JP2001273675A - Substrate for information recording medium - Google Patents

Substrate for information recording medium

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JP2001273675A
JP2001273675A JP2000088253A JP2000088253A JP2001273675A JP 2001273675 A JP2001273675 A JP 2001273675A JP 2000088253 A JP2000088253 A JP 2000088253A JP 2000088253 A JP2000088253 A JP 2000088253A JP 2001273675 A JP2001273675 A JP 2001273675A
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JP
Japan
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substrate
information recording
recording medium
polymer
ene
Prior art date
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Application number
JP2000088253A
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Japanese (ja)
Inventor
Haruhiko Takahashi
治彦 高橋
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Zeon Corp
Original Assignee
Nippon Zeon Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an information recording medium free of groove deforma tion in the recording and reproduction of a signal and disk vibration and warpage in the read of a signal and excellent also in the transferability of pits and grooves. SOLUTION: The information recording medium uses a substrate obtained by molding an alicyclic structure-containing polymer having 145-170 deg.C glass transition temperature (Tg) and 1-50 g/10 min melt flow rate(MFR) measured according to JIS K-7210 under the conditions of 2.16 kg load and 280 deg.C. The substrate has >=26,000 kgf/cm2 flexural elastic modulus and <=10 nm surface roughness (Rmax) of the specular part.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、脂環構造含有重合
体を成形して得られる情報記録媒体用基板に関し、さら
に詳しくは、デジタルビデオディスク(DVD)などと
して好適な情報記録媒体用基板に関する。
The present invention relates to a substrate for an information recording medium obtained by molding a polymer having an alicyclic structure, and more particularly to a substrate for an information recording medium suitable as a digital video disk (DVD) or the like. .

【0002】[0002]

【従来の技術】ノルボルネン系重合体水素化物などの脂
環構造含有重合体は、透明性、耐熱性、寸法安定性(低
吸水率)に優れることから光ディスクなどの情報記録媒
体用基板材料として提案されている。しかし、近年、情
報記録媒体には、従来以上の高記録密度化、高速度化、
より高度の信頼性が要求されるようになっており、基板
及びそれに使用される樹脂材料にもより高度な特性が要
求されるようになっている。具体的には、高速回転で使
用される高密度、高容量の情報記録媒体用として使用可
能な、より剛直性(曲げ弾性率)に優れ、かつ、微細な
ピットやグルーブが正確に転写された基板が求められて
いる。また、相変化タイプの記録膜を用いた情報記録媒
体用基板などでは、繰返しの信号書込み及び信号読み出
し時に局所的に基板表面温度が上昇するために、グルー
ブエッジ部が熱変形してエラーを増加させることがない
ような耐熱性に優れた材料からなる基板も求められてい
る。
2. Description of the Related Art Polymers having an alicyclic structure such as hydrides of norbornene-based polymers are proposed as substrate materials for information recording media such as optical disks because of their excellent transparency, heat resistance and dimensional stability (low water absorption). Have been. However, in recent years, information recording media include higher recording density, higher speed,
A higher degree of reliability is required, and a substrate and a resin material used for the substrate are required to have higher characteristics. More specifically, it can be used for high-density, high-capacity information recording media used in high-speed rotation, has excellent rigidity (flexural modulus), and accurately transfers fine pits and grooves. There is a need for a substrate. In addition, in the case of information recording medium substrates using phase-change type recording films, the substrate surface temperature rises locally during repeated signal writing and signal reading, causing the groove edge to thermally deform and increasing errors. There is also a demand for a substrate made of a material having excellent heat resistance so as not to cause the heat treatment.

【0003】一方、従来以上に耐熱性、及び機械強度を
向上させたノルボルネン系重合体水素化物が提案されて
おり(国際公開公報WO99/09085号)、光ディ
スク基板などの材料として使用できることも提案されて
いる。しかしながら、このように耐熱性が高く、機械強
度に優れた材料を従来の方法で光ディスク基板に成形し
ても、ピットやグルーブの転写性が低下したり、基板に
反りが生じたり、信号読取り時にディスクが振動してエ
ラーが発生する場合などがあり、十分な性能のものが得
られない場合があった。
On the other hand, a norbornene-based polymer hydride having improved heat resistance and mechanical strength more than ever has been proposed (International Publication WO99 / 09085), and it has been proposed that it can be used as a material for an optical disk substrate and the like. ing. However, even when such a material having high heat resistance and excellent mechanical strength is molded into an optical disc substrate by a conventional method, the transferability of pits and grooves is reduced, the substrate is warped, and the signal reading is difficult. In some cases, the disk vibrates and an error occurs, and in some cases, a disk having sufficient performance cannot be obtained.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、信号
の記録及び再生時のグルーブ変形や信号読取り時のディ
スク振動、及び反りがなく、ピットやグルーブの転写性
にも優れた情報記録媒体用基板を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an information recording medium which is free from groove deformation during signal recording and reproduction, disk vibration during signal reading and warpage, and has excellent pit and groove transferability. To provide a substrate for use.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者は、前記課題を
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、一定条件で測定した
メルトフローレート(MFR)が1〜50g/10分で
あり、ガラス転移温度(Tg)が145〜180℃であ
る特定の脂環構造含有重合体を成形してなり、曲げ弾性
率が26,000kgf/cm以上で、鏡面部分の表
面粗度(Rmax)が10nm以下の基板を情報記録媒
体として使用した場合に、信号の記録及び再生時のグル
ーブ変形がないほどに耐熱性に優れ、又、信号読取り時
のディスク振動がないことを見出した。また、このよう
な基板は、上記の特定の脂環構造含有重合体を用いて、
樹脂温度を320〜400℃に、金型温度(Tm)を、
ガラス転移温度(Tg)の関係が(Tg−50℃)≦T
m≦(Tg−10℃)になるように設定し、射出成形し
て得られることを見出した。さらにそのような条件で成
形された基板は反りもなく、ピットやグルーブの転写性
にも優れることを見出し、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, the melt flow rate (MFR) measured under a certain condition is 1 to 50 g / 10 min. A specific alicyclic structure-containing polymer having a temperature (Tg) of 145 to 180 ° C. is molded, the flexural modulus is 26,000 kgf / cm 2 or more, and the surface roughness (Rmax) of the mirror surface portion is 10 nm or less. It was found that when the substrate was used as an information recording medium, the heat resistance was so high that there was no groove deformation at the time of signal recording and reproduction, and there was no disk vibration at the time of signal reading. Further, such a substrate, using the specific alicyclic structure-containing polymer described above,
The resin temperature is set to 320 to 400 ° C and the mold temperature (Tm)
The relation of the glass transition temperature (Tg) is (Tg−50 ° C.) ≦ T
It was found that m was set to satisfy m ≦ (Tg−10 ° C.) and injection molding was performed. Further, they found that the substrate formed under such conditions did not warp and was excellent in the transferability of pits and grooves, and completed the present invention.

【0006】かくして本発明によれば、ガラス転移温度
(Tg)が145〜180℃、JIS K−7210に
したがって荷重2.16kg、温度280℃の条件にて
測定したメルトフローレート(MFR)が1〜50g/
10分である脂環構造含有重合体を成形してなり、曲げ
弾性率が26,000kgf/cm以上、鏡面部分の
表面粗度(Rmax)が10nm以下である情報記録媒
体用基板が提供される。さらに本発明によれば、ガラス
転移温度(Tg)が145〜180℃、JISK−72
10にしたがって荷重2.16kg、温度280℃の条
件にて測定したメルトフローレート(MFR)が1〜5
0g/10分である脂環構造含有重合体を、樹脂温度を
320〜400℃に、金型温度(Tm)を、該重合体の
ガラス転移温度(Tg)との関係にて(Tg−60℃)
≦Tm≦(Tg−10℃)となるように設定し、射出成
形する情報記録媒体用基板の製法が提供される。
Thus, according to the present invention, the melt flow rate (MFR) measured under the conditions of a glass transition temperature (Tg) of 145 to 180 ° C., a load of 2.16 kg according to JIS K-7210, and a temperature of 280 ° C. is 1 ~ 50g /
An information recording medium substrate formed by molding an alicyclic structure-containing polymer for 10 minutes, having a flexural modulus of 26,000 kgf / cm 2 or more and a mirror surface having a surface roughness (Rmax) of 10 nm or less is provided. You. Furthermore, according to the present invention, the glass transition temperature (Tg) is 145 to 180 ° C., and JISK-72
The melt flow rate (MFR) measured under the conditions of a load of 2.16 kg and a temperature of 280 ° C. according to No. 10 is 1 to 5
The alicyclic structure-containing polymer of 0 g / 10 minutes is heated to a resin temperature of 320 to 400 ° C., and the mold temperature (Tm) is set in relation to the glass transition temperature (Tg) of the polymer (Tg−60). ℃)
The present invention provides a method for manufacturing a substrate for an information recording medium, which is set so as to satisfy ≦ Tm ≦ (Tg−10 ° C.) and injection-molded.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】脂環構造含有重合体 本発明で使用される脂環構造含有重合体は、主鎖及び/
または側鎖に脂環式構造を有し、ガラス転移温度(T
g)が145〜180℃、JIS K−7210にした
がって荷重2.16kg、温度280℃の条件にて測定
したメルトフローレート(MFR)が1〜50g/10
分であるものである。脂環式構造は、機械強度、耐熱性
などの観点から、主鎖に含有されているものが好まし
い。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Alicyclic Structure-Containing Polymer The alicyclic structure-containing polymer used in the present invention has a main chain and / or
Or, it has an alicyclic structure in the side chain and has a glass transition temperature (T
g) is 145 to 180 ° C, and the melt flow rate (MFR) measured under the conditions of a load of 2.16 kg and a temperature of 280 ° C according to JIS K-7210 is 1 to 50 g / 10.
Is what is the minute. The alicyclic structure is preferably contained in the main chain from the viewpoint of mechanical strength, heat resistance and the like.

【0008】脂環式構造としては、シクロアルカン構
造、シクロアルケン構造などが挙げられるが、機械強
度、耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造が好ま
しく、脂環式構造を構成する炭素原子数は、機械強度、
耐熱性、成形加工性の観点から、通常4〜30個、好ま
しくは5〜20個、より好ましくは5〜15個の範囲で
ある。脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、使用
目的に応じて適宜選択されるが、通常50重量%以上、
好ましくは70重量%以上、より好ましくは90重量%
以上である。脂環式構造を有する繰り返し単位の割合が
この範囲にあることが耐熱性等の観点から好ましい。
Examples of the alicyclic structure include a cycloalkane structure and a cycloalkene structure. From the viewpoints of mechanical strength and heat resistance, a cycloalkane structure is preferred, and the number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is as follows. , Mechanical strength,
From the viewpoints of heat resistance and moldability, the number is usually 4 to 30, preferably 5 to 20, and more preferably 5 to 15. The proportion of the repeating unit having an alicyclic structure is appropriately selected depending on the purpose of use, and is usually 50% by weight or more.
Preferably 70% by weight or more, more preferably 90% by weight
That is all. It is preferable from the viewpoint of heat resistance and the like that the proportion of the repeating unit having an alicyclic structure be within this range.

【0009】こうした脂環構造含有重合体の具体例とし
ては、例えば、(1)ノルボルネン系重合体、(2)単
環の環状オレフィン系重合体、(3)環状共役ジエン系
重合体、(4)ビニル脂環式炭化水素系重合体、及びこ
れらの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、
ノルボルネン系重合体、環状共役ジエン系重合体及びそ
の水素添加物などが好ましく、ノルボルネン系重合体が
耐熱性、機械強度の点からより好ましい。
Specific examples of such an alicyclic structure-containing polymer include (1) a norbornene-based polymer, (2) a monocyclic cycloolefin-based polymer, (3) a cyclic conjugated diene-based polymer, and (4) ) Vinyl alicyclic hydrocarbon-based polymers and hydrogenated products thereof. Among these,
A norbornene-based polymer, a cyclic conjugated diene-based polymer and a hydrogenated product thereof are preferable, and a norbornene-based polymer is more preferable in terms of heat resistance and mechanical strength.

【0010】(1)ノルボルネン系重合体 ノルボルネン系重合体は、例えば、特開平3−1488
2号公報や、特開平3−122137号公報などに開示
されている公知の重合体であり、具体的には、ノルボル
ネン系モノマーの開環重合体及びその水素添加物、ノル
ボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノ
マーとビニル化合物の付加共重合体などが挙げられる。
(1) Norbornene-based polymer The norbornene-based polymer is disclosed in, for example, JP-A-3-1488.
No. 2, JP-A-3-122137, and the like. Specifically, the polymer is a ring-opened polymer of a norbornene-based monomer, a hydrogenated product thereof, and an addition weight of a norbornene-based monomer. And an addition copolymer of a norbornene-based monomer and a vinyl compound.

【0011】重合に用いるノルボルネン系モノマーの具
体例としては、ビシクロ[2,2,1]−ヘプト−2−
エン(慣用名:ノルボルネン)、5−メチル−ビシクロ
[2,2,1]−ヘプト−2−エン、5,5−ジメチル
−ビシクロ[2,2,1]−ヘプト−2−エン、5−エ
チル−ビシクロ[2,2,1]−ヘプト−2−エン、5
−ブチル−ビシクロ[2,2,1]−ヘプト−2−エ
ン、5−ヘキシル−ビシクロ[2,2,1]−ヘプト−
2−エン、5−オクチル−ビシクロ[2,2,1]−ヘ
プト−2−エン、5−オクタデシル−ビシクロ[2,
2,1]−ヘプト−2−エン、5−エチリデン−ビシク
ロ[2,2,1]−ヘプト−2−エン、5−メチリデン
−ビシクロ[2,2,1]−ヘプト−2−エン、5−ビ
ニル−ビシクロ[2,2,1]−ヘプト−2−エン、5
−プロペニル−ビシクロ[2,2,1]−ヘプト−2−
エン、
Specific examples of the norbornene-based monomer used for the polymerization include bicyclo [2,2,1] -hept-2-.
Ene (common name: norbornene), 5-methyl-bicyclo [2,2,1] -hept-2-ene, 5,5-dimethyl-bicyclo [2,2,1] -hept-2-ene, 5- Ethyl-bicyclo [2,2,1] -hept-2-ene, 5
-Butyl-bicyclo [2,2,1] -hept-2-ene, 5-hexyl-bicyclo [2,2,1] -hept-
2-ene, 5-octyl-bicyclo [2,2,1] -hept-2-ene, 5-octadecyl-bicyclo [2,
2,1] -hept-2-ene, 5-ethylidene-bicyclo [2,2,1] -hept-2-ene, 5-methylidene-bicyclo [2,2,1] -hept-2-ene, 5 -Vinyl-bicyclo [2,2,1] -hept-2-ene, 5
-Propenyl-bicyclo [2,2,1] -hept-2-
En,

【0012】5−メトキシ−カルボニル−ビシクロ
[2,2,1]−ヘプト−2−エン、5−シアノ−ビシ
クロ[2,2,1]−ヘプト−2−エン、5−メチル−
5−メトキシカルボニル−ビシクロ[2,2,1]−ヘ
プト−2−エン、5−メトキシカルボニル−ビシクロ
[2,2,1]−ヘプト−2−エン、5−エトキシカル
ボニル−ビシクロ[2,2,1]−ヘプト−2−エン、
5−メチル−5−エトキシカルボニル−ビシクロ[2,
2,1]−ヘプト−2−エン、ビシクロ[2,2,1]
−ヘプト−5−エニル−2−メチルプロピオネイト、ビ
シクロ[2,2,1]−ヘプト−5−エニル−2−メチ
ルオクタネイト、ビシクロ[2,2,1]−ヘプト−2
−エン−5,6−ジカルボン酸無水物、5−ヒドロキシ
メチル−ビシクロ[2,2,1]−ヘプト−2−エン、
5,6−ジ(ヒドロキシメチル)−ビシクロ[2,2,
1]−ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシ−i−プロピ
ル−ビシクロ[2,2,1]−ヘプト−2−エン、ビシ
クロ[2,2,1]−ヘプト−2−エン、5,6−ジカ
ルボキシ−ビシクロ[2,2,1]−ヘプト−2−エ
ン、ビシクロ[2,2,1]−ヘプト−2−エン−5,
6−ジカルボン酸イミド、5−シクロペンチル−ビシク
ロ[2,2,1]−ヘプト−2−エン、5−シクロヘキ
シル−ビシクロ[2,2,1]−ヘプト−2−エン、5
−シクロヘキセニル−ビシクロ[2,2,1]−ヘプト
−2−エン、5−フェニル−ビシクロ[2,2,1]−
ヘプト−2−エン、
5-methoxy-carbonyl-bicyclo [2,2,1] -hept-2-ene, 5-cyano-bicyclo [2,2,1] -hept-2-ene, 5-methyl-
5-methoxycarbonyl-bicyclo [2,2,1] -hept-2-ene, 5-methoxycarbonyl-bicyclo [2,2,1] -hept-2-ene, 5-ethoxycarbonyl-bicyclo [2,2 , 1] -Hept-2-ene,
5-methyl-5-ethoxycarbonyl-bicyclo [2,
2,1] -hept-2-ene, bicyclo [2,2,1]
-Hept-5-enyl-2-methylpropionate, bicyclo [2,2,1] -hept-5-enyl-2-methyloctanoate, bicyclo [2,2,1] -hept-2
-Ene-5,6-dicarboxylic anhydride, 5-hydroxymethyl-bicyclo [2,2,1] -hept-2-ene,
5,6-di (hydroxymethyl) -bicyclo [2,2,
1] -hept-2-ene, 5-hydroxy-i-propyl-bicyclo [2,2,1] -hept-2-ene, bicyclo [2,2,1] -hept-2-ene, 5,6 -Dicarboxy-bicyclo [2,2,1] -hept-2-ene, bicyclo [2,2,1] -hept-2-ene-5.
6-dicarboxylic imide, 5-cyclopentyl-bicyclo [2,2,1] -hept-2-ene, 5-cyclohexyl-bicyclo [2,2,1] -hept-2-ene, 5
-Cyclohexenyl-bicyclo [2,2,1] -hept-2-ene, 5-phenyl-bicyclo [2,2,1]-
Hept-2-ene,

【0013】トリシクロ[4,3,12,5
1,6]−デカ−3,7−ジエン(慣用名ジシクロペ
ンタジエン)、トリシクロ[4,3,12,5,0
1,6]−デカ−3−エン、トリシクロ[4,4,1
2,5,01,6]−ウンデカ−3,7−ジエン若しく
はトリシクロ[4,4,12,5,01,6]−ウンデ
カ−3,8−ジエン、トリシクロ[4,4,12,5
1,6]−ウンデカ−3−エン、テトラシクロ[7,
4,110,13,01,9,02,7]−トリデカ−
2,4,6−11−テトラエン(1,4−メタノ−1,
4,4a,9a−テトラヒドロフルオレンともいう)、
テトラシクロ[8,4,111,14,01,10,0
3,8]−テトラデカ−3,5,7,12−11−テト
ラエン(1,4−メタノ−1,4,4a,5,10,1
0a−ヘキサヒドロアントラセンともいう)などのノル
ボルナン環を有しないノルボルネン系モノマー;
Tricyclo [4,3,12,5,
01,6] -Deca-3,7-diene (common name is dicyclope
Antadiene), tricyclo [4,3,12,5, 0
1,6] -Dec-3-ene, tricyclo [4,4,1
2,5, 01,6] -Undeca-3,7-diene
Is tricyclo [4,4,12,5, 01,6]-Unde
C-3,8-diene, tricyclo [4,4,12,5,
01,6] -Undec-3-ene, tetracyclo [7,
4,110,13, 01,9, 02,7] -Trideca-
2,4,6-11-tetraene (1,4-methano-1,
4,4a, 9a-tetrahydrofluorene),
Tetracyclo [8,4,111,14, 01,10, 0
3,8] -Tetradeca-3,5,7,12-11-tet
Raen (1,4-methano-1,4,4a, 5,10,1
0a-hexahydroanthracene)
A norbornene monomer having no bornan ring;

【0014】テトラシクロ[4,4,12,5,1
7,10,0]−ドデカ−3−エン(単にテトラシクロ
ドデセンともいう)、8−メチル−テトラシクロ[4,
4,1 ,5,17,10,0]−ドデカ−3−エン、
8−メチル−テトラシクロ[4,4,12,5,1
7,10,0]−ドデカ−3−エン、8−エチル−テト
ラシクロ[4,4,12,5,17,10,0]−ドデ
カ−3−エン、8−メチリデン−テトラシクロ[4,
4,12,5,17,10,0]−ドデカ−3−エン、
8−エチリデン−テトラシクロ[4,4,12,5,1
7,10,0]−ドデカ−3−エン、8−ビニル−テト
ラシクロ[4,4,12,5,17,10,0]−ドデ
カ−3−エン、8−プロペニル−テトラシクロ[4,
4,12,5,17, 10,0]−ドデカ−3−エン、
8−メトキシカルボニル−テトラシクロ[4,4,1
2,5,17,10,0]−ドデカ−3−エン、8−メ
チル−8−メトキシカルボニル−テトラシクロ[4,
4,12,5,17,10,0]−ドデカ−3−エン、
8−ヒドロキシメチル−テトラシクロ[4,4,1
2,5,17,1 ,0]−ドデカ−3−エン、8−カ
ルボキシ−テトラシクロ[4,4,12, ,1
7,10,0]−ドデカ−3−エン、8−シクロペンチ
ル−テトラシクロ[4,4,12,5,17,10
0]−ドデカ−3−エン、8−シクロヘキシル−テトラ
シクロ[4,4,12,5,17,10,0]−ドデカ
−3−エン、8−シクロヘキセニル−テトラシクロ
[4,4,12,5,17,10,0]−ドデカ−3−
エン、8−フェニル−テトラシクロ[4,4,
2,5,17,1 ,0]−ドデカ−3−エンなどの
テトラシクロドデセン系モノマー;ペンタシクロ[6,
5,11,8,13,6,02,7,09,13]−ペ
ンタデカ−3,10−ジエン、ペンタシクロ[7,4,
3,6,110,13,01,9,02,7]−ペン
タデカ−4,11−ジエンなどのノルボルナン環を有す
るノルボルネン系モノマーが、それぞれ挙げられる。
[0014] tetracyclo [4,4,1 2,5, 1
7,10,0 ] -dodec-3-ene (also simply referred to as tetracyclododecene), 8-methyl-tetracyclo [4,
4,1 2, 5, 1 7,10, 0] - dodeca-3-ene,
8-methyl - tetracyclo [4,4,1 2,5, 1
7,10, 0] - dodeca-3-ene, 8-ethyl - tetracyclo [4,4,1 2,5, 1 7,10, 0] - dodeca-3-ene, 8-methylidene - tetracyclo [4,
4,1 2,5, 1 7,10, 0] - dodeca-3-ene,
8 ethylidene - tetracyclo [4,4,1 2,5, 1
7,10, 0] - dodeca-3-ene, 8-vinyl - tetracyclo [4,4,1 2,5, 1 7,10, 0] - dodeca-3-ene, 8-propenyl - tetracyclo [4,
4,1 2,5, 1 7, 10, 0] - dodeca-3-ene,
8-methoxycarbonyl-tetracyclo [4,4,1
2,5, 1 7,10, 0] - dodeca-3-ene, 8-methyl-8-methoxycarbonyl - tetracyclo [4,
4,1 2,5, 1 7,10, 0] - dodeca-3-ene,
8-hydroxymethyl-tetracyclo [4,4,1
2,5, 1 7,1 0, 0] - dodeca-3-ene, 8-carboxy - tetracyclo [4,4,1 2, 5, 1
7,10, 0] - dodeca-3-ene, 8-cyclopentyl-- tetracyclo [4,4,1 2,5, 1 7,10,
0] - dodeca-3-ene, 8-cyclohexyl - tetracyclo [4,4,1 2,5, 1 7,10, 0] - dodeca-3-ene, 8-cyclohexenyl - tetracyclo [4,4,1 2,5, 1 7,10, 0] - dodeca-3
Ene, 8-phenyl-tetracyclo [4,4,
1 2,5, 1 7,1 0, 0] - tetracyclododecene monomers such as dodeca-3-ene; pentacyclo [6,
5,1 1,8, 1 3,6, 0 2,7, 0 9,13] - pentadeca-3,10-diene, pentacyclo [7,4,
1 3,6, 1 10,13, 0 1,9, 0 2,7] - pentadeca-4,11 norbornene monomer having a norbornane ring such as diene may be mentioned, respectively.

【0015】上記のノルボルネン系モノマーは、それぞ
れ単独であるいは2種以上組み合わせて用いることがで
きるが、本発明においては、特にガラス転移温度が14
5℃以上になり、得られる基板が曲げ弾性に優れるもの
とするために、上記のテトラシクロ[7,4,1
10,13,01,9,02,7]−トリデカ−2,
4,6−11−テトラエン(以降、1,4−メタノ−
1,4,4a,9a−テトラヒドロフルオレン;MTF
という)などに代表されるような芳香環を有するノルボ
ルネン系モノマーや、1,4−メタノ−1,4,4a,
4b,5,8,8a,9a−オクタヒドロ−9H−フル
オレン(MOF)などに代表されるようなシクロヘキセ
ン環を有するノルボルネン系モノマーを使用するのが好
ましい。このような芳香環やシクロヘキセン環を有する
ノルボルネン系モノマーのより詳細な具体例としては、
例えば、1,4−メタノ−1,4,4a,9a−テトラ
ヒドロフルオレン、1,4−メタノ−8−メチル−1,
4,4a,9a−テトラヒドロフルオレン、1,4−メ
タノ−8−クロロ−1,4,4a,9a−テトラヒドロ
フルオレン、1,4−メタノ−8−ブロモ−1,4,4
a,9a−テトラヒドロフルオレン等の1,4−メタノ
−1,4,4a,9a−テトラヒドロフルオレン類;
1,4−メタノ−1,4,4a,4b,5,8,8a,
9a−オクタヒドロ−9H−フルオレン類;1,4−メ
タノ−1,4,4a,9a−テトラヒドロジベンゾフラ
ン類;1,4−メタノ−1,4,4a,9a−テトラヒ
ドロカルバゾール、1,4−メタノ−9−フェニル−
1,4,4a,9a−テトラヒドロカルバゾール等の
1,4−メタノ−1,4,4a,9a−テトラヒドロカ
ルバゾール類;7,10−メタノ−6b,7,10,1
0a−テトラヒドロフルオランセン類;7,10−メタ
ノ−6b,7,10,10a−テトラヒドロフルオラン
センにシクロペンタジエンをさらに付加した化合物、ア
セアントリレンにシクロペンタジエンを付加した化合
物、アセフェナントリレンにシクロペンタジエンを付加
した化合物、11,12−ベンゾ−ペンタシクロ[6.
5.1.13,6.02,7.09,13]−4−ペン
タデセン、11,12−ベンゾ−ペンタシクロ[6.
6.1.13,6.02,7.09,14]−4−ヘキ
サデセン、14,15−ベンゾ−ヘプタシクロ[8.
7.0.12,9.14,7.111, 17
3,8.012,16]−5−エイコセン、などが挙
げられる。
The above norbornene monomers can be used alone or in combination of two or more. In the present invention, in particular, the glass transition temperature is 14%.
In order to increase the temperature to 5 ° C. or higher and to make the resulting substrate excellent in bending elasticity, the above tetracyclo [7,4,1
10 and 13, 0 1,9, 0 2,7] - trideca -2,
4,6-11-tetraene (hereinafter 1,4-methano-
1,4,4a, 9a-tetrahydrofluorene; MTF
Norbornene-based monomers having an aromatic ring represented by 1,4-methano-1,4,4a,
It is preferable to use a norbornene-based monomer having a cyclohexene ring such as 4b, 5,8,8a, 9a-octahydro-9H-fluorene (MOF). As more specific specific examples of such norbornene monomers having an aromatic ring or a cyclohexene ring,
For example, 1,4-methano-1,4,4a, 9a-tetrahydrofluorene, 1,4-methano-8-methyl-1,
4,4a, 9a-tetrahydrofluorene, 1,4-methano-8-chloro-1,4,4a, 9a-tetrahydrofluorene, 1,4-methano-8-bromo-1,4,4
1,4-methano-1,4,4a, 9a-tetrahydrofluorenes such as a, 9a-tetrahydrofluorene;
1,4-methano-1,4,4a, 4b, 5,8,8a,
9a-octahydro-9H-fluorenes; 1,4-methano-1,4,4a, 9a-tetrahydrodibenzofurans; 1,4-methano-1,4,4a, 9a-tetrahydrocarbazole, 1,4-methano- 9-phenyl-
1,4-methano-1,4,4a, 9a-tetrahydrocarbazoles such as 1,4,4a, 9a-tetrahydrocarbazole; 7,10-methano-6b, 7,10,1
0a-tetrahydrofluorancenes; compounds in which cyclopentadiene is further added to 7,10-methano-6b, 7,10,10a-tetrahydrofluorancene; compounds in which cyclopentadiene is added to aceanthrylene; acephenanthrylene To which cyclopentadiene has been added, 11,12-benzo-pentacyclo [6.
5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 09,13 ] -4-pentadecene, 11,12-benzo-pentacyclo [6.
6.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,14] -4-hexadecene, 14,15-benzo - heptacyclo [8.
7.0.1 2,9 . 14, 7,. 11, 17 .
0 3,8 . 0 12,16 ] -5-eicosene, and the like.

【0016】また、本発明において、上記のMTFに代
表されるような芳香環を有するノルボルネン系モノマー
や、MOFなどに代表されるようなシクロヘキセン環を
有するノルボルネン系モノマーを使用する場合に、共重
合の成分として、上記のテトラシクロ[4,4,1
2,5,17,10,0]−ドデカ−3−エンや8−メ
チル−テトラシクロ[4,4,12,5,17,10
0]−ドデカ−3−エンなどに代表されるようなテトラ
シクロドデセン系モノマーを使用すると、得られる重合
体の耐熱性、曲げ弾性率が高度にバランスされる。
In the present invention, when a norbornene-based monomer having an aromatic ring typified by the above MTF or a norbornene-based monomer having a cyclohexene ring typified by an MOF is used, As a component of the above tetracyclo [4,4,1
2,5, 1 7,10, 0] - dodeca-3-ene and 8-methyl - tetracyclo [4,4,1 2,5, 1 7,10,
When a tetracyclododecene-based monomer such as [0] -dode-3-ene is used, the heat resistance and flexural modulus of the obtained polymer are highly balanced.

【0017】本発明においては、上記ノルボルネン系モ
ノマー以外に、共重合可能なモノマーとして、例えば、
エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1
−ヘキセン、3−メチル−1−ブテン、3−メチル−1
−ペンテン、3−エチル−1−ペンテン、4−メチル−
1−ペンテン、4−メチル−1−ヘキセン、4,4−ジ
メチル−1−ヘキセン、4,4−ジメチル−1−ペンテ
ン、4−エチル−1−ヘキセン、3−エチル−1−ヘキ
セン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−
テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、
1−エイコセンなどの炭素数2〜20個を有するα−オ
レフィン;シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキ
セン、3,4−ジメチルシクロペンテン、3−メチルシ
クロヘキセン、2−(2−メチルブチル)−1−シクロ
ヘキセン、シクロオクテン、3a,5,6,7a−テト
ラヒドロ−4,7−メタノ−1H−インデンなどのシク
ロオレフィン;1,4−ヘキサジエン、4−メチル−
1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジ
エン、1,7−オクタジエンなどの非共役ジエン;など
を用いることができる。これらの共重合可能なモノマー
は、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組み合わせて
使用することができる。
In the present invention, in addition to the above-mentioned norbornene-based monomer, copolymerizable monomers include, for example,
Ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1
-Hexene, 3-methyl-1-butene, 3-methyl-1
-Pentene, 3-ethyl-1-pentene, 4-methyl-
1-pentene, 4-methyl-1-hexene, 4,4-dimethyl-1-hexene, 4,4-dimethyl-1-pentene, 4-ethyl-1-hexene, 3-ethyl-1-hexene, 1- Octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-
Tetradecene, 1-hexadecene, 1-octadecene,
Α-olefins having 2 to 20 carbon atoms such as 1-eicosene; cyclobutene, cyclopentene, cyclohexene, 3,4-dimethylcyclopentene, 3-methylcyclohexene, 2- (2-methylbutyl) -1-cyclohexene, cyclooctene; Cycloolefins such as 3a, 5,6,7a-tetrahydro-4,7-methano-1H-indene; 1,4-hexadiene, 4-methyl-
Non-conjugated dienes such as 1,4-hexadiene, 5-methyl-1,4-hexadiene and 1,7-octadiene; and the like can be used. These copolymerizable monomers can be used alone or in combination of two or more.

【0018】上記モノマーの開環重合体は、開環重合触
媒として、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミ
ウム、イリジウム、白金などの金属のハロゲン化物、硝
酸塩またはアセチルアセトン化合物と、還元剤とからな
る触媒系、あるいは、チタン、バナジウム、ジルコニウ
ム、タングステン、モリブデンなどの金属のハロゲン化
物またはアセチルアセトン化合物と、有機アルミニウム
化合物とからなる触媒系を用いて、溶媒中または無溶媒
で、通常、−50℃〜100℃の重合温度、0〜50k
g/cm の重合圧力で開環重合させることにより得
ることができる。
The ring-opening polymer of the above-mentioned monomer is a ring-opening polymerization catalyst comprising a metal halide such as ruthenium, rhodium, palladium, osmium, iridium, platinum or the like, a nitrate or acetylacetone compound, and a reducing agent. Alternatively, titanium, vanadium, zirconium, tungsten, a metal halide such as molybdenum or an acetylacetone compound, using a catalyst system comprising an organoaluminum compound, in a solvent or without a solvent, usually at -50 ℃ ~ 100 ℃ Polymerization temperature, 0-50k
It can be obtained by ring-opening polymerization at a polymerization pressure of g / cm 2 .

【0019】水素添加ノルボルネン系重合体は、常法に
従って、開環(共)重合体を水素添加触媒の存在下に水
素化することにより得ることができるが、よりTgの高
い重合体を得るためには、水素化反応温度は、通常20
0℃以下、好ましくは195℃以下、最も好ましくは1
90℃以下である。
The hydrogenated norbornene-based polymer can be obtained by hydrogenating a ring-opening (co) polymer in the presence of a hydrogenation catalyst according to a conventional method. In general, the hydrogenation reaction temperature is usually 20
0 ° C or lower, preferably 195 ° C or lower, most preferably 1 ° C or lower.
90 ° C. or less.

【0020】水素添加触媒としては、特開昭58−43
412号公報、特開昭60−26024号公報、特開昭
64−24826号公報、特開平1−138257号公
報、特開平7−41550号公報等に記載されているも
のを使用することができ、均一系触媒でも不均一系触媒
でもよい。均一系触媒は、水素添加反応液中で分散しや
すいので添加量が少なくてよく、また、高活性を有する
ので、少量の触媒で短時間に水素添加することができ
る。不均一触媒は、高温高圧にすることで高活性とな
り、短時間で水添でき、さらに除去が容易である等の生
産効率に優れる。
As the hydrogenation catalyst, JP-A-58-43
412, JP-A-60-26024, JP-A-64-24826, JP-A-1-138257, JP-A-7-41550 and the like can be used. Alternatively, a homogeneous catalyst or a heterogeneous catalyst may be used. The homogeneous catalyst is easy to disperse in the hydrogenation reaction liquid, so that the addition amount may be small, and since it has high activity, hydrogenation can be performed in a short time with a small amount of catalyst. Heterogeneous catalysts are highly active at high temperatures and pressures, can be hydrogenated in a short time, and are excellent in production efficiency such as being easily removed.

【0021】均一系触媒としては、例えば、ウィルキン
ソン錯体、すなわち、クロロトリス(トリフェニルホス
フィン)ロジウム(I);遷移金属化合物とアルキル金
属化合物の組み合わせからなる触媒、具体的には、酢酸
コバルト/トリエチルアルミニウム、ニッケルアセチル
アセトナート/トリイソブチルアルミニウム、チタノセ
ンジクロリド/n−ブチルリチウム、ジルコノセンジク
ロリド/sec−ブチルリチウム、テトラブトキシチタ
ネート/ジメチルマグネシウム等の組み合わせが挙げら
れる。
As the homogeneous catalyst, for example, a Wilkinson complex, that is, a catalyst comprising a combination of a chlorotris (triphenylphosphine) rhodium (I); a transition metal compound and an alkyl metal compound, specifically, cobalt acetate / triethylaluminum And combinations of nickel acetylacetonate / triisobutylaluminum, titanocene dichloride / n-butyllithium, zirconocene dichloride / sec-butyllithium, tetrabutoxytitanate / dimethylmagnesium and the like.

【0022】不均一系触媒としては、例えば、Ni、P
d等の水素添加触媒金属を担体に担持させたものが挙げ
られるが、担持される金属としては活性や水素添加効
率、あるいは異性化率の観点からNiを用いることが好
ましい。Pd触媒を用いると、異性化の進行が促進さ
れ、軟化点が低くなる。担体としては、不純物等の混入
が少ないほど好ましい場合は、アルミナやケイソウ土等
の吸着剤を用いることが好ましい。
Examples of the heterogeneous catalyst include Ni, P
Examples thereof include those in which a hydrogenation catalyst metal such as d is supported on a carrier, and it is preferable to use Ni as the metal to be supported from the viewpoint of activity, hydrogenation efficiency, or isomerization ratio. When a Pd catalyst is used, the progress of isomerization is promoted, and the softening point is lowered. In the case where it is preferable that the amount of impurities and the like is small as the carrier, an adsorbent such as alumina and diatomaceous earth is preferably used.

【0023】水素添加反応は、通常、有機溶媒中で実施
する。有機溶媒としては、触媒に不活性なものであれば
格別な限定はないが、生成する水素添加物の溶解性に優
れていることから、通常は炭化水素系溶媒が用いられ
る。
The hydrogenation reaction is usually carried out in an organic solvent. The organic solvent is not particularly limited as long as it is inert to the catalyst. However, a hydrocarbon-based solvent is usually used because of excellent solubility of the generated hydrogenated product.

【0024】炭化水素系溶媒としては、例えば、ベンゼ
ン、トルエン等の芳香族炭化水素類;n−ペンタン、ヘ
キサン等の脂肪族炭化水素類;シクロヘキサン、デカリ
ン等の脂環族炭化水素類;などを挙げることができ、こ
れらの中でも、環状の芳香族炭化水素類や脂環族炭化水
素類が好ましい。これらの有機溶媒は、それぞれ単独
で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができ
る。
Examples of the hydrocarbon solvent include aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene; aliphatic hydrocarbons such as n-pentane and hexane; alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane and decalin; Among them, cyclic aromatic hydrocarbons and alicyclic hydrocarbons are preferable. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more.

【0025】水素添加反応は、常法に従って行うことが
でき、反応時の水素圧は、通常0.1〜100kgf/
cm、好ましくは0.5〜60kgf/cm、さら
に好ましくは1〜50kgf/cmである。
The hydrogenation reaction can be carried out according to a conventional method, and the hydrogen pressure during the reaction is usually 0.1 to 100 kgf /
cm 2 , preferably 0.5 to 60 kgf / cm 2 , more preferably 1 to 50 kgf / cm 2 .

【0026】ノルボルネン系モノマーと上記共重合可能
なモノマーとの付加共重合体は、例えば、モノマー成分
を、溶媒中または無溶媒で、チタン化合物、ジルコニウ
ム化合物、又はバナジウム化合物と有機アルミニウム化
合物とからなる触媒系の存在下で、通常、−50℃〜1
00℃の重合温度、0〜50kg/cm の重合圧力
で共重合させる方法により得ることができる。
The addition copolymer of the norbornene-based monomer and the copolymerizable monomer is, for example, a monomer component comprising a titanium compound, a zirconium compound, or a vanadium compound and an organic aluminum compound in a solvent or without a solvent. In the presence of a catalyst system, usually -50 ° C to 1
It can be obtained by a method of copolymerizing at a polymerization temperature of 00 ° C. and a polymerization pressure of 0 to 50 kg / cm 2 .

【0027】(2)単環の環状オレフィン系重合体 単環の環状オレフィン系重合体としては、例えば、特開
昭64−66216号公報に開示されているシクロヘキ
セン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどの単環の環
状オレフィン系単量体の付加重合体を用いることができ
る。
(2) Monocyclic Cyclic Olefin Polymer Examples of the monocyclic cycloolefin polymer include monocyclic cycloolefin polymers such as cyclohexene, cycloheptene and cyclooctene disclosed in JP-A-64-66216. Can be used.

【0028】(3)環状共役ジエン系重合体 環状共役ジエン系重合体としては、例えば、特開平6−
136057号公報や特開平7−258318号公報に
開示されているシクロペンタジエン、シクロヘキサジエ
ンなどの環状共役ジエン系単量体を1,2−または1,
4−付加重合した重合体及びその水素添加物などを用い
ることができる。
(3) Cyclic conjugated diene-based polymer The cyclic conjugated diene-based polymer is described in, for example,
The cyclic conjugated diene-based monomers such as cyclopentadiene and cyclohexadiene disclosed in JP-A-136057 and JP-A-7-258318 are used as 1,2- or 1,2-
4-Polymerized polymers and hydrogenated products thereof can be used.

【0029】(4)ビニル脂環式炭化水素系重合体 ビニル脂環式炭化水素系重合体としては、例えば、特開
昭51−59989号公報に開示されているビニルシク
ロヘキセン、ビニルシクロヘキサンなどのビニル脂環式
炭化水素系単量体の重合体及びその水素添加物、特開昭
63−43910号公報、特開昭64−1706号公報
などに開示されているスチレン、α−メチルスチレンな
どのビニル芳香族系単量体の重合体の芳香環部分の水素
添加物などを用いることができる。また、これらビニル
脂環式炭化水素系重合体の立体配置については、アタク
ティック、アイソタクティック、シンジオタクティック
の何れでもよく、例えば、ダイアッド表示によるシンジ
オタクティシティーで、0〜100%の何れのものも用
いることができる。
(4) Vinyl alicyclic hydrocarbon polymer: Examples of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer include vinyl alicyclic hydrocarbons such as vinyl cyclohexene and vinyl cyclohexane disclosed in JP-A-51-59989. Polymers of alicyclic hydrocarbon monomers and hydrogenated products thereof, vinyls such as styrene and α-methylstyrene disclosed in JP-A-63-43910 and JP-A-64-1706. A hydrogenated product of the aromatic ring portion of the polymer of the aromatic monomer can be used. The configuration of these vinyl alicyclic hydrocarbon-based polymers may be any of atactic, isotactic and syndiotactic. For example, any of 0 to 100% in syndiotacticity by dyad display. Can also be used.

【0030】本発明で使用される脂環構造含有重合体の
分子量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、シクロ
ヘキサン溶液(重合体が溶解しない場合はトルエン溶
液)のゲル・パーミエーション・クロマトグラフ法で測
定したポリイソプレン換算の重量平均分子量で、5,0
00〜500,000、好ましくは8,000〜20
0,000、より好ましくは10,000〜100,0
00の範囲であり、上記範囲のときに、得られる基板の
曲げ弾性率と表面精度が向上する。本発明で使用される
脂環式構造含有重合体のガラス転移温度(Tg)は、1
45〜180℃、好ましくは150〜170℃であり、
JIS K−7210にしたがって荷重2.16kg、
温度280℃の条件にて測定したMFRが1〜50g/
10分、好ましくは2〜30g/10分、より好ましく
は3〜25g/10分である。Tg及びMFRが上記範
囲にあるときに、得られる基板の情報再生及び記録時の
ピットやグルーブ変形や振動著しく低減される。
The molecular weight of the alicyclic structure-containing polymer used in the present invention is appropriately selected according to the purpose of use. Gel permeation chromatography of a cyclohexane solution (a toluene solution when the polymer is not dissolved) is used. The weight average molecular weight in terms of polyisoprene measured by a graph method is 5,0
00 to 500,000, preferably 8,000 to 20
0000, more preferably 10,000-100,0
In the above range, the bending elastic modulus and surface accuracy of the obtained substrate are improved. The glass transition temperature (Tg) of the alicyclic structure-containing polymer used in the present invention is 1
45-180 ° C, preferably 150-170 ° C,
2.16 kg load according to JIS K-7210,
MFR measured at a temperature of 280 ° C. is 1 to 50 g /
It is 10 minutes, preferably 2 to 30 g / 10 minutes, more preferably 3 to 25 g / 10 minutes. When Tg and MFR are within the above ranges, pit and groove deformation and vibration during information reproduction and recording of the obtained substrate are significantly reduced.

【0031】配合剤 なお、上記脂環構造含有重合体には、所望により、フェ
ノール系酸化防止剤やリン系酸化防止剤などの酸化防止
剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤やベンゾトリアゾー
ル系紫外線吸収剤などの紫外線吸収剤、耐光安定剤、帯
電防止剤、脂肪族アルコールのエステル、多価アルコー
ルの部分エステルおよび部分エーテル等の各種添加剤を
配合してもよい。また、本発明の目的を損なわない範囲
で、他の樹脂、ゴム質重合体等を混合して用いることも
できる。
Ingredients The alicyclic structure-containing polymer may be added , if desired, to an antioxidant such as a phenolic antioxidant or a phosphorus antioxidant, a benzophenone ultraviolet absorber or a benzotriazole ultraviolet absorber. And various additives such as UV absorbers, light stabilizers, antistatic agents, esters of aliphatic alcohols, partial esters of polyhydric alcohols and partial ethers. In addition, other resins, rubbery polymers and the like can be mixed and used as long as the object of the present invention is not impaired.

【0032】情報記録媒体用基板 本発明の情報記録媒体用基板は、上記の特定の脂環構造
含有重合体を成形して得ることができる。基板の形状は
通常中心部に孔を有するディスクであり、該基板に記録
層を付して情報記録媒体として使用する際には、該ディ
スクを単独で、または2枚以上を貼り合わせて使用する
ことができる。
Information recording medium substrate The information recording medium substrate of the present invention can be obtained by molding the specific alicyclic structure-containing polymer described above. The shape of the substrate is usually a disk having a hole in the center. When the substrate is used as an information recording medium with a recording layer, the disk is used alone or two or more disks are bonded together. be able to.

【0033】ディスクを貼り合わせる方法としては、熱
融着による方法、超音波融着による方法、接着剤による
方法などが挙げられるが、密着性、生産性等の観点か
ら、接着剤による方法が好ましい。使用する接着剤の種
類としては、ホットメルト接着剤、熱硬化型接着剤、放
射線硬化型接着剤、溶媒揮発乾燥型接着剤、嫌気硬化型
接着剤、粘着シート等が挙げられるが、生産性等の観点
から、熱硬化型接着剤又は放射線硬化型接着剤、粘着シ
ートが好ましく、光線透過率等の光学特性の観点から、
放射線硬化型接着剤、粘着シートがより好ましい。な
お、放射線硬化型接着剤としては、電子線照射型接着
剤、紫外線照射型接着剤等が挙げられるが、生産性、設
備等の観点から、紫外線照射型接着剤が好ましい。
Examples of the method of bonding the disks include a method using heat fusion, a method using ultrasonic fusion, and a method using an adhesive. From the viewpoint of adhesion and productivity, the method using an adhesive is preferable. . Examples of the type of the adhesive used include a hot melt adhesive, a thermosetting adhesive, a radiation curing adhesive, a solvent volatile drying adhesive, an anaerobic curing adhesive, a pressure-sensitive adhesive sheet, and the like. From the viewpoint of, a thermosetting adhesive or a radiation-curable adhesive, a pressure-sensitive adhesive sheet is preferable, and from the viewpoint of optical properties such as light transmittance,
Radiation-curable adhesives and pressure-sensitive adhesive sheets are more preferred. The radiation-curable adhesive includes an electron beam-irradiated adhesive, an ultraviolet-irradiated adhesive, and the like, and is preferably an ultraviolet-irradiated adhesive from the viewpoint of productivity, equipment, and the like.

【0034】紫外線照射型接着剤としては、ラジカル重
合紫外線硬化型接着剤、カチオン重合紫外線硬化型接着
剤、ラジカル/カチオン併用重合紫外線硬化型接着剤が
挙げられる。
Examples of the ultraviolet irradiation type adhesive include a radical polymerization ultraviolet curing adhesive, a cationic polymerization ultraviolet curing adhesive, and a radical / cation combination polymerization ultraviolet curing adhesive.

【0035】本発明において好適な放射線硬化型接着剤
の具体的な組成としては、アクリレート系モノマーと光
重合開始剤とを含有するラジカル重合紫外線硬化接着剤
が挙げられ、必要に応じてポリマーを添加することもで
きる。使用するアクリレート系モノマーとして好適なも
のの具体例としては、例えば、脂環式アクリレート、鎖
状脂肪族単官能アクリレートなどが挙げられ、これらの
モノマーはオリゴマーを形成していてもよい。脂環式ア
クリレートは、脂環式構造とそれに直接結合したアクリ
レート基から成るアクリレートモノマーおよび/または
そのオリゴマーであり、脂環式構造は置換基を有してい
てもよいが、該置換基は炭素と水素以外の元素を含まな
いものが好ましい。脂環式アクリレートは、脂環式アル
コールと、アクリル酸やメタクリル酸などのエステルで
あり、単官能アクリレートでも、2官能や3官能などの
多官能アクリレートでもよいが、耐熱性、架橋密度の観
点から多官能アクリレートが好ましい。
The specific composition of the radiation-curable adhesive suitable for use in the present invention includes a radical-polymerized ultraviolet-curable adhesive containing an acrylate monomer and a photopolymerization initiator. You can also. Specific examples of suitable acrylate monomers include alicyclic acrylates and linear aliphatic monofunctional acrylates, and these monomers may form oligomers. The alicyclic acrylate is an acrylate monomer composed of an alicyclic structure and an acrylate group directly bonded to the alicyclic structure and / or an oligomer thereof. The alicyclic structure may have a substituent. And those not containing elements other than hydrogen. The alicyclic acrylate is an ester of an alicyclic alcohol and an ester of acrylic acid or methacrylic acid, and may be a monofunctional acrylate or a polyfunctional acrylate such as difunctional or trifunctional, but from the viewpoint of heat resistance and crosslink density. Polyfunctional acrylates are preferred.

【0036】上記接着剤に添加することができるポリマ
ーは、接着剤の耐熱性、機械的強度を向上させるもので
あれば特に限定されないが、数平均分子量(Mn)が好
ましくは10000以上、より好ましくは30000以
上、特に好ましくは40000以上であり、好ましくは
400000以下、より好ましくは300000以下、
特に好ましくは200000以下のものである。Mnが
小さすぎると機械的強度にが劣り、高すぎる溶解性等に
劣り製造が困難である。該ポリマーのとしては、例え
ば、スチレン系ブロック共重合体及びそれらの変性物が
挙げられ、具体的には、スチレン・ブタジエン・スチレ
ンブロック共重合体、スチレン・イソプレン・スチレン
・ブロック共重合体、スチレン・イソプレン・ペンタジ
エン・スチレンブロック重合体、及びこれら重合体の水
素化物などが挙げられる。スチレン系ブロック共重合体
変性物としては上記共重合体の、無水ジカルボン酸変性
物、エポキシ変性物、及びハロゲン化物等が挙げられ
る。これらのポリマーは、耐熱性の観点から、DSCで
測定したガラス転移温度の最高温度が好ましくは50℃
以上であり、より好ましくは60℃以上である。
The polymer that can be added to the adhesive is not particularly limited as long as it improves the heat resistance and mechanical strength of the adhesive, but the number average molecular weight (Mn) is preferably 10,000 or more, more preferably Is 30,000 or more, particularly preferably 40,000 or more, preferably 400,000 or less, more preferably 300,000 or less,
Particularly preferably, it is 200,000 or less. If Mn is too small, the mechanical strength is inferior, and the solubility is too high, and the production is difficult. Examples of the polymer include styrene-based block copolymers and modified products thereof. Specifically, styrene-butadiene-styrene block copolymer, styrene-isoprene-styrene-block copolymer, styrene -Isoprene / pentadiene / styrene block polymers and hydrides of these polymers. Examples of the modified styrene block copolymer include modified dicarboxylic anhydrides, epoxy modified products, and halides of the above copolymers. From the viewpoint of heat resistance, these polymers preferably have a maximum glass transition temperature measured by DSC of 50 ° C.
Or more, more preferably 60 ° C. or more.

【0037】上記接着剤に用いる光重合開始剤は特に限
定されず、公知のものでよく、例えば、2,2−ジメト
キシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキ
シアセトフェノン、2−メチル−1−(4−メチルチオ
フェニル)−2−モルホリノ−プロパン−1−オンなど
のアセトフェノン類、ベンジル、メチルオルソベンゾイ
ルベンゾエート、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテルなどのベンゾイン類、ベンジルジメチ
ルケタール類、α−ヒドロキシケトン類などが挙げられ
る。
The photopolymerization initiator used for the adhesive is not particularly limited, and may be a known one. For example, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2-methyl-1 Acetophenones such as-(4-methylthiophenyl) -2-morpholino-propan-1-one, benzoins such as benzyl, methylorthobenzoyl benzoate, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzyl dimethyl ketals, α-hydroxy ketone And the like.

【0038】本発明で用いる接着剤組成は(a)脂環式
アクリレートおよび/または鎖状脂肪族単官能アクリレ
ート、(b)ポリマー成分、(c)光重合開始剤、とし
たときに、(a)成分100重量部に対し、(b)成分
0.1重量部以上、好ましくは1重量部以上、より好ま
しくは3重量部以上、100重量部以下、好ましくは5
0重量部以下、より好ましくは30重量部以下、(c)
成分1重量部以上、好ましくは2重量部以上、より好ま
しくは3重量部以上、30重量部以下、好ましくは25
重量部以下である。(b)成分の量が少なすぎると硬化
後の接着剤に可撓性が低くなり、基材と剥離しやすくな
り、高温下での物性が低下しやすいという問題を生じ、
多すぎると粘度が高くなり塗布作業性に劣る。(c)成
分の量が少なすぎると硬化速度が低下し、多すぎると硬
化後の数平均分子量が低下して接着強度が下がる。
The adhesive composition used in the present invention has the following composition: (a) an alicyclic acrylate and / or a linear aliphatic monofunctional acrylate, (b) a polymer component, and (c) a photopolymerization initiator. ) Component 100 parts by weight, component (b) component 0.1 parts by weight or more, preferably 1 part by weight or more, more preferably 3 parts by weight or more and 100 parts by weight or less, preferably 5 parts by weight or less.
0 parts by weight or less, more preferably 30 parts by weight or less, (c)
1 part by weight or more of components, preferably 2 parts by weight or more, more preferably 3 parts by weight or more and 30 parts by weight or less, preferably 25 parts by weight or less.
Not more than parts by weight. If the amount of the component (b) is too small, the adhesive after curing has low flexibility, easily peels off from the base material, and has a problem that its physical properties at high temperatures tend to deteriorate,
If it is too large, the viscosity becomes high and the coating workability is poor. If the amount of the component (c) is too small, the curing speed will decrease. If the amount is too large, the number average molecular weight after curing will decrease and the adhesive strength will decrease.

【0039】上記接着剤には、本発明の効果が発揮でき
る限りにおいて、上記モノマー以外のアクリレートモノ
マー、アクリレートオリゴマーなどを配合したり、酸化
防止剤、熱重合禁止剤、硬化促進剤、紫外線吸収剤、帯
電防止剤、レベリング剤、消泡剤、着色剤などの添加剤
や、タルク、シリカなどの無機フィラーなどを配合して
もよい。
As long as the effects of the present invention can be exerted, the above-mentioned adhesive may contain an acrylate monomer other than the above-mentioned monomers, an acrylate oligomer, etc., an antioxidant, a thermal polymerization inhibitor, a curing accelerator, and an ultraviolet absorber. Further, additives such as an antistatic agent, a leveling agent, an antifoaming agent, and a coloring agent, and inorganic fillers such as talc and silica may be blended.

【0040】接着層の形成方法としてはスピンコート
法、グラビアコート法、スプレーコート法、ディッピン
グ法等、種々の公知の方法を用いればよく、またこれら
の方法を組合せてもよいが、生産性、膜厚制御性の観点
からスピンコート法を用いるのが好ましい。この場合の
塗布条件は接着剤の粘度、目的とする塗膜厚さ等を考慮
して適宜決定すればよい。接着剤の硬化の際に、照射す
る紫外線照射強度は、通常、50mW/cm以上、紫
外線照射量は、通常、500〜2000mJ/cm
すればよい。また、光源としては、高圧水銀ランプ、メ
タルハライドランプなどを用いればよい。
As a method for forming the adhesive layer, various known methods such as spin coating, gravure coating, spray coating, and dipping may be used, and these methods may be combined. From the viewpoint of film thickness controllability, it is preferable to use a spin coating method. The application conditions in this case may be appropriately determined in consideration of the viscosity of the adhesive, the desired thickness of the coating film, and the like. At the time of curing the adhesive, the intensity of ultraviolet irradiation to be applied is usually 50 mW / cm 2 or more, and the amount of ultraviolet irradiation is usually 500 to 2000 mJ / cm 2 . As a light source, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like may be used.

【0041】硬化後の接着層の厚さは、通常10〜20
0μm、より好ましくは30〜100μmである。接着
層が薄すぎると均一な厚みの接着層を形成するのが困難
となり、耐久性が不十分となってくる。また、厚すぎる
と、硬化収縮によりディスクに反りが発生し易くなる。
The thickness of the cured adhesive layer is usually from 10 to 20.
0 μm, more preferably 30 to 100 μm. If the adhesive layer is too thin, it becomes difficult to form an adhesive layer having a uniform thickness, and the durability becomes insufficient. On the other hand, if the thickness is too large, the disk tends to warp due to curing shrinkage.

【0042】(基板の成形方法)上記基板の成形方法と
しては、脂環構造含有重合体を加熱溶融成形する方法、
溶液キャストにより成形する方法などを用いることがで
きるが、耐熱性及び表面精度などに優れた基板を得るた
めには、加熱溶融成形法が好ましい。加熱溶融成形法の
具体例としては、射出成形法、押出成形法、プレス成形
法などの方法が挙げられるが、複屈折値(レターデーシ
ョン)及び反りが小さく、機械強度に優れる基板を得る
ためには、射出成形法を用いるのが好ましい。射出成形
法としては、上記本発明の脂環構造含有重合体を、例え
ば加熱シリンダー等を用いて加熱溶融させ、射出装置に
より金型内に充填した後に冷却固化する方法が通常用い
られる。使用する金型内面には、スタンパーが取り付け
られ、ピット、グルーブ等が転写される。射出成形法の
中でも、溶融樹脂の金型充填時から冷却固化に至るま
で、金型締付け圧力を多段階に制御する射出圧縮成形法
により本発明の情報記録媒体用基板を成形した場合に、
基板の外周部分のレターデーションと、内周部分のレタ
ーデーションとの差が小さくなり好適である。本発明に
おいて、曲げ弾性が大きく、表面粗度が小さい基板を得
るためには、成形機のシリンダ設定温度、すなわち溶融
樹脂温度を、320〜400℃、好ましくは325〜3
90℃、最も好ましくは330〜380℃の範囲に、金
型温度(Tm)を、用いる脂環構造含有重合体のガラス
転移温度(Tg)との関係で、(Tg−60℃)≦Tm
≦(Tg−10℃)、好ましくは(Tg−50℃)≦T
m≦(Tg−15℃)、より好ましくは(Tg−40
℃)≦Tm≦(Tg−20℃)に、それぞれ設定して成
形する。また、上記条件で成形して得られた基板は、ピ
ットやグルーブの転写性に優れ、反りも小さい。溶融樹
脂温度が低すぎると転写性が低下したり、複屈折が大き
くなり、高すぎると樹脂の分解等により基板の強度が低
下したり、金型離型性に問題を生じる場合がある。
(Method of Forming Substrate) As a method of forming the substrate, a method of hot-melt molding an alicyclic structure-containing polymer,
Although a method of molding by solution casting can be used, a heat-melt molding method is preferable in order to obtain a substrate having excellent heat resistance and surface accuracy. Specific examples of the heat-melt molding method include injection molding, extrusion molding, and press molding, but in order to obtain a substrate having a small birefringence value (retardation) and warpage and excellent mechanical strength. It is preferable to use an injection molding method. As the injection molding method, a method is generally used in which the alicyclic structure-containing polymer of the present invention is heated and melted by using, for example, a heating cylinder or the like, filled into a mold by an injection device, and then cooled and solidified. A stamper is attached to the inner surface of the mold to be used, and pits, grooves, and the like are transferred. Among the injection molding methods, from filling the mold of the molten resin to cooling and solidification, when the information recording medium substrate of the present invention is molded by the injection compression molding method in which the mold clamping pressure is controlled in multiple stages,
The difference between the retardation at the outer peripheral portion and the retardation at the inner peripheral portion of the substrate is small, which is preferable. In the present invention, in order to obtain a substrate having high flexural elasticity and low surface roughness, the cylinder set temperature of the molding machine, that is, the molten resin temperature is set to 320 to 400 ° C., preferably 325 to 3 ° C.
The mold temperature (Tm) is set in the range of 90 ° C, most preferably 330 to 380 ° C, in relation to the glass transition temperature (Tg) of the alicyclic structure-containing polymer to be used, (Tg−60 ° C) ≦ Tm.
≦ (Tg−10 ° C.), preferably (Tg−50 ° C.) ≦ T
m ≦ (Tg−15 ° C.), more preferably (Tg−40)
C) ≦ Tm ≦ (Tg−20 ° C.). Further, the substrate obtained by molding under the above conditions has excellent pit and groove transferability and small warpage. If the temperature of the molten resin is too low, the transferability is reduced or the birefringence is increased. If the temperature is too high, the strength of the substrate is reduced due to decomposition of the resin or the like, and a problem may occur in the mold releasability.

【0043】射出成形の際には、情報記録媒体のエラー
レートに悪影響を及ぼすコンタミネーションを低減する
ために、成形環境をクリーンにすることが好ましい。例
えば、成形機をクリーン度クラス1000クリーンルー
ム内に設置したり、更にクリーンブースで金型部分をク
リーン度クラス100の環境に保持したりするのがより
好ましい。また、ペレットは成形する前に、加熱処理を
行っているのが好ましく、加熱処理終了後できるだけ時
間が経過しないうちに成形するのが好ましい。十分に加
熱処理を行っても、大気中に長時間放置した後に成形す
ると成形基板にシルバーストリークやボイドといった不
具合が生じる可能性がある。
At the time of injection molding, it is preferable to make the molding environment clean in order to reduce contamination which adversely affects the error rate of the information recording medium. For example, it is more preferable to install the molding machine in a cleanroom class 1000 clean room or to keep the mold part in a cleanroom class 100 environment in a clean booth. Further, it is preferable that the pellets are subjected to a heat treatment before molding, and it is preferred that the pellets be molded within a short time after completion of the heat treatment. Even if the heat treatment is sufficiently performed, if the molding is performed after being left in the air for a long time, there is a possibility that defects such as silver streaks and voids may occur in the molded substrate.

【0044】上記方法などにより得られた本発明の情報
記録媒体用基板は、曲げ弾性率が26,000kgf/
cm以上、好ましくは、26,500kgf/cm
以上、より好ましくは27,000kgf/cm以上
であり、鏡面部分、すなわち、基板上のピットやグルー
ブの形成されていない平滑部分やグルーブの底面部分な
どの表面粗度(Rmax)が10nm以下、好ましくは
8nm以下、最も好ましくは5nm以下である。
The information recording medium substrate of the present invention obtained by the above method or the like has a flexural modulus of 26,000 kgf /
cm 2 or more, preferably 26,500 kgf / cm 2
More preferably, the surface roughness (Rmax) of the mirror portion, that is, the smooth portion where no pits or grooves on the substrate is formed or the bottom portion of the groove is 10 nm or less, more preferably 27,000 kgf / cm 2 or more. Preferably it is 8 nm or less, most preferably 5 nm or less.

【0045】情報記録媒体 本発明の情報記録媒体基板は、情報記録層を付してコン
ピューターやオーディオ・ビジュアル(AV)などの情
報記録媒体として使用することができる。本発明の基板
は、耐熱性や表面精度に優れるため、信号の記録及び再
生時のグルーブ変形や信号読取り時のディスク振動、及
び反りがなく、ピットやグルーブの転写性にも優れるの
で、音楽用CD、CD−ROM、レーザーディスク(登
録商標)、DVD−ROMなど、ピットなどの微細な凹
凸による反射光の変化を利用する情報記録媒体;CD−
Rなどの追記型光ディスク、MOなどの書き変え可能な
光ディスク(光磁気ディスク)、MD(ミニディス
ク)、書き換え可能なDVD(デジタルビデオディス
ク)や相変化型光ディスク(PD)など、官能性色素や
相変化による反射率の変化を利用し、追記または書き換
え可能な情報記録媒体などに使用可能である。特に高密
度、高容量で高速回転するDVDやMO、PDなどの基
板として最も好適に用いられる。
Information recording medium The information recording medium substrate of the present invention can be used as an information recording medium such as a computer or audio visual (AV) with an information recording layer. The substrate of the present invention is excellent in heat resistance and surface accuracy, and is free from groove deformation during signal recording and reproduction, disk vibration during signal reading, and warpage, and excellent in pits and grooves transferability, so that it can be used for music. An information recording medium such as a CD, a CD-ROM, a laser disk (registered trademark), and a DVD-ROM, which utilizes a change in reflected light due to minute unevenness such as pits;
Functional dyes such as write-once optical disks such as R, rewritable optical disks (magneto-optical disks) such as MOs, MDs (mini disks), rewritable DVDs (digital video disks), and phase change optical disks (PDs); Utilizing a change in reflectance due to a phase change, the present invention can be used for an information recording medium that can be additionally written or rewritten. In particular, it is most suitably used as a substrate for DVDs, MOs, PDs, and the like, which rotate at a high speed with a high density and a large capacity.

【0046】(情報記録層)情報記録層は、基板表面
に、アルミニウムやニッケルなどの金属反射膜層や、光
の反射率を非可逆的または可逆的に局所的に変化しうる
ような有機又は無機の層を設けたものであり、その厚み
は、通常、数百〜数千オングストロ−ム、厚くても1
0,000オングストロ−ム以下である。
(Information Recording Layer) The information recording layer is formed on a substrate surface by a metal reflective film layer of aluminum or nickel, or an organic or organic layer capable of locally changing light reflectance irreversibly or reversibly. An inorganic layer is provided, and its thickness is usually several hundred to several thousand angstroms,
It is not more than 0000 angstroms.

【0047】音楽用コンパクトディスク(CD)、読取
り用コンパクトディスク(CD−ROM)、再生専用デ
ジタルビデオディスク(DVD−ROM)等では、情報
自体は射出成型時の金型のスタンパー部分に一定の長さ
の不連続な溝(ピット)として刻んであるため、このピ
ットを含む面の表面にアルミニウムまたは金などの反射
膜層をスパッタリング法等で形成すればピットと反射膜
層とで記録層になる。
In a compact disc for music (CD), a compact disc for reading (CD-ROM), a read-only digital video disc (DVD-ROM), etc., the information itself is fixed to a stamper portion of a mold at the time of injection molding. Since the grooves are cut as discontinuous grooves (pits), if a reflective film layer such as aluminum or gold is formed on the surface including the pits by a sputtering method or the like, the pits and the reflective film layer form a recording layer. .

【0048】追記型コンパクトディスク(CD−R)
や、書き換え可能な光磁気ディスク(MO)などでは、
光の反射率または透過率を可逆的または非可逆的に変化
させる記録膜の層と、光を反射する反射膜の層と、これ
らを保護し、また光学的な歪みを補正するための薄い無
機または有機の保護膜の層が順次形成され、基板には信
号の読み書きのためのガイドとなるグルーブ(連続した
溝)が形成されている。上記のいずれの層も、スパッタ
リング法、気層成長法、化学薬品のコートによる方法な
どで、単層または組み合わせて多層構造に形成すること
により情報記録層が形成される。例えば、光磁気ディス
ク用途では、基板上に、テルビウム(Tb)−鉄(F
e)−コバルト(Co)の合金や、それにさらに白金
(Pt)を加えた合金からなる記録膜;アルミニウムや
金、又はその合金類等の反射膜;窒化ケイ素(SiN)
や炭化ケイ素(SiC)等の薄い保護膜などが順次積層
された情報記録層を付して使用される。相変化型のディ
スクの場合は、記録膜を形成する合金として、テルル
(Te)−ゲルマニウム(Ge)−アンチモン(S
b)、インジウム(In)−Sb−Te、Te−Ge−
クロム(Cr)、Te−Ge−亜鉛(Zn)などを用
い、以下は上記光磁気ディスクと同様に基板上に情報記
録層を付して使用される。
Write-once compact disc (CD-R)
And rewritable magneto-optical disks (MO)
A layer of recording film that reversibly or irreversibly changes the reflectance or transmittance of light, a layer of reflective film that reflects light, and a thin inorganic layer that protects them and corrects optical distortion. Alternatively, an organic protective film layer is sequentially formed, and a groove (continuous groove) serving as a guide for reading and writing signals is formed on the substrate. The information recording layer is formed by forming any of the above layers into a single layer or a multilayered structure by a method such as a sputtering method, a gas phase growth method, or a method using a chemical coating. For example, in a magneto-optical disk application, terbium (Tb) -iron (F
e) A recording film made of an alloy of -cobalt (Co) or an alloy to which platinum (Pt) is further added; a reflective film of aluminum, gold, or an alloy thereof; silicon nitride (SiN)
And a thin protective film such as silicon carbide (SiC) or the like. In the case of a phase change type disc, tellurium (Te) -germanium (Ge) -antimony (S
b), indium (In) -Sb-Te, Te-Ge-
Using chromium (Cr), Te-Ge-zinc (Zn) or the like, the following is used by attaching an information recording layer on a substrate in the same manner as the above-mentioned magneto-optical disk.

【0049】これらの情報記録層の厚みや形成方法は情
報記録媒体の種類によって異なり、公知の方法で規格に
沿って形成される。
The thickness and forming method of these information recording layers differ depending on the type of information recording medium, and are formed according to a standard by a known method.

【0050】[0050]

【実施例】以下に、製造例、実施例及び比較例を挙げ
て、本発明についてより具体的に説明する。これらの例
中の部及び%は、特に断わりのない限り重量基準であ
る。各種の物性の測定は、下記の方法に従って行った。 (1)分子量は、トルエンを溶媒にしてGPCで測定
し、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)と
数平均分子量(Mn)を求め、分子量分布は、上記の方
法により測定されたMwとMnとの比(Mw/Mn)を
算出した。 (2)芳香環の水素添加率は、H−NMRを測定し算
出した。 (3)ガラス転移温度(Tg)はDSCにより測定し
た。 (4)曲げ弾性率は、成形して得られた直径120m
m、厚さ0.6mmのディスク(単板)を径方向に幅1
5mmにカットした試験片を作成し測定した。 (5)メルトフローレート(MFR)はJIS K−7
210にしたがって、荷重2.16kg、温度280℃
の条件にて測定した。 (6)基板の表面粗度は基板表面の平滑部(鏡面部)を
原子間力顕微鏡(TI社製SPMナノスコープIII
a)にて測定し、平均表面粗さRmaxにて評価した。 (7)基板の耐熱性は、DVDデコーダー(ケンウッド
ティー・エム・アイ製DR−3350)用い、成形直
後のブロックエラーをカウントし、さらに、基板を12
0℃にて8時間放置した後のブロックエラーをカウント
し、カウント数の増加率(%)を求めて評価した。 (8)基板の転写率は、基板の記録層のほぼ最外周に相
当する半径55mmにおけるグルーブの深さを原子間力
顕微鏡(TI社製SPMナノスコープIIIa)にて測
定し、スタンパーのグループ深さに対する百分率にて評
価した。 (9)基板の反りは、レーザー変位計(キーエンス社
製)を用い、基板を23℃、55%湿度の環境で1時間
放置した後の、半径55mmの円周上の変位量(垂直方
法)、すなわち、基板がどれだけ垂直方向に反っている
か、を測定し、さらに基板を80℃、85%湿度の環境
に48時間放置したの変位量(垂直方向)を測定し、変
位量の増加を求めて評価した。 (10)基板の面フレ(振動)は、基板内周部をクラン
プし、半径50mmの信号記録部分に、小野測器社製L
M−1200を用いてピックアップレンズの焦点を絞
り、基板を回転させたときの該ピックアップの上下の変
位量を測定して評価した。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Production Examples, Examples, and Comparative Examples. Parts and percentages in these examples are on a weight basis unless otherwise specified. Various physical properties were measured according to the following methods. (1) The molecular weight was measured by GPC using toluene as a solvent, and the weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) in terms of standard polystyrene were determined. The molecular weight distribution was determined by Mw and Mn measured by the above method. (Mw / Mn) was calculated. (2) The hydrogenation rate of the aromatic ring was calculated by measuring 1 H-NMR. (3) The glass transition temperature (Tg) was measured by DSC. (4) The flexural modulus is 120 m in diameter obtained by molding.
m, a disk (single plate) with a thickness of 0.6 mm and a width of 1 in the radial direction
A test piece cut to 5 mm was prepared and measured. (5) Melt flow rate (MFR) is JIS K-7
According to 210, load 2.16kg, temperature 280 ° C
Was measured under the following conditions. (6) The surface roughness of the substrate is measured by using an atomic force microscope (SPM Nanoscope III manufactured by TI Co.)
The measurement was performed in a), and the average surface roughness Rmax was evaluated. (7) The heat resistance of the substrate was measured by using a DVD decoder (DR-3350 manufactured by Kenwood TMI), counting the block errors immediately after molding, and further measuring the substrate
Block errors after standing at 0 ° C. for 8 hours were counted, and the rate of increase (%) in the count was determined and evaluated. (8) The transfer rate of the substrate is determined by measuring the depth of the groove at a radius of 55 mm corresponding to substantially the outermost periphery of the recording layer of the substrate with an atomic force microscope (TI SPM Nanoscope IIIa) and determining the group depth of the stamper. It was evaluated as a percentage of the total. (9) The warpage of the substrate was measured using a laser displacement meter (manufactured by KEYENCE CORPORATION), and the amount of displacement on a circumference having a radius of 55 mm (vertical method) after the substrate was left in an environment of 23 ° C. and 55% humidity for 1 hour That is, how much the substrate is warped in the vertical direction is measured, and the displacement (vertical direction) of the substrate left standing in an environment of 80 ° C. and 85% humidity for 48 hours is measured. It was sought and evaluated. (10) The surface deflection (vibration) of the substrate is obtained by clamping an inner peripheral portion of the substrate and applying a signal recording part having a radius of 50 mm to a signal recording part of Ono Sokki Co., Ltd.
The focus of the pickup lens was narrowed using M-1200, and the amount of vertical displacement of the pickup when the substrate was rotated was measured and evaluated.

【0051】〔製造例1〕(ポリマーA製造例) 窒素雰囲気下、テトラシクロ[4.4.12,5.1
7,10.0]−ドデカ−3−エン(1,4:5,8−
ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オク
タヒドロナフタレンともいう。以下、TCDと略す)1
0部、及びテトラシクロ[7.4.110,13.0
1,9.02,7]トリデカ−2,4,6,11−テト
ラエン(1,4−メタノ−1,4,4a,9a−テトラ
ヒドロフルオレンともいう。以下、MTFと略す)10
部に、脱水したシクロヘキサン200部、1−ヘキセン
2.0部、トリエチルアルミニウムの15%トルエン溶
液15部、及びトリエチルアミン5.0部を加え、20
℃に保ちながら撹拌し、TCD40部とMTF40部、
及び四塩化チタンの20%トルエン溶液9.0部を60
分にわたって連続的に加えた。その後、1時間反応させ
た後、エチルアルコール5.0部及び水2.0部を加え
て反応を停止させた。反応溶液を40℃に加温して触媒
を加水分解した後、硫酸カルシウム3部及びシクロヘキ
サン60部を加え、過剰の水を除去した。析出した金属
を含む沈殿物をろ過して除去し、TCD/MTF開環重
合体を含む透明な重合体溶液371部を得た。重合体中
の各ノルボルネン類の共重合比率を、重合後の溶液中の
残留ノルボルネン類組成(ガスクロマトグラフィー法に
よる)から計算したところ、TCD/MTF=50/5
0でほぼ仕込組成に等しかった。得られた重合体溶液7
50部に、Ni−ケイソウ土触媒(日揮化学製、N11
3)15部を添加し、耐圧容器に入れ、水素を導入して
圧力50kg/cm、温度200℃で3時間水素添加
反応を行った。反応終了後、シクロヘキサン700部を
加えて希釈し、ろ過により触媒を除き、開環重合体の水
素添加物重合体溶液1350部を得た。この溶液800
部を、活性アルミナ(水澤化学製、ネオビードD)4.
5部を充填した内径10cm、長さ100cmのカラム
に滞留時間100秒になるように通過させて、24時間
循環させた。この溶液550部をイソプロパノール15
00部中へ攪拌しながら注ぎ、TCD/MTF開環重合
体水素添加物を凝固させた。凝固させたTCD/MTF
開環重合体水素添加物をろ過して回収し、イソプロパノ
ール300部で2回洗浄した後、回転式減圧乾燥器中で
5torr、120℃で48時間乾燥し、TCD/MT
F開環重合体水素添加物78部を得た。このTCD/M
TF開環重合体水素添加物(ポリマーA)は、Mwが3
1,000であり、分子量分布(Mw/Mn)は1.8
9であった。MFRは7g/10分であり、水素添加率
が99.9%以上、Tgは、155℃であった。
[Production Example 1] (Production Example of Polymer A) Tetracyclo [4.4.1 2,5 . 1
7,10 . 0] -dodec-3-ene (1,4: 5,8-
Also referred to as dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene. Hereinafter, abbreviated as TCD) 1
0 parts, and tetracyclo [7.4.1 10,13 . 0
1,9 . 0 2,7 ] trideca-2,4,6,11-tetraene (also referred to as 1,4-methano-1,4,4a, 9a-tetrahydrofluorene; hereinafter abbreviated as MTF) 10
200 parts of dehydrated cyclohexane, 2.0 parts of 1-hexene, 15 parts of a 15% toluene solution of triethylaluminum, and 5.0 parts of triethylamine were added to 20 parts of the mixture.
Stirring while maintaining at 40 ° C., 40 parts of TCD and 40 parts of MTF,
And 9.0 parts of a 20% toluene solution of titanium tetrachloride in 60 parts
Added continuously over minutes. Then, after reacting for 1 hour, 5.0 parts of ethyl alcohol and 2.0 parts of water were added to stop the reaction. After heating the reaction solution to 40 ° C. to hydrolyze the catalyst, 3 parts of calcium sulfate and 60 parts of cyclohexane were added to remove excess water. The precipitate containing the deposited metal was removed by filtration to obtain 371 parts of a transparent polymer solution containing a TCD / MTF ring-opening polymer. When the copolymerization ratio of each norbornene in the polymer was calculated from the composition of the residual norbornene in the solution after polymerization (by gas chromatography), TCD / MTF = 50/5.
0 was almost equal to the charge composition. The obtained polymer solution 7
50 parts of Ni-diatomaceous earth catalyst (manufactured by JGC Chemicals, N11
3) 15 parts were added, put in a pressure vessel, hydrogen was introduced, and a hydrogenation reaction was performed at a pressure of 50 kg / cm 2 and a temperature of 200 ° C. for 3 hours. After completion of the reaction, 700 parts of cyclohexane was added for dilution, and the catalyst was removed by filtration to obtain 1350 parts of a hydrogenated polymer solution of a ring-opening polymer. This solution 800
3. Part of activated alumina (manufactured by Mizusawa Chemical Co., Neo Bead D)
The mixture was passed through a column having an inner diameter of 10 cm and a length of 100 cm packed with 5 parts so as to have a residence time of 100 seconds, and circulated for 24 hours. 550 parts of this solution is added to isopropanol 15
The mixture was poured into 00 parts with stirring to solidify the hydrogenated TCD / MTF ring-opened polymer. Coagulated TCD / MTF
The hydrogenated ring-opened polymer was recovered by filtration, washed twice with 300 parts of isopropanol, and then dried in a rotary vacuum dryer at 5 torr and 120 ° C. for 48 hours to obtain TCD / MT.
78 parts of hydrogenated F ring-opened polymer were obtained. This TCD / M
The hydrogenated TF ring-opening polymer (Polymer A) has a Mw of 3
1,000, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) is 1.8.
Nine. The MFR was 7 g / 10 minutes, the hydrogenation rate was 99.9% or more, and the Tg was 155 ° C.

【0052】〔製造例2〕(ポリマーB製造例) 1−ヘキセンの使用量を1.2部に変えた以外は、製造
例1と同様の条件で重合反応及び水素添加反応を行っ
た。得られた開環重合体水素添加物(ポリマーB)は、
Mwが37,000であり、分子量分布(Mw/Mn)
は1.96であった。また、MFRは2g/10分であ
り、水素添加率が99.9%以上、Tgは159℃であ
った。
[Production Example 2] (Production Example of Polymer B) A polymerization reaction and a hydrogenation reaction were carried out under the same conditions as in Production Example 1 except that the amount of 1-hexene used was changed to 1.2 parts. The obtained hydrogenated ring-opened polymer (Polymer B)
Mw is 37,000, molecular weight distribution (Mw / Mn)
Was 1.96. The MFR was 2 g / 10 minutes, the hydrogenation rate was 99.9% or more, and the Tg was 159 ° C.

【0053】〔製造例3〕(ポリマーC製造例) 1−ヘキセンの使用量を0.8部に変えた以外は、製造
例1と同様の条件で重合反応及び水素添加反応を行っ
た。得られた開環重合体水素添加物(ポリマーC)は、
Mwが41,000であり、分子量分布(Mw/Mn)
は1.90であった。また、MFRはは、0.7g/1
0分であり、水素添加率が99.9%以上、Tgは15
6℃であった。
[Production Example 3] (Production Example of Polymer C) A polymerization reaction and a hydrogenation reaction were carried out under the same conditions as in Production Example 1 except that the amount of 1-hexene used was changed to 0.8 part. The obtained hydrogenated ring-opening polymer (Polymer C)
Mw is 41,000, molecular weight distribution (Mw / Mn)
Was 1.90. The MFR is 0.7 g / 1.
0 minutes, the hydrogenation rate is 99.9% or more, and the Tg is 15 minutes.
6 ° C.

【0054】〔製造例4〕(ポリマーD製造例) 窒素雰囲気下、脱水したシクロヘキサン500部に、1
−ヘキセン0.55部、ジブチルエ−テル0.11部、
及びトリイソブチルアルミニウム0.22部を室温で反
応器に入れて混合した後、45℃に保ちながら、トリシ
クロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン(以降D
CPという)200部、六塩化タングステンの0.70
%トルエン溶液30部を2時間かけて連続的に添加して
重合した。得られた重合反応液を耐圧の水素化反応器に
移送し、珪藻土担持ニッケル触媒(日産ガードラー社
製;G−96D、ニッケル担持率58%)10部及びシ
クロヘキサン200部を加え、150℃、水素圧45k
gf/cmで8時間反応させた。この反応溶液を、ス
テンレス製金網をそなえたろ過器を用い、珪藻土をろ過
助剤としてろ過し、触媒を除去した。得られた反応溶液
を300部のイソプロピルアルコ−ル中に攪拌下に注い
で水素添加物を沈殿させ、ろ別して回収した。さらに、
アセトン500部で洗浄した後、1torr以下、10
0℃に設定した減圧乾燥器中で48時間乾燥し、開環重
合体水素添加物(ポリマーA)190部を得た。得られ
た開環重合体水素添加物の主鎖水素添加率は99.9
%、重量平均分子量(Mw)は、33,300、分子量
分布(Mw/Mn)は2.12であり、メルトフローレ
ート(MFR)は、35g/10分、ガラス転移温度は
97℃であった。
[Production Example 4] (Production Example of Polymer D) In a nitrogen atmosphere, 500 parts of dehydrated cyclohexane was added to 1 part.
-Hexene 0.55 part, dibutyl ether 0.11 part,
And 0.22 parts of triisobutylaluminum were mixed in a reactor at room temperature, and then kept at 45 ° C. while tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene (hereinafter D) was added.
200 parts, 0.70 of tungsten hexachloride
A 30% toluene solution was continuously added over 2 hours to carry out polymerization. The obtained polymerization reaction solution was transferred to a pressure-resistant hydrogenation reactor, and 10 parts of a diatomaceous earth-supported nickel catalyst (manufactured by Nissan Gardler Co., Ltd .; G-96D, nickel support rate 58%) and 200 parts of cyclohexane were added. Pressure 45k
The reaction was performed at gf / cm 2 for 8 hours. This reaction solution was filtered using a diatomaceous earth as a filter aid using a filter equipped with a stainless steel wire mesh to remove the catalyst. The obtained reaction solution was poured into 300 parts of isopropyl alcohol with stirring to precipitate a hydrogenated product, which was collected by filtration. further,
After washing with 500 parts of acetone, 1 torr or less, 10
The product was dried in a vacuum dryer set at 0 ° C. for 48 hours to obtain 190 parts of a hydrogenated ring-opened polymer (Polymer A). The main-chain hydrogenation rate of the obtained ring-opened polymer hydrogenated product was 99.9.
%, The weight average molecular weight (Mw) was 33,300, the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.12, the melt flow rate (MFR) was 35 g / 10 min, and the glass transition temperature was 97 ° C. .

【0055】〔製造例5〕(ポリマーE製造例) 1−ヘキセンの使用量を0.56部とし、DCPに変え
て8−メチル−テトラシクロ[4.4.0.12,5
7,10]ドデカ−3−エン200部を使用した以外
は製造例1と同様の条件で重合を行い、水素化反応温度
を180℃に変え、反応時間を10時間に変えた以外は
製造例1と同様の条件で水素化反応を行った。得られた
開環重合体水素添加物(ポリマーE)の主鎖水素添加率
は99.9%、数平均分子量(Mn)は、20,40
0、分子量分布(Mw/Mn)は2.02であった。ま
た、MFRは、20g/10分であり、ガラス転移温度
は140℃であった。
[Production Example 5] (Production Example of Polymer E) The amount of 1-hexene used was 0.56 parts, and instead of DCP, 8-methyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .
[ 7,10 ] Polymerization was carried out under the same conditions as in Production Example 1 except that 200 parts of dodeca-3-ene was used. The hydrogenation reaction temperature was changed to 180 ° C, and the reaction time was changed to 10 hours. A hydrogenation reaction was performed under the same conditions as in Example 1. The main chain hydrogenation rate of the obtained ring-opened polymer hydrogenated product (polymer E) was 99.9%, and the number average molecular weight (Mn) was 20,40.
0 and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.02. The MFR was 20 g / 10 minutes, and the glass transition temperature was 140 ° C.

【0056】(実施例1) (情報記録媒体用基板の成形)製造例1で得られた脂環
構造含有重合体(ポリマーA)100部に軟質重合体
(旭化成社製;タフテックH1052)0.1部、及び
酸化防止剤(チバガイギー社製;イルガノックス101
0)0.1部とを添加し、二軸混練機(東芝機械社製;
TEM−35B:スクリュー径37mm、L/D=3
2)を用い、スクリュー回転数150rpm、樹脂温度
260℃、フィードレート15kg/時間)で混練し、
ストランド状に押し出した。これを水冷してペレタイザ
ーで切断し、ペレット化した。
(Example 1) (Formation of Information Recording Medium Substrate) A soft polymer (manufactured by Asahi Kasei Corporation; Tuftec H1052) was added to 100 parts of the alicyclic structure-containing polymer (polymer A) obtained in Production Example 1. 1 part, and an antioxidant (manufactured by Ciba-Geigy; Irganox 101)
0) and 0.1 part, and a twin-screw kneader (manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd .;
TEM-35B: screw diameter 37 mm, L / D = 3
Using 2), kneading at a screw rotation speed of 150 rpm, a resin temperature of 260 ° C., and a feed rate of 15 kg / hour)
Extruded into strands. This was cooled with water, cut with a pelletizer, and pelletized.

【0057】得られたペレットを、空気を流通させた熱
風乾燥器を用いて100℃で5時間乾燥した後すぐに、
射出成形機(住友重機械工業社製;DISK3)にて、
DVD用スタンパー(グルーブ深さ設定値:150n
m、グルーブピッチ:0.8μm)を可動側に取り付け
た金型を使用して射出成形を行い、射出時間0.1秒、
樹脂温度360℃、金型温度135℃、冷却時間7.0
秒、型締め圧力25tonの条件にて、厚さ0.6m
m、120mmφ、内孔15mmφの情報記録媒体用基
板を得た。得られた基板の、曲げ弾性率、表面粗度、転
写率、基板の反りの結果を表1に示す。
Immediately after drying the obtained pellets at 100 ° C. for 5 hours using a hot-air dryer through which air was passed,
Injection molding machine (Sumitomo Heavy Industries, Ltd .; DISK3)
Stamper for DVD (groove depth setting value: 150n)
m, groove pitch: 0.8 μm) using a mold attached to the movable side, injection molding was performed, the injection time was 0.1 second,
Resin temperature 360 ° C, mold temperature 135 ° C, cooling time 7.0
0.6m thickness under the condition of 25 tons of mold clamping pressure
An information recording medium substrate having a diameter of 120 mmφ and an inner hole of 15 mmφ was obtained. Table 1 shows the results of the flexural modulus, surface roughness, transfer rate, and warpage of the obtained substrate.

【0058】(反射膜の形成)得られた基板には、最外
周部の幅2mmの部分と、最内周部の幅12mmの部分
以外にはピットが形成されていた。このピット形成面
に、日電アネルバ製ILC−3000を使用して80n
mのアルミニウム反射膜の形成を行った。
(Formation of Reflective Film) On the obtained substrate, pits were formed at portions other than the outermost portion having a width of 2 mm and the innermost portion having a width of 12 mm. This pit formation surface is 80n using ILC-3000 manufactured by Nidec Anelva.
m of aluminum reflective film was formed.

【0059】(積層基板の製造)反射膜の形成された上
記基板2枚を、ジシクロペンタジエニルアクリレート
(日立化成製:FA513A)90部、及びイソボニル
アクリレート(共栄社化学製:IB−XA)10部に、
スチレン・エチレン・ブタジエン・スチレン・ブロック
共重合体ポリマー(旭化成製:タフテックH1052)
5部、及び光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミ
カル社製:イルガキュアー184)8部を添加し、混合
して得られた紫外線硬化型接着剤を用い、2500mJ
/cmのUV照射量で硬化させて貼り合わせ、積層型
光ディスク基板を製造した。基板の耐熱性、基板の面フ
レの結果を表1に示す。
(Manufacture of laminated substrate) The above two substrates having the reflection film formed thereon were treated with 90 parts of dicyclopentadienyl acrylate (manufactured by Hitachi Chemical: FA513A) and isobonyl acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical: IB-XA). In 10 copies,
Styrene / ethylene / butadiene / styrene / block copolymer (Asahi Kasei: Tuftec H1052)
5 parts and 8 parts of a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemical Co., Ltd .: Irgacure 184) were added, and an ultraviolet-curable adhesive obtained by mixing was used to obtain 2500 mJ.
After curing at a UV irradiation amount of / cm 2 and bonding, a laminated optical disc substrate was manufactured. Table 1 shows the results of the heat resistance of the substrate and the surface deflection of the substrate.

【0060】[0060]

【表1】 [Table 1]

【0061】(実施例2)基板を成形する際に、金型温
度を120℃とする以外は、実施例1と同様に情報記録
媒体用基板を成形して評価した。結果を表1に示す。
Example 2 An information recording medium substrate was formed and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the mold temperature was set to 120 ° C. when forming the substrate. Table 1 shows the results.

【0062】(実施例3)基板を成形する際に、金型温
度を105℃とする以外は、実施例1と同様に情報記録
媒体用基板を成形して評価した。結果を表1に示す。
Example 3 An information recording medium substrate was molded and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the temperature of the mold was 105 ° C. when the substrate was molded. Table 1 shows the results.

【0063】(実施例4)基板を成形する際に、樹脂温
度を330℃とする以外は、実施例2と同様に情報記録
媒体用基板を成形して評価した。結果を表1に示す。
Example 4 An information recording medium substrate was molded and evaluated in the same manner as in Example 2 except that the resin temperature was set to 330 ° C. when molding the substrate. Table 1 shows the results.

【0064】(実施例5)製造例2で得られたポリマー
Bを使用して、樹脂温度を370℃とする以外は、実施
例1と同様に情報記録媒体用基板を成形して評価した。
結果を表1に示す。
Example 5 An information recording medium substrate was molded and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the resin temperature was changed to 370 ° C. using the polymer B obtained in Production Example 2.
Table 1 shows the results.

【0065】(比較例1)製造例4で得られたポリマー
Dを使用して、樹脂温度を340℃、金型温度80℃と
する以外は、実施例1と同様に情報記録媒体用基板を成
形して評価した。結果を表1に示す。
(Comparative Example 1) A substrate for an information recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin temperature was set to 340 ° C and the mold temperature was set to 80 ° C using the polymer D obtained in Production Example 4. It was molded and evaluated. Table 1 shows the results.

【0066】(比較例2)製造例5で得られたポリマー
Eを使用して、金型温度110℃とする以外は、実施例
1と同様に情報記録媒体用基板を成形して評価した。結
果を表1に示す。
Comparative Example 2 An information recording medium substrate was molded and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the temperature of the mold was set to 110 ° C. using the polymer E obtained in Production Example 5. Table 1 shows the results.

【0067】(比較例3)製造例3で得られたポリマー
Cを使用する以外は、実施例2と同様に情報記録媒体用
基板を成形して評価した。結果を表1に示す。
Comparative Example 3 An information recording medium substrate was molded and evaluated in the same manner as in Example 2 except that the polymer C obtained in Production Example 3 was used. Table 1 shows the results.

【0068】(比較例4)基板を成形する際に、金型温
度を80℃とする以外は、実施例1と同様に情報記録媒
体用基板を成形して評価した。結果を表1に示す。
(Comparative Example 4) A substrate for an information recording medium was evaluated in the same manner as in Example 1 except that the mold temperature was set to 80 ° C when the substrate was molded. Table 1 shows the results.

【0069】(比較例5)基板を成形する際に、樹脂温
度を290℃とする以外は、実施例2と同様に情報記録
媒体用基板を成形して評価した。結果を表1に示す。
Comparative Example 5 An information recording medium substrate was formed and evaluated in the same manner as in Example 2 except that the resin temperature was set to 290 ° C. when the substrate was formed. Table 1 shows the results.

【0070】[0070]

【発明の効果】本発明によれば、高いガラス転移温度を
有する脂環構造含有重合体を適切な成形条件にて使用す
ることによって、曲げ弾性及び表面精度に優れた情報記
録媒体用基板が得られ、該基板はピットやグルーブの転
写性にも優れ、高速回転時の基板の面振動(ブレ)が著
しく低減される。また該基板は耐熱性にも優れるので、
情報記録媒体として信号の再生及び記録時の熱によるピ
ットやグルーブの変形もない。上記本発明の基板によれ
ば、特にデジタルビデオディスク(DVD)などの高密
度、高容量の情報記録媒体を高性能に提供できる。
According to the present invention, a substrate for an information recording medium having excellent bending elasticity and surface accuracy can be obtained by using an alicyclic structure-containing polymer having a high glass transition temperature under appropriate molding conditions. Thus, the substrate is excellent in the transferability of pits and grooves, and the surface vibration (blur) of the substrate during high-speed rotation is significantly reduced. Also, since the substrate has excellent heat resistance,
As an information recording medium, there is no deformation of pits or grooves due to heat during signal reproduction and recording. According to the substrate of the present invention, a high-density, high-capacity information recording medium such as a digital video disk (DVD) can be provided with high performance.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08J 5/00 CER C08J 5/00 CER 5D075 CEZ CEZ 5D121 G11B 7/26 521 G11B 7/26 521 11/105 521 11/105 521A 521C 521D 546 546D // B29K 45:00 B29K 45:00 B29L 17:00 B29L 17:00 C08L 65:00 C08L 65:00 Fターム(参考) 4F071 AA21 AA69 AA78 AA86 AA88 AF20 AH12 AH14 BA01 BB05 BC07 BC16 BC17 4F206 AA12C AH79 AR064 JA07 JN43 JQ81 4J032 CA34 CA35 CA36 CA43 CA45 CA68 CB04 CC03 CF01 CG00 4J100 AA02Q AA03Q AA04Q AA07Q AA09Q AA15Q AA16Q AA17Q AA18Q AA19Q AA20P AA21Q AB02P AB03P AK31P AM42P AR03P AR03Q AR04Q AR05P AR05Q AR09P AR09Q AR11P AR17P AR18P AR21P AR22P AS11Q AS15P AU21P BA03P BA16P BA20P BA40P BC03P BC04P BC43P CA01 CA04 CA31 HA04 HA05 HB02 JA36 5D029 KA01 KC09 5D075 FG15 FG17 GG07 GG16 5D121 DD05 Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (reference) C08J 5/00 CER C08J 5/00 CER 5D075 CEZ CEZ 5D121 G11B 7/26 521 G11B 7/26 521 11/105 521 11 / 105 521A 521C 521D 546 546D // B29K 45:00 B29K 45:00 B29L 17:00 B29L 17:00 C08L 65:00 C08L 65:00 F term (reference) 4F071 AA21 AA69 AA78 AA86 AA88 AF20 AH12 AH14 BC01 BC05 BC BC17 4F206 AA12C AH79 AR064 JA07 JN43 JQ81 4J032 CA34 CA35 CA36 CA43 CA45 CA68 CB04 CC03 CF01 CG00 4J100 AA02Q AA03Q AA04Q AA07Q AA09Q AA15Q AA16Q AA17Q AA18Q AA19Q AA20P AA21Q AB02P AB03P AK31P AM42P AR03P AR03Q AR04Q AR05P AR05Q AR09P AR09Q AR11P AR17P AR18P AR21P AR22P AS11Q AS15P AU21P BA03P BA16P BA20P BA40P BC03P BC04P BC43P CA01 CA04 CA31 HA04 HA05 HB02 JA36 5D029 KA01 KC09 5D075 FG15 FG17 GG07 GG16 5D121 DD05

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガラス転移温度(Tg)が145〜18
0℃、JIS K−7210にしたがって荷重2.16
kg、温度280℃の条件にて測定したメルトフローレ
ート(MFR)が1〜50g/10分である脂環構造含
有重合体を成形してなり、曲げ弾性率が26,000k
gf/cm以上、鏡面部分の表面粗度(Rmax)が
10nm以下である情報記録媒体用基板。
1. A glass transition temperature (Tg) of 145-18.
0 ° C, load 2.16 according to JIS K-7210
An alicyclic structure-containing polymer having a melt flow rate (MFR) of 1 to 50 g / 10 minutes measured at 280 ° C. and a temperature of 280 ° C. is molded and has a flexural modulus of 26,000 k.
An information recording medium substrate having a surface roughness (Rmax) of at least gf / cm 2 and a mirror surface of at most 10 nm.
【請求項2】 脂環構造含有重合体がノルボルネン系重
合体である請求項1記載の情報記録媒体用基板。
2. The information recording medium substrate according to claim 1, wherein the alicyclic structure-containing polymer is a norbornene-based polymer.
【請求項3】 情報記録媒体用基板が光ディスク基板で
ある請求項1または2記載の情報記録媒体用基板。
3. The information recording medium substrate according to claim 1, wherein the information recording medium substrate is an optical disk substrate.
【請求項4】 ガラス転移温度(Tg)が145〜18
0℃、JIS K−7210にしたがって荷重2.16
kg、温度280℃の条件にて測定したメルトフローレ
ート(MFR)が1〜50g/10分である脂環構造含
有重合体を、樹脂温度を320〜400℃に、金型温度
(Tm)を、該重合体のガラス転移温度(Tg)との関
係にて(Tg−60℃)≦Tm≦(Tg−10℃)にな
るように設定し、射出成形する情報記録媒体用基板の製
法。
4. A glass transition temperature (Tg) of 145-18.
0 ° C, load 2.16 according to JIS K-7210
The alicyclic structure-containing polymer having a melt flow rate (MFR) of 1 to 50 g / 10 minutes measured under the conditions of kg and a temperature of 280 ° C. is heated to a resin temperature of 320 to 400 ° C. and a mold temperature (Tm). A method for producing a substrate for an information recording medium, which is set so as to satisfy (Tg−60 ° C.) ≦ Tm ≦ (Tg−10 ° C.) in relation to the glass transition temperature (Tg) of the polymer, and injection molding.
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