JPH01102501A - Optical molding - Google Patents

Optical molding

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JPH01102501A
JPH01102501A JP26243387A JP26243387A JPH01102501A JP H01102501 A JPH01102501 A JP H01102501A JP 26243387 A JP26243387 A JP 26243387A JP 26243387 A JP26243387 A JP 26243387A JP H01102501 A JPH01102501 A JP H01102501A
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JP
Japan
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group
molded article
optical molded
optical
carbon atoms
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Pending
Application number
JP26243387A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinji Yamada
真治 山田
Shigeru Sasaki
繁 佐々木
Shiro Osada
長田 司郎
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Kuraray Co Ltd
Original Assignee
Kuraray Co Ltd
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Publication date
Application filed by Kuraray Co Ltd filed Critical Kuraray Co Ltd
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a molding which has excellent light transmittability and a low water absorptivity and is extremely less cambered (deformed) by water absorption by forming the molding of a resin which contains a specific repeating unit and has <=0.2% water absorptivity in conformity with ASTM D570. CONSTITUTION:The molding consisting of the resin having a specific polyvinyl ether structure has extremely little double refraction, the excellent light transmittability and the low water absorptivity, is extremely less cambered at the time of water absorption and has good heat resistance and mechanical strength. The specific polyvinyl ether structure refers to the repeating unit expressed by the formula I. In the formula, R is a monocyclic or polycyclic satd. hydrocarbon group of >=7C which may be substd. with an alkyl group or alkoxy group of <=4C.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は複屈折が極めて低く、光透過性に優れ、かつ吸
水率が低く吸水度〕の極めて少ない、機械的特性および
耐熱性の良好な光学用成形品に関する0 〔従来の技術〕 デジタルオーディオディスクやレーザービジョン等のい
わゆる光ディスクはその高密度大容量記鍮・非接触再生
に基づく長寿命等の利点のため急速に広′!シつつある
。近年は追記盤や消去可能屋尋のユーザーが情報を記録
できるものも登場し、記録方式の発展に伴い基体材料の
緒特性に対する要求のレベルも高くなってきている。特
に低吸水性(低吸水反シ性)・低複屈折性・高耐熱性の
3項目は重要な特性である。現在基体材料として用いら
れているものKは主としてガラスおよθプラスチック材
料があるが、ガラスは量産性が低くコストがかかる、重
い、割れ易いといった短所があシ、プラスチック材料の
方が主流である。また、凹/凸レンズや7レネルレンズ
等の光学用レンズ、回折格子等の光学素子についても、
用途の拡大に連れて光デイスク同様の理由によシガラス
よシもプラスチックに重きが置かれるようになシつつあ
る0 以上のような透明光学材料用樹脂として現在特に用いら
れているものはポリメチルメタクリレ−)(PMMA)
とポリカーボネート(PC)であるが、PMMAは複屈
折は極めて低いものの吸水(吸湿)性が高く吸水によっ
て反9や変形が生じ、光学!性の低下を招きやすいとい
う欠点を有している。特にデジタルオーディオディスク
のような1枚の基体からなる光記録媒体に用いた場合情
報の忠実な再生が不可能となることがある。また、耐熱
性も今−歩の向上が望まれている。一方PCは吸水性は
低く吸水反〕も゛はとんどなく耐熱性も問題ないが、複
屈折が大きいという難点がある。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention provides a material with extremely low birefringence, excellent light transmittance, low water absorption, and excellent mechanical properties and heat resistance. 0 Regarding optical molded products [Prior technology] So-called optical discs such as digital audio discs and laser vision are rapidly becoming popular due to their advantages such as long life based on high-density, large-capacity recording and non-contact playback! It's starting to change. In recent years, write-once discs and erasable discs that allow users to record information have appeared, and with the development of recording methods, the level of demand for the recording properties of the base material has also increased. In particular, three important properties are low water absorption (low water absorption resistance), low birefringence, and high heat resistance. The materials K currently used as substrate materials are mainly glass and θ plastic materials, but glass has disadvantages such as low mass production, high cost, heavy weight, and breakability, so plastic materials are more mainstream. . In addition, regarding optical lenses such as concave/convex lenses and 7-lens lenses, and optical elements such as diffraction gratings,
Due to the same reasons as optical disks, as applications expand, emphasis is being placed on plastics for optical disks as well.Polymethyl resins are currently particularly used as resins for transparent optical materials such as those mentioned above. methacrylate) (PMMA)
and polycarbonate (PC), but although PMMA has extremely low birefringence, it has high water absorption (moisture absorption), and water absorption causes anti-9 and deformation. It has the disadvantage that it tends to lead to a decline in sexual performance. In particular, when used in an optical recording medium consisting of a single substrate such as a digital audio disc, faithful reproduction of information may become impossible. In addition, further improvement in heat resistance is desired. On the other hand, PC has a low water absorption property, a low water absorption property, and has no problem with heat resistance, but it has the disadvantage of high birefringence.

デジタルオーディオディスクや小径のレンズのような比
較的径の小さいものでは成形条件を高精度に制御するこ
とによ)複屈折を要求レベル以下に抑えることが可能で
あるが530cm径のレーザービジョンや大径のレンズ
においては極めて困難である。
For relatively small-diameter products such as digital audio discs and small-diameter lenses, it is possible to suppress birefringence below the required level (by controlling the molding conditions with high precision); This is extremely difficult for lenses with large diameters.

PMMAやPCを共重合やブレンド等によル改質し光学
用成形物として用いる際の欠点を解消しようとする試み
が種々性なわれている。例えばPMMAの吸水反り(変
形)を改善する方法としては、シクロへ中シルメタクリ
レート等を共重合するもの(45F開昭58−1277
54 )やボルニルメタクリレートを共重合するもの(
特開昭58−162651)が知られているが、これら
はいずれも吸水度シ(変形)は改善されるものの耐熱性
は向上しない、あるいは未反応モノマーが残存し緒特性
に悪影響を与える。といつ九欠点を有しておシ実用的で
はない。また、ベンジルメタクリレートを共重合するも
の(時開1@58−11515)におイテは、吸水度シ
を低下させるためにベンジルメタクリレートの共重合比
を高くすると複屈折が増大すると同時に耐熱性が低下し
好ましくない。PCの複屈折を低下させる方法としては
、共重合やブレンドにより溶融時の流動性を高めて成形
物の残留応力に基づく複屈折を減少させようとするもの
(特開昭60−166321.6O−215051)や
、特定のビスフェノール誘導体を用いるもの(特開昭6
O−166322)があるが、PMMAのような低いレ
ベルKまで低下させることは極めて難しい。
Various attempts have been made to modify PMMA and PC by copolymerization, blending, etc. to overcome the drawbacks of using them as optical moldings. For example, a method for improving the water absorption warpage (deformation) of PMMA is to copolymerize cyclo-silyl methacrylate, etc.
54) and those copolymerized with bornyl methacrylate (
JP-A-58-162651) is known, but all of these improve water absorption (deformation) but do not improve heat resistance, or unreacted monomers remain and adversely affect the properties. It has nine drawbacks and is not practical. In addition, it is a product that copolymerizes benzyl methacrylate (Jikai 1@58-11515).In order to reduce water absorption, increasing the copolymerization ratio of benzyl methacrylate increases birefringence and at the same time decreases heat resistance. I don't like it. Methods to reduce the birefringence of PC include copolymerization and blending to increase the fluidity during melting and reduce the birefringence caused by residual stress in molded products (Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-166321.6O- 215051) and those using specific bisphenol derivatives (Japanese Unexamined Patent Publication No. 6
0-166322), but it is extremely difficult to reduce the K to a low level like PMMA.

PMMA−?PC以外の樹脂の光学材料への適用もまた
検討されているが、例えはスチレン系樹脂(q#開昭5
8−83009)では複屈折が高くまた表面硬度が非常
に低く傷が付きやすいという問題点がある。また、ポリ
エステル系樹脂(特開昭58−150147)では特に
複屈折に関して難点がある。
PMMA-? The application of resins other than PC to optical materials is also being considered; for example, styrene resin (q#
8-83009) has a problem in that it has high birefringence and very low surface hardness and is easily scratched. Furthermore, polyester resins (JP-A-58-150147) have particular drawbacks regarding birefringence.

〔発明の解決しようとする問題点〕[Problem to be solved by the invention]

上述したように、PMMA−?PCは光学用成形物とし
て用いた場合に問題点を有しておシ、それらを改善する
ための種々の公知の手法においては完全に解決されない
かもしくは解決されたとしてもその犠牲として他の特性
の低下を余儀なくされ、結局光学用成形材料として適切
なものは得られない。また、新規素材を用いるにしても
′何らかの問題点があるというのが現状である。本発明
の目的は、光学用成形物に使用する際に要求される総て
の特性Ksi−いて優れた、すなわち複屈折が極めて低
く、光透過性に優れ、かつ吸水率が低く吸水反〕(変形
)の極めて少ない、機械的特性および耐熱性の良好な光
学用成形材料を提供することにある0 〔問題点を解決するための手段〕 本発明者らは上記の目的K11iみ鋭意検討した結果、
特定のポリビニルエーテル構造を有する樹脂よりなる成
形品においては複屈折が極めて小さく、光透過性に優れ
、吸水率が低くまた吸水時の反シが極めて少なく、カつ
耐熱性および機械的強度が良好であることを見出し本発
明に至った。すなわち本発明は特定のポリビニルエーテ
ル構造を有する樹脂を用いることを特徴とする光学用成
形品である。
As mentioned above, PMMA-? PC has problems when used as optical moldings, and various known methods for improving these problems either do not completely solve them or, even if they are solved, do so at the expense of other properties. As a result, a material suitable for use as an optical molding material cannot be obtained. Furthermore, even if new materials are used, there are still some problems. The purpose of the present invention is to have all the characteristics Ksi required when used in optical molded products, that is, extremely low birefringence, excellent light transmittance, and low water absorption and resistance to water absorption. An object of the present invention is to provide an optical molding material with very little deformation) and excellent mechanical properties and heat resistance. ,
Molded products made of resins with a specific polyvinyl ether structure have extremely low birefringence, excellent light transparency, low water absorption, extremely little curling when water is absorbed, and good heat resistance and mechanical strength. This discovery led to the present invention. That is, the present invention is an optical molded article characterized by using a resin having a specific polyvinyl ether structure.

特定のポリビニルエーテル構造とは式(りで示し・ される繰シ返1単位である。A specific polyvinyl ether structure is represented by the formula This is one unit of repetition.

+CH2−CHす 上記Rは環状飽和炭化水素基を1個若しくはそれ以上有
していることが必須である。Rが上記以外の場合、例え
ばメチル、エチル、プロピルである樹脂においてはガラ
ス転移点が低く実用的でない。また炭素数が6以下であ
る環式飽和炭化水素、例えば置換基を有しないシクロヘ
キシル基である樹脂も同様にガラス転移点が低く、実用
的でない0環        を構成する炭素数は一般
に5  ′〜20の範囲内であることがより。炭素数が
少ないと上述したメチル、エチル等の場合と同様ガラス
転移点が低いという問題点かあシ、また逆に炭素数が多
くなシ過ぎると高重合度化し難くなり結果として機械的
強度が劣シ脆くなるため本発明の用途には不適当である
。好ましい環状飽和炭化水素基の炭素数は7〜18であ
る。また、環の数については特に好ましい範囲はな埴が
、多環式飽和炭化水素基においては、環同士は例えばシ
クロヘキシルシフ党ヘキシル基の様に結合手によシ連結
されていても、或いはノルボルニル基の様に炭素原子を
共有していてもよい。
+CH2-CH It is essential that the above R has one or more cyclic saturated hydrocarbon groups. When R is other than the above, for example, resins such as methyl, ethyl, and propyl have low glass transition points and are not practical. Furthermore, cyclic saturated hydrocarbons having 6 or less carbon atoms, such as resins with cyclohexyl groups without substituents, have similarly low glass transition points, and the number of carbon atoms constituting the 0 ring, which is not practical, is generally 5' to 20. It is better to be within the range of. If the number of carbon atoms is too small, the glass transition point will be low, similar to the case of methyl, ethyl, etc. mentioned above.On the other hand, if the number of carbon atoms is too large, it will be difficult to achieve a high degree of polymerization, resulting in a decrease in mechanical strength. Since it becomes weak and brittle, it is unsuitable for use in the present invention. The preferred cyclic saturated hydrocarbon group has 7 to 18 carbon atoms. There is no particularly preferable range for the number of rings, but in a polycyclic saturated hydrocarbon group, the rings may be connected to each other by a bond, such as a cyclohexylshiffyl hexyl group, or a norbornyl group. They may share a carbon atom like a group.

マーとの組成物との形で含まれていてもよい。It may be included in the form of a composition with a mer.

含有率が20重量−未満の場合は、複屈折、耐水性・耐
吸水反り(変形)の改良効果が少なく好ましくない。
If the content is less than 20% by weight, the effect of improving birefringence, water resistance and water absorption resistance to warping (deformation) is undesirable.

本発明において用いられる樹脂において式CI)以外の
含有成分として下記(II)式で示される繰シ返し単位
を含有することが良い。
The resin used in the present invention preferably contains a repeating unit represented by the following formula (II) as a component other than formula CI).

上記(If)式において、環状飽和炭化水素基を構成す
る炭素数は一般に5〜2oの範囲内であることがよい。
In the above formula (If), the number of carbon atoms constituting the cyclic saturated hydrocarbon group is generally preferably within the range of 5 to 2 o.

炭素数が少ないと上述したメチル、エチル等の場合と同
様ガラス転移点が低い、という問題点かあシ、また逆に
炭素数が多くなシ過ぎると高重合度化し難くなシ、結果
として機械的強度が劣シ脆くなるため本発明の用途には
不適当である〇好ましい環状飽和炭化水素基の炭素数は
7〜18である。また、環の数については特に好ましい
範囲はないが、多環式飽和炭化水素基においては、環同
士は例えばシクロヘキシルシクロヘキシル基の様に結合
手により連結されていても、或いはノルボルニル基の様
に炭素原子を共有していてもよいO 本発明において用いられる環状飽和炭化水素基としては
具体的には次のものが挙げられる。
If the number of carbon atoms is too small, the glass transition point will be low, similar to the case of methyl, ethyl, etc. mentioned above, which is a problem.On the other hand, if the number of carbon atoms is too large, it will be difficult to achieve a high degree of polymerization, resulting in mechanical problems. The cyclic saturated hydrocarbon group preferably has 7 to 18 carbon atoms. There is no particularly preferable range for the number of rings, but in a polycyclic saturated hydrocarbon group, the rings may be connected to each other by a bond as in a cyclohexylcyclohexyl group, or as a carbon bond as in a norbornyl group. O which may share an atom Specific examples of the cyclic saturated hydrocarbon group used in the present invention include the following.

(1)  ノルボルニル基、ジメタノデカヒドロナフチ
ル基、トリメタッチトラデカヒドロアントリル基を基本
骨格とするもの (z)  アダマンチル基を基本骨格とするもの(8)
その他のもの 上記のうちで特に耐熱性の面からみてより好ましいもの
は(1)に属するものおよび(2)K属するものである
。ここで前者においてはその結合手が何位の炭素にあっ
てもよく、また、exo体であってもendo体であっ
てもよい。後者K>いてもその結合手は何位の炭素にあ
ってもよい。
(1) Those whose basic skeleton is a norbornyl group, dimethanodecahydronaphthyl group, or trimethachthtradecahydroanthryl group (z) Those whose basic skeleton is an adamantyl group (8)
Others Among the above, those belonging to (1) and (2) K are more preferable from the viewpoint of heat resistance. In the former case, the bond may be located at any carbon position, and may be in the exo or endo form. Even if the latter K>, the bond may be located at any carbon position.

なお、式(n)の繰り返し単位は1糧類であっても2種
以上であってもよい。複数種の繰シ返し単位からなる場
合も共重合体であっても組成物であってもよい。
In addition, the repeating unit of formula (n) may be one type or two or more types. Even when it is composed of multiple types of repeating units, it may be a copolymer or a composition.

本発明に用いられる樹脂は、公知のビニルエーテル重合
体の製法に準じて製造することができる。
The resin used in the present invention can be produced according to a known method for producing vinyl ether polymers.

すなわち例えば対応するビニルエーテルモノマーを不活
性雰囲気中で硫酸等のブレンステッド酸や三フッ化ホウ
素、四塩化チタン等のルイス酸を開始剤とする通常のカ
チオン重合により高分子量化させることができる。複数
種のRを有する樹脂を共重合によって得る場合には対応
するモノマーの混合物を出発物質とすればよい。式(1
) K該当しない七ツマ−との共重合体を得る場合も同
様である。重合の反応溶媒としては通常のカチオン重合
に用いられる溶媒例えばトルエンや塩化メチレン、ある
いは塩化メチレン/ヘキサン混合溶媒等が用いられる。
That is, for example, the corresponding vinyl ether monomer can be made to have a high molecular weight by ordinary cationic polymerization using a Brønsted acid such as sulfuric acid or a Lewis acid such as boron trifluoride or titanium tetrachloride as an initiator in an inert atmosphere. When a resin having multiple types of R is obtained by copolymerization, a mixture of corresponding monomers may be used as a starting material. Formula (1
) The same applies to the case of obtaining a copolymer with K, which does not apply. As a reaction solvent for polymerization, a solvent used in ordinary cationic polymerization, such as toluene, methylene chloride, or a methylene chloride/hexane mixed solvent, is used.

反応温度は通常−100℃程度から30℃程度の範囲で
あるが、高分子量のものを得るためには開始剤濃度を下
げ、−30℃以下の低温で重合させるのがよい。ただし
、最近報告されたヨウ化水素/ヨウ化亜鉛等のヨウ素を
含む開始剤系(C,Okamoto et al、、P
olymer Prepr、、 Jpn、 36(2)
The reaction temperature is usually in the range of about -100°C to about 30°C, but in order to obtain a polymer with a high molecular weight, it is preferable to lower the initiator concentration and carry out the polymerization at a low temperature of -30°C or lower. However, recently reported iodine-containing initiator systems such as hydrogen iodide/zinc iodide (C, Okamoto et al., P
olymer Prepr,, Jpn, 36(2)
.

237(1987))を用いると室温付近の高温でも十
分に高分子量化させることができ、工業的に有利である
237 (1987)), the molecular weight can be sufficiently increased even at high temperatures near room temperature, which is industrially advantageous.

カチオン共重合の場合には更に第3のコモノマーを添加
することもでき、第3のコモノマーとしては以下の様な
ものが挙げられる。
In the case of cationic copolymerization, a third comonomer may also be added, and examples of the third comonomer include the following.

メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、2−9
aaエチルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテ
ル、イソブチルビニルエーテル等の炭素数4以下の低級
アルキルビニルエーテル、イソブチレン、シクロペンテ
ン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、2.3−ジメチ
ル−2−ブテン等の炭素数2〜8のオレフィンモノマー
。なお、スチレンおよびp−メチルスチレン、p−イソ
プロピルスチレン等のスチレン誘導体も共重合可能であ
るが、スチレン誘導体がポリマー中に導入されると複屈
折が大きくなるためその共重合比は30重量−程度以下
にとどめるべきである。
Methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, 2-9
aa Lower alkyl vinyl ethers having 4 or less carbon atoms, such as ethyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, and isobutyl vinyl ether; olefin monomers having 2 to 8 carbon atoms, such as isobutylene, cyclopentene, cyclohexene, cycloheptene, and 2,3-dimethyl-2-butene; Note that styrene and styrene derivatives such as p-methylstyrene and p-isopropylstyrene can also be copolymerized, but when a styrene derivative is introduced into the polymer, birefringence increases, so the copolymerization ratio is about 30% by weight. It should be kept below.

共重合はまた、ラジカル重合によっても可能である。重
合反応の形態としては、アゾビスイソブチロニトリルや
過酸化ベンゾイルを開始剤とするバルク、溶液若しくは
懸濁状態での重合、ベルオキソニ硫酸カリウム等を開始
剤とする乳化重合等が採用できる。ラジカル重合の際の
第3のコモノマーとして%に好適に用いられるものはア
クリル酸メチル、アクリル酸シクロヘキシル等のアクリ
ル酸アルキルエステル、メタクリル酸メチル、メタクリ
ル酸t−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル等のメタ
クリル酸アルキルエステル、アクリロニトリル、メタク
リロニトリル等である。なお、スチレンおよびp−メチ
ルスチレン、p−イソプロピルスチレン等のスチレン誘
導体も共重合可能であるが、カチオン共重合の場合と同
様に複屈折性の面からその共重合比は30重量−程度以
下にとどめるべきである。
Copolymerization is also possible by radical polymerization. As the form of the polymerization reaction, bulk, solution or suspension polymerization using azobisisobutyronitrile or benzoyl peroxide as an initiator, emulsion polymerization using potassium beroxonisulfate or the like as an initiator, etc. can be adopted. The third comonomer used in radical polymerization is preferably an acrylic acid alkyl ester such as methyl acrylate or cyclohexyl acrylate, or an alkyl methacrylate such as methyl methacrylate, t-butyl methacrylate, or cyclohexyl methacrylate. These include ester, acrylonitrile, methacrylonitrile, etc. Incidentally, styrene and styrene derivatives such as p-methylstyrene and p-isopropylstyrene can also be copolymerized, but as in the case of cationic copolymerization, the copolymerization ratio should be approximately 30% by weight or less due to birefringence. It should be stopped.

上記重合反応によシポリマーは塊状若しくは溶媒に溶解
或いは分散した形で得られるが、必要に応じてメタノー
ル等の貧溶媒に注ぐことによって未反応上ツマ−や低重
合度のオリゴマー、乳化剤、分散剤等を除去することが
できる。
Through the above polymerization reaction, the polymer can be obtained in the form of a lump or dissolved or dispersed in a solvent, but if necessary, it can be poured into a poor solvent such as methanol to remove unreacted materials, oligomers with a low degree of polymerization, emulsifiers, and dispersants. etc. can be removed.

得られた樹脂の分子量は成形品を与えるに十分な分子量
であれば特に限定はされない。ゲルバーミエイションク
ロマトグラフイー(GPC)による数平均分子量(ポリ
スチレン換算)がs、ooo以上、好ましくは10,0
00以上あればよいo5,000以上では機械的特性が
良好となる。
The molecular weight of the obtained resin is not particularly limited as long as it is sufficient to provide a molded article. Number average molecular weight (polystyrene equivalent) determined by gel permeation chromatography (GPC) is s, ooo or more, preferably 10,0
00 or more is sufficient. If o is 5,000 or more, the mechanical properties will be good.

本発明に用いられる樹脂が組成物である場合。When the resin used in the present invention is a composition.

その調製法としては、例えば溶融下で混合する、或いは
共通の溶媒に溶解させた後に再沈殿させる、といった公
知の任意の方法を用いることができる0重合開始時に既
にポリマーを共存させて訃く、という方法も可能である
0ブレンドする樹脂としては、相溶性が良好であるもの
であれば特に限定はされないが、臭体的に例示すれば (i)  ポリ−4−メチルペンテン、ポリビニルシク
ロヘキサン、ポリアリルシクロヘキサン、ポリアリルノ
ルボルナン等のα−オレフィンのポリマー (11)シクロヘキセン、ノルボルネン、ノルボルナジ
ェン、ジメタノオクタヒドロナフタレン、トリメタノド
デカヒドロアントラセン等のいわゆる内部オレフィンを
含むポリマー < it)  ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリ
ル酸シクロヘキシル、ポリメタクリル酸ボルニル等のポ
リ(メタ)アクリル酸アルキルエステル類 等が挙げられる。゛ 本発明の光学成形品は、公知の任意の方法、例えば押出
成形、射出成形、射出圧縮成形等の溶融成形法によシ成
形することができる。この際樹脂温は通常200〜30
0℃、金型温度は40〜180℃の範囲に設定される。
As a method for preparing it, any known method can be used, such as mixing in the melt, or reprecipitation after dissolving it in a common solvent. The resin to be blended is not particularly limited as long as it has good compatibility, but examples include (i) poly-4-methylpentene, polyvinylcyclohexane, and Polymers of α-olefins such as allylcyclohexane and polyallylnorbornane (11) Polymers containing so-called internal olefins such as cyclohexene, norbornene, norbornadiene, dimetanooctahydronaphthalene, trimetanododecahydroanthracene <it) Polymethyl methacrylate, poly Examples include poly(meth)acrylic acid alkyl esters such as cyclohexyl methacrylate and polybornyl methacrylate.゛The optical molded article of the present invention can be molded by any known method, for example, melt molding methods such as extrusion molding, injection molding, and injection compression molding. At this time, the resin temperature is usually 200 to 30
0°C, and the mold temperature is set in the range of 40 to 180°C.

成形の際には必要に応じて公知の添加剤例えば熱安定剤
、光安定剤、帯電防止剤、潤滑剤、無機もしくは有機の
充填剤、染料、顔料等を加えてもよい。
During molding, known additives such as heat stabilizers, light stabilizers, antistatic agents, lubricants, inorganic or organic fillers, dyes, pigments, etc. may be added as necessary.

本発明の光学成形品は一旦平板や簡単な形状に成形した
後に無機または有機の材料と積層する、接着或いは融着
によシ複雑な形状とする、表面にエンボス加工を施すと
いった高次加工を行なうことも可能である。
The optical molded product of the present invention can be formed into a flat plate or simple shape and then subjected to high-order processing such as laminating it with inorganic or organic materials, forming it into a complex shape by adhesion or fusion, or embossing the surface. It is also possible to do so.

本発明の樹脂を例えば読み出し専用光記録媒体用基体と
して用いる場合には、必要に応じてグループや信号等を
記録した金型を用いて射゛出成形等によりm基体を得る
。これにアルミニウム等の金属を真空蒸着等の方法によ
〕情報面上に成膜し、次いで保護ポリマー層を形成する
かもしくは2枚貼シ合わせる。情報記録層は本発明の樹
脂を用いた平坦な基体の上に光硬化性の樹脂を用いてい
わゆる2P法によって設けてもよい。また、その他任意
の方式によって情報記録部を構成することができる。例
えば成形した基体の表面に酸化テルル゛やテルビウム−
鉄−コバルト系合金等の無機物或いはシアニン系色素等
の有機物の薄膜を設ける等である。
When the resin of the present invention is used, for example, as a substrate for a read-only optical recording medium, an m-substrate is obtained by injection molding or the like using a mold in which groups, signals, etc. are recorded as necessary. Then, a film of metal such as aluminum is formed on the information surface by a method such as vacuum evaporation, and then a protective polymer layer is formed or two layers are pasted together. The information recording layer may be provided on a flat substrate using the resin of the present invention using a photocurable resin by the so-called 2P method. Further, the information recording section can be configured using any other method. For example, tellurium oxide or terbium is added to the surface of the molded substrate.
For example, a thin film of an inorganic material such as an iron-cobalt alloy or an organic material such as a cyanine dye is provided.

上記の様な優れ九特性を活かし1本発明の光学成形品は
以下の如き用途に用いることができる。
Taking advantage of the above-mentioned excellent characteristics, the optical molded article of the present invention can be used in the following applications.

(1)眼鏡、カメラ、ルーペ、ビデオプロジェクタ等の
凹/凸しンズ或いはフレネルレンズ等のレンズ (H)  光デイスクプレーヤピックアップ等の回折格
子 < +++ )プリズム、ビームスプリッタ等の各種光
学素子 (1v)光デイスク基板材 (い 光カード基材 (vl)液晶表示素子用基板 (viD  照明器具部品 (viii)各種看板類 〔実施例〕 以下実施例によシ本発明を更に詳細に説明する。
(1) Lenses such as concave/convex lenses or Fresnel lenses for glasses, cameras, loupes, video projectors, etc. (H) Diffraction gratings for optical disc player pickups, etc. Various optical elements such as prisms and beam splitters (1V) Optical disk substrate material (i) Optical card substrate (vl) Liquid crystal display element substrate (vid) Lighting equipment parts (viii) Various signboards [Examples] The present invention will be explained in more detail with reference to Examples below.

なお物性値は下記の方法に従って測定した。Note that the physical property values were measured according to the following method.

■ 数平均分子量及び分子量分布: cpc (ポリス
チレン換算)により求めた。
(2) Number average molecular weight and molecular weight distribution: Determined by cpc (polystyrene equivalent).

■ ガラス転移点:示差熱分析法(窒素中、昇温速度1
0℃/分)によシ測定した。
■ Glass transition point: Differential thermal analysis method (in nitrogen, heating rate 1
0° C./min).

■ 光透過率:熱プレスによシ2■厚に成形した試料の
波長766 nmの光の透過率を分光光度計によル測定
した0 ■ 複屈折(リターデーション):直径40冒、厚さ6
■に成形した試料を熱プレスによシ1■厚に圧延し、中
心から30mの点について光源にヘリウム−ネオンレー
ザ(波長aasnm)を用い偏光顕微鏡の原理を応用し
て測定した(高分子学会高分子実験学編集委員会編「高
分子実験学」第17巻、p、26(1984)共立出版
参照)。
■ Light transmittance: The transmittance of light at a wavelength of 766 nm of a sample molded to a thickness of 2 mm by heat press was measured using a spectrophotometer. ■ Birefringence (retardation): Diameter 40 mm, thickness 6
The sample molded in 2 was heated and rolled to a thickness of 1 in. Measurements were made at a point 30 m from the center using a helium-neon laser (wavelength AASN) as a light source and applying the principle of a polarizing microscope (Polymer Science Society (Refer to Kyoritsu Shuppan, vol. 17, p. 26, edited by the Polymer Experimental Science Editorial Committee, ``Kobunshi Experimental Science,'' 1984)).

■ 光弾性係数:熱プレスにより2FMX10cmx2
■厚に成形した板についてヘリウム−ネオンレーザな光
源として副島らの方法(高分子学会高分子冥験学編集委
員会編「高分子実験学」第10巻、9.296(198
3)共立出版)に準拠して求めた。
■ Photoelastic coefficient: 2FMX10cmx2 by heat press
■The method of Soejima et al. using a helium-neon laser light source for a thickly formed plate (edited by the Society of Polymer Science and Technology's Editorial Committee for Polymer Experiments, Vol. 10, 9.296 (198
3) Kyoritsu Shuppan).

■ ヤング率:引張試験機とひずみゲージを用い、応力
とそれによって生じた試料の伸びとの関係から測定した
■ Young's modulus: Measured using a tensile tester and strain gauge based on the relationship between stress and the resulting elongation of the sample.

■ 表面硬度:鉛線硬度試験(JIS K−5400)
によった。
■ Surface hardness: lead wire hardness test (JIS K-5400)
According to

■ 吸水率: ASTM D570に準拠して求めた。■Water absorption rate: Determined in accordance with ASTM D570.

■ 吸水反応’ 2cmX 10cInX 2−厚の板
状試料の片面にアルミニウムを1000人厚に蒸着し、
これを23℃の蒸留水に浸漬して発生した反り(中央部
の浮き)の最大値を吸水反応とした。
■ Water absorption reaction' Aluminum was evaporated to a thickness of 1000 mm on one side of a 2 cm x 10 cIn x 2-thick plate sample.
This was immersed in distilled water at 23° C., and the maximum value of warpage (lifting in the center) was defined as the water absorption reaction.

実施例1 窒素置換した重合管に乾燥トルエン200dおよび三フ
ッ化ホウ素エチルエーテル錯体23η(0,16ミリモ
ル)を入れ、ドライアイス−メタノールパスで十分冷却
した後に水素化カルシウム上から蒸留したネオペンチル
ビニルエーテル18.2F(0,16モル)を加えて2
4時間重合させた。
Example 1 200d of dry toluene and 23η (0.16 mmol) of boron trifluoride ethyl ether complex were placed in a polymerization tube purged with nitrogen, and after sufficiently cooling with a dry ice-methanol pass, neopentyl vinyl ether was distilled from calcium hydride. Add 18.2F (0.16 mol) to 2
Polymerization was carried out for 4 hours.

反応を少量のメタノールを加えることによシ停止させた
後トルエン100Wtlを加えて希釈し、21のメタノ
ール中に注いで白色のポリマーを再沈回収した。得られ
たポリマーのlHNMRスペクトルにビニル基の吸収が
認められないこと、及び元素分析の結果から、ネオペン
チルビニルエーテルの付加重合体であることが確認され
た。GPCKよる数平均分子量(ポリスチレン換算)は
110,000、分子量分布は2.86であった。
After the reaction was stopped by adding a small amount of methanol, it was diluted by adding 100 Wtl of toluene, and the white polymer was reprecipitated and recovered by pouring it into 21 methanol. From the fact that no vinyl group absorption was observed in the 1H NMR spectrum of the obtained polymer and from the results of elemental analysis, it was confirmed that it was an addition polymer of neopentyl vinyl ether. The number average molecular weight (polystyrene equivalent) by GPCK was 110,000, and the molecular weight distribution was 2.86.

得られたポリマーのガラス転移点は125℃であ)、十
分な耐熱性を有していることが確認された。更に上述の
ポリマーよシ種々の試験片を成形し、物性を測定した。
It was confirmed that the obtained polymer had a glass transition point of 125° C.) and had sufficient heat resistance. Furthermore, various test pieces were molded from the above-mentioned polymer and their physical properties were measured.

比較のためにポリメタクリル酸メチル及びビスフェノー
ルAポリカーボネートの物性も測定し、結果を併せて表
1に示した。
For comparison, the physical properties of polymethyl methacrylate and bisphenol A polycarbonate were also measured, and the results are also shown in Table 1.

本発明の実施例に従う場合は光学部品として優れた物性
を有していることがわかる〇 光記碌媒体としての特性 本発明の成形材料を用いてテクノプラス社製SIM−4
749A射出成形機によシ外径1351%内径1、5 
cm 、厚さ1.2 vmに射出成形した基体を用い、
記録部層として醸化テルルを真空蒸着法によシ表面に成
膜した光ディスクの書き込み/読み出し/消去特性を評
価した結果、基体にポリメタクリル酸メチルを用いた場
合と全く同等の性能を示した。
It can be seen that in the case of following the examples of the present invention, it has excellent physical properties as an optical component〇Characteristics as an optical recording medium SIM-4 made by Technoplus Co., Ltd. using the molding material of the present invention
749A injection molding machine outer diameter 1351% inner diameter 1,5
cm, using an injection molded substrate with a thickness of 1.2 vm,
An evaluation of the writing/reading/erasing characteristics of an optical disk in which fermented tellurium was deposited as a recording layer on the surface using a vacuum evaporation method showed that the performance was exactly the same as when polymethyl methacrylate was used as the substrate. .

また、ポリメタクリル酸メチルを用いたものは、40℃
、相対湿度95チの条件下で120時間放置すると吸湿
忙より反応が生じ記録媒体としての使用が不能になった
のに対し、本発明の成形材料を用いたものは同条件下で
は吸湿反応は発生せず、吸湿に基づく特性の経時的低下
は認められなかった0 回折格子用基体としての特性 本発明の成形材料を用いて成形した平滑基板上に1特開
昭62−95525号に記載の方法に従い、メタクリル
酸2−ブテニルとメタクリル酸メチルの共重合体(共重
合モル比1:3.3、分子量回折格子用フォトマスクを
通して紫外線を照射することによりパターン露光を行な
った。次いで95℃にて真空乾燥して未反応の3−ベン
ゾイルベンゾフェノンを除去することによシ回折格子を
作製した。40℃、相対湿度95%の条件下で24時間
放置前後の波面収差は実質的に変化はなかった。
In addition, those using polymethyl methacrylate are heated at 40°C.
When left for 120 hours at a relative humidity of 95 degrees, a reaction occurred due to moisture absorption, making it impossible to use it as a recording medium, whereas the molding material of the present invention did not exhibit any moisture absorption reaction under the same conditions. No deterioration of properties over time due to moisture absorption was observed.0 Properties as a substrate for a diffraction grating A smooth substrate molded using the molding material of the present invention was coated with According to the method, pattern exposure was performed by irradiating ultraviolet rays through a photomask for molecular weight diffraction gratings. A diffraction grating was prepared by vacuum drying to remove unreacted 3-benzoylbenzophenone.There was virtually no change in wavefront aberration before and after being left for 24 hours at 40°C and 95% relative humidity. Ta.

比較のためにポリメタクリル酸メチルを基板として同様
に回折格子を作製し評価したところ、波面収差が増大し
た。
For comparison, when a diffraction grating was similarly prepared using polymethyl methacrylate as a substrate and evaluated, the wavefront aberration increased.

比較例1 ネオペンチルビニルエーテルに換えてイソブチルビニル
エーテルを用いた以外は実施例1と同様にして重合を行
ないポリ(イソプチルビニルエーチル)を得た。該ポリ
マーの数平均分子量は100,000、全く成形不能で
あった。
Comparative Example 1 Polymerization was carried out in the same manner as in Example 1 except that isobutyl vinyl ether was used instead of neopentyl vinyl ether to obtain poly(isobutyl vinyl ether). The polymer had a number average molecular weight of 100,000 and was completely unmoldable.

実施例2〜4 対応スるアルコールとイソブチルビニルエーテルとの酢
酸第二水銀を触媒とするエーテル交換反応によシ種々の
ビニルエーテルモノマーを合成した。モノマーの精製は
シリカゲルを用いてヘキサンを展開溶媒としたカラムク
ロマドグ2フイーによって行なった。
Examples 2 to 4 Various vinyl ether monomers were synthesized by an ether exchange reaction between the corresponding alcohol and isobutyl vinyl ether using mercuric acetate as a catalyst. Purification of the monomer was carried out using column chromatography using silica gel and hexane as a developing solvent.

モノマーを種々の共重合組成に変更した以外は実施例1
と同様にして重合を行ない、ポリマーを得た。得られた
ポリマーの共重合組成を元素分析及びIHNMRスペク
トールよシ求め、各種物性値と対応させて表2に示した
Example 1 except that the monomer was changed to various copolymer compositions.
Polymerization was carried out in the same manner as above to obtain a polymer. The copolymer composition of the obtained polymer was determined by elemental analysis and IHNMR spectrum, and is shown in Table 2 in correspondence with various physical property values.

表2よシ、本発明の実施例に従う共重合体は光学部品と
して優れた物性を有していることがわかる0 実施例5〜7 実施例1で得られたポリ(ネオペンチルビニルエーテル
)と各種ポリマーとを240℃で溶融混練し、成形材料
を得た。ブレンドに用いたポリマーの構造及びそのブレ
ンド比と得られた組成物の各種物性値を表3に示した。
Table 2 shows that the copolymers according to the examples of the present invention have excellent physical properties as optical parts. Examples 5 to 7 The poly(neopentyl vinyl ether) obtained in Example 1 and various Polymer was melt-kneaded at 240°C to obtain a molding material. Table 3 shows the structure of the polymer used in the blend, its blend ratio, and various physical property values of the resulting composition.

本発明の実施例に従う組成物は光学部品として優れた物
性を有していることがわかる。
It can be seen that the compositions according to the examples of the present invention have excellent physical properties as optical components.

以下余白 〔発明の効果〕 以上述べてきたように、本発明の成形材料を用いること
により光学用途に適した、すなわち以下の1ifF性を
有する成形品が提供される。
Margins below [Effects of the Invention] As described above, by using the molding material of the present invention, a molded product suitable for optical use, that is, having the following 1ifF properties, is provided.

■ 光透過率が85%以上あシ光透過性に優れている。■ Light transmittance is 85% or more. Excellent light transmittance.

■ 光弾性係数の絶対値が30 X 10−” d/d
)’n以下と小さく、複屈折が少ない。
■ The absolute value of the photoelastic coefficient is 30 x 10-” d/d
)'n or less, with little birefringence.

■ ガラス転位点が高く(通常90℃以上、好ま 。■ High glass transition point (usually 90°C or higher, preferred).

しくけ100〜200℃の範囲)耐熱性が良好である。(temperature range of 100 to 200°C) Good heat resistance.

■ 吸水率が0.2%以下と低く吸水による反シ・変形
が極めて少ない。
■ Water absorption rate is low at 0.2% or less, and there is extremely little chance of warping or deformation due to water absorption.

■ 表面硬度が高く傷が付きにくい○ 特許出願人 株式会社 り ラ し■High surface hardness makes it hard to get scratches○ Patent applicant RiRashi Co., Ltd.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)下記( I )式で表わされる繰り返し単位を含み
、かつASTMD570に準備した吸水率が0.2%以
下である樹脂からなる光学用成形品。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (Rは炭素数4以下のアルキル基若しくはアルコキシ基
が置換していてもよい炭素数7 以上の単環式あるいは多環式飽和炭化水素 基)
(1) An optical molded article made of a resin containing a repeating unit represented by the following formula (I) and having a water absorption rate of 0.2% or less according to ASTM D570. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (I) (R is a monocyclic or polycyclic saturated hydrocarbon group with 7 or more carbon atoms which may be substituted with an alkyl group with 4 or less carbon atoms or an alkoxy group)
(2)( I )式のR基が炭素数4以下のアルキル基又
はアルコキシ基がひとつ若しくはそれ以上置換していて
もよいノルボルニル基、ジメタノデカヒドロナフチル基
又はトリメタノテトラデカヒドロアントリル基である特
許請求の範囲第1項記載の光学用成形品。
(2) In the formula (I), the R group is an alkyl group having 4 or less carbon atoms, or a norbornyl group which may be substituted with one or more alkoxy groups, a dimethanodecahydronaphthyl group, or a trimetanotetradecahydroanthryl group An optical molded article according to claim 1.
(3)( I )式のR基が炭素数4以下のアルキル基又
はアルコキシ基がひとつ若しくはそれ以上置換していて
もよいアダマンチル基である特許請求の範囲第1項記載
の光学用成形品。
(3) The optical molded article according to claim 1, wherein the R group in formula (I) is an adamantyl group optionally substituted with one or more alkyl groups or alkoxy groups having 4 or less carbon atoms.
(4)樹脂の数平均分子量が5,000以上である特許
請求の範囲第1項、第2項又は第3項記載の光学用成形
品。
(4) The optical molded article according to claim 1, 2, or 3, wherein the resin has a number average molecular weight of 5,000 or more.
(5)ガラス転移温度が90℃以上である特許請求の範
囲第1項記載の光学用成形品。
(5) The optical molded article according to claim 1, which has a glass transition temperature of 90° C. or higher.
(6)ガラス転移温度が100℃以上200℃以下の範
囲である特許請求の範囲第1項記載の光学用成形品。
(6) The optical molded article according to claim 1, which has a glass transition temperature in the range of 100°C or more and 200°C or less.
(7)光弾性係数の絶対値が30×10^−^1^3c
m^2/dyn以下である特許請求の範囲第1項〜第6
項のいずれかに記載の光学用成形品。
(7) The absolute value of the photoelastic coefficient is 30×10^-^1^3c
Claims 1 to 6 which are less than or equal to m^2/dyn
The optical molded article described in any of the above.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006069896A (en) * 2004-08-31 2006-03-16 Daicel Chem Ind Ltd Alkoxy group-containing cyclic compound, polymerizable composition and cured product thereof
EP1826196A2 (en) * 2001-08-30 2007-08-29 Daicel Chemical Industries, Ltd. Vinyl ether compounds
JP2008137974A (en) * 2006-12-05 2008-06-19 Nippon Carbide Ind Co Inc 1-indanyl vinyl ether
JP2009256554A (en) * 2008-04-21 2009-11-05 Univ Of Fukui Curable resin composition and its cured product

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