JPH10307147A - Contact pin of semiconductor-testing device - Google Patents

Contact pin of semiconductor-testing device

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JPH10307147A
JPH10307147A JP11674697A JP11674697A JPH10307147A JP H10307147 A JPH10307147 A JP H10307147A JP 11674697 A JP11674697 A JP 11674697A JP 11674697 A JP11674697 A JP 11674697A JP H10307147 A JPH10307147 A JP H10307147A
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contact
contact pin
tip
pin
portions
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Yoshiichi Yoshikawa
芳一 吉川
Tetsuya Kagami
徹也 加賀美
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Yokogawa Electric Corp
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Yokogawa Electric Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To secure a contact resistance stably and to improving wear resistance property and machining accuracy by forming the shape of a tip contact part at first to fourth plane parts and obtaining stable continuity. SOLUTION: With a tip shape, first, second, third, and fourth plane parts 36, 37, 38, and 39 are formed, so that plating cannot be released easily, and the tip of a contact pin cannot be deformed, worn out, or oxidized, thus obtaining the contact pin of a semiconductor-testing device with stable continuity. Also, since a contact surface is flat, a large contact area can be obtained. As a result, centered resistance cannot occur easily, contact resistance is small, and continuity stability is superb. Further, the plane parts 36-39 are provided at each tip of first to fourth tip contact parts 32-35 so that the position in axial direction of the contact pin is equal and so that the plane parts can be provided while they orthogonally cross the axis of the contact pin. Therefore, the height of each tip is aligned uniformly for machining easily, thus reducing contact scattering on contacting the pad.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、安定した接触抵抗
が得られ、耐摩耗性が向上され、加工精度が容易に得ら
れる半導体テスタ装置のコンタクトピンに関するもので
ある。特に、コンタクトピンの先端形状に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a contact pin of a semiconductor tester device capable of obtaining stable contact resistance, improving abrasion resistance, and easily obtaining processing accuracy. In particular, it relates to the tip shape of the contact pin.

【0002】[0002]

【従来の技術】図4は、従来より一般に使用されている
従来例の要部構成説明図で、半導体テスタ装置に使用さ
れている例で、例えば、雑誌名;Semiconductor World
1995年1月号 P62〜P64、発行日;平成6年12月20
日、編集人;松下晋司、発行所;株式会社 プレスジャ
ーナル、発行人;篠原興二 に示されている。図5は図4
の動作説明図、図6は図4の要部詳細図、図7は図6の
要部詳細図、図8は図6の側面図、図9は図6の動作説
明図である。
2. Description of the Related Art FIG. 4 is an explanatory view of a main part of a conventional example generally used in the prior art, which is used in a semiconductor tester device.
January 1995, P62-P64, date of issue: December 20, 1994
Japanese, editor: Shinji Matsushita, publishing office; Press Journal, Inc .; publisher: Koji Shinohara. FIG. 5 is FIG.
6, FIG. 6 is a detailed view of a main part of FIG. 4, FIG. 7 is a detailed view of a main part of FIG. 6, FIG. 8 is a side view of FIG. 6, and FIG.

【0003】図において、1は、テストヘッド本体であ
る。2は、パフォーマンスボードである。パフォーマン
スボード2は、テストヘッド本体1とテストヘッド用の
コンタクトピン3により電気的に接続されている。パフ
ォーマンスボード2は客先毎に実装部品が異なる。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a test head main body. 2 is a performance board. The performance board 2 is electrically connected to the test head main body 1 by contact pins 3 for the test head. The mounted components of the performance board 2 are different for each customer.

【0004】4は一端がパフォーマンスボード2に接続
され、他端がプローブカード5に接続された信号中継部
品である。信号中継部品4には、パフォーマンスボード
2側には、パフォーマンスボード2用のコンタクトピン
6が、プローブカード5側には、プローブカード5用の
コンタクトピン7が設けられている。プローブカード5
はデバイス毎に異なるため、デバイス毎に用意される。
[0004] Reference numeral 4 denotes a signal relay component having one end connected to the performance board 2 and the other end connected to the probe card 5. The signal relay component 4 is provided with contact pins 6 for the performance board 2 on the performance board 2 side and contact pins 7 for the probe card 5 on the probe card 5 side. Probe card 5
Is different for each device, so is prepared for each device.

【0005】8はプローブカード5に設けられたプロー
ブである。11は、プローバ(ハンドラ)である。プロ
ーバ11にはチャックトップ12が設けられ、チャック
トップ12上には、テストされるデバイスAが配置され
る。
[0005] Reference numeral 8 denotes a probe provided on the probe card 5. 11 is a prober (handler). The prober 11 is provided with a chuck top 12, on which the device A to be tested is arranged.

【0006】以上の構成において、テストヘッド本体1
からデバイスAまでの信号の流れは、以下に示す如くな
る。図5に示す如く、信号の流れは、テストヘッド本体
1よりコンタクトピン3を介してパフォーマンスボード
2に流れる。
In the above configuration, the test head body 1
The signal flow from to the device A is as follows. As shown in FIG. 5, the signal flows from the test head body 1 to the performance board 2 via the contact pins 3.

【0007】パフォーマンスボード2よりコンタクトピ
ン6を介して信号中継部品4に流れ、信号中継部品4よ
りコンタクトピン7を介してプローブカード5に流れ、
プローブカード5よりプローブ8を介してデバイスAに
流れる。デバイスAの出力は上記の信号経路を逆に進む
事になる。
[0007] The signal flows from the performance board 2 to the signal relay component 4 via the contact pins 6, and flows from the signal relay component 4 to the probe card 5 via the contact pins 7.
It flows from the probe card 5 to the device A via the probe 8. The output of device A will reverse the signal path described above.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】この様な装置において
は、コンタクトピン3,6,7は、図6に示す如く、コ
ンタクトピンケース21と、コンタクトピンケース21
に後端が挿入されるコンタクトピン本体22と、コンタ
クトピンケース21内に収納されコンタクトピン本体2
2を押圧するコンタクトピンスプリング23とよりな
る。
In such an apparatus, as shown in FIG. 6, the contact pins 3, 6, and 7 are made up of a contact pin case 21 and a contact pin case 21.
A contact pin body 22 having a rear end inserted therein, and a contact pin body 2 housed in a contact pin case 21.
The contact pin spring 23 presses the contact pin spring 23.

【0009】コンタクトピン本体22は、銀、ロジウム
メッキ等もあるが、この場合は、金メッキされ、図6、
図7に示す如く、パフォーマンスボード2、あるいはプ
ローブカード5との接触の先端部分221はとがってい
る。
The contact pin body 22 may be silver, rhodium-plated or the like.
As shown in FIG. 7, the tip 221 of the contact with the performance board 2 or the probe card 5 is sharp.

【0010】また、コンタクトピン3,6,7が接する
パフォーマンスボード2あるいはプローブカード5に
は、パッド部24が設けられている。この場合は、パッ
ド部24は金メッキされている。図9には、コンタクト
ピン3とパフォーマンスボード2とパッド部24との場
合について示されている。
A pad portion 24 is provided on the performance board 2 or the probe card 5 with which the contact pins 3, 6, 7 are in contact. In this case, the pad portion 24 is plated with gold. FIG. 9 shows the case of the contact pins 3, the performance board 2, and the pad section 24.

【0011】テスタ装置に使用されるコンタクトピンに
ついては、以下の様な問題点がある。 (1)半導体テスタ装置は、主に半導体デバイス生産ラ
イン内で使用される。そのためラインをストップさせる
様な不具合、必要以外な作業時間は許されない。
[0011] The contact pin used in the tester device has the following problems. (1) A semiconductor tester device is mainly used in a semiconductor device production line. For this reason, troubles such as stopping the line and unnecessary working time are not allowed.

【0012】半導体テスタ装置において、コンタクトピ
ン3,6,7とパッド部24との間の接触不良(規定の
接触抵抗値以下の接触が得られなかった場合を言う)が
発生した場合、半導体デバイス生産ラインでは、接触の
しなおし、パッド部24をアルコールで拭くなどして対
応をしている。
In the semiconductor tester device, when a contact failure between the contact pins 3, 6, 7 and the pad portion 24 (meaning that a contact having a specified contact resistance value or less is not obtained) occurs, In the production line, contact is made again, and the pad section 24 is wiped with alcohol or the like.

【0013】半導体テスタ装置のコンタクトピン3,
6,7の使用本数は、例えば、600本以上あるので上
記作業を行なう事は多大な作業時間が発生するし、半導
体デバイス生産ラインの可動効率を阻害する。
The contact pins 3 and 3 of the semiconductor tester device
Since the number of used devices 6 and 7 is, for example, 600 or more, performing the above operation requires a large amount of work time and hinders the operation efficiency of the semiconductor device production line.

【0014】(2)現在使用されているコンタクトピン
3,6,7は、先端部分221が尖った形状のものが多
く使用されている。これは、コンタクトピン3,6,7
の先端をパッド部24に確実に接触させる事が目的であ
り、パッド部表面に付着した塵埃を挟むことなく接触で
きるようにする事や、パッド部(金メッキ)24に突き
刺す事で、より確実に導通を得ようとしている。
(2) As the contact pins 3, 6, and 7 used at present, those having a sharp tip 221 are often used. These are the contact pins 3, 6, 7
The purpose is to ensure that the tip of the pad contacts the pad portion 24, so that dust adhering to the surface of the pad portion can be contacted without being pinched, and by piercing the pad portion (gold plating) 24, it is more reliable. You are trying to get continuity.

【0015】しかし、上記のように接触を繰り返す事
で、パッド部24の金メッキ部を通り越して母材の銅部
分を保護するニッケルメッキを破損し、パッド部24の
母材が大気と接触してしまう。
However, by repeating the contact as described above, the nickel plating for protecting the copper portion of the base material passing through the gold plating portion of the pad portion 24 is damaged, and the base material of the pad portion 24 comes into contact with the atmosphere. I will.

【0016】パッド部24の母材が大気と接触する事に
より、パッド部24の母材の酸化膜がパッド部24の表
面全体を覆ってしまい、かえって、接触不良を起こす原
因にもなってしまう。上記の事は、コンタクトピン3,
6,7自身に付いても同様であり、コンタクトピン3,
6,7の先端部分221の、母材の酸化膜による接触不
良が発生する。
When the base material of the pad portion 24 comes into contact with the atmosphere, the oxide film of the base material of the pad portion 24 covers the entire surface of the pad portion 24, which may cause a contact failure. . The above is for contact pins 3,
The same applies to the contact pins 6 and 7 itself.
Contact failure of the tip portions 221 of the base materials 6 and 7 due to the oxide film of the base material occurs.

【0017】また、コンタクトピン3,6,7の先端部
分221も早い段階のくり返し接触回数により、先端が
尖っているため、変形や摩耗、酸化をして、上記で述べ
た突き刺す効果も得られなくなってしまう。この様にな
った状態では、導通に対して確実な信頼性は得られにく
い。本発明は、この問題点を解決するものである。
Further, the tip portions 221 of the contact pins 3, 6, and 7 are sharpened by the number of repeated contact at an early stage, so that the tip portions 221 are deformed, worn, and oxidized, and the above-described piercing effect is obtained. Will be gone. In such a state, it is difficult to obtain reliable reliability for conduction. The present invention solves this problem.

【0018】本発明の目的は、安定した接触抵抗が得ら
れ、耐摩耗性が向上され、加工精度が容易に得られる半
導体テスタ装置のコンタクトピンを提供するにある。
An object of the present invention is to provide a contact pin of a semiconductor tester device which can obtain stable contact resistance, improve abrasion resistance, and easily obtain processing accuracy.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明は、 (1)テストヘッドとパフォーマンスボード、パフォー
マンスボードと信号中継部品、信号中継部品とプローブ
カードとの間に使用されるコンタクトピンにおいて、柱
状のコンタクトピン本体と、該コンタクトピン本体の先
端接触部分が該コンタクトピン本体の軸方向に4個に分
割されて設けられた第1,第2、第3,第4の先端接触
部と、該第1,第2、第3,第4の先端接触部のそれぞ
れの先端にコンタクトピン本体の軸方向の位置が互いに
等しく該軸に直交して設けられた第1,第2、第3,第
4の平面部と、該第1,第2、第3,第4の平面部と前
記第1,第2、第3,第4の先端接触部と前記コンタク
トピン本体とを覆って設けられ所定の材料からなるメッ
キ部とを具備したことを特徴とする半導体テスタ装置の
コンタクトピン。 (2)金メッキよりなるメッキ部を具備したことを特徴
とする請求項1記載の半導体テスタ装置のコンタクトピ
ン。を構成したものである。
To achieve this object, the present invention provides: (1) a test head and a performance board, a performance board and a signal relay component, and a signal relay component and a probe card; In a contact pin, a first, second, third, and fourth distal end provided with a column-shaped contact pin main body and a contact portion at the distal end of the contact pin main body divided into four in the axial direction of the contact pin main body. The first and second contact pins are provided at the respective distal ends of the first, second, third, and fourth distal end contact portions such that the positions of the contact pin main bodies in the axial direction are equal to each other and are orthogonal to the axis. , A third, a fourth flat portion, the first, second, third, and fourth flat portions, the first, second, third, and fourth tip contact portions, and the contact pin body. Plating made of predetermined material provided over A contact pin of the semiconductor tester device, comprising: (2) The contact pin of the semiconductor tester device according to claim 1, further comprising a plating portion made of gold plating. It is what constituted.

【0020】[0020]

【作用】以上の構成において、第1,第2、第3,第4
の先端接触部が、柱状のコンタクトピン本体の先端接触
部分をコンタクトピン本体の軸方向に4個に分割されて
形成される。
In the above construction, the first, second, third, fourth
Is formed by dividing the tip contact portion of the columnar contact pin body into four pieces in the axial direction of the contact pin body.

【0021】第1,第2、第3,第4の平面部が、第
1,第2、第3,第4の先端接触部のそれぞれの先端
に、コンタクトピン本体の軸方向の位置が互いに等し
く、且つ、柱状のコンタクトピン本体の軸に直交して形
成される。メッキ部が、第1,第2、第3,第4の平面
部と、第1,第2、第3,第4の先端接触部と、コンタ
クトピン本体とを覆って形成される。以下、実施例に基
づき詳細に説明する。
The first, second, third, and fourth flat portions are provided at the respective tips of the first, second, third, and fourth tip contact portions, and the axial positions of the contact pin main bodies are mutually different. They are formed equally and perpendicular to the axis of the columnar contact pin body. A plating portion is formed to cover the first, second, third, and fourth flat portions, the first, second, third, and fourth tip contact portions, and the contact pin body. Hereinafter, a detailed description will be given based on embodiments.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施例の要部構
成説明図、図2は図1の要部詳細図、図3は図1の側面
図である。図において、図6と同一記号の構成は同一機
能を表わす。以下、図6と相違部分のみ説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is an explanatory view of a main part of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a detailed view of a main part of FIG. 1, and FIG. 3 is a side view of FIG. In the figure, the configuration of the same symbol as FIG. 6 represents the same function. Hereinafter, only differences from FIG. 6 will be described.

【0023】31は、柱状のコンタクトピン本体であ
る。32,33,34,35は、コンタクトピン本体3
1の先端接触部分が、コンタクトピン本体31の軸方向
に4個に分割されて設けられた第1,第2、第3,第4
の先端接触部である。
Reference numeral 31 denotes a columnar contact pin main body. 32, 33, 34, and 35 are contact pin bodies 3
The first, second, third, and fourth first contact portions are provided by being divided into four in the axial direction of the contact pin main body 31.
This is the contact portion at the tip.

【0024】36,37,38,39は、第1,第2、
第3,第4の先端接触部32,33,34,35の先端
にそれぞれ設けられ、コンタクトピン本体31の軸方向
の位置が互いに等しくされた第1,第2、第3,第4の
平面部である。
36, 37, 38, and 39 are the first, second,
First, second, third, and fourth planes provided at the distal ends of the third and fourth distal contact portions 32, 33, 34, and 35, respectively, in which the axial positions of the contact pin main bodies 31 are equal to each other. Department.

【0025】41は、平面部36,37,38,39と
第1,第2、第3,第4の先端接触部32,33,3
4,35とコンタクトピン本体31とを覆って設けられ
所定の材料からなるメッキ部である。この場合は、金メ
ッキが使用されている。
Reference numeral 41 denotes flat portions 36, 37, 38, and 39 and first, second, third, and fourth tip contact portions 32, 33, and 3.
The plating portion is provided to cover the contact pins 4 and 35 and the contact pin main body 31 and is made of a predetermined material. In this case, gold plating is used.

【0026】以上の構成において、第1,第2、第3,
第4の先端接触部32,33,34,35が、柱状のコ
ンタクトピン本体31の先端接触部分をコンタクトピン
本体31の軸方向に4個に分割されて形成される。
In the above configuration, the first, second, third and third
The fourth tip contact portions 32, 33, 34, 35 are formed by dividing the tip contact portion of the columnar contact pin body 31 into four pieces in the axial direction of the contact pin body 31.

【0027】第1,第2、第3,第4の平面部36,3
7,38,39が、第1,第2、第3,第4の先端接触
部32,33,34,35のそれぞれの先端に、コンタ
クトピン本体31の軸方向の位置が互いに等しく、且
つ、柱状のコンタクトピン本体31の軸に直交して形成
される。
The first, second, third and fourth plane portions 36 and 3
7, 38, and 39 are provided at the distal ends of the first, second, third, and fourth distal end contact portions 32, 33, 34, and 35, respectively. The axial positions of the contact pin main bodies 31 are equal to each other, and It is formed orthogonal to the axis of the columnar contact pin main body 31.

【0028】メッキ部41が、第1,第2、第3,第4
の平面部36,37,38,39と、第1,第2、第
3,第4の先端接触部32,33,34,35と、コン
タクトピン本体31とを覆って形成される。この場合
は、金メッキが使用されている。
The plating section 41 is formed of first, second, third, fourth
Are formed so as to cover the flat portions 36, 37, 38, 39, the first, second, third, and fourth tip contact portions 32, 33, 34, 35, and the contact pin main body 31. In this case, gold plating is used.

【0029】この結果、 (1)図6従来例の先端が尖った先端形状では、接触を
繰り返す事により、コンタクトピン3,6,7の接触部
分のメッキ部分が剥がれてしまい、コンタクトピン3,
6,7の母材の銅部分を保護するニッケルメッキを破損
し、コンタクトピン3,6,7の母材が大気と接触す
る。
As a result, (1) FIG. 6 In the tip shape of the conventional example having a sharp tip, the contact portion is repeated, so that the plated portions of the contact portions of the contact pins 3, 6, and 7 are peeled off.
The nickel plating that protects the copper portion of the base material of 6, 7 is damaged, and the base material of the contact pins 3, 6, 7 comes into contact with the atmosphere.

【0030】コンタクトピン3,6,7の母材が大気と
接触する事による母材の酸化膜が、コンタクトピン3,
6,7の接触部分の表面全体を覆ってしまい、接触不良
を起こす事が実験によって確認された。
The oxide film of the base material due to the base material of the contact pins 3, 6, and 7 coming into contact with the atmosphere forms
It was confirmed by experiments that the entire surfaces of the contact portions 6 and 7 were covered, causing poor contact.

【0031】本発明の先端形状では、第1,第2、第
3,第4の平面部36,37,38,39が形成されて
いるので、メッキは剥がれにくく、導通の安定性が良い
半導体テスタ装置のコンタクトピンが得られる。
In the tip shape according to the present invention, the first, second, third, and fourth flat portions 36, 37, 38, and 39 are formed, so that the plating is hardly peeled off and the semiconductor has good conduction stability. The contact pins of the tester device are obtained.

【0032】(2)コンタクトピン3,6,7の先端部
も、早い段階のくり返し接触回数により、先端が尖って
いるため、変形や摩耗、酸化をして、上記で述べた突き
刺す効果も得られなくなってしまう事も実験によって確
認された。
(2) Since the tips of the contact pins 3, 6, and 7 are sharp due to the number of times of repeated contact at an early stage, the tips are deformed, worn, and oxidized, and the above-described piercing effect is obtained. It was also confirmed by experiments that it could not be done.

【0033】本発明の先端形状では、第1,第2、第
3,第4の平面部36,37,38,39が形成されて
いるので、コンタクトピンの先端が、変形や摩耗、酸化
をすることがなく、導通の安定性が良い半導体テスタ装
置のコンタクトピンが得られる。
In the tip shape of the present invention, since the first, second, third, and fourth flat portions 36, 37, 38, and 39 are formed, the tip of the contact pin is not deformed, worn, or oxidized. Thus, a contact pin of a semiconductor tester device having good conduction stability can be obtained.

【0034】(3)第1,第2、第3,第4の平面部3
6,37,38,39が形成されているので、接触面が
平らであるため、接触面積を多くとる事ができる。その
結果、集中抵抗が発生しにくく、接触抵抗が少なく、導
通の安定性が良い半導体テスタ装置のコンタクトピンが
得られる。
(3) First, second, third and fourth plane portions 3
Since 6, 37, 38, and 39 are formed, the contact surface is flat, so that a large contact area can be obtained. As a result, it is possible to obtain a contact pin of a semiconductor tester device which hardly generates concentrated resistance, has low contact resistance, and has good conduction stability.

【0035】(4)図6従来例のコンタクトピン3,
6,7では、先端が尖っているので,初期段階でパッド
部24に致命的な損傷を与えるのに対して、本発明のコ
ンタクトピンでは、致命的な損傷をパッド部24に与え
る事なく、損傷を低く抑える事が出来る事が実験により
確認された。パッド部24の耐久性についても、図6従
来例のコンタクトピン3,6,7の使用された場合より
も、4倍以上の耐久性に伸ばす事が実験により確認され
た。
(4) FIG.
In Nos. 6 and 7, since the tip is sharp, the pad portion 24 is fatally damaged in the initial stage, whereas the contact pin of the present invention does not cause any fatal damage to the pad portion 24. Experiments have shown that damage can be kept low. Experiments have also confirmed that the durability of the pad portion 24 is increased to four times or more the durability when the contact pins 3, 6, and 7 of the conventional example in FIG. 6 are used.

【0036】すなわち、パッド部24の耐久性を伸ばす
事ができる半導体テスタ装置のコンタクトピンが得られ
る。
That is, the contact pin of the semiconductor tester device which can extend the durability of the pad portion 24 is obtained.

【0037】(5)図6従来例の先端が尖った先端形状
のコンタクトピン3,6,7では、尖っているため、コ
ンタクトピンの軸方向の位置が互いに等しく精度よく揃
える事が大変困難である。
(5) FIG. 6 In the prior art contact pins 3, 6, and 7 having a sharp tip, it is very difficult to make the axial positions of the contact pins equal to each other with high precision because they are sharp. is there.

【0038】これに対して、本発明では、第1,第2、
第3,第4の平面部36,37,38,39が、第1,
第2、第3,第4の先端接触部32,33,34,35
のそれぞれの先端に、コンタクトピンの軸方向の位置が
互いに等しく、コンタクトピンの軸に直交して設けられ
るようにした。
On the other hand, in the present invention, the first, second,
The third and fourth plane portions 36, 37, 38 and 39 are
Second, third, and fourth tip contact portions 32, 33, 34, 35
At the respective ends, the positions of the contact pins in the axial direction are equal to each other, and are provided orthogonal to the axis of the contact pins.

【0039】このため、それぞれの先端の高さを均一に
揃えて加工し易いため、パッド24との接触時に接触の
バラツキが少なくすることが出来、コンタクトピンの接
触ばらつきの少ない半導体テスタ装置のコンタクトピン
が得られる。
For this reason, the heights of the respective tips are uniform and processing is easy, so that the contact variation when contacting with the pad 24 can be reduced and the contact pin of the semiconductor tester device with less contact variation of the contact pin. A pin is obtained.

【0040】(6)また、メッキ部41を金メッキにす
れば、更に安定した接触抵抗が得られる半導体テスタ装
置のコンタクトピンが得られる。
(6) If the plating portion 41 is made of gold plating, a contact pin of a semiconductor tester device which can obtain a more stable contact resistance can be obtained.

【0041】なお、本発明の半導体テスタ装置のコンタ
クトピンは、60000回以上の接触試験を行って効果
が確認されものである。
The effect of the contact pin of the semiconductor tester device of the present invention has been confirmed by performing a contact test more than 60,000 times.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の請
求項1によれば、 (1)従来例のコンタクトピンのような先端が尖った先
端形状では、接触を繰り返す事により、コンタクトピン
の接触部分のメッキ部分が剥がれてしまい、コンタクト
ピンの母材の部分を保護するメッキを破損し、コンタク
トピンの母材が大気と接触する。
As described in detail above, according to the first aspect of the present invention, (1) In the case of a pointed tip like a conventional contact pin, the contact pin is repeated by repeating the contact. Then, the plated portion of the contact portion is peeled off, and the plating for protecting the base material of the contact pin is damaged, and the base material of the contact pin comes into contact with the atmosphere.

【0043】コンタクトピンの母材が大気と接触する事
による母材の酸化膜が、コンタクトピンの接触部分の表
面全体を覆ってしまい、接触不良を起こす事が実験によ
って確認された。
Experiments have confirmed that an oxide film of the base material of the contact pin when the base material of the contact pin comes into contact with the atmosphere covers the entire surface of the contact portion of the contact pin and causes poor contact.

【0044】本発明の先端形状では、第1,第2、第
3,第4の平面部が形成されているので、メッキは剥が
れにくく、導通の安定性が良い半導体テスタ装置のコン
タクトピンが得られる。
Since the first, second, third, and fourth flat portions are formed in the shape of the tip of the present invention, the plating is hardly peeled off, and a contact pin of a semiconductor tester device having good conduction stability is obtained. Can be

【0045】(2)従来例のコンタクトピンの先端部も
早い段階のくり返し接触回数により、先端が尖っている
ため、変形や摩耗、酸化をして、上記で述べた突き刺す
効果も得られなくなってしまう事も実験によって確認さ
れた。
(2) Since the tip of the contact pin of the conventional example is sharp due to the number of repetitive contacts at an early stage, the tip is deformed, worn, oxidized, and the above-mentioned piercing effect cannot be obtained. It was also confirmed by experiments.

【0046】本発明の先端形状では、第1,第2、第
3,第4の平面部が形成されているので、コンタクトピ
ンの先端が、変形や摩耗、酸化をすることがなく、導通
の安定性が良い半導体テスタ装置のコンタクトピンが得
られる。
In the tip shape of the present invention, the first, second, third, and fourth flat portions are formed, so that the tip of the contact pin does not deform, wear, or oxidize, and does not conduct. A contact pin of a semiconductor tester device having good stability can be obtained.

【0047】(3)第1,第2、第3,第4の平面部が
形成されているので、接触面が平らであるため、接触面
積を多くとる事ができる。その結果、集中抵抗が発生し
にくく、接触抵抗が少なく、導通の安定性が良い半導体
テスタ装置のコンタクトピンが得られる。
(3) Since the first, second, third, and fourth flat portions are formed, the contact surface is flat, so that the contact area can be increased. As a result, it is possible to obtain a contact pin of a semiconductor tester device which hardly generates concentrated resistance, has low contact resistance, and has good conduction stability.

【0048】(4)従来例のコンタクトピンでは、先端
が尖っているので,初期段階でパッド部に致命的な損傷
を与えるのに対して、本発明のコンタクトピンでは、致
命的な損傷をパッド部に与える事なく、損傷を低く抑え
る事が出来る事が実験により確認された。パッド部の耐
久性についても、従来例のコンタクトピンが使用された
場合よりも、4倍以上の耐久性に伸ばす事が出来ること
が実験により確認された。
(4) In the conventional contact pin, the tip is sharp, so that the pad portion is seriously damaged in the initial stage. On the other hand, in the contact pin of the present invention, the fatal damage is caused in the pad portion. Experiments have shown that the damage can be kept low without giving any parts. Experiments have also confirmed that the durability of the pad portion can be extended to four times or more that in the case where the conventional contact pin is used.

【0049】すなわち、パッド部の耐久性を伸ばす事が
できる半導体テスタ装置のコンタクトピンが得られる。 (5)従来例の先端が尖った先端形状のコンタクトピン
では、尖っているため、コンタクトピンの軸方向の位置
が互いに等しく精度よく揃える事が大変困難である。
That is, the contact pin of the semiconductor tester device which can extend the durability of the pad portion can be obtained. (5) In the conventional contact pin having a sharp tip, the tip is sharp, and it is very difficult to make the axial positions of the contact pins equal to each other with high accuracy.

【0050】これに対して、本発明では、第1,第2、
第3,第4の平面部が、第1,第2、第3,第4の先端
接触部のそれぞれの先端に、コンタクトピンの軸方向の
位置が互いに等しく、コンタクトピンの軸に直交して設
けられるようにした。
On the other hand, in the present invention, the first, second,
The third and fourth flat portions are provided at the respective tip ends of the first, second, third and fourth tip contact portions so that the axial positions of the contact pins are equal to each other and orthogonal to the axis of the contact pin. It was made to be provided.

【0051】このため、それぞれの先端の高さを均一に
揃えて加工し易いため、パッドとの接触時に接触のバラ
ツキが少なくすることが出来、コンタクトピンの接触ば
らつきの少ない半導体テスタ装置のコンタクトピンが得
られる。
For this reason, it is easy to work with the heights of the tips evenly uniform, so that variations in contact at the time of contact with the pad can be reduced, and the contact pin of the semiconductor tester device with less contact variation of the contact pin. Is obtained.

【0052】本発明の請求項2によれば、メッキ部を金
メッキにしたので、更に安定した接触抵抗が得られる半
導体テスタ装置のコンタクトピンが得られる。
According to the second aspect of the present invention, since the plated portion is made of gold plating, it is possible to obtain a contact pin of a semiconductor tester device capable of obtaining a more stable contact resistance.

【0053】従って、本発明によれば、安定した接触抵
抗が得られ、耐摩耗性が向上され、加工精度が容易に得
られる半導体テスタ装置のコンタクトピンを実現するこ
とが出来る。
Therefore, according to the present invention, it is possible to realize a contact pin of a semiconductor tester device in which stable contact resistance is obtained, wear resistance is improved, and processing accuracy is easily obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例の構成説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram of a configuration of an embodiment of the present invention.

【図2】図1の要部詳細図である。FIG. 2 is a detailed view of a main part of FIG. 1;

【図3】図1の側面図である。FIG. 3 is a side view of FIG. 1;

【図4】従来例の説明図で、半導体テスタ装置への使用
例の説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of a conventional example, illustrating an example of use in a semiconductor tester device.

【図5】図4の動作説明図である。FIG. 5 is an operation explanatory diagram of FIG. 4;

【図6】図4の要部詳細図である。FIG. 6 is a detailed view of a main part of FIG. 4;

【図7】図6の要部詳細図である。FIG. 7 is a detailed view of a main part of FIG. 6;

【図8】図6の側面図である。FIG. 8 is a side view of FIG. 6;

【図9】図6の動作説明図である。FIG. 9 is an operation explanatory diagram of FIG. 6;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 テストヘッド本体 2 パフォーマンスボード 3 コンタクトピン 4 信号中継部品 5 プローブカード 6 コンタクトピン 7 コンタクトピン 8 プローブ 11 プローバ(ハンドラ) 12 チャックトップ 21 コンタクトピンケース 23 コンタクトピンスプリング 24 パッド部 31 コンタクトピン本体 32 第1の先端接触部 33 第2の先端接触部 34 第3の先端接触部 35 第4の先端接触部 36 第1の平面部 37 第2の平面部 38 第3の平面部 39 第4の平面部 41 メッキ部 A デバイス DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Test head main body 2 Performance board 3 Contact pin 4 Signal relay part 5 Probe card 6 Contact pin 7 Contact pin 8 Probe 11 Prober (handler) 12 Chuck top 21 Contact pin case 23 Contact pin spring 24 Pad part 31 Contact pin main body 32 First 1 first contact section 33 second tip contact section 34 third tip contact section 35 fourth tip contact section 36 first plane section 37 second plane section 38 third plane section 39 fourth plane section 41 Plated part A Device

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】テストヘッドとパフォーマンスボード、パ
フォーマンスボードと信号中継部品、信号中継部品とプ
ローブカードとの間に使用されるコンタクトピンにおい
て、 柱状のコンタクトピン本体と、 該コンタクトピン本体の先端接触部分がコンタクトピン
本体の軸方向に4個に分割されて設けられた第1,第
2、第3,第4の先端接触部と、 該第1,第2、第3,第4の先端接触部のそれぞれの先
端にコンタクトピン本体の軸方向の位置が互いに等しく
該軸に直交して設けられた第1,第2、第3,第4の平
面部と、 該第1,第2、第3,第4の平面部と前記第1,第2、
第3,第4の先端接触部と前記コンタクトピン本体とを
覆って設けられ所定の材料からなるメッキ部とを具備し
たことを特徴とする半導体テスタ装置のコンタクトピ
ン。
1. A contact pin used between a test head and a performance board, a performance board and a signal relay component, and a signal relay component and a probe card, comprising: a columnar contact pin main body; and a tip contact portion of the contact pin main body. A first, a second, a third, and a fourth tip contact portion provided by being divided into four in the axial direction of the contact pin main body; and the first, second, third, and fourth tip contact portions. A first, a second, a third and a fourth plane portion provided at the tip of each of the contact pin main bodies at equal axial positions and orthogonal to the axis; , A fourth plane portion and the first, second,
A contact pin for a semiconductor tester device, comprising: a third and fourth tip contact portions; and a plating portion provided over the contact pin body and made of a predetermined material.
【請求項2】金メッキよりなるメッキ部を具備したこと
を特徴とする請求項1記載の半導体テスタ装置のコンタ
クトピン。
2. The contact pin of a semiconductor tester device according to claim 1, further comprising a plating portion made of gold plating.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012067162A1 (en) * 2010-11-19 2012-05-24 株式会社神戸製鋼所 Contact probe pin and test method
JP2014127407A (en) * 2012-12-27 2014-07-07 Enplas Corp Electric contact and socket for electric component

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