JPH10314537A - 被処理ガス中のガス成分処理方法 - Google Patents

被処理ガス中のガス成分処理方法

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JPH10314537A
JPH10314537A JP9126828A JP12682897A JPH10314537A JP H10314537 A JPH10314537 A JP H10314537A JP 9126828 A JP9126828 A JP 9126828A JP 12682897 A JP12682897 A JP 12682897A JP H10314537 A JPH10314537 A JP H10314537A
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gas
absorption
solution
treated
gas component
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JP9126828A
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English (en)
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Rikuo Yamada
陸雄 山田
Kazumi Murakami
和美 村上
Kazunori Satou
一教 佐藤
Akio Ueda
昭雄 植田
Toshiyuki Ueda
俊之 上田
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Mitsubishi Power Ltd
Original Assignee
Babcock Hitachi KK
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    • Y02CCAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
    • Y02C20/00Capture or disposal of greenhouse gases
    • Y02C20/40Capture or disposal of greenhouse gases of CO2

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  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Industrial Gases (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ユーティリティーの大部分を占めるスチーム
を無くすか、大幅に少なくする。 【解決手段】 硫化水素や二酸化炭素のガス成分を含む
被処理ガスGを吸収塔102で化学吸収と物理吸収に基
づく吸収液と接触させ、該ガス成分を常圧乃至70kg
f/cm2の吸収圧力で吸収させて前記ガス成分を豊富
に含む溶液とし、該溶液を加圧した後、再生塔110の
温度40乃至70℃の雰囲気中に噴射して該溶液から前
記ガス成分を放出させ、前記ガス成分に乏しい溶液と
し、該ガス成分に乏しい溶液を前記吸収液として吸収塔
102に再循環させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、硫黄、炭素元素の
少なくとも一つを有し除去、回収されるべきガス成分を
含む被処理ガス、例えば石油や石炭の部分燃焼ガスやガ
ス化ガス、製油所ガス、都市ガス、天然ガス、コークス
ガス、水性ガス、プロパンガス、プロペンガス等に含ま
れる硫化水素や二酸化炭素等のガス成分を除去、回収す
る被処理ガス中のガス成分処理方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】被処理ガスの典型例である排ガス中の窒
素酸化物や硫黄酸化物の除去技術は、大気汚染公害防止
技術として既に実用化されているが、これらのうちの吸
収液を用いて硫化水素、二酸化炭素及びCOS等のガス
成分のうちの少なくとも一つを除去する技術は色々知ら
れている(F.C.Riesenfeld and A.L.Koh
l:’Gas Purification’,2nd ed. Gulf Publis
hing Comp., Houston,Texas.(1974);G. S
artori, W.S. Ho, D.W.Savage, G.
R. Chludzinski, and S.Wiechert:'Stericall
y−Hindered Aminesfor Acid−Gas Absorptio
n’,Separation and Purification Methods,16
(2),pp171−200(1987)及び特公平1−34092
号公報等)。
【0003】図3は、従来技術に係る被処理ガス中のガ
ス成分処理方法の例を示す系統図である。ガス成分とし
て硫化水素(以下、「H2S」とも云う)及び二酸化炭
素(以下、「CO2」とも云う)を含む被処理ガスG
(排ガス)からH2Sを選択的に回収するための商業プ
ラントでは、例えば、メチルジエタノールアミン(MD
EA)水溶液を用いて、図3に示すように、H2S及び
CO2のガス成分を含む被処理ガスGをライン1を通し
て第1吸収塔2に導き、そこでライン3を通して導入さ
れたリーン溶媒及びライン4を通して導入されたセミリ
ーン溶媒と接触させる。精製されたガスは第1吸収塔2
からライン5を通して排出される。
【0004】負荷溶媒はライン6を通して排出され、必
要ならヒータ7で加熱され、フラッシング塔8で負荷溶
媒中のガス成分をフラッシングされる。フラッシングさ
れたガスはライン9を通して第2吸収塔10に送られ、
そこで、ライン11を経て供給されたリーン溶媒と接触
させる。第2吸収塔10から出たガスはライン12を介
してストリッパー13に導入され、フラッシング塔8で
得られライン14を経てストリッパー13に供給された
一部の負荷溶媒をフラッシングする。フラッシング塔8
で得られた負荷溶媒の残部と、第2吸収塔10から排出
された負荷溶媒とは合流され、ライン16を経て再生塔
15に送られる。
【0005】これらの負荷溶媒はライン16を通過する
間に、再生塔15を出た再生溶媒との熱交換を熱交換器
23で行なう。ストリッパー13で得られたセミリーン
溶媒はライン4を通じて第一吸収塔2に送られる。スト
リッパー13から排出されたガスはライン18を通じて
第3吸収塔17に送られ、そこで、ライン19を通じて
供給されたリーン溶媒と接触される。第3吸収塔17か
らライン20を通じて排出されるガス成分は実質的にC
2からなり、H2Sを全く又はごく少量しか含まない。
【0006】第3吸収塔17から排出された負荷溶媒は
ライン21及び16を経て再生塔15に送られる。再生
操作はスチーム(蒸気)を用いるストリッピングにより
行なわれる。再生塔15からライン22を介して排出さ
れたガス成分はH2Sに富むものである。再生溶媒は再
生塔15からライン3を通じて取り出され、熱交換器2
3においてライン16内の負荷溶媒と熱交換を行ない、
次いで第1吸収塔2、第2吸収塔10及び第3吸収塔1
7にそれぞれ供給される。これらの操作により、大部分
のH2Sが吸収され、一方、CO2は実質的に吸収されな
い操作方法を選ぶことが出来る。又、COSは実質的に
吸収されない(特公平2−18130号公報)。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】MDEA水溶液等の吸
収液を用いて、硫化水素と二酸化炭素のガス成分を含む
被処理ガスGを上記プロセスで処理する際、再生塔、フ
ラッシング塔(放圧塔)或いはストリッパー(塔)で使
用されるスチームは必要ユーティリティーの大部分を占
め、スチームを多量に使用する。
【0008】本発明の課題は、被処理ガスから硫黄、炭
素元素の少なくとも一つを有するガス成分を除去、回収
する被処理ガス中のガス成分処理方法において、使用す
るスチームを無くすか、大幅に少なくすることである。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明は、硫黄、炭素元素の少なくとも一つを有し除
去、回収されるべきガス成分を含む被処理ガスを、前記
ガス成分を吸収する吸収液と接触させ、該ガス成分を豊
富に含む溶液とし、該溶液を加圧した後、噴射して該溶
液から前記ガス成分を放出させて除去、回収し、前記溶
液をガス成分に乏しい溶液とし、該ガス成分に乏しい溶
液を前記吸収液として再循環させることである。
【0010】更に、前記被処理ガスを吸収液と接触させ
る吸収圧力は、常圧から70kgf/cm2(ゲージ
圧)の範囲で行ない、温度40乃至70℃の雰囲気中に
前記ガス成分を豊富に含む溶液を噴射する。前記吸収液
は、化学吸収と物理吸収に基づくものを併用し、前記化
学吸収に基づく吸収液は、第3級アルカノールアミンを
用いる。
【0011】硫黄、炭素元素の少なくとも一つを有し除
去、回収されるべきガス成分、例えば硫化水素や二酸化
炭素を含む被処理ガスを処理する吸収液として、化学吸
収及び物理吸収に基づく吸収液を併用すると効果は一層
あがる。この目的に合った化学吸収用の吸収液としては
第3級アルカノールアミン水溶液を使用し、物理吸収用
の吸収液としてはスルフォラン(テトラヒドロチオフェ
ン1,1−ジオキシド)、置換スルフォラン、メタノー
ル、N−メチル−2−ピロリドン、プロピレンカーボナ
ート、ポリエチレングリコールのジメチルエーテル、テ
トラエチレングリコール、等が使われる。
【0012】又、第3アルカノールアミンとしては、メ
チルジエタノールアミン、エチルジエタノールアミン、
トリエタノールアミン、トリプロパノールアミン、トリ
イソプロパノールアミンが好適に使用される。
【0013】被処理ガスGとして、例えば、硫化水素を
含む被処理ガスを化学吸収液及び物理吸収液を用いて吸
収塔で吸収させ、該ガスを豊富に含む吸収液として液相
中で加圧すると、吸収液に加える圧力と共に、化学吸収
に基づくH2S吸収量が減少し、物理吸収に基づくH2
吸収量が増大する。従って、吸収液を加圧することによ
って、模式的には下記式(1)に示すように、物理吸収
液に被処理ガスの吸収を移動させることが出来る。
【0014】 化学吸収液・H2S+物理吸収液=化学吸収液+物理吸収液・H2S (1) 式(1)のH2Sの物理吸収液に基づく反応では溶媒を
(S)とすると、式(2)のような溶媒和反応が発生し
ている。
【0015】 (S)+H2S(l)=(S)(H2S) (2) ここで、H2S(l)は吸収液中に溶解したH2Sを意味
する。物理吸収では、H2Sは溶媒中の空洞(キャビテ
ィ)に溶解している。しかし、溶液を加圧すると、加圧
により空洞が小さくなり、空洞中のH2S分圧が高くな
り、空洞部から溶媒部への溶解が進む。このとき、H2
Sが溶媒分子により溶媒和されて溶解する。即ち、溶液
を加圧すると空洞が小さくなり、H2S分圧が上昇し
て、式(2)の反応は右にずれる。従って、化学吸収に
基づく吸収に物理吸収に基づく吸収を組合わせると、吸
収液の加圧により、式(1)の反応は右にずれることに
なる。 即ち、化学吸収と物理吸収の溶媒を併用するこ
とにより、加圧により平衡はより、物理吸収の溶媒和に
基づく吸収の方へずれることになる。そこで、吸収液を
加圧することにより、溶媒和に基づくH2S吸収量を大
きくした後に、これを再生塔に加圧噴射すると、溶媒和
により溶解したH2Sは、アトマイザの噴出孔において
液体が減圧・加速され、液中でキャビテーション気泡核
として存在する方へ一気にシフトする。そこで、液体は
激しく乱され、キャビテーション気泡が急激に発生し、
生長する。
【0016】キャビテーション気泡の生成・生長によっ
て周囲にある液体は更に乱される。液体はキャビテーシ
ョン気泡の破裂によって、下記式(3)に示すようにH
2Sが放出される。
【0017】 化学吸収液・H2S+物理吸収液=化学吸収液+物理吸収液・H2S →化学吸収液+物理吸収液・H2S(g)(3) 又、再生塔において、ノズル先端と壁面の距離を選ぶこ
とにより、ノズル先端と壁面の間で衝撃波が振動し、脱
ガスが更に加速される。
【0018】
【発明の実施の形態】次に、本発明に係る被処理ガス中
のガス成分処理方法の実施の形態を図面に基づいて詳細
に説明する。
【0019】図1は、本発明に係る被処理ガス中のガス
成分処理方法の一実施の形態を示す系統図である。ガス
成分としてのH2S及びCO2を含む被処理ガスGは、図
示されていないガス化炉、熱回収ボイラ、サイクロン、
チャーリサイクル装置、COSコンバータ、水洗浄塔を
通って、ライン101から湿式ガス精製装置の吸収塔1
02に導かれる。湿式ガス精製装置の吸収塔102にお
いて、被処理ガスGは吸収塔102を上昇する間に塔頂
から流下するリーン吸収液と接触して吸収される。排ガ
スはガス出口ライン105に導かれ、図示されていない
ガスタービンに導入される。
【0020】吸収塔102において生成したH2S及び
CO2を豊富に含む吸収液(以下、「リッチ吸収液」とも
云う)は、吸収塔102の液出口からライン103、1
05を経由して再生塔110に送り込まれるが、このラ
インに加圧プランジャー70を設け、この加圧プランジ
ャー70によってリッチ吸収液をライン103、105
を介して再生塔110に送り込む。再生塔110に送り
込まれたリッチ吸収液は、圧力噴射式アトマイザによっ
て噴射される。これによって、H2S及びCO2を放出す
る。放出されたH2S及びCO2は、再生塔110の塔頂
出口ライン106を経由して凝縮器54、気液分離器5
5を経て、H2S回収ライン117から回収される。
【0021】一方、凝縮物はライン118を経て、ポン
プ49により再生塔110に戻される。再生塔110で
2S及びCO2を放出したリーン吸収液は、再生塔11
0の底部からライン121を経由してポンプ71によっ
て冷却器56に導かれ、更に、ライン122を経て吸収
塔102に再循環される。
【0022】本実施の形態の被処理ガス中のガス成分処
理方法は、被処理ガスG中のガス成分を吸収塔102で
吸収させ、該ガス成分を豊富に含む吸収液として、これ
を液相中に加圧すると、化学吸収に基づく該ガスの負荷
が減少し、物理吸収に基づく該ガスの負荷が圧力ととも
に増大する。勿論、温度を通常の吸収温度30℃より低
くすることにより、ガスの物理吸収量を増大することが
出来るが、エネルギー的には不利になる。従って、化学
吸収及び物理吸収を併用すれば、吸収塔102で該ガス
を40〜60℃付近で吸収させることが出来有利であ
る。吸収塔102において、該ガスを豊富に吸収させ、
該ガスのリッチ吸収液とした後、このリッチ吸収液を加
圧することにより空洞(キャビティ)が小さくなり、空
洞に溶解している該ガスは、空洞部から溶媒和による溶
解にシフトする。勿論、ここで吸収液として、該ガスと
吸収液が直接共有していない下記式(4)のようなイオ
ン反応である必要がある。従って、アルカノールアミン
としては第3級アミン、例えばMDEAを使用する必要
がある。
【0023】 (HOCH2CH2N)2CH3+H2S(l)+H2O = HOCH2CH2NH′CH3・HS″ (4) (但し、記号′は+を、記号″は−を、各々表わす) 更に、物理吸収の溶媒を併用することにより、該ガスの
溶解平衡は溶媒和に基づく該ガスの負荷が大きくなる。
これを再生塔110に加圧噴射すると、アトマイザの噴
出孔において液体が減圧・加速され、該ガスの溶解は、
液中でキャビテーション気泡核として存在する方へシフ
トする。そこで、液体は激しく乱され、キャビテーショ
ン気泡が急激に発生し生長する。キャビテーション気泡
の生成・生長によって周囲にある液体は更に乱れる。液
体はキャビテーション気泡の破裂によって、該ガスが一
気に放出される。又、再生塔において、ノズル先端と壁
面の間で衝撃波が振動し、脱ガスが更に加速されるよう
に、ノズル先端と壁面の距離を選ぶことも出来る 本実施の形態の被処理ガス中のガス成分処理方法におい
て、ガス成分としては、CO2約2〜12vol%、H2
S約500〜5,000ppmを含む被処理ガスGに対
して特に有効である。吸収液としては、化学吸収用とし
て第3級アルカノールアミン水溶液、特にメチルジエタ
ノールアミンが有効なものとして使用される。更に、物
理吸収用の吸収液としてはスルフォラン、メタノール、
N−メチル−2−ピロリドン、プロピレンカーボナー
ト、ポリエチレングリコールのジメチルエーテル等が使
われる。
【0024】吸収塔102においては、通常40〜70
℃で気液接触させることによって吸収が行なわれる。吸
収温度が40℃より低い場合、特に30℃と低い場合
は、エネルギーの多量消費を必要とする。一方、70℃
より高いと該ガスの吸収量が減少する。被処理ガスを吸
収液と接触させる吸収圧力は、常圧乃至70kgf/c
2で行なわれる。加圧は、例えば石炭ガス化ガスでは
ガス化炉が30kgf/cm2程度の低圧であるため、
ガス成分の吸収圧力は同様の圧力で行なうことが有利で
ある。吸収圧力が70kgf/cm2を超えても、吸収
性能に大差がなく不経済となる。又、圧力が常圧より低
い方は、通常行なわれない。
【0025】吸収塔から出たリッチ吸収液の加圧は圧力
を加える程よいが、余り高圧にしても空洞がなくなれ
ば、それ以上に圧力を高くしても効果は促進されない。
従って、圧力としては高々1,500kgf/cm2迄で
良い。通常は500〜1,000kgf/cm2で良い。
【0026】再生塔110における再生温度は40乃至
70℃にする。従って、吸収塔102から出たリッチ吸
収液をそのままの温度で加圧し、更にそのままの温度で
再生出来る。再生温度が40℃より低い場合は、エネル
ギーの多量消費を必要とする。又、再生温度が70℃を
超える場合は、該ガスの吸収量が減少するので、再生温
度は40乃至70℃の範囲にする。再生圧力は常圧から
1.8kgf/cm2が良い。このようにすることによ
り、従来必要であったガス成分脱離のためのスチームが
不用乃至大幅に少なくなる。
【0027】図2は、図1と同様の別の実施の形態を示
す系統図である。図2において、吸収塔102と再生塔
110の間にフラッシュ塔120を設け、リッチ吸収液
の負荷を下げることも出来る。即ち、ライン103aと
ライン103bの間にヒータ57を設置し、吸収塔10
2からフラッシュ塔120にリッチ吸収液を導入する。
ここで、大部分のCO2をライン107から排出させ
る。H2Sに富んだリッチ吸収液はライン104から排
出させ、加圧プランジャー70に導入し、以下図1の処
理系統と同様にする。
【0028】上記実施の形態によれば、H2S及びCO2
を含む被処理ガスGを吸収塔102で吸収液と接触さ
せ、H2S及びCO2を豊富に含むリッチ吸収液とし、引
き続き再生塔110やフラッシュ塔120に溶液を循環
供給して、H2S及びCO2を放出させ、H2S及びCO2
に乏しい溶液として、該溶液を前記吸収塔102に再循
環させることによって被処理ガスG中のH2S及びCO2
を処理するが、吸収塔102から出た吸収液を加圧した
後、再生塔110中に噴射して、吸収液からガス成分を
除去・回収することにより、ユーティリティの大部分を
占めるスチームを無くすあるいは大幅に軽減出来る。
【0029】以上この発明を図示の実施の形態について
詳しく説明したが、それを以ってこの発明をそれらの実
施の形態のみに限定するものではなく、この発明の精神
を逸脱せずして種々改変を加えて多種多様の変形をなし
得ることは云うまでもない。
【0030】
【発明の効果】本発明の被処理ガス中のガス成分処理方
法によれば、ユーティリティーの大部分を占めるスチー
ムを無くすか、大幅に少なくすることが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る被処理ガス中のガス成分処理方法
の一実施の形態を示す系統図である。
【図2】図1と同様の別の実施の形態を示す系統図であ
る。
【図3】従来技術に係る被処理ガス中のガス成分処理方
法の例を示す系統図である。
【符号の説明】
54 凝縮器 55 気液分離器 56 冷却器 70 プランジャー 102 吸収塔 110 再生塔 120 フラッシュ塔 G 被処理ガス
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 植田 昭雄 広島県呉市宝町3番36号 バブコック日立 株式会社呉研究所内 (72)発明者 上田 俊之 広島県呉市宝町6番9号 バブコック日立 株式会社呉工場内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 硫黄、炭素元素の少なくとも一つを有し
    除去、回収されるべきガス成分を含む被処理ガスを、前
    記ガス成分を吸収する吸収液と接触させ、該ガス成分を
    豊富に含む溶液とし、該溶液を加圧した後、噴射して該
    溶液から前記ガス成分を放出させて除去、回収し、前記
    溶液をガス成分に乏しい溶液とし、該ガス成分に乏しい
    溶液を前記吸収液として再循環させることを特徴とする
    被処理ガス中のガス成分処理方法。
  2. 【請求項2】 請求項1において、前記被処理ガスを吸
    収液と接触させる吸収圧力は、常圧乃至70kgf/c
    2で行なうことを特徴とする被処理ガス中のガス成分
    処理方法。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2において、温度40乃至
    70℃の雰囲気中に前記ガス成分を豊富に含む溶液を噴
    射することを特徴とする被処理ガス中のガス成分処理方
    法。
  4. 【請求項4】 請求項1乃至3のいずれかにおいて、前
    記吸収液は、化学吸収と物理吸収に基づくものを併用す
    ることを特徴とする被処理ガス中のガス成分処理方法。
  5. 【請求項5】 請求項4において、前記化学吸収に基づ
    く吸収液は、第3級アルカノールアミンを用いることを
    特徴とする被処理ガス中のガス成分処理方法。
  6. 【請求項6】 請求項1乃至5のいずれかにおいて、前
    記被処理ガスは、石炭をガス化して生成される石炭ガス
    化ガスであることを特徴とする被処理ガス中のガス成分
    処理方法。
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