JPH10306101A - Modified cellulose compound and photopolymerizable resin composition containing the same - Google Patents

Modified cellulose compound and photopolymerizable resin composition containing the same

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JPH10306101A
JPH10306101A JP13291697A JP13291697A JPH10306101A JP H10306101 A JPH10306101 A JP H10306101A JP 13291697 A JP13291697 A JP 13291697A JP 13291697 A JP13291697 A JP 13291697A JP H10306101 A JPH10306101 A JP H10306101A
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JP
Japan
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compound
acrylate
weight
cellulose
modified cellulose
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Application number
JP13291697A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Obitani
洋之 帯谷
Shunji Nakazato
俊二 中里
Kimitoku Oshio
公徳 押尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
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Publication date
Application filed by Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd filed Critical Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority to JP13291697A priority Critical patent/JPH10306101A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a modified cellulose compound improved in photocurability, adhesion to substrates, flexibility, the easiness of peel upon treatment with a peeling solution and decomposability in baking by substituting part of the hydroxyl groups of a cellulose (derivative) by urethane (meth)acrylate groups, SOLUTION: Either of the isocyanate groups of a diisocyanate compound and a hydroxy (meth)acrylate compound are subjected to an urethane formation reaction at 60-90 deg.C for 2-24 hr in the presence of an organometallic catalyst, an amine catalyst or the like. The remaining isocyanate group of the obtained reaction product is reacted with the hydroxyl groups of a cellulose (derivative) at 60-90 deg.C for 2-24 hr to obtain a modified cellulose compound having a degree of substitution of hydroxyl groups with urethane (meth)acrylate groups of 1-50% and having a weight-average molecular weight of 8,000-500,000. 100 pts.wt., in total, 100 pts.wt modified cellulose compound, 0.1-25 pts.wt. polymerization initiator and 150 pts.wt. or below ethylenic compound is mixed with 50-95 pts.wt. inorganic and/or metallic powders to obtain the title composition.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は変性セルロース化合
物およびこれを含有する光重合性樹脂組成物に関し、特
に、光硬化性を有し、基板との密着性に優れ、柔軟性が
高く、剥離液に対する剥離性も良好であり、焼成した場
合であっても分解、揮散しやすい性質を有する変性セル
ロース化合物およびこれを含有する光重合性樹脂組成物
に関する。本発明の変性セルロース化合物は、紫外線硬
化型塗料、感光性スクリーン印刷版、リフトオフ用レジ
ストや、プラズマディスプレイパネル(PDP)のプラ
イミングリブ、抵抗パターン、導電性パターンの形成等
に使用される光重合性樹脂組成物に適用可能である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a modified cellulose compound and a photopolymerizable resin composition containing the same, and in particular, has photocurability, excellent adhesion to a substrate, high flexibility, and a release liquid. The present invention relates to a modified cellulose compound which has good releasability from, and easily decomposes and volatilizes even when fired, and a photopolymerizable resin composition containing the same. The modified cellulose compound of the present invention can be used for forming a UV curable paint, a photosensitive screen printing plate, a resist for lift-off, a priming rib of a plasma display panel (PDP), a resistance pattern, a conductive pattern, and the like. It is applicable to resin compositions.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来よりメチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒ
ドロキシメチルプロピルセルロース、カルボキシメチル
セルロース等で代表されるセルロース誘導体は、エマル
ジョン系塗料、紙塗工剤、各種接着剤、紫外線硬化型塗
料、感光性スクリーン印刷用レジスト、リフトオフ用レ
ジストや、ペースト組成物等に広く使用されているが、
これにはいくつかの未解決の問題がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, cellulose derivatives represented by methylcellulose, hydroxyethylcellulose, hydroxypropylcellulose, hydroxymethylpropylcellulose, carboxymethylcellulose, etc. are emulsion paints, paper coating agents, various adhesives, ultraviolet curable paints, It is widely used in photosensitive screen printing resists, lift-off resists, and paste compositions.
This has some open issues.

【0003】例えば、エマルジョン系塗料、紙塗工剤、
各種接着剤、紫外線硬化型塗料、感光性スクリーン印刷
用レジスト、リフトオフ用レジスト、ペースト組成物等
にセルロース誘導体を用いると、塗布後、乾燥して得ら
れる被膜は耐水性に乏しくなる。また、これらの用途で
は基板との密着性に乏しく、被膜を形成した後に剥がれ
や欠けを生ずることがあった。
For example, emulsion paints, paper coating agents,
When a cellulose derivative is used for various adhesives, UV-curable paints, photosensitive screen printing resists, lift-off resists, paste compositions, and the like, the coatings obtained by coating and drying are poor in water resistance. In these applications, adhesion to a substrate is poor, and peeling or chipping may occur after a film is formed.

【0004】これらの問題点を解決するための手段とし
て、所定の置換基の単位グルコース環あたりの平均置換
度が特定の値にあるセルロース誘導体の残存ヒドロキシ
ル基の水素原子をN−メチレンアクリルアミド基で置換
した化合物が知られている(特開平2−298501号
公報)が、基板との密着性や柔軟性、剥離液に対する剥
離性、焼成した場合の分解、揮散性などについて、さら
に向上した材料が望まれていた。
[0004] As a means for solving these problems, a hydrogen atom of a residual hydroxyl group of a cellulose derivative having an average degree of substitution per unit glucose ring of a predetermined substituent is specified by an N-methyleneacrylamide group. A substituted compound is known (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-298501). However, a material having further improved adhesiveness and flexibility with a substrate, releasability to a release solution, decomposition when burned, volatilization, and the like, is disclosed. Was desired.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みてなされたもので、その目的は、基板との密着性に優
れ、柔軟性が高く、剥離液に対する剥離性も良好であ
り、焼成した場合であっても分解、揮散しやすい性質を
有し、紫外線硬化型塗料、感光性スクリーン印刷版、リ
フトオフ用レジストや、プラズマディスプレイパネルの
プライミングリブ、抵抗パターン、導電性パターンの形
成等に使用される光重合性樹脂組成物に適用可能な変性
セルロース化合物およびこれを含有する光重合性樹脂組
成物を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide excellent adhesion to a substrate, high flexibility, good releasability to a release solution, and sintering. Easy to decompose and volatilize even when used, and used for UV curable paints, photosensitive screen printing plates, resists for lift-off, priming ribs for plasma display panels, resistance patterns, conductive patterns, etc. An object of the present invention is to provide a modified cellulose compound applicable to the photopolymerizable resin composition to be used and a photopolymerizable resin composition containing the same.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、セルロースまたは
セルロース誘導体のヒドロキシル基が特定の反応率でウ
レタン(メタ)アクリル酸エステル基により置換された
変性セルロース化合物を光重合性樹脂組成物に用いるこ
とにより上記問題点を解決し得ることを見出し、本発明
を完成するに至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, the hydroxyl groups of cellulose or cellulose derivatives were converted to urethane (meth) acrylate groups at a specific reaction rate. The present inventors have found that the above problems can be solved by using a substituted modified cellulose compound in a photopolymerizable resin composition, and have completed the present invention.

【0007】すなわち本発明は、セルロースまたはセル
ロース誘導体のヒドロキシル基の1〜50%が、ウレタ
ン(メタ)アクリレート基により置換されてなる、変性
セルロース化合物に関する。
That is, the present invention relates to a modified cellulose compound in which 1 to 50% of the hydroxyl groups of cellulose or a cellulose derivative are substituted by urethane (meth) acrylate groups.

【0008】また本発明は、(a)上記変性セルロース
化合物と、(b)光重合開始剤を含有してなる光重合性
樹脂組成物に関する。
[0008] The present invention also relates to a photopolymerizable resin composition comprising (a) the above modified cellulose compound and (b) a photopolymerization initiator.

【0009】上記光重合性樹脂組成物は、さらに(c)
エチレン性化合物を含有するのが好ましい。
The photopolymerizable resin composition further comprises (c)
It preferably contains an ethylenic compound.

【0010】上記光重合性樹脂組成物は、さらに(d)
無機および/または金属粉末を含有するのが好ましい。
The photopolymerizable resin composition further comprises (d)
It preferably contains inorganic and / or metal powder.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明について説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below.

【0012】本発明に用いられる(a)成分としての変
性セルロース化合物は、セルロースまたはセルロース誘
導体のヒドロキシル基の1〜50%が、ウレタン(メ
タ)アクリレート基により置換されている。このような
置換は、例えばセルロースまたはセルロース誘導体のヒ
ドロキシル基の1〜50%とヒドロキシル基を有する
(メタ)アクリレート化合物とをジイソシアネート化合
物を介して結合させることによって行われる。
In the modified cellulose compound as the component (a) used in the present invention, 1 to 50% of the hydroxyl groups of the cellulose or the cellulose derivative are substituted by urethane (meth) acrylate groups. Such substitution is performed, for example, by bonding 1 to 50% of the hydroxyl groups of cellulose or a cellulose derivative to a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group via a diisocyanate compound.

【0013】上記ヒドロキシル基のウレタン(メタ)ア
クリレート基の置換の好ましい具体的態様としては、
(I)ジイソシアネート化合物と、ヒドロキシル基を有
する(メタ)アクリレート化合物とを、一方のイソシア
ネート基のみがウレタン化するように反応させる工程、
および(II)ジイソシアネート化合物の他方のイソシ
アネート基とセルロースまたはセルロース誘導体中のヒ
ドロキシル基とを、該ヒドロキシル基の反応率1〜50
%の範囲で反応させる工程、とによって行うことが挙げ
られる。なお上記において、(I)工程の後に(II)
工程を行ってもよく、あるいは(II)工程の後に
(I)工程を行ってもよい。
Preferred specific embodiments of the substitution of the urethane (meth) acrylate group for the hydroxyl group include:
(I) reacting a diisocyanate compound with a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group so that only one isocyanate group is urethanized;
And (II) converting the other isocyanate group of the diisocyanate compound to the hydroxyl group in cellulose or a cellulose derivative by a reaction rate of the hydroxyl group of 1 to 50.
% Of the reaction. In the above, after the step (I), the step (II)
The step may be performed, or the step (I) may be performed after the step (II).

【0014】より具体的には、ジイソシアネート化合物
と、ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレート化合
物とを、一方のイソシアネート基のみがウレタン化する
ように反応させた後、該反応物の他方の残存イソシアネ
ート基とセルロースまたはセルロース誘導体中のヒドロ
キシル基とを、該ヒドロキシル基の反応率1〜50%の
範囲で反応させることによって得ることができる。
More specifically, after reacting a diisocyanate compound with a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group so that only one isocyanate group is urethanized, the other remaining isocyanate group of the reaction product is reacted. And a hydroxyl group in cellulose or a cellulose derivative by reacting the hydroxyl group in a reaction rate of 1 to 50%.

【0015】ジイソシアネート化合物の一方のイソシア
ネート基を、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレー
ト化合物で反応させてウレタン化させる方法としては、
有機金属触媒(例えば、有機スズ化合物、等)、有機ア
ミン触媒等の触媒の存在下に、ジイソシアネート化合物
およびヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレート化
合物を反応容器中に入れ、温度60〜90℃、反応時間
2〜24時間で行う方法等が挙げられる。
As a method for reacting one isocyanate group of the diisocyanate compound with a (meth) acrylate compound having a hydroxy group to form a urethane,
A diisocyanate compound and a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group are placed in a reaction vessel in the presence of a catalyst such as an organometallic catalyst (for example, an organotin compound) or an organic amine catalyst, and the reaction is carried out at a temperature of 60 to 90 ° C. For example, a method performed in a time of 2 to 24 hours is exemplified.

【0016】また、このウレタン化された反応物の他方
の残存イソシアネート基と上記セルロースまたはセルロ
ース誘導体のヒドロキシル基とを反応させる方法として
は、上記と同様に有機金属触媒(例えば、有機スズ化合
物、等)、有機アミン触媒等の触媒の存在下に、上記ウ
レタン化された反応物と、セルロースまたはセルロース
誘導体を反応容器中に入れ、温度60〜90℃、反応時
間2〜24時間で合成する方法等が挙げられる。
As a method of reacting the remaining isocyanate group of the urethanized reactant with the hydroxyl group of the above-mentioned cellulose or cellulose derivative, an organometallic catalyst (for example, an organotin compound, etc.) ), A method of putting the urethanized reactant and cellulose or a cellulose derivative in a reaction vessel in the presence of a catalyst such as an organic amine catalyst, and synthesizing the mixture at a temperature of 60 to 90 ° C. for a reaction time of 2 to 24 hours. Is mentioned.

【0017】ここで、ヒドロキシル基を有する(メタ)
アクリレート化合物としては、2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2
−(2−ヒドロキシエトキシ)エチルメタクリレート、
2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチルアクリレート、
2−ヒドロキシシクロヘキシルメタクリレート、2−ヒ
ドロキシシクロヘキシルアクリレート、(1−ヒドロキ
シシクロヘキシル)メチルメタクリレート、(1−ヒド
ロキシシクロヘキシル)メチルアクリレート、2−(2
−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエトキシ)−1,1−
ジメチルエチルメタクリレート、2−(2−ヒドロキシ
−1,1−ジメチルエトキシ)−1,1−ジメチルエチ
ルアクリレート、2−ヒドロキシ−2−フェニルエチル
メタクリレート、2−ヒドロキシ−2−フェニルエチル
アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピ
ルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプ
ロピルアクリレート、2−ヒドロキシブチルメタクリレ
ート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、4−ヒドロ
キシブチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルアク
リレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2
−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシプ
ロピルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリ
レート、2−ヒドロキシ−3−(2−プロペニルオキ
シ)プロピルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−
(2−プロペニルオキシ)プロピルアクリレート、2−
ヒドロキシ−3−プロポキシプロピルメタクリレート、
2−ヒドロキシ−3−プロポキシプロピルアクリレー
ト、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピルアクリレー
ト、2−ヒドロキシ−2−メトキシプロピルメタクリレ
ート、2−ヒドロキシ−2−メトキシプロピルアクリレ
ート、3−ヒドロキシ−2−(メトキシメチル)−4−
ペンテニルメタクリレート、3−ヒドロキシ−2−(メ
トキシメチル)−4−ペンテニルアクリレート等を挙げ
ることができる。中でも2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート等が好ましく用いられる。
Here, (meth) having a hydroxyl group
Examples of the acrylate compound include 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate,
-(2-hydroxyethoxy) ethyl methacrylate,
2- (2-hydroxyethoxy) ethyl acrylate,
2-hydroxycyclohexyl methacrylate, 2-hydroxycyclohexyl acrylate, (1-hydroxycyclohexyl) methyl methacrylate, (1-hydroxycyclohexyl) methyl acrylate, 2- (2
-Hydroxy-1,1-dimethylethoxy) -1,1-
Dimethylethyl methacrylate, 2- (2-hydroxy-1,1-dimethylethoxy) -1,1-dimethylethyl acrylate, 2-hydroxy-2-phenylethyl methacrylate, 2-hydroxy-2-phenylethyl acrylate, 2-hydroxy -3-phenoxypropyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2
-Hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3- (2-propenyloxy) propyl methacrylate, 2-hydroxy-3-
(2-propenyloxy) propyl acrylate, 2-
Hydroxy-3-propoxypropyl methacrylate,
2-hydroxy-3-propoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-2-methylpropyl methacrylate, 2-hydroxy-2-methylpropyl acrylate, 2-hydroxy-2-methoxypropyl methacrylate, 2-hydroxy-2-methoxypropyl acrylate, 3-hydroxy-2- (methoxymethyl) -4-
Pentenyl methacrylate, 3-hydroxy-2- (methoxymethyl) -4-pentenyl acrylate and the like can be mentioned. Among them, 2-hydroxyethyl methacrylate and the like are preferably used.

【0018】ジイソシアネート化合物としては、イソシ
アネート基(−NCO)を2個持つものであれば、芳香
族ジイソシアネート化合物、環式脂肪族ジイソシアネー
ト化合物等、任意に用いられ得る。具体的には、例えば
シクロヘキサン−1,2−ジイソシアネート、シクロヘ
キサン−1,3−ジイソシアネート、1−メチルシクロ
ヘキサン−2,4−ジイソシアネート、1−エチルシク
ロヘキサン−2,4−ジイソシアネート、4,5−ジメ
チルシクロヘキサン−1,3−ジイソシアネート、1,
2−ジメチルシクロヘキサン−ω,ω’−イソホロンジ
イソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−
ジイソシアネート、2,2’−ジメチルジシクロヘキシ
ルメタン−4,4’−ジイソシアネート、3,3’−ジ
メチルジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシア
ネート、3,3’−5,5’テトラメチルジシクロヘキ
シルメタン−4,4’−ジイソシアネート、2−(γ−
イソシアナートプロピル)シクロヘキシルイソシアネー
ト、5−ジメチル−1,3−シクロヘキシレンジイソシ
アネート、1,3−ジフェニルプロパン−1,3−ジイ
ソシアネート、1,4−ジメチルナフタリン−ω,ω’
−ジイソシアネート、1,5−ジメチルナフタリン−
ω,ω’−ジイソシアネート、ジフェニルエーテル−
4,4’−ビスメチルイソシアネート、4,4’−n−
プロピルビフェニル−ω,ω’−ジイソシアネート、ビ
ス(2−イソシアネートエチル)テレフタレート、ビス
(2−イソシアネートエチル)イソフタレート、4−フ
ェニルイソシアネート−メチルイソシアネート、4−フ
ェニルイソシアネート−β−エチルイソシアネート、4
−フェニルイソシアネート−α−エチルイソシアネー
ト、4−フェニルイソシアネート−γ−プロピルイソシ
アネート、3−フェニルイソシアネート−γ−プロピル
イソシアネート、4−フェニルイソシアネート−γ−ブ
チルイソシアネート、テトラヒドロナフチレン−1,5
−ジイソシアネート、ヘキサヒドロベンジジン−4,
4’−ジイソシアネート、1,3−フェニレンジイソシ
アネート、1−メチル−2,4−フェニレンジイソシア
ネート、1−メチル−2,6−フェニレンジイソシアネ
ート、1−メチル−3,5−フェニレンジイソシアネー
ト、1−エチル−2,4−フェニレンジイソシアネー
ト、1−イソプロピル−2,4−フェニレンジイソシア
ネート、1,3−ジメチル−2,4−フェニレンジイソ
シアネート、1,3−ジメチル−2,6−フェニレンジ
イソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネー
ト、m−フェニレンビス(イソプロピルイソシアネー
ト)等が挙げられる。特に、互いに反応性の異なるイソ
シアネート基を有するものは、一方のイソシアネート基
のみをヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレート化
合物と選択的に反応させてウレタン化することが容易で
あり、好適である。
As the diisocyanate compound, an aromatic diisocyanate compound, a cycloaliphatic diisocyanate compound, or the like can be arbitrarily used as long as it has two isocyanate groups (-NCO). Specifically, for example, cyclohexane-1,2-diisocyanate, cyclohexane-1,3-diisocyanate, 1-methylcyclohexane-2,4-diisocyanate, 1-ethylcyclohexane-2,4-diisocyanate, 4,5-dimethylcyclohexane -1,3-diisocyanate, 1,
2-dimethylcyclohexane-ω, ω'-isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4'-
Diisocyanate, 2,2'-dimethyldicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate, 3,3'-dimethyldicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate, 3,3'-5,5'tetramethyldicyclohexylmethane-4, 4′-diisocyanate, 2- (γ-
Isocyanatopropyl) cyclohexyl isocyanate, 5-dimethyl-1,3-cyclohexylene diisocyanate, 1,3-diphenylpropane-1,3-diisocyanate, 1,4-dimethylnaphthalene-ω, ω ′
-Diisocyanate, 1,5-dimethylnaphthalene-
ω, ω'-diisocyanate, diphenyl ether-
4,4'-bismethyl isocyanate, 4,4'-n-
Propylbiphenyl-ω, ω'-diisocyanate, bis (2-isocyanateethyl) terephthalate, bis (2-isocyanateethyl) isophthalate, 4-phenylisocyanate-methylisocyanate, 4-phenylisocyanate-β-ethylisocyanate,
-Phenyl isocyanate-α-ethyl isocyanate, 4-phenyl isocyanate-γ-propyl isocyanate, 3-phenyl isocyanate-γ-propyl isocyanate, 4-phenyl isocyanate-γ-butyl isocyanate, tetrahydronaphthylene-1,5
-Diisocyanate, hexahydrobenzidine-4,
4'-diisocyanate, 1,3-phenylene diisocyanate, 1-methyl-2,4-phenylene diisocyanate, 1-methyl-2,6-phenylene diisocyanate, 1-methyl-3,5-phenylene diisocyanate, 1-ethyl-2 1,4-phenylene diisocyanate, 1-isopropyl-2,4-phenylene diisocyanate, 1,3-dimethyl-2,4-phenylene diisocyanate, 1,3-dimethyl-2,6-phenylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate , M-phenylenebis (isopropyl isocyanate) and the like. In particular, those having isocyanate groups having different reactivities from each other are preferable because it is easy to selectively react only one of the isocyanate groups with a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group to form a urethane.

【0019】本発明では、セルロースまたはセルロース
誘導体中のヒドロキシル基の反応率は1〜50%の範囲
であり、好ましくは5〜40%である。ヒドロキシル基
の反応率が1%未満では被処理体への密着性が低下し、
一方、50%超では剥離性が低下し、好ましくない。
In the present invention, the conversion of the hydroxyl group in the cellulose or cellulose derivative is in the range of 1 to 50%, preferably 5 to 40%. If the reaction rate of the hydroxyl group is less than 1%, the adhesion to the object to be treated is reduced,
On the other hand, if it exceeds 50%, the releasability decreases, which is not preferable.

【0020】なお、上記ヒドロキシル基は変性されたヒ
ドロキシル基も含む。すなわち、例えば、セルロース誘
導体において、セルロースのヒドロキシル基がエーテル
化されている場合も含む。
The above hydroxyl group also includes a modified hydroxyl group. That is, for example, the case where the hydroxyl group of cellulose is etherified in the cellulose derivative is also included.

【0021】このように、セルロース骨格を主鎖にも
ち、側鎖に特定のウレタン(メタ)アクリル酸エステル
基を所定の割合で導入させることにより、弾性、柔軟性
を高めることができ、被処理体への密着性が良好で、焼
成した場合にあっても分解、揮散しやすい性質を有し、
剥離性に優れることから、本発明の変性セルロース化合
物は、紫外線硬化型塗料、感光性スクリーン印刷版、リ
フトオフ用レジストや、PDPのプライミングリブ、抵
抗パターン、導電性パターンの形成等に適用される光重
合性樹脂組成物に好適に用いられる。
As described above, by having a cellulose skeleton in the main chain and introducing a specific urethane (meth) acrylate group into the side chain at a predetermined ratio, the elasticity and flexibility can be increased, and Good adhesion to the body, even when fired, has the property of easily decomposing and volatilizing,
Because of its excellent releasability, the modified cellulose compound of the present invention can be used for forming a UV curable coating, a photosensitive screen printing plate, a resist for lift-off, a priming rib of PDP, a resistance pattern, a conductive pattern, and the like. It is suitably used for a polymerizable resin composition.

【0022】変性セルロース化合物の前駆体としてのセ
ルロースまたはセルロース誘導体としては、セルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセ
ルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセル
ロース、エチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセ
ルロース、カルボキシメチルエチルセルロース、酢酸フ
タル酸セルロース等を挙げることができる。これらの中
から1種または2種以上が用いられる。
Examples of the cellulose or cellulose derivative as a precursor of the modified cellulose compound include cellulose, carboxymethylcellulose, hydroxyethylcellulose, hydroxypropylcellulose, methylcellulose, ethylcellulose, ethylhydroxyethylcellulose, carboxymethylethylcellulose, cellulose acetate phthalate and the like. Can be. One or more of these are used.

【0023】変性セルロース化合物の重量平均分子量は
8,000〜500,000が好ましく、より好ましく
は10,000〜150,000である。分子量が8,
000未満では塗膜性が低下することがあり、一方、5
00,000を超えると粘度が高くなり、好ましくな
い。
The weight average molecular weight of the modified cellulose compound is preferably from 8,000 to 500,000, more preferably from 10,000 to 150,000. Molecular weight 8,
If it is less than 000, the coating properties may decrease, while 5
If it exceeds 000, the viscosity increases, which is not preferable.

【0024】(b)成分としての光重合開始剤として
は、特に限定されるものでなく、例えば、1−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ
−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−メチル−
1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ
プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミ
ノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オ
ン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパ
ン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフ
ェニルホスフィンオキシド、1−[4−(2−ヒドロキ
シエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル
−1−プロパン−1−オン、2,4−ジエチルチオキサ
ントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチル
チオキサントン、3,3−ジメチル−4−メトキシベン
ゾフェノン、ベンゾフェノン、1−クロロ−4−プロポ
キシチオキサントン、1−(4−イソプロピルフェニ
ル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オ
ン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−
2−メチルプロパン−1−オン、4−ベンゾイル−4’
−メチルジメチルスルフィド、4−ジメチルアミノ安息
香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチ
ルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸
ブチル、4−ジメチルアミノ安息香酸−2−エチルヘキ
シル、4−ジメチルアミノ安息香酸−2−イソアミル、
2,2−ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチル
ケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、
1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エ
トキシカルボニル)オキシム、o−ベンゾイル安息香酸
メチル、ビス(4−ジメチルアミノフェニル)ケトン、
4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,
4’−ジクロロベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−
n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、
ベンゾインブチルエーテル、p−ジメチルアミノアセト
フェノン、p−tert−ブチルトリクロロアセトフェ
ノン、p−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、
チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソ
プロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、α,α−
ジクロロ−4−フェノキシアセトフェノン、ペンチル−
4−ジメチルアミノベンゾエート等が挙げられる。これ
らは1種または2種以上が用いられる。中でも、2,
4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオ
キシド、2,4−ジエチルチオキサントン等が好ましく
用いられる。
The photopolymerization initiator as the component (b) is not particularly restricted but includes, for example, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, 2-methyl-
1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 2-hydroxy-2- Methyl-1-phenylpropan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propane-1 -One, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, benzophenone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, 1- (4-isopropyl Phenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- (4-dodecy Phenyl) -2-hydroxy -
2-methylpropan-1-one, 4-benzoyl-4 '
-Methyldimethyl sulfide, 4-dimethylaminobenzoic acid, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, butyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethyl Aminobenzoic acid-2-isoamyl,
2,2-diethoxyacetophenone, benzyldimethyl ketal, benzyl-β-methoxyethyl acetal,
1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, methyl o-benzoylbenzoate, bis (4-dimethylaminophenyl) ketone,
4,4'-bisdiethylaminobenzophenone, 4,
4'-dichlorobenzophenone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-
n-butyl ether, benzoin isobutyl ether,
Benzoin butyl ether, p-dimethylaminoacetophenone, p-tert-butyltrichloroacetophenone, p-tert-butyldichloroacetophenone,
Thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, dibenzosuberone, α, α-
Dichloro-4-phenoxyacetophenone, pentyl-
4-dimethylaminobenzoate and the like. One or more of these are used. Among them, 2,
4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4-diethylthioxanthone and the like are preferably used.

【0025】光重合開始剤は、変性セルロース化合物1
00重量部に対し、0.1〜25重量部の範囲で配合す
るのが好ましい。0.1重量部未満では露光硬化不良を
起こすことがあり、一方、25重量部を超えると、塗膜
性や露光硬化後の被膜の耐摩耗性や耐薬品性が低下する
ことがあり、好ましくない。
The photopolymerization initiator is modified cellulose compound 1
It is preferable to mix in an amount of 0.1 to 25 parts by weight with respect to 00 parts by weight. Less than 0.1 part by weight may cause poor exposure and curing, while more than 25 parts by weight may reduce the coating properties and the abrasion resistance and chemical resistance of the coating after exposure and curing, and are preferably Absent.

【0026】本発明では光重合性樹脂組成物の感度や耐
薬品性を向上させるために、上記(a)、(b)成分に
加えて、さらに(c)成分としてエチレン性化合物を配
合することができる。このエチレン性化合物は、付加重
合可能なエチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個含
有する化合物であり、光重合性樹脂組成物がエネルギー
線の照射を受けた場合、光重合開始剤の作用により付加
重合硬化するよう働く。
In the present invention, in order to improve the sensitivity and chemical resistance of the photopolymerizable resin composition, an ethylenic compound is further added as the component (c) in addition to the components (a) and (b). Can be. This ethylenic compound is a compound containing at least one ethylenically unsaturated double bond capable of addition polymerization. When the photopolymerizable resin composition is irradiated with an energy ray, the photopolymerization initiator acts. Works to cure by addition polymerization.

【0027】エチレン性化合物としては、例えば、不飽
和カルボン酸、脂肪族(ポリ)ヒドロキシ化合物と不飽
和カルボン酸とのエステル;芳香族(ポリ)ヒドロキシ
化合物と不飽和カルボン酸とのエステル;不飽和カルボ
ン酸、多価カルボン酸と、前述の脂肪族(ポリ)ヒドロ
キシ化合物、芳香族(ポリ)ヒドロキシ化合物等の多価
ヒドロキシ化合物とのエステル化反応により得られるエ
ステル;不飽和カルボン酸アミド;不飽和カルボン酸ニ
トリル等が挙げられる。
Examples of the ethylenic compound include unsaturated carboxylic acids, esters of aliphatic (poly) hydroxy compounds with unsaturated carboxylic acids; esters of aromatic (poly) hydroxy compounds with unsaturated carboxylic acids; Esters obtained by esterification of carboxylic acids and polyvalent carboxylic acids with the above-mentioned aliphatic (poly) hydroxy compounds and polyvalent hydroxy compounds such as aromatic (poly) hydroxy compounds; unsaturated carboxylic acid amides; unsaturated Carboxylic acid nitrile and the like can be mentioned.

【0028】具体的には、メチルアクリレート、メチル
メタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリ
レート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリ
レート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート、エチレングリコールモノ
メチルエーテルアクリレート、エチレングリコールモノ
メチルエーテルメタクリレート、エチレングリコールモ
ノエチルエーテルアクリレート、エチレングリコールモ
ノエチルエーテルメタクリレート、グリセロールアクリ
レート、グリセロールメタクリレート、アクリル酸アミ
ド、メタクリル酸アミド、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、2−エチルヘキシルアクリレート、2−エ
チルヘキシルメタクリレート、ベンジルアクリレート、
ベンジルメタクリレート等の単官能モノマー、エチレン
グリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタ
クリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、
トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチ
レングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコ
ールジメタクリレート、ブチレングリコールジメタクリ
レート、プロピレングリコールジアクリレート、プロピ
レングリコールジメタクリレート、トリメチロールエタ
ントリアクリレート、トリメチロールエタントリメタク
リレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、
トリメチロールプロパントリメタクリレート、テトラメ
チロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロー
ルプロパンテトラメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタク
リレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタ
エリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメ
タクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、カル
ドエポキシジアクリレート、カルドエポキシジメタクリ
レート等の多官能モノマーの他、これら化合物の「〜ア
クリレート」、「〜メタクリレート」を、「〜フマレー
ト」、「〜マレエート」、「〜クロトネート」、「〜イ
タコネート」に代えた、フマル酸エステル、マレイン酸
エステル、クロトン酸エステル、イタコン酸エステル
や、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン
酸、クロトン酸、イタコン酸、ヒドロキノンモノアクリ
レート、ヒドロキノンモノメタクリレート、ヒドロキノ
ンジアクリレート、ヒドロキノンジメタクリレート、レ
ゾルシンジアクリレート、レゾルシンジメタクリレー
ト、ピロガロールジアクリレート、ピロガロールトリア
クリレート、アクリル酸とフタル酸およびジエチレング
リコールとの縮合物、アクリル酸とマレイン酸およびジ
エチレングリコールとの縮合物、メタクリル酸とテレフ
タル酸およびペンタエリスリトールとの縮合物、アクリ
ル酸とアジピン酸およびブタンジオールとグリセリンと
の縮合物、エチレンビスアクリルアミド、エチレンビス
メタクリルアミド、フタル酸ジアリルのアリルエステ
ル、ジビニルフタレート等が例示される。
Specifically, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, ethylene glycol monomethyl ether acrylate, ethylene glycol monomethyl ether methacrylate, Ethylene glycol monoethyl ether acrylate, ethylene glycol monoethyl ether methacrylate, glycerol acrylate, glycerol methacrylate, acrylamide, methacrylamide, acrylonitrile, methacrylonitrile, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, benzyl acrylate,
Monofunctional monomers such as benzyl methacrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol diacrylate,
Triethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, butylene glycol dimethacrylate, propylene glycol diacrylate, propylene glycol dimethacrylate, trimethylolethane triacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate ,
Trimethylolpropane trimethacrylate, tetramethylolpropane tetramethacrylate, tetramethylolpropane tetramethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate,
Pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, cardo epoxydi In addition to polyfunctional monomers such as acrylate and cardepoxy dimethacrylate, these compounds were replaced with `` ~ acrylate '' and `` ~ methacrylate '' with `` ~ fumarate '', `` ~ maleate '', `` ~ crotonate '', `` ~ itaconate '' , Fumaric acid ester, maleic acid ester, crotonic acid ester, itaconic acid ester, acrylic acid, methacrylic acid, fumaric acid, maleic acid, crotonic acid, italic acid Acid, hydroquinone monoacrylate, hydroquinone monomethacrylate, hydroquinone diacrylate, hydroquinone dimethacrylate, resorcinol diacrylate, resorcinol dimethacrylate, pyrogallol diacrylate, pyrogallol triacrylate, condensates of acrylic acid with phthalic acid and diethylene glycol, acrylic acid Condensates of maleic acid and diethylene glycol, condensates of methacrylic acid with terephthalic acid and pentaerythritol, condensates of acrylic acid with adipic acid and butanediol with glycerin, ethylenebisacrylamide, ethylenebismethacrylamide, diallyl phthalate Allyl ester, divinyl phthalate and the like are exemplified.

【0029】また、側鎖にヒドロキシル基やハロゲン化
アルキル基等の反応活性を有する官能基を有する重合
体、例えばポリビニルアルコール、ポリ(2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート)、ポリエピクロルヒドリン等
と、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン
酸、クロトン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸との
高分子反応により得られる重合体等も好ましく用いられ
る。これらは1種または2種以上が用いられる。
Further, a polymer having a functional group having a reactive activity such as a hydroxyl group or a halogenated alkyl group in a side chain, for example, polyvinyl alcohol, poly (2-hydroxyethyl methacrylate), polyepichlorohydrin and the like, acrylic acid, methacryl A polymer obtained by a polymer reaction with an unsaturated carboxylic acid such as an acid, fumaric acid, maleic acid, crotonic acid, and itaconic acid is also preferably used. One or more of these are used.

【0030】上記エチレン性化合物のうち、エチレン性
不飽和二重結合を有する単量体、特にアクリル酸エステ
ルまたはメタクリル酸エステルの単量体が好ましく用い
られる。なお、ここで「単量体」とは、狭義の単量体に
とどまらず、二量体、三量体、オリゴマーも包含するも
のである。
Among the above ethylenic compounds, monomers having an ethylenically unsaturated double bond, particularly monomers of acrylate or methacrylate are preferably used. Here, the “monomer” includes not only a monomer in a narrow sense but also a dimer, a trimer, and an oligomer.

【0031】エチレン性化合物は、変性セルロース化合
物100重量部に対し、150重量部までの範囲で配合
するのが好ましい。配合量が150重量部を超えると塗
膜性が低下することがある。
It is preferable that the ethylenic compound is added in a range of up to 150 parts by weight based on 100 parts by weight of the modified cellulose compound. If the amount exceeds 150 parts by weight, the coating properties may be reduced.

【0032】本発明では、上記(a)、(b)成分、あ
るいは(a)〜(c)成分に加えて、さらに(d)無機
および/または金属粉末を適宜、配合することができ
る。このような無機および/または金属粉末としては、
具体的には、PbO−SiO2系、PbO−B23−S
iO2系、ZnO−SiO2系、ZnO−B23−SiO
2系、BiO−SiO2系、BiO−B23−SiO2
のホウ珪酸鉛ガラス、ホウ珪酸亜鉛ガラス、ホウ珪酸ビ
スマスガラス等のガラス粉末や、酸化コバルト、酸化
鉄、酸化クロム、酸化ニッケル、酸化銅、酸化マンガ
ン、酸化ネオジウム、酸化バナジウム、酸化セリウムチ
ペークイエロー、酸化カドミウム、アルミナ、シリカ、
マクネシア、スピネルなどNa、K、Mg、Ca、B
a、Ti、Zr、Al等の各酸化物、ZnO:Zn、Z
3(PO42:Mn、Y2SiO5:Ce、CaWO4
Pb、BaMgAl1423:Eu、ZnS:(Ag,C
d)、Y23:Eu、Y2SiO5:Eu、Y3Al
512:Eu、YBO3:Eu、(Y,Gd)BO3:E
u、GdBO3:Eu、ScBO3:Eu、LuBO3
Eu、Zn2SiO4:Mn、BaAl1219:Mn、S
rAl1319:Mn、CaAl1219:Mn、YB
3:Tb、BaMgAl1423:Mn、LuBO3:T
b、GdBO3:Tb、ScBO3:Tb、Sr6Si3
3Cl4:Eu、ZnS:(Cu,Al)、ZnS:A
g、Y22S:Eu、ZnS:Zn、(Y,Cd)BO
3:Eu、BaMgAl1223:Eu等の蛍光体粉末等
の他、特に、導電性パターン形成のために、鉄、ニッケ
ル、銅、アルミニウム、銀、金等の導電性粒子を添加す
ることもできる。これらは1種または2種以上が用いら
れる。
In the present invention, in addition to the components (a) and (b) or the components (a) to (c), (d) an inorganic and / or metal powder can be appropriately blended. Such inorganic and / or metal powders include:
Specifically, PbO—SiO 2 system, PbO—B 2 O 3 —S
iO 2 system, ZnO-SiO 2 system, ZnO-B 2 O 3 -SiO
2 system, BiO-SiO 2 -based, BiO-B 2 O 3 -SiO 2 system borosilicate lead glass, borosilicate zinc glass, and glass powders such as borosilicate bismuth glass, cobalt oxide, iron oxide, chromium oxide, Nickel, copper oxide, manganese oxide, neodymium oxide, vanadium oxide, cerium chippek yellow, cadmium oxide, alumina, silica,
Na, K, Mg, Ca, B such as macnesia and spinel
a, each oxide such as Ti, Zr, and Al, ZnO: Zn, Z
n 3 (PO 4 ) 2 : Mn, Y 2 SiO 5 : Ce, CaWO 4 :
Pb, BaMgAl 14 O 23 : Eu, ZnS: (Ag, C
d), Y 2 O 3 : Eu, Y 2 SiO 5 : Eu, Y 3 Al
5 O 12 : Eu, YBO 3 : Eu, (Y, Gd) BO 3 : E
u, GdBO 3 : Eu, ScBO 3 : Eu, LuBO 3 :
Eu, Zn 2 SiO 4 : Mn, BaAl 12 O 19 : Mn, S
rAl 13 O 19 : Mn, CaAl 12 O 19 : Mn, YB
O 3 : Tb, BaMgAl 14 O 23 : Mn, LuBO 3 : T
b, GdBO 3 : Tb, ScBO 3 : Tb, Sr 6 Si 3 O
3 Cl 4 : Eu, ZnS: (Cu, Al), ZnS: A
g, Y 2 O 2 S: Eu, ZnS: Zn, (Y, Cd) BO
3 : In addition to phosphor powders such as Eu and BaMgAl 12 O 23 : Eu, conductive particles such as iron, nickel, copper, aluminum, silver, and gold may be added to form a conductive pattern. it can. One or more of these are used.

【0033】(d)成分である無機および/または金属
粉末は、光重合性樹脂組成物の総和100重量部中に5
0〜95重量部の範囲で配合するのが好ましい。50重
量部未満では塗布性や焼成後のシュリンク等の問題が生
じることがあり、一方、95重量部を超えると光硬化性
が低下することがある。
The inorganic and / or metal powder as the component (d) is contained in a total of 100 parts by weight of the photopolymerizable resin composition.
It is preferable to mix in the range of 0 to 95 parts by weight. If the amount is less than 50 parts by weight, problems such as applicability and shrinkage after firing may occur. On the other hand, if the amount is more than 95 parts by weight, photocurability may decrease.

【0034】なお、本発明では、上記成分の他に、通
常、感光性樹脂組成物中に含有される高分子バインダー
を本発明の効果を損なわない範囲で適宜、配合してもよ
い。このような高分子バインダーとしては、例えば、ア
クリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、メ
チルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアク
リレート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレー
ト、プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレー
ト、イソプロピルメタクリレート、N−ブチルアクリレ
ート、N−ブチルメタクリレート、tert−ブチルア
クリレート、tert−ブチルメタクリレート、2−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、
2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ベンジルアク
リレート、ベンジルメタクリレート、フェノキシアクリ
レート、フェノキシメタクリレート、イソボルニルアク
リレート、イソボルニルメタクリレート、グリシジルメ
タクリレート、スチレン、アクリルアミド、メタクリル
アミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等から
選ばれた単量体を共重合させたものや、イタコン酸、プ
ロピリデンコハク酸、エチリデンマロン酸等の不飽和二
価カルボン酸とジヒドロキシ化合物との重縮合反応によ
り得られるポリエステル、イタコン酸、プロピリデンコ
ハク酸、エチリデンマロン酸等の不飽和二価カルボン酸
とジアミンとの重縮合反応により得られるポリアミドの
他、フェノールノボラック型エポキシアクリレート、フ
ェノールノボラック型エポキシメタクリレート、クレゾ
ールノボラック型エポキシアクリレート、クレゾールノ
ボラック型エポキシメタクリレート、ビスフェノールA
型エポキシアクリレート、ビスフェノールS型エポキシ
アクリレート、ウレタンアクリレートオリゴマー、ウレ
タンメタクリレートオリゴマー等が挙げられる。また、
上記エポキシ(メタ)アクリレートにさらに多塩基酸無
水物を反応させたものを配合してもよい。このような多
塩基酸無水物としては、例えばヘキサヒドロフタル酸無
水物、3−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、4−メ
チルヘキサヒドロフタル酸無水物、3−エチルヘキサヒ
ドロフタル酸無水物、4−エチルヘキサヒドロフタル酸
無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、3−メチルテト
ラヒドロフタル酸無水物、4−メチルテトラヒドロフタ
ル酸無水物、3−エチルテトラヒドロフタル酸無水物、
4−エチルテトラヒドロフタル酸無水物、マレイン酸無
水物等が挙げられ、中でもヘキサヒドロフタル酸無水
物、テトラヒドロフタル酸無水物等が好適に用いられ
る。
In the present invention, in addition to the above components, a polymer binder usually contained in the photosensitive resin composition may be appropriately blended as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such a polymer binder include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, propyl methacrylate, isopropyl acrylate, isopropyl methacrylate, and N-butyl. Acrylate, N-butyl methacrylate, tert-butyl acrylate, tert-butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate,
2-hydroxypropyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, phenoxy acrylate, phenoxy methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, glycidyl methacrylate, styrene, acrylamide, methacrylamide, acrylonitrile, methacrylonitrile, etc. Polyesters obtained by polycondensation of unsaturated divalent carboxylic acids such as itaconic acid, propylidene succinic acid and ethylidene malonic acid with dihydroxy compounds, itaconic acid, propylidene succinic acid, ethylidene In addition to polyamide obtained by the polycondensation reaction of an unsaturated divalent carboxylic acid such as malonic acid and a diamine, phenol novolak type epoxy acrylate, phenol novolak Type epoxy methacrylate, cresol novolak epoxy acrylate, cresol novolak epoxy methacrylate, bisphenol A
Type epoxy acrylate, bisphenol S type epoxy acrylate, urethane acrylate oligomer, urethane methacrylate oligomer and the like. Also,
A product obtained by further reacting a polybasic acid anhydride with the epoxy (meth) acrylate may be blended. Examples of such polybasic acid anhydrides include hexahydrophthalic anhydride, 3-methylhexahydrophthalic anhydride, 4-methylhexahydrophthalic anhydride, 3-ethylhexahydrophthalic anhydride, -Ethylhexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, 3-methyltetrahydrophthalic anhydride, 4-methyltetrahydrophthalic anhydride, 3-ethyltetrahydrophthalic anhydride,
Examples thereof include 4-ethyltetrahydrophthalic anhydride and maleic anhydride, and among them, hexahydrophthalic anhydride and tetrahydrophthalic anhydride are preferably used.

【0035】さらに本発明の光重合性樹脂組成物は塗布
性の改善のために溶剤を添加してもよい。このような溶
剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリ
コールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノ
ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテ
ル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレング
リコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、
プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレン
グリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジ
エチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエ
チルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセ
テート、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルア
セテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルア
セテート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテ
ルアセテート、2−メトキシブチルアセテート、3−メ
トキシブチルアセテート、4−メトキシブチルアセテー
ト、2−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−
メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−エチル−
3−メトキシブチルアセテート、2−エトキシブチルア
セテート、4−エトキシブチルアセテート、4−プロポ
キシブチルアセテート、2−メトキシペンチルアセテー
ト、3−メトキシペンチルアセテート、4−メトキシペ
ンチルアセテート、2−メチル−3−メトキシペンチル
アセテート、3−メチル−3−メトキシペンチルアセテ
ート、3−メチル−4−メトキシペンチルアセテート、
4−メチル−4−メトキシペンチルアセテート、アセト
ン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルシソ
ブチルケトン、エチルイソブチルケトン、テトラヒドロ
フラン、シクロヘキサノン、プロピオン酸メチル、プロ
ピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸
イソプロピル、2−ヒドロキシプロピオン酸メチル、2
−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2
−メチル、メチル−3−メトキシプロピオネート、エチ
ル−3−メトキシプロピオネート、エチル−3−エトキ
シプロピオネート、エチル−3−プロポキシプロピオネ
ート、プロピル−3−メトキシプロピオネート、イソプ
ロピル−3−メトキシプロピオネート、乳酸メチル、乳
酸エチル、乳酸プロピル、乳酸イソプロピル、乳酸ブチ
ル、乳酸アミル、エトキシ酢酸エチル、オキシ酢酸エチ
ル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピ
ル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、炭酸メチル、炭酸エ
チル、炭酸プロピル、炭酸ブチル、ピルビン酸メチル、
ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、ピルビン酸ブ
チル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ベンジル
メチルエーテル、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシル
エーテル、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジ
エチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキ
サノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、グリセリン等を挙げることがで
きる。
Further, a solvent may be added to the photopolymerizable resin composition of the present invention to improve coating properties. Such solvents include ethylene glycol monomethyl ether,
Ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dipropyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether,
Propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monophenyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol Monopropyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, ethylene glycol monophenyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethyl Glycol monopropyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monophenyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, 2-methoxybutyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, -Methoxybutyl acetate, 2-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-
Methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-ethyl-
3-methoxybutyl acetate, 2-ethoxybutyl acetate, 4-ethoxybutyl acetate, 4-propoxybutyl acetate, 2-methoxypentyl acetate, 3-methoxypentyl acetate, 4-methoxypentyl acetate, 2-methyl-3-methoxypentyl Acetate, 3-methyl-3-methoxypentyl acetate, 3-methyl-4-methoxypentyl acetate,
4-methyl-4-methoxypentyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl isobutyl ketone, tetrahydrofuran, cyclohexanone, methyl propionate, ethyl propionate, propyl propionate, isopropyl propionate, 2-hydroxypropion Methyl acid, 2
-Ethyl hydroxypropionate, 2-hydroxy-2
-Methyl, methyl-3-methoxypropionate, ethyl-3-methoxypropionate, ethyl-3-ethoxypropionate, ethyl-3-propoxypropionate, propyl-3-methoxypropionate, isopropyl- 3-methoxypropionate, methyl lactate, ethyl lactate, propyl lactate, isopropyl lactate, butyl lactate, amyl lactate, ethyl ethoxyacetate, ethyl oxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, methyl acetate, ethyl acetate, acetic acid Propyl, isopropyl acetate, butyl acetate, isoamyl acetate, methyl carbonate, ethyl carbonate, propyl carbonate, butyl carbonate, methyl pyruvate,
Ethyl pyruvate, propyl pyruvate, butyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, benzyl methyl ether, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, benzyl acetate, ethyl benzoate, diethyl oxalate, diethyl maleate, γ-butyrolactone, Benzene, toluene, xylene, cyclohexanone, methanol, ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol,
Examples thereof include diethylene glycol and glycerin.

【0036】該溶剤は、光重合性樹脂組成物の総和10
0重量部に対し2000重量部以下、好ましくは100
0重量部以下の範囲で含有させることができる。
The solvent is a total of 10 parts of the photopolymerizable resin composition.
2000 parts by weight or less, preferably 100 parts by weight with respect to 0 parts by weight
It can be contained in a range of 0 parts by weight or less.

【0037】本発明では上記成分以外に、さらに必要に
応じて増感剤、熱重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤、消
泡剤、その他の添加剤を添加することができる。
In the present invention, in addition to the above components, a sensitizer, a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, a surfactant, an antifoaming agent, and other additives can be further added as required.

【0038】増感剤としては、具体的にはエオシンB
(C.I.No.45400)、エオシンJ(C.I.
No.45380)、アルコール可溶性エオシン(C.
I.No.45386)、シアノシン(C.I.No.
45410)、ベンガルローズ、エリスロシン(C.
I.No.45430)、2,3,7−トリヒドロキシ
−9−フェニルキサンテン−6−オン、およびローダミ
ン6G等のキサンテン色素;チオニン(C.I.No.
52000)、アズレA(C.I.No.5200
5)、およびアズレC(C.I.No.52002)等
のチアジン色素;ピロニンB(C.I.No.4500
5)、およびピロニンGY(C.I.No.4500
5)等のピロニン色素の他、3−アセチルクマリン、3
−アセチル7−ジエチルアミノクマリン等のクマリン化
合物が挙げられる。
As the sensitizer, specifically, eosin B
(CI No. 45400), Eosin J (CI.
No. 45380), alcohol-soluble eosin (C.
I. No. 45386), cyanosine (C.I. No.
45410), bengal rose, erythrosine (C.
I. No. 45430), 2,3,7-trihydroxy-9-phenylxanthen-6-one, and xanthene dyes such as rhodamine 6G; thionine (C.I.
52000), Azure A (CI No. 5200)
5) and thiazine dyes such as Azure C (CI No. 52002); pyronin B (CI No. 4500)
5), and pyronin GY (CI No. 4500)
5) etc., 3-acetylcoumarin, 3
Coumarin compounds such as -acetyl 7-diethylaminocoumarin.

【0039】熱重合禁止剤としてはヒドロキノン、ヒド
ロキノンモノエチルエーテル、p−メトキシフェノー
ル、ピロガロール、カテコール、2,6−ジ−tert
−ブチル−p−クレゾール、β−ナフトール等が挙げら
れる。
Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, hydroquinone monoethyl ether, p-methoxyphenol, pyrogallol, catechol, and 2,6-di-tert.
-Butyl-p-cresol, β-naphthol and the like.

【0040】可塑剤としては、ジオクチルフタレート、
ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプ
リレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジ
ルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバ
ケート、トリアセチルグリセリン等が挙げられる。
As the plasticizer, dioctyl phthalate,
Didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, triacetyl glycerin and the like can be mentioned.

【0041】界面活性剤としては、アニオン系、カチオ
ン系、ノニオン系の各種活性剤等が挙げられる。
Examples of the surfactant include various anionic, cationic and nonionic surfactants.

【0042】消泡剤としてはシリコーン系、フッ素系
等、各種消泡剤が挙げられる。
Examples of the defoaming agent include various defoaming agents such as silicone type and fluorine type.

【0043】本発明の変性セルロース化合物およびこれ
を含有する光重合性樹脂組成物は、紫外線硬化塗料、光
重合性スクリーン印刷版、リフトオフ用レジストにも好
適に使用することができる。さらに無機および/または
金属粉末を配合した光重合性樹脂組成物は、基板上にス
クリーン印刷法等により塗布、乾燥し、ネガマスクを密
着させて露光した後、現像、乾燥、焼成を行うことによ
りペーストパターンの形成が行われる。絶縁性のペース
トパターン上に、導電性ペーストパターン、さらに絶縁
性ペーストパターンを順次形成していくことにより多層
配線パターンを製造することができる。
The modified cellulose compound of the present invention and the photopolymerizable resin composition containing the same can be suitably used for an ultraviolet curable paint, a photopolymerizable screen printing plate, and a lift-off resist. Further, the photopolymerizable resin composition containing the inorganic and / or metal powder is applied to a substrate by a screen printing method or the like, dried, and then exposed by contacting a negative mask, followed by development, drying, and baking to obtain a paste. A pattern is formed. By sequentially forming a conductive paste pattern and an insulating paste pattern on the insulating paste pattern, a multilayer wiring pattern can be manufactured.

【0044】以下に、本発明の光重合性樹脂組成物を用
いたパターン形成方法について、図1を参照して説明す
る。
Hereinafter, a pattern forming method using the photopolymerizable resin composition of the present invention will be described with reference to FIG.

【0045】図1は本発明の光重合性樹脂組成物を用い
たパターン形成方法の一例を示す。まず、基板1上に本
発明の光重合性樹脂組成物を溶剤に溶解した溶液をスピ
ンナー等を用いて塗布、乾燥させ、ホトレジスト層2を
設ける(図1(a))。基板1としては、例えば液晶パ
ネルの製造においては、偏光板、さらには必要によりブ
ラックマトリックス層およびカラーフィルタ層を設け、
さらに透明導電回路層が設けられたガラス基板等が挙げ
られる。
FIG. 1 shows an example of a pattern forming method using the photopolymerizable resin composition of the present invention. First, a solution obtained by dissolving the photopolymerizable resin composition of the present invention in a solvent is applied on a substrate 1 using a spinner or the like, and dried to form a photoresist layer 2 (FIG. 1A). As the substrate 1, for example, in the production of a liquid crystal panel, a polarizing plate and, if necessary, a black matrix layer and a color filter layer are provided,
Further, a glass substrate provided with a transparent conductive circuit layer may be used.

【0046】次いで、所定のネガマスクパターン3を介
して、ホトレジスト層2を選択的に露光する(図1
(b))。露光は、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水
銀灯、ケミカルランプ、エキシマレーザー発生装置など
を用いて、ネガ画像を形成するに十分な量まで照射する
ことにより行う。本発明では、露光時、活性光線が照射
された部分で光重合反応が起こり、光硬化を生じ、アル
カリ水溶液に対して不溶となる。そこでこれを現像液に
浸漬すると、未露光部分が選択的に溶解除去されてマス
クパターン3に忠実なホトレジストパターン4を得るこ
とができる(図1(c))。
Next, the photoresist layer 2 is selectively exposed through a predetermined negative mask pattern 3 (FIG. 1).
(B)). Exposure is performed by using a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a chemical lamp, an excimer laser generator, or the like, and irradiating a sufficient amount of light to form a negative image. In the present invention, at the time of exposure, a photopolymerization reaction occurs in a portion irradiated with the actinic ray, photocuring occurs, and becomes insoluble in an alkaline aqueous solution. Then, when this is immersed in a developing solution, the unexposed portion is selectively dissolved and removed, and a photoresist pattern 4 faithful to the mask pattern 3 can be obtained (FIG. 1C).

【0047】上記現像液としては、リチウム、ナトリウ
ム、カリウム等アルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、重炭
酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩;ベンジルアミン、ブチ
ルアミン等の第1級アミン;ジメチルアミン、ジベンジ
ルアミン、ジエタノールアミン等の第2級アミン;トリ
メチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミ
ン等の第3級アミン;モルホリン、ピペラジン、ピリジ
ン等の環状アミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレン
ジアミン等のポリアミン;テトラエチルアンモニウムヒ
ドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキ
シド、トリメチルフェニルベンジルアンモニウムヒドロ
キシド等のアンモニウムヒドロキシド類;トリメチルス
ルホニウムヒドロキシド、ジエチルメチルスルホニウム
ヒドロキシド、ジメチルベンジルスルホニウムヒドロキ
シド等のスルホニウムヒドロキシド類;その他コリン等
の、1〜10重量%水溶液が用いられる。
Examples of the developer include hydroxides, carbonates, bicarbonates, phosphates and pyrophosphates of alkali metals such as lithium, sodium and potassium; primary amines such as benzylamine and butylamine; dimethylamine Tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine and triethanolamine; cyclic amines such as morpholine, piperazine and pyridine; polyamines such as ethylenediamine and hexamethylenediamine; tetraethylammonium hydroxide , Ammonium hydroxides such as trimethylbenzylammonium hydroxide and trimethylphenylbenzylammonium hydroxide; trimethylsulfonium hydroxide, diethylmethylsulfonium hydroxide, Sulfonium hydroxide such as chill benzyl sulfonium hydroxide; other choline, 1-10 wt% aqueous solution are used.

【0048】なお、所望により、例えばPDPのプライ
ミングリブ形成等においては、温度350〜700℃、
0.5〜8時間程度焼成するのが好ましい。本発明の光
重合性組成物では、焼成後であっても、変性セルロース
化合物が分解、揮散しやすい性質を有し、剥離性に優
れ、マスクパターンに忠実なパターンを形成することが
できる。
If desired, for example, in forming a priming rib of a PDP, the temperature may be 350-700 ° C.
It is preferable to bake for about 0.5 to 8 hours. The photopolymerizable composition of the present invention has a property that the modified cellulose compound is easily decomposed and volatilized even after firing, has excellent releasability, and can form a pattern faithful to a mask pattern.

【0049】さらに、このように形成されたホトレジス
トパターン上に、導電性ペーストパターン、さらに絶縁
性ペーストパターンを順次形成していくことにより多層
配線パターンを製造することができる。
Further, a multi-layer wiring pattern can be manufactured by sequentially forming a conductive paste pattern and an insulating paste pattern on the photoresist pattern thus formed.

【0050】[0050]

【実施例】下記の合成例1〜8の方法によりセルロース
ウレタン(メタ)アクリレート化合物(変性セルロース
化合物)を合成した。
EXAMPLES Cellulose urethane (meth) acrylate compounds (modified cellulose compounds) were synthesized by the methods of Synthesis Examples 1 to 8 below.

【0051】(合成例1)2−ヒドロキシエチルメタク
リレート3.9重量部、ジフェニル錫ジアセテート0.
03重量部およびメチルエチルケトン3重量部を反応器
中に入れ温度80℃に加温しながらイソホロンジイソシ
アネート6.67重量部を順次滴下し、さらに75℃で
5時間反応を行い、ウレタンメタクリレート化合物を得
た。
(Synthesis Example 1) 3.9 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate, diphenyltin diacetate 0.1 part by weight.
03 parts by weight and 3 parts by weight of methyl ethyl ketone were put into a reactor, and 6.67 parts by weight of isophorone diisocyanate was sequentially dropped while heating to a temperature of 80 ° C., and further reacted at 75 ° C. for 5 hours to obtain a urethane methacrylate compound. .

【0052】次に、ヒドロキシプロピルセルロース(重
量平均分子量約50,000、ヒドロキシプロピルエー
テル化度55%(セルロース中に結合した−OCH(C
3)CH2−セグメントの繰り返し度を1としたとき、
ヒドロキシプロピルセルロース55%がエーテル化され
ていることを表す))12重量部、メチルエチルケトン
4重量部、およびジフェニル錫ジアセテート0.01重
量部反応器中に入れ、温度80℃に加温しながら前記ウ
レタンメタクリレート化合物反応液を順次滴下し、さら
に80℃で7時間反応を行った。
Next, hydroxypropyl cellulose (weight average molecular weight: about 50,000, hydroxypropyl etherification degree: 55% (-OCH (C
H 3 ) Assuming that the degree of repetition of the CH 2 -segment is 1,
Hydroxypropylcellulose 55% is etherified)) 12 parts by weight, 4 parts by weight of methyl ethyl ketone, and 0.01 part by weight of diphenyltin diacetate. The urethane methacrylate compound reaction liquid was sequentially dropped, and the reaction was further performed at 80 ° C. for 7 hours.

【0053】反応物を冷却後、ろ過し、得られた粗製品
を90℃の熱水に投入し、洗浄後乾燥して精製品を得
た。得られた変性セルロース化合物(A−1)は、その
ヒドロキシル基の15%がイソシアネート化合物と反応
していた。
After the reaction product was cooled, it was filtered, and the obtained crude product was poured into hot water at 90 ° C., washed and dried to obtain a purified product. In the modified cellulose compound (A-1) obtained, 15% of the hydroxyl groups had reacted with the isocyanate compound.

【0054】(比較合成例1)合成例1において、ウレ
タンメタクリレート化合物とヒドロキシプロピルセルロ
ースとの反応の際、ヒドロキシプロピルセルロース24
0重量部、メチルエチルケトン40重量部とした以外
は、合成例1と同様にして反応後、ろ過し、得られた粗
製品を90℃の熱水に投入し、洗浄後乾燥して精製品を
得た。得られた変性セルロース化合物(B−1)は、そ
のヒドロキシル基の0.7%がイソシアネート化合物と
反応していた。
(Comparative Synthesis Example 1) In the synthesis example 1, when the urethane methacrylate compound was reacted with hydroxypropyl cellulose, hydroxypropyl cellulose 24
The reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 0 parts by weight and methyl ethyl ketone were 40 parts by weight, followed by filtration. The obtained crude product was poured into hot water at 90 ° C., washed and dried to obtain a purified product. Was. In the resulting modified cellulose compound (B-1), 0.7% of the hydroxyl groups had reacted with the isocyanate compound.

【0055】(合成例2)合成例1において、ウレタン
メタクリレート化合物とヒドロキシプロピルセルロース
との反応の際、ヒドロキシプロピルセルロース36重量
部、メチルエチルケトン12重量部とした以外は、合成
例1と同様にして反応後、ろ過し、得られた粗製品を9
0℃の熱水に投入し、洗浄後乾燥して精製品を得た。得
られた変性セルロース化合物(A−2)は、そのヒドロ
キシル基の4.95%がイソシアネート化合物と反応し
ていた。
(Synthesis Example 2) A reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1, except that the reaction between the urethane methacrylate compound and hydroxypropyl cellulose was 36 parts by weight of hydroxypropyl cellulose and 12 parts by weight of methyl ethyl ketone. Then, the mixture was filtered, and the obtained crude product was added to 9
It was poured into hot water of 0 ° C., washed and dried to obtain a purified product. In the resulting modified cellulose compound (A-2), 4.95% of the hydroxyl groups had reacted with the isocyanate compound.

【0056】(合成例3)合成例1において、ウレタン
メタクリレート化合物とヒドロキシプロピルセルロース
との反応の際、ヒドロキシプロピルセルロース5重量
部、メチルエチルケトン1重量部とした以外は、合成例
1と同様にして反応後、ろ過し、得られた粗製品を90
℃の熱水に投入し、洗浄後乾燥して精製品を得た。得ら
れた変性セルロース化合物(A−3)は、そのヒドロキ
シル基の36.3%がイソシアネート化合物と反応して
いた。
(Synthesis Example 3) A reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the reaction between the urethane methacrylate compound and hydroxypropyl cellulose was changed to 5 parts by weight of hydroxypropyl cellulose and 1 part by weight of methyl ethyl ketone. Thereafter, the mixture was filtered, and the obtained crude product was 90
It was poured into hot water at ℃, washed and dried to obtain a purified product. In the obtained modified cellulose compound (A-3), 36.3% of the hydroxyl groups had reacted with the isocyanate compound.

【0057】(比較合成例2)合成例1において、ウレ
タンメタクリレート化合物とヒドロキシプロピルセルロ
ースとの反応の際、ヒドロキシプロピルセルロース3重
量部、メチルエチルケトン1重量部とした以外は、合成
例1と同様にして反応後、ろ過し、得られた粗製品を9
0℃の熱水に投入し、洗浄後乾燥して精製品を得た。得
られた変性セルロース化合物(B−2)は、そのヒドロ
キシル基の55.8%がイソシアネート化合物と反応し
ていた。
(Comparative Synthesis Example 2) In the same manner as in Synthesis Example 1, except that in the reaction of the urethane methacrylate compound with hydroxypropyl cellulose, 3 parts by weight of hydroxypropyl cellulose and 1 part by weight of methyl ethyl ketone were used. After the reaction, the mixture was filtered.
It was poured into hot water of 0 ° C., washed and dried to obtain a purified product. In the resulting modified cellulose compound (B-2), 55.8% of the hydroxyl groups had reacted with the isocyanate compound.

【0058】(合成例4)2−ヒドロキシプロピルメタ
クリレート4.32重量部、ジフェニル錫ジアセテート
0.01重量部、およびメチルエチルケトン1重量部を
反応器中に入れ、温度80℃に加温しながらシクロヘキ
サン−1,3−ジイソシアネート4.92重量部を順次
滴下し、さらに75℃で5時間反応を行い、ウレタンメ
タクリレート化合物を得た。
(Synthesis Example 4) 4.32 parts by weight of 2-hydroxypropyl methacrylate, 0.01 part by weight of diphenyltin diacetate, and 1 part by weight of methyl ethyl ketone were put into a reactor, and cyclohexane was heated to a temperature of 80 ° C. 4.92 parts by weight of -1,3-diisocyanate was sequentially added dropwise, and the mixture was further reacted at 75 ° C. for 5 hours to obtain a urethane methacrylate compound.

【0059】次いで、ヒドロキシエチルセルロース(重
量平均分子量約350,000、ヒドロキシエチルエー
テル化度60%(セルロース中に結合した−OCH2
2−セグメントの繰り返し度を1としたとき、該セル
ロース中のヒドロキシル基の60%がエーテル化されて
いることを表す))12重量部、メチルエチルケトン4
重量部、およびジフェニル錫ジアセテート0.01重量
部反応器中に入れ、温度80℃に加温しながら前記ウレ
タンメタクリレート化合物反応液を順次滴下し、さらに
80℃で7時間反応を行った。
Then, hydroxyethyl cellulose (weight average molecular weight of about 350,000, hydroxyethyl etherification degree of 60% (-OCH 2 C bound in cellulose)
Assuming that the degree of repetition of the H 2 -segment is 1, 60% of the hydroxyl groups in the cellulose are etherified)) 12 parts by weight, methyl ethyl ketone 4
Parts by weight and 0.01 parts by weight of diphenyltin diacetate were placed in a reactor, and the above-mentioned urethane methacrylate compound reaction solution was sequentially dropped while heating to a temperature of 80 ° C., and further reacted at 80 ° C. for 7 hours.

【0060】反応物を冷却後、ろ過し、得られた粗製品
を90℃の熱水に投入し、洗浄後乾燥して精製品を得
た。得られた変性セルロース化合物(A−4)は、その
ヒドロキシル基の14.7%がイソシアネート化合物と
反応していた。
After cooling the reaction product, it was filtered, and the obtained crude product was poured into hot water of 90 ° C., washed and dried to obtain a purified product. In the obtained modified cellulose compound (A-4), 14.7% of the hydroxyl groups had reacted with the isocyanate compound.

【0061】(合成例5)トリエチレングリコールモノ
メタクリレート6.54重量部、ジフェニル錫ジアセテ
ート0.01重量部、およびメチルエチルケトン1重量
部を反応器中に入れ、温度80℃に加温しながら2,4
−トリレンジイソシアネート5.23重量部を順次滴下
し、さらに75℃で5時間反応を行い、ウレタンメタク
リレート化合物を得た。
(Synthesis Example 5) 6.54 parts by weight of triethylene glycol monomethacrylate, 0.01 part by weight of diphenyltin diacetate, and 1 part by weight of methyl ethyl ketone were placed in a reactor, and heated at a temperature of 80 ° C. , 4
5.23 parts by weight of tolylene diisocyanate were sequentially added dropwise, and the mixture was further reacted at 75 ° C. for 5 hours to obtain a urethane methacrylate compound.

【0062】次いでメチルセルロース(重量平均分子量
約10,000、メチルエーテル化度20%(セルロー
ス中に結合した−OCH2CH2−セグメントの繰り返し
度を1としたとき、該セルロース中のヒドロキシル基の
20%がエーテル化されていることを表す))12重量
部、メチルエチルケトン4重量部、およびジフェニル錫
ジアセテート0.01重量部反応器中に入れ、温度80
℃に加温しながら前記ウレタンメタクリレート化合物反
応液を順次滴下し、さらに80℃で7時間反応を行っ
た。
Next, methyl cellulose (weight average molecular weight: about 10,000, methyl etherification degree: 20% (when the repetition degree of —OCH 2 CH 2 —segment bonded to cellulose is 1; % Is etherified)) 12 parts by weight, 4 parts by weight of methyl ethyl ketone and 0.01 part by weight of diphenyltin diacetate
The reaction solution of the urethane methacrylate compound was sequentially dropped while heating to ℃, and the reaction was further carried out at 80 ℃ for 7 hours.

【0063】反応物を冷却後、ろ過し、得られた粗製品
を90℃の熱水に投入し、洗浄後乾燥して精製品を得
た。得られた変性セルロース化合物(A−5)は、その
ヒドロキシル基の26.7%がイソシアネート化合物と
反応していた。
The reaction product was cooled, filtered, and the obtained crude product was poured into hot water of 90 ° C., washed and dried to obtain a purified product. In the obtained modified cellulose compound (A-5), 26.7% of the hydroxyl groups had reacted with the isocyanate compound.

【0064】(実施例1)以下に示す(1)〜(5)の
化合物をよく撹拌、混練し、光重合性樹脂組成物を調製
した。 (1)合成例1にて合成した変性セルロース化合物(A−1) 20重量部 (2)2,4−ジエチルチオキサントン 1重量部 (3)2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニル ホスフィンオキシド 3重量部 (4)PbO−ZnO−B23系ガラス粉末 (平均粒径10μm) 100重量部 (5)ジメチルベンジルケタール(重合禁止剤) 0.3重量部 次いで、この光重合性樹脂組成物を125メッシュ/イ
ンチのスクリーンを用いて、あらかじめ配線パターンが
形成されたPDP用ガラス基板上に、乾燥後の膜厚が2
5μmとなるように全面塗布し、80℃で1時間乾燥し
た。乾燥後、所要のネガマスクを介して150mJ/c
2の活性エネルギー線量で露光し、60℃の温水で3
0秒間スプレー現像した。このときの、光重合性組成物
の塗布性、露光、現像後のパターンの欠け、剥がれにつ
いて観察した。結果を表1に示す。
Example 1 The following compounds (1) to (5) were well stirred and kneaded to prepare a photopolymerizable resin composition. (1) 20 parts by weight of the modified cellulose compound (A-1) synthesized in Synthesis Example 1 (2) 1 part by weight of 2,4-diethylthioxanthone (3) 3 parts by weight of 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenyl phosphine oxide (4) PbO-ZnO-B 2 O 3 based glass powder (average particle size 10 [mu] m) 100 parts by weight (5) dimethylbenzyl ketal (polymerization inhibitor) 0.3 part by weight then, the photopolymerizable resin composition 125 Using a mesh / inch screen, a dried film thickness of 2 was formed on a PDP glass substrate on which a wiring pattern was previously formed.
The entire surface was coated so as to have a thickness of 5 μm, and dried at 80 ° C. for 1 hour. After drying, 150mJ / c through the required negative mask
Exposure with an active energy dose of m 2 ,
Spray developed for 0 seconds. At this time, the coating property of the photopolymerizable composition, and the chipping and peeling of the pattern after exposure and development were observed. Table 1 shows the results.

【0065】次に、得られたプラズマディスプレイ(P
DP)用ガラス基板を、電気炉中で、温度540〜56
0℃、5時間焼成しPDPのプライミングリブを形成し
た。形成後のプライミングリブの欠けや剥がれ、変色、
およびこれを用いて製造したPDPの画素の表示ムラに
ついて評価した。結果を表1に示す。
Next, the obtained plasma display (P
The glass substrate for DP) is heated in an electric furnace at a temperature of 540 to 56.
By firing at 0 ° C. for 5 hours, a priming rib of PDP was formed. Chipping, peeling, discoloration,
And display unevenness of pixels of a PDP manufactured using the same. Table 1 shows the results.

【0066】(比較例1)実施例1において、(1)成
分として、合成例1にて合成した変性セルロース化合物
(A−1)20重量部の代わりに、比較合成例1にて合
成した変性セルロース化合物(B−1)20重量部を用
いた以外は、実施例1と同様にして試験、評価を行っ
た。結果を表1に示す。
Comparative Example 1 In Example 1, the modified cellulose synthesized in Comparative Example 1 was replaced with 20 parts by weight of the modified cellulose compound (A-1) synthesized in Synthesis Example 1 as the component (1). The test and evaluation were performed in the same manner as in Example 1 except that 20 parts by weight of the cellulose compound (B-1) was used. Table 1 shows the results.

【0067】(実施例2)実施例1において、(1)成
分として、合成例1にて合成した変性セルロース化合物
(A−1)20重量部の代わりに、合成例2にて合成し
た変性セルロース化合物(A−2)20重量部を用いた
以外は、実施例1と同様にして試験、評価を行った。結
果を表1に示す。
Example 2 In Example 1, the modified cellulose synthesized in Synthesis Example 2 was replaced with 20 parts by weight of the modified cellulose compound (A-1) synthesized in Synthesis Example 1 as the component (1). The test and evaluation were performed in the same manner as in Example 1 except that 20 parts by weight of the compound (A-2) was used. Table 1 shows the results.

【0068】(実施例3)実施例1において、(1)成
分として、合成例1にて合成した変性セルロース化合物
(A−1)20重量部の代わりに、合成例2にて合成し
た変性セルロース化合物(A−3)20重量部を用いた
以外は、実施例1と同様にして試験、評価を行った。結
果を表1に示す。
Example 3 In Example 1, the modified cellulose synthesized in Synthesis Example 2 was replaced with 20 parts by weight of the modified cellulose compound (A-1) synthesized in Synthesis Example 1 as the component (1). The test and evaluation were performed in the same manner as in Example 1 except that 20 parts by weight of the compound (A-3) was used. Table 1 shows the results.

【0069】(比較例2)実施例1において、(1)成
分として、合成例1にて合成した変性セルロース化合物
(A−1)20重量部の代わりに、比較合成例2にて合
成した変性セルロース化合物(B−2)20重量部を用
いた以外は、実施例1と同様にして試験、評価を行っ
た。結果を表1に示す。
(Comparative Example 2) In Example 1, the modified cellulose synthesized in Comparative Synthesis Example 2 was replaced with 20 parts by weight of the modified cellulose compound (A-1) synthesized in Synthesis Example 1 as the component (1). The test and evaluation were performed in the same manner as in Example 1 except that 20 parts by weight of the cellulose compound (B-2) was used. Table 1 shows the results.

【0070】(実施例4)以下に示す(1)〜(6)の
化合物をよく撹拌、混練し、光重合性樹脂組成物を調製
した。 (1)合成例4にて合成した変性セルロース化合物(A−4) 20重量部 (2)2,4−ジエチルチオキサントン 1重量部 (3)2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニル ホスフィンオキシド 3重量部 (4)PbO−ZnO−B23系ガラス粉末 (平均粒径10μm) 5重量部 (5)銀粉末(平均粒径10μm) 100重量部 (6)ジメチルベンジルケタール(重合禁止剤) 0.3重量部 次いで、この光重合性樹脂組成物を125メッシュ/イ
ンチのスクリーンを用いて、あらかじめ配線パターンが
形成されたPDP用ガラス基板上に、乾燥後の膜厚が2
5μmとなるように全面塗布し、80℃で1時間乾燥し
た。乾燥後、所要のネガマスクを介して400mJ/c
2の活性エネルギー線量で露光し、60℃の温水で3
0秒間スプレー現像した。このときの、光重合性組成物
の塗布性、露光、現像後のパターンの欠け、剥がれにつ
いて観察した。結果を表1に示す。
Example 4 The following compounds (1) to (6) were well stirred and kneaded to prepare a photopolymerizable resin composition. (1) 20 parts by weight of the modified cellulose compound (A-4) synthesized in Synthesis Example 4 (2) 1 part by weight of 2,4-diethylthioxanthone (3) 3 parts by weight of 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (4) PbO-ZnO-B 2 O 3 based glass powder (average particle size 10 [mu] m) 5 parts by weight (5) silver powder (average particle size 10 [mu] m) 100 parts by weight (6) dimethylbenzyl ketal (polymerization inhibitor) 0. 3 parts by weight Next, this photopolymerizable resin composition was dried on a glass substrate for PDP on which a wiring pattern had been formed in advance using a 125-mesh / inch screen to a thickness of 2 after drying.
The entire surface was coated so as to have a thickness of 5 μm, and dried at 80 ° C. for 1 hour. After drying, 400mJ / c through the required negative mask
Exposure with an active energy dose of m 2 ,
Spray developed for 0 seconds. At this time, the coating property of the photopolymerizable composition, and the chipping and peeling of the pattern after exposure and development were observed. Table 1 shows the results.

【0071】次に、得られたPDP用ガラス基板を、電
気炉中で、温度540〜560℃、5時間焼成しPDP
のプライミングリブを形成した。形成後のプライミング
リブの欠けや剥がれ、変色、およびこれを用いて製造し
たプラズマディスプレイパネルの画素の表示ムラなどに
ついて調べた。結果を表1に示す。
Next, the obtained glass substrate for PDP is baked in an electric furnace at a temperature of 540 to 560 ° C. for 5 hours.
Was formed. The priming rib after formation was examined for chipping, peeling, discoloration, and display unevenness of pixels of a plasma display panel manufactured using the same. Table 1 shows the results.

【0072】[0072]

【表1】 [Table 1]

【0073】(実施例5)以下に示す(1)〜(4)の
化合物を混合機で1時間混合した後、70μmのグラス
フィルターでろ過し、樹脂組成物を調製した。 (1)合成例5にて合成した変性セルロース化合物(A−5) 20重量部 (2)ブチラール化PVA(積水化学社製:エスレック KW−10、ブチラール化度8%)の10%水溶液 100重量部 (3)アクリル系重合体エマルション(大成化薬社製: AC−120T1)(固形分30%) 25重量部 (4)紫外線吸収剤(湘南化学社製:ASL−24S) 0.05重量部 上記樹脂組成物100重量部に、ジアゾ化合物として3
−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩と4,
4’−メトキシジフェニルエーテルのリン酸浴中での縮
合物(縮合比2:1)の10%水溶液4重量部を加えて
かき混ぜた後、脱泡して光重合性樹脂組成物を得た。こ
の光重合性樹脂組成物を120メッシュのスクリーン枠
に印刷面、スキージ面の順に1回ずつ塗布し、それを4
0℃で20分乾燥した。さらにもう1回同じ工程を繰り
返し、膜厚5μmの感光性スクリーンを作成した。
Example 5 The compounds (1) to (4) shown below were mixed for 1 hour with a mixer, followed by filtration through a 70 μm glass filter to prepare a resin composition. (1) 20 parts by weight of the modified cellulose compound (A-5) synthesized in Synthesis Example 5 (2) 100% by weight of a 10% aqueous solution of butyralized PVA (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd .: Esrec KW-10, degree of butyralization: 8%) Part (3) 25 parts by weight of an acrylic polymer emulsion (manufactured by Taisei Kayaku Co., Ltd .: AC-120T1) (solid content: 30%) (4) 0.05 part by weight of an ultraviolet absorber (manufactured by Shonan Chemical Co., Ltd .: ASL-24S) 100 parts by weight of the above resin composition, as a diazo compound, 3
-Methoxy-4-diazodiphenylamine sulfate and 4,
4 parts by weight of a 10% aqueous solution of a condensate of 4'-methoxydiphenyl ether in a phosphoric acid bath (condensation ratio: 2: 1) was added, stirred, and then defoamed to obtain a photopolymerizable resin composition. The photopolymerizable resin composition was applied once on a 120-mesh screen frame in the order of a printing surface and a squeegee surface.
Dry at 0 ° C. for 20 minutes. The same process was repeated once more to prepare a photosensitive screen having a thickness of 5 μm.

【0074】上記スクリーンに、画像部:開口部の比が
9:1の糸目パターンを再現できるネガマスクを介して
エネルギー量300mJ/cm2の紫外線を照射し、水
に2分間浸漬し、それにスプレー圧40kg/cm2
水でスプレー現像した。この現像操作を2回行った後、
40℃で20分間乾燥し、1000mJ/cm2の紫外
線で後露光を行った。画像部や開口部ににピンホール、
スカム等はみられなかった。この画像部に4%グルタル
アルデヒド水溶液と2%塩酸水溶液を1:1で混合した
ものをスポンジで塗布し、2分間エアブローした後、4
0℃で20分乾燥し、スクリーン印刷版を完成した。得
られたスクリーン印刷版を捺染糊用印刷機にかけて印刷
したところ1万枚印刷することができた。
The screen was irradiated with ultraviolet light having an energy amount of 300 mJ / cm 2 through a negative mask capable of reproducing a thread pattern having a ratio of image portion to opening portion of 9: 1, immersed in water for 2 minutes, and spray pressure applied thereto. Spray development was carried out with 40 kg / cm 2 of water. After performing this developing operation twice,
After drying at 40 ° C. for 20 minutes, post-exposure was performed with ultraviolet rays of 1000 mJ / cm 2 . Pinholes in the image and opening,
No scum or the like was observed. A 1: 1 mixture of a 4% glutaraldehyde aqueous solution and a 2% hydrochloric acid aqueous solution was applied to the image area with a sponge, and air blown for 2 minutes.
After drying at 0 ° C. for 20 minutes, a screen printing plate was completed. When the obtained screen printing plate was printed using a printing press for printing paste, 10,000 sheets could be printed.

【0075】[0075]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
焼成した場合にあっても分解、揮散しやすい性質を有
し、剥離性に優れるとともに、弾性、柔軟性を高めるこ
とができ、基板への密着性が良好なため、紫外線硬化型
樹脂塗料、スクリーン印刷版、リフトオフ用レジスト
や、PDPのプライミングリブ、抵抗パターン、導電性
パターンの形成などに使用するのに好適な光重合性樹脂
組成物を提供することができる。
As described in detail above, according to the present invention,
It has the property of being easily decomposed and volatilized even when baked, has excellent releasability, can enhance elasticity and flexibility, and has good adhesion to the substrate, so it can be used as a UV-curable resin paint or screen. A photopolymerizable resin composition suitable for use in forming a printing plate, a resist for lift-off, a priming rib of a PDP, a resistance pattern, a conductive pattern, and the like can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の光重合性樹脂組成物を用いたパターン
形成の工程を示す概念説明図である。
FIG. 1 is a conceptual explanatory view showing a process of forming a pattern using a photopolymerizable resin composition of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 ホトレジスト層 3 マスクパターン 4 レジストパターン Reference Signs List 1 substrate 2 photoresist layer 3 mask pattern 4 resist pattern

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 セルロースまたはセルロース誘導体のヒ
ドロキシル基の1〜50%が、ウレタン(メタ)アクリ
レート基により置換されてなる、変性セルロース化合
物。
1. A modified cellulose compound in which 1 to 50% of hydroxyl groups of cellulose or a cellulose derivative are substituted by urethane (meth) acrylate groups.
【請求項2】 上記ウレタン(メタ)アクリレート基に
よるヒドロキシル基の置換を、(I)ジイソシアネート
化合物と、ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレー
ト化合物とを、一方のイソシアネート基のみがウレタン
化するように反応させる工程、および(II)ジイソシ
アネート化合物の他方のイソシアネート基とセルロース
またはセルロース誘導体中のヒドロキシル基とを、該ヒ
ドロキシル基の反応率1〜50%の範囲で反応させる工
程、とによって行う、請求項1記載の変性セルロース化
合物。
2. The substitution of a hydroxyl group by the urethane (meth) acrylate group is carried out by reacting (I) a diisocyanate compound with a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group so that only one isocyanate group is urethanized. And (II) reacting the other isocyanate group of the diisocyanate compound with a hydroxyl group in cellulose or a cellulose derivative in a reaction rate of the hydroxyl group of 1 to 50%. The modified cellulose compound according to the above.
【請求項3】 重量平均分子量が8,000〜500,
000である、請求項1または2記載の変性セルロース
化合物。
3. A weight average molecular weight of 8,000 to 500,
The modified cellulose compound according to claim 1, which has a molecular weight of 000.
【請求項4】 重量平均分子量が10,000〜15
0,000である、請求項1または2記載の変性セルロ
ース化合物。
4. A weight average molecular weight of 10,000 to 15.
3. The modified cellulose compound according to claim 1, which has a molecular weight of 000.
【請求項5】 (a)請求項1〜4のいずれか1項に記
載の変性セルロース化合物と、(b)光重合開始剤、を
含有してなる光重合性樹脂組成物。
5. A photopolymerizable resin composition comprising (a) the modified cellulose compound according to any one of claims 1 to 4 and (b) a photopolymerization initiator.
【請求項6】 請求項1〜4のいずれか1項に記載の光
重合性樹脂組成物にさらに(c)エチレン性化合物を含
有してなる光重合性樹脂組成物。
6. A photopolymerizable resin composition comprising the photopolymerizable resin composition according to claim 1 and further comprising (c) an ethylenic compound.
【請求項7】 請求項1〜5のいずれか1項に記載の光
重合性樹脂組成物にさらに(d)無機および/または金
属粉末を含有してなる光重合性樹脂組成物。
7. A photopolymerizable resin composition comprising the photopolymerizable resin composition according to claim 1, further comprising (d) an inorganic and / or metal powder.
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