JPH10321993A - Flexible printed board and manufacture thereof - Google Patents

Flexible printed board and manufacture thereof

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JPH10321993A
JPH10321993A JP12989997A JP12989997A JPH10321993A JP H10321993 A JPH10321993 A JP H10321993A JP 12989997 A JP12989997 A JP 12989997A JP 12989997 A JP12989997 A JP 12989997A JP H10321993 A JPH10321993 A JP H10321993A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flexible printed
layer
photosensitive resin
printed wiring
wiring board
Prior art date
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Pending
Application number
JP12989997A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Hara
浩二 原
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication of JPH10321993A publication Critical patent/JPH10321993A/en
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  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form through-holes of very small apertures by exposing and developing photosensitive resin layers into specified patterns to form two insulation protective layers with a conductor circuit sandwiched therebetween. SOLUTION: The printed board is produced by preparing a mask pattern 4 having screen strips 41 arranged at specified pitch corresponding to through- holes 31 of specified apertures on a transparent film, overlaying it on photosensitive resin layer 30 with referring guide holes, exposing and developing to form a first insulation protective layer 3, coating and drying a photosensitive resin on the surface of this layer 3 where a conductor circuit 1 is formed, preparing a mask pattern 8 having screen strips 81 arranged at specified pitch corresponding to through-holes 71 of specified apertures on a transparent film, overlaying it on a photosensitive resin layer 70, exposing and developing to form a second insulation protective layer 7, thus forming through-hole of very small apertures.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なフレキシブ
ルプリント配線板と、その効率的な製造方法とに関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel flexible printed wiring board and an efficient manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】たとえばパーソナルコンピュータ、ビデ
オカメラ、携帯電話その他、各種電子機器の分野で、フ
レキシブルプリント配線板が広く利用されている。通常
のフレキシブルプリント配線板は、所定のパターンを有
する導体回路を、2層の絶縁保護層で挟むことで構成さ
れており、上記絶縁保護層としては通常、溶融はんだに
対する耐熱性(はんだ耐熱性)などを考慮して、ポリイ
ミド、ポリアミドイミドなどの、高耐熱性でしかも可と
う性を有する合成樹脂からなるフィルムが使用されてい
る。
2. Description of the Related Art Flexible printed wiring boards are widely used in the fields of, for example, personal computers, video cameras, mobile phones, and various other electronic devices. An ordinary flexible printed wiring board is configured by sandwiching a conductor circuit having a predetermined pattern between two insulating protective layers, and the insulating protective layer usually has heat resistance to molten solder (solder heat resistance). In consideration of the above, a film made of a synthetic resin having high heat resistance and flexibility such as polyimide and polyamide imide is used.

【0003】また絶縁保護層には、フレキシブルプリン
ト配線板の途中の位置などにおいて、導体回路を外部と
接続するために、微細な通孔が形成されることもある。
かかる通孔は、たとえば絶縁保護層が上記のように合成
樹脂のフィルムにて形成される場合、一般に、金型を用
いたプレス加工によってフィルムを打ち抜いて形成され
る。
In addition, a fine through-hole may be formed in the insulating protective layer at a position in the middle of the flexible printed wiring board to connect a conductor circuit to the outside.
When the insulating protective layer is formed of a synthetic resin film as described above, for example, such through holes are generally formed by punching out the film by press working using a mold.

【0004】合成樹脂のフィルムを絶縁保護層として用
い、かつその所定の位置に、上記のようにプレス加工に
よって通孔を形成した従来のフレキシブルプリント配線
板の製造方法の一例を、以下に説明する。まず、導体回
路を挟む2層の絶縁保護層となる2枚のフィルムを用意
する。それぞれのフィルムには、絶縁保護層となる領域
外の所定の位置に、今後の工程で位置合わせの基準とな
るガイド孔を設けておく。また両フィルムの片面には接
着剤層を設けておく。
An example of a conventional method for manufacturing a flexible printed wiring board in which a synthetic resin film is used as an insulating protective layer and through holes are formed at predetermined positions by press working as described above will be described below. . First, two films serving as two insulating protective layers sandwiching a conductor circuit are prepared. Each film is provided with a guide hole at a predetermined position outside a region serving as an insulating protective layer, which serves as a reference for alignment in a future process. An adhesive layer is provided on one side of both films.

【0005】つぎに、上記2枚のフィルムのうちの少な
くとも一方の所定の位置に、上記ガイド孔を基準とし
て、金型を用いたプレス加工によって通孔を打ち抜く。
つぎに、2枚のフィルムのうちの一方をベースフィルム
として、その接着剤層が設けられた面に、導体回路とな
る金属箔を積層してプレスにより貼り合わせたのち、金
属箔をパターン化して導体回路を形成する。金属箔のパ
ターン化には、いわゆるフォトリソグラフ法などが採用
される。
[0005] Next, a through hole is punched out at a predetermined position of at least one of the two films by press working using a die with reference to the guide hole.
Next, after one of the two films is used as a base film, a metal foil to be a conductor circuit is laminated on the surface provided with the adhesive layer and bonded by pressing, and then the metal foil is patterned. Form a conductive circuit. For patterning the metal foil, a so-called photolithographic method or the like is employed.

【0006】そして、上記ベースフィルムの、導体回路
が形成された面に、やはりガイド孔を基準として位置決
めしつつ、接着剤層を内側にしてもう一方のフィルム
(カバーフィルム)を積層してプレスにより貼り合わせ
ると、絶縁保護層の所定の位置に通孔が形成されたフレ
キシブルプリント配線板が製造される。
Then, another film (cover film) is laminated on the surface of the base film on which the conductive circuit is formed, with the adhesive layer being inside, while positioning with the guide hole as a reference, and pressing. When bonded, a flexible printed wiring board having a through hole formed at a predetermined position on the insulating protective layer is manufactured.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】前に述べた各種の電子
機器類の、いわゆる軽薄短小化の傾向にともなって近
時、フレキシブルプリント配線板についても、導体回路
のより一層の微細化による小型化、高密度化が進行しつ
つあり、それにともなって絶縁保護層の通孔について
も、さらなる微細化と高精度化の要求が高まりつつあ
る。
Recently, with the trend of so-called light and thin electronic devices of various kinds described above, flexible printed wiring boards have recently been reduced in size by further miniaturization of conductive circuits. As the density increases, there is an increasing demand for finer and more precise through-holes in the insulating protective layer.

【0008】しかし、前述したプレス加工によってフィ
ルムに形成できる通孔の口径は、およそ400μm程度
が限界であって、それより口径の小さい通孔は、プレス
加工では形成することができない。これは、プレスによ
ってフィルムにいわゆる「かえり」が生じるためである
と考えられる。また、隣接する通孔間のピッチの限界も
およそ400μm程度であって、それよりピッチが小さ
い場合には、プレス加工時に、フィルムの通孔間の部分
に過大な応力が加わるためか、フィルムが上記の部分で
切れてしまうという問題も生じる。
However, the diameter of the through-hole which can be formed in the film by the above-mentioned press working is limited to about 400 μm, and the through-hole having a smaller diameter cannot be formed by the press working. It is considered that this is because so-called “burrs” are generated on the film by pressing. In addition, the limit of the pitch between adjacent through-holes is about 400 μm, and if the pitch is smaller than that, it may be because excessive stress is applied to the portion between the through-holes of the film at the time of press working. There is also a problem of cutting at the above-mentioned portion.

【0009】さらにまた、導体回路が形成されたベース
フィルムと、カバーフィルムとの貼り合わせにおいて
は、前述した、ガイド孔を基準とした位置合わせによる
両者の貼り合わせの精度がおよそ±150μm程度であ
り、しかもこのずれに、プレス加工によるカバーフィル
ムへの通孔形成時のずれが累積されるため、カバーフィ
ルムに形成した通孔と導体回路との間には、およそ±2
00μm程度のずれが生じるおそれがある。
Further, in the bonding of the base film on which the conductor circuit is formed and the cover film, the accuracy of the bonding between the two based on the above-described alignment based on the guide holes is about ± 150 μm. In addition, since the deviation at the time of forming the through-hole in the cover film by the press working is accumulated in this deviation, the distance between the through-hole formed in the cover film and the conductor circuit is approximately ± 2.
A deviation of about 00 μm may occur.

【0010】それゆえ、とくに導体回路の線幅やピッチ
が数十〜数百μmオーダーである場合に、通孔と導体回
路とがずれてしまって全く用をなさなくなる場合が生じ
るという問題もある。以上のようにプレス加工では、絶
縁保護層の通孔の微細化、高精度化の要求に十分に対応
することができない。
[0010] Therefore, when the line width and the pitch of the conductor circuit are in the order of several tens to several hundreds of μm, there is a problem that the through hole and the conductor circuit may be displaced and useless at all. . As described above, the press working cannot sufficiently cope with the demands for finer holes and higher precision in the insulating protective layer.

【0011】そこで近時、たとえばエキシマレーザーや
炭酸ガスレーザーなどを用いたレーザー加工によって、
フィルムに、これまでよりも微細な通孔をより高精度で
形成する試みがなされている。しかし、レーザー加工に
よってフィルムに均一な通孔を形成できる口径はおよそ
200μm程度が限界であって、それより口径の小さい
通孔は、形状が不揃いになるおそれがあった。これは、
レーザー加工による孔あけの特性として、孔が深くなれ
ばなるほど、孔の周囲がうける熱量が増加して、孔の口
径が、レーザーの照射側ほど不均一に広がるためである
と考えられる。
Therefore, recently, for example, by laser processing using an excimer laser, a carbon dioxide laser, or the like,
Attempts have been made to form finer through-holes in a film with higher precision than before. However, the diameter at which uniform holes can be formed in the film by laser processing is limited to about 200 μm, and holes having smaller diameters may have irregular shapes. this is,
It is considered that the property of drilling by laser processing is that the deeper the hole is, the more heat is applied to the periphery of the hole, and the diameter of the hole is unevenly spread toward the laser irradiation side.

【0012】また従来同様に、あらかじめレーザー加工
によって通孔を形成したカバーフィルムを、導体回路が
形成されたベースフィルムと貼り合わせたのでは、前述
した貼り合わせ時のずれを解消できないので、通常は、
先にベースフィルムと貼り合わせたカバーフィルムに、
あとからレーザー加工によって通孔を形成している。こ
の点は、プレス加工ではほとんど不可能なことであっ
て、レーザー加工の利点の一つに数えられている。
Further, similarly to the conventional case, if the cover film in which the through-hole is formed in advance by laser processing is bonded to the base film on which the conductor circuit is formed, the above-mentioned displacement at the time of bonding cannot be eliminated. ,
To the cover film pasted with the base film first,
Through holes are formed later by laser processing. This point is almost impossible with press working, and is counted as one of the advantages of laser processing.

【0013】しかし、とくに微細な導体回路は、レーザ
ーの出力が少しでも高すぎると簡単に断線してしまうお
それがあり、また断線に至らなくても焼けて用をなさな
くなるおそれがある。また、レーザー加工時に発生する
熱によって、フレキシブルプリント配線板に、予想以上
のうねりやしわが発生するおそれもある。このためレー
ザー加工では、導体回路の焼けなどを防止するためにそ
の都度、レーザー出力の調整行ったり、あるいはうねり
やしわの発生を抑制すべく、導体回路のマージン(最も
外側の導体回路と、配線板の側縁との距離)に余裕を持
たせたりする必要があり、生産効率の点で問題がある
上、それでもなお断線などの不良を完全になくすること
はできないので、製造の歩留りの点でも満足のゆく結果
がえられないのが現状である。
However, particularly fine conductor circuits may be easily broken if the output of the laser is too high, and even if they are not broken, they may burn and become useless. In addition, heat generated during laser processing may cause unexpected undulations and wrinkles on the flexible printed wiring board. For this reason, in laser processing, the laser output must be adjusted each time to prevent burnout of the conductor circuit, or the margin of the conductor circuit (the outermost conductor circuit and the wiring (The distance from the side edge of the plate) needs to have a margin, and there is a problem in terms of production efficiency. Still, it is not possible to completely eliminate defects such as disconnection, so that the production yield However, at present, satisfactory results cannot be obtained.

【0014】さらに接着剤層は、基本的にレーザー加工
が困難であるため、とくにカバーフィルムの貼り合わせ
には、従来のように接着剤層を使用することができず、
接着剤層がなくても貼り合わせが可能な特殊なカバーフ
ィルムを使用しなけらばならないという問題もある。本
発明の主たる目的は、絶縁保護層に、従来法では形成が
困難であったごく微小な口径の通孔などが高精度で形成
された、新規なフレキシブルプリント配線板を提供する
ことにある。また、本発明の他の目的は、かかるフレキ
シブルプリント配線板を効率的かつ高収率で製造しうる
製造方法を提供することにある。
Furthermore, since the adhesive layer is basically difficult to be laser-processed, the adhesive layer cannot be used especially for bonding a cover film as in the past.
There is also a problem that a special cover film that can be bonded without an adhesive layer must be used. A main object of the present invention is to provide a novel flexible printed wiring board in which a very small through hole or the like, which has been difficult to form by a conventional method, is formed in an insulating protective layer with high precision. Another object of the present invention is to provide a manufacturing method capable of manufacturing such a flexible printed wiring board efficiently and with high yield.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の、本発明のフレキシブルプリント配線板は、導体回路
が、2層の絶縁保護層の間に挟まれたものであって、上
記2層の絶縁保護層がともに、感光性樹脂の層を所定の
パターンに露光処理し、ついで現像処理して形成されて
いることを特徴とするものである。
According to the present invention, there is provided a flexible printed wiring board in which a conductor circuit is sandwiched between two insulating protective layers. Are formed by exposing the photosensitive resin layer to a predetermined pattern and then developing the same.

【0016】また、本発明のフレキシブルプリント配線
板の製造方法は、導体回路となる金属箔の片面に形成し
た感光性樹脂の層を、所定のパターンに露光処理し、現
像処理して1層目の絶縁保護層を形成するとともに、金
属箔をパターン化して導体回路を形成したのち、上記1
層目の絶縁保護層の、導体回路が形成された面に感光性
樹脂の層を形成し、所定のパターンに露光処理し、現像
処理して2層目の絶縁保護層を形成して、上記両絶縁保
護層の間に導体回路が挟まれたフレキシブルプリント配
線板を製造することを特徴とするものである。
Further, in the method of manufacturing a flexible printed wiring board according to the present invention, a photosensitive resin layer formed on one side of a metal foil to be a conductive circuit is exposed to a predetermined pattern, developed and subjected to a first layer. After forming an insulating protective layer and patterning the metal foil to form a conductive circuit,
A photosensitive resin layer is formed on the surface of the second insulating protective layer on which the conductive circuit is formed, and is exposed to a predetermined pattern and developed to form a second insulating protective layer. A flexible printed wiring board in which a conductor circuit is sandwiched between both insulating protective layers is manufactured.

【0017】上記構成からなる、本発明のフレキシブル
プリント配線板においては、導体回路を挟む2層の絶縁
層がともに、感光性樹脂の層から、露光に使用する光の
回折が生じない範囲で微細な加工が可能であるととも
に、露光に使用するマスクパターンの精密な位置合わせ
によって高精度化が可能であるフォトリソグラフ法によ
って形成される。
In the flexible printed wiring board of the present invention having the above structure, both of the two insulating layers sandwiching the conductor circuit are finely divided from the photosensitive resin layer within a range in which light used for exposure is not diffracted. It is formed by a photolithographic method that can perform high-precision processing and can achieve high precision by precise alignment of a mask pattern used for exposure.

【0018】このため本発明のフレキシブルプリント配
線板は、絶縁保護層に、従来法では形成が困難であっ
た、たとえば口径が100μm以下、ピッチが同じく1
00μm以下程度の、ごく微小な口径の通孔などが、お
よそ±50μm以下程度の高精度で形成されたものとな
る。また、本発明の製造方法によれば、上記のフレキシ
ブルプリント配線板を構成する2層の絶縁保護層がとも
に、上記のように微細で高精度な加工が可能で位置ずれ
などのおそれがなく、しかも導体回路の断線などを生じ
るおそれもないフォトリソグラフ法によって形成される
ため、フレキシブルプリント配線板を効率的かつ高収率
で製造することが可能となる。
Therefore, the flexible printed wiring board of the present invention is difficult to form on the insulating protective layer by the conventional method.
Through holes with a very small diameter of about 00 μm or less are formed with high accuracy of about ± 50 μm or less. Further, according to the manufacturing method of the present invention, both of the two insulating protective layers constituting the above-mentioned flexible printed wiring board can be processed finely and with high precision as described above, and there is no risk of misalignment. Moreover, since the flexible printed wiring board is formed by a photolithographic method without a risk of disconnection of the conductor circuit, it is possible to efficiently manufacture the flexible printed wiring board with a high yield.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下に本発明を、その実施の形態
の一例を示す図面を参照しつつ説明する。まず製造方法
の一例から説明する。始めに図2(a) にみるように、導
体回路となる金属箔10の片面に、当該金属箔10のそ
りやカールなどを防止するための接着剤付きのバッキン
グフィルム2を、たとえばラミネータなどを用いて貼り
つける。また金属箔10には、表裏の判別と大まかな位
置合わせのためのガイド孔を形成しておく。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the drawings showing an example of the embodiment. First, an example of the manufacturing method will be described. First, as shown in FIG. 2 (a), a backing film 2 with an adhesive for preventing warpage or curling of the metal foil 10 is provided on one side of a metal foil 10 to be a conductor circuit, for example, a laminator or the like. Use and paste. Further, a guide hole is formed in the metal foil 10 for discrimination between the front and back sides and rough alignment.

【0020】上記金属箔10としては、エッチング加工
性やコスト、導電性などを考慮して銅箔が好適に使用さ
れるが、用途に応じてアルミニウム、ステンレス鋼、鉄
などの他の金属の箔を使用してもよい。またバッキング
フィルム2としては、耐化学薬品性や耐熱性などを考慮
して、PET(ポリエチレンテレフタレート)などのポ
リエステルや、あるいは前述したポリイミド、ポリアミ
ドイミドなどの、各種合成樹脂からなるフィルムが好適
に使用される。
As the metal foil 10, a copper foil is preferably used in consideration of etching workability, cost, conductivity and the like. However, foils of other metals such as aluminum, stainless steel, iron and the like are used depending on the application. May be used. Further, as the backing film 2, a film made of polyester such as PET (polyethylene terephthalate) or various synthetic resins such as the above-described polyimide and polyamide imide is preferably used in consideration of chemical resistance and heat resistance. Is done.

【0021】つぎに図2(b) にみるように、金属箔10
のもう片方の面に、絶縁保護層となる感光性樹脂の層3
0を形成する。感光性樹脂の層30は、当該感光性樹脂
の溶液を、金属箔10の表面に塗布し、乾燥させること
により形成される。溶液の塗布には種々の装置や器具が
使用できるが、形成される層の厚みの均一性や作業性、
生産性の点で、たとえばスーパーダイコータが好適に使
用される。
Next, as shown in FIG.
On the other surface of the photosensitive resin layer 3 serving as an insulating protective layer
0 is formed. The photosensitive resin layer 30 is formed by applying a solution of the photosensitive resin on the surface of the metal foil 10 and drying the solution. Various devices and instruments can be used for applying the solution, but the uniformity of the thickness of the formed layer, workability,
In terms of productivity, for example, a super die coater is preferably used.

【0022】上記層30を形成する感光性樹脂として
は、フォトリソグラフ法に使用される種々のものがいず
れも使用可能である。すなわち感光性樹脂は、 露光処理によって露光された部分は硬化反応する
が、未露光の部分は未硬化であるため、この未露光の部
分が現像処理によって選択的に除去される、いわゆるネ
ガ−ポジ型のものと、 その逆に、露光処理によって露光された部分が現像
処理によって選択的に除去される、いわゆるポジ−ポジ
型のものとに大別されるが、本発明ではこのいずれの型
の感光性樹脂を使用してもよい。ちなみにこの例では、
のネガ−ポジ型の感光性樹脂を使用している。
As the photosensitive resin for forming the layer 30, any of the various resins used in the photolithographic method can be used. That is, the photosensitive resin undergoes a curing reaction in the portion exposed by the exposure process, but the unexposed portion is uncured, so that the unexposed portion is selectively removed by a developing process, so-called negative-positive. Type and, conversely, a so-called positive-positive type, in which a portion exposed by the exposure process is selectively removed by a development process, and in the present invention, any of these types is used. A photosensitive resin may be used. By the way, in this example,
The negative-positive type photosensitive resin is used.

【0023】また感光性樹脂としては、前に述べたはん
だ耐熱性などにすぐれた絶縁性保護層を形成できるもの
が、好適に使用される。より具体的には、(1) 上記はん
だ耐熱性や、あるいは熱的安定性などの向上のためにガ
ラス転移温度が150℃以上であり、また(2) 部品実装
時の貼り合わせ誤差を小さくするために25℃における
湿度膨張係数が40ppm/%RH以下であり、しか
も、(3) とくに通信、情報分野などでの使用において、
データの書き込みや読み込み動作時に誤動作やエラーを
生じないように、かかるエラーの原因となるアウトガス
量が0.2μg/cm2 以下であるような絶縁性保護層
を形成しうる感光性樹脂が好ましい。
As the photosensitive resin, those which can form an insulating protective layer having excellent solder heat resistance as described above are preferably used. More specifically, (1) the above glass has a glass transition temperature of 150 ° C. or higher to improve the solder heat resistance or thermal stability, and (2) reduce the bonding error during component mounting. Therefore, the coefficient of humidity expansion at 25 ° C. is 40 ppm /% RH or less, and (3) especially in the communication and information fields,
A photosensitive resin capable of forming an insulating protective layer having an outgas amount of 0.2 μg / cm 2 or less which causes such an error is preferable so as not to cause a malfunction or an error during a data write or read operation.

【0024】上記のうち湿度膨張係数とは、一定温度
(通常は25℃)における、相対湿度1%RHあたり
の、絶縁性保護層などの寸法変化量である。かかる湿度
膨張係数は、たとえば熱機械試験機などを使用して、お
よそ下記の手順で求められる。まず試料を、一定温度に
保たれた測定室内に置き、初期湿度H1 (%RH)の条
件で一定時間放置して伸縮量が一定になった(飽和し
た)試料の、所定の荷重をかけた状態での長さL1 (m
m)を測定する。
The humidity expansion coefficient mentioned above is a dimensional change of the insulating protective layer and the like per 1% relative humidity RH at a constant temperature (usually 25 ° C.). Such a humidity expansion coefficient is obtained by the following procedure using, for example, a thermomechanical tester. First, a sample is placed in a measurement room maintained at a constant temperature, and left under a condition of initial humidity H 1 (% RH) for a certain period of time, and a predetermined load is applied to the sample whose expansion and contraction amount has become constant (saturated). Length L 1 (m
m) is measured.

【0025】次いで、測定室内の湿度を一気に終末湿度
2 (%RH)まで上昇させたのち、この終末湿度で一
定時間放置して飽和した試料の、前記と同じ荷重をかけ
た状態での長さを再び測定する。そしてこの測定値か
ら、試料の、もとの長さL1 からの伸び量D1 (mm)
を求め、上記の各データから、下記式により、湿度膨張
係数(ppm/%RH)を算出する。
Then, the humidity in the measuring chamber is increased to the terminal humidity H 2 (% RH) at a stretch, and the sample saturated by leaving the terminal humidity at the terminal humidity for a certain period of time under the same load as above is applied. Measure again. From this measured value, the elongation D 1 (mm) of the sample from the original length L 1
Is calculated, and the humidity expansion coefficient (ppm /% RH) is calculated from the above data by the following equation.

【0026】[0026]

【数1】 (Equation 1)

【0027】前述した(1) 〜(3) の絶縁性保護層の特性
は、とくに本発明のフレキシブルプリント配線板を、光
学部品や電子部品を実装する支持基板として使用する際
に重要であり、かかる特性を有する感光性樹脂として
は、これに限定されないがたとえば、樹脂分として重量
平均分子量1万以上のエポキシ樹脂を含有し、かつ波長
300〜400nmの光の照射によって硬化反応する、
日本ペイント(株)製の商品名「プロビコート」シリー
ズなどがあげられる。
The above-mentioned properties of the insulating protective layer (1) to (3) are important especially when the flexible printed wiring board of the present invention is used as a support substrate for mounting optical components and electronic components. Examples of the photosensitive resin having such characteristics include, but are not limited to, an epoxy resin having a weight average molecular weight of 10,000 or more as a resin component, and undergoing a curing reaction by irradiation with light having a wavelength of 300 to 400 nm.
Nippon Paint Co., Ltd. product name "Provicoat" series.

【0028】感光性樹脂の層30の厚みは、形成する絶
縁保護層の厚みに合わせて適宜、設定すればよい。つぎ
に、図2(c) にみるように感光性樹脂の層30の上に、
前述したガイド孔を基準としてマスクパターン4を重ね
たのち、その上から図中白矢印で示すように光を照射し
て露光処理を行う。
The thickness of the photosensitive resin layer 30 may be appropriately set according to the thickness of the insulating protective layer to be formed. Next, as shown in FIG. 2 (c), on the photosensitive resin layer 30,
After the mask pattern 4 is overlaid on the basis of the above-described guide holes, light is irradiated from above on the mask pattern 4 as indicated by white arrows in the figure to perform an exposure process.

【0029】この際、この例では前記のようにネガ−ポ
ジ型の感光性樹脂を使用しているため、マスクパターン
4としては、通孔を形成する位置に、形成する通孔の形
状、寸法に対応した遮光層41が設けられ、他は透明な
フィルムが用いられる。上記の露光処理によって感光性
樹脂の層30には、図3(a) にみるように、遮光層41
に対応した未露光で未硬化の部分30aと、それ以外
の、露光されて硬化反応した部分30bとが生じる。
At this time, in this example, since the negative-positive photosensitive resin is used as described above, the mask pattern 4 is formed at the position where the through hole is to be formed, in the shape and size of the through hole to be formed. Are provided, and a transparent film is used for the other. As shown in FIG. 3A, the light-shielding layer 41 is formed on the photosensitive resin layer 30 by the above exposure process.
An unexposed and uncured portion 30a corresponding to the above, and another exposed and cured portion 30b are generated.

【0030】そこでつぎに、感光性樹脂の現像剤(たと
えば未硬化の感光性樹脂を溶解しうる溶剤など)を用い
て上記層30を現像処理すると、図3(b) にみるように
未露光の部分30aが選択的に除去されて、前記遮光層
41に対応した位置に通孔31を有する1層目の絶縁保
護層3が形成される。またこのあと、露光部分30bの
硬化反応をほぼ完結させるために、絶縁保護層3を加熱
処理して後硬化させてもよい。
Next, when the layer 30 is developed using a photosensitive resin developer (eg, a solvent capable of dissolving the uncured photosensitive resin), as shown in FIG. Is selectively removed to form a first insulating protection layer 3 having a through hole 31 at a position corresponding to the light shielding layer 41. Thereafter, in order to substantially complete the curing reaction of the exposed portion 30b, the insulating protective layer 3 may be post-cured by heat treatment.

【0031】つぎに、図3(c) にみるようにバッキング
フィルム2をはく離したのち、露出した金属箔10の片
面に、図4(a) にみるようにエッチングレジストの層5
を形成する。エッチングレジストとしては、従来公知の
種々のレジスト剤が使用できる。ちなみにこの例では、
先の感光性樹脂と同様にネガ−ポジ型の、感光性のレジ
スト剤を使用している。
Next, as shown in FIG. 3 (c), after the backing film 2 is peeled off, one side of the exposed metal foil 10 is coated with an etching resist layer 5 as shown in FIG. 4 (a).
To form Various conventionally known resist agents can be used as the etching resist. By the way, in this example,
As in the case of the photosensitive resin, a negative-positive photosensitive resist is used.

【0032】つぎに図4(b) にみるように、上記エッチ
ングレジストの層5の上にマスクパターン6を重ねたの
ち、その上から図中白矢印で示すように光を照射して露
光処理を行う。この際、この例では上記のようにネガ−
ポジ型の感光性のレジスト剤を使用しているため、マス
クパターン6としては、エッチングの際に金属箔を残し
て導体回路を形成する位置に、形成する導体回路の形
状、寸法に対応して透光部分が設けられ、その周囲の、
エッチングの際に金属箔を除去する部分に遮光層61が
設けられた、透明なフィルムが用いられる。
Next, as shown in FIG. 4B, after a mask pattern 6 is superimposed on the etching resist layer 5, light is irradiated from above on the mask pattern 6 as indicated by white arrows in the figure to perform an exposure process. I do. At this time, in this example, the negative
Since a positive photosensitive resist agent is used, the mask pattern 6 is formed at a position where a metal foil is left during etching to form a conductor circuit, corresponding to the shape and dimensions of the conductor circuit to be formed. A light-transmitting portion is provided, around which
A transparent film in which a light shielding layer 61 is provided in a portion where a metal foil is removed during etching is used.

【0033】上記のマスクパターン6は、前述したガイ
ド孔を基準として大まかに位置合わせされたのち、たと
えば顕微鏡などを使用して、先の絶縁保護層3の通孔3
1に対して精密に位置決めされる。そしてこの操作によ
り、絶縁保護層3の通孔31と、形成される導体回路と
が高精度で位置決めされる。上記の露光処理によってエ
ッチングレジストの層5には、図4(c) にみるように、
遮光層61に対応した未露光で未硬化の部分51と、そ
れ以外の、露光されて硬化反応した部分52とが生じ
る。
After the above mask pattern 6 is roughly aligned with the above-mentioned guide hole as a reference, for example, using a microscope or the like, the through hole 3 of the insulating protection layer 3 is formed.
1 is precisely positioned. By this operation, the through hole 31 of the insulating protection layer 3 and the conductor circuit to be formed are positioned with high accuracy. As shown in FIG. 4C, the layer 5 of the etching resist by the above-described exposure process is
An unexposed and uncured portion 51 corresponding to the light-shielding layer 61 and another exposed and cured portion 52 are generated.

【0034】つぎに、エッチングレジストの現像剤(た
とえば未硬化のレジスト剤を溶解しうる溶剤など)を用
いて上記層5を現像処理すると、図5(a) に見るよう
に、層5のうち遮光層61に対応した未露光の部分51
が選択的に除去されて、金属箔10上に、導体回路の形
状、寸法に対応した形状を有する、露光により硬化反応
した部分52が残される。
Next, when the layer 5 is developed using an etching resist developer (eg, a solvent capable of dissolving the uncured resist agent), as shown in FIG. Unexposed portion 51 corresponding to light-shielding layer 61
Is selectively removed, and a portion 52 having a shape corresponding to the shape and dimensions of the conductive circuit, which has been cured by exposure, is left on the metal foil 10.

【0035】そこでつぎに、所定のエッチング液を用い
て金属箔10をエッチング処理し、水洗後、エッチング
レジストの層52を除去すると、図5(b) にみるように
絶縁保護層3の片面に、所定の形状を有する導体回路1
が、前述したように絶縁保護層3の通孔31と高精度で
位置決めされた状態で形成される。つぎに図5(c) にみ
るように、上記絶縁保護層3の、導体回路1が形成され
た面に、先のものと同じネガ−ポジ型の感光性樹脂の溶
液を、やはりスーパーダイコータなどを用いて塗布し、
乾燥させて、感光性樹脂の層70を形成する。
Next, the metal foil 10 is etched using a predetermined etching solution, washed with water, and then the etching resist layer 52 is removed. As shown in FIG. Conductor circuit 1 having a predetermined shape
Are formed in a state of being positioned with high precision with the through holes 31 of the insulating protective layer 3 as described above. Next, as shown in FIG. 5 (c), the same negative-positive photosensitive resin solution as above is applied to the surface of the insulating protective layer 3 on which the conductor circuit 1 is formed, also using a super die coater or the like. Apply using
After drying, a layer 70 of a photosensitive resin is formed.

【0036】スーパーダイコータを使用すれば、上記の
ように導体回路1が形成されて微小な凹凸のある表面に
おいても、厚みが均一で、しかも導体回路1間の微小な
凹部にも感光性樹脂が完全に充てんされた層70を形成
することができる。感光性樹脂としては、2層の絶縁保
護層の線膨張係数を揃えて、フレキシブルプリント配線
板のそりやカール、しわ、折れなどを防止するために、
先の絶縁保護層3に使用したのと同じ感光性樹脂を使用
するのが好ましい。
If a super die coater is used, the photosensitive resin is uniform even on the surface having the fine irregularities formed on the conductive circuit 1 as described above, and the photosensitive resin is also applied to the minute concave portions between the conductive circuits 1. A completely filled layer 70 can be formed. As a photosensitive resin, the linear expansion coefficients of the two insulating protective layers are made uniform to prevent warping, curling, wrinkling, and breaking of the flexible printed wiring board.
It is preferable to use the same photosensitive resin used for the insulating protective layer 3 described above.

【0037】つぎに、通孔を形成する位置に、形成する
通孔の形状、寸法に対応した遮光層81が設けられ、他
は透明フィルムからなるマスクパターン8を、図6(a)
にみるように感光性樹脂の層70の上に重ねたのち、そ
の上から、図中白矢印で示すように光を照射して露光処
理を行うと、当該層70に、図6(b) にみるように遮光
層81に対応した未露光で未硬化の部分70aと、それ
以外の、露光されて硬化反応した部分70bとが生じ
る。
Next, a light-shielding layer 81 corresponding to the shape and size of the through-hole to be formed is provided at the position where the through-hole is to be formed.
As shown in FIG. 6, after being overlaid on the photosensitive resin layer 70, the layer 70 is exposed to light as indicated by white arrows in FIG. As shown in FIG. 7, an unexposed and uncured portion 70a corresponding to the light shielding layer 81 and another exposed and cured portion 70b are generated.

【0038】なおこの露光工程においてマスクパターン
8は、先のマスクパターン6と同様に、前述したガイド
孔を基準として大まかに位置合わせされたのち、たとえ
ば顕微鏡などを使用して、導体回路1、または先の絶縁
保護層3に対して精密に位置決めされる。そしてこの操
作により、導体回路1と、形成される2層目の絶縁保護
層の通孔とが高精度で位置決めされる。
In this exposure step, the mask pattern 8 is roughly aligned with the above-described guide hole as in the case of the mask pattern 6, and then, for example, by using a microscope or the like, the conductive circuit 1 or It is precisely positioned with respect to the insulating protection layer 3. By this operation, the conductor circuit 1 and the through hole of the second insulating protection layer to be formed are positioned with high accuracy.

【0039】つぎに、感光性樹脂の現像剤(前記溶剤な
ど)を用いて上記層70を現像して、図1にみるように
未露光の部分70aを選択的に除去したのち、さらに必
要に応じて、露光部分70bの硬化反応をほぼ完結させ
るために加熱処理すると、前記遮光層81に対応した位
置に通孔71を有する2層目の絶縁保護層が形成され
て、導体回路1が2層の絶縁保護層3、7で挟まれたフ
レキシブルプリント配線板FPが完成する。
Next, the layer 70 is developed by using a photosensitive resin developer (such as the solvent) to selectively remove the unexposed portions 70a as shown in FIG. Accordingly, when heat treatment is performed to substantially complete the curing reaction of the exposed portion 70b, a second insulating protection layer having a through hole 71 at a position corresponding to the light shielding layer 81 is formed, and the conductor circuit 1 is The flexible printed wiring board FP sandwiched between the insulating protection layers 3 and 7 is completed.

【0040】上記のようにして製造されたフレキシブル
プリント配線板FPは、以上の説明から明らかなよう
に、両絶縁保護層3、7がともに感光性樹脂の層30、
70から、フォトリソグラフ法によって形成されている
ため、それぞれの絶縁保護層3、7に形成された通孔3
1、71はいずれも、従来法では形成が困難であったご
く微小な口径を有するものとすることか可能である。ま
た上記の通孔31、71はいずれも、導体回路1に対し
て高精度で位置決めされたものとなる。
As is clear from the above description, the flexible printed wiring board FP manufactured as described above has both of the insulating protective layers 3 and 7 both made of the photosensitive resin layer 30,
70, the through holes 3 formed in the respective insulating protective layers 3 and 7 are formed by the photolithographic method.
Both 1 and 71 can have very small diameters, which were difficult to form by the conventional method. In addition, both of the through holes 31 and 71 are positioned with high precision with respect to the conductor circuit 1.

【0041】なお上記の例では、導体回路1を挟む2層
の絶縁保護層3、7の両方に通孔を形成していたが、通
孔は、いずれか一方の絶縁保護層のみに形成するだけで
もよい。また絶縁保護層3、7には、導体回路1に達す
る通孔31、71だけでなく、たとえば両絶縁保護層を
貫通する通孔や、絶縁保護層の縁部の切込みなどをも、
フォトリソグラフ法によって同時に形成してもよい。
In the above example, the through holes are formed in both of the two insulating protective layers 3 and 7 sandwiching the conductor circuit 1, but the through holes are formed in only one of the insulating protective layers. Or just In addition, the insulating protection layers 3 and 7 include not only the through holes 31 and 71 that reach the conductor circuit 1 but also, for example, through holes that penetrate both insulating protection layers and cuts in the edges of the insulating protection layers.
They may be formed simultaneously by a photolithographic method.

【0042】絶縁保護層3、7は、それぞれの層を形成
するごとに、加熱処理して後硬化させてもよいし、両層
をまとめて、あとから一度に加熱処理して後硬化させて
もよい。導体回路1はフォトリソグラフ法以外の方法で
形成してもよい。その他、本発明の要旨を変更しない範
囲で、種々の変更を施すことが可能である。
The insulating protective layers 3 and 7 may be heat-treated and post-cured each time the respective layers are formed, or may be heat-treated at once and post-cured after combining the two layers. Is also good. The conductor circuit 1 may be formed by a method other than the photolithographic method. In addition, various changes can be made without changing the gist of the present invention.

【0043】[0043]

【実施例】以下にこの発明を、実施例、比較例に基づい
てい説明する。 実施例 厚み18μmの電解銅箔の片面に、厚み70μmの接着
剤付きのPET製のバッキングフィルムを、ラミネータ
を用いて貼り合わせるとともに、銅箔に、表裏の判別と
大まかな位置合わせのためのガイド孔を形成したのち、
銅箔のもう片方の面に、スーパーダイコータを用いて感
光性樹脂〔前出の日本ペイント(株)製の商品名「プロ
ビコート」〕を塗布し、100℃で30分間、乾燥させ
て、厚み25μmの感光性樹脂の層を形成した。
The present invention will be described below based on examples and comparative examples. Example A 70-μm-thick PET backing film with an adhesive was attached to one side of an 18 μm-thick electrolytic copper foil using a laminator, and a guide for discrimination between front and back and rough positioning was made on the copper foil. After forming the hole,
The other side of the copper foil was coated with a photosensitive resin (trade name “Provicoat” manufactured by Nippon Paint Co., Ltd.) using a super die coater, dried at 100 ° C. for 30 minutes, and dried to a thickness of 25 μm. Was formed.

【0044】つぎに、所定の口径の通孔に対応した遮光
層が、所定のピッチで透明フィルム上に配列されたマス
クパターンを用意した。そしてこのマスクパターンを、
前記ガイド孔を基準として感光性樹脂の層の上に重ね
て、その上から波長365nmの光を露光(露光量15
00mj/cm2)したのち、上記プロビコートの専用
現像剤を用いて感光性樹脂の層を現像して、1層目の絶
縁保護層を形成した。
Next, a mask pattern was prepared in which light-shielding layers corresponding to through holes having a predetermined diameter were arranged on a transparent film at a predetermined pitch. And this mask pattern,
The photosensitive resin layer is superposed on the photosensitive resin layer with reference to the guide hole, and light having a wavelength of 365 nm is exposed from above (an exposure amount of 15 nm).
MJ / cm 2) were then, by developing the layer of photosensitive resin using a dedicated developer of the Purobikoto, to form a first insulating protective layer.

【0045】つぎに、バッキングフィルムをはがして露
出した銅箔の表面に、レジスト液を塗布し、乾燥させて
エッチングレジストの層を形成し、ついでその上にマス
クパターンを重ねて露光、現像したのち、エッチング液
を用いて銅箔をエッチングして、導体回路を形成した。
この際、マスクパターンは、前述したガイド孔を基準と
して大まかに位置合わせしたのち、拡大鏡を使用して、
先の絶縁保護層の通孔に対して精密に位置決めした。
Next, a resist solution is applied to the exposed surface of the copper foil by peeling the backing film, and then dried to form an etching resist layer. Then, a mask pattern is superposed thereon, followed by exposure and development. The copper foil was etched using an etchant to form a conductor circuit.
At this time, the mask pattern is roughly aligned with the guide hole described above as a reference, and then, using a magnifying glass,
It was precisely positioned with respect to the through hole of the insulating protective layer.

【0046】つぎに、1層目の絶縁保護層の、導体回路
が形成された表面に再度、スーパーダイコータを用いて
感光性樹脂〔前出の日本ペイント(株)製の商品名「プ
ロビコート」〕を塗布し、100℃で30分間、乾燥さ
せて、厚み25μmの感光性樹脂の層を形成した。つぎ
に、所定の口径の通孔に対応した遮光層が、所定のピッ
チで透明フィルム上に配列されたマスクパターンを用意
し、このマスクパターンを感光性樹脂の層の上に重ね
て、その上から前記と同条件で同波長の光を露光したの
ち、上記プロビコートの専用現像剤を用いて感光性樹脂
の層を現像して、2層目の絶縁保護層を形成した。
Next, the surface of the first insulating protective layer on which the conductor circuit is formed is again subjected to a photosensitive resin using a super die coater (“Provicoat” (trade name, manufactured by Nippon Paint Co., Ltd.)). Was applied and dried at 100 ° C. for 30 minutes to form a photosensitive resin layer having a thickness of 25 μm. Next, a light-shielding layer corresponding to a through hole having a predetermined diameter prepares a mask pattern arranged on a transparent film at a predetermined pitch, and this mask pattern is superimposed on a layer of a photosensitive resin. After exposure to light of the same wavelength under the same conditions as described above, the photosensitive resin layer was developed using the dedicated developer for Provicoat to form a second insulating protective layer.

【0047】そして最後に、両絶縁保護層を加熱処理し
て後硬化させて、フレキシブルプリント配線板を製造し
た。上記のフレキシブルプリント配線板を、両絶縁保護
層用のマスクパターンの、通孔に対応した遮光層の大き
さを違えて製造し、絶縁保護層の通孔の状態を、顕微鏡
によって観察したところ、最小で口径25μmまでの、
導体回路に達する通孔が、問題なく形成されているのが
確認された。
Finally, both insulating protective layers were heat-treated and post-cured to produce a flexible printed wiring board. The above flexible printed wiring board, the mask pattern for both insulating protective layers, manufactured with a different size of the light-shielding layer corresponding to the through holes, the state of the through holes of the insulating protective layer was observed with a microscope, Up to 25μm diameter,
It was confirmed that the through hole reaching the conductor circuit was formed without any problem.

【0048】また両絶縁保護層の通孔の加工精度、つま
り通孔と導体回路との位置の誤差を測定したところ±5
0μm以下であって、通孔がきわめて高精度に形成され
ているのが確認された。さらに、一定の口径の通孔を有
する絶縁保護層をそなえた実施例のフレキシブルプリン
ト配線板を連続的に生産して、製造の歩留りを求めたと
ころ95%であった。また導体回路の断線は一つも確認
されなかった。
The processing accuracy of the through-holes of both insulating protective layers, that is, the error in the position between the through-holes and the conductor circuit was measured.
It was 0 μm or less, and it was confirmed that the through holes were formed with extremely high precision. Furthermore, the flexible printed wiring board of the example provided with an insulating protective layer having a through hole of a fixed diameter was continuously produced, and the production yield was determined to be 95%. Also, no disconnection of the conductor circuit was confirmed.

【0049】また絶縁保護層のガラス転移温度およびア
ウトガス量を、それぞれ常法により測定したところ、ガ
ラス転移温度は160℃、アウトガス量は2.6×10
-4μg/cm2 であった。さらに絶縁保護層の湿度膨張
係数を、前記の方法で測定したところ35ppm/%R
Hであった。なお測定の条件は、温度25℃、初期湿度
1 =30%RH、終末湿度H2 =85%RH、昇湿速
度1%RH/分、試料長測定時の荷重5.0gとした。
When the glass transition temperature and the outgas amount of the insulating protective layer were measured by a conventional method, the glass transition temperature was 160 ° C. and the outgas amount was 2.6 × 10 6
-4 μg / cm 2 . Further, the humidity expansion coefficient of the insulating protective layer was measured by the method described above, and was found to be 35 ppm /% R.
H. The measurement conditions were a temperature of 25 ° C., an initial humidity H 1 = 30% RH, an end humidity H 2 = 85% RH, a humidification rate of 1% RH / min, and a load of 5.0 g when measuring the sample length.

【0050】比較のために、従来法であるプレス加工に
よるフィルムへの通孔の形成を利用したフレキシブルプ
リント配線板の製造方法(比較例1)、およびエキシマ
レーザーを用いたレーザー加工によるフィルムへの通孔
の形成を利用したフレキシブルプリント配線板の製造方
法(比較例2)において、上記と同様にして通孔の口径
の最小範囲、加工精度、導体回路の断線の有無、および
製造の歩留りを求めたところ、下記表1に示すようにい
ずれの従来法も、通孔の口径の微小さ、加工精度および
製造の歩留りの点で、実施例には及ばなかった。またレ
ーザー加工をした比較例2では導体回路の断線が発生し
た。
For comparison, a method of manufacturing a flexible printed wiring board utilizing formation of a through hole in a film by conventional press working (Comparative Example 1), and a method of forming a film by laser processing using an excimer laser. In the method for manufacturing a flexible printed wiring board utilizing the formation of through holes (Comparative Example 2), the minimum range of the diameter of the through holes, processing accuracy, presence / absence of disconnection of the conductor circuit, and production yield were determined in the same manner as described above. However, as shown in Table 1 below, any of the conventional methods was inferior to the examples in terms of the minuteness of the diameter of the through-hole, the processing accuracy, and the production yield. In Comparative Example 2 where the laser processing was performed, the conductor circuit was broken.

【0051】[0051]

【表1】 [Table 1]

【0052】[0052]

【発明の効果】以上、詳述したようにこの発明によれ
ば、絶縁保護層に、従来法では形成が困難であったごく
微小な口径の通孔などが高精度で形成されたフレキシブ
ルプリント配線板と、その効率的かつ高収率な製造方法
とを提供できるという特有の作用効果を奏する。
As described above, according to the present invention, according to the present invention, a flexible printed wiring in which a very small through hole or the like which is difficult to form by the conventional method is formed in the insulating protective layer with high precision. It has a specific effect of being able to provide a plate and an efficient and high-yield production method thereof.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明のフレキシブルプリント配線板の、実
施の形態の一例を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of an embodiment of a flexible printed wiring board of the present invention.

【図2】同図(a) 〜(c) は、図1のフレキシブルプリン
ト配線板を製造する工程を示す断面図である。
FIGS. 2 (a) to 2 (c) are cross-sectional views showing steps of manufacturing the flexible printed wiring board of FIG.

【図3】同図(a) 〜(c) は、図1のフレキシブルプリン
ト配線板を製造する工程を示す断面図である。
FIGS. 3A to 3C are cross-sectional views showing steps of manufacturing the flexible printed wiring board of FIG.

【図4】同図(a) 〜(c) は、図1のフレキシブルプリン
ト配線板を製造する工程を示す断面図である。
FIGS. 4A to 4C are cross-sectional views showing steps of manufacturing the flexible printed wiring board of FIG.

【図5】同図(a) 〜(c) は、図1のフレキシブルプリン
ト配線板を製造する工程を示す断面図である。
FIGS. 5A to 5C are cross-sectional views showing steps of manufacturing the flexible printed wiring board of FIG.

【図6】同図(a)(b)は、図1のフレキシブルプリント配
線板を製造する工程を示す断面図である。
FIGS. 6A and 6B are cross-sectional views showing steps of manufacturing the flexible printed wiring board of FIG.

【符号の説明】 FP フレキシブルプリント配線板 1 導体回路 10 金属箔 3、7 絶縁保護層 30、70 感光性樹脂の層 31、71 通孔[Description of Signs] FP Flexible Printed Wiring Board 1 Conductor Circuit 10 Metal Foil 3, 7 Insulation Protective Layer 30, 70 Photosensitive Resin Layer 31, 71 Through Hole

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】導体回路が、2層の絶縁保護層の間に挟ま
れたフレキシブルプリント配線板であって、上記2層の
絶縁保護層がともに、感光性樹脂の層を所定のパターン
に露光処理し、ついで現像処理して形成されていること
を特徴とするフレキシブルプリント配線板。
A conductive circuit is a flexible printed wiring board sandwiched between two insulating protective layers, wherein both of the two insulating protective layers are formed by exposing a photosensitive resin layer to a predetermined pattern. A flexible printed wiring board characterized by being processed and then developed.
【請求項2】光照射によって硬化反応する感光性樹脂の
層の、露光処理のパターンにより未露光とされた未硬化
の領域を現像処理によって除去することで、2層の絶縁
保護層のうちの少なくとも一方に、導体回路に達する通
孔が形成されている請求項1記載のフレキシブルプリン
ト配線板。
2. An uncured region of the photosensitive resin layer which is cured by light irradiation and which has not been exposed by the pattern of the exposure treatment is removed by a development treatment, whereby the two layers of the insulating protective layer are removed. The flexible printed wiring board according to claim 1, wherein a through hole reaching the conductor circuit is formed on at least one of the flexible printed circuit boards.
【請求項3】絶縁保護層のガラス転移温度が150℃以
上、25℃における湿度膨張係数が40ppm/%RH
以下、アウトガス量が0.2μg/cm2 以下である請
求項1記載のフレキシブルプリント配線板。
3. The insulating protective layer has a glass transition temperature of 150 ° C. or higher and a humidity expansion coefficient at 25 ° C. of 40 ppm /% RH.
2. The flexible printed wiring board according to claim 1, wherein an outgas amount is 0.2 μg / cm 2 or less.
【請求項4】絶縁保護層の元になる感光性樹脂が、樹脂
分として、重量平均分子量1万以上のエポキシ樹脂を含
有している請求項3記載のフレキシブルプリント配線
板。
4. The flexible printed wiring board according to claim 3, wherein the photosensitive resin that forms the insulating protective layer contains an epoxy resin having a weight average molecular weight of 10,000 or more as a resin component.
【請求項5】導体回路が、金属箔をパターン化して形成
されている請求項1記載のフレキシブルプリント配線
板。
5. The flexible printed wiring board according to claim 1, wherein the conductive circuit is formed by patterning a metal foil.
【請求項6】導体回路となる金属箔の片面に形成した感
光性樹脂の層を、所定のパターンに露光処理し、現像処
理して1層目の絶縁保護層を形成するとともに、金属箔
をパターン化して導体回路を形成したのち、上記1層目
の絶縁保護層の、導体回路が形成された面に感光性樹脂
の層を形成し、所定のパターンに露光処理し、現像処理
して2層目の絶縁保護層を形成して、上記両絶縁保護層
の間に導体回路が挟まれたフレキシブルプリント配線板
を製造することを特徴とするフレキシブルプリント配線
板の製造方法。
6. A photosensitive resin layer formed on one side of a metal foil to be a conductor circuit is exposed to a predetermined pattern and developed to form a first insulating protective layer. After patterning to form a conductive circuit, a photosensitive resin layer is formed on the surface of the first insulating protective layer on which the conductive circuit is formed, exposed to a predetermined pattern, and developed to form a conductive circuit. A method for manufacturing a flexible printed wiring board, comprising: forming an insulating protection layer as a layer, and manufacturing a flexible printed wiring board having a conductor circuit sandwiched between the two insulating protection layers.
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