JP2001126311A - Optical molding material and optical disk - Google Patents

Optical molding material and optical disk

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JP2001126311A
JP2001126311A JP30473799A JP30473799A JP2001126311A JP 2001126311 A JP2001126311 A JP 2001126311A JP 30473799 A JP30473799 A JP 30473799A JP 30473799 A JP30473799 A JP 30473799A JP 2001126311 A JP2001126311 A JP 2001126311A
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JP
Japan
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optical
retardation
resin
optical disk
wavelength
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Application number
JP30473799A
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Japanese (ja)
Inventor
Masayuki Sekiguchi
関口  正之
Toshitaka Otsuki
敏敬 大月
Takatoshi Ishigaki
卓俊 石垣
Tatsuya Hirono
廣野  達也
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JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a stable molding material having a low rate of change of an optical characteristic (retardation) in a wide wavelength range and suitable for optical use and to obtain an optical disk capable of reading and writing with plural lasers because of good optical characteristics in a wide wavelength range. SOLUTION: The optical molding material is a cyclic polyolefin resin and the width of change of the retardation of the resin when the wavelength of light is varied from 400 nm to 830 nm is <±10% of the retardation at 590 nm wavelength. The optical disk is obtained by molding the resin.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は光学用として好適な
成形材料に関し、さらに詳しくは、特に射出成形によっ
て光ディスク基板を成形した場合に、光の波長によるレ
ターデーションの変化幅が小さく、光学特性が良好であ
る光学用成形材料ならびに光ディスクに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a molding material suitable for optical use, and more particularly, when an optical disk substrate is molded by injection molding, the range of change in retardation due to the wavelength of light is small and the optical characteristics are low. It relates to an optical molding material and an optical disk which are excellent.

【0002】[0002]

【従来の技術】環状ポリオレフィン系樹脂は、主鎖構造
の剛直性に起因してガラス転移温度が高く、主鎖構造に
嵩高い基が存在するために非晶性で光線透過率が高く、
しかも分極率の異方性が小さいことによる低複屈折性を
示すなどの特長を有しており、耐熱性、透明性、光学特
性に優れた透明熱可塑性樹脂として注目されている。か
かる環状ポリオレフィン系樹脂としては、例えば特開平
1−132625号公報、特開平1−132626号公
報、特開昭63−218726号公報、特開平2−13
3413号公報、特開昭61−120816号公報、特
開昭61−115912号公報等に開示されている。
BACKGROUND ART Cyclic polyolefin resins have a high glass transition temperature due to the rigidity of the main chain structure, and are amorphous and have high light transmittance due to the presence of bulky groups in the main chain structure.
In addition, it has features such as low birefringence due to small anisotropy of polarizability, and is attracting attention as a transparent thermoplastic resin having excellent heat resistance, transparency, and optical properties. Examples of such a cyclic polyolefin-based resin include, for example, JP-A-1-132625, JP-A-1-132626, JP-A-63-218726, and JP-A-2-13.
No. 3,413, JP-A-61-120816, JP-A-61-115912, and the like.

【0003】近年、例えばコンパクトディスク(CD)
や、CD−ROM、DVD、MO等の光ディスクの分野
や、光学レンズ、光ファイバー、導光板などの光学材料
において、ポリカーボネートやポリメチルメタクリレー
トをはじめとした非晶質プラスチックが利用、応用さ
れ、種々の新しい用途について検討されている。しかし
ながら、ポリカーボネート等はレターデーション(複屈
折)の波長依存性が大きく、特定波長におけるレターデ
ーションを小さな成形品とした場合においても、複数の
波長の光を使用する場合にはレターデーションが大きく
なり、求められる製品特性として満足し難いものであっ
た。一方、今日では光学機器の発達がめざましく、例え
ば、使用する光の波長が異なる複数種の光ディスク(例
えば、CD系では780nm、DVD系では650n
m)を記録・再生するドライブが市場に現れつつあり、
また、次世代ドライブでは短波長の青色レーザー(40
0nm付近)対応の開発も進められていることから、広
い波長範囲において光学特性(レターデーション)が安
定したものとなる光学用成形材料が市場において望まれ
ている。また、微小なレーザー光を用いて情報の読み書
きをする光ディスクの場合には光学特性の変化がその製
品特性を大きく左右するため、使用波長によるレターデ
ーションに大きな変化が発生する場合には、それぞれの
メディアに対応した生産条件を新たに設定しなければな
らず、一方、広範囲の波長において比較的一定なレター
デーションを示す材料が存在することにより生産効率が
向上するなど、利点が大きいことからその材料要求が高
まりつつある。また、低波長から高波長におけるレター
デーションが安定することで、複数レーザーによる読み
書きが可能となる光ディスクも開発可能なことから、新
たな技術分野を切り開く材料および光ディスクとなりう
る。
In recent years, for example, compact discs (CDs)
In the field of optical disks such as CD-ROMs, DVDs, and MOs, and in optical materials such as optical lenses, optical fibers, and light guide plates, amorphous plastics such as polycarbonate and polymethyl methacrylate are used and applied. New applications are being considered. However, polycarbonate and the like have a large wavelength dependence of retardation (birefringence), and even when the retardation at a specific wavelength is a small molded product, the retardation increases when light of a plurality of wavelengths is used, It was difficult to satisfy the required product characteristics. On the other hand, the development of optical devices has been remarkable today. For example, a plurality of types of optical disks (for example, 780 nm for a CD system and 650 n for a DVD system) using different wavelengths of light are used.
Drives for recording and reproducing m) are appearing on the market,
In the next-generation drive, a short wavelength blue laser (40
Since the development for (approximately 0 nm) is being promoted, an optical molding material having stable optical characteristics (retardation) in a wide wavelength range is desired in the market. Also, in the case of an optical disc that reads and writes information using a minute laser beam, changes in optical characteristics greatly affect the product characteristics. Production conditions must be newly set according to the media.On the other hand, the presence of a material that shows a relatively constant retardation over a wide range of wavelengths has a significant advantage, such as an increase in production efficiency. Demands are growing. Further, since the retardation from low wavelength to high wavelength is stabilized, an optical disk that can be read and written by a plurality of lasers can be developed, so that it can be a material and an optical disk that opens up a new technical field.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に基づいてなされたものであって、その目的は、
光学用として好適な成形材料、特に射出成形によって光
ディスク基板を成形した場合に、転写性が高く、レター
デーションの同一半径上のバラツキが小さく、また特に
光の波長範囲400nmから830nmにおけるレター
デーションの変化幅がさく、上記の広い波長範囲におい
て光学特性が良好である光学用成形材料ならびに光ディ
スクを提供することにある。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made based on the above circumstances, and its object is to provide:
When a molding material suitable for optical use, particularly an optical disk substrate is molded by injection molding, the transferability is high, the variation of the retardation on the same radius is small, and the change of the retardation particularly in the light wavelength range of 400 nm to 830 nm. An object of the present invention is to provide an optical molding material and an optical disk having a small width and good optical characteristics in the above-mentioned wide wavelength range.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、環状ポリオレ
フィン系樹脂であって、光の波長を400nmから83
0nmまで変化させたときの該樹脂のレターデーション
の変化幅が、波長590nmにおけるレターデーション
の±10%以内であることを特長とする光学用成形材料
を提供するものである。また、本発明は、環状ポリオレ
フィン系樹脂を成形した光学用成型物であって、光の波
長を400nmから830nmまで変化させたときにお
ける該成型物のレターデーションの変化幅が、波長59
0nmにおけるレターデーションの±10%以内である
ことを特徴とする光学用成型物を提供するものである。
さらに、本発明は、環状ポリオレフィン系樹脂を成形し
た光ディスク基板であって、光の波長を400nmから
830nmまで変化させたときにおける該光ディスク基
板のレターデーションの変化幅が、波長590nmにお
けるレターデーションの±10%以内であることを特徴
とする光ディスクを提供するものである。
According to the present invention, there is provided a cyclic polyolefin resin having a light wavelength of 400 nm to 83 nm.
An object of the present invention is to provide an optical molding material characterized in that the change width of the resin retardation when changed to 0 nm is within ± 10% of the retardation at a wavelength of 590 nm. Further, the present invention relates to an optical molded product obtained by molding a cyclic polyolefin-based resin, wherein a change width of the retardation of the molded product when the wavelength of light is changed from 400 nm to 830 nm is 59 nm.
An object of the present invention is to provide an optical molded product characterized in that the retardation at 0 nm is within ± 10%.
Further, the present invention relates to an optical disk substrate formed of a cyclic polyolefin resin, wherein the variation width of the retardation of the optical disk substrate when the light wavelength is changed from 400 nm to 830 nm is ± 0.5% of the retardation at a wavelength of 590 nm. An optical disc characterized by being within 10% is provided.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】以下、本発明の光学用成形材料お
よび光ディスクについて詳細に説明する。 <環状ポリオレフィン系樹脂>本発明の光学用成形材料
および光ディスクを構成する環状ポリオレフィン系樹脂
としては、下記〜に示す重合体を挙げることができ
る。 下記一般式(I)で表される単量体(以下、「特定
単量体」という。)の開環重合体 特定単量体と共重合性単量体との開環共重合体 前記の開環(共)重合体の水素添加重合体 前記の開環(共)重合体をフリーデルクラフト
反応により環化した後、水素添加した(共)重合体 特定単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合
体 特定単量体、ビニル系環状炭化水素系単量体、シクロペ
ンタジエン系単量体から選ばれる1種以上の単量体の付
加型重合体およびその水素添加重合体
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, an optical molding material and an optical disk of the present invention will be described in detail. <Cyclic polyolefin resin> Examples of the cyclic polyolefin resin constituting the optical molding material and the optical disk of the present invention include the following polymers. Ring-opening polymer of monomer represented by the following general formula (I) (hereinafter, referred to as “specific monomer”) Ring-opening copolymer of specific monomer and copolymerizable monomer Hydrogenated polymer of ring-opened (co) polymer The above-mentioned ring-opened (co) polymer was cyclized by Friedel-Crafts reaction and then hydrogenated (co) polymer. Specific monomer and unsaturated double bond Saturated copolymer with compound-containing compound Addition polymer of one or more monomers selected from specific monomers, vinyl-based cyclic hydrocarbon-based monomers, and cyclopentadiene-based monomers, and hydrogenated polymers thereof

【0007】[0007]

【化1】 ・・・(I)Embedded image ... (I)

【0008】〔式中、R1 〜R4 は、それぞれ水素原
子、ハロゲン原子、炭素数1〜10の炭化水素基、また
はその他の1価の有機基であり、それぞれ同一であって
も異なっていてもよい。R1 とR2 またはR3 とR4
は、一体化して2価の炭化水素基を形成してもよく、R
1 またはR2 とR3 またはR4 とは互いに結合して、単
環または多環構造を形成してもよい。mは0または正の
整数であり、pは0または正の整数である。〕
[In the formula, R 1 to R 4 are each a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, or another monovalent organic group. You may. R 1 and R 2 or R 3 and R 4
May combine to form a divalent hydrocarbon group;
1 or R 2 and R 3 or R 4 may combine with each other to form a monocyclic or polycyclic structure. m is 0 or a positive integer, and p is 0 or a positive integer. ]

【0009】<特定単量体>好ましい特定単量体として
は、上記一般式(I)中、R1 およびR3 が水素原子ま
たは炭素数1〜10、好ましくは1〜4、さらに好まし
くは1〜2の炭化水素基であり、R2 およびR4 が水素
原子または一価の有機基であって、R2 およびR4 の少
なくとも一つは極性基を示し、mが0〜3の整数、pが
0〜3の整数であり、m+pが0〜4が好ましく、さら
に好ましくは0〜2、特に好ましくは1であるものを挙
げることができる。上記特定化合物の極性基としては、
ハロゲン、カルボキシル基、水酸基、アルキルエステル
基や芳香族エステル基などのエステル基、アミノ基、ア
ミド基、シアノ基、エーテル基、アシル基、シリルエー
テル基、チオエーテル基などが挙げられる。これらの中
では、カルボキシル基、エステル基が好ましく、特にア
ルキルエステル基が好ましい。また、特定単量体のう
ち、極性基が特に式−(CH2n COOR5 で表され
る特定の極性基を有する特定単量体は、得られる環状ポ
リオレフィン系樹脂が比較的に高いガラス転移温度と低
い吸湿性、各種材料との優れた密着性を有するものとな
る点で好ましい。上記の特定の極性基にかかる式におい
て、R5 は炭素原子数1〜12、好ましくは1〜4,さ
らに好ましくは1〜2の炭化水素基、好ましくはアルキ
ル基である。また、nは通常0〜5であるが、nの値が
小さいものほど、得られる環状ポリオレフィン系樹脂の
ガラス転移温度が高くなるので好ましく、更にnが0で
ある特定単量体は、その合成が容易である点で、また得
られる重合体がガラス転移温度の高いものとなる点で好
ましい。更に、上記一般式(I)においてR1 またはR
3 がアルキル基であることが好ましく、当該アルキル基
の炭素数は1〜4であることが好ましく、更に好ましく
は1〜2、特に好ましくは1である。特に、このアルキ
ル基が上記の式−(CH2n COOR5 で表される特
定の極性基が結合した炭素原子と同一の炭素原子に結合
されていることが好ましい。また、一般式(I)におい
てmが1である特定単量体は、ガラス転移温度の高い環
状ポリオレフィン系樹脂が得られる点で好ましい。
<Specific monomer> As a preferred specific monomer, in the above general formula (I), R 1 and R 3 are each a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 10, preferably 1 to 4, more preferably 1 to 4. R 2 and R 4 are a hydrogen atom or a monovalent organic group, at least one of R 2 and R 4 is a polar group, and m is an integer of 0 to 3, p is an integer of 0 to 3, and m + p is preferably 0 to 4, more preferably 0 to 2, and particularly preferably 1. As the polar group of the specific compound,
Examples thereof include ester groups such as halogen, carboxyl group, hydroxyl group, alkyl ester group and aromatic ester group, amino group, amide group, cyano group, ether group, acyl group, silyl ether group, and thioether group. Among these, a carboxyl group and an ester group are preferable, and an alkyl ester group is particularly preferable. Further, among the specific monomers, the specific monomer having a specific polar group represented by the formula — (CH 2 ) n COOR 5 in particular is a glass whose cyclic polyolefin-based resin obtained is relatively high. It is preferable because it has a transition temperature, low hygroscopicity, and excellent adhesion to various materials. In the formula according to specific polar group of the, R 5 is 1-12 carbon atoms, preferably 1 to 4, more preferably 1 to 2 hydrocarbon groups, preferably alkyl groups. In addition, n is usually from 0 to 5, and a smaller value of n is preferable because the glass transition temperature of the obtained cyclic polyolefin-based resin is higher. This is preferable in that the resulting polymer has a high glass transition temperature. Further, in the general formula (I), R 1 or R 1
3 is preferably an alkyl group, and the alkyl group preferably has 1 to 4 carbon atoms, more preferably 1 to 2, and particularly preferably 1. In particular, the alkyl group is the above formula - is preferably coupled to (CH 2) n COOR 5 in the same carbon atom and the carbon atom to which specific polar group bonded represented. Further, the specific monomer in which m is 1 in the general formula (I) is preferable in that a cyclic polyolefin-based resin having a high glass transition temperature can be obtained.

【0010】上記一般式(I)で表わされる特定単量体
の具体例としては、次のような化合物が挙げられる。ビ
シクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、トリシクロ
[5.2.1.02,6 ]−8−デセン、テトラシクロ
[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、ペン
タシクロ[6.5.1.13,6 .02,7 .09,13]−4
−ペンタデセン、ペンタシクロ[7.4.0.12,5
9,12.08,13]−3−ペンタデセン、トリシクロ
[4.4.0.12,5 ]−3−ウンデセン、5−メチル
ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−エチル
ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メトキ
シカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エ
ン、5−メチル−5−メトキシカルボニルビシクロ
[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−シアノビシクロ
[2.2.1]ヘプト−2−エン、8−メトキシカルボ
ニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3
−ドデセン、8−エトキシカルボニルテトラシクロ
[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、8−
n−プロポキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.
2,5 .17,10]−3−ドデセン、8−イソプロポキシ
カルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5
7,10]−3−ドデセン、8−n−ブトキシカルボニル
テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ド
デセン、8−メチル−8−メトキシカルボニルテトラシ
クロ[4.4.0.12,5 .1 7,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−エトキシカルボニルテトラシクロ
[4.4.0.12,5 .1 7,10]−3−ドデセン、8−
メチル−8−n−プロポキシカルボニルテトラシクロ
[4.4.0.12, 5 .17,10]−3−ドデセン、8−
メチル−8−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ
[4.4.0.12, 5 .17,10]−3−ドデセン、8−
メチル−8−n−ブトキシカルボニルテトラシクロ
[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、ジメ
タノオクタヒドロナフタレン、エチルテトラシクロドデ
セン、6−エチリデン−2−テトラシクロドデセン、ト
リメタノオクタヒドロナフタレン、ペンタシクロ[8.
4.0.12,5 .19,12.08,13]−3−ヘキサデセ
ン、ヘプタシクロ[8.7.0.13,6 .110,17 .1
12,15 .02,7 .011,16]−4−エイコセン、ヘプタ
シクロ[8.8.0.14,7 .111,18 .113,16 .0
3,8 .012,17]−5−ヘンエイコセン、5−エチリデ
ンビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、8−エチ
リデンテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−
3−ドデセン、5−フェニルビシクロ[2.2.1]ヘ
プト−2−エン、8−フェニルテトラシクロ[4.4.
0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、5−フルオロビ
シクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−フルオロ
メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−
トリフルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2
−エン、5−ペンタフルオロエチルビシクロ[2.2.
1]ヘプト−2−エン、5,5−ジフルオロビシクロ
[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジフルオロ
ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,5−ビ
ス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプ
ト−2−エン、5,6−ビス(トリフルオロメチル)ビ
シクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メチル−
5−トリフルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト
−2−エン、5,5,6−トリフルオロビシクロ[2.
2.1]ヘプト−2−エン、5,5,6−トリス(フル
オロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エ
ン、5,5,6,6−テトラフルオロビシクロ[2.
2.1]ヘプト−2−エン、5,5,6,6−テトラキ
ス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプ
ト−2−エン、5,5−ジフルオロ−6,6−ビス(ト
リフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2
−エン、5,6−ジフルオロ−5,6−ビス(トリフル
オロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エ
ン、5,5,6−トリフルオロ−5−トリフルオロメチ
ルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−フル
オロ−5−ペンタフルオロエチル−6,6−ビス(トリ
フルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−
エン、5,6−ジフルオロ−5−ヘプタフルオロ−is
o−プロピル−6−トリフルオロメチルビシクロ[2.
2.1]ヘプト−2−エン、5−クロロ−5,6,6−
トリフルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エ
ン、5,6−ジクロロ−5,6−ビス(トリフルオロメ
チル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,
5,6−トリフルオロ−6−トリフルオロメトキシビシ
クロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,5,6−ト
リフルオロ−6−ヘプタフルオロプロポキシビシクロ
[2.2.1]ヘプト−2−エン、8−フルオロテトラ
シクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセ
ン、8−フルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.1
2,5 .17,10]−3−ドデセン、8−ジフルオロメチル
テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ド
デセン、8−トリフルオロメチルテトラシクロ[4.
4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、8−ペンタ
フルオロエチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .1
7,10]−3−ドデセン、8,8−ジフルオロテトラシク
ロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,9−ジフルオロテトラシクロ[4.4.0.1
2,5 .17,10]−3−ドデセン、8,8−ビス(トリフ
ルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .1
7,10]−3−ドデセン、8,9−ビス(トリフルオロメ
チル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .1 7,10]−
3−ドデセン、8−メチル−8−トリフルオロメチルテ
トラシクロ[4.4.0.12,5 .1 7,10]−3−ドデ
セン、8,8,9−トリフルオロテトラシクロ[4.
4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、8,8,9
−トリス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.
4.0.12, 5 .17,10]−3−ドデセン、8,8,
9,9−テトラフルオロテトラシクロ[4.4.0.1
2,5 .17,10]−3−ドデセン、8,8,9,9−テト
ラキス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.
0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、8,8−ジフル
オロ−9,9−ビス(トリフルオロメチル)テトラシク
ロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,9−ジフルオロ−8,9−ビス(トリフルオロメチ
ル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3
−ドデセン、8,8,9−トリフルオロ−9−トリフル
オロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5
7,10]−3−ドデセン、8,8,9−トリフルオロ−
9−トリフルオロメトキシテトラシクロ[4.4.0.
2,5 .17,10]−3−ドデセン、8,8,9−トリフ
ルオロ−9−ペンタフルオロプロポキシテトラシクロ
[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、8−
フルオロ−8−ペンタフルオロエチル−9,9−ビス
(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.1
2,5 .17,10]−3−ドデセン、8,9−ジフルオロ−
8−ヘプタフルオロiso−プロピル−9−トリフルオ
ロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10
−3−ドデセン、8−クロロ−8,9,9−トリフルオ
ロテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−
ドデセン、8,9−ジクロロ−8,9−ビス(トリフル
オロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .1
7,10]−3−ドデセン、8−(2,2,2−トリフルオ
ロエトキシカルボニル)テトラシクロ[4.4.0.1
2,5 .17,10]−3−ドデセン、8−メチル−8−
(2,2,2−トリフルオロエトキシカルボニル)テト
ラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセ
ンなどを挙げることができる。
The specific monomer represented by the above general formula (I)
The following compounds may be mentioned as specific examples. Bi
Cyclo [2.2.1] hept-2-ene, tricyclo
[5.2.1.02,6 ] -8-decene, tetracyclo
[4.4.0.12,5 . 17,10] -3-Dodecene, pen
Tacyclo [6.5.1.13,6 . 02,7 . 09,13] -4
-Pentadecene, pentacyclo [7.4.0.12,5 .
19,12. 08,13] -3-pentadecene, tricyclo
[4.4.0.12,5 ] -3-undecene, 5-methyl
Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-ethyl
Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-methoxy
Cycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-e
5-methyl-5-methoxycarbonylbicyclo
[2.2.1] Hept-2-ene, 5-cyanobicyclo
[2.2.1] Hept-2-ene, 8-methoxycarbo
Nyltetracyclo [4.4.0.12,5 . 17,10] -3
-Dodecene, 8-ethoxycarbonyltetracyclo
[4.4.0.12,5 . 17,10] -3-dodecene, 8-
n-propoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.
12,5 . 17,10] -3-dodecene, 8-isopropoxy
Carbonyltetracyclo [4.4.0.12,5 .
17,10] -3-dodecene, 8-n-butoxycarbonyl
Tetracyclo [4.4.0.12,5 . 17,10] -3-do
Decene, 8-methyl-8-methoxycarbonyltetracy
Black [4.4.0.12,5 . 1 7,10-3-dodecene,
8-methyl-8-ethoxycarbonyltetracyclo
[4.4.0.12,5 . 1 7,10] -3-dodecene, 8-
Methyl-8-n-propoxycarbonyltetracyclo
[4.4.0.12, Five . 17,10] -3-dodecene, 8-
Methyl-8-isopropoxycarbonyltetracyclo
[4.4.0.12, Five . 17,10] -3-dodecene, 8-
Methyl-8-n-butoxycarbonyltetracyclo
[4.4.0.12,5. 17,10] -3-dodecene, dime
Tanooctahydronaphthalene, ethyl tetracyclodode
Sen, 6-ethylidene-2-tetracyclododecene,
Limethanooctahydronaphthalene, pentacyclo [8.
4.0.1.2,5 . 19,12. 08,13] -3-Hexadece
Heptacyclo [8.7.0.13,6 . 110,17 . 1
12,15 . 02,7 . 011,16-4-Eicosene, hepta
Cyclo [8.8.0.14,7 . 111,18 . 113,16 . 0
3,8 . 012,17] -5-Hen-eicosene, 5-ethylidene
Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 8-ethyl
Lidentetracyclo [4.4.0.12,5 . 17,10]-
3-dodecene, 5-phenylbicyclo [2.2.1]
Put-2-ene, 8-phenyltetracyclo [4.4.
0.12,5 . 17,10] -3-dodecene, 5-fluorobi
Cyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-fluoro
Methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-
Trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2
-Ene, 5-pentafluoroethylbicyclo [2.2.
1] Hept-2-ene, 5,5-difluorobicyclo
[2.2.1] Hept-2-ene, 5,6-difluoro
Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,5-bi
(Trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hep
To-2-ene, 5,6-bis (trifluoromethyl) bi
Cyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-methyl-
5-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept
-2-ene, 5,5,6-trifluorobicyclo [2.
2.1] Hept-2-ene, 5,5,6-tris (full
Oromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-e
5,5,6,6-tetrafluorobicyclo [2.
2.1] Hept-2-ene, 5,5,6,6-tetraki
(Trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hep
To-2-ene, 5,5-difluoro-6,6-bis (to
(Fluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2
-Ene, 5,6-difluoro-5,6-bis (trifur
Oromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-e
, 5,5,6-trifluoro-5-trifluoromethyl
Rubicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-fur
Oro-5-pentafluoroethyl-6,6-bis (tri
Fluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-
Ene, 5,6-difluoro-5-heptafluoro-is
o-propyl-6-trifluoromethylbicyclo [2.
2.1] Hept-2-ene, 5-chloro-5,6,6-
Trifluorobicyclo [2.2.1] hept-2-e
, 5,6-dichloro-5,6-bis (trifluorome
Tyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,
5,6-trifluoro-6-trifluoromethoxybis
Black [2.2.1] hept-2-ene, 5,5,6-to
Trifluoro-6-heptafluoropropoxybicyclo
[2.2.1] Hept-2-ene, 8-fluorotetra
Cyclo [4.4.0.12,5 . 17,10] -3-Dodece
8-fluoromethyltetracyclo [4.4.0.1
2,5 . 17,10] -3-dodecene, 8-difluoromethyl
Tetracyclo [4.4.0.12,5 . 17,10] -3-do
Decene, 8-trifluoromethyltetracyclo [4.
4.0.1.2,5 . 17,10] -3-dodecene, 8-pentane
Fluoroethyltetracyclo [4.4.0.12,5 . 1
7,10] -3-dodecene, 8,8-difluorotetracycline
B [4.4.0.12,5 . 17,10-3-dodecene,
8,9-difluorotetracyclo [4.4.0.1
2,5 . 17,10] -3-dodecene, 8,8-bis (trif
Fluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.12,5 . 1
7,10] -3-Dodecene, 8,9-bis (trifluorome
Tyl) tetracyclo [4.4.0.12,5 . 1 7,10]-
3-dodecene, 8-methyl-8-trifluoromethyl
Toracyclo [4.4.0.12,5 . 1 7,10] -3-Dode
Sen, 8,8,9-trifluorotetracyclo [4.
4.0.1.2,5 . 17,10] -3-dodecene, 8,8,9
-Tris (trifluoromethyl) tetracyclo [4.
4.0.1.2, Five . 17,10-3-dodecene, 8,8,
9,9-tetrafluorotetracyclo [4.4.0.1
2,5 . 17,10] -3-dodecene, 8,8,9,9-tetra
Laquis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.
0.12,5 . 17,10] -3-dodecene, 8,8-diflu
Oro-9,9-bis (trifluoromethyl) tetracycl
B [4.4.0.12,5 . 17,10-3-dodecene,
8,9-difluoro-8,9-bis (trifluoromethyl
Le) tetracyclo [4.4.0.12,5 . 17,10] -3
-Dodecene, 8,8,9-trifluoro-9-trifur
Oromethyltetracyclo [4.4.0.12,5 .
17,10] -3-dodecene, 8,8,9-trifluoro-
9-trifluoromethoxytetracyclo [4.4.0.
12,5 . 17,10] -3-dodecene, 8,8,9-triff
Fluoro-9-pentafluoropropoxytetracyclo
[4.4.0.12,5 . 17,10] -3-dodecene, 8-
Fluoro-8-pentafluoroethyl-9,9-bis
(Trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1
2,5 . 17,10] -3-dodecene, 8,9-difluoro-
8-heptafluoroiso-propyl-9-trifluoro
Romethyltetracyclo [4.4.0.12,5 . 17,10]
-3-dodecene, 8-chloro-8,9,9-trifluoro
Rotetracyclo [4.4.0.12,5 . 17,10] -3-
Dodecene, 8,9-dichloro-8,9-bis (triflu
(Oromethyl) tetracyclo [4.4.0.12,5 . 1
7,10] -3-dodecene, 8- (2,2,2-trifluoro)
Roethoxycarbonyl) tetracyclo [4.4.0.1
2,5 . 17,10] -3-dodecene, 8-methyl-8-
(2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl) tetra
Lacyclo [4.4.0.12,5 . 17,10] -3-Dodece
And the like.

【0011】これらの特定単量体のうち、8−メチル−
8−メトキシカルボニルテトラシクロ〔4.4.0.1
2,5 .17,10〕−3−ドデセン、8−エチリデンテトラ
シクロ〔4.4.0.12,5 .17,10〕−3−ドデセ
ン、8−エチルテトラシクロ〔4.4.0.12,5 .1
7,10〕−3−ドデセン、ペンタシクロ〔7.4.0.1
2, 5 .19,12.08,13〕−3−ペンタデセン(以下「特
定単量体A」という。)は、最終的に得られる光学用成
形材料および光ディスクの光学特性ならびに成形加工性
と耐熱性が一段と優れたものとなる点で好ましい。
Among these specific monomers, 8-methyl-
8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1
2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene, 8-ethylidenetetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene, 8-ethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1
7,10 ] -3-dodecene, pentacyclo [7.4.0.1
2, 5 . 19,12 . 0 8,13 ] -3-pentadecene (hereinafter, referred to as “specific monomer A”) is a material which is more excellent in optical properties, moldability and heat resistance of an optical molding material and an optical disk finally obtained. This is preferred.

【0012】一方、これらの特定単量体のうち、ビシク
ロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メチルビシク
ロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−エチルビシク
ロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メトキシカル
ボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−
メチル−5−メトキシカルボニルビシクロ[2.2.
1]ヘプト−2−エン、5−エチリデンビシクロ[2.
2.1]ヘプト−2−エン、5−フェニルビシクロ
[2.2.1]ヘプト−2−エン(以下「特定単量体
B」という。)の1種または1種以上と、上記特定単量
体Aの1種または1種以上とを開環共重合させたもの
は、最終的に得られる光ディスクの光学特性ならびに靭
性、成形性、転写性が一段と優れたものとなる点で好ま
しい。このとき、「特定単量体A/特定単量体B(重量
比)」が、100/0〜50/50であることが好まし
く、更に好ましくは100/0〜60/40、最も好ま
しくは100/0〜70/30となる割合で用いられ
る。
On the other hand, among these specific monomers, bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene and 5-ethylbicyclo [ 2.2.1] Hept-2-ene, 5-methoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-
Methyl-5-methoxycarbonylbicyclo [2.2.
1] Hept-2-ene, 5-ethylidenebicyclo [2.
2.1] hept-2-ene, 5-phenylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene (hereinafter, referred to as “specific monomer B”) or one or more of the above specific units Those obtained by ring-opening copolymerization with one or more of the monomers A are preferable in that the optical properties and toughness, moldability, and transferability of the finally obtained optical disc are further improved. At this time, the “specific monomer A / specific monomer B (weight ratio)” is preferably 100/0 to 50/50, more preferably 100/0 to 60/40, and most preferably 100/0 to 60/40. / 0 to 70/30.

【0013】<共重合性単量体>本発明の環状ポリオレ
フィン系樹脂を得るための開環重合工程においては、上
記の特定単量体を単独で開環重合させてもよいが、当該
特定単量体と共重合性単量体とを開環共重合させてもよ
い。この場合に使用される共重合性単量体の具体例とし
ては、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテ
ン、シクロオクテン、トリシクロ[5.2.1.0
2, 6 ]−3−デセン、5−エチリデン−2−ノルボルネ
ン、ジシクロペンタジエンなどのシクロオレフィンを挙
げることができる。シクロオレフィンの炭素数として
は、4〜20が好ましく、更に好ましくは5〜12であ
る。更にポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレン−
ブタジエン共重合体、エチレン−非共役ジエン共重合
体、ポリノルボルネンなどの主鎖に炭素−炭素間二重結
合を含む不飽和炭化水素系ポリマーなどの存在下に特定
単量体を開環重合させてもよい。そして、この場合に得
られる開環共重合体は、そのままでも用いられるが、こ
れをさらに水素添加して得られた水素添加物は、耐衝撃
性の大きい樹脂の原料として有用である。これらの共重
合性単量体は、「特定単量体/共重合性単量体(重量
比)」が、100/0〜50/50であることが好まし
く、更に好ましくは100/0〜60/40となる割合
で用いられる。そして、この場合に得られる開環重合体
の水素添加物は、耐衝撃性の大きい樹脂の原料として有
用である。
<Copolymerizable Monomer> In the ring-opening polymerization step for obtaining the cyclic polyolefin-based resin of the present invention, the above-mentioned specific monomer may be subjected to ring-opening polymerization alone. The monomer and the copolymerizable monomer may be subjected to ring-opening copolymerization. Specific examples of the copolymerizable monomer used in this case include cyclobutene, cyclopentene, cycloheptene, cyclooctene, tricyclo [5.2.1.0.
2, 6] -3-decene, 5-ethylidene-2-norbornene, it can be mentioned cycloolefins such as dicyclopentadiene. The carbon number of the cycloolefin is preferably from 4 to 20, and more preferably from 5 to 12. Furthermore, polybutadiene, polyisoprene, styrene
Ring-opening polymerization of a specific monomer in the presence of an unsaturated hydrocarbon-based polymer containing a carbon-carbon double bond in the main chain such as butadiene copolymer, ethylene-non-conjugated diene copolymer, and polynorbornene You may. The ring-opened copolymer obtained in this case can be used as it is, but a hydrogenated product obtained by further hydrogenating the copolymer is useful as a raw material for a resin having high impact resistance. In these copolymerizable monomers, the “specific monomer / copolymerizable monomer (weight ratio)” is preferably from 100/0 to 50/50, and more preferably from 100/0 to 60/50. / 40. The hydrogenated product of the ring-opening polymer obtained in this case is useful as a raw material for a resin having high impact resistance.

【0014】<飽和共重合体を構成する不飽和二重結合
含有化合物>飽和共重合体よりなる環状ポリオレフィン
系樹脂を得るために、前記特定単量体と共に使用される
不飽和二重結合含有化合物としては、例えばエチレン、
プロピレン、ブテンなど好ましくは炭素数2〜12、さ
らに好ましくは2〜8のオレフィン系化合物を挙げるこ
とができる。これらの不飽和二重結合含有化合物は、
「特定単量体/不飽和二重結合含有化合物(重量比)」
が、90/10〜40/60が好ましく、更に好ましく
は85/15〜50/50となる割合で用いられる。
<Unsaturated Double Bond-Containing Compound Constituting Saturated Copolymer> Unsaturated double bond-containing compound used together with the above-mentioned specific monomer in order to obtain a cyclic polyolefin resin composed of a saturated copolymer. As, for example, ethylene,
Olefinic compounds having preferably 2 to 12 carbon atoms, more preferably 2 to 8 carbon atoms, such as propylene and butene, can be mentioned. These unsaturated double bond-containing compounds are:
"Specific monomer / unsaturated double bond-containing compound (weight ratio)"
However, the ratio is preferably 90/10 to 40/60, and more preferably 85/15 to 50/50.

【0015】<シクロペンタジエン系単量体>本発明の
付加型重合体の単量体に使用されるシクロペンタジエン
系単量体としては例えば、シクロペンタジエン、1−メ
チルシクロペンタジエン、2−メチルシクロペンタジエ
ン、2−エチルシクロペンタジエン、5−メチルシクロ
ペンタジエン、5,5−メチルシクロペンタジエンなど
が挙げられる。
<Cyclopentadiene-based monomer> Examples of the cyclopentadiene-based monomer used in the addition polymer monomer of the present invention include cyclopentadiene, 1-methylcyclopentadiene, and 2-methylcyclopentadiene. , 2-ethylcyclopentadiene, 5-methylcyclopentadiene, 5,5-methylcyclopentadiene and the like.

【0016】<ビニル化環状炭化水素系単量体>本発明
の付加型重合体の単量体に使用されるビニル化環状炭化
水素系単量体としては例えば、4−ビニルシクロペンテ
ン、2−メチルー4−イソプロペニルシクロペンテンな
どのビニルシクロペンテン系単量体、4−ビニルシクロ
ペンタン、4−イソプロペニルシクロペンタンなどのビ
ニルシクロペンタン系単量体などのビニル化5員環炭化
水素系単量体、4−ビニルシクロヘキセン、4−イソプ
ロペニルシクロヘキセン、1−メチル−4−イソプロペ
ニルシクロヘキセン、2−メチル−4−ビニルシクロヘ
キセン、2−メチル−4−イソプロペニルシクロヘキセ
ンなどのビニルシクロヘキセン系単量体、4−ビニルシ
クロヘキサン、2−メチル−4−イソプロペニルシクロ
ヘキサンなどのビニルシクロヘキサン系単量体、スチレ
ン、α―メチルスチレン、2−メチルスチレン、3−メ
チルスチレン、4−メチルスチレン、1−ビニルナフタ
レン、2−ビニルナフタレン、4−フェニルスチレン、
p−メトキシスチレン等のスチレン系単量体、d−テル
ペン、1−テルペン、ジテルペン、d−リモネン、1−
リモネン、ジペンテン等のテルペン系単量体、4−ビニ
ルシクロヘプテン、4−イソプロペニルシクロヘプテン
等のビニルシクロヘプテン系単量体、4−ビニルシクロ
ヘプタン、4−イソプロペニルシクロヘプタン等のビニ
ルシクロヘプタン系単量体などが挙げられる。
<Vinylated Cyclic Hydrocarbon Monomer> Examples of the vinylated cyclic hydrocarbon monomer used for the monomer of the addition polymer of the present invention include, for example, 4-vinylcyclopentene, 2-methyl- 5-membered ring hydrocarbon monomers such as vinylcyclopentene monomers such as 4-isopropenylcyclopentene, and vinylcyclopentane monomers such as 4-vinylcyclopentane and 4-isopropenylcyclopentane; Vinylcyclohexene monomers such as -vinylcyclohexene, 4-isopropenylcyclohexene, 1-methyl-4-isopropenylcyclohexene, 2-methyl-4-vinylcyclohexene, 2-methyl-4-isopropenylcyclohexene, 4-vinyl Bihexane such as cyclohexane and 2-methyl-4-isopropenylcyclohexane Le cyclohexane monomer, styrene, alpha-methyl styrene, 2-methylstyrene, 3-methylstyrene, 4-methylstyrene, 1-vinylnaphthalene, 2-vinylnaphthalene, 4-phenyl styrene,
Styrene monomers such as p-methoxystyrene, d-terpene, 1-terpene, diterpene, d-limonene, 1-
Terpene monomers such as limonene and dipentene; vinylcycloheptene monomers such as 4-vinylcycloheptene and 4-isopropenylcycloheptene; 4-vinylcycloheptane and 4-isopropenylcycloheptane; And vinylcycloheptane-based monomers.

【0017】<固有粘度>本発明で用いられる環状ポリ
オレフィン系樹脂の30℃のクロロホルム中で測定した
固有粘度(ηinh )は、0.2〜5.0dl/gである
ことが好ましく、さらに好ましくは0.3〜3.0dl
/g、特に好ましくは0.4〜1.0dl/g、最も好
ましくは0.4〜0.7dl/gである。固有粘度(η
inh )を本範囲内とすることで、靭性、成形性、レター
デーション特性が一段と良好な環状ポリオレフィン系樹
脂となる。
<Intrinsic Viscosity> The intrinsic viscosity (ηinh) of the cyclic polyolefin resin used in the present invention measured in chloroform at 30 ° C. is preferably 0.2 to 5.0 dl / g, more preferably. 0.3-3.0dl
/ G, particularly preferably 0.4 to 1.0 dl / g, most preferably 0.4 to 0.7 dl / g. Intrinsic viscosity (η
By setting inh) within this range, a cyclic polyolefin-based resin having more excellent toughness, moldability and retardation characteristics can be obtained.

【0018】<分子量>また本発明の環状ポリオレフィ
ン系樹脂の分子量としては、ゲルパーミエーションクロ
マトグラフィー(GPC)分析により測定したポリスチ
レン換算の数平均分子量(Mn)が好ましくは10,0
00以上50,000以下、さらに好ましくは12,0
00以上30,000以下、特に好ましくは15,00
0以上25,000以下であり、重量平均分子量(M
w)が好ましくは20,000以上250,000以
下、さらに好ましくは24,000以上150,000
以下、特に好ましくは30,000以上125,000
以下の範囲であって、その分子量分布(Mw/Mn)は
好ましくは2.0以上5.0以下、さらに好ましくは
2.5以上5.0以下、特に好ましくは2.5を超え
4.0以下であり、分子量5000以下の割合が、好ま
しくは15%以下、さらに好ましくは10%以下、特に
好ましくは5%以下であり、分子量300000以上の
割合が、好ましくは15%以下、さらに好ましくは10
%以下、特に好ましくは5%以下である。ここで各割合
は、GPC測定チャートにおいて横軸を分子量としたと
きのチャートエリア面積(積分値)に相当する。Mnお
よびMwを上記範囲とすることで、靭性が強く十分な強
度をもつ光ディスクおよび光学部品になるとともに、複
屈折(レターデーション)が小さくなり良好な光学特性
を有しやすくなることから好ましい。また、分子量分布
(Mw/Mn)を本範囲内とすることで、靭性が強く十
分な強度をもつ光ディスクおよび光学部品となりやす
く、複屈折(レターデーション)が一段と小さくなり良
好な光学特性を有しやすくなることから好ましい。さら
に、分子量5000以下の成分の割合が15%を超える
と、靭性を低下させるとともに、連続成形中に該成分が
金型内に析出して成形品特性を低下させ、一方、分子量
300000以上の割合が15%を超えると成形品の複
屈折が大きくなることから好ましくない。特に、特定単
量体Aと特定単量体Bとの開環共重合体においては、M
n、MwおよびMw/Mnを上記範囲内とすることで、
レターデーション(複屈折)の光波長依存性が一段と小
さな光ディスクおよび光学部品を与える良好な環状ポリ
オレフィン系樹脂となる。
<Molecular Weight> The molecular weight of the cyclic polyolefin resin of the present invention is preferably a number average molecular weight (Mn) in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) analysis of preferably 10.0 or less.
00 or more and 50,000 or less, more preferably 12.0 or less.
Not less than 00 and not more than 30,000, particularly preferably 15,000.
0 to 25,000 and a weight average molecular weight (M
w) is preferably from 20,000 to 250,000, more preferably from 24,000 to 150,000.
Or less, particularly preferably 30,000 or more and 125,000.
Within the following range, the molecular weight distribution (Mw / Mn) is preferably 2.0 or more and 5.0 or less, more preferably 2.5 or more and 5.0 or less, and particularly preferably more than 2.5 and 4.0. Or less, and the proportion having a molecular weight of 5,000 or less is preferably 15% or less, more preferably 10% or less, particularly preferably 5% or less, and the proportion having a molecular weight of 300,000 or more is preferably 15% or less, more preferably 10% or less.
% Or less, particularly preferably 5% or less. Here, each ratio corresponds to the chart area area (integral value) when the horizontal axis is the molecular weight in the GPC measurement chart. By setting Mn and Mw within the above ranges, it is preferable because an optical disk and an optical component having high toughness and sufficient strength can be obtained, and birefringence (retardation) can be reduced and good optical characteristics can be easily obtained. Further, by setting the molecular weight distribution (Mw / Mn) within this range, an optical disk and an optical component having high toughness and sufficient strength can be easily obtained, and birefringence (retardation) is further reduced, and excellent optical characteristics are obtained. It is preferable because it becomes easy. Further, when the proportion of the component having a molecular weight of 5,000 or less exceeds 15%, the toughness is reduced, and the component is precipitated in a mold during continuous molding to deteriorate the properties of a molded product. Exceeds 15%, the birefringence of the molded article increases, which is not preferable. In particular, in the ring-opening copolymer of the specific monomer A and the specific monomer B, M
By setting n, Mw and Mw / Mn within the above ranges,
It is a good cyclic polyolefin-based resin that provides an optical disk and an optical component having much smaller wavelength dependence of retardation (birefringence).

【0019】<ガラス転移温度(Tg)>また本発明の
環状ポリオレフィン系樹脂のガラス転移温度(Tg)と
しては、100℃以上200℃以下、好ましくは120
℃以上170℃以下、特に好ましくは130℃以上15
0℃以下であることが必要である。Tgが上記範囲より
も小さいと十分な耐熱性が得られず、一方この範囲より
大きいと成形加工性が著しく低下してしまう。特に、特
定単量体Aと特定単量体Bとの開環共重合体において
は、組成比を変えることによりTgを上記温度範囲内と
することで、靭性と成形性とのバランスが良く、レター
デーションの光波長依存性が一段と小さな光ディスクお
よび光学部品を与える良好な環状ポリオレフィン系樹脂
となる。
<Glass Transition Temperature (Tg)> The glass transition temperature (Tg) of the cyclic polyolefin resin of the present invention is 100 ° C. or more and 200 ° C. or less, preferably 120 ° C. or less.
° C to 170 ° C, particularly preferably 130 ° C to 15
It is necessary that the temperature be 0 ° C. or less. If Tg is smaller than the above range, sufficient heat resistance cannot be obtained, while if Tg is larger than this range, moldability will be significantly reduced. In particular, in the ring-opening copolymer of the specific monomer A and the specific monomer B, by changing the composition ratio to keep Tg within the above temperature range, the balance between toughness and moldability is good, It is a good cyclic polyolefin-based resin that provides an optical disk and an optical component whose retardation has a much smaller wavelength dependence on light.

【0020】さらに本発明の環状ポリオレフィン系樹脂
のゲル含有量は好ましくは0.1重量%以下、さらに好
ましくは0.05重量%以下、特に好ましくは0.01
重量%以下、最も好ましくは0.001重量%以下であ
る。ゲル含有量が上記範囲以上であると、成形時にシル
バーストリークを発生しやすくなり、上記範囲内とする
ことで成形時のシルバーストリークの発生を抑えること
ができ、高歩留まりで製品を得ることが可能となる。
Further, the gel content of the cyclic polyolefin resin of the present invention is preferably 0.1% by weight or less, more preferably 0.05% by weight or less, particularly preferably 0.01% by weight or less.
% By weight, most preferably 0.001% by weight or less. When the gel content is more than the above range, silver streaks tend to occur during molding, and when the gel content is within the above range, occurrence of silver streaks during molding can be suppressed, and a product can be obtained with a high yield. Becomes

【0021】また、本発明の光学用成形材料の加熱によ
る揮発成分量は、成形のための乾燥をした後に成形時の
実質的な温度である360℃に加熱した場合の前後の重
量変化が、好ましくは0.3重量%以下、さらに好まし
くは0.1重量%以下、最も好ましくは0.05重量%
以下にすることが望ましい。揮発成分量を本範囲にする
ことで、より一層シルバーストリークが発生しにくくな
る。
The amount of volatile components of the optical molding material of the present invention due to heating is determined by the change in weight before and after heating to 360 ° C., which is a substantial temperature during molding, after drying for molding. Preferably not more than 0.3% by weight, more preferably not more than 0.1% by weight, most preferably 0.05% by weight
It is desirable to make the following. By setting the amount of the volatile component in this range, silver streaks are more unlikely to occur.

【0022】本発明の環状ポリオレフィン系樹脂には、
上記以外の樹脂成分として炭化水素樹脂、ポリスチレン
オリゴマー、ロジン樹脂が含有されていてもよく、これ
らの樹脂成分によって得られる樹脂組成物の流動性を改
良することができる。このとき、他の樹脂成分の含有量
としては、環状ポリオレフィン系樹脂100重量部あた
り、通常0.01〜60重量部とされ、好ましくは0.
1〜30重量部とされる。
The cyclic polyolefin resin of the present invention includes
A hydrocarbon resin, a polystyrene oligomer, or a rosin resin may be contained as a resin component other than the above, and the fluidity of a resin composition obtained with these resin components can be improved. At this time, the content of the other resin component is usually 0.01 to 60 parts by weight, preferably 0.1 to 60 parts by weight, per 100 parts by weight of the cyclic polyolefin resin.
It is 1 to 30 parts by weight.

【0023】これらの他の樹脂成分は、常温で固体のも
のであって、ポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)
が20,000以下、好ましくは200〜20,000
ものであることが好ましい。ここで、これらのポリスチ
レン換算重量平均分子量が過大であると、環状ポリオレ
フィン系樹脂との相溶性が悪くなり透明性が低減するの
で好ましくない。また、常温で液状の炭化水素樹脂を用
いると、得られる環状ポリオレフィン系樹脂の機械的強
度が低下し、しかも成形品の表面にブリードするので好
ましくない。
These other resin components are solid at room temperature and have a weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene.
Is 20,000 or less, preferably 200 to 20,000
Preferably, it is Here, if the weight average molecular weight in terms of polystyrene is too large, the compatibility with the cyclic polyolefin-based resin becomes poor, and the transparency is undesirably reduced. Use of a hydrocarbon resin that is liquid at room temperature is not preferred because the mechanical strength of the resulting cyclic polyolefin-based resin decreases and bleeds on the surface of the molded article.

【0024】かかる炭化水素樹脂としては、C5 系樹
脂、C9 系樹脂、C5 系/C9 系混合樹脂、シクロペン
タジエン系樹脂、ビニル置換芳香族系化合物の重合体系
樹脂、オレフィン/ビニル置換芳香族系化合物の共重合
体系樹脂、シクロペンタジエン系化合物/ビニル置換芳
香族系化合物の共重合体系樹脂、前記樹脂の水素添加物
水素添加物などを挙げることができる。
Examples of the hydrocarbon resin include a C 5 resin, a C 9 resin, a C 5 / C 9 mixed resin, a cyclopentadiene resin, a polymer resin of a vinyl-substituted aromatic compound, and an olefin / vinyl substitution resin. Copolymer resins of aromatic compounds, copolymer resins of cyclopentadiene compounds / vinyl-substituted aromatic compounds, hydrogenated products of the resins, and hydrogenated products of the resins can be exemplified.

【0025】ロジン樹脂としては、例えばアピエチン
酸、ピマル酸などと、その誘導体としての水添体、不均
化体、重合体、エステル化体などが挙げられる。
The rosin resin includes, for example, apietic acid, pimaric acid and the like, and derivatives thereof such as hydrogenated products, disproportionated products, polymers and esterified products.

【0026】本発明に使用される環状ポリオレフィン系
樹脂には、機械的性質を向上させる目的で、ガラス繊
維、炭素繊維、金属繊維、金属フレーク、ガラスビー
ズ、ワラストナイト、ロックフィラー、炭酸カルシウ
ム、タルク、シリカ、マイカ、ガラスフレーク、ミルド
ファイバー、カオリン、硫酸バリウム、黒鉛、二硫化モ
リブデン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛ウィスカー、チ
タン酸カリウムウィスカーなどの充填材を、単独で用い
ても、あるいは2種以上を混合しても用いることもでき
る。
The cyclic polyolefin resin used in the present invention contains, for the purpose of improving mechanical properties, glass fiber, carbon fiber, metal fiber, metal flake, glass beads, wollastonite, rock filler, calcium carbonate, Fillers such as talc, silica, mica, glass flakes, milled fiber, kaolin, barium sulfate, graphite, molybdenum disulfide, magnesium oxide, zinc oxide whiskers, potassium titanate whiskers can be used alone or in combination of two or more. Can be used even if they are mixed.

【0027】また、本発明に使用される環状ポリオレフ
ィン系樹脂には、公知の難燃剤、抗菌剤、木粉、カップ
リング剤、酸化防止剤、可塑剤、着色剤、滑剤、シリコ
ンオイル、発泡剤などの添加剤を配合することもでき
る。
The cyclic polyolefin resin used in the present invention includes known flame retardants, antibacterial agents, wood flour, coupling agents, antioxidants, plasticizers, coloring agents, lubricants, silicone oil, foaming agents. Additives such as can be added.

【0028】上記の他の樹脂成分、充填材、添加剤等を
本発明の環状ポリオレフィン系樹脂に配合する場合には
公知の方法を用いられる。例えば、 二軸押出機、ロール混練機などを用いて混合すること
によりペレット状の樹脂組成物を得る方法、 溶液の状態にして混合し、溶媒を除去することにより
樹脂を得る方法を挙げることができる。
In the case where the other resin components, fillers, additives and the like are blended in the cyclic polyolefin resin of the present invention, a known method is used. For example, a method of obtaining a resin composition in the form of a pellet by mixing using a twin-screw extruder, a roll kneader, or the like, and a method of obtaining a resin by mixing in a solution state and removing the solvent. it can.

【0029】前記の製造方法においては、例えばバン
バリーミキサー、ニーダー、ロール、フィーダールーダ
ーなどの溶融混練機を用いることができる。混練り温度
は、好ましくは100〜350℃、更に好ましくは15
0〜300℃である。また、各成分を混練りするに際し
ては、各成分を一括して混練りしても数回に分けて添加
しながら混練りしてもよい。
In the above-mentioned production method, for example, a melt kneader such as a Banbury mixer, a kneader, a roll, a feeder ruder or the like can be used. The kneading temperature is preferably 100 to 350 ° C., and more preferably 15 to
0-300 ° C. When kneading the components, the components may be kneaded at once or may be kneaded while being added in several portions.

【0030】<光ディスク>本発明の光ディスクに使用
される光ディスク基板は、上記の環状ポリオレフィン系
樹脂を公知の成形手段、例えば射出成形法、圧縮成形
法、押出成形法などを用いて作製することができるが、
好適には射出成形、特に射出圧縮成形により作製するの
が好ましい。
<Optical Disk> The optical disk substrate used for the optical disk of the present invention can be produced from the above-mentioned cyclic polyolefin resin by a known molding method, for example, an injection molding method, a compression molding method, an extrusion molding method or the like. You can,
It is preferable to produce by injection molding, especially injection compression molding.

【0031】本発明の光学用材料を用いて、射出成形に
より成形性、透明性、レターデーション(複屈折)、靭
性、反り、転写性、寸法安定性などにおいて優れた光デ
ィスク基板を得るためには、成形時のシリンダー温度を
好ましくは260〜370℃、さらに好ましくは280
〜360℃、特に好ましくは300〜360℃で、金型
温度を好ましくは80〜130℃、さらに好ましくは9
0〜130℃、特に好ましくは100〜130℃で、射
出速度(全射出ストロークに対する平均値:以下同じ)
を好ましくは60〜300mm/秒、さらに好ましくは
80〜300mm/秒、特に好ましくは100〜300
mm/秒の範囲で組み合わせることが望ましい。
In order to obtain an optical disk substrate excellent in moldability, transparency, retardation (birefringence), toughness, warpage, transferability, dimensional stability, etc. by injection molding using the optical material of the present invention. The cylinder temperature during molding is preferably 260 to 370 ° C, more preferably 280 ° C.
To 360 ° C, particularly preferably 300 to 360 ° C, and the mold temperature is preferably 80 to 130 ° C, more preferably 9 to
Injection speed at 0 to 130 ° C, particularly preferably 100 to 130 ° C (average value over the entire injection stroke: the same applies hereinafter)
Is preferably from 60 to 300 mm / sec, more preferably from 80 to 300 mm / sec, and particularly preferably from 100 to 300 mm / sec.
It is desirable to combine them in the range of mm / sec.

【0032】ここで、射出速度は成形時の光学用材料の
溶融粘度に与える影響が比較的に大きなことから、光デ
ィスク基板特性を大きく左右する因子となり得る。射出
成形時の光学用材料の溶融粘度は、射出速度と金型/成
形機ノズルの形状によって与えられるせん断速度(γ)
に大きく影響を受け、金型/成形機ノズルの形状により
各部分のせん断速度(壁面での最大値)は下記の式で計
算することができる。 (イ)形状が長方形(スリット状)の場合: γ=6Q/WH2 [ここで、Qは単位時間あたりの流量(cm3/秒)、
Wは流路部の幅(cm)、Hは流路部の厚み(cm)を
表す] (ロ)形状が円形(円管状)の場合: γ=4Q/πR3 [ここで、Qは前記に同じ、Rは半径(cm)を表す]
Here, since the injection speed has a relatively large effect on the melt viscosity of the optical material at the time of molding, it can be a factor largely affecting the optical disk substrate characteristics. The melt viscosity of the optical material during injection molding is determined by the injection speed and the shear rate (γ) given by the shape of the mold / molding machine nozzle.
The shear rate (maximum value on the wall surface) of each part can be calculated by the following equation depending on the shape of the mold / molding machine nozzle. (A) When the shape is rectangular (slit shape): γ = 6Q / WH 2 [where Q is the flow rate per unit time (cm 3 / sec),
W represents the width (cm) of the channel portion, and H represents the thickness (cm) of the channel portion.] (B) In the case of a circular (circular tubular) shape: γ = 4Q / πR 3 [where Q is the aforementioned R represents the radius (cm)]

【0033】射出成形時に金型でのゲート部および/ま
たは成形機ノズルにおいて受けるせん断速度(γ)の範
囲としては、好ましくは1×103〜1×10
6(秒-1)、さらに好ましくは5×103〜1×10
6(秒-1)、特に好ましくは1×104〜1×106(秒
-1)である。ここで、せん断速度(γ)の範囲が1×1
3(秒-1)未満であると光ディスク基板のレターデー
ション、特に同一半径円周上でのレターデーションのバ
ラツキが大きくなり好ましくなく、一方1×106(秒
-1)以上であると成形時におけるせん断発熱が大きくな
り光ディスク表面にシルバーストリークを発生しやすく
なるために好ましくない。
The range of the shear rate (γ) received at the gate portion of the mold and / or the nozzle of the molding machine during injection molding is preferably 1 × 10 3 to 1 × 10 3.
6 (sec- 1 ), more preferably 5 × 10 3 to 1 × 10
6 (second -1 ), particularly preferably 1 × 10 4 to 1 × 10 6 (second
-1 ). Here, the range of the shear rate (γ) is 1 × 1
0 3 (s -1) than in a an optical disk substrate retardation is not preferable becomes particularly large variation in the retardation on the same radius circle, whereas 1 × 10 6 (s
-1 ) If it is more than the above, shear heat generation during molding becomes large, and silver streaks tend to occur on the optical disk surface, which is not preferable.

【0034】せん断速度(γ)の制御は、上記のように
射出速度、金型/成形機ノズルの形状などによって行
う。射出速度に加え、金型ゲート形状を一般的に用いら
れる円周状のスリット形状においては、ゲートの厚みが
好ましくは50〜900μm、さらに好ましくは100
〜600μm、特に好ましくは150〜400μmと
し、成形機のノズル形状をそのノズル穴径が好ましくは
0.5〜3.0mmφ、さらに好ましくは1.0〜2.
5mmφ、特に好ましくは1.5〜1.8mmφにして
上記せん断速度(γ)の範囲とすることが好ましい。こ
こで、金型ゲート厚みが50μm未満やノズル穴径が
0.5mmφ未満であると射出成形時にシルバーストリ
ークスを発生しやすくなったり、射出ピーク圧力が過度
に高くなって安定成形を行いにくくなり、一方、金型ゲ
ート厚みが900μmを超えたりノズル穴径が3.0m
mφを超えたりすると光ディスク基板のレターデーショ
ン特性、特に同一円周上のバラツキが比較的大きくなっ
て好ましくない。
The shear rate (γ) is controlled by the injection speed, the shape of the mold / molding machine nozzle, etc., as described above. In addition to the injection speed, the gate thickness is preferably 50 to 900 μm, more preferably 100 in the circumferential slit shape generally used for the mold gate shape.
The diameter of the nozzle hole of the molding machine is preferably 0.5 to 3.0 mmφ, more preferably 1.0 to 2.0 μm.
It is preferable that the shear rate (γ) is in the range of 5 mmφ, particularly preferably 1.5 to 1.8 mmφ. Here, if the mold gate thickness is less than 50 μm or the nozzle hole diameter is less than 0.5 mmφ, silver streaks easily occur during injection molding, or the injection peak pressure becomes excessively high, making it difficult to perform stable molding. On the other hand, the mold gate thickness exceeds 900 μm or the nozzle hole diameter is 3.0 m.
If the diameter exceeds mφ, the retardation characteristics of the optical disk substrate, particularly the variation on the same circumference, become relatively large, which is not preferable.

【0035】本発明における射出成形は、通常の大気雰
囲気下で行うことができるが、光学用材料の分子量低下
や着色、ゲルの発生を防止するために、光学用材料の成
形機への供給や成形機のホッパー部分を窒素ガス雰囲気
下にして行うこともできる。
Injection molding in the present invention can be carried out in a normal atmospheric atmosphere. However, in order to prevent a decrease in the molecular weight of the optical material, coloring, and generation of a gel, supply of the optical material to a molding machine is prevented. The molding can be carried out by setting the hopper portion of the molding machine under a nitrogen gas atmosphere.

【0036】射出成形、特に好適には射出圧縮成形によ
って得られた光ディスク基板は、その後、記録層あるい
はレーザー光線を反射するための金属層を、蒸着法、ス
パッタ法などの公知の方法によって形成し、さらに必要
に応じて保護層を設けて完成される。具体的には、情報
ピットに対応する凹凸を有するスタンパーをセットした
金型内に、前記光学用材料を射出成形して得られた光デ
ィスク基板に、反射率の高い金属、例えばNi、Al、
Auなどをコーティングし、さらに、これを保護するた
めに公知のアクリル系などの紫外線硬化樹脂などを塗
布、硬化させ、レーザー光の反射を利用して情報を読み
出すCD、LDなどの再生専用ディスク、同じく1μm
以下の案内溝の付いた光ディスク基板に、シアニン系や
フタロシアニン系の有機色素を塗布したものにレーザー
光を照射して記録する追記型のCD−R、DVD−R、
また記録媒体としてAs−Te−Ge系のようにレーザ
ー光照射による非晶−結晶の相変化からくる光反射率、
光透過率の変化を利用したり、Tb−Fe−Coに代表
されるアモルファス希土類・遷移金属合金膜のように、
レーザー光照射による磁化反転を利用したりする書き換
え型ディスクなどとすることができる。
The optical disk substrate obtained by injection molding, particularly preferably injection compression molding, is then formed with a recording layer or a metal layer for reflecting a laser beam by a known method such as a vapor deposition method or a sputtering method. It is completed by further providing a protective layer if necessary. Specifically, an optical disk substrate obtained by injection-molding the optical material in a mold in which a stamper having projections and depressions corresponding to the information pits is set is coated with a metal having a high reflectance, such as Ni, Al, or the like.
Coated with Au or the like, and further applied with a known acrylic-based ultraviolet curable resin or the like to protect the same, and cured, and read-only discs such as CDs and LDs for reading out information using reflection of laser light; 1 μm
Write-once type CD-R, DVD-R, which records by irradiating a laser beam to a substrate coated with an organic dye of cyanine or phthalocyanine type on an optical disk substrate having the following guide grooves.
Further, as a recording medium, as in the case of an As-Te-Ge system, a light reflectance resulting from an amorphous-crystalline phase change by laser light irradiation,
Utilizing a change in light transmittance or using an amorphous rare earth / transition metal alloy film represented by Tb-Fe-Co,
A rewritable disk or the like that uses magnetization reversal by laser light irradiation can be used.

【0037】このようにして得られる本発明の光ディス
クは、前記のように環状ポリオレフィン系樹脂を成形し
た光ディスク基板であって、成形条件等を調節すること
により、光の波長を400nmから830nmまで変化
させたときに、該樹脂のレターデーションの変化幅が、
波長590nmにおけるレターデーションの±10%以
内、好ましくは±8%以内、さらに好ましくは±5%以
内、最も好ましくは±3%以内の変化幅であるものであ
る。レターデーションの変化幅が上記範囲とすること
で、光ディスク特性で特に重要なC/N比が広い光の波
長範囲において安定するために好ましい。ここで、屈折
率の波長依存性は一般にCauchyの分散式(式(1))で
表されることが知られている。 n=A+B/λ2+C/λ4 … (1) [ここで、nは屈折率、λは波長(nm)、A,B,C
は定数] 一方、レターデーションは常光線と異常光線の波面の差
(位相差)であるので、レターデーションの波長依存性
は各光線の屈折率の波長依存性の差に相当するため、レ
ターデーションの波長依存性も式(1)で表すことがで
きる。本発明のレターデーションの規定範囲に照らし合
わせるに際し、全ての波長における測定値から確認する
ことが好ましいが、現実には困難であるため、一般に正
常分散領域(ここでは400〜830nm)での任意の
点における複数(好ましくは4点以上)の測定値から、
上記の式(1)を用いて回帰を行い確認することが容易
に可能である。
The optical disk of the present invention thus obtained is an optical disk substrate on which a cyclic polyolefin resin is molded as described above, and the wavelength of light is changed from 400 nm to 830 nm by adjusting molding conditions and the like. When made, the change width of the retardation of the resin,
The change in retardation at a wavelength of 590 nm is within ± 10%, preferably within ± 8%, more preferably within ± 5%, and most preferably within ± 3%. It is preferable that the width of the change in the retardation be in the above-mentioned range because the C / N ratio, which is particularly important in optical disc characteristics, is stabilized in a wide wavelength range of light. Here, it is known that the wavelength dependence of the refractive index is generally represented by Cauchy's dispersion formula (formula (1)). n = A + B / λ 2 + C / λ 4 (1) [where n is the refractive index, λ is the wavelength (nm), A, B, and C]
Is a constant] On the other hand, since the retardation is the difference (phase difference) between the wavefronts of the ordinary ray and the extraordinary ray, the wavelength dependence of the retardation corresponds to the difference in the wavelength dependence of the refractive index of each ray. Can also be expressed by equation (1). When comparing with the specified range of the retardation of the present invention, it is preferable to confirm from the measured values at all wavelengths, but it is actually difficult, and therefore, it is generally arbitrary in the normal dispersion region (here, 400 to 830 nm). From multiple (preferably 4 or more) measurements at a point,
It is possible to easily perform regression and confirmation using the above equation (1).

【0038】また、本発明の光ディスクは、ディスク基
板の記録エリアにおける同一円周上のレターデーション
(複屈折)のバラツキ幅が、好ましくは20nm以下、
さらに好ましくは15nm以下、特に好ましくは10n
m以下、最も好ましくは5nm以下である。レターデー
ションのバラツキ幅が本範囲内になることで、光ディス
ク特性が優れたものとなり、特にC/N比が良好となる
ために好ましい。
In the optical disk of the present invention, the variation width of the retardation (birefringence) on the same circumference in the recording area of the disk substrate is preferably 20 nm or less.
More preferably 15 nm or less, particularly preferably 10 n
m, most preferably 5 nm or less. It is preferable that the variation width of the retardation be within this range because the optical disk characteristics are improved and the C / N ratio is particularly improved.

【0039】本発明の光学用材料の用途は特に限定され
るものではなく、広い範囲にわたって使用することがで
き、例えば、メガネレンズ、一般カメラ用レンズ、ピッ
クアップレンズ、ビデオカメラ用レンズ、望遠鏡レン
ズ、レーザビーム用レンズなどのレンズ類、光学式ビデ
オディスク、コンパクトディスク(CD)やミニディス
ク(MD)、DVDディスク等のオーディオディスク、
相変化型ディスク、光磁気ディスク(MO)、CD−R
OMディスク、CD−Rディスク、DVD−RAMディ
スク、ビデオ録画用ディスクなどのメモリディスクとし
ての光ディスク類、位相差フィルム、偏光フィルム、透
明導電性フィルム、OHPフィルムなどの光学フィルム
や光拡散板、導光板、液晶表示基板などの光学材料、フ
ォトインタラプター、フォトカプラー、LEDランプな
どの光半導体封止材、ICカードなどのICメモリーの
封止材、光ファイバーなどとして特に好適に使用するこ
とができる。その中でも、光ディスクとして使用した場
合に、特に優れた特性を示すことから、好適に使用する
ことができる。
The application of the optical material of the present invention is not particularly limited and can be used over a wide range. For example, eyeglass lenses, general camera lenses, pickup lenses, video camera lenses, telescope lenses, Lenses such as laser beam lens, optical video disk, audio disk such as compact disk (CD), mini disk (MD), DVD disk,
Phase change type disk, magneto-optical disk (MO), CD-R
Optical discs as memory discs such as OM discs, CD-R discs, DVD-RAM discs, video recording discs, optical films such as retardation films, polarizing films, transparent conductive films, and OHP films, light diffusing plates, and conductive films. It can be particularly suitably used as an optical material such as a light plate and a liquid crystal display substrate, a photo-interrupter, a photocoupler, an optical semiconductor encapsulant such as an LED lamp, an IC memory encapsulant such as an IC card, and an optical fiber. Among them, when used as an optical disk, they exhibit particularly excellent characteristics, and thus can be suitably used.

【0040】[0040]

【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが、
本発明がこれらによって制限されるものではない。な
お、以下において「部」は「重量部」を示す。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
The present invention is not limited by these. In the following, “parts” indicates “parts by weight”.

【0041】〔実施例1〕下記式(1)で表される8−
メチル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.
4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン(特定単量
体)250部と、1−ヘキセン(分子量調節剤)41部
と、トルエン(開環重合反応用溶媒)750部とを窒素
置換した反応容器内に仕込み、この溶液を60℃に加熱
した。次いで、反応容器内の溶液に、トリエチルアルミ
ニウムのトルエン溶液(1.5モル/l)0.62部
と、t−ブタノール/メタノールで変性した六塩化タン
グズテン(t−ブタノール:メタノール:タングステン
=0.35モル:0.3モル:1モル)のトルエン溶液
(濃度0.05モル/l)3.7部とを添加し、この系
を80℃で3時間加熱攪拌することにより開環重合反応
させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重
合転化率は97%であり、得られた開環重合体の30
℃、クロロホルム中で測定した固有粘度(ηinh )は
0.45dl/gであり、ガラス転移温度(Tg)は2
04℃であった。
[Example 1] 8-- represented by the following formula (1)
Methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.
4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene (specific monomer), 250 parts, 1-hexene (molecular weight modifier), 41 parts, and toluene (solvent for ring-opening polymerization reaction), 750 parts, in a reaction vessel in which nitrogen was replaced. And the solution was heated to 60 ° C. Then, 0.62 parts of a toluene solution of triethylaluminum (1.5 mol / l) and tungsten hexachloride modified with t-butanol / methanol (t-butanol: methanol: tungsten = 0.20) were added to the solution in the reaction vessel. (Mol: 35 mol: 0.3 mol: 1 mol) and 3.7 parts of a toluene solution (concentration: 0.05 mol / l), and the system was heated and stirred at 80 ° C. for 3 hours to carry out a ring-opening polymerization reaction. Thus, a ring-opened polymer solution was obtained. The polymerization conversion rate in this polymerization reaction was 97%, and the obtained ring-opened polymer was 30%.
The intrinsic viscosity (ηinh) measured in chloroform at 0.45 ° C. was 0.45 dl / g, and the glass transition temperature (Tg) was 2
04 ° C.

【0042】[0042]

【化2】 ・・・(1)Embedded image ... (1)

【0043】このようにして得られた開環重合体溶液
4,000部をオートクレーブに仕込み、この開環重合
体溶液に、RuHCl(CO)[P(C6533
0.48部を添加し、水素ガス圧100kg/cm2
反応温度165℃の条件下で3時間加熱攪拌することに
より水素添加反応させた。得られた反応溶液(水素添加
重合体溶液)を冷却した後、水素ガスを放圧し、0.5
μm径のマイクロフィルターを通してから、当該反応溶
液を大量のメタノール中に注いで水素添加重合体を凝固
させて分離回収した。そして乾燥した後、40mmφベ
ント付き押し出し機でペレット化した。このようにして
得た水素添加重合体(以下、「樹脂(A−1)」とい
う。)の水素化率は実質上100%であり、GPCで測
定したポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は1
9,800、重量平均分子量(Mw)は62,000で
あり、分子量5000以下ならびに300000以上の
割合はそれぞれ4%、3%であり、固有粘度(ηinh)
は0.47であり、上記加熱による揮発成分量は0.0
4%であった。
4,000 parts of the ring-opening polymer solution thus obtained was charged into an autoclave, and RuHCl (CO) [P (C 6 H 5 ) 3 ] 3 was added to the ring-opening polymer solution.
0.48 parts, hydrogen gas pressure 100 kg / cm 2 ,
A hydrogenation reaction was performed by heating and stirring for 3 hours at a reaction temperature of 165 ° C. After cooling the resulting reaction solution (hydrogenated polymer solution), the hydrogen gas was released,
After passing through a micro filter having a diameter of μm, the reaction solution was poured into a large amount of methanol to coagulate and separate and collect the hydrogenated polymer. Then, after drying, it was pelletized by an extruder equipped with a 40 mmφ vent. The hydrogenation rate of the hydrogenated polymer thus obtained (hereinafter, referred to as “resin (A-1)”) is substantially 100%, and the number average molecular weight (Mn) in terms of polystyrene measured by GPC is: 1
9,800, the weight average molecular weight (Mw) is 62,000, and the ratios of molecular weight of 5,000 or less and 300,000 or more are 4% and 3%, respectively, and the intrinsic viscosity (ηinh)
Is 0.47, and the amount of volatile components by heating is 0.07.
4%.

【0044】〔実施例2〕8−メチル−8−メトキシカ
ルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17, 10
−3−ドデセンに代えて、8−エチリデンテトラシクロ
[4.4.0.12, 5 .17,10]−3−ドデセン200
部を用いたこと以外は実施例(A−1)と同様にして開
環重合反応、水素添加反応および凝固回収処理を行って
水素添加重合体を得た後、ペレット化した。このように
して得られた水素添加重合体(以下、「樹脂(A−
2)」という。)の水素化率は実質上100%であり、
GPCで測定したポリスチレン換算の数平均分子量(M
n)は19,200、重量平均分子量(Mw)は58,
000であり、分子量5000以下ならびに30000
0以上の割合はそれぞれ7%、3%であり、固有粘度
(ηinh)は0.45であり、上記加熱による揮発成分
量は0.06%であった。
Example 2 8-Methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7, 10 ]
Instead of the 3-dodecene, 8-ethylidene tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10 ] -3-dodecene 200
A ring-opening polymerization reaction, a hydrogenation reaction and a coagulation recovery treatment were carried out in the same manner as in Example (A-1) except for using a part to obtain a hydrogenated polymer, which was then pelletized. The hydrogenated polymer thus obtained (hereinafter referred to as “resin (A-
2) ". ) Has a hydrogenation rate of substantially 100%,
Number average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC (M
n) was 19,200 and the weight average molecular weight (Mw) was 58,
000, molecular weight of 5,000 or less and 30,000
The ratios of 0 or more were 7% and 3%, respectively, the intrinsic viscosity (ηinh) was 0.45, and the amount of volatile components by the heating was 0.06%.

【0045】〔実施例3〕8−メチル−8−メトキシカ
ルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17, 10
−3−ドデセン230部にビシクロ[2.2.1]ヘプ
ト−2−エンを20部用いたこと以外は実施例(A−
1)と同様にして開環重合反応、水素添加反応および凝
固回収処理を行って水素添加重合体を得た後、ペレット
化した。このようにして得られた水素添加重合体(以
下、「樹脂(A−3)」という。)の水素化率は実質上
100%であり、GPCで測定したポリスチレン換算の
数平均分子量(Mn)は20,200、重量平均分子量
(Mw)は65,000であり、分子量5000以下な
らびに300000以上の割合はそれぞれ3%、3%で
あり、固有粘度(ηinh)は0.47であり、上記加熱
による揮発成分量は0.03%であった。
Example 3 8-Methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7, 10 ]
Example (A-) except that 20 parts of bicyclo [2.2.1] hept-2-ene was used for 230 parts of -3-dodecene.
A ring-opening polymerization reaction, a hydrogenation reaction, and a coagulation recovery treatment were performed in the same manner as in 1) to obtain a hydrogenated polymer, which was then pelletized. The hydrogenation rate of the hydrogenated polymer (hereinafter referred to as “resin (A-3)”) thus obtained was substantially 100%, and the number average molecular weight (Mn) in terms of polystyrene measured by GPC. Is 20,200, the weight average molecular weight (Mw) is 65,000, the proportion of molecular weight of 5,000 or less and 300,000 or more are 3% and 3%, respectively, the intrinsic viscosity (ηinh) is 0.47, Was 0.03%.

【0046】〔実施例4〕攪拌翼、ガス導入管、温度計
および滴下ロートを備えた反応容器を窒素ガスで十分に
置換し、この反応容器内に、モレキュラーシーブにより
脱水乾燥させたシクロヘキサン2,000部を入れ、窒
素雰囲気下、テトラシクロ[4.4.0.12,5 .1
7,10]−3−ドデセン75部と、エチルアルミニウムセ
スキクロリドのn−ヘキサン溶液(1mol/l)6.
6部とを添加した。次いで、反応容器内の温度を10℃
に保った状態で、ガス導入管から反応器内に、エチレン
と窒素の混合ガス(エチレン流量:10リットル/H
r、窒素流量:40リットル/Hr)を10分間供給し
た。その後、この溶液に、VO(OC 25 )Cl2
n−ヘキサン溶液(0.07mol/l)23部を滴下
ロートより滴下して共重合反応を開始し、前記混合ガス
を通しながら反応を継続させた。反応を開始してから3
0分経過後、反応溶液に少量のメタノールを添加して重
合反応を停止させ、この重合体溶液を大量のメタノール
中に注いで重合体(飽和共重合体)を凝固させた。そし
て乾燥した後、前記のようにペレット化した。このよう
にして得られた重合体(以下、「樹脂(A−4)」とい
う。)のGPCで測定したポリスチレン換算の数平均分
子量(Mn)は21,000、重量平均分子量(Mw)
は63,000であり、分子量5000以下ならびに3
00000以上の割合はそれぞれ5%、2%であり、固
有粘度(ηinh)は0.46であり、上記加熱による揮
発成分量は0.08%であった。
Example 4 Stirring blade, gas inlet tube, thermometer
And the reaction vessel equipped with the dropping funnel
Substitute and place molecular sieves in this reaction vessel.
Add 2,000 parts of dehydrated and dried cyclohexane, and add
Under a nitrogen atmosphere, tetracyclo [4.4.0.12,5 . 1
7,10] -3-dodecene (75 parts)
5. n-hexane solution of skichloride (1 mol / l)
6 parts were added. Next, the temperature in the reaction vessel was raised to 10 ° C.
While maintaining the temperature at
Mixed gas of nitrogen and nitrogen (ethylene flow rate: 10 l / H
r, nitrogen flow rate: 40 liter / Hr) for 10 minutes
Was. Then, VO (OC Two HFive ) ClTwo of
23 parts of n-hexane solution (0.07 mol / l) is dropped
The copolymerization reaction was started by dropping from the funnel,
The reaction was continued while passing through. 3 after starting the reaction
After 0 minutes, a small amount of methanol was added to the reaction solution to
The polymerization reaction was stopped, and this polymer solution was
The polymer (saturated copolymer) was solidified by pouring into the mixture. Soshi
After drying, they were pelletized as described above. like this
(Hereinafter referred to as “resin (A-4)”)
U. ) Number average of polystyrene equivalent measured by GPC
Molecular weight (Mn) is 21,000, weight average molecular weight (Mw)
Is 63,000 and the molecular weight is 5,000 or less and 3
The ratios of 00000 or more are 5% and 2%, respectively.
Viscosity (ηinh) is 0.46,
The amount of the generated component was 0.08%.

【0047】〔実施例5〕窒素置換したガラス製反応容
器に、5―フェニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2
−エン60部とトルエン300部を仕込み、分子量調節
剤として、1−ヘキセンを1部添加した。溶液を40℃
に加温した後、重合触媒としてトリエチルアルミニウム
の15重量%トルエン溶液10部、トリエチルアン5
部、および四塩化チタンの20重量%トルエン溶液10
部を添加して開環重合を開始した。溶液の温度を40℃
に保ったまま1時間反応させた時点でメタノール5部添
加して反応を停止した。アセトン500部とイソプロピ
ルアルコール500部の混合溶液中に反応溶液を注いで
重合体を沈殿させ、濾別回収し50部の開環重合体を得
た。この開環重合体50部とトルエン450部を新たな
窒素置換したガラス製反応器に入れ、55℃に加温し
た。攪拌しながら塩化アルミニウム5部を添加し、反応
温度55℃で12時間かけて環化反応させた後、反応溶
液を1000部のイソプロピルアルコール中に入れ、沈
殿した重合体を濾別し、47部の樹脂を得た。得られた
樹脂の極限粘度は0.41dl/g、Tgは166℃で
あり、主鎖構造中の二重結合の残存率は32%であっ
た。この樹脂30部をトルエン70部に溶解し、アルミ
ナ担持ニッケル触媒(触媒1部中、ニッケル0.35
部、酸化ニッケル0.2部、細孔容積0.8cm3
g、比表面積300m2/g)1部とイソプロピルアル
コール2部を加え、オートクレーブ中で230℃、水素
50kg/cm2で5時間反応させて水素添加した。反
応終了後、触媒を濾別し、反応溶液を500部のイソプ
ロピルアルコール中に入れ、沈殿した重合体を濾別し、
28部の無色の樹脂を得た。そして乾燥した後、前記の
ようにペレット化した。このようにして得られた樹脂
(以下、「樹脂(A−5)」という。)の極限粘度は
0.41dl/g、Tgは150℃であった。水素添加
率は実質上100%であり、主鎖構造中の二重結合の残
存率は0%、芳香族環構造も飽和しており残存しておら
ず、GPCで測定したポリスチレン換算の数平均分子量
(Mn)は28,000、重量平均分子量(Mw)は7
7,000であり、分子量5000以下ならびに300
000以上の割合はそれぞれ4%、3%であり、固有粘
度(ηinh)は0.53であり、上記加熱による揮発成
分量は0.07%であった。
Example 5 In a glass-made reaction vessel purged with nitrogen, 5-phenylbicyclo [2.2.1] hept-2 was added.
-60 parts of ene and 300 parts of toluene were charged, and 1 part of 1-hexene was added as a molecular weight regulator. Solution at 40 ° C
Then, 10 parts of a 15% by weight solution of triethylaluminum in toluene as a polymerization catalyst,
Parts and a 20% by weight toluene solution of titanium tetrachloride 10
Was added to initiate ring opening polymerization. 40 ° C solution temperature
When the reaction was carried out for 1 hour while maintaining the temperature, 5 parts of methanol was added to stop the reaction. The reaction solution was poured into a mixed solution of 500 parts of acetone and 500 parts of isopropyl alcohol to precipitate a polymer, which was collected by filtration to obtain 50 parts of a ring-opened polymer. 50 parts of this ring-opened polymer and 450 parts of toluene were placed in a new glass reactor purged with nitrogen, and heated to 55 ° C. 5 parts of aluminum chloride was added with stirring, and a cyclization reaction was carried out at a reaction temperature of 55 ° C. for 12 hours. Then, the reaction solution was placed in 1000 parts of isopropyl alcohol, and the precipitated polymer was separated by filtration. Resin was obtained. The intrinsic viscosity of the obtained resin was 0.41 dl / g, Tg was 166 ° C., and the residual ratio of double bonds in the main chain structure was 32%. 30 parts of this resin was dissolved in 70 parts of toluene, and a nickel catalyst supported on alumina (0.3 part nickel in 1 part of catalyst)
Parts, nickel oxide 0.2 parts, pore volume 0.8 cm 3 /
g, specific surface area 300 m 2 / g) and 2 parts of isopropyl alcohol, and hydrogenated by reacting in an autoclave at 230 ° C. and 50 kg / cm 2 of hydrogen for 5 hours. After completion of the reaction, the catalyst was separated by filtration, the reaction solution was put into 500 parts of isopropyl alcohol, and the precipitated polymer was separated by filtration.
28 parts of a colorless resin were obtained. After drying, they were pelletized as described above. The resin thus obtained (hereinafter referred to as “resin (A-5)”) had an intrinsic viscosity of 0.41 dl / g and a Tg of 150 ° C. The hydrogenation ratio was substantially 100%, the residual ratio of double bonds in the main chain structure was 0%, the aromatic ring structure was saturated and did not remain, and the number average in terms of polystyrene measured by GPC. The molecular weight (Mn) is 28,000, and the weight average molecular weight (Mw) is 7
7,000 and a molecular weight of 5,000 or less and 300
The ratios of 000 or more were 4% and 3%, respectively, the intrinsic viscosity (ηinh) was 0.53, and the amount of volatile components by the heating was 0.07%.

【0048】〔実施例6〕前記の樹脂ペレットを住友重
機械工業(株)製、射出成形機「DISK5 MIII」を
用い、シリンダー温度330℃、金型温度110℃、射
出速度120mm/秒で、130mmφで厚み1.2m
mの光ディスク基板を成形した。ここで、射出成形機の
ノズル径は1.5mmφ(ランド長10mm)であり、
金型のゲート部の厚みは300μmである。この光ディ
スク基板について目視検査および顕微鏡観察によるシル
バーストリークの発生有無、転写性、同一円周上のレタ
ーデーションのバラツキ幅、レターデーションの波長依
存性を測定した。結果を表2に示した。ここで、樹脂
(A−1)から(A−4)の4種の樹脂については、い
ずれも成形時にシルバーストリークを全く発生しなかっ
た。また、樹脂(A−5)では成形品100枚中で1%
の極少ない割合でシルバーストリークが発生した。
Example 6 The above resin pellets were molded using an injection molding machine “DISK5 MIII” manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd. at a cylinder temperature of 330 ° C., a mold temperature of 110 ° C., and an injection speed of 120 mm / sec. 130mmφ and 1.2m thickness
m optical disk substrates were molded. Here, the nozzle diameter of the injection molding machine is 1.5 mmφ (land length 10 mm),
The thickness of the gate portion of the mold is 300 μm. The optical disc substrate was measured for the occurrence of silver streaks, transferability, the variation width of the retardation on the same circumference, and the wavelength dependence of the retardation by visual inspection and microscopic observation. The results are shown in Table 2. Here, with respect to the four types of resins (A-1) to (A-4), no silver streaks occurred at all during molding. In addition, in the case of resin (A-5), 1%
, Silver streaks occurred in a very small percentage.

【0049】〔実施例7〕この光ディスク基板に、スパ
ッタリングによりSiNX(800Å)/TbFeCo
(200Å)/SiNX(300Å)/Al(500
Å)の4層膜を形成し、光磁気ディスクを作製した。得
られた光ディスクについて各種物性試験を行い、その結
果を表1、2に示した。
[Embodiment 7] SiN x (800 °) / TbFeCo was sputtered on this optical disc substrate.
(200 °) / SiN x (300 °) / Al (500
Iv) The four-layer film was formed to produce a magneto-optical disk. Various physical property tests were performed on the obtained optical disc, and the results are shown in Tables 1 and 2.

【0050】〔比較例1〕帝人化成(株)製、ポリカー
ボネート(PC)「パンライトAD5503」を使用し
た(以下「樹脂(B−1)」という)。
Comparative Example 1 A polycarbonate (PC) “PANLITE AD5503” manufactured by Teijin Chemicals Ltd. was used (hereinafter referred to as “resin (B-1)”).

【0051】〔比較例2〕比較例での樹脂ペレットを実
施例6と同様にして光ディスク基板を成形した。この光
ディスク基板に、実施例7と同様にしてスパッタリング
を行い、光磁気ディスクを作製した。得られた光ディス
クについて各種物性試験を行い、その結果を表1、2に
示した。
Comparative Example 2 An optical disk substrate was formed from the resin pellet of the comparative example in the same manner as in Example 6. This optical disk substrate was sputtered in the same manner as in Example 7 to produce a magneto-optical disk. Various physical property tests were performed on the obtained optical disc, and the results are shown in Tables 1 and 2.

【0052】<物性の評価> (1)ガラス転移温度(Tg) 走査熱量計(DSC)により、窒素雰囲気下において、
10℃/分の昇温速度で測定した。
<Evaluation of Physical Properties> (1) Glass Transition Temperature (Tg) Under a nitrogen atmosphere by a scanning calorimeter (DSC),
The measurement was performed at a heating rate of 10 ° C./min.

【0053】(2)光ディスク基板のレターデーショ
ン:同一円周上におけるレターデーションのバラツキ幅
(△Re:nm)を調べるために、日本電子光学(株)
製、複屈折自動測定装置を用い、半径位置30、50m
mにおいて、波長633nmにおけるレターデション
(Re:nm)を垂直入射のダブルパスで測定した。
(2) Retardation of optical disc substrate: To determine the variation width (△ Re: nm) of retardation on the same circumference, JEOL Ltd.
, Using a birefringence automatic measurement device, radial position 30, 50m
At m, the retardation (Re: nm) at a wavelength of 633 nm was measured by a double path at normal incidence.

【0054】(3)レターデーションの波長依存性:新
王子製紙(株)製、自動複屈折計(KOBRA:21A
DH)を使用してレターデーションの波長依存性を調べ
た。測定は、波長480、550、590、630、7
50nmの5波長について行い、Cauchyの分散式を用い
て回帰することにより波長400〜830nmでのレタ
ーデーションを求め、波長400〜830nmにおける
レターデーションの変化幅(%)を算出した。この時に
測定した値と、その値から式(1)を用いて算出したレ
ターデーションの波長依存性を590nmを基準として
比較した(比をとった)ものを代表的な樹脂(A−3、
B−1)について図1に示した。ここで、測定サンプル
は、スパッタリングにより金属膜を形成する前の透明光
ディスク基板と、スパッタリング後の光ディスクで金属
膜部分を除去した光ディスク基板であり、両者について
測定したが、スパッタリング前後による変化がほとんど
認められなかったため、スパッタリング後の値を記し
た。
(3) Wavelength dependence of retardation: Automatic birefringence meter (KOBRA: 21A) manufactured by Shin-Oji Paper Co., Ltd.
DH) was used to examine the wavelength dependence of the retardation. Measurements were made at wavelengths of 480, 550, 590, 630, 7
Retardation at a wavelength of 400 to 830 nm was obtained by performing regression using Cauchy's dispersion equation for five wavelengths of 50 nm, and the change width (%) of the retardation at a wavelength of 400 to 830 nm was calculated. The value measured at this time was compared with the wavelength dependence of the retardation calculated from the value using the formula (1) with reference to 590 nm (the ratio was taken), and a representative resin (A-3,
B-1) is shown in FIG. Here, the measurement samples were a transparent optical disk substrate before forming a metal film by sputtering, and an optical disk substrate from which the metal film portion was removed from the optical disk after sputtering. Since it was not possible, the value after sputtering is shown.

【0055】(4)C/N比:光ディスクのC/N比
(dB)をディスク評価装置を用いて記録再生し、異な
る波長650nmおよび830nmについてそれぞれ求
めた。
(4) C / N ratio: The C / N ratio (dB) of the optical disk was recorded / reproduced using a disk evaluation device and determined for different wavelengths of 650 nm and 830 nm, respectively.

【0056】(5)転写性:走査型電子顕微鏡(SE
M)にて観察し、溝深さやエッジの形成性から判断し、
良好なものを5、不良のものを1とする5段階評価を行
った。
(5) Transferability: Scanning electron microscope (SE
Observe in M), judge from groove depth and formability of edge,
A five-point evaluation was performed, with 5 being good and 1 being bad.

【0057】[0057]

【表1】 [Table 1]

【0058】[0058]

【表2】 [Table 2]

【0059】表1、2に示す結果から、実施例A−1〜
A−5に係る光学用成形材料は、転写性が高く、レター
デーションの同一半径上のバラツキが小さく、また特に
光の波長範囲400nmから830nmにおけるレター
デーションの変化幅が、波長590nmを基準として±
10%以内の変化幅と小さく、広い波長範囲において光
学特性が良好であり、特に光ディスクとしたときに、優
れた特性を発現することが明らかである。
From the results shown in Tables 1 and 2, Examples A-1 to A-1
The optical molding material according to A-5 has a high transferability, a small variation of the retardation on the same radius, and a change width of the retardation in the light wavelength range of 400 nm to 830 nm of ± 5 nm with respect to the wavelength of 590 nm.
It is clear that the change width is within 10% and the optical characteristics are good in a wide wavelength range, and that the optical disks exhibit excellent characteristics, particularly when used as an optical disk.

【0060】これに対し、比較例B−1は本発明の環状
ポリオレフィン系樹脂ではなく、レターデーションの同
一半径上のバラツキが大きく、また光の波長範囲400
nmから830nmにおけるレターデーションの変化幅
が大きく、比較してC/N比が小さくて劣ることが分か
る。
On the other hand, Comparative Example B-1 is not the cyclic polyolefin resin of the present invention, but has a large variation in retardation on the same radius and a light wavelength range of 400.
It can be seen that the change width of the retardation from nm to 830 nm is large and the C / N ratio is small and inferior.

【0061】[0061]

【発明の効果】本発明の光学用成形材料は、広い波長範
囲において光学特性(レターデーション)が安定した光
学用途に好適な成形材料であり、さらに詳しくは、特に
射出成形によって光ディスク基板を成形した場合に、転
写性が高く、レターデーションの同一半径上のバラツキ
が小さく、また特に光の波長範囲400nmから830
nmにおけるレターデーションの変化幅が、波長590
nmにおけるレターデーションの±10%以内の変化幅
と小さく、広い波長範囲において光学特性が良好であ
り、優れた光ディスク特性を発現し、このような良好な
特性を有する製品を提供可能な材料である。これによっ
て、使用波長の異なる光ディスク基板を成形する際に、
波長変化によるレターデーションの変化幅が小さいため
に、それぞれのメディアに対応した生産条件を新たに設
定する手間が省け、生産効率の大幅な向上など大きな省
力化を成し得る。さらに、低波長から高波長におけるレ
ターデーションが安定することで、複数レーザーによる
読み書きが可能となる光ディスクも開発可能なことか
ら、次世代技術を切り開く材料および光ディスクとなり
うることによる工業的価値は極めて高い。
The optical molding material of the present invention is a molding material suitable for optical applications having stable optical characteristics (retardation) over a wide wavelength range. More specifically, an optical disk substrate is molded by injection molding. In this case, the transferability is high, the variation of the retardation on the same radius is small, and especially, the wavelength range of light is from 400 nm to 830.
The change width of the retardation in nm is 590
It is a material having a small change width within ± 10% of the retardation in nm, good optical characteristics over a wide wavelength range, excellent optical disk characteristics, and providing a product having such good characteristics. . By this, when molding optical disc substrates with different working wavelengths,
Since the change width of the retardation due to the wavelength change is small, it is not necessary to newly set the production conditions corresponding to each medium, and it is possible to achieve a large labor saving such as a significant improvement in production efficiency. Furthermore, since the retardation at low to high wavelengths is stabilized, an optical disk that can be read and written by a plurality of lasers can be developed. .

【0062】[0062]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施例および比較例におけるレター
デーションの波長依存性を示したグラフである。
FIG. 1 is a graph showing the wavelength dependence of retardation in Examples and Comparative Examples of the present invention.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 廣野 達也 東京都中央区築地2丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 Fターム(参考) 4J100 AA02Q AA03Q AA04Q AA15Q AB00Q AB04Q AB07Q AR03Q AR09Q AR11Q AR17Q AR21P AR22Q AS15Q BA02P BA03P BA05Q BA10P BA14P BA16P BA29P BA35P BA40P BA51P BA71P BB00P BB17P BC43Q CA01 CA04 DA61 DA63 HA03 JA36 5D029 KA01 KC07  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Tatsuya Hirono 2-11-24 Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo FSR in JSR Corporation (reference) 4J100 AA02Q AA03Q AA04Q AA15Q AB00Q AB04Q AB07Q AR03Q AR09Q AR11Q AR17Q AR21P AR22Q AS15Q BA02P BA03P BA05Q BA10P BA14P BA16P BA29P BA35P BA40P BA51P BA71P BB00P BB17P BC43Q CA01 CA04 DA61 DA63 HA03 JA36 5D029 KA01 KC07

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 環状ポリオレフィン系樹脂であって、光
の波長を400nmから830nmまで変化させたとき
の該樹脂のレターデーションの変化幅が、波長590n
mにおけるレターデーションの±10%以内であること
を特長とする光学用成形材料。
1. A cyclic polyolefin-based resin, wherein a variation width of a retardation of the resin when a wavelength of light is changed from 400 nm to 830 nm is 590 nm.
An optical molding material characterized by being within ± 10% of the retardation at m.
【請求項2】 環状ポリオレフィン系樹脂を成形した光
学用成型物であって、光の波長を400nmから830
nmまで変化させたときにおける該成型物のレターデー
ションの変化幅が、波長590nmにおけるレターデー
ションの±10%以内であることを特徴とする光学用成
型物。
2. An optical molded article formed by molding a cyclic polyolefin resin, wherein the light wavelength is from 400 nm to 830.
A molded article for optical use, characterized in that the change width of the retardation of the molded article when changed to nm is within ± 10% of the retardation at a wavelength of 590 nm.
【請求項3】 環状ポリオレフィン系樹脂を成形した光
ディスク基板であって、光の波長を400nmから83
0nmまで変化させたときにおける該光ディスク基板の
レターデーションの変化幅が、波長590nmにおける
レターデーションの±10%以内であることを特徴とす
る光ディスク。
3. An optical disc substrate formed by molding a cyclic polyolefin resin, wherein the wavelength of light is from 400 nm to 83 nm.
An optical disc characterized in that the change width of the retardation of the optical disc substrate when changed to 0 nm is within ± 10% of the retardation at a wavelength of 590 nm.
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JP2020152745A (en) * 2019-03-18 2020-09-24 三井化学株式会社 Cyclic olefin-based copolymer pellet, molded body, and method of producing cyclic olefin-based copolymer pellet

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