JPH10315345A - Manufacture of optical information recording medium disc - Google Patents

Manufacture of optical information recording medium disc

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Publication number
JPH10315345A
JPH10315345A JP14592597A JP14592597A JPH10315345A JP H10315345 A JPH10315345 A JP H10315345A JP 14592597 A JP14592597 A JP 14592597A JP 14592597 A JP14592597 A JP 14592597A JP H10315345 A JPH10315345 A JP H10315345A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film layer
substrate
recording medium
optical information
information recording
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP14592597A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mitsuru Tada
充 多田
Teiji Obara
禎二 小原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zeon Corp
Original Assignee
Nippon Zeon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Zeon Co Ltd filed Critical Nippon Zeon Co Ltd
Priority to JP14592597A priority Critical patent/JPH10315345A/en
Publication of JPH10315345A publication Critical patent/JPH10315345A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing an optical information recording medium disc with a low bit error rate by optimizing a step to manufacture the medium disc using a substrate of a cyclic olefin resin. SOLUTION: A specified part of the surface of a substrate of a cyclic olefin resin is subjected to a corona discharge process prior to the formation of a recording coat layer. The durability of information is influenced by not only the adhesion between the substrate and a ultraviolet-curable resin coat layer but also the adhesion between the substrate and the recording coat layer or the adhesion between the recording coat layer and the ultraviolet-curable resin coat layer. To improve the durability, the corona discharge process is performed to the surface of the substrate. Thus it is possible to manufacture the optical information recording medium disc with a low bit error rate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【発明の属する技術分野】本発明は耐久性に優れた光学
式情報記録媒体ディスクの製造方法に関し、更に詳しく
は耐久性に優れた、音楽用CD、CD−ROM、レーザ
ーディスク、CD−R、ミニディスク、MO、DVDな
どの光学式情報記録媒体ディスクの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing an optical information recording medium disk having excellent durability, and more particularly, to a music CD, CD-ROM, laser disk, CD-R, and the like having excellent durability. The present invention relates to a method for manufacturing an optical information recording medium disk such as a mini disk, MO, and DVD.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から音楽用CD、CD−ROM、レ
ーザーディスク、CD−R、ミニディスク、MO、DV
Dなどの光学式情報記録媒体ディスク用の基板には、透
明な熱可塑性樹脂を射出成形したものが用いられてきて
おり、成形材料としては、ポリカーボネート樹脂(P
C)やポリメチルメタクリレート樹脂(PMMA)が使
われてきている。しかし、これらのPCやPMMAで成
形した基板を用いた光学式情報記録媒体ディスクは耐湿
性や耐久性が劣り、環境の温度や湿度の影響を受けて記
録膜層が劣化しやすく、長期間の使用に耐えないという
問題があった。
2. Description of the Related Art Conventionally, music CDs, CD-ROMs, laser disks, CD-Rs, minidiscs, MOs and DVs have been used.
For optical information recording medium disks such as D, a substrate obtained by injection-molding a transparent thermoplastic resin has been used. As a molding material, a polycarbonate resin (P
C) and polymethyl methacrylate resin (PMMA) have been used. However, optical information recording medium disks using substrates formed of these PCs and PMMA are inferior in moisture resistance and durability, and the recording film layer is liable to deteriorate under the influence of environmental temperature and humidity. There was a problem that it could not withstand use.

【0003】最近になって、光学式情報記録媒体ディス
ク用基板に適した、耐湿性や耐久性が改善された透明性
の熱可塑性樹脂として環状オレフィン樹脂の使用が提案
されている。例えば特開昭63−14101号公報、特
開昭63−275654号公報、特開平3−12835
号公報、特開平4−161444号公報等にはノルボル
ネン環を有する環状オレフィン類の重合体の光学式情報
記録媒体ディスクへの使用が開示されており、また、特
開平6−136057号公報や特開平7−258362
号公報などに開示されている環状ジエンの重合体など
も、透明性で高い耐湿性を有するため、光学式情報記録
媒体ディスクにも好適な成形材料である。
Recently, the use of a cyclic olefin resin as a transparent thermoplastic resin having improved moisture resistance and durability, which is suitable for a substrate for an optical information recording medium disk, has been proposed. For example, JP-A-63-14101, JP-A-63-275654, JP-A-3-12835
And JP-A-4-161444 disclose the use of a polymer of a cyclic olefin having a norbornene ring for an optical information recording medium disk. Kaihei 7-258362
The polymer of a cyclic diene disclosed in Japanese Patent Application Publication No. H10-163, etc. is also a molding material suitable for an optical information recording medium disk because of its transparency and high moisture resistance.

【0004】しかしこれらの環状オレフィン樹脂を用い
た基板は、特に耐湿性などの特性に優れる反面、光学式
情報記録媒体ディスクに必要な記録膜層、またはこれを
保護するための紫外線硬化型樹脂膜層との接着性に難が
あり、例えば、高温高湿の耐久性促進試験で、紫外線硬
化型樹脂膜層が剥離したり、記録膜層が劣化し、記録が
失われるという問題があり、より小さいビットエラー率
を要求する近年の高度の要求に耐えられないという問題
があった。
[0004] However, a substrate using such a cyclic olefin resin is particularly excellent in characteristics such as moisture resistance, but a recording film layer required for an optical information recording medium disk or an ultraviolet curable resin film for protecting the recording film layer. There is a problem in the adhesiveness with the layer, for example, in the durability promotion test of high temperature and high humidity, there is a problem that the ultraviolet curable resin film layer is peeled off, the recording film layer is deteriorated, and the recording is lost. There has been a problem that it cannot withstand recent high demands for a small bit error rate.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】以上の様に、従来から
知られている、環状オレフィン樹脂からなる基板を用い
た光学式情報記録媒体ディスクの製造工程では、耐久性
が十分ではなく、耐久性試験の結果、目視では欠陥がな
いように見えても、微細な欠陥によりビットエラーが発
生することがある。本発明の目的は、環状オレフィン樹
脂からなる基板を用いた光学式情報記録媒体ディスクの
製造工程を最適化することにより、ビットエラーレート
の小さい光学式情報記録媒体ディスクの製造方法を提供
することにある。
As described above, in the conventionally known process for manufacturing an optical information recording medium disk using a substrate made of a cyclic olefin resin, the durability is not sufficient. As a result of the test, a bit error may occur due to a minute defect even though it looks like there is no defect visually. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing an optical information recording medium disk having a small bit error rate by optimizing a manufacturing process of an optical information recording medium disk using a substrate made of a cyclic olefin resin. is there.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは従
来技術のかかる欠点を改良すべく鋭意研究の結果、情報
の耐久性が、基板と紫外線硬化型樹脂膜層の接着性のみ
ではなく、驚くべきことに基板と記録膜層との接着性、
あるいは記録膜層と紫外線硬化型樹脂膜層の接着性にも
影響を受けること、さらに、これらの改良のためにコロ
ナ放電処理を基板表面に対して行うことが有効なことを
見いだし、本発明を完成するに至った。
The inventors of the present invention have conducted intensive studies to improve such disadvantages of the prior art and found that the durability of information is not limited to the adhesiveness between the substrate and the ultraviolet-curable resin film layer. Surprisingly, the adhesion between the substrate and the recording film layer,
Alternatively, it was found that the adhesiveness between the recording film layer and the ultraviolet-curable resin film layer was affected, and it was effective to perform a corona discharge treatment on the substrate surface for these improvements. It was completed.

【0007】かくして本発明によれば、環状オレフィン
樹脂からなる成形材料を射出成形することにより基板を
得る工程と、次いで上層として記録膜層が形成される部
分および紫外線硬化型樹脂膜層が形成される部分の基板
表面をコロナ放電処理する工程と、次いでコロナ放電処
理された基板表面に記録膜層を形成する工程と、次いで
記録膜層全面と、記録膜層のある部分と無い部分の境界
線を覆う様に紫外線硬化型樹脂膜層を形成する工程を含
むことを特徴とする光学式情報記録媒体ディスクの製造
方法が提供される。
Thus, according to the present invention, a step of obtaining a substrate by injection-molding a molding material comprising a cyclic olefin resin, and then forming a recording film layer and an ultraviolet curable resin film layer as an upper layer are formed. Step of performing corona discharge treatment on the substrate surface at a portion where the recording film layer is formed, and then forming a recording film layer on the substrate surface subjected to the corona discharge treatment. Next, the boundary line between the entire recording film layer and the portion with and without the recording film layer. And forming a UV curable resin film layer so as to cover the optical information recording medium disk.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下に本発明の好ましい実施の形
態について、項目に分けて説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below by dividing them into items.

【0009】(環状オレフィン樹脂)本発明において
は、環状オレフィン樹脂が用いられる。この樹脂は、重
合体の主鎖または側鎖に炭化水素環構造を有する、非結
晶性、透明性のものであり、具体的には、特開昭63−
264646号公報、特開昭64−1705号公報、特
開平1−168724号公報、特開平1−168725
号公報などに開示されるノルボルネン環を有するモノマ
ーの開環重合体およびその水素添加物、特開昭60−1
68708号公報などに開示されるノルボルネン環を有
するモノマーとα−オレフィン類との付加重合体、特開
平6−136057号公報や、特開平7−258362
号公報などに開示されている環状オレフィンや環状ジエ
ンの付加重合体やその水素添加物などをあげることがで
きる。これらの樹脂は日本ゼオン株式会社から商標名Z
EONEX、三井石油化学工業株式会社から商標名AP
EL、APO等の名称で入手可能である。
(Cyclic olefin resin) In the present invention, a cyclic olefin resin is used. This resin is a non-crystalline, transparent resin having a hydrocarbon ring structure in the main chain or side chain of the polymer.
264646, JP-A-64-1705, JP-A-1-168724, JP-A-1-168725
-Opening polymer of a monomer having a norbornene ring and hydrogenated product thereof disclosed in JP-A-60-1
68708 and the like, an addition polymer of a monomer having a norbornene ring and an α-olefin, JP-A-6-13657 and JP-A-7-258362.
And addition polymers of cyclic olefins and cyclic dienes and hydrogenated products thereof disclosed in Japanese Patent Application Publication No. These resins are available from Zeon Corporation under the trade name Z
EONEX, trade name AP from Mitsui Petrochemical Industry Co., Ltd.
It is available under names such as EL and APO.

【0010】ノルボルネン環を有するモノマーとして
は、エチレンとシクペンタジエンの付加体である2環式
オレフィンのノルボルネン、さらにシクロペンタジエン
が付加した4環式オレフィンのテトラシクロドデセン、
シクロペンタジエンの2量体で3環式ジエンであるトリ
シクロデカジエン(ジシクロペンタジエンともいう)、
その不飽和結合の一部を水素添加により飽和させた3環
式オレフィンであるトリシクロデセン、シクロペンタジ
エンの3量体で5環式ジエンであるペンタシクロペンタ
デカジエン、その不飽和結合の一部を水素添加により飽
和させた5環式オレフィンであるペンタシクロペンタデ
セン(2、3−ジヒドロジシクロペンタジエンともい
う);これらの置換体などが例示される。置換体として
は、アルキル基、アルキリデン基または芳香族基などの
極性基を持たない基により置換された誘導体または水素
添加誘導体またはそれらから脱水素して得られる誘導体
(例えば、2−ノルボルネン、5−メチル−2−ノルボ
ルネン、5,5−ジメチル−2−ノルボルネン、5−エ
チル−2−ノルボルネン、5−ブチル−2−ノルボルネ
ン、5−エチリデン−2−ノルボルネン、5−ヘキシル
−2−ノルボルネン、5−フェニル−2−ノルボルネ
ン、5−オクチル−2−ノルボルネン、5−オクタデシ
ル−2−ノルボルネン、5−エチリデン−2−ノルボル
ネンなどのノルボルネン誘導体、1,4:5,8−ジメ
タノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−2,3−
シクロペンタジエノオクタヒドロナフタレン、6−メチ
ル−1,4:5,8ージメタノ−1,4,4a,5,
6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、1,4:
5,10:6,9−トリメタノ−1,2,3,4,4
a,5,5a,6,9,9a,10,10a−ドデカヒ
ドロ−2,3−シクロペンタジエノアントラセンなどの
テトラシクロドデセン誘導体など);ハロゲン、水酸
基、エステル基、アルコキシ基、シアノ基、アミド基、
イミド基、シリル基などの極性基により置換された置換
体(例えば、5−メトキシ−カルボニル−2−ノルボル
ネン、5−シアノ−2−ノルボルネン、5−メチル−5
−メトキシカルボニル−2−ノルボルネンなど)を挙げ
ることができる。
Examples of the monomer having a norbornene ring include norbornene of a bicyclic olefin which is an adduct of ethylene and cyclopentadiene, tetracyclododecene of a tetracyclic olefin to which cyclopentadiene is added,
Tricyclodecadiene (also called dicyclopentadiene), which is a dimer of cyclopentadiene and a tricyclic diene,
Tricyclodecene which is a tricyclic olefin in which a part of the unsaturated bond is saturated by hydrogenation, pentacyclopentadecadiene which is a trimer of cyclopentadiene and a pentacyclic diene, a part of the unsaturated bond Pentacyclopentadecene (also referred to as 2,3-dihydrodicyclopentadiene) which is a pentacyclic olefin in which is substituted by hydrogenation; Examples of the substituent include a derivative substituted with a group having no polar group such as an alkyl group, an alkylidene group, or an aromatic group, a hydrogenated derivative, or a derivative obtained by dehydrogenation thereof (for example, 2-norbornene, 5- Methyl-2-norbornene, 5,5-dimethyl-2-norbornene, 5-ethyl-2-norbornene, 5-butyl-2-norbornene, 5-ethylidene-2-norbornene, 5-hexyl-2-norbornene, 5- Norbornene derivatives such as phenyl-2-norbornene, 5-octyl-2-norbornene, 5-octadecyl-2-norbornene, 5-ethylidene-2-norbornene, 1,4: 5,8-dimethano-1,2,3 4,4a, 5,8,8a-2,3-
Cyclopentadienooctahydronaphthalene, 6-methyl-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,5
6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 1,4:
5,10: 6,9-trimethano-1,2,3,4,4
a, 5,5a, 6,9,9a, 10,10a-Tetracyclododecene derivatives such as dodecahydro-2,3-cyclopentadienoanthracene); halogen, hydroxyl, ester, alkoxy, cyano, An amide group,
Substitutes (for example, 5-methoxy-carbonyl-2-norbornene, 5-cyano-2-norbornene, 5-methyl-5) substituted with a polar group such as an imide group and a silyl group.
-Methoxycarbonyl-2-norbornene).

【0011】α−オレフィンとしては、エチレン、プロ
ピレン、1−ブテン、4−メチルペンテンー1などの狭
義のオレフィンに加え、これらの一部をハロゲンなどの
極性基で置換したオレフィン性モノマーを挙げることが
できる。
Examples of the α-olefin include olefin monomers having a narrow sense such as ethylene, propylene, 1-butene and 4-methylpentene-1, and olefinic monomers in which a part thereof is substituted with a polar group such as halogen. Can be.

【0012】環状オレフィンとしては、シクロブテン、
1−メチルシクロペンテン、3−メチルシクロブテン、
3,4−ジイソプロペニルシクロブテン、シクロペンテ
ン、3−メチルシクロペンテン、シクロヘキセン、シク
ロオクテン、1−メチルシクロオクテン、5−メチルシ
クロオクテン、シクロオクタテトラエン、シクロドデセ
ンなどの単環シクロオレフィンや前記のノルボルネン環
を有するモノマーのうち不飽和結合が一つのものを挙げ
ることができる。
As the cyclic olefin, cyclobutene,
1-methylcyclopentene, 3-methylcyclobutene,
Monocyclic cycloolefins such as 3,4-diisopropenylcyclobutene, cyclopentene, 3-methylcyclopentene, cyclohexene, cyclooctene, 1-methylcyclooctene, 5-methylcyclooctene, cyclooctatetraene, cyclododecene, and the above-mentioned norbornene Among the monomers having a ring, those having one unsaturated bond can be mentioned.

【0013】環状ジエンとしては、シクロペンタジエ
ン、1,3−シクロヘキサジエン、1,4−シクロヘキ
サジエン等の単環ジエンや、前記のノルボルネン環を有
するモノマーのうち不飽和結合を2個有するものを挙げ
ることができる。
Examples of the cyclic diene include monocyclic dienes such as cyclopentadiene, 1,3-cyclohexadiene and 1,4-cyclohexadiene, and those having two unsaturated bonds among the above-mentioned monomers having a norbornene ring. be able to.

【0014】更に、開環重合、付加重合とも、それぞれ
の重合しようとする触媒系において、共重合可能な各種
のモノマーを共重合しても良い。共重合可能なモノマー
は、前記のノルボルネン環を有するモノマー、α−オレ
フィン、環状オレフィン、環状ジエンの他に、ブタジエ
ンやイソプレン等の直鎖または分岐のジエン類を挙げる
ことができる。重合はランダムであっても、ブロック型
であっても、交互型であってもよく、また付加重合で
1,2−付加と1,4−付加がある場合どちらが主であ
っても良い。
Further, in both the ring-opening polymerization and the addition polymerization, various copolymerizable monomers may be copolymerized in the respective catalyst systems to be polymerized. Examples of the copolymerizable monomer include, in addition to the above-mentioned monomer having a norbornene ring, α-olefin, cyclic olefin, and cyclic diene, linear or branched dienes such as butadiene and isoprene. The polymerization may be random, block type, or alternating type, and when addition polymerization involves 1,2-addition and 1,4-addition, either one may be the main.

【0015】重合後の重合体に不飽和結合が残る場合、
すなわちノルボルネン環を有するモノマーの開環重合体
または、環状ジエンの付加重合体の場合は、残留する不
飽和結合により、重合体の耐候安定性や熱安定性が低下
するため、これを改良することを目的として、水素添加
することにより不飽和結合の80%以上、好ましくは9
0%以上を飽和化させて用いることが好ましい。水素添
加方法、水素添加触媒については公知の方法により行う
ことができる。
When unsaturated bonds remain in the polymer after polymerization,
In other words, in the case of a ring-opened polymer of a monomer having a norbornene ring or an addition polymer of a cyclic diene, the weather resistance and thermal stability of the polymer are reduced due to the remaining unsaturated bonds. For the purpose of hydrogenation, 80% or more, preferably 9% of unsaturated bonds
It is preferable that 0% or more be used after being saturated. The hydrogenation method and the hydrogenation catalyst can be performed by a known method.

【0016】重合体の分子量は例えば、トルエンまたは
テトラヒドロフラン等その重合体の良溶媒に溶解して溶
液としゲルパーミエーション・クロマトグラフィ法で測
定されるが、数平均分子量(Mn)はポリスチレン換算
値で12,000以上50,000以下、重量平均分子
量(Mw)が、20,000以上80,000以下のも
のである。
The molecular weight of the polymer is measured by gel permeation chromatography after dissolving it in a good solvent of the polymer such as toluene or tetrahydrofuran, and then measuring the solution by gel permeation chromatography. The number average molecular weight (Mn) is 12 in terms of polystyrene. It has a weight average molecular weight (Mw) of not less than 20,000 and not more than 80,000.

【0017】重合後または水素添加反応後の重合体の溶
液から触媒等の残査を公知の方法で除去または低減する
ことも好ましい。重合体の溶液から重合体を回収する方
法も特に限定されないが、残留揮発分を極力除去するこ
とが重要である。触媒除去方法で記述した洗浄法を行っ
た後、溶媒を濾過法にて除去し、更に加熱、或いは真空
加熱して取り除く方法や、沈殿凝集法で金属汚染物を除
去した樹脂溶液を直接加熱、或いは真空加熱して、溶媒
を除去する方法などが有る。
It is also preferable to remove or reduce the residue of the catalyst and the like from the polymer solution after the polymerization or after the hydrogenation reaction by a known method. The method for recovering the polymer from the polymer solution is not particularly limited, but it is important to remove residual volatile components as much as possible. After performing the washing method described in the catalyst removal method, the solvent is removed by a filtration method, and further heated, or a method of removing by vacuum heating, or directly heating the resin solution from which metal contaminants have been removed by a precipitation aggregation method, Alternatively, there is a method of removing the solvent by heating under vacuum.

【0018】環状オレフィン樹脂の耐熱性は、例えばガ
ラス転移温度で記述されるが、ガラス転移温度は、モノ
マーの種類、共重合する場合のコモノマーの割合や、分
子量、水素添加率などによって異なるが、光学式情報記
録媒体ディスク用の基板として用いる場合、60〜22
0℃、好ましくは70〜200℃、より好ましくは80
〜190℃が好適である。
The heat resistance of the cyclic olefin resin is described, for example, by a glass transition temperature. The glass transition temperature varies depending on the type of the monomer, the ratio of the comonomer when copolymerized, the molecular weight, the hydrogenation rate, and the like. When used as a substrate for an optical information recording medium disk, 60 to 22
0 ° C, preferably 70-200 ° C, more preferably 80 ° C.
~ 190 ° C is preferred.

【0019】また、光学式情報記録媒体ディスクに使用
するにあたっては、環状オレフィン樹脂には異物が少な
いことが好ましい。異物を抑制する方法としては、例え
ば重合反応後または水素添加反応後に孔径が、0.2μ
m以下のフィルターにて重合体溶液を濾過することによ
って金属残査や異物等を精密に取り除くことができる。
Further, when used for an optical information recording medium disk, it is preferable that the cyclic olefin resin contains few foreign substances. As a method for suppressing foreign matter, for example, after the polymerization reaction or hydrogenation reaction, the pore size is 0.2μ
By filtering the polymer solution with a filter having a diameter of not more than m, metal residues and foreign substances can be precisely removed.

【0020】本発明で用いる環状オレフィン樹脂には、
樹脂工業分野で通常使用される各種配合剤を添加して使
用することができる。
The cyclic olefin resin used in the present invention includes:
Various compounding agents usually used in the resin industry can be added and used.

【0021】安定剤としては、例えば、フェノール系酸
化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤など
が挙げられ、これらの中でも、フェノール系酸化防止剤
が好ましく、アルキル置換フェノール系酸化防止剤が特
に好ましい。更に、成型時の揮発を防止するため、20
℃における蒸気圧が10-6Pa以下のものが望ましい。
これらの安定剤は、それぞれ単独で、あるいは2種以上
組み合わせて用いられる。安定剤の配合量は、使用目的
に応じて適宜選択されるが、環状オレフィン系重合体1
00重量部に対して、通常0.001〜10重量部の範
囲である。
Examples of the stabilizer include phenol-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, and sulfur-based antioxidants. Of these, phenol-based antioxidants are preferred, and alkyl-substituted phenol-based antioxidants are preferred. Agents are particularly preferred. Furthermore, in order to prevent volatilization during molding,
It is desirable that the vapor pressure at 10 ° C. be 10 −6 Pa or less.
These stabilizers are used alone or in combination of two or more. The amount of the stabilizer is appropriately selected according to the purpose of use.
It is usually in the range of 0.001 to 10 parts by weight with respect to 00 parts by weight.

【0022】また、成形性などを改良することを目的と
して、滑剤が必要に応じて使用される。滑剤としては、
多価アルコールの部分エステル、多価アルコールのフル
エステル(多価アルコールのアルコール性水酸基の95
%以上がエステル化されたもの)、高級飽和アルコー
ル、多価アルコールの部分エーテルなどが挙げられ、こ
れらの中でも、多価アルコールのフルエステル、特に多
価アルコールとOH基含有高級飽和脂肪酸とのフルエス
テルが好ましく、または高級飽和アルコールが特に好ま
しい。更に、成型時の揮発を防止するため、20℃にお
ける蒸気圧が10-6Pa以下のものが望ましい。滑剤の
配合量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、環状オ
レフィン系重合体100重量部に対して、通常10重量
部以下、好ましくは5重量部以下、より好ましくは3重
量部以下の範囲である。但し、滑剤は使用量が多いと成
型品表面からにじみ出て、例えば成型品表面に油滴状に
付着したり、金型表面に付着して転写性を低下させるこ
ともあるので、使用しない、または使用量を1重量部以
下程度とすることが好ましい。
A lubricant is used as needed for the purpose of improving moldability and the like. As a lubricant,
Partial ester of polyhydric alcohol, full ester of polyhydric alcohol (95% of alcoholic hydroxyl group of polyhydric alcohol)
% Of which are esterified), higher saturated alcohols, partial ethers of polyhydric alcohols and the like. Among them, full esters of polyhydric alcohols, especially full esters of polyhydric alcohols and OH group-containing higher saturated fatty acids, are mentioned. Esters are preferred, or higher saturated alcohols are particularly preferred. Furthermore, in order to prevent volatilization at the time of molding, it is desirable that the vapor pressure at 20 ° C. be 10 −6 Pa or less. The blending amount of the lubricant is appropriately selected according to the purpose of use, but is usually 10 parts by weight or less, preferably 5 parts by weight or less, more preferably 3 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the cyclic olefin polymer. Range. However, if the lubricant is used in a large amount, it oozes out of the surface of the molded product, for example, adheres to the surface of the molded product in the form of oil droplets, or it may adhere to the surface of the mold to lower the transferability. It is preferable that the amount used is about 1 part by weight or less.

【0023】耐湿性や成形性を改良することを目的とし
て、ゴム質重合体を配合することもある。一般に、ゴム
質重合体はガラス転移温度が低く、また環状オレフィン
樹脂との相溶性が低いことがあるため、配合量が多い
と、混合物としての耐熱性が低下したり、透明性が低下
することがあり好ましくないこともあるが、これらの量
や添加方法、混練方法などによって、マトリックスであ
る環状オレフィン樹脂中にゴム質重合体を、直径0.3
μm以下、特に0.2μm以下の微粒子状態で分散させ
ることができ、光学式情報記録媒体ディスクの読み取り
信号に使われるレーザーの波長よりも、微粒子直径の方
が小さくできるため、光が散乱せず、信号特性を悪化さ
せる事はない。この場合、配合するゴム質重合体と環状
オレフィン樹脂との屈折率差が小さい程、環状オレフィ
ン樹脂は透明性に優れて好ましい。
For the purpose of improving the moisture resistance and moldability, a rubbery polymer may be blended. Generally, a rubbery polymer has a low glass transition temperature and may have low compatibility with a cyclic olefin resin.Therefore, if the compounding amount is large, the heat resistance as a mixture is lowered or the transparency is lowered. However, depending on the amount, addition method, kneading method, etc., the rubbery polymer in the cyclic olefin resin as the matrix may have a diameter of 0.3.
μm or less, especially 0.2 μm or less can be dispersed in the state of fine particles, and the diameter of the fine particles can be smaller than the wavelength of the laser used for the read signal of the optical information recording medium disk, so that light is not scattered. The signal characteristics do not deteriorate. In this case, the smaller the difference in the refractive index between the rubbery polymer and the cyclic olefin resin to be blended, the better the transparency of the cyclic olefin resin and the more preferable.

【0024】ゴム質重合体としては、特開平5−247
324号公報などで公知となっているゴム質重合体が好
ましく、具体的には、スチレン−ブタジエンゴムまたは
その水素添加物、スチレン−イソプレン−スチレンブロ
ック共重合体またはその水素添加物などのスチレン系ラ
ンダムもしくはブロック共重合体;クロロプレンゴムま
たはその水素添加物;イソプレンゴムまたはその水素添
加物;エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−α−
オレフィン共重合体、プロピレン−α−オレフィン共重
合体;などが挙げられる。これらの中で、スチレン−ブ
タジエン−スチレンブロック共重合体水素添加物、スチ
レン−イソプレン−スチレンブロック共重合体水素添加
物などが、耐熱性や屈折率差の関係から好ましい。
The rubbery polymer is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-247.
No. 324, etc., are preferred. Specific examples thereof include styrene-based polymers such as styrene-butadiene rubber or a hydrogenated product thereof, styrene-isoprene-styrene block copolymer or a hydrogenated product thereof. Random or block copolymer; chloroprene rubber or hydrogenated product thereof; isoprene rubber or hydrogenated product thereof; ethylene-propylene copolymer, ethylene-α-
Olefin copolymer, propylene-α-olefin copolymer; and the like. Among these, hydrogenated styrene-butadiene-styrene block copolymer, hydrogenated styrene-isoprene-styrene block copolymer, and the like are preferable from the viewpoint of heat resistance and a difference in refractive index.

【0025】ゴム質重合体の配合量は、ゴム質重合体と
マトリックスである環状オレフィン樹脂の屈折率差によ
り、異なってくるが、環状オレフィン樹脂100重量部
に対して、ゴム質重合体0.01〜10重量部、好まし
くは0.02〜5重量部、より好ましくは0.05〜1
重量部が好適である。この範囲が信号への悪影響と耐久
性や耐湿性が高度にバランスし好適である。
The amount of the rubbery polymer varies depending on the refractive index difference between the rubbery polymer and the cyclic olefin resin as the matrix. 01 to 10 parts by weight, preferably 0.02 to 5 parts by weight, more preferably 0.05 to 1 part by weight
Parts by weight are preferred. This range is suitable because the adverse effect on the signal and the durability and moisture resistance are highly balanced.

【0026】その他の配合剤としては、例えば、染料、
帯電防止剤、紫外線吸収剤、耐光安定剤やワックスなど
を挙げることができる。これらのその他の配合剤は、そ
れぞれ単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いる
ことができる。
Other compounding agents include, for example, dyes,
Examples include antistatic agents, ultraviolet absorbers, light stabilizers, waxes, and the like. These other compounding agents can be used alone or in combination of two or more.

【0027】これらの配合剤の混合は、環状オレフィン
樹脂の単離後に各種混練機、例えば単軸押出機、2軸押
出機、ロール、バンバリーミキサー等によって溶融混合
を行ってもよいが、濾過前の環状オレフィン樹脂溶液で
添加し混合するのが好適である。また、配合剤はそれぞ
れ適当な溶媒を用いて溶解後に加えてもよく、必要に応
じてその溶液を加熱して加えてもよい。環状オレフィン
樹脂溶液も同様に加熱しておいても良い。環状オレフィ
ン樹脂は射出成形時に取り扱いやすいようにペレットと
呼ばれる米粒程度の大きさに加工されて使用されること
が多い。以上のように環状オレフィン樹脂に必要な添加
物を添加して環状オレフィン樹脂からなる成形材料が得
られる。
The mixing of these components may be carried out by melt kneading with a kneader such as a single screw extruder, a twin screw extruder, a roll, or a Banbury mixer after isolating the cyclic olefin resin. It is preferable to add and mix with the above cyclic olefin resin solution. Further, the compounding agents may be added after dissolving each using an appropriate solvent, or may be added by heating the solution as necessary. The cyclic olefin resin solution may be heated similarly. The cyclic olefin resin is often used after being processed into a size of rice grain called a pellet so as to be easily handled at the time of injection molding. As described above, a necessary additive is added to the cyclic olefin resin to obtain a molding material composed of the cyclic olefin resin.

【0028】(射出成形)次いで、前記した環状オレフ
ィン樹脂からなる成形材料を通常は、射出成形或いは射
出圧縮成形することによって、光学式情報記録媒体ディ
スク基板を成形する。金型内面には、スタンパーが取り
付けられ、ピット、グルーブ等が転写される。基板の形
状は、そのディスクの規格に応じて変えられ、厚みは通
常0.5〜3mm、ディスク径は通常30mm〜300
mmである。なお、ヤケ不良等を抑えるため、成形前の
ペレットを80〜130℃で1時間以上好ましくは2時
間以上、特に好ましくは4時間以上予備加熱しても良
い。加熱時は空気中で行ってもよいが、窒素雰囲気下や
真空中であれば、予備加熱時の劣化を抑えられるため、
より好ましい。
(Injection molding) Next, the optical information recording medium disk substrate is usually formed by injection molding or injection compression molding of the molding material comprising the above-mentioned cyclic olefin resin. A stamper is attached to the inner surface of the mold to transfer pits, grooves, and the like. The shape of the substrate can be changed according to the specification of the disc, the thickness is usually 0.5 to 3 mm, and the disc diameter is usually 30 mm to 300 mm.
mm. The pellets before molding may be preheated at 80 to 130 ° C. for 1 hour or more, preferably 2 hours or more, particularly preferably 4 hours or more, in order to suppress burn defects or the like. Heating may be performed in air, but under a nitrogen atmosphere or in a vacuum, deterioration during preheating can be suppressed,
More preferred.

【0029】成形条件は、特に限定されないが、成形機
のシリンダ設定温度は200〜400℃、好ましくは2
50〜380℃の範囲、金型温度は、50〜180℃が
好ましい。温度が低すぎると、いずれの場合も転写性が
低下したり、複屈折がおおきくなる。温度が高すぎる
と、成形サイクルが延びたり、バリが発生したり、樹脂
の分解が起こる場合がある。スプルー部を別個の温度、
例えば30〜100℃、に調整をすることも可能であ
る。また、成形時の劣化を抑えるため、成形機加熱シリ
ンダー内部を窒素置換することが望ましい(光メモリシ
ンポジウム’88予稿集、15〜16ページ、昭和63
年9月19日講演)。
The molding conditions are not particularly limited, but the cylinder set temperature of the molding machine is 200 to 400 ° C., preferably 2 to 400 ° C.
The mold temperature is preferably in the range of 50 to 380 ° C and the mold temperature is 50 to 180 ° C. If the temperature is too low, the transferability is lowered in any case, and the birefringence becomes large. If the temperature is too high, the molding cycle may be extended, burrs may occur, or the resin may be decomposed. Separate temperature of sprue,
For example, the temperature can be adjusted to 30 to 100 ° C. In order to suppress deterioration during molding, it is desirable to replace the inside of the molding machine heating cylinder with nitrogen (Optical Memory Symposium '88 Proceedings, pp. 15-16, 1988)
September 19, 2008).

【0030】(コロナ放電処理)環状オレフィン樹脂製
基板と、紫外線硬化型樹脂膜層との接着性の改良方法と
しては、表面改質が有効であり、中でも、特開平4−3
48139には酸素プラズマ処理により改良する方法、
特開平4−372901にはコロナ放電処理により改良
する方法が有効であることが開示されている。しかし、
これらの方法では、基板と紫外線硬化型樹脂膜層との接
着性が改良されるのみであり、記録膜層または反射膜層
との接着性の改良については何ら触れられておらず、ま
た、基板と紫外線硬化型樹脂膜層との間に、記録膜層が
存在する場合の具体的な処理方法については、開示も示
唆もない。そして、このように基板と紫外線硬化型樹脂
膜層の接着性だけを改良しても、光学式情報記録媒体デ
ィスクの耐久性としては十分ではなく、例えば高温高湿
の耐久性加速促進試験後に目視によって記録膜層の欠陥
が発生しなくても、微細な欠陥が発生し、その結果ビッ
トエラーが発生することがあることが分かってきた。
(Corona discharge treatment) As a method for improving the adhesion between the cyclic olefin resin substrate and the ultraviolet-curable resin film layer, surface modification is effective.
48139 discloses a method of improving by oxygen plasma treatment,
Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-372901 discloses that a method of improving by corona discharge treatment is effective. But,
In these methods, only the adhesion between the substrate and the ultraviolet-curable resin film layer is improved, and no mention is made of the improvement in the adhesion between the recording film layer and the reflection film layer. There is no disclosure or suggestion about a specific treatment method when a recording film layer exists between the recording film layer and the ultraviolet curable resin film layer. Even if only the adhesiveness between the substrate and the ultraviolet-curable resin film layer is improved, the durability of the optical information recording medium disk is not sufficient. It has been found that even if no defect occurs in the recording film layer, a minute defect occurs, and as a result, a bit error may occur.

【0031】特開平4−348139には光学式情報記
録媒体ディスク基板を酸素プラズマ処理することは開示
されているが、プラズマ処理は真空チェンバー中で処理
するため、処理装置が大型化する、処理速度が遅い等の
不都合があるし、該公報にはコロナ放電処理については
開示されていない。また、特開平4−372901には
プラスチックレンズ等の環状オレフィン樹脂製成形体の
表面をコロナ放電処理することが開示されているが、光
学式情報記録媒体ディスク特に記録膜層を有する光学式
情報記録媒体ディスクの処理方法については具体的に開
示されていない。更に、プラズマ処理、コロナ放電処理
共に、導電体に対する処理には不適当であり、例えばア
ルミ反射膜層を形成した基板にコロナ放電処理をする
と、火花が出て危険であり、基板が焦げたり燃えたりす
る。この様に、記録膜層を有する光学式情報記録媒体デ
ィスクの基板をコロナ放電処理ことは知られていなかっ
たし、好ましい処理手順、その効果も知られていなかっ
た。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-348139 discloses that an optical information recording medium disk substrate is subjected to oxygen plasma processing. However, since plasma processing is performed in a vacuum chamber, the processing apparatus becomes large, and the processing speed is increased. However, the publication does not disclose a corona discharge treatment. Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-372901 discloses that a surface of a molded article made of a cyclic olefin resin such as a plastic lens is subjected to corona discharge treatment. However, an optical information recording medium disk, particularly an optical information recording medium having a recording film layer, is disclosed. It does not specifically disclose a method for processing a media disk. Furthermore, both plasma treatment and corona discharge treatment are unsuitable for treatment of electric conductors. For example, when corona discharge treatment is performed on a substrate on which an aluminum reflective film layer is formed, sparks may be generated and the substrate may burn or burn. Or As described above, it has not been known that the substrate of the optical information recording medium disk having the recording film layer is subjected to the corona discharge treatment, nor is the preferred treatment procedure and its effect.

【0032】本発明は、記録膜層および紫外線硬化型樹
脂膜層の形成前に、基板の所定の部分を、コロナ放電処
理することに特徴があり、このような処理により、基板
と紫外線硬化型樹脂膜層の接着性のみではなく、驚くべ
きことに基板と記録膜層との接着性、あるいは記録膜層
と紫外線硬化型樹脂膜層の接着性が改善されることは、
コロナ放電処理によりレンズと紫外線硬化型樹脂膜層の
接着力が改善されるという上記の文献からは予想外のこ
とであった。
The present invention is characterized in that a predetermined portion of the substrate is subjected to a corona discharge treatment before the formation of the recording film layer and the ultraviolet-curable resin film layer. Not only the adhesiveness of the resin film layer, but surprisingly, the adhesiveness between the substrate and the recording film layer, or the adhesiveness between the recording film layer and the ultraviolet-curable resin film layer, is improved.
It was unexpected from the above literature that the corona discharge treatment improves the adhesive strength between the lens and the ultraviolet-curable resin film layer.

【0033】処理の詳細を図を用いて説明する。The details of the processing will be described with reference to the drawings.

【図1】FIG.

【0034】本発明においては、成形された基板1の表
面の所定の部分2(上部に記録膜層3または紫外線硬化
型樹脂膜層4のいずれかが形成される部分を網羅して)
に、記録膜層3が形成される前に、コロナ放電処理によ
る表面処理を行うことが必須要件である。こうような表
面処理により、基板1と紫外線硬化型樹脂膜層4との接
着力だけでなく、基板1と記録膜3の接着力および記録
膜3と紫外線硬化型樹脂膜層4の接着力が改良される。
In the present invention, a predetermined portion 2 of the surface of the molded substrate 1 (covering a portion on which either the recording film layer 3 or the ultraviolet curable resin film layer 4 is formed).
In addition, it is an essential requirement that a surface treatment by corona discharge treatment be performed before the recording film layer 3 is formed. By such a surface treatment, not only the adhesion between the substrate 1 and the ultraviolet-curable resin film layer 4 but also the adhesion between the substrate 1 and the recording film 3 and the adhesion between the recording film 3 and the ultraviolet-curable resin film layer 4 are improved. Be improved.

【0035】照射条件は、特に制限されないが、常圧の
空気中で行うことができ、環境温度にも特に制限は無い
が、基板材料の熱変形温度以下で行うことが望ましい。
基板の温度は、成形直後と一定期間放置後で異なる場合
があるが、処理中に自重で反る可能性があるため、基板
材料の熱変形温度以下が好ましい。処理中の基板の移動
速度は、光ディスクの製造工程に応じて任意に合わせれ
ば良いが、例えば0.1〜10m/minの速度が挙げ
られる。光学式情報記録媒体ディスクは円形であること
が多く、その直径は85mmまたは130mm等である
から、一列に並べた場合でも1〜100枚/分の処理が
可能である。
The irradiation conditions are not particularly limited, but the irradiation can be carried out in air at normal pressure, and there is no particular limitation on the environmental temperature.
The temperature of the substrate may be different from immediately after molding or after being left for a certain period of time, but since the substrate may be warped by its own weight during processing, the temperature is preferably equal to or lower than the thermal deformation temperature of the substrate material. The moving speed of the substrate during the processing may be arbitrarily adjusted according to the manufacturing process of the optical disk, and may be, for example, a speed of 0.1 to 10 m / min. Optical information recording medium disks are often circular and have a diameter of 85 mm, 130 mm, or the like. Therefore, even when they are arranged in a line, 1 to 100 sheets / minute can be processed.

【0036】コロナ放電処理の照射量は、コロナ放電の
強度、処理装置によってもかわるので一概に定義できな
いが、少なすぎれば効果が無く、多すぎれば光学式情報
記録媒体ディスク基板表面が荒れて、酷い場合には、表
面に形成されたグルーブが浅くなる又は欠けるという不
都合がある。コロナ放電処理の効果は、処理前後の基板
表面に水滴(純水)を滴下したときの、水滴が基板表面
と成す角(水の接触角という)で測定でき、照射量が多
くなるにしたがって接触角が下がり、一定値に近づく。
The irradiation amount of the corona discharge treatment cannot be defined unconditionally because it varies depending on the intensity of the corona discharge and the processing apparatus. However, if the amount is too small, there is no effect, and if it is too large, the surface of the optical information recording medium disk substrate becomes rough. In a severe case, there is an inconvenience that the groove formed on the surface becomes shallow or chipped. The effect of the corona discharge treatment can be measured by the angle (water contact angle) between the water droplet and the substrate surface when a water droplet (pure water) is dropped on the substrate surface before and after the treatment. The angle falls and approaches a certain value.

【0037】この関係を図2に模式的に示す。FIG. 2 schematically shows this relationship.

【図2】横軸は基板表面の単位面積あたり照射されるエ
ネルギー量(照射量という)であり、照射強度が一定で
あれば照射時間(または基板の移動速度の逆数)に対応
し、縦軸は水の接触角である(最大値は180度)。水
の接触角は、コロナ放電処理前の接触角(図2の11)
から、照射量が増えるに従って下がっていき、十分に照
射した後は効果がだんだんと飽和し、一定の値(図2の
13)となる。飽和した効果の0.9倍の効果に相当す
る点(水の接触角=処理前の水の接触角+(効果が飽和
した後の水の接触角−処理前の水の接触角)×0.9、
図2の12)に対する照射量をD90と定義すると、照
射量は通常0.3×D90〜100×D90、好ましく
は0.4×D90〜50×D90、特に好ましくは0.
5×D90〜20×D90の範囲である。この範囲にあ
る時に、基板表面が荒れること無く、紫外線硬化型樹脂
膜層の接着力を良好に改良することができる。
FIG. 2 shows the amount of energy (referred to as irradiation amount) irradiated per unit area of the substrate surface, which corresponds to the irradiation time (or the reciprocal of the moving speed of the substrate) if the irradiation intensity is constant, Is the contact angle of water (the maximum value is 180 degrees). The contact angle of water is the contact angle before corona discharge treatment (11 in FIG. 2).
Therefore, the effect gradually decreases as the irradiation amount increases, and after sufficient irradiation, the effect gradually saturates to a constant value (13 in FIG. 2). Point corresponding to 0.9 times the effect of the saturated effect (contact angle of water = contact angle of water before treatment + (contact angle of water after saturation of effect−contact angle of water before treatment) × 0) .9,
Assuming that the irradiation amount for 12) in FIG. 2 is defined as D90, the irradiation amount is usually 0.3 × D90 to 100 × D90, preferably 0.4 × D90 to 50 × D90, and particularly preferably 0.1 × D90 to 50 × D90.
The range is 5 × D90 to 20 × D90. When in this range, the adhesion of the ultraviolet-curable resin film layer can be satisfactorily improved without roughening the substrate surface.

【0038】照射時の出力は、50〜300Wが好まし
い。低いと処理効果が弱く、密着性が改善されない。強
すぎると表面が荒れてしまい光ディスクとしての性能が
低下する。基板とワイヤーの距離は通常200mm以
下、好ましくは100mm以下、更に好ましくは60m
m以下で、通常2mm以上、好ましくは5mm以上で行
う。距離が離れすぎると効果が弱くなり、近すぎると所
定の面全体での処理の均一性が低下することがある。
The output during irradiation is preferably 50 to 300 W. If it is low, the processing effect is weak and the adhesion is not improved. If it is too strong, the surface will be rough and the performance as an optical disc will be reduced. The distance between the substrate and the wire is usually 200 mm or less, preferably 100 mm or less, more preferably 60 m or less.
m or less, usually 2 mm or more, preferably 5 mm or more. If the distance is too large, the effect will be weak. If the distance is too small, the uniformity of the processing over the entire predetermined surface may be reduced.

【0039】基板表面の内、記録膜層を形成する側の所
定の部分をコロナ放電処理する。ここで所定の部分と
は、記録層と基板表面が接する部分と、紫外線硬化型樹
脂膜層と基板表面が接する部分の基板表面で、合わせ
て、図1の2の部分である。これらの部分をコロナ放電
処理することにより、記録膜層3と紫外線硬化型樹脂膜
層4との接着性が改善され、紫外線硬化型樹脂膜層の外
側である環境からの影響を受けにくくなり、更に記録膜
面全面と記録膜層のある部分と無い部分の境界線5付近
で記録膜層が環境からの影響を受けにくくなることによ
り、光学式情報記録媒体ディスクの耐久性が大幅に改善
される。
A predetermined portion of the substrate surface on which the recording film layer is to be formed is subjected to a corona discharge treatment. Here, the predetermined portion is a portion where the recording layer is in contact with the substrate surface and a portion where the ultraviolet curable resin film layer is in contact with the substrate surface, which is the portion 2 in FIG. By subjecting these portions to corona discharge treatment, the adhesiveness between the recording film layer 3 and the ultraviolet curable resin film layer 4 is improved, and the recording film layer 3 is less affected by the environment outside the ultraviolet curable resin film layer. Furthermore, the durability of the optical information recording medium disk is greatly improved by making the recording film layer less susceptible to the environment near the boundary line 5 between the entire recording film surface and the portion with and without the recording film layer. You.

【0040】基板の反対側の面は特に加工を行わないの
で、コロナ放電処理を行う必要が無いが、紫外線硬化型
樹脂膜層を形成するのであれば行っても良い。また、必
要に応じて他の表面処理方法を併用しても良い。コロナ
放電処理後には、処理した効果が、大気中の化学的な種
々の成分によって弱まることがあるので、長時間経過し
ないうちに次の工程である紫外線硬化型樹脂膜層の形成
工程を行うことが好ましい。通常は1秒以上数日以下で
あり、生産工程の安定性を考慮すると連続工程の場合、
2秒から10分以内程度に設定される。
The surface on the opposite side of the substrate is not particularly processed, so that it is not necessary to perform corona discharge treatment. However, it may be performed as long as an ultraviolet curable resin film layer is formed. Further, another surface treatment method may be used in combination as needed. After the corona discharge treatment, the effect of the treatment may be weakened by various chemical components in the atmosphere, so perform the next step of forming the ultraviolet curable resin film layer before the elapse of a long time. Is preferred. Normally, it is one second or more and several days or less. In the case of a continuous process, considering the stability of the production process,
It is set within about 2 seconds to 10 minutes.

【0041】(記録膜層の形成)本発明においては、光
学式情報記録媒体ディスクのうち、反射膜層および/ま
たは記録膜層を含む層で、情報記録機能を発言する層を
記録膜層という。光学式情報記録媒体ディスクは、熱可
塑性樹脂を射出成形して得た基板の表面に、アルミ反射
膜層や、光の反射率を非可逆的または可逆的に局所的に
変化しうる記録膜層を設けたものであり、記録膜層は数
百〜数千A、厚くても10,000A以下の厚みであ
る。本発明では基板の表面の、コロナ放電処理した側の
処理された部分内に記録膜層を形成する。
(Formation of Recording Film Layer) In the present invention, in the optical information recording medium disk, a layer that includes a reflective film layer and / or a recording film layer and that has an information recording function is called a recording film layer. . An optical information recording medium disk has an aluminum reflective film layer or a recording film layer that can locally change light reflectance irreversibly or reversibly on the surface of a substrate obtained by injection molding a thermoplastic resin. The recording film layer has a thickness of several hundreds to several thousand A, and at most 10,000 A or less. In the present invention, a recording film layer is formed in a portion of the surface of the substrate which has been subjected to the corona discharge treatment.

【0042】音楽用CDや、CD−ROM等では、情報
自体は射出成型時の金型のスタンパー部分に刻んであ
り、基板にそれに対応した微細なグルーブが形成されて
いるから、このグルーブを含む面の表面にアルミニウム
または金などの反射膜層をスパッタリング法等で形成す
ればグルーブと反射膜層とで記録膜層になる。
In a music CD, a CD-ROM, or the like, information itself is cut on a stamper portion of a mold at the time of injection molding, and a fine groove corresponding to the information is formed on the substrate. If a reflective film layer such as aluminum or gold is formed on the surface by sputtering or the like, the groove and the reflective film layer form a recording film layer.

【0043】追記型のCD−Rや、書き換え可能な光磁
気ディスク(MO)などでは、光の反射率または透過率
を可逆的または非可逆的に変化させる記録膜層と、光を
反射する反射膜層と、これらを保護する、または光学的
な歪みを補正するために、薄い無機または有機の保護膜
層が形成される。これらの層はスパッタリング法、気層
成長法、化学薬品をコートによる方法などで、単層また
は組み合わせて多層構造に形成することにより情報記録
として機能する層が形成される。例えば、光磁気ディス
ク用途では、光磁気記録媒体(例えば、Tb−Fe−C
o,Pt−Tb−Fe−Co等の記録媒体)に;反射層
としてアルミニウム、金やその合金類;薄い保護膜層と
して、SiN、SiC等を積層した記録膜層が用いられ
る。相変化型のディスクの場合、Te−Ge−Sb,I
n−Sb−Te,Te−Ge−Cr,Te−Ge−Zn
等やその合金類に上記と同様の反射膜層や、薄い保護膜
層が積層された記録膜層が用いられる。
In a write-once CD-R, a rewritable magneto-optical disk (MO), etc., a recording film layer that reversibly or irreversibly changes light reflectance or transmittance, and a reflection film that reflects light. Film layers and thin inorganic or organic protective film layers are formed to protect them or correct optical distortion. These layers are formed into a single layer or a multi-layer structure in combination with a method such as a sputtering method, a gaseous layer growth method, or a coating method using a chemical agent to form a layer functioning as information recording. For example, in a magneto-optical disk application, a magneto-optical recording medium (for example, Tb-Fe-C
o, Pt-Tb-Fe-Co, etc.); aluminum, gold and alloys thereof as a reflective layer; and a thin protective film layer of SiN, SiC or the like. In the case of a phase change type disc, Te-Ge-Sb, I
n-Sb-Te, Te-Ge-Cr, Te-Ge-Zn
For example, a recording film layer in which a reflective film layer similar to the above or a thin protective film layer is laminated on the above or an alloy thereof is used.

【0044】これらの記録膜層の厚みや形成方法は各光
学式情報記録媒体ディスクの種類によって異なり、公知
の方法で規格に沿って形成される。
The thickness and forming method of these recording film layers differ depending on the type of each optical information recording medium disk, and are formed according to the standard by a known method.

【0045】(紫外線硬化型樹脂膜層の形成)記録膜層
の形成後に更に紫外線硬化型樹脂膜層が形成される。紫
外線硬化型樹脂膜層形成用のコート剤としては、一般に
光ディスク用途に使用されている、紫外線硬化型のアク
リル系などのコート剤をスピンコート法等によって塗布
し、紫外線ランプによって硬化させる方法が使用可能で
あるが、本発明の特徴は、紫外線硬化型樹脂膜層を基板
上の、記録膜層を介してまたは介さないでコロナ放電処
理した基板の部分の上に形成し(図1の2の部分)、記
録膜層、及び記録膜層のある部分と無い部分の境界線を
覆う様に形成することにある。こうすることにより、記
録膜層と紫外線硬化型樹脂膜層の接着性、記録膜層と基
板の接着性が改良されて光学式情報記録媒体ディスクの
耐久性が改良される。
(Formation of UV Curable Resin Film Layer) After the formation of the recording film layer, an ultraviolet curable resin film layer is further formed. As a coating agent for forming an ultraviolet-curable resin film layer, a method of applying an ultraviolet-curable acrylic-based coating agent, which is generally used for optical discs, by a spin coating method or the like and curing with an ultraviolet lamp is used. Although it is possible, a feature of the present invention is that an ultraviolet-curable resin film layer is formed on a portion of the substrate which has been subjected to corona discharge treatment with or without a recording film layer on the substrate (2 in FIG. 1). Portion), a recording film layer, and a boundary line between a portion with and without a recording film layer. By doing so, the adhesiveness between the recording film layer and the ultraviolet curable resin film layer and the adhesiveness between the recording film layer and the substrate are improved, and the durability of the optical information recording medium disk is improved.

【0046】光学式情報記録媒体ディスク表面の樹脂膜
層を形成する場合に用いるコート剤はシリコン系コート
剤でも可能であるが、本発明の目的である光学式情報記
録媒体ディスクの製造工程では工程の生産性の点から、
紫外線硬化型アクリル系コート剤が使用される。本発明
の紫外線硬化型コート剤は、反応性モノマーおよび/ま
たは反応性オリゴマーと光重合開始剤、その他の添加剤
を含み、無溶剤または溶剤で希釈したものである。
The coating agent used for forming the resin film layer on the surface of the optical information recording medium disk may be a silicon-based coating agent. In terms of productivity,
An ultraviolet curable acrylic coating agent is used. The ultraviolet-curable coating agent of the present invention contains a reactive monomer and / or a reactive oligomer, a photopolymerization initiator, and other additives, and is a solvent-free or diluted with a solvent.

【0047】反応性モノマーとしては、アクリレート類
がその主なものであるが、具体的には、2−ヒドロキシ
エチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタク
リレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、フェノ
キシエチルアクリレート、フェノキシプロピルアクリレ
ート、その他の高級アルキルアクリレート等の単官能ア
クリレートモノマー類;スチレン、ビニルピロリドン等
のその他の単官能モノマー類;エチレングリコール、ジ
エチレングリコール、トリプロピレングリコール、ブチ
レングリコール、ヘキサンジオール、トリメチロールプ
ロパン、テトラメチロールプロパン、ペンタエリスリト
ール等の多価アルコール類に2個以上のアクリレートが
結合した多官能アクリレートモノマー類;などを挙げる
ことができる。反応性オリゴマーとしては、末端にアク
ロイル基を持つポリエステルアクリレート、分子鎖中に
エポキシ基かつ末端にアクロイル基を持つエポキシアク
リレートまたはポリウレタンアクリレート、分子鎖中に
二重結合を持つ不飽和ポリエステル、1,2−ポリブタ
ジエン、その他のエポキシ基またはビニルエーテル基を
持つオリゴマーを挙げることができる。
As the reactive monomer, acrylates are the main ones. Specifically, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, phenoxyethyl acrylate, phenoxypropyl acrylate, Other monofunctional acrylate monomers such as higher alkyl acrylates; other monofunctional monomers such as styrene and vinylpyrrolidone; ethylene glycol, diethylene glycol, tripropylene glycol, butylene glycol, hexanediol, trimethylolpropane, tetramethylolpropane, and pentane Polyfunctional acrylate monomers in which two or more acrylates are bonded to a polyhydric alcohol such as erythritol; and the like. Examples of the reactive oligomer include polyester acrylate having an acroyl group at the end, epoxy acrylate or polyurethane acrylate having an epoxy group in the molecular chain and an acroyl group at the terminal, unsaturated polyester having a double bond in the molecular chain, and 1,2. Polybutadiene and other oligomers having epoxy or vinyl ether groups.

【0048】光重合開始剤としては、2,2−ジメトキ
シ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ
アセトフェノン、塩素化アセトフェノン等のアセトフェ
ノン類;ベンゾフェノン類;ベンジル、メチルオルソベ
ンゾイルベンゾエート、ベンゾインアルキルエーテル等
のベンゾイン類;α,α′−アゾビスイソブチロニトリ
ル、2,2′−アゾビスプロパン、ヒドラゾン等のアゾ
化合物;ベンゾイルパーオキサイド、ジターシャリーブ
チルパーオキサイド等の有機パーオキサイド類;ジフェ
ニルジサルファイド、ジベンジルジサルファイド、ジベ
ンゾイルジサルファイド等のジフェニルジサルファイド
類;等を挙げることができる。
Examples of photopolymerization initiators include acetophenones such as 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone and chlorinated acetophenone; benzophenones; benzyl, methyl orthobenzoyl benzoate, and benzoin alkyl ether. Azo compounds such as α, α'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobispropane and hydrazone; organic peroxides such as benzoyl peroxide and ditertiary butyl peroxide; diphenyldi Diphenyl disulfides such as sulfide, dibenzyl disulfide and dibenzoyl disulfide; and the like.

【0049】これらの混合割合は、通常、アクリレート
モノマーと光重合開始剤を合わせた重量に対して、単官
能アクリレートモノマーは25〜60重量%、好ましく
は30〜40重量%、2または3官能アクリレートモノ
マーは10〜40重量%、好ましくは15〜30重量
%、4官能以上のアクリレートモノマー20〜50重量
%、好ましくは25〜40重量部、光重合開始剤は1〜
10重量%、好ましくは2〜6重量%である。4官能以
上のアクリレートモノマーが多すぎると、硬化収縮が増
大し、少なすぎると紫外線硬化型樹脂膜層の硬度が低下
し、また硬化速度が低下する。単官能アクリレートモノ
マーの量が少ないと粘度が高くなり作業性が悪い。ま
た、単官能アクリレートモノマーの量が多いと硬化収縮
が減少するほか、2または3官能アクリレートモノマー
の量が少なくなり、紫外線硬化型樹脂膜層の柔軟性が低
下し、クラック発生の原因となる。また、接着性を向上
させるためには2または3官能アクリレートモノマーの
量は多いことが好ましい。
The mixing ratio of the monofunctional acrylate monomer is usually from 25 to 60% by weight, preferably from 30 to 40% by weight, based on the total weight of the acrylate monomer and the photopolymerization initiator. The monomer is 10 to 40% by weight, preferably 15 to 30% by weight, the tetrafunctional or higher acrylate monomer is 20 to 50% by weight, preferably 25 to 40% by weight, and the photopolymerization initiator is 1 to
It is 10% by weight, preferably 2 to 6% by weight. If the amount of the acrylate monomer having four or more functional groups is too large, the curing shrinkage increases. If the amount is too small, the hardness of the ultraviolet-curable resin film layer decreases, and the curing speed decreases. If the amount of the monofunctional acrylate monomer is small, the viscosity becomes high and the workability is poor. In addition, when the amount of the monofunctional acrylate monomer is large, the curing shrinkage decreases, and in addition, the amount of the bifunctional or trifunctional acrylate monomer decreases, and the flexibility of the ultraviolet curable resin film layer decreases, which causes cracks. In order to improve the adhesiveness, the amount of the bifunctional or trifunctional acrylate monomer is preferably large.

【0050】さらに、紫外線硬化型樹脂膜層の接着性や
硬度を満たす限りにおいて、適当な添加物を加えてもよ
い。例えば適当な界面活性剤、例えば、紫外線硬化剤と
の相溶性のよい非イオン系活性剤、特にアミン系界面活
性剤やその他の帯電防止剤を添加することにより、表面
の帯電性などを改良できたり、フッ素系ノニオン界面活
性剤を添加することにより、基板との濡れや効果後の表
面平滑性が改良できたりする。また、適当な熱可塑性樹
脂を添加することにより、粘度を調整したり、接着性を
向上させることもできる。接着性を向上させる熱可塑性
樹脂としては、環状オレフィン樹脂またはそれと構造が
類似の樹脂、例えば、ノルボルネン系単量体の開環重合
体や、ジシクロペンタジエン系、ジエン系、脂肪族系、
ウォーターホワイト系などの石油樹脂またはその水素添
加物などが挙げられる。
Further, as long as the adhesiveness and hardness of the ultraviolet-curable resin film layer are satisfied, a suitable additive may be added. For example, by adding a suitable surfactant, for example, a nonionic surfactant having good compatibility with an ultraviolet curing agent, in particular, an amine surfactant or other antistatic agent, the chargeability of the surface can be improved. Also, by adding a fluorine-based nonionic surfactant, wetting with the substrate and surface smoothness after the effect can be improved. Further, by adding an appropriate thermoplastic resin, the viscosity can be adjusted and the adhesiveness can be improved. As the thermoplastic resin for improving the adhesiveness, a cyclic olefin resin or a resin having a structure similar thereto, for example, a ring-opened polymer of a norbornene-based monomer, dicyclopentadiene-based, diene-based, aliphatic-based,
Examples thereof include petroleum resins such as water white resins and hydrogenated products thereof.

【0051】これらの混合物は、このままで、紫外線硬
化型コート剤として用いることもできるが、操作性の必
要等に応じて、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等
の芳香族炭化水素系溶剤;シクロヘキサン、メチルシク
ロヘキサン等の脂環族炭化水素系溶剤;メチルイソブチ
ルケトン、メチルエチルケトン、アセトン等のケトン系
溶剤;n−ブチルエーテル、ジエチルエーテル等のエー
テル系溶剤;等をはじめ、エステル系溶剤、セロソルブ
系溶剤、クロル系溶剤等の溶剤に80重量%以上の濃度
に溶解して用いて、紫外線硬化型コート剤としてもよ
い。
These mixtures can be used as such as a UV-curable coating agent, but if necessary, operability or the like, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene and chlorobenzene; cyclohexane, methyl Alicyclic hydrocarbon solvents such as cyclohexane; ketone solvents such as methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone and acetone; ether solvents such as n-butyl ether and diethyl ether; and the like, ester solvents, cellosolve solvents, chloro solvents. It may be dissolved in a solvent such as a solvent at a concentration of 80% by weight or more and used as an ultraviolet curable coating agent.

【0052】また、紫外線硬化型コート剤特に光学式情
報記録媒体ディスク製造用の紫外線硬化型コート剤とし
て市販されているもののなかから、環状オレフィン樹脂
と接着性の良いものを適宜選択して使用することもで
き、そのような具体的な例としては、大日本インキ製造
社製コート剤SDシリーズ、特にSD−301やSD−
1700など、三菱レーヨン社のURシリーズ、特にU
R−4501、Dr.Ranger社の各種録媒体ディ
スク用コート剤を挙げることができる。
Further, from among those commercially available as an ultraviolet-curable coating agent, particularly an ultraviolet-curable coating agent for manufacturing an optical information recording medium disk, those having good adhesiveness to the cyclic olefin resin are appropriately selected and used. Examples of such specific examples include coating agents SD series manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, particularly SD-301 and SD-301.
Mitsubishi Rayon UR series such as 1700, especially U
R-4501, Dr. Examples include various recording medium disc coating agents from Ranger.

【0053】(紫外線硬化型樹脂膜層の形成方法)本発
明の紫外線硬化型樹脂膜層を形成するには、紫外線硬化
型樹脂膜層形成面に紫外線硬化型コート剤を塗布し、紫
外線を照射して硬化させる。紫外線硬化型コート剤を溶
剤に溶解して用いた場合は、紫外線硬化型コート剤の塗
布後、次の工程の前に揮発成分を十分に除去しておく。
溶剤を多量に含んだまま紫外線硬化型コート剤を硬化さ
せると、塗膜にクラックが発生しやすく、また、高硬度
の塗膜が得られない原因にもなる。
(Method of Forming UV-Curable Resin Film Layer) In order to form the UV-curable resin film layer of the present invention, an ultraviolet-curable coating agent is applied to the surface on which the UV-curable resin film layer is to be formed and irradiated with ultraviolet rays. And cure. When the ultraviolet-curable coating agent is used by dissolving it in a solvent, the volatile components are sufficiently removed after the application of the ultraviolet-curable coating agent and before the next step.
If the UV-curable coating agent is cured while containing a large amount of solvent, cracks are likely to be generated in the coating film, and it also becomes a cause that a coating film with high hardness cannot be obtained.

【0054】紫外線硬化型コート剤の塗布方法は特に限
定されず、例えば、スプレー、浸漬、スピンコート、ロ
ールコーター等が可能であるが、光学式情報記録媒体デ
ィスクの製造工程ではスピンコート法が常用される。溶
剤を紫外線硬化型コート剤に使用した場合の溶剤除去方
法も特に限定されない。溶剤を揮発により実質的に除去
する場合には、必要な温度と時間は、使用する溶剤の種
類、塗布量、紫外線硬化型樹脂膜層形成面の形状によっ
ても異なるが、熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂の熱変
形がないように、おおむね120℃以下で、かつ、十分
に揮発性成分を除去できるように条件を決定すればよ
い。具体的には60〜120℃で、3〜60分程度の除
去方法が適当である。高温で溶剤を除去した後は、室温
で10秒〜10分程度の冷却を行い、ほぼ室温近くまで
冷却することが好ましい。なお、溶剤を用いない場合
は、揮発による除去操作は不要である。
The method of applying the ultraviolet curable coating agent is not particularly limited, and for example, spraying, dipping, spin coating, roll coater, etc. are possible. In the process of manufacturing an optical information recording medium disk, spin coating is commonly used. Is done. The method of removing the solvent when the solvent is used for the ultraviolet-curable coating agent is not particularly limited. When the solvent is substantially removed by volatilization, the required temperature and time vary depending on the type of the solvent used, the amount of coating, and the shape of the surface on which the ultraviolet-curable resin film layer is formed. The conditions may be determined so that the temperature is about 120 ° C. or less and volatile components can be sufficiently removed so as not to cause thermal deformation. Specifically, a removal method at 60 to 120 ° C. for about 3 to 60 minutes is suitable. After removing the solvent at a high temperature, it is preferable to perform cooling at room temperature for about 10 seconds to 10 minutes, and then cool to almost room temperature. When no solvent is used, the removal operation by volatilization is unnecessary.

【0055】塗布する量は、2〜300μm程度の厚さ
になるようにすることが好ましい。溶剤を除去する場合
は、除去後に上記の厚さになるようにすることが好まし
い。紫外線硬化型コート剤の塗布量が少ない場合には、
強度の強い紫外線硬化型樹脂膜層が得られず、十分な表
面硬度の改良効果が得られない。多い場合には、溶剤除
去や硬化反応に時間がかかり、生産性が悪くなり、ま
た、硬化不十分で硬度が低い場合や、紫外線硬化型樹脂
膜層が柔軟性に欠け、割れることがある。
It is preferable that the applied amount is set to a thickness of about 2 to 300 μm. When the solvent is removed, it is preferable that the solvent has the above thickness after the removal. If the amount of UV curable coating agent applied is small,
An ultraviolet-curable resin film layer with high strength cannot be obtained, and a sufficient effect of improving the surface hardness cannot be obtained. When the amount is too large, it takes time to remove the solvent and the curing reaction, resulting in poor productivity. In addition, when the curing is insufficient and the hardness is low, the ultraviolet curable resin film layer lacks flexibility and may be cracked.

【0056】その後、高圧水銀灯などの紫外線を効率的
に発生する光源から紫外線を照射することにより、硬化
が短時間で起こり、硬度の高い紫外線硬化型樹脂膜層が
形成される。紫外線の照射量は、光重合性モノマーや光
重合開始剤の反応性によっても異なるが、通常、80か
ら200W/cmの高圧水銀灯が常用され、場合、15
0mJ/cm2の照射強度の場合で1〜20秒程度の短
時間で硬化させることもできる。
Thereafter, by irradiating ultraviolet rays from a light source such as a high-pressure mercury lamp that efficiently generates ultraviolet rays, curing occurs in a short time, and an ultraviolet-curable resin film layer having high hardness is formed. The irradiation amount of the ultraviolet ray varies depending on the reactivity of the photopolymerizable monomer and the photopolymerization initiator, but a high-pressure mercury lamp of 80 to 200 W / cm is usually used.
When the irradiation intensity is 0 mJ / cm 2 , the curing can be performed in a short time of about 1 to 20 seconds.

【0057】基板成形後に本発明に記載される表面処理
を行った後、連続して記録膜層形成、保護コート形成を
行う方法が好ましい。一連の工程を通常6時間以下、好
ましくは1時間以下で行うが、製造工程のトラブル等の
ために、2日以上になることもある。記録膜層形成後に
数日保管後に保護コート層を形成することも可能であ
る。
It is preferable to perform the surface treatment described in the present invention after the substrate is formed, and then continuously form the recording film layer and the protective coat. The series of steps is usually performed for 6 hours or less, preferably 1 hour or less, but may take 2 days or more due to troubles in the manufacturing process. It is also possible to form the protective coat layer after storage for several days after the formation of the recording film layer.

【0058】(その他の工程など)例えばデジタルビデ
オディスクやレーザーディスクでは、半分の厚みに作っ
たディスクを2枚用い、記録膜層が内側になるように互
いにディスクを貼り合わせたものも可能である。紫外線
硬化型樹脂膜層の上に更にレーベル等をスクリーン印刷
法などで印刷することも可能である。また、本発明の製
造工程で規定されている各工程は、請求項に記載された
方法の順番に沿って実施していく必要があるが、これら
の工程以外の工程を付加することも可能である。
(Other Steps) For example, in the case of a digital video disk or a laser disk, it is also possible to use two disks each having a half thickness and bond the disks together so that the recording film layer is on the inside. . A label or the like can be further printed on the ultraviolet curable resin film layer by a screen printing method or the like. Further, each step defined in the manufacturing process of the present invention needs to be performed in the order of the method described in the claims, but it is also possible to add steps other than these steps. is there.

【0059】(光学式情報記録媒体ディスク)以上のよ
うな工程により、光学式情報記録媒体ディスクが製造さ
れる。本発明に係る光学式情報記録媒体ディスクとして
は、光学的に読みとり可能な情報記録媒体であり、音楽
用CD、CD−ROM、レーザーディスク、などの微細
な凹凸による反射光の変化を利用し、書き換え不可能な
もの、CD−R、ミニディスク、MO、DVDなど、官
能性色素や相変化による反射率の変化を利用し、追記ま
たは書き換え可能なものなどがある。特に、例えば反射
膜層として、アルミ、金、鉄等およびこれらの金属原子
を含む化合物等からなる導電性膜層を有する光学式情報
記録媒体ディスクに対しては、導電性膜層を形成したあ
とにコロナ放電処理しようとすると放電の危険があり、
そのような処理が不可能であったが、本発明の製造方法
を採用することにより、放電によるコゲたりヤケたりす
ることが無く、各層間の接着力を改良できるので好適で
ある。
(Optical Information Recording Medium Disk) The optical information recording medium disk is manufactured by the above steps. The optical information recording medium disk according to the present invention is an optically readable information recording medium, a music CD, a CD-ROM, a laser disk, and the like, utilizing changes in reflected light due to minute irregularities, Non-rewritable ones, such as CD-Rs, minidiscs, MOs, and DVDs, can be added or rewritten using a change in reflectance due to a functional dye or phase change. In particular, for an optical information recording medium disk having a conductive film layer made of, for example, aluminum, gold, iron or the like and a compound containing these metal atoms as a reflective film layer, after forming the conductive film layer, There is a danger of discharge if you try to corona discharge
Although such a treatment was impossible, the use of the production method of the present invention is preferable because it does not cause burns or burns due to discharge and can improve the adhesive strength between the layers.

【0060】[0060]

【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、何らこれら
の例に制限されるものではない。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

【0061】(耐久性試験について)光学式情報記録媒
体ディスクには一般的な使用条件で、少なくとも10年
間、好ましくは20年またはそれ以上の長期間に渡っ
て、記録した情報を再現性良く取り出せることが要求さ
れる(光学式情報記録媒体ディスクに関する規格につい
ては、「レッドブック」や「イエローブック」に定めら
れている)。しかし、実際に10年間経過後の耐久性を
試験することはできないので、余裕を持った、十分に過
酷な条件で試験されることが常である。通常50〜10
0℃、好ましくは60〜95℃の温度範囲で、通常は6
0〜100%RH、このましくは70〜95%RHの湿
度範囲で、通常は100時間以上、好ましくは200時
間以上、更に好ましくは500時間、最も好ましくは
1,000時間以上の耐久性加速試験を行って耐久性が
予測される。試験条件が厳しい程、耐久性の優れた光学
式情報記録媒体ディスクとなりうるが、条件が厳しすぎ
れば過剰品質となってコストアップや良品率の低下とな
り好ましくない。また、耐久試験後の合否は、まず目視
観察により、光学式情報記録媒体ディスクに外観上の異
常が無いこと、さらにビットエラーの発生率(全くゼロ
という訳では無い)を電気的に測定し、一定レベル以下
にあれば合格と判断される。これれの高温高湿等の促進
条件や、ビットエラーの発生率は、光学式情報記録媒体
ディスクの種類、用途(コンピューター用か音楽用か
等)によっても異なるが、通常は10×10-6以下、好
ましくは1×10-6以下である。
(Durability test) The recorded information can be taken out with good reproducibility over a long period of at least 10 years, preferably 20 years or more under the general use conditions of the optical information recording medium disk. (Standards for optical information recording medium disks are defined in “Red Book” and “Yellow Book”). However, it is not possible to actually test the durability after a lapse of 10 years, so that the test is usually performed under a sufficiently severe condition with a margin. Usually 50 to 10
0 ° C., preferably 60-95 ° C., usually 6 ° C.
In a humidity range of 0 to 100% RH, preferably 70 to 95% RH, durability acceleration is usually 100 hours or more, preferably 200 hours or more, more preferably 500 hours, and most preferably 1,000 hours or more. A test is performed to predict durability. The more severe the test conditions, the better the durability of the optical information recording medium disk. However, if the conditions are too severe, the quality will be excessive, resulting in an increase in cost and a decrease in the yield rate, which is not preferable. In addition, pass / fail after the endurance test was evaluated by first visually observing that the optical information recording medium disk had no abnormalities in appearance, and further electrically measuring the bit error rate (not completely zero). If it is below a certain level, it is judged as passing. Acceleration conditions such as high temperature and high humidity and the rate of occurrence of bit errors vary depending on the type and use of the optical information recording medium disk (computer or music), but usually 10 × 10 −6. Or less, preferably 1 × 10 −6 or less.

【0062】(試験項目および試験条件)光学式情報記
録媒体ディスクについて行った試験の項目と、試験条件
を説明する。 ・初期剥離テスト:紫外線硬化型樹脂膜層の上から剃刀
で縦11本、横11本の切り込みを入れ、1mm角のマ
ス100個描いた後、セロファンテープを貼り、勢い良
く剥がし、剥離した紫外線硬化型樹脂膜層の数を数え、
10個未満を良好(表1で○)とし、10個以上を不合
格(×)とした。 ・初期ビットエラーレート:作成した光学式情報記録媒
体ディスクを所定のケースに納め、日立電子エンジニア
リング社製光磁気ディスク媒体総合評価装置OT−55
00によりビットエラーレートを測定し、1×10-6
満を良好(○)、1×10-6以上を不合格(×)とし
た。 ・耐久性促進試験後の剥離テスト:所定の条件で耐久性
促進試験を行った後、初期剥離テストと同様に試験し、
良好(○)と不合格(×)を判定した。 ・耐久性促進試験後のビットエラーレート:所定の条件
で耐久性促進試験を行った後、初期ビットエラーレート
と同様に試験し、良好(○)と不合格(×)を判定し
た。 ・耐久性促進試験後の外観検査:所定の条件で耐久性促
進試験を行った後、目視で外観を観察し、特に記録膜層
の欠陥の有無の発生をチェックし、初期に比べて差が生
じていないかどうかを試験し、良好(変化なし)と不合
格(変化あり)を判定した。
(Test Items and Test Conditions) Test items and test conditions performed on the optical information recording medium disk will be described.・ Initial peeling test: After making 11 vertical and 11 horizontal cuts with a razor from the top of the ultraviolet curable resin film layer, draw 100 squares of 1 mm square, apply cellophane tape, peel off vigorously, and peel off ultraviolet rays Count the number of curable resin film layers,
Less than 10 pieces were good (o in Table 1), and 10 or more pieces were reject (x). -Initial bit error rate: The created optical information recording medium disk is placed in a predetermined case, and a magneto-optical disk medium comprehensive evaluation device OT-55 manufactured by Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd.
The bit error rate was measured according to 00, and less than 1 × 10 −6 was evaluated as good (○), and 1 × 10 −6 or more was evaluated as unacceptable (×).・ Peeling test after durability promotion test: After conducting the durability promotion test under the specified conditions, the same test as the initial peel test was performed,
Good (O) and reject (X) were judged. -Bit error rate after durability promotion test: After a durability promotion test was performed under predetermined conditions, a test was performed in the same manner as the initial bit error rate, and good (O) and failed (X) were determined. -Appearance inspection after durability promotion test: After conducting the durability promotion test under the specified conditions, visually observe the appearance and check especially the occurrence of defects in the recording film layer. Tests were made to see if any had occurred, and good (no change) and failed (changed) were judged.

【0063】[実施例1] (開環重合体の製造)窒素雰囲気下、脱水したトルエン
690重量部に、1、4−メタノ−1、4、4a、9a
−テトラヒドロフルオレン300重量部を、1−ヘキセ
ン 1.1重量部、塩化タングステンの0.3重量%ト
ルエン溶液11重量部及びテトラブチルスズ0.6重量
部とともに加え、60℃、常圧にて1時間重合させた。
トルエンを溶剤に用いた高速液体クロマトグラフィ(ポ
リスチレン換算)により、得られたポリマーの数平均分
子量(Mn)は17,700、重量平均分子量は35,
400、分子量分布(Mw/Mn)は2.0であった。
Example 1 (Production of a ring-opening polymer) 1,4-methano-1,4,4a, 9a was added to 690 parts by weight of dehydrated toluene under a nitrogen atmosphere.
300 parts by weight of tetrahydrofluorene are added together with 1.1 parts by weight of 1-hexene, 11 parts by weight of a 0.3% by weight solution of tungsten chloride in toluene and 0.6 part by weight of tetrabutyltin, and the mixture is added at 60 ° C. and normal pressure for 1 hour. Polymerized.
By high performance liquid chromatography (in terms of polystyrene) using toluene as a solvent, the number average molecular weight (Mn) of the obtained polymer was 17,700, and the weight average molecular weight was 35,
400 and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.0.

【0064】(環状オレフィン樹脂の製造)この重合反
応溶液240重量部にアルミナ担持ニッケル触媒(触媒
1重量部中、ニッケル0.70重量部及び酸化ニッケル
0.2重量部含有、細孔容積0.8cm3/g、比表面
積300cm2/g)6重量部とイソプロピルアルコー
ル5重量部とを加え、オートクレーブ中で230℃、4
5kgf/cm2の条件下5時間反応させた。この水素
添加反応液を、珪藻土(ラヂオライト#800)と活性
アルミナ(細孔容積0.72cm3/g、比表面積25
0m2/g)の同重量混合物を濾過助剤として、触媒を
除去し、更に孔径0.4μmのメンブレンフィルターで
濾過した溶液を遠心薄膜連続型蒸発器型乾燥器を用いて
280℃、20torrで8時間乾燥して樹脂を得た。
この樹脂100重量部に対し、スチレン−ブタジエン−
スチレンブロック共重合体水素添加物を0.1重量部と
テトラキス(メチレン−3−(3′,5′−ジ−t−ブ
チル−4′−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)メ
タンを0.4重量部の割合で加え、2軸押出機で混練
後、ペレット化を行った。環状オレフィン樹脂の収率は
99%であった。1H−NMRにより測定した主鎖水素
添加率99.9%以上、芳香環構造の水素添加率は9
9.8%であった。シクロヘキサンを溶剤に用いた高速
液体クロマトグラフィー(ポリイソプレン換算)によ
り、得られた水素添加物の数平均分子量(Mn)は2
2,600、重量平均分子量(Mn)は42,500、
分子量分布(Mw/Mn)は1.88で、ガラス転移点
(Tg)は136℃であった。
(Production of cyclic olefin resin) A nickel catalyst supported on alumina (containing 0.70 parts by weight of nickel and 0.2 parts by weight of nickel oxide per 1 part by weight of catalyst) was added to 240 parts by weight of the polymerization reaction solution. 8 cm 3 / g, specific surface area 300 cm 2 / g) 6 parts by weight and isopropyl alcohol 5 parts by weight were added, and the mixture was heated at 230 ° C. in an autoclave.
The reaction was performed for 5 hours under the condition of 5 kgf / cm 2 . This hydrogenation reaction solution was mixed with diatomaceous earth (Radiolite # 800) and activated alumina (pore volume 0.72 cm 3 / g, specific surface area 25
0 m 2 / g) as a filter aid, the catalyst was removed, and the solution filtered through a membrane filter having a pore size of 0.4 μm was further filtered at 280 ° C. and 20 torr using a continuous centrifugal thin film evaporator dryer. After drying for 8 hours, a resin was obtained.
For 100 parts by weight of this resin, styrene-butadiene-
0.1 part by weight of a hydrogenated styrene block copolymer and 0.4 part by weight of tetrakis (methylene-3- (3 ', 5'-di-tert-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate) methane After kneading with a twin screw extruder, pelletization was performed. The yield of the cyclic olefin resin was 99%. The main-chain hydrogenation rate measured by 1 H-NMR was 99.9% or more, and the hydrogenation rate of the aromatic ring structure was 9%.
9.8%. The number average molecular weight (Mn) of the obtained hydrogenated product was 2 by high performance liquid chromatography (in terms of polyisoprene) using cyclohexane as a solvent.
2,600, weight average molecular weight (Mn) is 42,500,
The molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.88, and the glass transition point (Tg) was 136 ° C.

【0065】(基板成形)上記のペレットを、住友重機
械工業社製射出成形機(DISK)及び光磁気ディスク
用スタンパーを取り付けた金型を使用し、成形温度を3
40℃、金型温度を120℃に設定して射出成形を行
い、130mmφの光磁気ディスク基板を得た。成形後
に測定した基板の水の接触角は、25℃、40%RHの
環境で測定して92°であった。
(Substrate molding) The above pellets were molded at a molding temperature of 3 using an injection molding machine (DISK) manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd. and a mold fitted with a stamper for a magneto-optical disk.
Injection molding was performed at a temperature of 40 ° C. and a mold temperature of 120 ° C. to obtain a 130 mmφ magneto-optical disk substrate. The water contact angle of the substrate measured after molding was 92 ° as measured in an environment of 25 ° C. and 40% RH.

【0066】(コロナ放電処理)この基板を、タンテッ
ク社製コロナ放電処理装置(高周波発生装置HV−0
9,高圧トランス、タイプワイヤー電極)にて、グルー
ブのある面の全面に渡って表面処理を行った。処理条件
は大気中、室温25℃、基板温度25℃、コンベア移動
速度3m/min,出力200W,ワーク距離30mm
であった。コロナ放電処理後に測定した基板の水の接触
角は、50°であった。
(Corona discharge treatment) This substrate was treated with a corona discharge treatment device (tandem high frequency generator HV-0) manufactured by Tantec Corporation.
9, a high-voltage transformer, a type wire electrode) to perform a surface treatment over the entire surface having the groove. Processing conditions are as follows: air, room temperature 25 ° C, substrate temperature 25 ° C, conveyor moving speed 3m / min, output 200W, work distance 30mm.
Met. The water contact angle of the substrate measured after corona discharge treatment was 50 °.

【0067】(記録膜層の形成)日電アネルバ製ILC
−3000を使用して記録膜層の形成を行った。記録膜
層の構成は、SiN 100nm,TbFeCo 30
nm,SiN 40nm,Al 40nmである。記録
膜層は最外周部の幅1.0mmと、内周部で溝の外側の
幅2.0mmには設けなかった。
(Formation of Recording Film Layer) ILC manufactured by Nidec Anelva
-3000 was used to form a recording film layer. The configuration of the recording film layer is SiN 100 nm, TbFeCo 30
nm, SiN 40 nm, and Al 40 nm. The recording film layer was not provided with a width of 1.0 mm at the outermost periphery and a width of 2.0 mm outside the groove at the inner periphery.

【0068】(保護コート層の形成)大日本インキ化学
工業製紫外線硬化型樹脂SD−301を使用してスピン
コート法にて記録膜層全体を覆う様に塗布し、メタルハ
ライドランプ(80W/cm)にて、積算照射量3,0
00mJ/cm2で硬化させた。さらに、別途成形した
ハブを超音波接着し、光磁気ディスクとした。
(Formation of Protective Coat Layer) Using a UV-curable resin SD-301 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd., application was performed by spin coating so as to cover the entire recording film layer, and a metal halide lamp (80 W / cm) was used. , The integrated irradiation dose is 3,0
Cured at 00 mJ / cm 2 . Further, a separately molded hub was ultrasonically bonded to obtain a magneto-optical disk.

【0069】以上の様にして得られた光磁気ディスク
を、70℃、80%RHの条件で1,000時間保持し
て耐久性促進試験にかけた後、除冷し常温にし、所定の
試験を行った。試験結果を表1に示す。
The magneto-optical disk obtained as described above was held at 70 ° C. and 80% RH for 1,000 hours, subjected to a durability promotion test, then cooled to room temperature, and subjected to a predetermined test. went. Table 1 shows the test results.

【0070】[参考実験]実施例1で得られた成形後の
基板を、実施例1と同じ条件で100回繰返しコロナ放
電処理した。100回のコロナ放電処理後の基板の表面
の水の接触角を測定したところ45°であった。基板表
面を走査型プローブ顕微鏡ナノスコープIIIa(テキ
サスインスツルメンツ社製)で観察したところ、グルー
ブのエッジ部が丸くなり、表面が荒れていた。
[Reference Experiment] The molded substrate obtained in Example 1 was subjected to corona discharge treatment 100 times repeatedly under the same conditions as in Example 1. The contact angle of water on the surface of the substrate after 100 times of corona discharge treatment was 45 °. When the substrate surface was observed with a scanning probe microscope Nanoscope IIIa (manufactured by Texas Instruments), the edge of the groove was rounded and the surface was rough.

【0071】[実施例2]コロナ放電時の基板温度を7
0℃した以外は実施例1と同様にして光磁気ディスクを
得た。試験結果を表1に示す。
Example 2 The substrate temperature during corona discharge was set to 7
A magneto-optical disk was obtained in the same manner as in Example 1 except that the temperature was changed to 0 ° C. Table 1 shows the test results.

【0072】[実施例3]窒素雰囲気下、エチルテトラ
シクロドデセン60重量部、シクロヘキサン600重量
部、1−ヘキセン6.0重量部、トリエチルアルミニウ
ム15重量%トルエン溶液45重量部及びトリエチルア
ミン15.0重量部を加え、20℃に保ち、攪拌しなが
ら、エチルテトラシクロドデセン240重量部及び四塩
化チタン20重量%トルエン溶液27.0重量部を60
分に渡り、連続的に加えた。その後、1時間反応させた
後、エチルアルコール15.0重量部及び水6.0重量
部を加えて停止させた。反応溶液を40℃に加温して触
媒を加水分解した後、硫酸カルシウム9重量部及びシク
ロヘキサン180重量部を加え、過剰の水を除去した。
析出した金属を含む沈殿物を濾過して除去し、重合体溶
液を得た。シクロヘキサンを溶剤に用いた高速液体クロ
マトグラフィー(ポリイソプレン換算)により、得られ
た水素添加後の環状オレフィン樹脂の数平均分子量(M
n)は21,000、重量平均分子量(Mn)は44,
000、分子量分布(Mw/Mn)は2.10であっ
た。
Example 3 Under a nitrogen atmosphere, 60 parts by weight of ethyltetracyclododecene, 600 parts by weight of cyclohexane, 6.0 parts by weight of 1-hexene, 45 parts by weight of a 15% by weight solution of triethylaluminum in toluene and 15.0 parts by weight of triethylamine. Then, 240 parts by weight of ethyltetracyclododecene and 27.0 parts by weight of a 20% by weight titanium tetrachloride toluene solution are added to 60 parts by weight while maintaining the temperature at 20 ° C. and stirring.
Added continuously over minutes. Then, after reacting for 1 hour, 15.0 parts by weight of ethyl alcohol and 6.0 parts by weight of water were added to stop the reaction. After heating the reaction solution to 40 ° C. to hydrolyze the catalyst, 9 parts by weight of calcium sulfate and 180 parts by weight of cyclohexane were added to remove excess water.
The precipitate containing the deposited metal was removed by filtration to obtain a polymer solution. The number average molecular weight (M) of the obtained hydrogenated cyclic olefin resin was determined by high performance liquid chromatography (in terms of polyisoprene) using cyclohexane as a solvent.
n) is 21,000, the weight average molecular weight (Mn) is 44,
000, molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.10.

【0073】この重合体溶液750重量部に、Ni−珪
藻土触媒15重量部を添加し、オートクレーブに入れ、
水素を導入して、圧力50kgf/cm2、温度200
℃で3時間水素添加反応を行った。反応終了後、シクロ
ヘキサン700重量部を加えて希釈した。この水素添加
反応液を、珪藻土(ラヂオライト#800)と活性アル
ミナ(細孔容積0.72cm3/g、比表面積250m2
/g)の同重量混合物を濾過助剤として、触媒を除去
し、更に孔径0.4μmのメンブレンフィルターで濾過
された溶液を遠心薄膜連続型蒸発器型乾燥器を用いて2
80℃、20torrで8時間乾燥して樹脂を得た。こ
の樹脂100重量部に対し、スチレン−ブタジエン−ス
チレンブロック共重合体水素添加物を0.1重量部とテ
トラキス(メチレン−3−(3′,5′−ジ−t−ブチ
ル−4′−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)メタ
ンを0.3重量部の割合で加え、2軸押出機で混練、ペ
レット化を行った。
To 750 parts by weight of this polymer solution, 15 parts by weight of a Ni-diatomaceous earth catalyst were added, and the mixture was placed in an autoclave.
Hydrogen was introduced, the pressure was 50 kgf / cm 2 , and the temperature was 200
A hydrogenation reaction was carried out at a temperature of 3 hours. After the reaction, 700 parts by weight of cyclohexane was added for dilution. This hydrogenation reaction solution was treated with diatomaceous earth (Radiolite # 800) and activated alumina (pore volume 0.72 cm 3 / g, specific surface area 250 m 2
/ G) was used as a filter aid to remove the catalyst, and the solution filtered through a membrane filter having a pore size of 0.4 μm was subjected to centrifugal thin-film continuous evaporator-type drying to obtain a solution.
The resin was dried at 80 ° C. and 20 torr for 8 hours to obtain a resin. To 100 parts by weight of this resin, 0.1 part by weight of hydrogenated styrene-butadiene-styrene block copolymer was added to tetrakis (methylene-3- (3 ', 5'-di-tert-butyl-4'-hydroxy). Phenyl) propionate) methane was added in a ratio of 0.3 parts by weight, and kneaded and pelletized with a twin-screw extruder.

【0074】環状オレフィン樹脂の収率は99%であっ
た。1H−NMRによる水素添加率は99.9%以上で
あった。シクロヘキサンを溶剤に用いた高速液体クロマ
トグラフィー(ポリイソプレン換算)により、得られた
水素添加後の環状オレフィン樹脂の数平均分子量(M
n)は28,000、重量平均分子量(Mn)は58,
000、分子量分布(Mw/Mn)は2.07で、ガラ
ス転移点(Tg)は142℃であった。このペレット
を、実施例1同様の条件で光磁気ディスクを得た。試験
結果を表1に示す。
The yield of the cyclic olefin resin was 99%. The hydrogenation rate by 1 H-NMR was 99.9% or more. The number average molecular weight (M) of the obtained hydrogenated cyclic olefin resin was determined by high performance liquid chromatography (in terms of polyisoprene) using cyclohexane as a solvent.
n) was 28,000 and the weight average molecular weight (Mn) was 58,
000, the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.07, and the glass transition point (Tg) was 142 ° C. This pellet was used to obtain a magneto-optical disk under the same conditions as in Example 1. Table 1 shows the test results.

【0075】[比較例1]コロナ放電処理をしなかった
以外は、実施例1と同様にして光磁気ディスクを得た。
試験結果を表1に示す。
Comparative Example 1 A magneto-optical disk was obtained in the same manner as in Example 1, except that the corona discharge treatment was not performed.
Table 1 shows the test results.

【0076】[比較例2]コロナ放電処理の代わりにプ
ライマー処理を行った以外は実施例1と同様にして光磁
気ディスクを得た。プライマー処理方法は、PC−7A
(変性アクリル系プライマー、信越化学工業製)を基板
上にスピンコートし、110℃1時間乾燥を行い、その
後、室温まで冷却することにより行った。これ以外の工
程は実施例1と同じである。試験結果を表1に示す。
Comparative Example 2 A magneto-optical disk was obtained in the same manner as in Example 1, except that primer treatment was performed instead of corona discharge treatment. Primer treatment method is PC-7A
(Modified acrylic primer, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was spin-coated on the substrate, dried at 110 ° C. for 1 hour, and then cooled to room temperature. The other steps are the same as in the first embodiment. Table 1 shows the test results.

【0077】[比較例3]コロナ放電処理の代わりに重
クロム酸系水溶液による処理を行った以外は、実施例1
と同様の方法で光磁気ディスクを得た。重クロム酸系水
溶液による処理方法は、二クロム酸カリウム:水:硫酸
=7:12:150の溶液に基板を10秒浸漬し、取り
出し後水洗浄を行い、100℃で30分乾燥後、室温ま
で冷却することにより行った。これ以外の工程は実施例
1と同様である。試験結果を表1に示す。
Comparative Example 3 Example 1 was repeated except that a treatment with a dichromic acid-based aqueous solution was performed instead of the corona discharge treatment.
A magneto-optical disk was obtained in the same manner as described above. The treatment method using a dichromic acid-based aqueous solution is as follows: the substrate is immersed in a solution of potassium dichromate: water: sulfuric acid = 7: 12: 150 for 10 seconds, taken out, washed with water, dried at 100 ° C. for 30 minutes, and then room temperature. This was done by cooling to Other steps are the same as in the first embodiment. Table 1 shows the test results.

【0078】[0078]

【表1】 [Table 1]

【0079】[0079]

【発明の効果】本発明によれば、耐久性に優れた光学式
情報記録媒体ディスクの製造方法が提供され、品質の優
れた音楽用CD、CD−ROM、CD−R、光磁気ディ
スク、DVD等の光学式情報記録媒体ディスクが本発明
の方法により製造できる。
According to the present invention, a method for manufacturing an optical information recording medium disk having excellent durability is provided, and a high quality music CD, CD-ROM, CD-R, magneto-optical disk, DVD is provided. And the like can be manufactured by the method of the present invention.

【0080】[0080]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、光学式情報記録媒体ディスクの断面図
とその拡大図である。
FIG. 1 is a sectional view of an optical information recording medium disk and an enlarged view thereof.

【図2】図2は、コロナ放電処理の照射量と水の接触角
の関係を示す模式的なグラフである。
FIG. 2 is a schematic graph showing the relationship between the irradiation amount of corona discharge treatment and the contact angle of water.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:基板 2:コロナ放電処理された部分 3:記録膜層 4:紫外線硬化型樹脂膜層 5:記録膜層のある部分と無い部分の境界 6:溝 11:コロナ放電処理前の水の接触角 12:D90に対する水の接触角 13:効果が飽和した後の水の接触角 14:D90 1: Substrate 2: Corona discharge treated part 3: Recording film layer 4: UV curable resin film layer 5: Boundary between part with and without recording film layer 6: Groove 11: Contact of water before corona discharge treatment Angle 12: Contact angle of water to D90 13: Contact angle of water after saturation of the effect 14: D90

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 環状オレフィン樹脂からなる成形材料を
射出成形することにより基板を得る工程と、次いで上層
として記録膜層が形成される部分および紫外線硬化型樹
脂膜層が形成される部分の基板表面をコロナ放電処理す
る工程と、次いでコロナ放電処理された基板表面に記録
膜層を形成する工程と、次いで記録膜層全面と、記録膜
層のある部分と無い部分の境界線を覆う様に紫外線硬化
型樹脂膜層を形成する工程を含むことを特徴とする光学
式情報記録媒体ディスクの製造方法。 【0001】
1. A step of obtaining a substrate by injection-molding a molding material comprising a cyclic olefin resin, and then a substrate surface in a portion where a recording film layer is formed as an upper layer and a portion where a UV-curable resin film layer is formed. A corona discharge treatment, then a step of forming a recording film layer on the surface of the substrate subjected to the corona discharge treatment, and then ultraviolet light so as to cover a boundary line between the entire recording film layer and a portion with and without the recording film layer. A method for manufacturing an optical information recording medium disk, comprising a step of forming a curable resin film layer. [0001]
JP14592597A 1997-05-20 1997-05-20 Manufacture of optical information recording medium disc Pending JPH10315345A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001215296A (en) * 1999-11-22 2001-08-10 Mitsui Chemicals Inc Transparent board and neutron shielding material
JP2010225693A (en) * 2009-03-19 2010-10-07 Toshiba Corp Pattern forming method

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JP2010225693A (en) * 2009-03-19 2010-10-07 Toshiba Corp Pattern forming method
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