そして、基準フィ
ンガーF0 及び各昇降フィンガーF1 〜F4 に載置され
ている各ウェハWの上下方向のピッチ(基準フィンガー
F0 に対する各昇降フィンガーF1 〜F4 のピッチ)
は、予め標準ピッチP1 に設定されている。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to examples. In this embodiment, a wafer transfer hand for changing the vertical pitch of five wafers from the standard pitch P 1 (6.35 mm) to one of the narrow pitch P 2 (4.76 mm) will be described. As shown in FIGS. 1 to 4, the frame 1 of the wafer transfer hand according to the present invention
Includes a base 2, a frame 3 of the shape of inverted "U" which is erected on the upper surface of the base 2, the reference bracket B 0 Metropolitan is fixedly provided astride the upper surface of the frame body 3 Made up of The reference bracket B 0, the reference finger F 0 of the plate shape is fixedly provided with a rectangular. This reference finger F 0
Is consist with the front of the wafer placing portion 4a and a rear supporting portion 5a, the wafer placing portion 4a is in a form projecting from the frame 1 to the front, and is fixed to the reference bracket B 0. Below the reference finger F 0, in the first to fourth lifting the finger F 1 to F 4 is the order in which forms substantially the same shape as the reference finger F 0, moreover reference finger F 0
It is arranged in a shape that substantially overlaps with. Each of the elevating fingers F 1 to F 4 includes a wafer mounting portion 4b and a support portion 5b from the front.
And the respective portions of the lifting / lowering operation unit 6. Each support portion 5b is fixed to the lift bracket B 1 .about.B 4 to be described later. Reference finger F 0 and each lifting finger F
1 to F 4 of the wafer placing portion 4a, the 4b, a circular wafer W
Are provided, and the wafer W is placed in a cantilevered state in the circular groove 7. As shown in FIG. 3, in the present embodiment, each of the elevating fingers F 1 to
The thickness of F 4 is equal to pitch P 2. The reference finger F 0 and (pitch of the lifting finger F 1 to F 4 with respect to the reference finger F 0) vertical pitch of the wafer W placed on each lifting finger F 1 to F 4
Is preset to the standard pitch P 1.
【0009】図2ないし図5を参照しながら、第1〜第
4の各昇降フィンガーF1 〜F4 を昇降させるための構
成について説明する。図5に示されるように、各昇降ブ
ラケットB1 〜B4 は正面視においてほぼ横になった
「L」字形状を成していて、それらの水平な段差部8に
前述した各昇降フィンガーF1 〜F4 の支持部5bが取
付けられている。これらの支持部5bは、複数の皿ねじ
9によって取付けられていて、該複数の皿ねじ9の頭が
各昇降フィンガーF1 〜F4 の上面から突出することは
ない。各昇降ブラケットB1 〜B4 において、前記した
段差部8と直角な方向に設けられている直角部11は、
個別にガイドレールG1 〜G4 に取付けられている。こ
れら4基のガイドレールG1 〜G4 は、図4に示される
ように、フレーム1を構成する枠体3の前部の内側部
に、上下方向に沿って2基ずつ並列に取付けられてい
る。そして、図2に示されるように、各昇降フィンガー
F1 〜F4 は、互いが干渉しないように多段になって配
設されている。上記したように、第1〜第4の昇降フィ
ンガーF1 〜F4 は、各昇降ブラケットB1 〜B4 を介
して各ガイドレールG1 〜G4 に片持の状態で取付けら
れている。A structure for raising and lowering the first to fourth lifting fingers F 1 to F 4 will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 5, each of the lifting brackets B 1 to B 4 has an “L” shape that is substantially horizontal when viewed from the front, and the above-mentioned lifting fingers F are attached to their horizontal steps 8. supporting portion 5b of 1 to F 4 is attached. These support portion 5b is attached by a plurality of countersunk screws 9, does not head countersunk screw 9 wherein the plurality of protruding from the upper surface of each lifting finger F 1 to F 4. In each of the lifting brackets B 1 to B 4 , the right angle portion 11 provided in a direction perpendicular to the step portion 8 is
Is attached to the individual guide rails G 1 ~G 4. As shown in FIG. 4, these four guide rails G 1 to G 4 are attached to the inside of the front part of the frame body 3 constituting the frame 1 in parallel two by two along the vertical direction. I have. Then, as each lifting finger F 1 to F 4 shown in FIG. 2, it is disposed turned multistage so each other do not interfere. As described above, lifting the finger F 1 to F 4 of the first to fourth is mounted in the state of cantilever through a respective lift bracket B 1 .about.B 4 in the guide rails G 1 ~G 4.
【0010】図3及び図4に示されるように、フレーム
1を構成するベース2の後部には、基準フィンガーF0
及び各昇降フィンガーF1 〜F4 の幅方向に沿ってガイ
ドレールG0 が取付けられている。このガイドレールG
0 の上面には、スライドブロック12が取付けられてい
る。次に、このスライドブロック12について説明す
る。スライドブロック12は、その平面視において長方
形形状を成している。図6に示されるように、このスラ
イドブロック12の長手方向の一端部には、上段から第
1〜第3の支持部材S1 〜S3 が多段にして設けられて
いる。そして、各支持部材S1 〜S3 の先端部は、該ス
ライドブロック12の長手方向の中央部に向かって延伸
されている。各支持部材S1 〜S3 の厚みは、標準ピッ
チP1 と狭ピッチP2 との差d(d=P1 −P2 )であ
る。各支持部材S1 〜S3 の間には、第2〜第4の昇降
フィンガーF2 〜F4 が入り込む。そのため、各支持部
材S1 〜S3 の上下方向の間隔hは、第2〜第4の昇降
フィンガーF2 〜F4 の厚み(狭ピッチP2 に等しい)
よりも僅かに大きい。また、各支持部材S1 〜S3 の長
さは最上段の支持部材S1 の長さが最も長く、下段にな
るに従って順次短くなっている。各支持部材S1 〜S3
は、重なり合った昇降フィンガーF1 〜F4 の間に進入
し、最下段の昇降フィンガーF4 を除く各昇降フィンガ
ーF1 〜F3 の下面を支持する。各支持部材S1 〜S3
が各昇降フィンガーF1 〜F4 の間に容易に進入できる
ようにそれらの先端部は、上面から下面にかけて斜めに
切断されている。また、進入される各昇降フィンガーF
2 〜F4 においては、それぞれ逃し部13が設けられて
いる。スライドブロック12の長手方向の他端部には平
坦部14が設けられていて、該平坦部14の内側の端部
14aから下方にかけて傾斜面部15が設けられてい
る。前記した平坦部14の内側の端部14aから、最上
段の支持部材S1 の先端部までの水平距離16は、各昇
降フィンガーF1 〜F4 の幅Lよりも僅かに長い。As shown in FIGS. 3 and 4, a reference finger F 0 is provided at the rear of the base 2 constituting the frame 1.
And the guide rail G 0 is mounted along the width direction of each lift finger F 1 to F 4. This guide rail G
The slide block 12 is attached to the upper surface of the zero . Next, the slide block 12 will be described. The slide block 12 has a rectangular shape in plan view. As shown in FIG. 6, the longitudinal end portion of the slide block 12, the support from the upper first to third members S 1 to S 3 are provided in multiple stages. The tip of each of the support members S 1 to S 3 extends toward the longitudinal center of the slide block 12. The thickness of each of the support members S 1 to S 3 is a difference d (d = P 1 −P 2 ) between the standard pitch P 1 and the narrow pitch P 2 . Between each of the support members S 1 to S 3, the second to fourth lifting the finger F 2 to F 4 enters. Therefore, the vertical interval h between the support members S 1 to S 3 is equal to the thickness of the second to fourth lifting fingers F 2 to F 4 (equal to the narrow pitch P 2 ).
Slightly larger than. In addition, the length of each of the support members S 1 to S 3 is such that the length of the uppermost support member S 1 is the longest, and the length of the support members S 1 to S 3 is gradually reduced toward the bottom. Each support member S 1 to S 3
Is enters between the overlapping lifting finger F 1 to F 4, to support the lower surface of each lifting finger F 1 to F 3 except lifting finger F 4 lowermost. Each support member S 1 to S 3
There their tip for easy penetration between each lifting finger F 1 to F 4 are cut obliquely from the upper surface to the lower surface. In addition, each elevating finger F
In 2 to F 4, relief portions 13 are respectively provided. A flat portion 14 is provided at the other end in the longitudinal direction of the slide block 12, and an inclined surface portion 15 is provided from an inner end 14 a of the flat portion 14 downward. From the inside of the end portion 14a of the flat portion 14 described above, the horizontal distance 16 to the distal end portion of the support member S 1 of the uppermost is slightly longer than the width L of each lifting finger F 1 to F 4.
【0011】図4に示されるように、ベース2には前述
したスライドブロック12のガイドレールG0 に隣接
し、しかも該ガイドレールG0 の長手方向に沿って空圧
シリンダ17が取付けられている。この空圧シリンダ1
7のシリンダ軸17aは、スライドブロック12の一端
部に取付けられた連結ブラケット18に取付けられてい
る。そのため、この空圧シリンダ17を作動させて、そ
のシリンダ軸17aを前進・後退させると、スライドブ
ロック12が各昇降フィンガーF1 〜F4 の幅方向に沿
って水平移動する。[0011] As shown in FIG. 4, the base 2 are attached pneumatic cylinder 17 along the longitudinal direction of the adjacent guide rail G 0 of the slide block 12 described above, moreover the guide rails G 0 . This pneumatic cylinder 1
The seventh cylinder shaft 17 a is attached to a connection bracket 18 attached to one end of the slide block 12. Therefore, the pneumatic cylinder 17 is operated to move forward and backward the cylinder axis 17a, the slide block 12 is moved horizontally along the width direction of each lift finger F 1 to F 4.
【0012】図7ないし図10を参照しながら、ウェハ
Wの上下方向のピッチが、標準ピッチP1 から狭ピッチ
P2 に変更される原理について説明する。ウェハWは、
それぞれ基準フィンガーF0 及び各昇降フィンガーF1
〜F4 のウェハ載置部4a,4b に載置されている。そし
て、最上段の基準フィンガーF0 は基準ブラケットB0
に固設されている。ウェハWの上下方向のピッチを変更
させるためには、各昇降フィンガーF1 〜F4 (或いは
各昇降フィンガーF1 〜F4 が取付けられている昇降ブ
ラケットB1 〜B4 )の上下方向のピッチを変更させれ
ばよい。基準フィンガーF0 に対する第1の昇降フィン
ガーF1 のピッチを変更させるためには、該昇降フィン
ガーF1 を標準ピッチP1 と狭ピッチP2 との差d(即
ち、d=P1 −P2 )だけ上昇させればよい。そして、
基準フィンガーF0 に対する第2の昇降フィンガーF2
のピッチを変更させるためには、該昇降フィンガーF2
を標準ピッチP1 と狭ピッチP2 との差dの2倍だけ上
昇させればよい。同様にして、基準フィンガーF0 に対
する第3の昇降フィンガーF3 のピッチを変更させるた
めには、該昇降フィンガーF3 を標準ピッチP1 と狭ピ
ッチP2 との差dの3倍だけ、また、基準フィンガーF
0 に対する第4の昇降フィンガーF4 のピッチを変更さ
せるためには、該昇降フィンガーF4 を標準ピッチP1
と狭ピッチP2 との差dの4倍だけ上昇させればよい。[0012] With reference to FIG. 7 to FIG. 10, the pitch in the vertical direction of the wafer W, a description will be given of the principle of the shift from the standard pitch P 1 in the pitch P 2. The wafer W is
Each reference finger F 0 and each lifting finger F 1
Wafer placing portion 4a of the to F 4, is placed in 4b. The uppermost reference finger F 0 is the reference bracket B 0
It is fixed to. To change the vertical pitch of the wafer W is vertical pitch of the lifting finger F 1 to F 4 (or each lifting finger F 1 to F 4 is lift bracket B 1 .about.B 4 attached) Can be changed. To change the pitch of the reference finger F first for 0 lifting the finger F 1, the difference in the elevating finger F 1 and the standard pitch P 1 and a narrow pitch P 2 d (i.e., d = P 1 -P 2 ) Only need to be raised. And
The second lifting finger F 2 with respect to the reference finger F 0
In order to change the pitch of the lift finger F 2
Should be increased by twice the difference d between the standard pitch P 1 and the narrow pitch P 2 . Similarly, in order to change the third pitch of the lifting finger F 3 of the reference finger F 0 is the finger F 3 descending該昇only 3 times the difference d between the standard pitch P 1 and a narrow pitch P 2, also , Reference finger F
To change the fourth pitch of the lifting finger F 4 for 0, elevating the finger F 4 standard pitch P 1
And the narrow pitch P 2 may be increased by four times the difference d.
【0013】図7に示されるように、第1〜第4の昇降
フィンガーF1 〜F4 は、予め標準ピッチP1 に設定さ
れている。各昇降フィンガーF1 〜F4 の間には、それ
ぞれ第1〜第3の支持部材S1 〜S3 が進入していて、
各昇降フィンガーF1 〜F4の上下方向のピッチが標準
ピッチP1 に設定されている。この状態でスライドブロ
ック12を、各支持部材S1 〜S3 が退避する方向19
に水平移動させると、図8に示されるように、最下段の
支持部材S3 が第3の昇降フィンガーF3 と第4の昇降
フィンガーF4 との間から退避する。それとほぼ同時
に、最下段の昇降フィンガーF4 の下端部21がスライ
ドブロック12の傾斜面部15に当接する。そして、第
3の昇降フィンガーF3 の下面が第4の昇降フィンガー
F4 の上面に当接して積層される。この状態で、第4の
昇降フィンガーF4 は、スライドブロック12の傾斜面
部15に沿って上昇するため、同時に第3の昇降フィン
ガーF3 も上昇する。更にスライドブロック12を水平
移動させると、第2の支持部材S2 が、第2の昇降フィ
ンガーF2 と第3の昇降フィンガーF3 との間から退避
して、第2の昇降フィンガーF2 の下面が第3の昇降フ
ィンガーF3 の上面に当接して積層される。この状態
で、第4の昇降フィンガーF4 は、スライドブロック1
2の傾斜面部15に沿って上昇するため、同時に第2、
第3の昇降フィンガーF2,F3 も上昇する。As shown in FIG. 7, the first to fourth lifting fingers F 1 to F 4 are set to a standard pitch P 1 in advance. First to third support members S 1 to S 3 enter between the lifting fingers F 1 to F 4 , respectively.
Vertical pitch of the lifting finger F 1 to F 4 is set to the standard pitch P 1. In this state, the slide block 12 is moved in the direction 19 in which the support members S 1 to S 3 are retracted.
To the moved horizontally, as shown in FIG. 8, is retracted from between the bottom of the support member S 3 is the third lift finger F 3 and the fourth lift finger F 4. At about the same time, the lower end 21 of the lowermost lifting finger F 4 comes into contact with the inclined surface 15 of the slide block 12. The third lower surface of the lifting finger F 3 of is laminated in contact with the upper surface of the fourth lifting finger F 4. In this state, the fourth lifting finger F 4 rises along the inclined surface 15 of the slide block 12, so that the third lifting finger F 3 also rises. When the slide block 12 is further moved horizontally, the second support member S 2 is retracted from between the second lifting finger F 2 and the third lifting finger F 3, and the second lifting member F 2 the lower surface is laminated in contact with the upper surface of the third lift finger F 3 of. In this state, the fourth lifting finger F 4 is
2 ascending along the second inclined surface portion 15,
The third lifting fingers F 2 and F 3 also rise.
【0014】更にスライドブロック12を水平移動させ
ると、図9に示されるように、第1の支持部材S1 が、
第1の昇降フィンガーF1 と第2の昇降フィンガーF2
との間から退避して、第1の昇降フィンガーF1 の下面
が第2の昇降フィンガーF2の上面に当接して積層され
る。この状態で、第4の昇降フィンガーF4 は、スライ
ドブロック12の傾斜面部15に沿って上昇するため、
同時に第1〜第3の昇降フィンガーF1 〜F3 も上昇す
る。前述したように、平坦部14の内側の端部14aか
ら最上段の支持部材S1 の先端部までの水平距離16
は、各昇降フィンガーF1 〜F4 の幅Lよりも僅かに長
いため、図9に示される状態では、最下段の第4の昇降
フィンガーF4 の下端部21は、傾斜面部15と当接し
ている。このようにして、第1〜第3の支持部材S1 〜
S3 を各昇降フィンガーF1 〜F4の間から一定の時間
をずらして退避させると同時に、傾斜面部15によって
積層された各昇降フィンガーF1 〜F4 を下方から押上
げる。そして、図10に示されるように、第4の昇降フ
ィンガーF4 がスライドブロック12の平坦部14に乗
り上げると、第1の昇降フィンガーF1 の上面が基準フ
ィンガーF0 の下面に当接する。この状態において、基
準フィンガーF0 に対する各昇降フィンガーF1 〜F4
の上下方向のピッチは、狭ピッチP2 に設定される。基
準フィンガーF0 に対する各昇降フィンガーF1 〜F4
の上下方向のピッチを、標準ピッチP1から狭ピッチP
2 に変更したい場合には、スライドブロック12を逆方
向に水平移動させて、各昇降フィンガーF1 〜F4 の間
に各支持部材S1 〜S3 を、一定の時間だけずらしなが
ら進入させてやればよい。[0014] is further horizontally moving the slide block 12, as shown in FIG. 9, the first support member S 1 is,
First lifting finger F 1 and second lifting finger F 2
Retracted from between the first lower surface of the lifting finger F 1 it is laminated in contact with the second upper surface of the lifting finger F 2. In this state, the fourth lifting finger F 4 rises along the inclined surface 15 of the slide block 12,
At the same time, the first to third lifting fingers F 1 to F 3 also rise. As described above, the horizontal distance 16 from the inner end 14a of the flat portion 14 to the distal end of the support member S 1 the uppermost
Is slightly longer than the width L of each of the lifting fingers F 1 to F 4 , so that in the state shown in FIG. 9, the lower end 21 of the fourth lifting finger F 4 at the bottom is in contact with the inclined surface portion 15. ing. Thus, the first to third support members S 1 to S 1
At the same time the S 3 from between the lifting finger F 1 to F 4 is retracted by shifting a predetermined time, push up each lifting finger F 1 to F 4 laminated by inclined surface 15 from below. Then, as shown in FIG. 10, a fourth lifting finger F 4 is the rides on the flat portion 14 of the slide block 12, the first upper surface of the lifting finger F 1 is brought into contact with the lower surface of the reference finger F 0. In this state, each lifting finger F 1 to F 4 with respect to the reference finger F 0
Vertical pitch is set to a narrow pitch P 2. Each lifting finger F 1 to F 4 with respect to the reference finger F 0
Narrow pitch P of the up and down direction of the pitch, from the standard pitch P 1
If you want to change to 2, the slide block 12 in the opposite direction is moved horizontally, each support member S 1 to S 3 between each lifting finger F 1 to F 4, it is advanced while shifting by a predetermined time You can do it.
【0015】各昇降フィンガーF1 〜F4 及びスライド
ブロック12は、取外しが可能である。各昇降フィンガ
ーF1 〜F4 の厚み(変更される狭ピッチP2 に等し
い)と各支持部材S1 〜S3 の厚みdとを変更すること
により、1台のピッチ可変ウェハ移載ハンドで、4.7
6mm以外の狭ピッチ(例えば5.2mm)にも対応可
能である。なお、本実施例において、各支持部材S1 〜
S3 の厚みdを標準ピッチP1 と狭ピッチP2 との差
(d=P1 −P2 )として説明したが、この厚みdと各
支持部材S1 〜S3 の上下方向の間隔h(図6参照)と
の和が、標準ピッチP1 になればよい(P1 =d+
P2 )のであって、各支持部材S1 〜S3 の厚みdは標
準ピッチP1 と狭ピッチP2 との差より薄くても構わな
い。また、本実施例において、スライドブロック12を
水平移動させる手段として空圧シリンダ17を使用した
が、他の手段、例えばラックとピニオンとの組合わせで
も構わない。スライドブロック12の移動方向を、各昇
降フィンガーF1 〜F4 の幅方向にすることによって、
フレーム1を小型化することができる。スライドブロッ
ク12を各昇降フィンガーF1 〜F4 の最後部(昇降操
作部6)に配置することによって、各昇降フィンガーF
1 〜F4 の各支持部5bから各ウェハ載置部4bまでの
長さが短くなり、ウェハWのたわみをより小さくするこ
とができるため、精度よくウェハWの移載ができる。Each of the lifting fingers F 1 to F 4 and the slide block 12 can be removed. By changing the thickness of each of the lifting fingers F 1 to F 4 (equal to the narrow pitch P 2 to be changed) and the thickness d of each of the support members S 1 to S 3 , a single pitch variable wafer transfer hand can be used. , 4.7
Narrow pitches other than 6 mm (for example, 5.2 mm) can be handled. In this embodiment, each of the support members S 1 to S 1
Having described the thickness of the S 3 d as the difference between the standard pitch P 1 and a narrow pitch P 2 (d = P 1 -P 2), vertical spacing h of the thickness d and the support members S 1 to S 3 (See FIG. 6) should be the standard pitch P 1 (P 1 = d +
A is P 2) to the thickness d of the support member S 1 to S 3 are may be thinner than the difference between the standard pitch P 1 and a narrow pitch P 2. Further, in this embodiment, the pneumatic cylinder 17 is used as a means for horizontally moving the slide block 12, but other means, for example, a combination of a rack and a pinion may be used. By setting the moving direction of the slide block 12 to the width direction of each of the lifting fingers F 1 to F 4 ,
The frame 1 can be reduced in size. By arranging the slide block 12 at the end portion of each lifting finger F 1 to F 4 (elevation operating section 6), each lifting finger F
1 The length of the respective support portions 5b to each wafer placing portion 4b of to F 4 is shortened, it is possible to further reduce the deflection of the wafer W, can transfer accurately the wafer W.
【0016】[0016]
【発明の効果】本発明に係るピッチ可変ウェハ移載ハン
ドは、基準フィンガーの下方に複数枚の昇降フィンガー
が多段に配設されていて、各昇降フィンガーがスライド
ブロックによって昇降される。そのため、スライドブロ
ックを水平移動させるだけで、基準フィンガーに対する
各昇降フィンガーの上下方向のピッチを変更することが
できる。即ち、基準フィンガーのウェハに対する昇降フ
ィンガーの各ウェハのピッチを変更することができる。
各昇降フィンガーを昇降させる機構は簡単であり、安価
に実現できる。また、各フィンガーとスライドブロック
とを交換することにより、別な寸法のピッチにも対応可
能である。In the variable-pitch wafer transfer hand according to the present invention, a plurality of lifting fingers are arranged in multiple stages below the reference finger, and each lifting finger is moved up and down by the slide block. Therefore, the vertical pitch of each elevating finger with respect to the reference finger can be changed only by moving the slide block horizontally. That is, the pitch of each wafer of the lifting fingers with respect to the wafer of the reference finger can be changed.
The mechanism for raising and lowering each lifting finger is simple and can be realized at low cost. Further, by exchanging each finger and the slide block, it is possible to cope with a pitch having a different size.
【図1】本発明に係るピッチ可変ウェハ移載ハンドの平
面図である。FIG. 1 is a plan view of a variable-pitch wafer transfer hand according to the present invention.
【図2】同じく側面図である。FIG. 2 is a side view of the same.
【図3】図1のX1 −X1 断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line X 1 -X 1 of FIG. 1;
【図4】図2のX2 −X2 断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line X 2 -X 2 of FIG. 2;
【図5】各昇降ブラケットB1 〜B4 及び各ガイドレー
ルG1 〜G4 の取付け状態を示す分解図である。5 is an exploded view showing the mounting state of each lift bracket B 1 .about.B 4 and the guide rail G 1 ~G 4.
【図6】スライドブロック12の側面図である。6 is a side view of the slide block 12. FIG.
【図7】ウェハWが載置されている基準フィンガーF0
及び各昇降フィンガーF1 〜F4 のピッチが標準ピッチ
P1 に設定されている状態を示す図である。FIG. 7 shows a reference finger F 0 on which a wafer W is placed.
FIG. 7 is a diagram showing a state in which the pitches of the lifting fingers F 1 to F 4 are set to a standard pitch P 1 .
【図8】標準ピッチP1 から狭ピッチP2 に変更するた
め、最下段の支持部材S3 を退避させた状態の作用説明
図である。[8] To change from the standard pitch P 1 in the pitch P 2, an operation explanatory view of a state in which retracts the supporting member S 3 of the bottom.
【図9】同じく、各支持部材S1 〜S3 を退避させた状
態の作用説明図である。FIG. 9 is an operation explanatory view showing a state in which the support members S 1 to S 3 are retracted.
【図10】同じく、各支持部材S1 〜S3 が退避して、
積層した各昇降フィンガーF1 〜F4 が平坦部14に乗
り上げた状態の作用説明図である。FIG. 10 Similarly, each of the support members S 1 to S 3 is retracted,
FIG. 8 is an operation explanatory view in a state where the stacked lifting fingers F 1 to F 4 ride on the flat portion 14.
【図11】ウェハWを標準ピッチP1 のウェハキャリア
54側から、狭ピッチP2 のウェハボート57側へ移載
する状態を示す図である。[11] The wafer W from the standard pitch wafer carrier 54 side of P 1, is a diagram showing a state of transferring the wafer boat 57 side of the narrow pitch P 2.
F0 :基準フィンガー F1 〜F4 :昇降フィンガー P1 :標準ピッチ P2 :狭ピッチ S1 〜S3 :支持部材 W:ウェハ 5b:支持部 6:昇降操作部 12:スライドブロック 14:平坦部 15:傾斜面部 54:ウェハキャリア 57:ウェハボートF 0 : Reference finger F 1 to F 4 : Lifting finger P 1 : Standard pitch P 2 : Narrow pitch S 1 to S 3 : Support member W: Wafer 5 b: Support section 6: Lift operation section 12: Slide block 14: Flat Part 15: Inclined surface part 54: Wafer carrier 57: Wafer boat
Claims (5)
ッチのウェハボート側へウェハを移載する際に、複数枚
のフィンガーに載置されたウェハの上下方向のピッチを
変更して、一度に複数枚のウェハを移載するピッチ可変
ウェハ移載ハンドであって、 基準フィンガーと、 該基準フィンガーに対して多段に配置され、片持状態で
支持する支持部が設けられていると共に、個別に昇降さ
せるための昇降操作部が設けられた複数枚の昇降フィン
ガーと、 水平移動可能で、その移動方向の一端部に各昇降フィン
ガーを標準ピッチに設定するための各支持部材が多段に
して設けられ、同じく他端部に各昇降フィンガーを積層
させて狭ピッチに設定するための平坦部が設けられ、し
かも該平坦部と前記支持部材との間に傾斜面部が設けら
れたスライドブロックとを備え、 前記した各昇降フィンガーの昇降操作部に配設されたス
ライドブロックを水平移動させることにより、基準フィ
ンガーのウェハに対するそれ以外の各ウェハの上下方向
のピッチを変更可能にしたことを特徴とするピッチ可変
ウェハ移載ハンド。When transferring wafers from a standard pitch wafer carrier side to a narrow pitch wafer boat side, the vertical pitch of the wafers mounted on a plurality of fingers is changed so that a plurality of A variable-pitch wafer transfer hand for transferring a plurality of wafers, comprising: a reference finger; and a support portion arranged in multiple stages with respect to the reference finger and supported in a cantilever state, and individually raised and lowered. A plurality of elevating fingers provided with an elevating operation part for causing, each supporting member for horizontally moving and setting each elevating finger at a standard pitch at one end in the moving direction are provided in multiple stages, Similarly, a slide portion is provided at the other end portion of which is provided a flat portion for stacking up and down fingers to set a narrow pitch, and further having an inclined surface portion between the flat portion and the support member. A lock, and horizontally moving a slide block disposed on the lifting / lowering operation unit of each of the lifting / lowering fingers, so that the vertical pitch of each of the other wafers with respect to the reference finger wafer can be changed. Characteristic variable pitch wafer transfer hand.
のから下段のものにかけて順次短くなっていることを特
徴とする請求項1に記載のピッチ可変ウェハ移載ハン
ド。2. The variable-pitch wafer transfer hand according to claim 1, wherein the length of each of the support members is gradually reduced from the upper one to the lower one.
は、各昇降フィンガーの幅方向に沿った方向であること
を特徴とする請求項1又は2に記載のピッチ可変ウェハ
移載ハンド。3. The variable pitch wafer transfer hand according to claim 1, wherein the moving direction of the slide block is a direction along a width direction of each lifting finger.
降フィンガーの支持部から後方に突出させた部分である
ことを特徴とする請求項1ないし3の何れかに記載のピ
ッチ可変ウェハ移載ハンド。4. The variable-pitch wafer transfer according to claim 1, wherein the lifting operation section of each lifting finger is a portion protruding rearward from a support section of the lifting finger. hand.
ィンガーが交換可能であることを特徴とする請求項1な
いし4の何れかに記載のピッチ可変ウェハ移載ハンド。5. The variable-pitch wafer transfer hand according to claim 1, wherein the slide block and each lifting finger are replaceable.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20312996A JPH1032236A (en) | 1996-07-12 | 1996-07-12 | Variable pitch wafer transfer hand |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20312996A JPH1032236A (en) | 1996-07-12 | 1996-07-12 | Variable pitch wafer transfer hand |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1032236A true JPH1032236A (en) | 1998-02-03 |
Family
ID=16468897
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20312996A Pending JPH1032236A (en) | 1996-07-12 | 1996-07-12 | Variable pitch wafer transfer hand |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1032236A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101245383B1 (en) | 2011-10-21 | 2013-03-19 | 제엠제코(주) | Method for attaching clip of semiconductor package and method for fabricating semiconductor package using the same |
JPWO2014103300A1 (en) * | 2012-12-27 | 2017-01-12 | 川崎重工業株式会社 | End effector device |
WO2017146326A1 (en) * | 2016-02-24 | 2017-08-31 | 제엠제코(주) | Method for attaching clip for semiconductor package, and multi-clip attaching apparatus therefor |
JP2020189390A (en) * | 2019-05-24 | 2020-11-26 | 日本電産サンキョー株式会社 | Method of adjusting industrial robot and instrument for measurement |
-
1996
- 1996-07-12 JP JP20312996A patent/JPH1032236A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101245383B1 (en) | 2011-10-21 | 2013-03-19 | 제엠제코(주) | Method for attaching clip of semiconductor package and method for fabricating semiconductor package using the same |
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