JPH10303281A - ＸＹθテーブル - Google Patents
ＸＹθテーブルInfo
- Publication number
- JPH10303281A JPH10303281A JP9110918A JP11091897A JPH10303281A JP H10303281 A JPH10303281 A JP H10303281A JP 9110918 A JP9110918 A JP 9110918A JP 11091897 A JP11091897 A JP 11091897A JP H10303281 A JPH10303281 A JP H10303281A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- board
- movable
- stage board
- xyθ
- fixed
- Prior art date
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- Withdrawn
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Machine Tool Sensing Apparatuses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ステージ盤の位置を直接検出してステージ盤
を所望の位置に精度よく移動できるようなＸＹθテーブ
ルを提供する。 【解決手段】 ベース盤１上でステージ盤２をＸ軸，Ｙ
軸および回転軸方向に移動可能に支持し、電動リニアア
クチュエータ３〜５および継手６〜８でステージ盤２を
Ｘ軸，Ｙ軸および回転軸方向に駆動し、その軸の駆動量
をセンサ９〜１１によって直接検出して、その検出出力
をＣＰＵ２１に与え、ＣＰＵ２１から駆動装置２２に駆
動信号を与えて電動リニアアクチュエータ３〜５を駆動
する。
を所望の位置に精度よく移動できるようなＸＹθテーブ
ルを提供する。 【解決手段】 ベース盤１上でステージ盤２をＸ軸，Ｙ
軸および回転軸方向に移動可能に支持し、電動リニアア
クチュエータ３〜５および継手６〜８でステージ盤２を
Ｘ軸，Ｙ軸および回転軸方向に駆動し、その軸の駆動量
をセンサ９〜１１によって直接検出して、その検出出力
をＣＰＵ２１に与え、ＣＰＵ２１から駆動装置２２に駆
動信号を与えて電動リニアアクチュエータ３〜５を駆動
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明はＸＹθテーブルに
関し、特に、液晶，半導体関連分野などのアライメント
を必要とする分野に用いられ、ＸＹθ方向に移動可能な
ＸＹθテーブルに関する。
関し、特に、液晶，半導体関連分野などのアライメント
を必要とする分野に用いられ、ＸＹθ方向に移動可能な
ＸＹθテーブルに関する。
【０００２】
【従来の技術】図６は従来のＸＹθテーブルの一例を示
す図である。図６において、ベース盤（固定盤）１の上
にステージ盤（可動盤）２が図示しないスラスト軸受に
よって軸支されており、ステージ盤２はＸ方向，Ｙ方向
およびθ方向（回転方向）の３軸に移動可能に構成され
ている。この移動は３台の電動リニアアクチュエータ３
〜５と、リニアガイドのような継手６〜８とによって行
なわれる。すなわち、ベース盤１の側辺には、回動盤２
を含む平面内で互いに伸縮する３台の電動リニアアクチ
ュエータ３〜５が取付けられ、これら電動リニアアクチ
ュエータ３〜５は継手６〜８によって平面内で回動可能
であってかつ電動リニアアクチュエータ３〜５の伸縮方
向と直交する方向にスライド可能な継手によって可動盤
２の側辺に連結されている。電動リニアアクチュエータ
３〜５はステッピングモータまたはサーボモータが使用
されており、電動リニアアクチュエータ３〜５の動きは
これらのモータを制御することにより行なわれる。
す図である。図６において、ベース盤（固定盤）１の上
にステージ盤（可動盤）２が図示しないスラスト軸受に
よって軸支されており、ステージ盤２はＸ方向，Ｙ方向
およびθ方向（回転方向）の３軸に移動可能に構成され
ている。この移動は３台の電動リニアアクチュエータ３
〜５と、リニアガイドのような継手６〜８とによって行
なわれる。すなわち、ベース盤１の側辺には、回動盤２
を含む平面内で互いに伸縮する３台の電動リニアアクチ
ュエータ３〜５が取付けられ、これら電動リニアアクチ
ュエータ３〜５は継手６〜８によって平面内で回動可能
であってかつ電動リニアアクチュエータ３〜５の伸縮方
向と直交する方向にスライド可能な継手によって可動盤
２の側辺に連結されている。電動リニアアクチュエータ
３〜５はステッピングモータまたはサーボモータが使用
されており、電動リニアアクチュエータ３〜５の動きは
これらのモータを制御することにより行なわれる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述の図６に示したＸ
Ｙθテーブルは、電動リニアアクチュエータ３〜５に使
用されているボールねじのリード誤差や連結部の剛性不
足およびバックラッシュのため、電動リニアアクチュエ
ータ３〜５のモータの回転だけを制御してもステージ盤
２を精度よく動かすことができないという欠点がある。
Ｙθテーブルは、電動リニアアクチュエータ３〜５に使
用されているボールねじのリード誤差や連結部の剛性不
足およびバックラッシュのため、電動リニアアクチュエ
ータ３〜５のモータの回転だけを制御してもステージ盤
２を精度よく動かすことができないという欠点がある。
【０００４】それゆえに、この発明の主たる目的は、ス
テージ盤の位置を直接検出して、ステージ盤を所望の位
置に精度よく移動できるようなＸＹθテーブルを提供す
ることである。
テージ盤の位置を直接検出して、ステージ盤を所望の位
置に精度よく移動できるようなＸＹθテーブルを提供す
ることである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
固定盤の上にスラスト軸受を介して可動盤をＸ方向，Ｙ
方向および回転方向に移動可能なＸＹθテーブルであっ
て、固定盤に設けられ、可動盤を含む平面内で互いに伸
縮する少なくとも２個の第１の駆動手段と、２個の第１
の駆動手段に対して直交する方向に伸縮する少なくとも
１個の第２の駆動手段と、各駆動手段のそれぞれと可動
盤とを平面内で回動可能かつスライド可能に連結する連
結手段と、それぞれの一端が固定盤に取付けられ、それ
ぞれの他端が可動盤に取付けられ、可動盤の固定盤に対
する移動量を検出する少なくとも３個の位置検出手段
と、少なくとも３個の位置検出手段の各検出出力から可
動盤の現在位置を演算して、演算した現在位置と目標位
置との結果に基づいて、各駆動手段の作動量を個別的に
制御する演算制御手段を備えて構成される。
固定盤の上にスラスト軸受を介して可動盤をＸ方向，Ｙ
方向および回転方向に移動可能なＸＹθテーブルであっ
て、固定盤に設けられ、可動盤を含む平面内で互いに伸
縮する少なくとも２個の第１の駆動手段と、２個の第１
の駆動手段に対して直交する方向に伸縮する少なくとも
１個の第２の駆動手段と、各駆動手段のそれぞれと可動
盤とを平面内で回動可能かつスライド可能に連結する連
結手段と、それぞれの一端が固定盤に取付けられ、それ
ぞれの他端が可動盤に取付けられ、可動盤の固定盤に対
する移動量を検出する少なくとも３個の位置検出手段
と、少なくとも３個の位置検出手段の各検出出力から可
動盤の現在位置を演算して、演算した現在位置と目標位
置との結果に基づいて、各駆動手段の作動量を個別的に
制御する演算制御手段を備えて構成される。
【０００６】請求項２に係る発明では、請求項１の少な
くとも３個の位置検出手段は、各駆動手段と平行に配置
される。
くとも３個の位置検出手段は、各駆動手段と平行に配置
される。
【０００７】請求項３に係る発明では、請求項１の少な
くとも３個の位置検出手段のうちの２個の位置検出手段
のそれぞれの他端は可動盤の同じ位置に取付けられる。
くとも３個の位置検出手段のうちの２個の位置検出手段
のそれぞれの他端は可動盤の同じ位置に取付けられる。
【０００８】
【発明の実施の形態】図１はこの発明の一実施形態のＸ
Ｙθテーブルを示す平面図である。図１において、前述
の図６と同様にして、ベース盤１とステージ盤２と電動
リニアアクチュエータ３〜５と、継手６〜８が設けられ
る。さらに、ベース盤１とステージ盤２との間には、３
個の位置検出手段としてのセンサ９，１０，１１が取付
けられている。センサ９〜１１の固定点Ｕ0 ，Ｖ0 ，Ｗ
0 はベース盤１に取付けられており、移動点Ｕ，Ｖ，Ｗ
はステージ盤２に取付けられている。
Ｙθテーブルを示す平面図である。図１において、前述
の図６と同様にして、ベース盤１とステージ盤２と電動
リニアアクチュエータ３〜５と、継手６〜８が設けられ
る。さらに、ベース盤１とステージ盤２との間には、３
個の位置検出手段としてのセンサ９，１０，１１が取付
けられている。センサ９〜１１の固定点Ｕ0 ，Ｖ0 ，Ｗ
0 はベース盤１に取付けられており、移動点Ｕ，Ｖ，Ｗ
はステージ盤２に取付けられている。
【０００９】センサ９〜１１は、それぞれ３箇所で固定
点Ｕ0 ，Ｖ0 ，Ｗ0 と移動点Ｕ，Ｖ，Ｗとの間の距離を
検出する。ステージ盤２をある目標位置へ移動させたと
き、３つのセンサ９〜１１からそれぞれ２点間の距離が
検出される。各センサ９〜１１で検出された値を演算す
れば、ステージ盤２の現在位置を得ることができる。も
し何らかの原因でステージ盤２が目標値へ移動しなけれ
ば、ステージ盤２の現在位置と目標位置との差がわかる
ので、その差がなくなるように電動リニアアクチュエー
タ３〜５を制御し、目標位置へステージ盤２の位置決め
を行なうことができる。
点Ｕ0 ，Ｖ0 ，Ｗ0 と移動点Ｕ，Ｖ，Ｗとの間の距離を
検出する。ステージ盤２をある目標位置へ移動させたと
き、３つのセンサ９〜１１からそれぞれ２点間の距離が
検出される。各センサ９〜１１で検出された値を演算す
れば、ステージ盤２の現在位置を得ることができる。も
し何らかの原因でステージ盤２が目標値へ移動しなけれ
ば、ステージ盤２の現在位置と目標位置との差がわかる
ので、その差がなくなるように電動リニアアクチュエー
タ３〜５を制御し、目標位置へステージ盤２の位置決め
を行なうことができる。
【００１０】図２はこの発明の一実施形態の制御回路の
ブロック図である。図２において、制御回路はＣＰＵ２
１と駆動装置２２とを含む。ＣＰＵ２１にはセンサ９〜
１１から位置検出信号が入力されており、ＣＰＵ２１は
センサ出力に基づいてステージ盤２の現在位置を算出
し、移動指令信号がＣＰＵ２１に与えられると、ＣＰＵ
２１は駆動装置２２に駆動信号を与える。駆動装置２２
はその駆動信号に従って、電動リニアアクチュエータ３
〜５を駆動して、ステージ盤２を所望の位置に精度よく
移動させる。
ブロック図である。図２において、制御回路はＣＰＵ２
１と駆動装置２２とを含む。ＣＰＵ２１にはセンサ９〜
１１から位置検出信号が入力されており、ＣＰＵ２１は
センサ出力に基づいてステージ盤２の現在位置を算出
し、移動指令信号がＣＰＵ２１に与えられると、ＣＰＵ
２１は駆動装置２２に駆動信号を与える。駆動装置２２
はその駆動信号に従って、電動リニアアクチュエータ３
〜５を駆動して、ステージ盤２を所望の位置に精度よく
移動させる。
【００１１】センサ９〜１１としては、たとえば分解能
が０．１μｍ，測定範囲が±１０μｍ程度のリニアセン
サが用いられる。
が０．１μｍ，測定範囲が±１０μｍ程度のリニアセン
サが用いられる。
【００１２】図３は図１に示したＸＹθテーブルの移動
前の状態を示し、図４は移動後の状態を示す図である。
前の状態を示し、図４は移動後の状態を示す図である。
【００１３】図３および図４において、実線の枠はベー
ス盤１を示しており、二点鎖線はステージ盤２を示して
いる。ベース盤１の固定点Ｕ0 ，Ｖ0 ，Ｗ0 の座標を Ｕ0 （Ｘu0，Ｙu0） Ｖ0 （Ｘv0，Ｙv0） Ｗ0 （Ｘw0，Ｙw0） とする。ここで、Ｙv0とＹw0は同じとは限らない。さら
に、ステージ盤２上に固定され、ステージ盤２の移動に
伴って移動する移動点Ｕ，Ｖ，Ｗがある。移動点Ｕは、
Ｕ0 からｘ方向へｌu0だけ離れた点であり、点Ｖは点Ｖ
0 からｙ方向へｌ v0だけ離れた点であり、点Ｗは点Ｗ0
からｙ方向へｌw0だけ離れた点とする。それらの初期座
標を Ｕ（Ｘu ，Ｙu ） Ｖ（Ｘv ，Ｙv ） Ｗ（Ｘw ，Ｙw ） とする。ここで、当然Ｙu ＝Ｙu0，Ｘv ＝Ｘv0，Ｘw ＝
Ｘw0となる。
ス盤１を示しており、二点鎖線はステージ盤２を示して
いる。ベース盤１の固定点Ｕ0 ，Ｖ0 ，Ｗ0 の座標を Ｕ0 （Ｘu0，Ｙu0） Ｖ0 （Ｘv0，Ｙv0） Ｗ0 （Ｘw0，Ｙw0） とする。ここで、Ｙv0とＹw0は同じとは限らない。さら
に、ステージ盤２上に固定され、ステージ盤２の移動に
伴って移動する移動点Ｕ，Ｖ，Ｗがある。移動点Ｕは、
Ｕ0 からｘ方向へｌu0だけ離れた点であり、点Ｖは点Ｖ
0 からｙ方向へｌ v0だけ離れた点であり、点Ｗは点Ｗ0
からｙ方向へｌw0だけ離れた点とする。それらの初期座
標を Ｕ（Ｘu ，Ｙu ） Ｖ（Ｘv ，Ｙv ） Ｗ（Ｘw ，Ｙw ） とする。ここで、当然Ｙu ＝Ｙu0，Ｘv ＝Ｘv0，Ｘw ＝
Ｘw0となる。
【００１４】次に、ステージ盤２をベース盤１に対して
図４に示すようにｄｘ，ｄｙ，ｄθだけ移動，回転させ
る。移動後のＵ，Ｖ，Ｗの座標を Ｕ′（Ｘu ′，Ｙu ′） Ｖ′（Ｘv ′，Ｙv ′） Ｗ′（Ｘw ′，Ｙw ′） として、点Ｕ0 と点Ｕ′の距離をｌu ，点Ｖ0 と点Ｖ′
の距離をｌv ，点Ｗ0 と点Ｗ′の距離をｌw とする。
図４に示すようにｄｘ，ｄｙ，ｄθだけ移動，回転させ
る。移動後のＵ，Ｖ，Ｗの座標を Ｕ′（Ｘu ′，Ｙu ′） Ｖ′（Ｘv ′，Ｙv ′） Ｗ′（Ｘw ′，Ｙw ′） として、点Ｕ0 と点Ｕ′の距離をｌu ，点Ｖ0 と点Ｖ′
の距離をｌv ，点Ｗ0 と点Ｗ′の距離をｌw とする。
【００１５】距離ｌu ，ｌv ，ｌw から移動量ｄｘ，ｄ
ｙ，ｄθを求める。移動後の点Ｕ′，Ｖ′，Ｗ′の座標
を求めてもよい。この場合、座標値よりｄｘ，ｄｙ，ｄ
θが得られる。
ｙ，ｄθを求める。移動後の点Ｕ′，Ｖ′，Ｗ′の座標
を求めてもよい。この場合、座標値よりｄｘ，ｄｙ，ｄ
θが得られる。
【００１６】図５はこの発明の他の実施形態を示す平面
図である。この実施形態は、図１と同様にして３個のセ
ンサ１２，１３，１４を設けているが、センサ１２，１
３の一端Ｖ0 ，Ｕ0 はベース盤１の一端に取付けられ、
それぞれの他端Ｖはステージ盤２の同じ位置に取付けら
れる。また、残り１個のセンサ１４の一端Ｗ0 も同様に
してベース盤１に取付けられ、他端Ｗはステージ盤２に
取付けられる。
図である。この実施形態は、図１と同様にして３個のセ
ンサ１２，１３，１４を設けているが、センサ１２，１
３の一端Ｖ0 ，Ｕ0 はベース盤１の一端に取付けられ、
それぞれの他端Ｖはステージ盤２の同じ位置に取付けら
れる。また、残り１個のセンサ１４の一端Ｗ0 も同様に
してベース盤１に取付けられ、他端Ｗはステージ盤２に
取付けられる。
【００１７】この実施形態においても、センサ１２〜１
４の出力は図２に示したＣＰＵ２１に入力され駆動装置
２２の出力によって電動リニアアクチュエータ３〜５が
駆動される。この実施形態では、ある移動点から２つの
固定点との間の距離を２つのセンサ１２，１３で測定す
るようにしたので、位置の算定が容易になる。
４の出力は図２に示したＣＰＵ２１に入力され駆動装置
２２の出力によって電動リニアアクチュエータ３〜５が
駆動される。この実施形態では、ある移動点から２つの
固定点との間の距離を２つのセンサ１２，１３で測定す
るようにしたので、位置の算定が容易になる。
【００１８】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、少な
くとも３個の位置検出器によって可動盤の固定盤に対す
る移動量を直接検出して、その検出出力から可動盤の現
在位置を演算し、演算した現在位置と目標位置との結果
に基づいて各駆動手段の作動量を個別的に制御するよう
にしたので可動盤を精度よく所望の位置に移動させるこ
とができる。
くとも３個の位置検出器によって可動盤の固定盤に対す
る移動量を直接検出して、その検出出力から可動盤の現
在位置を演算し、演算した現在位置と目標位置との結果
に基づいて各駆動手段の作動量を個別的に制御するよう
にしたので可動盤を精度よく所望の位置に移動させるこ
とができる。
【図１】この発明の一実施形態のＸＹθテーブルを示す
平面図である。
平面図である。
【図２】この発明の一実施形態の制御回路のブロック図
である。
である。
【図３】図１に示したＸＹθテーブルの移動前の状態を
示す図である。
示す図である。
【図４】図１に示したＸＹθテーブルの移動後の状態を
示す図である。
示す図である。
【図５】この発明の他の実施形態を示す平面図である。
【図６】従来のＸＹθテーブルの外観図である。
１ ベース盤 ２ 可動盤 ３〜５ 電動リニアアクチュエータ ６〜８ 継手 ９〜１４ センサ ２１ ＣＰＵ ２２ 駆動装置
Claims (3)
- 【請求項１】 固定盤の上にスラスト軸受を介して可動
盤をＸ方向，Ｙ方向および回転方向に移動可能なＸＹθ
テーブルであって、 前記固定盤上に、前記可動盤を含む平面内で互いに伸縮
する少なくとも２個の第１の駆動手段、 前記２個の第１の駆動手段に対して直交する方向に伸縮
する少なくとも１個の第２の駆動手段、 前記各駆動手段のそれぞれと前記可動盤とを前記平面内
で回動可能かつスライド可能に連結する連結手段、 それぞれの一端が前記固定盤に取付けられ、それぞれの
他端が前記可動盤に取付けられ、前記可動盤の前記固定
盤に対する移動量を検出する少なくとも３個の位置検出
手段、および前記少なくとも３個の位置検出手段の各検
出出力から前記可動盤の現在位置を演算して、演算した
現在位置と目標位置との結果に基づいて、前記各駆動手
段の作動量を個別的に制御する演算制御手段を備えた、
ＸＹθテーブル。 - 【請求項２】 前記少なくとも３個の位置検出手段は、
それぞれが前記各駆動手段と平行に配置されることを特
徴とする、請求項１のＸＹθテーブル。 - 【請求項３】 前記少なくとも３個の位置検出手段のう
ちの２個の位置検出手段のそれぞれの他端は前記可動盤
の同じ位置に取付けらることを特徴とする、請求項１の
ＸＹθテーブル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9110918A JPH10303281A (ja) | 1997-04-28 | 1997-04-28 | ＸＹθテーブル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9110918A JPH10303281A (ja) | 1997-04-28 | 1997-04-28 | ＸＹθテーブル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10303281A true JPH10303281A (ja) | 1998-11-13 |
Family
ID=14547940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9110918A Withdrawn JPH10303281A (ja) | 1997-04-28 | 1997-04-28 | ＸＹθテーブル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10303281A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006136991A (ja) * | 2004-11-15 | 2006-06-01 | Suruga Seiki Kk | 位置調整装置 |
-
1997
- 1997-04-28 JP JP9110918A patent/JPH10303281A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006136991A (ja) * | 2004-11-15 | 2006-06-01 | Suruga Seiki Kk | 位置調整装置 |
| JP4587786B2 (ja) * | 2004-11-15 | 2010-11-24 | 駿河精機株式会社 | 位置調整装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040706 |