JP3140150B2 - Coating forming method and optical disk - Google Patents
Coating forming method and optical diskInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、特に、傷防止のために
光ディスク等の表面に設けられるハードコート層等の被
覆形成方法と、それを用いた光ディスクとに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention particularly relates to a method for forming a coating such as a hard coat layer provided on the surface of an optical disk or the like to prevent scratches, and an optical disk using the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】大容量情報担持媒体として光ディスクが
注目されている。光ディスクは、通常、光記録ディスク
と再生専用光ディスクに大きく分類される。光記録ディ
スクとしては、光磁気記録ディスク等の消去可能タイ
プ、あるいはピット形成型光記録ディスク等の追記タイ
プなどがあり、再生専用光ディスクとしては、レーザー
ディスクやコンパクトディスクなどがある。2. Description of the Related Art Optical discs have attracted attention as large-capacity information carrying media. Optical disks are generally broadly classified into optical recording disks and read-only optical disks. The optical recording disk includes an erasable type such as a magneto-optical recording disk and a write-once type such as a pit-formed optical recording disk, and the read-only optical disk includes a laser disk and a compact disk.
【0003】これらの光ディスクは、基板上に記録層あ
るいは情報担持層を有する構成となっており、基板材料
としては、成形が容易で、軽量で破損しにくく、取扱が
容易で、しかも低コストであることから、透明性を有す
る各種樹脂が用いられている。しかし、樹脂基板は硬度
が低いため傷つき易い。光ディスクは一般に基板を通し
て記録光や再生光を照射するため、基板に傷が生じると
情報の記録や再生が困難となる場合が生じる。[0003] These optical discs have a structure in which a recording layer or an information carrying layer is provided on a substrate. As a substrate material, molding is easy, light weight, hard to break, easy to handle, and low cost. For this reason, various resins having transparency are used. However, the resin substrate is easily damaged due to low hardness. Generally, an optical disk irradiates recording light or reproduction light through a substrate, so that if the substrate is damaged, it may be difficult to record or reproduce information.
【0004】このため、基板の少なくとも光入射側表面
には、損傷防止のためのハードコート層が形成されてい
る。基板の光入射面側に設けられるハードコート層とし
ては、例えば特願昭62−72888号に開示されてい
るオリゴエステルアクリレート含有組成物の紫外線硬化
膜がある。For this reason, a hard coat layer for preventing damage is formed on at least the light incident side surface of the substrate. As the hard coat layer provided on the light incident surface side of the substrate, for example, there is an ultraviolet cured film of an oligoester acrylate-containing composition disclosed in Japanese Patent Application No. 62-72888.
【0005】ところで、特開昭60−168708号公
報、特開昭61−120816号公報、特開昭61−1
15912号公報、特開昭61−115916号公報、
特願昭61−95905号公報、特願昭61−9090
6号公報、特開昭61−271308号公報、特開昭6
1−272216号公報等には、環状オレフィンとエチ
レンとの共重合体の2種以上をブレンドしたアモルファ
スポリオレフィンを、光ディスクの基板材料として用い
る旨が開示されている。このものは、従来、光ディスク
の基板材料として汎用されてきたポリカーボネートや、
ポリメチルメタクリレートと比較して、格段とすぐれた
光学特性を示し、吸水性も極めて少なく、光ディスクの
基板材料としてきわめて有利である。Incidentally, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 60-168708, 61-120816, and 61-1
No. 15912, Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-115916,
Japanese Patent Application No. 61-95905, Japanese Patent Application No. 61-9090
No. 6, JP-A-61-271308, JP-A-61-271308
Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-272216 discloses that an amorphous polyolefin obtained by blending two or more copolymers of a cyclic olefin and ethylene is used as a substrate material of an optical disk. This is a material that has been widely used as a substrate material for optical discs,
Compared with polymethyl methacrylate, it shows remarkably excellent optical characteristics, has extremely low water absorption, and is extremely advantageous as a substrate material for optical disks.
【0006】しかし、紫外線硬化型のハードコート層
等、各種透明樹脂の被覆との接着性や密着性がきわめて
低いことが判明した。[0006] However, it has been found that the adhesiveness and adhesion to various transparent resin coatings such as an ultraviolet-curable hard coat layer are extremely low.
【0007】これに対処するため、被覆形成に際し、基
板材料表面に種々のカップリング剤を用いて処理する方
法やプライマー処理する方法、さらに基板表面にクロム
酸処理、火炎処理、コロナ放電処理する方法などが考え
られる。[0007] To cope with this, a method of treating the surface of the substrate with various coupling agents or a method of applying a primer when forming the coating, and a method of treating the surface of the substrate with chromic acid, flame, or corona discharge And so on.
【0008】しかし、このなかで、カップリング処理
は、一般に、無機物と有機物とを結合するときに施され
るものであり、ほとんど効果がない。However, among these, the coupling treatment is generally performed when an inorganic substance and an organic substance are combined, and has little effect.
【0009】また、プライマー処理は、特定のプライマ
ーと樹脂との組合せにおいて効果が得られるのみであ
り、プライマー処理を適用して一律に効果が得られるわ
けではない。さらには、このほかの方法においても十分
な効果を得ることはできない。In addition, the effect of the primer treatment can only be obtained with a combination of a specific primer and a resin, but the effect cannot always be obtained uniformly by applying the primer treatment. Furthermore, other methods cannot provide a sufficient effect.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】本発明の主たる目的
は、環状オレフィンの重合体に透明樹脂被覆を形成する
場合、接着性が格段と向上した被覆形成方法と、この被
覆形成方法を用いて形成したハードコート層を有する光
ディスクを提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The main object of the present invention is to provide a method for forming a transparent resin coating on a polymer of a cyclic olefin, in which the adhesion is significantly improved, and a method for forming the coating using the coating method. To provide an optical disk having a hard coat layer.
【0011】[0011]
【課題を解決しようとする手段】このような目的は下記
(1)〜(18)の本発明によって達成される。 (1) 環状オレフィンの重合体の表面に、エチレン−
酢酸ビニル共重合体および低密度ポリエチレンの少なく
とも1種以上の熱可塑性樹脂を用いて、下塗り層を形成
し、次いで、この表面に、透明樹脂の被覆を形成するこ
とを特徴とする被覆形成方法。 (2) 前記熱可塑性樹脂に加え、さらに透明樹脂の被
覆成分となりうる成分を用いる上記(1)に記載の被覆
形成方法。 (3) 前記下塗り層を形成する際に用いる塗布溶媒が
芳香族炭化水素系溶媒および脂環式炭化水素系溶媒の少
なくとも1種以上を含む上記(1)または(2)に記載
の被覆形成方法。 (4) 前記芳香族炭化水素系溶媒がトルエンである上
記(3)に記載の被覆形成方法。 (5) 前記下塗り層の厚さが、乾燥膜厚で0.1〜1
00μm である上記(1)ないし(4)のいずれかに記
載の被覆形成方法。 (6) 前記重合体が透明成形体である上記(1)ない
し(5)のいずれかに記載の被膜形成方法。 (7) 前記環状オレフィンの重合体が、下記化3の繰
り返し構造単位を有する上記(1)ないし(6)のいず
れかに記載の被覆形成方法。This and other objects are attained by the present invention which is defined below as (1) to (18). (1) An ethylene-
A method for forming a coating, comprising: forming an undercoat layer using at least one thermoplastic resin of a vinyl acetate copolymer and a low-density polyethylene; and forming a coating of a transparent resin on the surface of the undercoat layer. (2) The coating forming method according to the above (1), wherein a component that can be a coating component of the transparent resin is further used in addition to the thermoplastic resin. (3) The coating forming method according to (1) or (2), wherein the coating solvent used for forming the undercoat layer contains at least one of an aromatic hydrocarbon solvent and an alicyclic hydrocarbon solvent. . (4) The method for forming a coating according to (3), wherein the aromatic hydrocarbon solvent is toluene. (5) The thickness of the undercoat layer is 0.1 to 1 as a dry film thickness.
The coating forming method according to any one of the above (1) to (4), wherein the coating thickness is 00 μm. (6) The method according to any one of the above (1) to (5), wherein the polymer is a transparent molded article. (7) The coating forming method according to any one of the above (1) to (6), wherein the polymer of the cyclic olefin has a repeating structural unit represented by the following chemical formula 3.
【0012】[0012]
【化3】 Embedded image
【0013】(8) 前記環状オレフィンの重合体が、
下記化4の環状オレフィンとエチレンとの共重合体であ
る上記(1)ないし(7)のいずれかに記載の被覆形成
方法。(8) The cyclic olefin polymer is
The method for forming a coating according to any one of the above (1) to (7), which is a copolymer of a cyclic olefin of the following formula 4 and ethylene.
【0014】[0014]
【化4】 Embedded image
【0015】(9) 前記透明樹脂の被覆が、放射線硬
化型化合物の塗膜を放射線硬化したものである上記
(1)ないし(8)のいずれかに記載の被覆形成方法。 (10) 前記放射線硬化型化合物がアクリル基を有す
る上記(9)に記載の被覆形成方法。 (11) 前記環状オレフィンの重合体の基板を有し、
この基板の少なくとも一方の面に、上記(1)ないし
(10)のいずれかに記載の被覆形成方法によって形成
された透明樹脂の被覆を有し、他方の面に記録層または
情報担持層を担持した光ディスク。 (12) 前記基板は、環状オレフィンの重合体を射出
成形したものである上記(11)に記載の光ディスク。 (13) 前記基板は、その表層部に熱軟化点140℃
以下のスキン層を有する上記(12)に記載の光ディス
ク。 (14) 前記基板は記録層を担持しており、前記基板
は、記録層側表層部に熱軟化点140℃以下のスキン層
を有する上記(12)または(13)に記載の光ディス
ク。 (15) 前記基板は、一方の面に記録層を担持してお
り、この記録層を形成した面に下塗り層を形成した後、
樹脂製の保護コートを設けた上記(11)ないし(1
4)のいずれかに記載の光ディスク。 (16) 前記下塗り層が熱可塑性樹脂を用いて形成さ
れる上記(15)に記載の光ディスク。 (17) 前記熱可塑性樹脂がエチレン系重合体である
上記(16)に記載の光ディスク。 (18) 前記保護コートは、放射線硬化型化合物を紫
外線硬化したものである上記(11)ないし(17)の
いずれかに記載の光ディスク。(9) The coating forming method according to any one of the above (1) to (8), wherein the coating of the transparent resin is obtained by radiation-curing a coating film of a radiation-curable compound. (10) The coating forming method according to (9), wherein the radiation-curable compound has an acrylic group. (11) having a substrate of the cyclic olefin polymer,
At least one surface of the substrate has a transparent resin coating formed by the coating forming method according to any one of the above (1) to (10), and a recording layer or an information carrying layer is carried on the other surface. Optical disk. (12) The optical disk according to (11), wherein the substrate is obtained by injection-molding a polymer of a cyclic olefin. (13) The surface softening point of the substrate is 140 ° C.
The optical disc according to the above (12), having the following skin layer. (14) The optical disc according to the above (12) or (13), wherein the substrate carries a recording layer, and the substrate has a skin layer having a thermal softening point of 140 ° C. or less on the recording layer side surface portion. (15) The substrate carries a recording layer on one surface, and after forming an undercoat layer on the surface on which the recording layer is formed,
The above (11) to (1) provided with a resin protective coat.
The optical disc according to any of 4). (16) The optical disc according to (15), wherein the undercoat layer is formed using a thermoplastic resin. (17) The optical disc according to (16), wherein the thermoplastic resin is an ethylene-based polymer. (18) The optical disc according to any one of (11) to (17), wherein the protective coat is obtained by curing a radiation-curable compound with ultraviolet light.
【0016】[0016]
【0017】[0017]
【0018】[0018]
【0019】[0019]
【0020】[0020]
【0021】[0021]
【0022】[0022]
【0023】[0023]
【0024】[0024]
【0025】[0025]
【0026】[0026]
【0027】[0027]
【0028】[0028]
【0029】[0029]
【0030】[0030]
【0031】[0031]
【0032】[0032]
【0033】なお、本出願人は上記目的を達成するもの
として、先に、環状オレフィンの重合体の表面に紫外線
を照射し、次いで、この表面に、透明樹脂の被覆を形成
することを特徴とする被覆形成方法を提案している(特
願平3−177162号)。そして、さらに、透明樹脂
の被覆との接着性を向上させる方法を検討し、本発明を
なすに至ったものである。In order to achieve the above object, the applicant of the present invention is characterized in that the surface of a cyclic olefin polymer is first irradiated with ultraviolet rays, and then a transparent resin coating is formed on this surface. (Japanese Patent Application No. 3-177162). Further, the present inventors have studied a method for improving the adhesiveness with the transparent resin coating, and have accomplished the present invention.
【0034】[0034]
【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。[Specific Configuration] Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be described in detail.
【0035】本発明において、透明樹脂被覆は、環状オ
レフィンの重合体表面に形成される。本発明が適用可能
な環状オレフィンの重合体としては、公知の種々のもの
であってよいが、特に光ディスク用基板として有用な環
状オレフィンの重合体としては、前記化3をくり返し構
造単位とするアモルファスの環状ポリオレフィンである
ことが好ましい。In the present invention, the transparent resin coating is formed on the surface of the polymer of the cyclic olefin. As the cyclic olefin polymer to which the present invention can be applied, various known polymers may be used. Particularly, as the cyclic olefin polymer useful as an optical disk substrate, an amorphous polymer having the above-mentioned chemical formula 3 as a repeating structural unit may be used. Is preferred.
【0036】前記化3において、R1 およびR2 は、な
かでも炭化水素残基であることが好ましく、特に、炭素
数1〜5の非置換のアルキル基であることが好ましい。
用いる環状ポリオレフィンは、このような化3のくり返
し単位のなかの同一の単位のみからなるホモポリマーで
あることが好ましいが、R1 、R2 あるいはq の異なる
化3のくり返し単位の複数からなるコポリマーであって
もよい。また、場合によっては、これに加え他の構造単
位を含むコポリマーであってもよい。そして、その数平
均分子量は、5千〜10万、特に1万〜4万であること
が好ましい。In the above formula 3, R 1 and R 2 are preferably a hydrocarbon residue, particularly preferably an unsubstituted alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
The cyclic polyolefin used is preferably a homopolymer consisting of only the same unit among the repeating units of the above formula 3, but a copolymer comprising a plurality of repeating units of the formula 3 having different R 1 , R 2 or q. It may be. In some cases, a copolymer containing other structural units in addition to the above may be used. And, the number average molecular weight is preferably 5,000 to 100,000, particularly preferably 10,000 to 40,000.
【0037】なお、化3において、ハロゲン原子、エス
テル基、ニトリル基、ピリジル基は以下において極性基
と称することもある。In the chemical formula 3, the halogen atom, ester group, nitrile group and pyridyl group may be hereinafter referred to as polar groups.
【0038】このような環状ポリオレフィンは、単量体
として、例えば、ノルボルネン、およびそのアルキルお
よび/またはアルキリデン置換体、例えば、5−メチル
−2−ノルボルネン、5,6−ジメチル−2−ノルボル
ネン、5−エチル−2−ノルボルネン、5−ブチル−2
−ノルボルネン、5−エチリデン−2−ノルボルネン
等:ジシクロペンタジエン、2,3−ジヒドロジシクロ
ペンタジエン、これらのメチル、エチル、プロピル、ブ
チル等のアルキル置換体、およびハロゲン等の極性基置
換体:ジメタノオクタヒドロナフタレン、そのアルキル
および/またはアルキリデン置換体、およびハロゲン等
の極性基置換体、例えば、6−メチル−1,4:5,8
−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オ
クタヒドロナフタレン、6−エチル−1,4:5,8−
ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オク
タヒドロナフタレン、6−エチリデン−1,4:5,8
−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オ
クタヒドロナフタレン、6−クロロ−1,4:5,8−
ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オク
タヒドロナフタレン、6−シアノ−1,4:5,8−ジ
メタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタ
ヒドロナフタレン、6−ピリジル−1,4:5,8−ジ
メタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタ
ヒドロナフタレン、6−メトキシカルボニル−1,4:
5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8
a−オクタヒドロナフタレン等;シクロペンタジエンの
3〜4量体、例えば、4,9:5,8−ジメタノ−3
a,4,4a,5,8,8a,9,9a−オクタヒドロ
−1H−ベンゾインデン、4,11:5,10:6,9
−トリメタノ−3a,4,4a,5,5a,6,9,9
a,10,10a,11,11a−ドデカヒドロ−1H
−シクロペンタアントラセン等を使用し、公知の開環重
合方法により重合して得られる開環重合体を、通常の水
素添加方法により水素添加して製造される飽和重合体で
ある。Such cyclic polyolefins include, as monomers, for example, norbornene and its alkyl and / or alkylidene-substituted products, for example, 5-methyl-2-norbornene, 5,6-dimethyl-2-norbornene, -Ethyl-2-norbornene, 5-butyl-2
-Norbornene, 5-ethylidene-2-norbornene and the like: dicyclopentadiene, 2,3-dihydrodicyclopentadiene, alkyl-substituted products such as methyl, ethyl, propyl and butyl, and polar-substituted products such as halogen: di Methanooctahydronaphthalene, its alkyl and / or alkylidene-substituted products, and polar group-substituted products such as halogens, for example, 6-methyl-1,4: 5,8
-Dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-ethyl-1,4: 5,8-
Dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-ethylidene-1,4: 5,8
-Dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-chloro-1,4: 5,8-
Dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-cyano-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8, 8a-octahydronaphthalene, 6-pyridyl-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-methoxycarbonyl-1,4:
5,8-Dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8
a-octahydronaphthalene or the like; cyclopentadiene trimer or tetramer, for example, 4,9: 5,8-dimethano-3
a, 4,4a, 5,8,8a, 9,9a-octahydro-1H-benzoindene, 4,11: 5,10: 6,9
-Trimethano-3a, 4,4a, 5,5a, 6,9,9
a, 10,10a, 11,11a-Dodecahydro-1H
A saturated polymer produced by subjecting a ring-opened polymer obtained by polymerization using cyclopentaanthracene or the like by a known ring-opening polymerization method to hydrogenation by an ordinary hydrogenation method.
【0039】なお、このような環状ポリオレフィンにつ
いては、特開平3−223341号、特願昭60−26
024号等に記載されている。Such cyclic polyolefins are described in JP-A-3-223341 and Japanese Patent Application No. 60-26.
024 and the like.
【0040】このような環状ポリオレフィンは、市販品
を用いてもよく、例えば日本ゼオン社製Zeonex 280等と
して市販されているものを用いることができる。As such a cyclic polyolefin, a commercially available product may be used. For example, a product commercially available as Zeonex 280 manufactured by Zeon Corporation can be used.
【0041】また、環状オレフィンの重合体としては、
特開平2−257446号等に記載された前記化4の環
状オレフィンとエチレンとの共重合体の好ましくはブレ
ンド体も好適である。前記化4で表わされる環状オレフ
ィンは、シクロペンタジエン類とこれに相応するオレフ
ィン類とをディールス・アルダー反応で縮合させて合成
すればよい。The cyclic olefin polymer includes:
Preferably, a blend of a copolymer of ethylene and the cyclic olefin represented by Chemical Formula 4 described in JP-A-2-257446 is also suitable. The cyclic olefin represented by Chemical Formula 4 may be synthesized by condensing cyclopentadiene and the corresponding olefin by a Diels-Alder reaction.
【0042】化4で表わされる環状オレフィンとして具
体的には、テトラシクロ[4.4.0.12,5 .
17,10]−3−ドデセン(1,4,5,8−ジメタノ−
1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナ
フタレン)、2−メチル−1,4,5,8−ジメタノ−
1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナ
フタレン、2−エチル−1,4,5,8−ジメタノ−
1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナ
フタレン、2−プロピル−1,4,5,8−ジメタノ−
1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナ
フタレン、2−ヘキシル−1,4,5,8−ジメタノ−
1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナ
フタレン、2,3−ジメチル−1,4,5,8−ジメタ
ノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒド
ロナフタレン、2−メチル−3−エチル−1,4,5,
8−ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−
オクタヒドロナフタレン、2−クロロ−1,4,5,8
−ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−オ
クタヒドロナフタレン、2−ブロモ−1,4,5,8−
メメタノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−オク
タヒドロナフタレン、2−フルオロ−1,4,5,8−
ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−オク
タヒドロナフタレン、2,3−ジクロロ−1,4,5,
8−ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−
オクタヒドロナフタレン、2−シクロヘキシル−1,
4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,
8,8a−オクタヒドロナフタレン、2−n−ブチル−
−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a,
5,8,8a−オクタヒドロナフタレン、2−イソブチ
ル−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4
a,5,8,8a−オクタヒドロナフタレンなどのオク
タヒドロナフタレン類などの化合物を挙げることができ
る。Specific examples of the cyclic olefin represented by Chemical Formula 4 include tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .
1 7,10 ] -3-dodecene (1,4,5,8-dimethano-
1,2,3,4,4a, 5,8,8a-octahydronaphthalene), 2-methyl-1,4,5,8-dimethano-
1,2,3,4,4a, 5,8,8a-octahydronaphthalene, 2-ethyl-1,4,5,8-dimethano-
1,2,3,4,4a, 5,8,8a-octahydronaphthalene, 2-propyl-1,4,5,8-dimethano-
1,2,3,4,4a, 5,8,8a-octahydronaphthalene, 2-hexyl-1,4,5,8-dimethano-
1,2,3,4,4a, 5,8,8a-octahydronaphthalene, 2,3-dimethyl-1,4,5,8-dimethano-1,2,3,4,4a, 5,8, 8a-octahydronaphthalene, 2-methyl-3-ethyl-1,4,5
8-Dimethano-1,2,3,4,4a, 5,8,8a-
Octahydronaphthalene, 2-chloro-1,4,5,8
-Dimethano-1,2,3,4,4a, 5,8,8a-octahydronaphthalene, 2-bromo-1,4,5,8-
Memethano-1,2,3,4,4a, 5,8,8a-octahydronaphthalene, 2-fluoro-1,4,5,8-
Dimethano-1,2,3,4,4a, 5,8,8a-octahydronaphthalene, 2,3-dichloro-1,4,5
8-Dimethano-1,2,3,4,4a, 5,8,8a-
Octahydronaphthalene, 2-cyclohexyl-1,
4,5,8-Dimethano-1,2,3,4,4a, 5
8,8a-octahydronaphthalene, 2-n-butyl-
-1,4,5,8-Dimethano-1,2,3,4,4a,
5,8,8a-octahydronaphthalene, 2-isobutyl-1,4,5,8-dimethano-1,2,3,4,4
Compounds such as octahydronaphthalenes such as a, 5,8,8a-octahydronaphthalene can be mentioned.
【0043】さらに、化4で表わされる環状オレフィン
の例としては、以下に記載する化合物を挙げることがで
きる。ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、6−
メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,
6−ジメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エ
ン、1−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エ
ン、6−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エ
ン、6−n−ブチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2
−エン、6−イソブチルビシクロ[2.2.1]ヘプト
−2−エン、7−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト
−2−エン、などのようなビシクロ[2.2.1]ヘプ
ト−2−エン誘導体;テトラシクロ[4.4.0.1
2,5 .17,10]−3−ドデセン、5,10−ジメチルテ
トラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデ
セン、2,10−ジメチルテトラシクロ[4.4.0.
12,5 .17,10]−3−ドデセン、11,12−ジメチ
ルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−
ドデセン、2,7,9−トリメチルテトラシクロ[4.
4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、9−エチル
−2,7−ジメチルテトラシクロ[4.4.0.1
2,5 .17,10]−3−ドデセン、9−イソブチル−2,
7−ジメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .1
7,10]−3−ドデセン、9,11,12−トリメチルテ
トラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデ
セン、9−エチル−11,12−ジメチルテトラシクロ
[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、9−
イソブチル−11,12−ジメチルテトラシクロ[4.
4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、5,8,
9,10−テトラメチルテトラシクロ[4.4.0.1
2,5 .17,10]−3−ドデセン、8−メチルテトラシク
ロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、8
−エチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]
−3−ドデセン、8−プロピルテトラシクロ[4.4.
0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、8−ヘキシルテ
トラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデ
セン、8−ステアリルテトラシクロ[4.4.0.1
2,5 .17,10]−3−ドデセン、8,9−ジメチルテト
ラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセ
ン、−メチル−9−エチルテトラシクロ[4.4.0.
12,5 .17,10]−3−ドデセン、8−クロロテトラシ
クロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−ブロモテトラシクロ[4.4.0.12,5 .
17,10]−3−ドデセン、8−フルオロテトラシクロ
[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、8,
9−ジクロロテトラシクロ[4.4.0.12,5 .1
7,10]−3−ドデセン、8−シクロヘキシルテトラシク
ロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、8
−イソブチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .1
7,10]−3−ドデセン、8−ブチルテトラシクロ[4.
4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、8−エチリ
デンテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3
−ドデセン、8−エチリデン−9−メチルテトラシクロ
[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、8−
エチリデン−9−エチルテトラシクロ[4.4.0.1
2,5 .17,10]−3−ドデセン、8−エチリデン−9−
イソプロピルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .1
7,10]−3−ドデセン、8−エチリデン−9−ブチルテ
トラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデ
セン、8−n−プロピリデンテトラシクロ[4.4.
0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、8−n−プロピ
リデン−9−メチルテトラシクロ[4.4.0.1
2,5 .17,10]−3−ドデセン、8−n−プロピリデン
−9−エチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .1
7,10]−3−ドデセン、8−n−プロピリデン−9−イ
ソプロピルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .
17,10]−3−ドデセン、8−n−プロピリデン−9−
ブチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−
3−ドデセン、8−イソプロピリデンテトラシクロ
[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、8−
イソプロピリデン−9−メチルテトラシクロ[4.4.
0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、8−イソプロピ
リデン−9−エチルテトラシクロ[4.4.0.1
2,5 .17,10]−3−ドデセン、8−イソプロピリデン
−9−イソプロピルテトラシクロ[4.4.0.1
2,5 .17,10]−3−ドデセン、8−イソプロピリデン
−9−ブチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .1
7,10]−3−ドデセン、などのテトラシクロ[4.4.
0.12,5 .17,10]−3−ドデセン誘導体;ヘキサシ
クロ[6.6.1.13,6 .110,13 .02,7 .
09,14]−4−ヘプタデセン、12−メチルヘキサシク
ロ[6.6.1.13,6 .110,13 .02,7 .09,14]
−4−ヘプタデセン、12−エチルヘキサシクロ[6.
6.1.13,6 .110,13 .02,7 .09,14]−4−ヘ
プタデセン、12−イソブチルヘキサシクロ[6.6.
1.13,6 .110,13 .02,7 .09, 14]−4−ヘプタ
デセン、1,6,10−トリメチル−12−イソブチル
ヘキサシクロ[6.6.1.13, 6 .110,13 .0
2,7 .09,14]−4−ヘプタデセン、などのヘキサシク
ロ[6.6.1.13,6 .110,13 .02,7 .09,14]
−4−ヘプタデセン誘導体;オクタシクロ[8.8.
0.12,9 .14,7 .111,18 .113,16 .03,8 .0
12,17 ]−5−ドコセン、15−メチルオクタシクロ
[8.8.0.12,9 .14,7 .111,18 .113,16.
03,8 .012,17 ]−5−ドコセン、15−エチルオク
タシクロ[8.8.0.12,9 .14,7 .111,18 .1
13,16.03,8 .012,17 ]−5−ドコセン、などのオ
クタシクロ[8.8.0.12,9 .14,7 .111,18 .
113,16 .03, 8 .012,17 ]−5−ドコセン誘導体;
ペンタシクロ[6.6.1.13,6 .02,7 .09,14]
−4−ヘキサデセン、1,3−ジメチルペンタシクロ
[6.6.1.13,6 .02,7 .09,14]−4−ヘキサ
デセン、1,6−ジメチルペンタシクロ[6.6.1.
13,6 .02,7 .09,14]−4−ヘキサデセン、15,
16−ジメチルペンタシクロ[6.6.1.13,6 .0
2,7 .09,14]−4−ヘキサデセン、などのペンタシク
ロ[6.6.1.13,6 .02,7 .09,14]−4−ヘキ
サデセン誘導体;ヘプタシクロ[8.7.0.12,9 .
14,7 .111,17 .03,8 .012,16 ]−5−イコセ
ン、ヘプタシクロ[8.7.0.12,9 .14,7 .1
11,17 .03,8 .012,16 ]−5−ヘンエイコセン、な
どのヘプタシクロ−5−イコセン誘導体あるいはヘプタ
シクロ−5−ヘンエイコセン誘導体;トリシクロ[4.
3.0.12,5 ]−3−デセン、2−メチルトリシクロ
[4.3.0.12,5 ]−3−デセン、5−メチル−ト
リシクロ[4.3.0.12,5 ]−3−デセン、などの
トリシクロ[4.3.0.12,5 ]−3−デセン誘導
体;トリシクロ[4.4.0.12,5 ]−3−ウンデセ
ン、10−メチル−トリシクロ[4.4.0.12,5 ]
−3−ウンデセン、などのトリシクロ[4.4.0.1
2,5 ]−3−ウンデセン誘導体;ペンタシクロ[6.
5.1.13,6 .02,7 .09,13]−4−ペンタデセ
ン、1,3−ジメチル−ペンタシクロ[6.5.1.1
3,6 .02,7 .09,13]−4−ペンタデセン、1,6−
ジメチルペンタシクロ[6.5.1.13,6 .02,7 .
09,13]−4−ペンタデセン、14,15−ジメチルペ
ンタシクロ[6.5.1.13,6 .02,7 .09,13]−
4−ペンタデセン、などのペンタシクロ[6.5.1.
13,6 .02,7 .09,13]−4−ペンタデセン誘導体;
ペンタシクロ[6.5.1.13,6 .02,7 .09,13]
−4,10−ペンタデカジエン誘導体;ペンタシクロ
[4.7.0.12,5 .08,13.09,12]−3−ペンタ
デセン、メチル置換ペンタシクロ[4.7.0.1
2,5 .08,13.09,12]−3−ペンタデセン、などのペ
ンタシクロ[4.7.0.12,5 .08,13.09,12]−
3−ペンタデセン誘導体;ヘプタシクロ[7.8.0.
13,6 .02,7 .110,17 .011,16 .112,15 ]−4
−エイコセン、ジメチル置換ヘプタシクロ[7.8.
0.13,6 .02,7 .110,17 .011,16.112,15 ]
−4−エイコセン、などのヘプタシクロ[7.8.0.
13,6 .02,7 .110,17 .011,16 .112 ,15 ]−4
−エイコセン誘導体;ノナシクロ[9.10.1.1
4,7 .03,8 .02,10.012,21 .113,20 .0
14,19 .115,18 ]−5−ペンタコセン、トリメチル置
換ノナシクロ[9.10.1.14,7 .03,8 .
02,10.012,21.113,20 .014,19 .115,18 ]−
5−ペンタコセン、などのノナシクロ[9.10.1.
14,7 .03,8 .02,10.012,21 .113,2 0 .0
14,19 .115,18 ]−5−ペンタコセン誘導体。Further, the cyclic olefin represented by the chemical formula (4)
Examples of the compound include the compounds described below.
Wear. Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 6-
Methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,
6-dimethylbicyclo [2.2.1] hept-2-e
1-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-e
6-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-e
, 6-n-butylbicyclo [2.2.1] hept-2
-Ene, 6-isobutylbicyclo [2.2.1] hept
-2-ene, 7-methylbicyclo [2.2.1] hept
Bicyclo [2.2.1] hept such as 2-ene, etc.
To-2-ene derivative; tetracyclo [4.4.0.1
2,5 . 17,10] -3-dodecene, 5,10-dimethylte
Toracyclo [4.4.0.12,5 . 17,10] -3-Dode
Sen, 2,10-dimethyltetracyclo [4.4.0.
12,5 . 17,10] -3-dodecene, 11,12-dimethyl
Letetracyclo [4.4.0.12,5 . 17,10] -3-
Dodecene, 2,7,9-trimethyltetracyclo [4.
4.0.1.2,5 . 17,10] -3-dodecene, 9-ethyl
-2,7-dimethyltetracyclo [4.4.0.1
2,5 . 17,10] -3-dodecene, 9-isobutyl-2,
7-dimethyltetracyclo [4.4.0.12,5 . 1
7,10] -3-dodecene, 9,11,12-trimethylte
Toracyclo [4.4.0.12,5 . 17,10] -3-Dode
Sen, 9-ethyl-11,12-dimethyltetracyclo
[4.4.0.12,5 . 17,10] -3-dodecene, 9-
Isobutyl-11,12-dimethyltetracyclo [4.
4.0.1.2,5 . 17,10] -3-dodecene, 5,8,
9,10-tetramethyltetracyclo [4.4.0.1
2,5 . 17,10] -3-dodecene, 8-methyltetracycline
B [4.4.0.12,5 . 17,10] -3-dodecene, 8
-Ethyltetracyclo [4.4.0.12,5 . 17,10]
-3-dodecene, 8-propyltetracyclo [4.4.
0.12,5 . 17,10] -3-dodecene, 8-hexylte
Toracyclo [4.4.0.12,5 . 17,10] -3-Dode
Sen, 8-stearyltetracyclo [4.4.0.1
2,5 . 17,10] -3-dodecene, 8,9-dimethyltet
Lacyclo [4.4.0.12,5 . 17,10] -3-Dodece
, -Methyl-9-ethyltetracyclo [4.4.0.
12,5 . 17,10] -3-dodecene, 8-chlorotetracy
Black [4.4.0.12,5 . 17,10-3-dodecene,
8-bromotetracyclo [4.4.0.12,5 .
17,10] -3-dodecene, 8-fluorotetracyclo
[4.4.0.12,5 . 17,10-3-dodecene, 8,
9-dichlorotetracyclo [4.4.0.12,5 . 1
7,10] -3-Dodecene, 8-cyclohexyltetracycline
B [4.4.0.12,5 . 17,10] -3-dodecene, 8
-Isobutyltetracyclo [4.4.0.12,5 . 1
7,10] -3-dodecene, 8-butyltetracyclo [4.
4.0.1.2,5 . 17,10] -3-Dodecene, 8-ethylidene
Dentetracyclo [4.4.0.12,5 . 17,10] -3
-Dodecene, 8-ethylidene-9-methyltetracyclo
[4.4.0.12,5 . 17,10] -3-dodecene, 8-
Ethylidene-9-ethyltetracyclo [4.4.0.1
2,5 . 17,10] -3-dodecene, 8-ethylidene-9-
Isopropyltetracyclo [4.4.0.12,5 . 1
7,10] -3-dodecene, 8-ethylidene-9-butylte
Toracyclo [4.4.0.12,5 . 17,10] -3-Dode
Sen, 8-n-propylidenetetracyclo [4.4.
0.12,5 . 17,10] -3-dodecene, 8-n-propyl
Lidene-9-methyltetracyclo [4.4.0.1
2,5 . 17,10] -3-dodecene, 8-n-propylidene
-9-ethyltetracyclo [4.4.0.12,5 . 1
7,10] -3-dodecene, 8-n-propylidene-9-i
Sopropyltetracyclo [4.4.0.12,5 .
17,10] -3-dodecene, 8-n-propylidene-9-
Butyltetracyclo [4.4.0.12,5 . 17,10]-
3-dodecene, 8-isopropylidenetetracyclo
[4.4.0.12,5 . 17,10] -3-dodecene, 8-
Isopropylidene-9-methyltetracyclo [4.4.
0.12,5 . 17,10] -3-dodecene, 8-isopropylene
Ridene-9-ethyltetracyclo [4.4.0.1
2,5 . 17,10] -3-dodecene, 8-isopropylidene
-9-isopropyltetracyclo [4.4.0.1
2,5 . 17,10] -3-dodecene, 8-isopropylidene
-9-butyltetracyclo [4.4.0.12,5 . 1
7,10] -3-dodecene, tetracyclo [4.4.
0.12,5 . 17,10] -3-dodecene derivative;
Black [6.6.1.13,6 . 110,13 . 02,7 .
09,14] -4-heptadecene, 12-methylhexacyclo
B [6.6.1.13,6 . 110,13 . 02,7 . 09,14]
-4-heptadecene, 12-ethylhexacyclo [6.
6.1.13,6 . 110,13 . 02,7 . 09,14] -4-F
Ptadecene, 12-isobutylhexacyclo [6.6.
1.13,6 . 110,13 . 02,7 . 09, 14] -4-hepta
Decene, 1,6,10-trimethyl-12-isobutyl
Hexacyclo [6.6.1.13, 6 . 110,13 . 0
2,7 . 09,14] -4-Heptadecene, etc.
B [6.6.1.13,6 . 110,13 . 02,7 . 09,14]
-4-heptadecene derivative; octacyclo [8.8.
0.12,9 . 14,7 . 111,18 . 113,16 . 03,8 . 0
12,17 ] -5-Docosene, 15-methyloctacyclo
[8.8.0.12,9 . 14,7 . 111,18 . 113,16.
03,8 . 012,17 ] -5-Docosene, 15-ethyloctane
Tacyclo [8.8.0.12,9 . 14,7 . 111,18 . 1
13,16. 03,8 . 012,17 -5-docosene, etc.
Kutacyclo [8.8.0.12,9 . 14,7 . 111,18 .
113,16 . 03, 8 . 012,17 ] -5-docosene derivatives;
Pentacyclo [6.6.1.13,6 . 02,7 . 09,14]
-4-hexadecene, 1,3-dimethylpentacyclo
[6.6.1.13,6 . 02,7 . 09,14] -4-Hexa
Decene, 1,6-dimethylpentacyclo [6.6.1.
13,6 . 02,7 . 09,14-4-hexadecene, 15,
16-dimethylpentacyclo [6.6.1.13,6 . 0
2,7 . 09,14] -4-hexadecene, etc.
B [6.6.1.13,6 . 02,7 . 09,14] -4-hex
Sadecene derivative; heptacyclo [8.7.0.12,9 .
14,7 . 111,17 . 03,8 . 012,16 ] -5-Ikose
Heptacyclo [8.7.0.12,9 . 14,7 . 1
11,17 . 03,8 . 012,16 ] -5-Hen Eikosen
Any heptacyclo-5-icosene derivative or hepta
Cyclo-5-heneicosene derivative; tricyclo [4.
3.0.1.2,5 ] -3-decene, 2-methyltricyclo
[4.3.0.12,5 ] -3-decene, 5-methyl-
Licyclo [4.3.0.12,5 -3-decene, etc.
Tricyclo [4.3.0.12,5 ] -3-Decene induction
Body; tricyclo [4.4.0.12,5 ] -3-Undesse
10-methyl-tricyclo [4.4.0.12,5 ]
-3-undecene, and other tricyclo [4.4.0.1
2,5 ] -3-undecene derivative; pentacyclo [6.
5.1.13,6 . 02,7 . 09,13] -4-Pentadece
1,3-dimethyl-pentacyclo [6.5.1.1
3,6 . 02,7 . 09,13-4-pentadecene, 1,6-
Dimethylpentacyclo [6.5.1.13,6 . 02,7 .
09,13] -4-pentadecene, 14,15-dimethylpe
Nantacyclo [6.5.1.13,6 . 02,7 . 09,13]-
4-pentadecene, pentacyclo [6.5.1.
13,6 . 02,7 . 09,13] -4-pentadecene derivatives;
Pentacyclo [6.5.1.13,6 . 02,7 . 09,13]
-4,10-pentadecadiene derivative; pentacyclo
[4.7.0.12,5 . 08,13. 09,12] -3-penta
Decene, methyl-substituted pentacyclo [4.7.0.1
2,5 . 08,13. 09,12-3-pentadecene, etc.
Nantacyclo [4.7.0.12,5 . 08,13. 09,12]-
3-pentadecene derivative; heptacyclo [7.8.
13,6 . 02,7 . 110,17 . 011,16 . 112,15 ] -4
-Eicosene, dimethyl-substituted heptacyclo [7.8.
0.13,6 . 02,7 . 110,17 . 011,16. 112,15 ]
Heptacyclo [7.8.0.
13,6 . 02,7 . 110,17 . 011,16 . 112 , 15 ] -4
-Eicosene derivative; nonacyclo [9.10.1.1]
4,7 . 03,8 . 02,10. 012,21 . 113,20 . 0
14,19 . 115,18 ] -5-pentacocene, trimethyl
The substituted nonacyclo [9.10.1.1]4,7 . 03,8 .
02,10. 012,21. 113,20 . 014,19 . 115,18 ]-
Nonacyclo [9.10.1.
14,7 . 03,8 . 02,10. 012,21 . 113,2 0 . 0
14,19 . 115,18 ] -5-pentacocene derivative.
【0044】化4の環状オレフィンの重合体は、エチレ
ンと前記化4で表わされる環状オレフィンを必須成分と
するものであるが、この他、必要に応じて他の共重合可
能な不飽和単量体成分を含有させてもよい。例えばプロ
ピレン、1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、1−
ヘキセン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセ
ン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、1−エイコ
センなどの炭素原子数が3〜20のα−オレフィンなど
を挙げることができる。The polymer of the cyclic olefin represented by the chemical formula (4) contains ethylene and the cyclic olefin represented by the chemical formula (4) as essential components. In addition, if necessary, another copolymerizable unsaturated monomer may be used. A body component may be contained. For example, propylene, 1-butene, 4-methyl-1-pentene, 1-
Examples thereof include α-olefins having 3 to 20 carbon atoms such as hexene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene, 1-octadecene, and 1-eicosene.
【0045】これら環状オレフィンの重合体を1種用い
るか、または2種以上をブレンドして用いて、基板材質
とする。このような1種以上の環状オレフィン共重合体
は、特開昭60−168708号公報、特開昭61−1
20816号公報、特開昭61−115912号公報、
特開昭61−115916号公報、特願昭61−959
05号公報、特願昭61−90906号公報、特開昭6
1−271308号公報、特開昭61−272216号
公報などの方法に従い適宜条件を選択することにより、
製造することができる。One of these cyclic olefin polymers may be used alone, or two or more thereof may be blended and used as a substrate material. Such one or more cyclic olefin copolymers are disclosed in JP-A-60-168708 and JP-A-61-1.
No. 20816, JP-A-61-115912,
JP-A-61-115916, Japanese Patent Application No. 61-959
No. 05, Japanese Patent Application No. 61-90906,
1-2271308, JP-A-61-272216 and the like by appropriately selecting conditions according to the method,
Can be manufactured.
【0046】また、環状オレフィンのランダム共重合体
とともに、化4で表わされる環状オレフィンが開環重合
することにより形成される繰り返し単位を含む重合体、
もしくは共重合体が含まれていてもよく、さらに、この
繰り返し単位を水添することにより形成される繰り返し
単位を含む重合体あるいは共重合体が含まれていてもよ
い。Further, a polymer containing a repeating unit formed by ring-opening polymerization of a cyclic olefin represented by the formula (4) together with a random copolymer of a cyclic olefin;
Alternatively, it may contain a copolymer, and may further contain a polymer or copolymer containing a repeating unit formed by hydrogenating this repeating unit.
【0047】さらに、これら各種環状オレフィンの重合
体には酸化防止剤や安定剤が含有されていてもよい。こ
のような環状オレフィンの重合体は、常法に従い射出成
形等により、光ディスクの基板等の透明成形体とすれば
よい。Further, these polymers of various cyclic olefins may contain an antioxidant and a stabilizer. Such a cyclic olefin polymer may be formed into a transparent molded article such as a substrate of an optical disk by injection molding or the like according to a conventional method.
【0048】このような環状オレフィンの重合体には、
樹脂被覆の形成に際し、下塗り層を形成する。Such a cyclic olefin polymer includes:
When forming the resin coating, an undercoat layer is formed.
【0049】下塗り層は、熱可塑性樹脂を用いて形成す
ればよい。具体的にはエチレン系重合体であるエチレン
−酢酸ビニル共重合体、低密度ポリエチレンが用いられ
る。すなわち、ガラス転移点(Tg)が低く、粘着性が
あるものを用いることが好ましく、Tgは100℃程度
以下、特に−150℃〜80℃のものであることが好ま
しい。The undercoat layer may be formed using a thermoplastic resin. Specifically, ethylene-vinyl acetate copolymer, which is an ethylene-based polymer, and low-density polyethylene are used. That is, it is preferable to use a material having a low glass transition point (Tg) and having tackiness, and the Tg is preferably about 100 ° C. or less, particularly preferably −150 ° C. to 80 ° C.
【0050】このような樹脂材質の下塗り層を設けるこ
とによって、粘着性が付与され、樹脂被覆との接着性が
格段と向上する。By providing the undercoat layer of such a resin material, tackiness is imparted, and adhesion to the resin coating is significantly improved.
【0051】また、下塗り層は、このような熱可塑性樹
脂を含む塗布溶液を用いて形成される。このとき用いる
塗布溶媒は、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系
やシクロヘキサン等の脂環式炭化水素系などの溶媒の1
種以上を含むものとするのがよい。The undercoat layer is formed using a coating solution containing such a thermoplastic resin. The coating solvent used at this time is one of solvents such as aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene and alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane.
It is desirable to include more than one species.
【0052】上記のトルエン等の溶媒は、環状オレフィ
ンの重合体に対し溶解性を有するものであり、塗布に際
し、上記重合体の表面層を一部溶解したり、粗面化する
作用を有する。従って、このような溶媒を用いることに
よって上記重合体と下塗り層との密着性が向上する。し
かしながら、このような溶媒を用いても、後述する環状
オレフィンの重合体のスキン層がすべて溶解除去される
ほどのものではなく、スキン層がなお存在したままの状
態にある。The above-mentioned solvent such as toluene has solubility in the polymer of the cyclic olefin, and has an action of partially dissolving or roughening the surface layer of the polymer during coating. Therefore, the use of such a solvent improves the adhesion between the polymer and the undercoat layer. However, even if such a solvent is used, the skin layer of the polymer of the cyclic olefin described below is not sufficiently dissolved and removed, and the skin layer still exists.
【0053】また、本発明においては、上記熱可塑性樹
脂に加えて、後に詳述するように、樹脂被覆材質として
好ましく用いられるアクリレート化合物等を併用しても
よい。アクリレート化合物はモノマー、オリゴマー、ポ
リマー等のいずれの形で用いてもよい。In the present invention, an acrylate compound or the like which is preferably used as a resin coating material may be used in addition to the above-mentioned thermoplastic resin, as will be described later in detail. The acrylate compound may be used in any form such as a monomer, an oligomer, and a polymer.
【0054】アクリレート化合物は、熱可塑性樹脂との
混合物全体に対し、20wt% 以下、好ましくは0.5〜
10wt% とすることが好ましい。The acrylate compound is used in an amount of not more than 20% by weight, preferably 0.5 to 0.5% by weight, based on the whole mixture with the thermoplastic resin.
Preferably, the content is 10 wt%.
【0055】この化合物の併用は樹脂被覆材質にこれを
用いるときに特に有効であり、樹脂被覆材質と一部同材
質のものを用いることによって樹脂被覆との接着性が一
段と向上する。The combined use of this compound is particularly effective when it is used as a resin coating material, and by using a material partially identical to the resin coating material, the adhesiveness to the resin coating is further improved.
【0056】塗布溶液における樹脂全体の含有量は、1
〜50wt% 程度とすればよい。The content of the whole resin in the coating solution is 1
It may be about 50 wt%.
【0057】また、塗布溶媒としては、上記溶媒のほ
か、これらの溶媒にメチルイソブチルケトン等のケトン
系、エチルセロソルブ等のセロソルブ系、イソプロピル
アルコール等のアルコール系などを混合した溶媒として
もよい。このような混合溶媒においては、トルエン等が
5vol%以上、好ましくは10vol%以上であるものとすれ
ばよい。The coating solvent may be a solvent obtained by mixing a ketone such as methyl isobutyl ketone, a cellosolve such as ethyl cellosolve, an alcohol such as isopropyl alcohol, etc., in addition to the above solvents. In such a mixed solvent, the content of toluene or the like may be 5 vol% or more, preferably 10 vol% or more.
【0058】塗布は、公知のいずれの方法によってもよ
く、スピンコート、グラビアコート、スプレーコート、
ディッピング等のいずれであってもよい。塗布条件等
は、通常の方法に準じることができる。The coating may be performed by any known method, such as spin coating, gravure coating, spray coating,
Any of dipping and the like may be used. The application conditions and the like can be in accordance with ordinary methods.
【0059】下塗り層の厚さは、乾燥膜厚で、0.1〜
100μm 、好ましくは1〜50μm とすればよい。こ
のような厚さとすることにより、重合体の光学特性に何
ら変化を与えることなく、本発明の効果が得られる。厚
さが小さくなると、本発明の実効が得られず、厚さが大
きくなると、本発明の効果が飽和してしまい、生産性等
の点で不利になる。The thickness of the undercoat layer is from 0.1 to 0.1% by dry film thickness.
The thickness may be 100 μm, preferably 1 to 50 μm. With such a thickness, the effect of the present invention can be obtained without any change in the optical characteristics of the polymer. When the thickness is small, the effect of the present invention cannot be obtained. When the thickness is large, the effect of the present invention is saturated, which is disadvantageous in terms of productivity and the like.
【0060】このように下塗り層を形成することによっ
て、重合体の光学特性、例えば透明性、複屈折等には何
ら変化がないので、接着が高く、しかも光学的特性に何
ら影響を与えない透明樹脂のハードコート等の被覆が実
現する。By forming the undercoat layer in this way, the optical properties of the polymer, for example, transparency, birefringence, etc., are not changed at all, so that the adhesion is high and the polymer has no influence on the optical properties. Coating such as a resin hard coat is realized.
【0061】なお、下塗り層形成に際し、本発明では、
トルエン等の溶媒を含む溶剤を、環状オレフィンの重合
体表面に付与する予備処理を行なってもよい。これによ
り、上記重合体と下塗り層との密着性がさらに向上す
る。In the formation of the undercoat layer, in the present invention,
A preliminary treatment for applying a solvent containing a solvent such as toluene to the surface of the polymer of the cyclic olefin may be performed. This further improves the adhesion between the polymer and the undercoat layer.
【0062】予備処理は、溶剤を環状オレフィンの重合
体表面に塗布する方法によっても、溶剤中に環状オレフ
ィンの重合体を浸漬する方法によってもよく、いずれの
方法によってもよい。The preliminary treatment may be carried out by a method of applying a solvent to the surface of the polymer of the cyclic olefin, or by a method of dipping the polymer of the cyclic olefin in the solvent.
【0063】塗布によるときは、スピンコート、グラビ
アコート、スプレーコート、ディッピング等のいずれの
方法によって行なってもよく、条件等は通常の方法に準
じることができる。また、浸漬するときの浸漬時間は1
秒〜30秒とする。The application may be performed by any method such as spin coating, gravure coating, spray coating, dipping and the like, and the conditions and the like can be in accordance with ordinary methods. The immersion time for immersion is 1
Seconds to 30 seconds.
【0064】本発明においては、後述のように、光ディ
スクの基板等として用いることから、基板の一方の面の
みを処理することが好ましいこともあり、このような場
合には塗布による方が好ましい。In the present invention, as will be described later, since it is used as a substrate for an optical disk, it may be preferable to treat only one surface of the substrate, and in such a case, it is preferable to apply by coating.
【0065】また、このような予備処理によっては、前
記同様、スキン層を完全に溶解除去するものではない。Further, as described above, such a preliminary treatment does not completely dissolve and remove the skin layer.
【0066】本発明においては、上記のように下塗り層
を形成する方法と併せて、環状オレフィンの重合体の表
面をオゾンにさらしながら重合体に紫外線を照射する方
法を適用してもよい。In the present invention, a method of irradiating the polymer with ultraviolet light while exposing the surface of the polymer of the cyclic olefin to ozone may be applied in combination with the method of forming the undercoat layer as described above.
【0067】この場合、紫外線を照射してから下塗り層
を形成すればよい。In this case, the undercoat layer may be formed after irradiating ultraviolet rays.
【0068】さらに、紫外線を照射する方法を併用する
ことにより、樹脂被覆との接着性を向上させることがで
きる。Further, by using the method of irradiating ultraviolet rays together, the adhesiveness with the resin coating can be improved.
【0069】紫外線は、酸素存在下に照射すればよく、
オゾンの連続的な生成と分解を行なう上で、照射する紫
外線は少なくとも270nm以下の波長を有するものであ
ることが好ましい。The ultraviolet rays may be irradiated in the presence of oxygen.
In order to continuously generate and decompose ozone, it is preferable that the ultraviolet rays to be irradiated have a wavelength of at least 270 nm or less.
【0070】この紫外線を照射する方法の詳細について
は、本出願人による特願平3−177162号に記載さ
れている。The details of the method of irradiating the ultraviolet rays are described in Japanese Patent Application No. 3-177162 filed by the present applicant.
【0071】被覆を構成する樹脂材質には特に制限はな
いが、より簡便に、しかも良好な膜物性をもち、さらに
は接着力が格段と向上する点で、放射線、特に紫外線硬
化型化合物の塗膜を放射線、特に紫外線照射により硬化
したものであることが好ましい。そして、放射線、特に
紫外線硬化型化合物としては、特にアクリル基を有する
ものや、エポキシ樹脂と光カチオン重合触媒とを含有す
るものなどが、接着力向上の点で好ましく、これに他の
放射線、特に紫外線硬化型化合物や他の樹脂成分、光重
合開始剤、増感剤等を含有する塗布組成物を用いること
が好ましい。これらについては、後に詳述する。Although there is no particular limitation on the resin material constituting the coating, the coating of radiation, especially an ultraviolet-curable compound, is simpler and more favorable in that it has good physical properties of the film and that the adhesive strength is remarkably improved. It is preferable that the film is cured by irradiation with radiation, particularly ultraviolet light. And radiation, particularly as an ultraviolet-curable compound, those having an acrylic group or those containing an epoxy resin and a cationic photopolymerization catalyst are preferable from the viewpoint of improving adhesion, and other radiations, particularly It is preferable to use a coating composition containing an ultraviolet-curable compound, another resin component, a photopolymerization initiator, a sensitizer, and the like. These will be described later in detail.
【0072】被覆の厚さは一般に1〜30μm 程度とす
る。そして、各種光ディスク、各種レンズ、ミラー、フ
ィルター等の光学部品や、透明カバー、透明ケーシング
等に適用可能である。The thickness of the coating is generally about 1 to 30 μm. The present invention can be applied to optical parts such as various optical disks, various lenses, mirrors, and filters, and transparent covers and transparent casings.
【0073】次に、本発明の被覆形成方法を、光ディス
クに適用した場合について説明する。Next, a case where the coating forming method of the present invention is applied to an optical disk will be described.
【0074】本発明の光ディスクは、情報を予め担持し
ている再生専用の光ディスク、および光記録により情報
を担持させうる記録層を有する光記録ディスクの双方を
指す。ただし、ここでは好適例として図1に示される光
磁気記録ディスクを例に挙げて説明する。図1に示され
る光磁気記録ディスク1は基板2表面上に、保護層4、
中間層5、記録層6、保護層7および保護コート8を順
次有する。この際、ディスク表面、すなわち基板2の裏
面側には、ハードコート3が設けられる。ハードコート
3は、各構成層設層前に予め形成しておくことが好まし
い。The optical disk of the present invention refers to both a read-only optical disk that previously carries information and an optical recording disk that has a recording layer capable of carrying information by optical recording. However, here, the magneto-optical recording disk shown in FIG. 1 will be described as a preferred example. The magneto-optical recording disk 1 shown in FIG.
An intermediate layer 5, a recording layer 6, a protective layer 7, and a protective coat 8 are sequentially provided. At this time, a hard coat 3 is provided on the front surface of the disk, that is, on the back surface side of the substrate 2. The hard coat 3 is preferably formed in advance before each constituent layer is provided.
【0075】このようなハードコート3は、前記のとお
り、特に、放射線硬化型化合物やその重合用組成物を、
放射線硬化させた物質から構成されることが好ましい。
このようなものとしては、イオン化エネルギーに感応
し、ラジカル重合性を示す不飽和二重結合を有するアク
リル酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合
物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートの
ようなアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導
体等の不飽和二重結合等の放射線照射による架橋あるい
は重合する基を分子中に含有または導入したモノマー、
オリゴマーおよびポリマー等を挙げることができる。こ
れらは多官能、特に3官能以上であることが好ましく、
1種のみ用いても2種以上併用してもよい。As described above, such a hard coat 3 is formed, in particular, by using a radiation-curable compound or a composition for polymerization thereof.
It is preferred to be composed of a radiation cured material.
Acrylic acid, methacrylic acid having an unsaturated double bond exhibiting radical polymerizability in response to ionization energy, acrylic double bond such as an ester compound thereof, and diallyl phthalate such as such. Allyl double bond, maleic acid, monomer containing or introduced in the molecule a group that crosslinks or polymerizes by irradiation such as unsaturated double bond such as maleic acid derivative,
Oligomer and polymer can be mentioned. These are preferably polyfunctional, especially trifunctional or more,
One type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
【0076】放射線硬化性モノマーとしては、分子量2
000未満の化合物が、オリゴマーとしては分子量20
00〜10000のものが好適である。The radiation-curable monomer has a molecular weight of 2
Compounds having a molecular weight of less than 20
Those having a size of from 00 to 10,000 are suitable.
【0077】なかでも、放射線硬化性オリゴマーである
各種ウレタンエラストマーのアクリル変性体を用いるこ
とが好ましく、あるいはこれにCOOH等の官能基が導
入されたもの等であってもよい。Of these, it is preferable to use acrylic modified products of various urethane elastomers, which are radiation-curable oligomers, or may be those in which a functional group such as COOH is introduced.
【0078】また、スチレン、エチルアクリレート、エ
チレングリコールジアクリレート、エチレングリコール
ジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、ジエチレングリコールメタクリレート、1,6-ヘキサ
ングリコールジアクリレート、1,6-ヘキサングリコール
ジメタクリレート等であってもよく、好ましいものとし
ては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(メタ
クリレート) 、ペンタエリスリトールアクリレート(メ
タクリレート) 、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート(メタクリレート) 、トリメチロールプロパンジア
クリレート(メタクリレート) 、ウレタンエラストマー
(ニッポラン4040)のアクリル変性体、あるいはこ
れらのものにCOOH等の官能基が導入されたもの、フ
ェノールエチレンオキシド付加物のアクリレート(メタ
クリレート) 、特願昭62−072888号に示される
ペンタエリスリトール縮合環にアクリル基(メタクリル
基)またはε−カプロラクトン−アクリル基のついた化
合物、および特願昭62−072888号に示される特
殊アクリレート類等のアクリル基含有モノマーおよび/
またはオリゴマーが挙げられる。この他、放射線硬化性
オリゴマーとしては、オリゴエステルアクリレート、あ
るいはこれにCOOH等の官能基が導入されたもの等が
挙げられる。Further, styrene, ethyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol methacrylate, 1,6-hexane glycol diacrylate, 1,6-hexane glycol dimethacrylate and the like may be used. Preferable examples include pentaerythritol tetraacrylate (methacrylate), pentaerythritol acrylate (methacrylate), trimethylolpropane triacrylate (methacrylate), trimethylolpropane diacrylate (methacrylate), and an acrylic modified product of urethane elastomer (Nipporan 4040). Alternatively, those in which a functional group such as COOH is introduced, phenol ethyleneoxy Acrylates (methacrylates) as adducts, compounds having an acrylic group (methacrylic group) or ε-caprolactone-acrylic group attached to a pentaerythritol condensed ring shown in Japanese Patent Application No. 62-072888, and Japanese Patent Application No. 62-072888. And acrylic group-containing monomers such as special acrylates and / or
Or an oligomer is mentioned. In addition, examples of the radiation-curable oligomer include an oligoester acrylate and an oligomer into which a functional group such as COOH is introduced.
【0079】また、上記の化合物に加えて、あるいはこ
れにかえて熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによ
って得られる放射線硬化型化合物を用いてもよい。この
ような放射線硬化性樹脂の具体例としては、ラジカル重
合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタク
リル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアク
リル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系
二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結
合等の、放射線照射による架橋あるいは重合する基を熱
可塑性樹脂の分子中に含有、または導入した樹脂であ
る。放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例と
しては、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリエスルテル樹
脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フ
ェノキシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができ
る。その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂
としては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエス
テル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体(P
VPオレフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミ
ド樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸
基を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステ
ルを重合成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等
も有効である。A radiation-curable compound obtained by subjecting a thermoplastic resin to radiation-sensitive modification in addition to or instead of the above compounds may be used. Specific examples of such a radiation-curable resin include acrylic double bonds having an unsaturated double bond exhibiting radical polymerizability, methacrylic acid, or an acrylic double bond such as an ester compound thereof, such as diallyl phthalate. A resin in which a group that crosslinks or polymerizes upon irradiation with radiation, such as an allylic double bond or an unsaturated bond such as maleic acid or a maleic acid derivative, is contained or introduced into a thermoplastic resin molecule. Examples of the thermoplastic resin that can be modified into a radiation-curable resin include a vinyl chloride copolymer, a saturated polyester resin, a polyvinyl alcohol resin, an epoxy resin, a phenoxy resin, and a cellulose derivative. Other resins that can be used for radiation-sensitive modification include polyfunctional polyester resins, polyetherester resins, polyvinylpyrrolidone resins and derivatives (P
(VP olefin copolymer), a polyamide resin, a polyimide resin, a phenol resin, a spiroacetal resin, an acrylic resin containing at least one hydroxyl-containing acrylic ester or methacrylic ester as a polymerization component, and the like are also effective.
【0080】重合用塗布組成物は放射線照射、特に紫外
線照射により硬化されるので、重合用組成物中には光重
合開始剤ないし増感剤が含有されることが好ましい。用
いる光重合開始剤ないし増感剤に特に制限はなく、例え
ば、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン
系、チオキサントン系等の通常のものから適宜選択すれ
ばよい。なお、光重合開始剤ないし増感剤として、複数
の化合物を併用してもよい。重合用組成物中における光
重合開始剤の含有量は、通常0.5〜5重量%程度とす
ればよい。このような透明樹脂製ハードコートを形成す
るための重合用組成物は、常法に従い合成してもよく、
市販の化合物を用いて調製してもよい。Since the coating composition for polymerization is cured by irradiation with radiation, particularly ultraviolet irradiation, it is preferable that the polymerization composition contains a photopolymerization initiator or a sensitizer. The photopolymerization initiator or sensitizer used is not particularly limited, and may be appropriately selected from, for example, acetophenone, benzoin, benzophenone, and thioxanthone. In addition, a plurality of compounds may be used in combination as a photopolymerization initiator or a sensitizer. The content of the photopolymerization initiator in the composition for polymerization may be usually about 0.5 to 5% by weight. The composition for polymerization for forming such a transparent resin hard coat may be synthesized according to a conventional method,
It may be prepared using a commercially available compound.
【0081】ハードコート3を形成するための放射線硬
化型化合物を含有する組成物としては、エポキシ樹脂お
よび光カチオン重合触媒を含有する組成物も使用でき
る。As the composition containing the radiation-curable compound for forming the hard coat 3, a composition containing an epoxy resin and a cationic photopolymerization catalyst can also be used.
【0082】エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ樹
脂が好ましく、特に、分子内に2個以上のエポキシ基を
有するものが好ましい。The epoxy resin is preferably an alicyclic epoxy resin, particularly preferably an epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule.
【0083】脂環式エポキシ樹脂としては、3,4−エ
ポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロ
ヘキサンカルボキシレート、ビス−(3,4−エポキシ
シクロヘキシルメチル)アジペート、ビス−(3,4−
エポキシシクロヘキシル)アジペート、2−(3,4−
エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エ
ポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス
(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル、ビニル
シクロヘキセンジオキシド等の1種以上が好ましい。脂
環式エポキシ樹脂のエポキシ当量に特に制限はないが、
良好な硬化性が得られることから、60〜300、特に
100〜200であることが好ましい。Examples of the alicyclic epoxy resin include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, bis- (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, and bis- (3,4-
Epoxycyclohexyl) adipate, 2- (3,4-
One or more of epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-meta-dioxane, bis (2,3-epoxycyclopentyl) ether and vinylcyclohexene dioxide are preferred. The epoxy equivalent of the alicyclic epoxy resin is not particularly limited,
From the viewpoint of obtaining good curability, it is preferably from 60 to 300, particularly preferably from 100 to 200.
【0084】光カチオン重合触媒は、公知のいずれのも
のを用いてもよく、特に制限はない。例えば、1種以上
の金属フルオロホウ酸塩および三フッ化ホウ素の錯体、
ビス(ペルフルオロアルキルスルホニル)メタン金属
塩、アリールジアゾニウム化合物、6A族元素の芳香族
オニウム塩、5A族元素の芳香族オニウム塩、3A族〜
5A族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム
塩、MF6 アニオン(ただしMは、P、AsまたはS
b)を有する6A族元素、トリアリールスルホニウム錯
塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩
等を用いることができ、特に、ポリアリールスルホニウ
ム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩
またはイオドニウム塩、3A族元素、5A族元素および
6A族元素の芳香族オニウム塩の1種以上を用いること
が好ましい。As the cationic photopolymerization catalyst, any known one may be used without any particular limitation. For example, a complex of one or more metal fluoroborates and boron trifluoride,
Bis (perfluoroalkylsulfonyl) methane metal salt, aryldiazonium compound, aromatic onium salt of group 6A element, aromatic onium salt of group 5A element, group 3A ~
Group 5A element dicarbonyl chelate, thiopyrylium salt, MF 6 anion (where M is P, As or S
Group 6A element having b), triarylsulfonium complex salt, aromatic iodonium complex salt, aromatic sulfonium complex salt and the like can be used. In particular, polyarylsulfonium complex salt, aromatic sulfonium salt or iodonium salt of halogen-containing complex ion, 3A It is preferable to use at least one of aromatic onium salts of Group 5A, Group 5A and Group 6A elements.
【0085】また、有機金属化合物と光分解性を有する
有機けい素化合物とを含有する光カチオン重合触媒も用
いることができる。このような光カチオン重合触媒は非
強酸系であるため、光磁気記録ディスク等の腐食性の高
い記録層に対する悪影響を避けることができる。有機金
属化合物としては、Ti、V、Cr、Mn、Fe、C
o、Ni、Cu、Zn、Al 、Zr等の金属原子に、ア
ルコキシ基、フェノキシ基、β−ジケトナト基等が結合
した錯体化合物が好ましい。これらのうち特に有機アル
ミニウム化合物が好ましく、具体的には、トリスメトキ
シアルミニウム、トリスプロピオナトアルミニウム、ト
リストリフルオロアセチルアルミニウム、トリスエチル
アセトアセトナトアルミニウムが好ましい。Further, a cationic photopolymerization catalyst containing an organometallic compound and an organosilicon compound having photodegradability can be used. Since such a cationic photopolymerization catalyst is a non-strong acid-based catalyst, adverse effects on a highly corrosive recording layer such as a magneto-optical recording disk can be avoided. Organometallic compounds include Ti, V, Cr, Mn, Fe, C
Complex compounds in which an alkoxy group, a phenoxy group, a β-diketonato group, or the like is bonded to metal atoms such as o, Ni, Cu, Zn, Al, and Zr are preferable. Of these, an organoaluminum compound is particularly preferred, and specifically, trismethoxyaluminum, trispropionatoaluminum, tristrifluoroacetylaluminum, and trisethylacetoacetonatoaluminum are preferred.
【0086】光分解性を有する有機けい素化合物は、紫
外線等の光照射によりシラノールを生じるものであり、
ペルオキシシラノ基、o−ニトロベンジル基、α−ケト
シリル基等を有するけい素化合物が好ましい。The organic silicon compound having photodegradability is one that generates silanol upon irradiation with light such as ultraviolet rays.
Silicon compounds having a peroxysilano group, an o-nitrobenzyl group, an α-ketosilyl group and the like are preferred.
【0087】組成物中の光カチオン重合触媒の含有量
は、エポキシ樹脂100重量部に対し、0.05〜0.
7重量部、特に0.1〜0.5重量部であることが好ま
しい。The content of the cationic photopolymerization catalyst in the composition is from 0.05 to 0.1 based on 100 parts by weight of the epoxy resin.
It is preferably 7 parts by weight, particularly preferably 0.1 to 0.5 part by weight.
【0088】ハードコート3を形成するには、例えば下
記のようにすればよい。まず、前記したようなハードコ
ート用組成物の塗膜を少なくとも基板2裏面上に形成す
る。塗膜の形成方法に特に制限はなく、通常、スピンコ
ート、グラビアコート、スプレーコート、ディッピング
等、種々の公知の方法を組み合わせて形成すればよい。
この際の塗布条件は、重合用組成物の粘度、目的とする
塗膜厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。The hard coat 3 may be formed, for example, as follows. First, a coating film of the composition for a hard coat as described above is formed on at least the back surface of the substrate 2. There is no particular limitation on the method of forming the coating film, and the coating film may be generally formed by combining various known methods such as spin coating, gravure coating, spray coating, and dipping.
The application conditions at this time may be appropriately determined in consideration of the viscosity of the composition for polymerization, the desired thickness of the coating film, and the like.
【0089】次いで、塗膜を加熱する。加熱温度は、通
常、60〜90℃程度とすればよい。そして、加熱後
に、紫外線を照射して塗膜を硬化する。なお、場合によ
っては、加熱せずに紫外線を照射してもよく、紫外線の
かわりに電子線等を照射してもよい。Next, the coating film is heated. The heating temperature may be generally about 60 to 90 ° C. Then, after heating, the coating film is cured by irradiating ultraviolet rays. In some cases, ultraviolet rays may be applied without heating, or an electron beam or the like may be applied instead of ultraviolet rays.
【0090】塗膜に照射する紫外線強度は、通常、50
mW/cm2程度以上、照射量は、通常、500〜2000mJ
/cm2程度とすればよい。また、紫外線源としては、水銀
灯などの通常のものを用いればよい。紫外線の照射によ
り、上記各化合物はラジカル重合する。The intensity of the ultraviolet light applied to the coating film is usually 50
mW / cm 2 or more, irradiation amount is usually 500 to 2000 mJ
/ cm 2 may be used. Further, as the ultraviolet ray source, a usual one such as a mercury lamp may be used. The above compounds undergo radical polymerization by irradiation with ultraviolet rays.
【0091】硬化後の塗膜の厚さ、すなわちハードコー
ト3の厚さは、1〜30μm 、特に3〜10μm である
ことが好ましい。膜厚が薄すぎると一様な膜を形成する
ことが困難となり、耐久性が不十分となってくる。ま
た、厚すぎると、硬化の際の収縮によりクラックが生じ
たり、ディスクに反りが発生し易くなってくる。The thickness of the cured coating film, that is, the thickness of the hard coat 3, is preferably 1 to 30 μm, particularly preferably 3 to 10 μm. If the film thickness is too small, it becomes difficult to form a uniform film, and the durability becomes insufficient. On the other hand, if the thickness is too large, cracks occur due to shrinkage during curing, and the disk is likely to warp.
【0092】このようなハードコート3を塗布した基板
2の記録光および再生光に対する透過率は、80%以
上、特に85%以上であることが好ましい。なお、両面
記録型の光磁気記録ディスクでは、両基板にハードコー
トを設ける。また、ハードコートは、ディスク主面のみ
に限らず、外周側面や内周側面にも形成されていてもよ
い。The transmittance of the substrate 2 coated with the hard coat 3 to recording light and reproduction light is preferably 80% or more, particularly preferably 85% or more. In the case of a double-sided recording type magneto-optical disk, both substrates are provided with a hard coat. Further, the hard coat may be formed not only on the main surface of the disk but also on the outer peripheral side surface or the inner peripheral side surface.
【0093】基板2の材質としては、前記のとおり、環
状オレフィンの重合体を用いる。そして、基板2の記録
層設層側の表層部にはスキン層が存在し、このスキン層
の熱軟化点は、140℃以下、特に100〜140℃、
より好ましくは100〜135℃、さらに好ましくは1
10〜135℃であることが好ましい。熱軟化点140
℃以下のスキン層は、基板2の記録層設層側裏面にも存
在し、こうしたスキン層を設けることによって、ハード
コートの接着性はさらに向上する。ただし、熱軟化点が
低くなりすぎると、成膜時の耐熱性に問題が生じたり、
寸法精度が低下してきたりする。As described above, a cyclic olefin polymer is used as the material of the substrate 2. A skin layer is present on the surface layer of the substrate 2 on the side of the recording layer, and the skin layer has a thermal softening point of 140 ° C. or less, particularly 100 to 140 ° C.
More preferably 100 to 135 ° C, still more preferably 1 to 135 ° C.
The temperature is preferably from 10 to 135 ° C. Thermal softening point 140
The skin layer at a temperature of not more than ° C. is also present on the back surface of the substrate 2 on the side of the recording layer, and by providing such a skin layer, the adhesiveness of the hard coat is further improved. However, if the thermal softening point is too low, there may be a problem with heat resistance during film formation,
Dimensional accuracy may decrease.
【0094】この場合、表層部のスキン層の熱軟化点と
は、下記のように測定された温度である。まず、被検基
板の上に針を置いて、5g 程度の荷重を加え、昇温速度
2℃/min 程度で、30℃程度から昇温していって、針
の進入量を測定する。針の断面は直径1mm程度の円柱形
とする。このように測定される温度と針進入量との関係
が図2に示される。図2に示されるように、本発明の基
板では、針進入量の温度特性プロファイルにおいて、第
1の屈曲点と第2の屈曲点とが生じる。In this case, the thermal softening point of the skin layer in the surface layer is a temperature measured as described below. First, a needle is placed on the substrate to be tested, a load of about 5 g is applied, the temperature is raised from about 30 ° C. at a rate of temperature rise of about 2 ° C./min, and the amount of needle penetration is measured. The cross section of the needle is cylindrical with a diameter of about 1 mm. FIG. 2 shows the relationship between the temperature thus measured and the amount of needle entry. As shown in FIG. 2, in the substrate of the present invention, a first inflection point and a second inflection point occur in the temperature characteristic profile of the needle penetration amount.
【0095】例えば、注型基板や、ある種の射出成形基
板では、針進入量の温度特性には1つの屈曲点しか現わ
れないか、あるいは第1の屈曲点はわずかにしか現われ
ない。また、第1の屈曲点によって生じる1段目の針進
入量は、概ね200μm程度以下である。従って、これ
らから第1の屈曲点は、基板表層のスキン層の軟化点に
由来するものと考えられる。そこで、温度特性プロファ
イルの第1の屈曲点近傍にて、針進入前の直線部と、1
段目の進入時の直線部との交点をT1 とし、これをスキ
ン層の熱軟化点T1 と定義する。そして、このT1 を前
記のとおり規制するものである。For example, in the case of a casting substrate or a certain type of injection molded substrate, only one bending point appears in the temperature characteristics of the amount of needle entry, or the first bending point appears only slightly. The first-stage needle penetration amount caused by the first inflection point is about 200 μm or less. Therefore, it is considered from these that the first bending point is derived from the softening point of the skin layer on the surface of the substrate. Therefore, in the vicinity of the first bending point of the temperature characteristic profile, the linear portion before the needle enters and the 1
The intersection of the straight line portion of upon entry stage as T 1, which is defined as the thermal softening point T 1 of the skin layer. Then, it restricts the T 1 as described above.
【0096】一方、第2の屈曲点近傍においても、1段
目の進入時と2段目の進入時との直線部の交点をT2 と
し、これを第2の熱軟化点T2 と定義する。この第2の
熱軟化点T2 は、基板中心部での熱軟化点であると考え
られる。そして、この第2の熱軟化点T2 は、第1の熱
軟化点T1 より10℃以上、より好ましくは10〜50
℃高い温度であり、140℃以上、特に145〜180
℃の温度であると好ましい。これにより、寸法精度や機
械的特性や耐熱性等がすぐれたものとなる。[0096] On the other hand, in the second bending point near the intersection of the linear portion of the time of the first stage enters at the second stage enters a T 2, which defines a second heat softening point T 2 I do. This second thermal softening point T 2 is considered to be the thermal softening point at the center of the substrate. The second heat softening point T 2 is 10 ° C. or more, more preferably 10 to 50 ° C., than the first heat softening point T 1.
Temperature higher than 140 ° C, especially 145 to 180 ° C.
Preferably, the temperature is in ° C. Thereby, dimensional accuracy, mechanical characteristics, heat resistance, and the like are improved.
【0097】なお、スキン層は、基板表層部断面のSE
M像からも、周囲と色の異なる層として確認でき、その
厚さは、一般に1〜200μm、特に10〜100μm
程度であると考えられる。また、前記の針進入量の温度
特性プロファイルは、TMA(熱機械分析装置、サーモ
メカニカルアナライザー)として市販されている各種装
置、例えばデュポン社製943熱機械分析装置等によっ
て測定すればよい。The skin layer was formed by the SE of the cross section of the surface layer of the substrate.
From the M image, it can be confirmed as a layer different in color from the surroundings, and its thickness is generally 1 to 200 μm, particularly 10 to 100 μm.
It is considered to be about. Further, the temperature characteristic profile of the needle penetration amount may be measured by various devices commercially available as TMA (thermomechanical analyzer, thermomechanical analyzer), for example, a 943 thermomechanical analyzer manufactured by DuPont.
【0098】このようなスキン層を形成するには、特に
環状オレフィンの重合体を射出成形して基板を形成する
ことが好ましい。そして、射出圧を250〜400kg/c
m2程度に設定することが好ましい。また、溶融温度は3
00〜400℃程度、金型温度は80〜120℃程度と
し、その他、保圧や型締力等は通常の条件とすればよ
い。In order to form such a skin layer, it is particularly preferable to form a substrate by injection molding a polymer of a cyclic olefin. And the injection pressure is 250 ~ 400kg / c
is preferably set to approximately m 2. The melting temperature is 3
The mold temperature is about 80 to 120 ° C, and the holding pressure, mold clamping force, and the like may be set to normal conditions.
【0099】なお、基板2の記録層6形成面には、トラ
ッキング用のグルーブが形成されていてもよい。Note that a tracking groove may be formed on the surface of the substrate 2 on which the recording layer 6 is formed.
【0100】図1に示される光磁気記録ディスクにおい
て、基板2上には、下地層としての保護層4、中間層5
を介して記録層6が形成されている。中間層5は、C/
N比を向上させるために設けられ、各種誘電体物質から
形成されることが好ましく、その層厚は30〜150nm
程度であることが好ましい。In the magneto-optical recording disk shown in FIG. 1, a protective layer 4 as an underlayer, an intermediate layer 5
The recording layer 6 is formed via the. The mid layer 5 has a C /
It is provided to improve the N ratio, and is preferably formed from various dielectric materials, and has a layer thickness of 30 to 150 nm.
It is preferred that it is about.
【0101】また保護層4とともに記録層6の上にも保
護層7を設けることもできる。併用する場合には、保護
層4と保護層7の組成は同一であっても異っていてもよ
い。必要に応じて設けられる保護層4および保護層7
は、記録層6の耐食性向上のために設けられるものであ
り、これらは少なくとも一方、好ましくは両方が設けら
れることが好ましい。これら保護層は、各種酸化物、炭
化物、窒化物、硫化物あるいはこれらの混合物からなる
無機薄膜から構成されることが好ましい。また、保護層
4、7は、上記の中間層材質で形成してもよい。保護層
の層厚は30〜300nm程度であることが耐食性向上の
点から好ましい。このような保護層4、7や中間層5
は、スパッタ、蒸着、イオンプレーティング等の各種気
相成膜法、特にスパッタによって形成されることが好ま
しい。A protective layer 7 can be provided on the recording layer 6 together with the protective layer 4. When used in combination, the compositions of the protective layer 4 and the protective layer 7 may be the same or different. Protective layer 4 and protective layer 7 provided as needed
Are provided for improving the corrosion resistance of the recording layer 6, and it is preferable that at least one of them, and preferably both of them are provided. These protective layers are preferably composed of an inorganic thin film made of various oxides, carbides, nitrides, sulfides or mixtures thereof. Further, the protective layers 4 and 7 may be formed of the above-mentioned intermediate layer material. The thickness of the protective layer is preferably about 30 to 300 nm from the viewpoint of improving corrosion resistance. Such protective layers 4 and 7 and the intermediate layer 5
Is preferably formed by various vapor phase film forming methods such as sputtering, vapor deposition, and ion plating, in particular, by sputtering.
【0102】記録層6は、変調された熱ビームあるいは
変調された磁界により、情報が磁気的に記録されるもの
であり、記録情報は磁気−光変換して再生されるもので
ある。記録層6は、光磁気記録が行なえるものであれば
その材質に特に制限はないが、希土類金属元素を含有す
る合金、特に希土類金属と遷移金属との合金を、スパッ
タ、蒸着、イオンプレーティング等、特にスパッタによ
り、非晶質膜として形成したものであることが好まし
い。希土類金属としては、Tb、Dy、Nd、Gd、S
m、Ceのうちの1種以上を用いることが好ましい。遷
移金属としては、FeおよびCoが好ましい。この場
合、FeとCoの総含有量は、65〜85at%であるこ
とが好ましい。そして、残部は実質的に希土類金属であ
る。In the recording layer 6, information is magnetically recorded by a modulated heat beam or a modulated magnetic field, and the recorded information is reproduced by magneto-optical conversion. The material of the recording layer 6 is not particularly limited as long as it can perform magneto-optical recording. An alloy containing a rare earth metal element, particularly an alloy of a rare earth metal and a transition metal, is formed by sputtering, vapor deposition, ion plating. For example, it is preferable that the film is formed as an amorphous film by sputtering. As rare earth metals, Tb, Dy, Nd, Gd, S
It is preferable to use one or more of m and Ce. As the transition metal, Fe and Co are preferable. In this case, the total content of Fe and Co is preferably 65 to 85 at%. The balance is substantially a rare earth metal.
【0103】好適に用いられる記録層の組成としては、
TbFeCo、DyTbFeCo、NdDyFeCo、
NdGdFeCo等がある。なお、記録層中には、10
at%以下の範囲でCr、Al、Ti、Pt、Si、M
o、Mn、V、Ni、Cu、Zn、Ge、Au等が含有
されてもよい。また、10at%以下の範囲で、Sc、
Y、La、Ce、Pr、Pm、Sm、Eu、Ho、E
r、Tm、Yb、Lu等の他の希土類金属元素を含有し
てもよい。このような記録層6の層厚は、通常、10〜
1000nm程度である。そして、保護層7上には金属製
の反射層が設けられていてもよい。The composition of the recording layer preferably used is
TbFeCo, DyTbFeCo, NdDyFeCo,
NdGdFeCo and the like. In the recording layer, 10
Cr, Al, Ti, Pt, Si, M within the range of at% or less
o, Mn, V, Ni, Cu, Zn, Ge, Au and the like may be contained. In addition, Sc, within the range of 10 at% or less,
Y, La, Ce, Pr, Pm, Sm, Eu, Ho, E
Other rare earth metal elements such as r, Tm, Yb, and Lu may be contained. The layer thickness of the recording layer 6 is usually 10 to
It is about 1000 nm. Then, a metal reflective layer may be provided on the protective layer 7.
【0104】このような記録層6や、下地層としての保
護層4や中間層5をスパッタ等の気相成膜法で設層して
も、前記のスキン層により、記録層や下地層等の基板2
からの膜はがれを効果的に防止することができる。Even if such a recording layer 6 and the protective layer 4 and the intermediate layer 5 as the underlayer are formed by a vapor deposition method such as sputtering, the recording layer and the underlayer are formed by the skin layer. Substrate 2
From the film can be effectively prevented.
【0105】保護層7上には、保護コート8が設層され
ることが好ましい。保護コート8は、例えば紫外線硬化
樹脂等の各種樹脂材質から、通常は、0.1〜100μ
m程度の厚さに設層すればよい。保護コート8は、層状
であってもシート状であってもよい。保護コート8は、
特に放射線硬化型化合物および光重合増感剤ないし開始
剤を含有する塗膜を放射線、特に紫外線硬化したもので
あることが好ましい。このような放射線硬化型化合物と
しては、前述のアクリル基を含有するものが好ましい。
そして、前記ハードコートと同様にして、光重合増感剤
ないし開始剤が添加され、好ましくは紫外線硬化され
る。It is preferable that a protective coat 8 is provided on the protective layer 7. The protective coat 8 is typically made of various resin materials such as an ultraviolet curable resin, for example, from 0.1 to 100 μm.
The layer may be formed to a thickness of about m. The protective coat 8 may be in the form of a layer or a sheet. The protective coat 8
In particular, it is preferable that the coating film containing the radiation-curable compound and the photopolymerization sensitizer or initiator is cured with radiation, particularly ultraviolet rays. As such a radiation-curable compound, those containing the aforementioned acrylic group are preferred.
Then, in the same manner as in the hard coat, a photopolymerization sensitizer or an initiator is added, and preferably ultraviolet curing.
【0106】このような場合、基板上に各構成層を気相
法により形成したのち、構成層最上層(保護層7)表面
と、記録層形成側の基板の構成層が形成されていない領
域とに、前記と同様に、好ましくはエチレン系重合体
(例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、低密度ポリ
エチレン等)の熱可塑性樹脂を用いて形成された下塗り
層を形成することが好ましい。これによって、保護コー
ト8の密着性が向上する。In such a case, after each constituent layer is formed on the substrate by the vapor phase method, the surface of the uppermost layer of the constituent layer (protective layer 7) and the region where the constituent layer of the substrate on the recording layer forming side is not formed are formed. In the same manner as described above, it is preferable to form an undercoat layer formed using a thermoplastic resin, preferably an ethylene-based polymer (eg, ethylene-vinyl acetate copolymer, low-density polyethylene, etc.). Thereby, the adhesion of the protective coat 8 is improved.
【0107】また本発明は、この他、いわゆる相変化型
等の記録層を有し、反射率変化により記録・再生を行な
う光記録ディスクにも適用することができる。さらに
は、色素の塗布膜等を記録層とし、この上に空隙を設け
て内封したり、色素層上に反射層を密着して積層した光
記録ディスクであってもよい。特に、密着型のものはコ
ンパクトディスク(CD)規格対応やビデオディスク用
の光記録ディスク等として好適であるが、このもので
は、スキン層の生成により、感度やC/Nが向上する。
密着型の色素層を有するものや、相変化型のものは、上
記の保護コートを設けることが好ましい。このとき、前
記と同様、保護コート形成前に下塗り層を形成しておく
ことが好ましい。The present invention can also be applied to an optical recording disk having a recording layer of a so-called phase change type or the like, and performing recording / reproduction by changing the reflectance. Further, the recording layer may be an optical recording disk in which a dye coating film or the like is used as a recording layer and a gap is provided on the recording layer, or a reflective layer is closely adhered and laminated on the dye layer. In particular, the close contact type is suitable as an optical recording disk for a compact disk (CD) standard, a video disk, and the like, but in this case, the sensitivity and C / N are improved by the generation of a skin layer.
It is preferable to provide the protective coat described above for those having a close contact type dye layer or phase change type. At this time, it is preferable to form an undercoat layer before forming the protective coat as described above.
【0108】[0108]
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明
をさらに詳細に説明する。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples of the present invention.
【0109】実施例1 前記化3の繰り返し単位を有する環状ポリオレフィンと
して市販品である日本ゼオン社製Zeonex280 のペレット
を得た。これを350℃にて溶融し、金型温度100
℃、射出圧350kg/cm2で射出成形し、120mm径、厚
さ1.2mmの基板サンプルNo. 1を得た。Example 1 A commercially available pellet of Zeonex 280 manufactured by Zeon Corporation was obtained as a cyclic polyolefin having a repeating unit represented by Chemical Formula 3. This was melted at 350 ° C. and the mold temperature was 100
Injection molding was performed at 350 ° C. and an injection pressure of 350 kg / cm 2 to obtain a substrate sample No. 1 having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.2 mm.
【0110】基板の熱軟化点を、TMAにて下記のよう
に測定した。 針断面:1mm径円柱 荷重:5g 昇温速度:2℃/minThe thermal softening point of the substrate was measured by TMA as follows. Needle cross section: 1mm diameter cylinder Load: 5g Heating rate: 2 ℃ / min
【0111】上記条件にて、針進入量の温度プロファイ
ルを測定し、第1および第2の熱軟化点T1 、T2 を算
出したところ、T1 =130℃、T2 =165℃であっ
た。また、この基板のSEM像から、スキン層の厚さは
100μm程度以下であると考えられた。Under the above conditions, the temperature profile of the needle penetration amount was measured, and the first and second thermal softening points T 1 and T 2 were calculated. T 1 = 130 ° C. and T 2 = 165 ° C. Was. From the SEM image of the substrate, it was considered that the thickness of the skin layer was about 100 μm or less.
【0112】次に、上記基板No. 1を用い、基板の記録
層形成側裏面に下塗り層を形成した。このとき、トルエ
ン−メチルイソブチルケトン混合溶媒(トルエンが40
vol%)を塗布溶媒とし、エチレン−酢酸ビニル共重合体
を20wt% 含有する塗布溶液を調製した。Next, an undercoat layer was formed on the back surface of the substrate No. 1 on the recording layer forming side of the substrate. At this time, a mixed solvent of toluene and methyl isobutyl ketone (toluene is 40
vol%) as a coating solvent, a coating solution containing 20% by weight of an ethylene-vinyl acetate copolymer was prepared.
【0113】この塗布溶液を用いて、スピンコートによ
り塗膜を形成した。これにより乾燥膜厚で10μmの下
塗り層を設層し、基板No. 2を得た。Using this coating solution, a coating film was formed by spin coating. As a result, an undercoat layer having a dry film thickness of 10 μm was formed to obtain a substrate No. 2.
【0114】なお、EVAは、市販品〔商品名EVA−
AD−5:昭和高分子(株)製〕を用いた。EVA is a commercially available product [trade name: EVA-
AD-5: manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.].
【0115】基板No. 2において、下塗り層を形成する
かわりに、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン〔CH2 =C(CH3 )COOC3 H6 Si(OC
H3)3 〕を用いてカップリング処理を行なうほかは同
様にして基板No. 3を得た。ただし、上記のシランカッ
プリング剤を塗布後、70℃で2時間乾燥するものとし
た。On the substrate No. 2, instead of forming the undercoat layer, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane [CH 2 CC (CH 3 ) COOC 3 H 6 Si (OC
Substrate No. 3 was obtained in the same manner except that the coupling treatment was performed using H 3 ) 3 ]. However, after the above silane coupling agent was applied, drying was performed at 70 ° C. for 2 hours.
【0116】基板No. 2において、下塗り層を形成する
かわりに、シアノアクリレート系の瞬間接着剤用のプラ
イマー〔商品名ポリプライマー:東亜合成(株)製〕を
用いてプライマー処理するほかは同様にして基板No. 4
を得た。In the substrate No. 2, the primer treatment was performed in the same manner as described above except that a primer for a cyanoacrylate-based instant adhesive (trade name: Polyprimer: manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was used instead of forming the undercoat layer. No. 4
I got
【0117】基板No. 1〜No. 4をそれぞれ用い、基板
の記録層形成側裏面および周面に、ハードコート層用組
成物の塗膜を形成し、この塗膜を紫外線硬化してハード
コートを形成した。ハードコートは、アクリレート系の
重合用組成物[商品名 SD−17:大日本インキ
(株)製として市販されているもの]をスピンコートに
より塗布し、加熱した後、紫外線を照射して硬化したも
のであり、硬化後の平均厚さは5μm とした。Using each of the substrates No. 1 to No. 4, a coating film of the composition for a hard coat layer was formed on the back surface and the peripheral surface of the substrate on the side where the recording layer was formed. Was formed. The hard coat was formed by applying an acrylate-based polymerization composition [trade name: SD-17: commercially available from Dainippon Ink Co., Ltd.] by spin coating, heating, and then irradiating with ultraviolet rays to cure. The average thickness after curing was 5 μm.
【0118】このようにして作製した各基板のハードコ
ートについて密着性試験を行なった。密着性試験はJI
S K5400の碁盤目試験に準じて行なった。すなわ
ち、サンプルのハードコート上に、直交する縦横11本
ずつの平行線をカッターナイフを用いて2mmの間隔でひ
き、4cm2 の中に100個の升目ができるように碁盤目
状の切傷をつけ、この上にセロハンテープ(ニチバン
製)を貼りつけ剥離評価を行なった。An adhesion test was performed on the hard coat of each substrate thus manufactured. Adhesion test is JI
The test was performed according to the cross-cut test of SK5400. That is, on the hard coat of the sample, 11 parallel vertical and horizontal parallel lines were drawn at 2 mm intervals using a cutter knife, and a grid-like cut was made so that 100 squares could be formed in 4 cm 2. Then, a cellophane tape (manufactured by Nichiban) was stuck thereon, and the peeling evaluation was performed.
【0119】密着性試験は、ハードコート形成直後と、
温度80℃、湿度80%RHの条件下で1000時間保
存した後について行なった。The adhesion test was performed immediately after the hard coat was formed.
The test was performed after storage for 1000 hours under the conditions of a temperature of 80 ° C. and a humidity of 80% RH.
【0120】結果を表1に示す。なお、表中の100/
100は100個の升目のうち剥離しなかった升目が1
00個あることを示す。Table 1 shows the results. In addition, 100 /
100 is one of the 100 cells that did not exfoliate.
It indicates that there are 00 pieces.
【0121】[0121]
【表1】 [Table 1]
【0122】表1に示される結果から、本発明の効果が
明らかである。From the results shown in Table 1, the effect of the present invention is clear.
【0123】次いで、上記のようにハードコートを形成
した基板の他面上の一定領域に、ガラス製の保護層を高
周波マグネトロンスパッタにより40nmの層厚に設層し
た。この保護層上に、SiNx 中間層を高周波マグネト
ロンスパッタにより層厚80nmに設層した。次に、この
中間層上に、Tb23Fe72Co5 の組成を有する記録層
を、スパッタにより層厚80nmに設層した。Next, a protective layer made of glass was formed in a predetermined area on the other surface of the substrate on which the hard coat was formed as described above to a thickness of 40 nm by high-frequency magnetron sputtering. On this protective layer, a SiN x intermediate layer was formed to a thickness of 80 nm by high-frequency magnetron sputtering. Next, a recording layer having a composition of Tb 23 Fe 72 Co 5 was formed on the intermediate layer to a thickness of 80 nm by sputtering.
【0124】さらに、この記録層上に、前記保護層と同
組成100nmの保護層を高周波マグネトロンスパッタに
より設層し、この保護層上に、保護コートを設層した。
なお、保護コートは、前記のハードコートに用いたもの
と同じ重合用組成物をスピンコートにより塗布し、加熱
した後、紫外線を照射して硬化したものであり、硬化後
の平均厚さは5μm とした。Further, on the recording layer, a protective layer having the same composition as that of the protective layer and having the same composition as that of the protective layer was formed by high-frequency magnetron sputtering, and a protective coat was formed on the protective layer.
The protective coat was obtained by applying the same polymerization composition as that used for the hard coat by spin coating, heating, and then irradiating with ultraviolet rays, and the average thickness after curing was 5 μm. And
【0125】本発明の被覆方法を用いた本発明のディス
クは、良好な記録再生特性を示した。The disk of the present invention using the coating method of the present invention exhibited good recording and reproducing characteristics.
【0126】実施例2 実施例1の基板No. 2において、下塗り層形成の際、E
VAのほかに、ブチルアクリレートを併用するほかは同
様にして下塗り層を形成し、基板No. 21を得た。Example 2 In the substrate No. 2 of Example 1, when forming the undercoat layer,
An undercoat layer was formed in the same manner except that VA and butyl acrylate were used in combination to obtain Substrate No. 21.
【0127】なお、ブチルアクリレートの添加量はEV
A−ブチルアクリレート全体の5wt% とした。Incidentally, the addition amount of butyl acrylate was EV
The content was 5 wt% of the whole A-butyl acrylate.
【0128】この基板No. 21について、実施例1と同
様にして密着性試験を行なったところ、基板No. 2と同
等以上の良好な結果を示した。An adhesion test was performed on this substrate No. 21 in the same manner as in Example 1. As a result, a good result equal to or better than that of substrate No. 2 was shown.
【0129】また、光ディスクとしても、良好な結果を
示した。Also, good results were shown for an optical disc.
【0130】実施例3 実施例1の基板No. 2において、下塗り層を形成する前
に、下記の条件で低圧水銀灯を用いて、基板の記録層形
成側裏面から光照射を行なうほかは同様にして基板No.
31を得た。なお、光照射には、市販の紫外線−オゾン
洗浄装置を用いた。Example 3 In the substrate No. 2 of Example 1, before forming the undercoat layer, light irradiation was performed from the back side of the recording layer forming side of the substrate using a low-pressure mercury lamp under the following conditions. Board No.
31 was obtained. A commercially available ultraviolet-ozone cleaning device was used for light irradiation.
【0131】 紫外線照射出力 100W 紫外線照射時間 3分 光源と試料との距離 50mm 雰囲気 1気圧・空気 試料温度 室温 この基板No. 31について、実施例1と同様にして密着
性試験を行なったところ、基板No. 2と同等以上の良好
な結果を示した。UV irradiation output 100 W UV irradiation time 3 min Distance between light source and sample 50 mm Atmosphere 1 atm / air Sample temperature Room temperature This substrate No. 31 was subjected to an adhesion test in the same manner as in Example 1 to obtain a substrate. No. 2 showed good results equivalent to or better.
【0132】また、光ディスクとしても、良好な結果を
示した。Also, good results were obtained for an optical disc.
【0133】実施例4 実施例1の基板No. 2において、下塗り層を形成する前
に、下塗り層形成用の塗布溶媒を用い、基板の記録層形
成側面にスピンコートにより塗布する予備処理を行なう
ほかは同様にして基板No. 41を得た。Example 4 In the substrate No. 2 of Example 1, before forming the undercoat layer, a preliminary treatment of applying by spin coating to the recording layer forming side surface of the substrate is performed using a coating solvent for forming the undercoat layer. Otherwise, the substrate No. 41 was obtained in the same manner.
【0134】この基板No. 41について、実施例1と同
様にして密着性試験を行なったところ、基板No. 2と同
等以上の良好な結果を示した。An adhesion test was performed on this substrate No. 41 in the same manner as in Example 1. The result was as good as or better than that of substrate No. 2.
【0135】実施例5 実施例1の基板No. 2、実施例2の基板No. 21、実施
例3の基板No. 31および実施例4の基板No. 41をそ
れぞれ用いた各光ディスクにおいて、保護コート成膜直
前に、記録層形成面に、基板の記録層形成側裏面と同様
に、各基板に対応させて下塗り層を形成するほかは、同
様にして光ディスクを作製した。Example 5 In each optical disk using substrate No. 2 of Example 1, substrate No. 21 of Example 2, substrate No. 31 of Example 3, and substrate No. 41 of Example 4, protection was performed. Immediately before coating film formation, an optical disc was produced in the same manner as above except that an undercoat layer was formed on the recording layer forming surface so as to correspond to each substrate in the same manner as the back surface of the substrate on the recording layer forming side.
【0136】この下塗り層の形成により、保護コートの
密着性が向上した。The formation of the undercoat layer improved the adhesion of the protective coat.
【0137】[0137]
【発明の効果】本発明によれば、環状オレフィンの重合
体の基板と、透明樹脂のハードコート等の接着性が格段
と向上し、きわめて高い耐久性が得られる。According to the present invention, the adhesiveness of a substrate of a cyclic olefin polymer to a hard coat of a transparent resin or the like is remarkably improved, and extremely high durability can be obtained.
【図1】本発明の光ディスクの1例を示す部分断面図で
ある。FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing one example of an optical disk of the present invention.
【図2】基板の熱軟化点を説明するためのグラフであ
る。FIG. 2 is a graph for explaining a thermal softening point of a substrate.
1 光ディスク 2 基板 3 ハードコート 4 保護層 5 中間層 6 記録層 7 保護膜 8 保護コート T1 第1の軟化点 T2 第2の軟化点Reference Signs List 1 optical disk 2 substrate 3 hard coat 4 protective layer 5 intermediate layer 6 recording layer 7 protective film 8 protective coat T 1 first softening point T 2 second softening point
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小巻 壮 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 テ ィーディーケイ株式会社内 (56)参考文献 特開 平2−70431(JP,A) 特開 平3−223341(JP,A) 特開 平5−306378(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08J 7/04 - 7/06 G11B 7/26 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Takeshi Komaki 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo Inside TDK Corporation (56) References JP-A-2-70431 (JP, A) JP-A Heisei 3-223341 (JP, A) JP-A-5-306378 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C08J 7/ 04-7/06 G11B 7/26
Claims (18)
レン−酢酸ビニル共重合体および低密度ポリエチレンの
少なくとも1種以上の熱可塑性樹脂を用いて、下塗り層
を形成し、 次いで、この表面に、透明樹脂の被覆を形成することを
特徴とする被覆形成方法。An undercoat layer is formed on the surface of a polymer of a cyclic olefin using at least one or more thermoplastic resins of an ethylene-vinyl acetate copolymer and a low-density polyethylene. A method for forming a coating, comprising forming a coating of a transparent resin.
脂の被覆成分となりうる成分を用いる請求項1に記載の
被覆形成方法。2. The coating forming method according to claim 1, wherein a component that can be a coating component of the transparent resin is used in addition to the thermoplastic resin.
溶媒が芳香族炭化水素系溶媒および脂環式炭化水素系溶
媒の少なくとも1種以上を含む請求項1または2に記載
の被覆形成方法。3. The coating forming method according to claim 1, wherein the coating solvent used for forming the undercoat layer contains at least one of an aromatic hydrocarbon solvent and an alicyclic hydrocarbon solvent.
ある請求項3に記載の被覆形成方法。4. The method according to claim 3, wherein the aromatic hydrocarbon solvent is toluene.
1〜100μm である請求項1ないし4のいずれかに記
載の被覆形成方法。5. The undercoat layer having a thickness of 0.
5. The method according to claim 1, wherein the thickness is 1 to 100 [mu] m.
ないし5のいずれかに記載の被膜形成方法。6. The polymer according to claim 1, wherein said polymer is a transparent molded product.
6. The method for forming a film according to any one of items 1 to 5,
1の繰り返し構造単位を有する請求項1ないし6のいず
れかに記載の被覆形成方法。 【化1】 7. The method according to claim 1, wherein the cyclic olefin polymer has a repeating structural unit represented by the following chemical formula 1. Embedded image
2の環状オレフィンとエチレンとの共重合体である請求
項1ないし7のいずれかに記載の被覆形成方法。 【化2】 8. The coating forming method according to claim 1, wherein the polymer of the cyclic olefin is a copolymer of a cyclic olefin of the following formula 2 and ethylene. Embedded image
合物の塗膜を放射線硬化したものである請求項1ないし
8のいずれかに記載の被覆形成方法。9. The method according to claim 1, wherein the coating of the transparent resin is obtained by radiation-curing a coating film of a radiation-curable compound.
を有する請求項9に記載の被覆形成方法。10. The method according to claim 9, wherein the radiation-curable compound has an acrylic group.
有し、この基板の少なくとも一方の面に、請求項1ない
し10のいずれかに記載の被覆形成方法によって形成さ
れた透明樹脂の被覆を有し、他方の面に記録層または情
報担持層を担持した光ディスク。11. A substrate of the cyclic olefin polymer, wherein at least one surface of the substrate has a transparent resin coating formed by the coating forming method according to any one of claims 1 to 10. An optical disc having a recording layer or an information carrying layer on the other surface.
を射出成形したものである請求項11に記載の光ディス
ク。12. The optical disk according to claim 11, wherein the substrate is formed by injection molding a polymer of a cyclic olefin.
40℃以下のスキン層を有する請求項12に記載の光デ
ィスク。13. The substrate has a heat softening point of 1 on its surface.
The optical disc according to claim 12, having a skin layer at a temperature of 40 ° C or lower.
記基板は、記録層側表層部に熱軟化点140℃以下のス
キン層を有する請求項12または13に記載の光ディス
ク。14. The optical disk according to claim 12, wherein the substrate carries a recording layer, and the substrate has a skin layer having a thermal softening point of 140 ° C. or less on a surface layer on the recording layer side.
しており、この記録層を形成した面に下塗り層を形成し
た後、樹脂製の保護コートを設けた請求項11ないし1
4のいずれかに記載の光ディスク。15. The substrate according to claim 11, wherein a recording layer is carried on one surface of the substrate, and an undercoat layer is formed on the surface on which the recording layer is formed, and then a protective coating made of resin is provided.
4. The optical disc according to any one of 4.
形成される請求項15に記載の光ディスク。16. The optical disk according to claim 15, wherein the undercoat layer is formed using a thermoplastic resin.
である請求項16に記載の光ディスク。17. The optical disk according to claim 16, wherein the thermoplastic resin is an ethylene polymer.
物を紫外線硬化したものである請求項11ないし17の
いずれかに記載の光ディスク。18. The optical disk according to claim 11, wherein the protective coat is obtained by curing a radiation-curable compound with ultraviolet rays.
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