JPH1030798A - 半導体製造用ガス供給設備におけるガス漏洩監視装置 - Google Patents

半導体製造用ガス供給設備におけるガス漏洩監視装置

Info

Publication number
JPH1030798A
JPH1030798A JP20667296A JP20667296A JPH1030798A JP H1030798 A JPH1030798 A JP H1030798A JP 20667296 A JP20667296 A JP 20667296A JP 20667296 A JP20667296 A JP 20667296A JP H1030798 A JPH1030798 A JP H1030798A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
gas supply
pipe
state
leak
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20667296A
Other languages
English (en)
Inventor
Michiyuki Harada
宙幸 原田
Shigeyuki Akiyama
重之 秋山
Masahiko Fujiwara
雅彦 藤原
Naohito Shimizu
直仁 清水
Tetsuo Shimizu
哲夫 清水
Yoshiro Endo
芳朗 遠藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Horiba Ltd
Mitsubishi Corp
Suzuki Shokan Co Ltd
Stec KK
Original Assignee
Horiba Ltd
Mitsubishi Corp
Suzuki Shokan Co Ltd
Stec KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Horiba Ltd, Mitsubishi Corp, Suzuki Shokan Co Ltd, Stec KK filed Critical Horiba Ltd
Priority to JP20667296A priority Critical patent/JPH1030798A/ja
Publication of JPH1030798A publication Critical patent/JPH1030798A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体製造用の有害ガスを供給する設備にお
いてガス供給配管からの有害ガスの漏洩を監視するにあ
たり、漏洩検出後の点検、修理時や地震等によって退避
した後の点検、復旧時などにおいても、危険のない安全
な状態であることを確実に確認し得るようにして安全性
を高める。 【解決手段】 ガス配管内のガス濃度、もしくはガス濃
度と圧力とを検出するための配管内ガス検出手段と、ガ
ス配管からの漏洩ガスをガス配管外部で検出するための
漏洩ガス検出手段と、前記配管内ガス検出手段からの検
出信号および前記漏洩ガス検出手段からの検出信号を受
入れてこれらの検出信号に基いてガス供給状態を判別し
かつその判別結果に基いて表示もしくは警報を発生させ
る判別手段とを有してなり、特に安全な状態、注意すべ
き状態、危険な状態、さらにはセンサ等の故障による異
常な状態のうち、いずれの状態にあるかを常時判別、監
視し得るようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は半導体製造工場な
どの半導体製造現場で半導体製造のために使用されるガ
スを供給するための供給設備において、各種有毒ガスや
引火、爆発しやすいガスの漏洩を監視するための装置に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体製造設備においては、フォスフィ
ンやアルシン等の毒性の強いガスあるいはシラン等の発
火性を有するガスなど、危険な有害ガスを使用すること
が多い。しかもこれらの有害ガスは、密閉されたクリー
ンルーム内で使用されるため、これらの有害ガスの漏洩
事故防止が重要な課題とされており、そこで従来から半
導体製造設備においては、このような有害ガスの漏洩を
監視することが行なわれている。
【0003】従来の通常の半導体製造設備における有害
ガス漏洩監視方法としては、ガス供給配管等のガス供給
系の外部への有害ガスの漏洩を漏洩検知器が監視し、ガ
ス漏洩が検知されれば、作業者が作業している作業領域
や集中監視室などに警報を出力し、作業領域からの退避
やガス供給系の点検など、予め定められている対策を作
業者に実施させる方法が一般的である。
【0004】一方、ガス漏洩検知器の警報出力信号に連
動して、半導体製造用の有害ガスの供給を自動的に遮断
し、窒素ガス等の不活性ガスで配管系を自動的にパージ
させる方法は、例えば刊行物「半導体製造における安全
対策・管理ハンドブック」(原田宙幸編:平成5年、リ
アライズ社発行)にも示されているが、この方法を実際
に適用するにあたっては、ガス漏洩検知器の誤作動によ
る誤報が問題となる。すなわちガス漏洩検知器は誤作動
が生じやすく、そのためガス漏洩検知器が誤作動して誤
報を発生するたびごとにガス供給の停止、不活性ガスに
よるパージを行なった場合、半導体製造ラインの停止に
よって生産効率の大幅な低下を招いてしまう。そこで実
際の半導体製造ラインにおいては、ガス漏洩検知器の作
動によって警報が出た場合には、先ず作業者が配管系を
点検し、誤報でないことが確認された後にはじめて手動
でガス供給を停止するなどの対策を実行するのが通常で
あった。しかしながらこのような方法では、実際にガス
漏洩が発生していてガス漏洩検知器の作動が誤報ではな
い場合、点検のために作業者に危険を強いることにな
り、危険を犯して点検することに対しての安全上の問題
が従来から指摘されている。また現実にガス漏洩検知器
の作動に伴なう点検作業中に、漏洩したガスの爆発によ
る死亡事故が半導体製造クリーンルームで発生してい
る。
【0005】さらに、地震等の災害発生時にクリーンル
ームから緊急に退避後、再度復旧させる際に必要な安全
確認作業においても、同様な危険性が指摘されており、
このような点検作業の安全確保が従来から強く求められ
ている。
【0006】それに加えて従来のガス漏洩検知器を用い
たガス漏洩監視方法では、警報信号が出力されていない
場合でも、ガス漏洩検知器が故障して警報信号を出力で
きないのか、あるいはガス漏洩がないために警報信号が
出力されないのかの判別ができないため、100%の安
全性保障が不可能であり、有害ガスの漏洩に対する不安
が常につきまとっているのが実情である。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】一般的に産業上の安全
対策としては、「クリーンテクノロジー」1995年1
2月号,p51「半導体製造の地震対策」(原田宙幸
編)にも記載されているように、常に安全を確認して安
全の確認ができなくなったときに人を遠ざける等により
安全を確保しようとする安全確認型安全対策と、危険を
検知した場合に警報等により危険を報知させる危険検知
型安全対策とがあることが知られている。そして最近で
は、安全対策の本来の目的からすれば、危険検知型安全
対策では不充分であって、常時安全を確認して、安全が
確認できなくなったときに人を遠ざける等の安全確保を
行なうことができる安全確認型安全対策の適用が望まし
いことが急速に理解されるようになっている。
【0008】しかしながら従来は、半導体製造設備にお
いて有害ガスを供給するにあたって、安全確認型安全対
策を実施し得るような有効なガス漏洩監視システムは確
立していなかったのが実情である。すなわち従来は、既
に述べたようにガス漏洩検知器を用いた危険検知型安全
対策が適用されていたに過ぎなかったのであり、その場
合安全を確認する手段がなく、危険を検知したときには
じめて対策を講じざるを得ず、そのため常に安全である
か否かの不安がつきまとい、ガス漏洩検知器が作動して
ガス漏洩発生が知らされているにもかかわらず死亡事故
が発生する危険性が常に存在していたのである。
【0009】この発明は以上の事情を背景としてなされ
たもので、半導体製造用ガス供給設備において、安全確
認型安全対策を実現可能とし、また従来のガス漏洩検知
器を用いたガス漏洩監視方法で生じていたような誤報の
発生を防止し、これによって常に確実に作業者の安全を
確保することができるとともに、ガス漏洩に対する不安
を解消することができるようにしたガス漏洩監視装置を
提供することを基本的な目的とするものである。
【0010】またこの発明は、地震等の災害発生時にお
いてクリーンルームから緊急に退避した場合に、ガス供
給設備が安全であることをクリーンルーム外部などの遠
隔地点から確認できるようにし、これによって復旧時の
点検作業を安全に遂行できるようにすることをも目的と
している。
【0011】
【課題を解決するための手段】この発明は、基本的に
は、半導体製造用ガス供給設備におけるガス配管外部で
漏洩ガスを検出するばかりでなく、ガス配管内のガス濃
度をも常時検出し、ガス配管外部での漏洩ガス監視と配
管内ガス濃度監視との両者を組合せることによって、ガ
ス供給状態の安全を確認できるようにした。
【0012】具体的には、請求項1の発明は、半導体製
造用ガスを供給するためのガス供給配管を備えた半導体
製造用ガス供給設備において、前記ガス供給配管内のガ
ス濃度、もしくはガス濃度と圧力とを検出するための配
管内ガス検出手段と、ガス供給配管からの漏洩ガスをガ
ス供給配管外部で検出するための漏洩ガス検出手段と、
前記配管内ガス検出手段からの検出信号および前記漏洩
ガス検出手段からの検出信号を受入れてこれらの検出信
号に基いてガス供給状態を判別しかつその判別結果に基
いて表示もしくは警報を発生させる判別制御手段とを有
してなることを特徴とするものである。
【0013】また請求項2の発明は、請求項1に記載の
半導体製造用ガス供給設備におけるガス漏洩監視装置に
おいて、その監視装置から離隔された位置に、前記判別
制御手段により制御される表示装置もしくは警報装置が
設置されていることを特徴とするものである。
【0014】さらに請求項3の発明は、請求項1もしく
は請求項2に記載の半導体製造用ガス供給設備における
ガス漏洩監視装置において、前記漏洩ガス検出手段が漏
洩ガスを検知せずかつ前記配管内ガス検出手段により検
出された配管内ガス濃度が実質的に零の状態を示す第1
の状態信号と、前記漏洩ガス検出手段が漏洩ガスを検知
せずかつ前記配管内ガス検出信号により検出された配管
内ガス濃度が実質的に零を越えるレベルの状態を示す第
2の状態信号と、前記漏洩ガス検出手段が漏洩ガスを検
知しかつ前記配管内ガス検出手段により検出された配管
内ガス濃度が実質的に零の状態を示す第3の状態信号
と、前記漏洩ガス検出手段が漏洩ガスを検知しかつ前記
配管内ガス検出手段により検出された配管内ガス濃度が
実質的に零を越えるレベルの状態を示す第4の状態信号
とを各々出力する出力端子を前記判別制御手段が備えて
いることを特徴とするものである。
【0015】また請求項4の発明は、請求項3に記載の
半導体製造用ガス供給設備におけるガス漏洩監視装置に
おいて、前記判別制御手段からの第4の状態信号を受け
た状態で前記ガス供給配管へのガス供給を遮断してガス
供給配管内を不活性ガスによりパージするためのガス供
給制御手段を備えていることを特徴とするものである。
【0016】そしてまた請求項5の発明は、請求項1〜
請求項4のいずれかに記載の半導体製造用ガス供給設備
におけるガス漏洩監視装置において、前記制御手段が、
音声合成装置を備えていることを特徴とするものであ
る。
【0017】ここで、この発明の半導体製造用ガス供給
設備におけるガス漏洩監視装置の基本的な作用について
説明する。
【0018】この発明のガス漏洩監視装置では、請求項
1において規定したように配管内ガス検出手段によって
ガス供給配管内の供給ガスの濃度(あるいは濃度および
圧力)を常時監視すると同時に、漏洩ガス検出手段によ
ってガス供給配管の外部へ漏洩したガス(漏洩ガス)を
常時監視することができる。このように配管内ガスと漏
洩ガスとの両者を常時かつ同時に監視することによっ
て、有害ガスのガス供給状態が、次の4種類の状態のう
ちいずれであるかを常時知得することができる。
【0019】 第1の状態:ガス漏洩がなく、かつ配管内ガス濃度が実
質的に零である状態 第2の状態:ガス漏洩がなく、かつ配管内ガス濃度が実
質的に零を越えるレベルにある状態 第3の状態:ガス漏洩があり、かつ配管内ガス濃度が実
質的に零である状態 第4の状態:ガス漏洩があり、かつ配管内ガス濃度が実
質的に零を越えるレベルにある状態
【0020】そして特に請求項3の発明の場合は、これ
らの4状態のいずれの状態であるかを示す出力信号が判
別制御手段から出力されるから、その時点での状態を直
ちに知ることができる。
【0021】ここで、前述の第1の状態は、ガス供給配
管内への有害ガスの供給が停止されて、ガス供給配管内
が窒素ガス等の不活性ガスによってパージされている状
態であって、ガス供給設備に設けられている立ち入り禁
止領域にも作業員が立ち入ることができる安全な状態に
相当する。特に請求項2の発明の監視装置においては、
地震等でクリーンルームから退避した場合などに、その
後の点検作業等のための安全確認について、クリーンル
ームの外から第1の状態となっていることを遠隔確認す
ることにより達成できる。
【0022】第2の状態は、ガスが供給されて実際に使
用されている状態、あるいはガスが供給されてガスの使
用が可能となっている状態であり、この状態では、通常
はガス供給設備に設けられている立ち入り禁止領域へは
立ち入ることが禁止される。
【0023】第3の状態は、通常ではあり得ない状態で
あり、漏洩ガス検出手段または配管内ガス検出手段のい
ずれかの故障等が考えられる。
【0024】第4の状態は、ガス供給配管外部へのガス
漏洩が発生した状態であり、直ちに安全な場所に一時退
避する等の措置が必要となる。
【0025】そして第4の状態となった場合には、請求
項4の発明の監視装置では制御手段からの信号出力に連
動してガス供給を自動遮断し、さらに窒素ガス等の不活
性ガスでガス供給配管内を自動的にパージすることがで
きる。このようにしてガス供給配管内の有害ガスが窒素
ガス等の不活性ガスに置換されて有害ガスの漏洩が停止
し、残留していた漏洩ガスが排気設備により排気されれ
ば、第1の状態、すなわち安全な状態となる。そして第
1の状態であることが確認されれば、安全を確認できた
ことになり、点検や修理、復旧等の作業に安心して移行
することができる。
【0026】以上のようにして、この発明の監視装置に
よれば、半導体製造のための有害ガスの供給状態につい
て、安全確認型安全対策を実現することができる。
【0027】
【発明の実施の形態】図1にこの発明のガス漏洩監視装
置をガスボンベ保管庫に適用した実施例を示す。
【0028】図1において、ガスボンベ保管庫本体1内
には半導体製造用ガスを充填したガスボンベ2が配置さ
れており、また保管庫本体1の側面には開閉扉3が設け
られ、この開閉扉3は遠隔操作可能な電子錠4によって
施錠、解錠されるようになっている。またガスボンベ保
管庫本体1の上部には排気ダクト1Aが設けられてい
る。
【0029】前記ガスボンべ2は、空気圧により作動さ
れるガスボンベ遮断弁5を介してガス供給配管6に接続
されている。このガス供給配管6はガスボンベ2内のガ
スを保管庫本体1の外部の使用箇所へ導くためのもので
あり、このガス供給配管6における保管庫本体1の内部
の部分には、ガスボンベ遮断弁5の側から、減圧弁7、
配管内ガス検出手段としてのガス濃度センサ8、および
空気圧により作動される開閉弁9がその順に設けられて
いる。
【0030】さらに前記ガス供給配管6におけるガスボ
ンベ遮断弁5の近傍の位置には、窒素ガス等のパージ用
の不活性ガスを供給するためのパージ用ガス供給配管1
0が接続されており、このパージ用ガス供給配管10の
中途には、逆止弁11と、空気圧により作動される開閉
弁12とが設けられている。また前記ガス供給配管6に
おけるガス濃度センサ8と開閉弁9との間の位置には、
パージ用の不活性ガスを排出するためのパージ用ガス排
出配管14が接続されており、このパージ用ガス排出配
管14の中途には空気圧で作動される開閉弁15が設け
られ、さらにパージ用ガス排出配管14は保管庫本体1
の外部において廃ガス処理装置16に導かれている。そ
して廃ガス処理装置16からの廃ガス配管17の先端は
前述の排気ダクト1A内に開口している。
【0031】前記保管庫本体1内の例えば上部には、ガ
ス供給配管6等からのガスの漏洩を検出するための漏洩
ガス検出手段として、漏洩ガス検知センサ20が設置さ
れている。そして漏洩ガス検知センサ20の出力信号線
20Aは、判別制御手段としてのガス漏洩監視装置本体
21の入力側に接続され、また前述の配管内ガス検出手
段としてのガス濃度センサ8の出力信号線8Aも同じく
ガス漏洩監視装置本体21の入力側に接続されている。
【0032】前記ガス漏洩監視装置本体21の表示出力
信号線21Aは表示装置22に接続され、またそのガス
漏洩監視装置本体21の制御出力信号線21Bは、ガス
供給制御手段としての弁制御装置23の入力側に接続さ
れている。この弁制御装置23の弁制御信号出力線23
Aは弁駆動用エアー分配装置24に導かれている。この
弁駆動用エアー分配装置24は、エアー供給配管25か
ら供給されたエアーをガスボンベ遮断弁5、開閉弁9,
12,15に駆動用エアーとして分配、供給するための
もので、弁駆動用エアー配管24A〜24Dがそれぞれ
前述のガスボンベ遮断弁5、開閉弁9,12,15の駆
動用エアー入口に接続されている。また前記弁制御装置
23の電子錠制御信号出力線23Bは開閉扉3の電子錠
4に導かれて、その電子錠4のロック、ロック解除を制
御するようになっている。
【0033】以上のような図1に示される実施例におい
て、ガスボンベ遮断弁5を開放すれば、ガスボンベ2内
のガスはガス供給配管6に導入され、減圧弁7によって
減圧され、さらに配管内ガス検出手段としてのガス濃度
センサ8を通って開閉弁9から保管庫外部のガス使用箇
所へ導かれる。そしてその過程でガス濃度センサ8によ
ってガス供給配管6内のガス濃度が検出される。また保
管庫本体1内への漏洩ガスが漏洩ガス検知センサ20に
よって検出される。したがって既に述べたように、ガス
濃度センサ8の検知信号と漏洩ガス検知センサ20の検
知信号とによって、第1の状態〜第4の状態のいずれの
状態にあるかを判別することができる。
【0034】ここで、ガスボンベ遮断弁5および開閉弁
9を閉じてガス供給を停止させるとともに、開閉弁1
2,15を開放してパージ用ガス供給配管10から窒素
ガス等の不活性ガス(パージ用ガス)を導入すれば、ガ
ス供給配管6におけるガスボンベ遮断弁5から開閉弁9
までの部分がパージ用ガスで置換される。このようにガ
スボンベ2からのガスの供給を停止させかつ配管内のガ
スをパージ用ガスで置換した状態が、前述の第1の状態
に相当する。この状態では、ガス漏洩監視装置本体21
からは、「安全」を示す信号が制御出力信号線21Bを
通じて弁制御装置23に与えられ、この弁制御装置23
から電子錠制御信号出力線23Bを通じて電子錠4にロ
ック解除信号が与えられ、電子錠4を手動で解錠して保
管庫本体1の開閉扉3を開放させ得る状態となる。また
ガス漏洩監視装置本体21から表示出力信号線21Aを
通じて表示装置22に与えられる信号によって、その表
示装置22は「安全」な状態であることを示すメッセー
ジを表示する。
【0035】次いでパージ用ガス供給配管10の開閉弁
12を閉じ、ガスボンベ遮断弁5を開放すれば、ガスボ
ンベ2からのガスがガス供給配管6内に導入されて、そ
の導入ガスによってパージ用ガスが配管内から追い出さ
れる。その後開閉弁15を閉じて開閉弁9を開放すれ
ば、ガス供給配管6を通ってガスボンベ2からのガスが
使用箇所へ供給されることになる。この状態では、配管
内ガス検出手段としてのガス濃度センサ8がガスを検出
している。またこの状態で配管等からのガス漏洩がない
場合には、漏洩ガス検知センサ20は漏洩ガスを検出せ
ず、したがってこの状態が前述の第2の状態に相当す
る。このような第2の状態においては、ガス漏洩監視装
置本体21から「注意」を示す信号が制御出力信号線2
1Bを通じて弁制御装置23に与えられ、この弁制御装
置23から電子錠制御信号出力線23Bを通じて電子錠
4にロック信号が与えられ、電子錠を手動で解錠できな
いロック状態、すなわち保管庫本体1の開閉扉3を開放
させ得ない状態となる。またガス漏洩監視装置本体21
から表示出力信号線21Aを通じて表示装置22に与え
られる信号によって、その表示装置22が「注意」すべ
き状態であることを示すメッセージを表示する。
【0036】一方、上述のような第2の状態から、漏洩
ガス検出手段としての漏洩ガス検知センサ20が漏洩ガ
スを検出すれば、前述の第4の状態となる。この第4の
状態では、ガス漏洩監視装置本体21から「危険」を表
わす信号が制御出力信号線21Bを通じて弁制御装置2
3に与えられる。これによって弁制御装置23は、弁駆
動用エアー分配装置24を制御して、ガスボンベ遮断弁
5および開閉弁9を閉じ、ガス供給配管6から使用箇所
へガスが導かれないようにするとともに、開閉弁12,
15を開放して、パージ用ガス供給配管10からのパー
ジ用ガスを配管内に導入させ、ガス供給配管6における
ガスボンベ遮断弁5から開閉弁9までの部分のガスをパ
ージ用ガスによって置換させ、さらに保管庫本体1内に
残留していた漏洩ガスが排気ダクト1Aから排出されれ
ば、前述の第1の状態となる。そして既に述べたように
「安全」な状態となったことが表示装置22に表示され
るとともに、電子錠4のロックが解除され、保管庫本体
1の開閉扉3を開放して漏洩箇所の点検や修理等を行な
うことが可能な状態となる。
【0037】さらに、配管内ガス検出手段としてのガス
濃度センサ8がガスボンベ2からのガスを検出しない一
方、漏洩ガス検知センサ20が漏洩ガスを検出している
状態は、前述の第3の状態に相当する。このような状態
は通常はあり得ないが、ガス濃度センサ8と漏洩ガス検
知センサ20とのうちいずれか一方または双方について
故障等により動作異常が生じた場合には上記の第3の状
態となる。この状態では「異常」を表わすメッセージが
表示装置22に表示される。またこの第3の状態では、
一旦は前述の第4の状態、すなわち「危険」な状態での
動作と同様に、ガスボンベ2からのガス供給の遮断およ
び配管内のガスのパージ、保管庫本体1内からの排気を
行なうようにしても良く、このようにすれば「異常」な
状態の点検、修理等を安全に行なうことができる。
【0038】なお以上の実施例では、配管内ガス検出手
段としてガス濃度センサ8を設けて、配管内のガスの濃
度のみを検出する構成としているが、ガス濃度センサの
ほかガス圧力センサを設けて、配管内のガス圧力をも併
せて検出する構成としても良いことは勿論である。
【0039】また前述の実施例では、「安全」、「注
意」、「危険」、「異常」を表わすメッセージを表示装
置22によって視覚的に表示する構成としているが、表
示装置と併せて、あるいは表示装置の代りに、図示しな
い警報装置を設けて、聴覚的に警報を発生させるように
しても良い。またこの場合、図示しない音声合成装置を
設けておいて、前述のようなメッセージを合成音声によ
り発生させるようにしても良い。
【0040】さらに、上述のような表示装置や警報装置
を、保管庫本体1から離隔した1ケ所もしくは2ケ所以
上に設けておけば、地震等の災害によって退避した場合
でも、保管庫本体1内でのガス供給状態を遠隔地点から
確認することができる。
【0041】また前述の実施例では漏洩ガス検知センサ
20を保管庫本体1内の上部に設置した構成としている
が、検出すべきガスの比重によっては保管庫本体1の下
部に設置しても良く、さらには保管庫本体1の上下の2
ケ所以上の箇所に設置しても良い。
【0042】なおまた、前述の実施例ではガスボンベ保
管庫に適用した例を示しているが、ガスボンベ保管庫に
限らず、半導体製造用のガスを供給する設備には全て適
用可能であり、また半導体製造装置などのガス使用箇所
を含む設備にも適用できることはもちろんである。
【0043】
【発明の効果】この発明の半導体製造用ガス供給設備に
おけるガス漏洩監視装置によれば、半導体製造に用いら
れる有害なガスについて、ガス供給配管内のガスの濃度
等を常時検出すると同時に配管外部への漏洩ガスを常時
検出することから、両者の検出結果に基いて安全な状
態、注意すべき状態、危険な状態、さらにはセンサ等の
故障による異常な状態のいずれの状態にあるかを常時知
ることができ、したがって安全確認型安全対策を実現で
きるから、点検や修理、復旧作業等のために作業者が危
険な状態にさらされるおそれが少なく、従来よりも格段
に安全性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明をガスボンベ保管庫に適用した一実施
例のガス漏洩監視装置を示すブロック図である。
【符号の説明】
1 ガスボンベ保管庫本体 2 ガスボンベ 6 ガス供給配管 8 配管内ガス検出手段としてのガス濃度センサ 20 漏洩ガス検出手段としての漏洩ガス検知センサ 21 判別制御手段としてのガス漏洩監視装置本体 22 表示装置 23 ガス供給制御手段としての弁制御装置
フロントページの続き (72)発明者 原田 宙幸 東京都千代田区丸の内2丁目6番3号 三 菱商事株式会社内 (72)発明者 秋山 重之 京都府京都市南区吉祥院宮の東町2番地 株式会社堀場製作所内 (72)発明者 藤原 雅彦 京都府京都市南区吉祥院宮の東町2番地 株式会社堀場製作所内 (72)発明者 清水 直仁 京都府京都市南区吉祥院宮の東町2番地 株式会社堀場製作所内 (72)発明者 清水 哲夫 京都府京都市南区久世築山町378−3 株 式会社エステック久世工場内 (72)発明者 遠藤 芳朗 東京都板橋区船渡1−12−11 株式会社鈴 木商館内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体製造用ガスを供給するためのガス
    供給配管を備えた半導体製造用ガス供給設備において、 前記ガス供給配管内のガス濃度、もしくはガス濃度と圧
    力とを検出するための配管内ガス検出手段と、ガス供給
    配管からの漏洩ガスをガス供給配管外部で検出するため
    の漏洩ガス検出手段と、前記配管内ガス検出手段からの
    検出信号および前記漏洩ガス検出手段からの検出信号を
    受入れてこれらの検出信号に基いてガス供給状態を判別
    しかつその判別結果に基いて表示もしくは警報を発生さ
    せる判別制御手段とを有してなることを特徴とする、半
    導体製造用ガス供給設備におけるガス漏洩監視装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の半導体製造用ガス供給
    設備におけるガス漏洩監視装置において、 その監視装置から離隔された位置に、前記判別制御手段
    により制御される表示装置もしくは警報装置が設置され
    ていることを特徴とする、半導体製造用ガス供給設備に
    おけるガス漏洩監視装置。
  3. 【請求項3】 請求項1もしくは請求項2に記載の半導
    体製造用ガス供給設備におけるガス漏洩監視装置におい
    て、 前記漏洩ガス検出手段が漏洩ガスを検知せずかつ前記配
    管内ガス検出手段により検出された配管内ガス濃度が実
    質的に零の状態を示す第1の状態信号と、前記漏洩ガス
    検出手段が漏洩ガスを検知せずかつ前記配管内ガス検出
    信号により検出された配管内ガス濃度が実質的に零を越
    えるレベルの状態を示す第2の状態信号と、前記漏洩ガ
    ス検出手段が漏洩ガスを検知しかつ前記配管内ガス検出
    手段により検出された配管内ガス濃度が実質的に零の状
    態を示す第3の状態信号と、前記漏洩ガス検出手段が漏
    洩ガスを検知しかつ前記配管内ガス検出手段により検出
    された配管内ガス濃度が実質的に零を越えるレベルの状
    態を示す第4の状態信号とを各々出力する出力端子を前
    記判別制御手段が備えていることを特徴とする、半導体
    製造用ガス供給設備におけるガス漏洩監視装置。
  4. 【請求項4】 請求項3に記載の半導体製造用ガス供給
    設備におけるガス漏洩監視装置において、 前記判別制御手段からの第4の状態信号を受けた状態で
    前記ガス供給配管へのガス供給を遮断してガス供給配管
    内を不活性ガスによりパージするためのガス供給制御手
    段を備えていることを特徴とする、半導体製造用ガス供
    給設備におけるガス漏洩監視装置。
  5. 【請求項5】 請求項1〜請求項4のいずれかに記載の
    半導体製造用ガス供給設備におけるガス漏洩監視装置に
    おいて、 前記判別制御手段が、音声合成装置を備えていることを
    特徴とする、半導体製造用ガス供給設備におけるガス漏
    洩監視装置。
JP20667296A 1996-07-17 1996-07-17 半導体製造用ガス供給設備におけるガス漏洩監視装置 Pending JPH1030798A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20667296A JPH1030798A (ja) 1996-07-17 1996-07-17 半導体製造用ガス供給設備におけるガス漏洩監視装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20667296A JPH1030798A (ja) 1996-07-17 1996-07-17 半導体製造用ガス供給設備におけるガス漏洩監視装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1030798A true JPH1030798A (ja) 1998-02-03

Family

ID=16527217

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20667296A Pending JPH1030798A (ja) 1996-07-17 1996-07-17 半導体製造用ガス供給設備におけるガス漏洩監視装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1030798A (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000073936A (ja) * 1998-08-26 2000-03-07 Mitsubishi Electric Corp イオン源装置
WO2000014782A1 (fr) * 1998-09-03 2000-03-16 Nippon Sanso Corporation Dispositif d'apport de grande quantite de gaz de traitement de semiconducteurs
KR100934917B1 (ko) * 2007-12-07 2010-01-06 세메스 주식회사 오존수를 사용하는 반도체 제조 설비와, 그의 오토 도어 락시스템 및 그의 처리 방법
KR20140137285A (ko) * 2013-05-22 2014-12-02 가부시키가이샤 호리바 에스텍 재료공급장치
CN105299442A (zh) * 2015-11-20 2016-02-03 郑龙龟 液化石油气汽车气瓶储气回收及充装装置
JP6032372B2 (ja) * 2013-09-26 2016-11-30 村田機械株式会社 パージ装置及びパージ方法
CN107620861A (zh) * 2016-07-13 2018-01-23 特鲁玛杰拉特技术有限公司 液化气系统
CN110242854A (zh) * 2018-03-07 2019-09-17 本田技研工业株式会社 高压储罐装置及其泄漏判定方法
IT201800010373A1 (it) * 2018-11-15 2020-05-15 Cif Service S R L Impianto con sensori di rilevazione delle fughe di metano
CN115507301A (zh) * 2022-11-10 2022-12-23 四川人人思创企业管理有限公司 一种石油液化气罐安全装置、安全控制方法及系统

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000073936A (ja) * 1998-08-26 2000-03-07 Mitsubishi Electric Corp イオン源装置
WO2000014782A1 (fr) * 1998-09-03 2000-03-16 Nippon Sanso Corporation Dispositif d'apport de grande quantite de gaz de traitement de semiconducteurs
US6343627B1 (en) 1998-09-03 2002-02-05 Nippon Sanso Corporation Feed device for large amount of semiconductor process gas
KR100934917B1 (ko) * 2007-12-07 2010-01-06 세메스 주식회사 오존수를 사용하는 반도체 제조 설비와, 그의 오토 도어 락시스템 및 그의 처리 방법
KR20140137285A (ko) * 2013-05-22 2014-12-02 가부시키가이샤 호리바 에스텍 재료공급장치
CN104183520A (zh) * 2013-05-22 2014-12-03 株式会社堀场Stec 材料供给装置
JP2014226610A (ja) * 2013-05-22 2014-12-08 株式会社堀場エステック 材料供給装置
JP6032372B2 (ja) * 2013-09-26 2016-11-30 村田機械株式会社 パージ装置及びパージ方法
TWI619192B (zh) * 2013-09-26 2018-03-21 Murata Machinery Ltd 吹掃裝置及吹掃方法
CN105299442A (zh) * 2015-11-20 2016-02-03 郑龙龟 液化石油气汽车气瓶储气回收及充装装置
CN107620861A (zh) * 2016-07-13 2018-01-23 特鲁玛杰拉特技术有限公司 液化气系统
CN110242854A (zh) * 2018-03-07 2019-09-17 本田技研工业株式会社 高压储罐装置及其泄漏判定方法
US10641433B2 (en) 2018-03-07 2020-05-05 Honda Motor Co., Ltd. High pressure tank apparatus and method of leakage judgment of same
CN110242854B (zh) * 2018-03-07 2020-07-28 本田技研工业株式会社 高压储罐装置及其泄漏判定方法
IT201800010373A1 (it) * 2018-11-15 2020-05-15 Cif Service S R L Impianto con sensori di rilevazione delle fughe di metano
CN115507301A (zh) * 2022-11-10 2022-12-23 四川人人思创企业管理有限公司 一种石油液化气罐安全装置、安全控制方法及系统

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006321041A (ja) 内圧防爆システム
JPH1030798A (ja) 半導体製造用ガス供給設備におけるガス漏洩監視装置
JPH07148427A (ja) シリンダ付ガス供給装置
KR20020033513A (ko) 가스 격리 박스 및 가스 스틱
JP5580380B2 (ja) 空気圧弁の連続運転のためのソレノイド迂回システム
JP2007068639A (ja) ガス系消火設備
JP2003065944A (ja) 輸送配管の異常検出方法、輸送状況安全監視方法および異常検出装置
SG186902A1 (en) Purge box for fluorine supply
JP4304323B2 (ja) ガス供給システム
KR101301344B1 (ko) 가스 자동소화설비의 화이어 락아웃 시스템
JPH0739603A (ja) 二酸化炭素消火設備
CN113136918A (zh) 一种回转异常保护控制系统及挖掘机
KR100815982B1 (ko) 시일포트의 가스누출 자동 감지장치
KR102560469B1 (ko) 안전관리 키오스크를 통한 위험시설물의 안전관리 운용방법
JPH09101000A (ja) 安全確認型ガスボンベ保管庫
KR200343725Y1 (ko) 가스계 소화기구 점검장치
JP4105007B2 (ja) ガスメータ及びガスメータの解除受け付け方法
KR102495288B1 (ko) 지능형 비상 소화 장치
JP5515378B2 (ja) 警報器連動式ガス遮断装置
KR100607181B1 (ko) 반도체 가스공급시스템
JP3459032B2 (ja) ガス遮断復帰方法およびガスセキュリティ装置
CN207514590U (zh) 一种气体泄漏安全装置以及气体泄漏安全系统
JP3754852B2 (ja) ガス管工事現場における防災方法
JP3033339B2 (ja) ガス安全装置
JPH0536673A (ja) 半導体製造装置