JPH103001A - 反射防止膜用組成物 - Google Patents
反射防止膜用組成物Info
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- JPH103001A JPH103001A JP9080038A JP8003897A JPH103001A JP H103001 A JPH103001 A JP H103001A JP 9080038 A JP9080038 A JP 9080038A JP 8003897 A JP8003897 A JP 8003897A JP H103001 A JPH103001 A JP H103001A
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- integer
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- film
- coonh
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】皮膜の経時的な安定性を維持し、光の反射防止
性を実現できる皮膜を形成させうる反射防止膜用組成物
を提供する。 【解決手段】パーフルオロアルキル基の炭素数の異なる
２種のフッ素化合物を含有してなる反射防止膜用組成
物、およびパーフルオロアルキル基及びカルボン酸もし
くはスルホン酸アミン塩を含むフッ素化合物を含有して
なる反射防止膜用組成物に関する。
性を実現できる皮膜を形成させうる反射防止膜用組成物
を提供する。 【解決手段】パーフルオロアルキル基の炭素数の異なる
２種のフッ素化合物を含有してなる反射防止膜用組成
物、およびパーフルオロアルキル基及びカルボン酸もし
くはスルホン酸アミン塩を含むフッ素化合物を含有して
なる反射防止膜用組成物に関する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、各種基材上にコー
ティングすることにより使用し得る反射防止膜用組成物
に関する。
ティングすることにより使用し得る反射防止膜用組成物
に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子、半導体分野の発達に伴い、より精
密且つ微細なパターニング加工技術が要求されている。
密且つ微細なパターニング加工技術が要求されている。
【０００３】しかしながら、フォトレジスト時の光の散
乱、反射により、緻密なパターニンングが阻害されると
いう問題がある。また、多種多様な液晶製品の普及に伴
い、ノート型パソコン、携帯電話、自動車テレビ等様々
な環境でこれらの製品を使用されることが増えてきた
が、光の散乱、反射による画面の不鮮明さが問題となっ
ている。
乱、反射により、緻密なパターニンングが阻害されると
いう問題がある。また、多種多様な液晶製品の普及に伴
い、ノート型パソコン、携帯電話、自動車テレビ等様々
な環境でこれらの製品を使用されることが増えてきた
が、光の散乱、反射による画面の不鮮明さが問題となっ
ている。
【０００４】この様な状況に鑑み、低屈折率を有するフ
ッ素化合物をコーティングする方法が提案されている。
ところが、反射防止性を高めるためにフッ素含有量を増
大させようとすると、パーフルオロアルキル（Ｒｆ）基
中の炭素数が大きいもの（７以上）を使用することにな
る。一方、Ｒｆ基中の炭素数が大きいものは、皮膜にす
ると経時的に結晶化が進み、皮膜の透明性が損なわれた
り、割れたりするという欠点がある。
ッ素化合物をコーティングする方法が提案されている。
ところが、反射防止性を高めるためにフッ素含有量を増
大させようとすると、パーフルオロアルキル（Ｒｆ）基
中の炭素数が大きいもの（７以上）を使用することにな
る。一方、Ｒｆ基中の炭素数が大きいものは、皮膜にす
ると経時的に結晶化が進み、皮膜の透明性が損なわれた
り、割れたりするという欠点がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
のような状況に鑑み、反射防止性と経時的な皮膜形成安
定性能を併せ持つ組成物を提供することである。
のような状況に鑑み、反射防止性と経時的な皮膜形成安
定性能を併せ持つ組成物を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】そこで本発明者等は、上
記課題を解決するために鋭意検討したところ、下記一般
式（Ａ−１）或いは（Ａ−２）で表される化合物におい
て，炭素数及びフッ素原子数の異なる化合物の併用、又
は特定のアミン塩化合物を単独で用いることにより、反
射防止性と経時的な皮膜形成安定性能を両立できること
を見出し、本発明を完成するに至った。
記課題を解決するために鋭意検討したところ、下記一般
式（Ａ−１）或いは（Ａ−２）で表される化合物におい
て，炭素数及びフッ素原子数の異なる化合物の併用、又
は特定のアミン塩化合物を単独で用いることにより、反
射防止性と経時的な皮膜形成安定性能を両立できること
を見出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】すなわち本発明は、一般式（Ａ−１）又は
一般式（Ａ−２）で表される化合物において、ｎが１〜
６の整数である化合物とｎが７〜２０の整数である化合
物とを含有してなる反射防止膜用組成物であり、 ＣnＦ2n+1（ＣＨ2）mＸ （Ａ−１） （但し、Ｘは−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈ、又はそれらの各
種アミン塩であり、ｍは０〜２０の整数である。） （ＣnＦ2n+1（ＣＨ2）mＯ）lＹp （Ａ−２） ［但し、ｍは０〜２０の整数であり、Ｙは−ＰＯ（Ｏ
Ｈ）2又はその各種アミン塩であり、ｌ＋ｐ＝３で、か
つｌは１または２である。］ 一般式（Ａ−１）又は一般式（Ａ−２）で表される化合
物を含有してなる反射防止膜用組成物であり、 ＣnＦ2n+1（ＣＨ2）mＸ （Ａ−１） ［但し、ｎは１〜２０の整数であり、ｍは０〜２０の整
数である。Ｘは
一般式（Ａ−２）で表される化合物において、ｎが１〜
６の整数である化合物とｎが７〜２０の整数である化合
物とを含有してなる反射防止膜用組成物であり、 ＣnＦ2n+1（ＣＨ2）mＸ （Ａ−１） （但し、Ｘは−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈ、又はそれらの各
種アミン塩であり、ｍは０〜２０の整数である。） （ＣnＦ2n+1（ＣＨ2）mＯ）lＹp （Ａ−２） ［但し、ｍは０〜２０の整数であり、Ｙは−ＰＯ（Ｏ
Ｈ）2又はその各種アミン塩であり、ｌ＋ｐ＝３で、か
つｌは１または２である。］ 一般式（Ａ−１）又は一般式（Ａ−２）で表される化合
物を含有してなる反射防止膜用組成物であり、 ＣnＦ2n+1（ＣＨ2）mＸ （Ａ−１） ［但し、ｎは１〜２０の整数であり、ｍは０〜２０の整
数である。Ｘは
【０００８】
【化５】
【０００９】又は
【００１０】
【化６】
【００１１】（Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はＨ，又はＣqＨ2q+1（q
は１〜２０の整数）である。但し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3がす
べてＨの場合、およびＲ1、Ｒ2、Ｒ3の中いずれか２つ
がＨで１つがＣＨ3の場合を除く。）］ （ＣnＦ2n+1（ＣＨ2）mＯ）lＹp （Ａ−２） ［ｎは１〜２０の整数であり、ｍは０〜２０の整数であ
り、ｌ＋ｐ＝３で、かつｌは１または２である。Ｙは
は１〜２０の整数）である。但し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3がす
べてＨの場合、およびＲ1、Ｒ2、Ｒ3の中いずれか２つ
がＨで１つがＣＨ3の場合を除く。）］ （ＣnＦ2n+1（ＣＨ2）mＯ）lＹp （Ａ−２） ［ｎは１〜２０の整数であり、ｍは０〜２０の整数であ
り、ｌ＋ｐ＝３で、かつｌは１または２である。Ｙは
【００１２】
【化７】
【００１３】
【化８】
【００１４】である。（Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はＨ，又はＣrＨ
2r+1（rは１〜２０の整数）である。但し、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ3がすべてＨの場合、および、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3の中いず
れか２つがＨで１つがＣＨ3の場合を除く。）］ 一般式（Ａ−１）又は一般式（Ａ−２）で表される化合
物が、好ましくは下記の構造を有する化合物である反射
防止膜用組成物であり、 ＣnＦ2n+1（ＣＨ2）mＸ （Ａ−１） （但し、ｎは１〜２０の整数であり、Ｘは−ＣＯＯＮＨ
3 ｔ−Ｃ4Ｈ9又は−ＳＯ 3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、ｍは０〜
２０の整数である。） （ＣnＦ2n+1（ＣＨ2）mＯ）lＹp （Ａ−２） ［但し、ｎは１〜２０の整数であり、Ｙは−ＰＯ（ＯＮ
Ｈ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9）2又は−ＰＯ（ＯＨ）（ＯＮＨ3 ｔ−
Ｃ4Ｈ9）であり、ｍは０〜２０の整数であり、ｌ＋ｐ＝
３で、かつｌは１または２である。］ より好ましくは一般式（Ａ−１）又は一般式（Ａ−２）
で表される化合物が、Ｃ4Ｆ9ＳＯ3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、
Ｃ5Ｆ11ＳＯ3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ6Ｆ13ＳＯ3ＮＨ3 ｔ
−Ｃ4Ｈ9、Ｃ7Ｆ15ＳＯ3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ8Ｆ17Ｓ
Ｏ3ＮＨ3 ｔ−Ｃ 4Ｈ9、Ｃ4Ｆ9ＣＯＯＮＨ3 ｔ−Ｃ
4Ｈ9、Ｃ5Ｆ11ＣＯＯＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ6Ｆ 13ＣＯＯ
ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ7Ｆ15ＣＯＯＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、
Ｃ8Ｆ17ＣＯＯＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9で示される構造を有す
る化合物のいずれか一つである反射防止膜用組成物を提
供するものである。
2r+1（rは１〜２０の整数）である。但し、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ3がすべてＨの場合、および、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3の中いず
れか２つがＨで１つがＣＨ3の場合を除く。）］ 一般式（Ａ−１）又は一般式（Ａ−２）で表される化合
物が、好ましくは下記の構造を有する化合物である反射
防止膜用組成物であり、 ＣnＦ2n+1（ＣＨ2）mＸ （Ａ−１） （但し、ｎは１〜２０の整数であり、Ｘは−ＣＯＯＮＨ
3 ｔ−Ｃ4Ｈ9又は−ＳＯ 3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、ｍは０〜
２０の整数である。） （ＣnＦ2n+1（ＣＨ2）mＯ）lＹp （Ａ−２） ［但し、ｎは１〜２０の整数であり、Ｙは−ＰＯ（ＯＮ
Ｈ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9）2又は−ＰＯ（ＯＨ）（ＯＮＨ3 ｔ−
Ｃ4Ｈ9）であり、ｍは０〜２０の整数であり、ｌ＋ｐ＝
３で、かつｌは１または２である。］ より好ましくは一般式（Ａ−１）又は一般式（Ａ−２）
で表される化合物が、Ｃ4Ｆ9ＳＯ3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、
Ｃ5Ｆ11ＳＯ3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ6Ｆ13ＳＯ3ＮＨ3 ｔ
−Ｃ4Ｈ9、Ｃ7Ｆ15ＳＯ3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ8Ｆ17Ｓ
Ｏ3ＮＨ3 ｔ−Ｃ 4Ｈ9、Ｃ4Ｆ9ＣＯＯＮＨ3 ｔ−Ｃ
4Ｈ9、Ｃ5Ｆ11ＣＯＯＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ6Ｆ 13ＣＯＯ
ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ7Ｆ15ＣＯＯＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、
Ｃ8Ｆ17ＣＯＯＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9で示される構造を有す
る化合物のいずれか一つである反射防止膜用組成物を提
供するものである。
【００１５】好ましくは、さらにパーフルオロアルキル
基含有アルコール化合物、パーフルオロアルキル基含有
アミン化合物及びパーフルオロアルキル基含有スルホニ
ルアミド化合物からなる群から選ばれる少なくとも一つ
の化合物を含み、好ましくはさらに水可溶性或いは水分
散性の皮膜形成性バインダー樹脂、より好ましくはこの
水可溶性或いは水分散性の皮膜形成性バインダー樹脂
が、単量体単位として、ビニルアルコール、（メタ）ア
クリル酸、ビニルメチルエーテル、ビニルピロリドン及
びエチレングリコールからなる群から選ばれる少なくと
も一つの単量体を必須構成成分として含有する単独重合
体又は共重合体である反射防止膜用組成物を提供するも
のである。
基含有アルコール化合物、パーフルオロアルキル基含有
アミン化合物及びパーフルオロアルキル基含有スルホニ
ルアミド化合物からなる群から選ばれる少なくとも一つ
の化合物を含み、好ましくはさらに水可溶性或いは水分
散性の皮膜形成性バインダー樹脂、より好ましくはこの
水可溶性或いは水分散性の皮膜形成性バインダー樹脂
が、単量体単位として、ビニルアルコール、（メタ）ア
クリル酸、ビニルメチルエーテル、ビニルピロリドン及
びエチレングリコールからなる群から選ばれる少なくと
も一つの単量体を必須構成成分として含有する単独重合
体又は共重合体である反射防止膜用組成物を提供するも
のである。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明の第１の発明は、上記一般
式（Ａ−１）又は一般式（Ａ−２）で表される化合物に
おいて、ｎが１〜６の整数である化合物とｎが７〜２０
の整数である化合物とを併用した反射防止膜用組成物で
ある。ここで、一般式（Ａ−１）及び（Ａ−２）中にお
けるパーフルオロアルキル基の構造は、ｎが１〜２０の
整数であれば制限はなく、直鎖状或いは分岐状のいずれ
であっても構わない。
式（Ａ−１）又は一般式（Ａ−２）で表される化合物に
おいて、ｎが１〜６の整数である化合物とｎが７〜２０
の整数である化合物とを併用した反射防止膜用組成物で
ある。ここで、一般式（Ａ−１）及び（Ａ−２）中にお
けるパーフルオロアルキル基の構造は、ｎが１〜２０の
整数であれば制限はなく、直鎖状或いは分岐状のいずれ
であっても構わない。
【００１７】このような一般式（Ａ−１）、（Ａ−２）
で表される具体的化合物としては以下のようなものが挙
げられる。尚、これらの具体例によって本発明が何ら限
定されるものでないことは勿論である。
で表される具体的化合物としては以下のようなものが挙
げられる。尚、これらの具体例によって本発明が何ら限
定されるものでないことは勿論である。
【００１８】A-1-1 :C4F9COOH A-1-2 :C6F13COOH A-1-3 :C6F13CH2CH2COOH A-1-4 :C7F15COOH A-1-5 :C8F17CH2CH2COOH A-1-6 :C8F17COOH A-1-7 :C10F21COOH A-1-8 :C12F25COOH A-1-9 :C20F41COOH A-1-10:C6F13COONH4 A-1-11:C8F17COON(CH3)4 A-1-12:C4F9SO3H A-1-13:C6F13SO3H A-1-14:C8F17SO3H A-1-15:C10F21SO3H A-1-16:C12F25SO3H A-1-17:C20F41SO3H A-1-18:C6F13SO3N(CH3)4 A-1-19:C8F17SO3NH4 A-1-20:C6F13SO3NH4 A-1-21:C6F13SO3NH3CH3 A-1-22:C6F13SO3NH2(CH3)2 A-1-23:C6F13SO3NH(CH3)3 A-1-24:C6F13SO3NH3C2H5 A-1-25:C6F13SO3NH2(C2H5)2 A-1-26:C6F13SO3NH(C2H5)3 A-1-27:C6F13SO3NH3C3H7 A-1-28 C6F13SO3NH2(n-C3H7)2 A-1-29 C6F13SO3NH2(iso-C3H7)2 A-1-30 C6F13SO3NH3 n-C4H9 A-1-31 C6F13SO3NH3 (n-C4H9)2 A-1-32 C6F13SO3NH3OH A-1-33 C6F13SO3N(n-C4H9)3 Ph A-1-34 C6F13SO3N(CH3)3 Ph A-1-35 C8F17SO3N(CH3)4 A-1-36 C8F17SO3NH3CH3 A-1-37:C8F17SO3NH2(CH3)2 A-1-38:C8F17SO3NH(CH3)3 A-1-39:C8F17SO3NH3C2H5 A-1-40:C8F17SO3NH2(C2H5)2 A-1-41:C8F17SO3NH(C2H5)3 A-1-42:C8F17SO3NH3C3H7 A-1-43:C8F17SO3NH2(n-C3H7)2 A-1-44 C8F17SO3NH2(iso-C3H7)2 A-1-45 C8F17SO3NH3 n-C4H9 A-1-46 C8F17SO3NH3 (n-C4H9)2 A-1-47 C8F17SO3NH3OH A-1-48 C8F17SO3N(n-C4H9)3 Ph A-1-49 C8F17SO3N(CH3)3 Ph A-1-50 C5F11SO3H A-1-51 C7F15SO3H A-2-1 :C4F9CH2CH20PO(OH)2 A-2-2 :C6F13CH2CH20PO(OH)2 A-2-3 :C8F17CH2CH20PO(OH)2 A-2-4 :C10F21CH2CH20PO(OH)2 A-2-5 :C12F25CH2CH20PO(OH)2 A-2-6 :C20F41CH2CH20PO(OH)2 A-2-7 :(C8F17CH2CH20)2PO(OH) ここで、本発明で得られる各種アミン塩の原料として用
いるアミン化合物には公知慣用のいずれの物質を用いて
も良い。例えば、モノメチルアミン、ジメチルアミン、
トリメチルアミン、テトラメチルアミン、モノエチルア
ミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、テトラエチ
ルアミン、ｎ−プロピルアミン、ｉｓｏ−プロピルアミ
ン、ｎ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ジ
（ｎ−ブチル）アミン、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、プロパノールア
ミン等が挙げられるが、本例示化合物によって本発明が
何等限定されるものではない。
いるアミン化合物には公知慣用のいずれの物質を用いて
も良い。例えば、モノメチルアミン、ジメチルアミン、
トリメチルアミン、テトラメチルアミン、モノエチルア
ミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、テトラエチ
ルアミン、ｎ−プロピルアミン、ｉｓｏ−プロピルアミ
ン、ｎ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ジ
（ｎ−ブチル）アミン、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、プロパノールア
ミン等が挙げられるが、本例示化合物によって本発明が
何等限定されるものではない。
【００１９】一般に、フォトレジスト用の反射防止膜
は、現像時に水で容易に除去できるものが好ましいの
で、水溶性フッ素系化合物が使用されている。ところ
で、反射防止性を得るためには、コーティングする基材
の屈折率にもよるが、多くの場合は低屈折率化合物が必
要になる。一般に、フッ素原子を含有する化合物は、フ
ッ素原子の大きな分子容と小さな原子屈折を有するとい
う特徴により低屈折率を示し、その屈折率の値は、化合
物中のフッ素含有量に正比例することが知られている。
従って、高フッ素含有量の化合物を得ようとすると、Ｒ
ｆ基中の炭素数の大きな化合物を用いる必要がある。し
かしながら一方、Ｒｆ基中の炭素数が増加すると、結晶
化することが知られている。それ故に、低屈折率を有す
る長鎖（２０≧ｎ≧７）のフッ素系化合物を反射防止膜
として使用すると、成膜直後は低屈折率を有する優れた
反射防止性を発揮するが、経時的にＲｆ基の結晶化が進
み皮膜の濁り、割れが生ずるという致命的欠点を有す
る。
は、現像時に水で容易に除去できるものが好ましいの
で、水溶性フッ素系化合物が使用されている。ところ
で、反射防止性を得るためには、コーティングする基材
の屈折率にもよるが、多くの場合は低屈折率化合物が必
要になる。一般に、フッ素原子を含有する化合物は、フ
ッ素原子の大きな分子容と小さな原子屈折を有するとい
う特徴により低屈折率を示し、その屈折率の値は、化合
物中のフッ素含有量に正比例することが知られている。
従って、高フッ素含有量の化合物を得ようとすると、Ｒ
ｆ基中の炭素数の大きな化合物を用いる必要がある。し
かしながら一方、Ｒｆ基中の炭素数が増加すると、結晶
化することが知られている。それ故に、低屈折率を有す
る長鎖（２０≧ｎ≧７）のフッ素系化合物を反射防止膜
として使用すると、成膜直後は低屈折率を有する優れた
反射防止性を発揮するが、経時的にＲｆ基の結晶化が進
み皮膜の濁り、割れが生ずるという致命的欠点を有す
る。
【００２０】本発明は、結晶化し易いが低屈折率を有す
る２０≧ｎ≧７の化合物と、屈折率は若干高くなるが結
晶化し難い１≦ｎ≦６の化合物を同時に用いることを特
徴とするものであり、上述したような結晶化による皮膜
の劣化を起こすことなく、優れた反射防止性を維持する
ことができるという効果を有するものである。
る２０≧ｎ≧７の化合物と、屈折率は若干高くなるが結
晶化し難い１≦ｎ≦６の化合物を同時に用いることを特
徴とするものであり、上述したような結晶化による皮膜
の劣化を起こすことなく、優れた反射防止性を維持する
ことができるという効果を有するものである。
【００２１】Ｒｆ基において２０≧ｎ≧７の化合物と１
≦ｎ≦６の化合物の割合は、目的とする基材の屈折率、
工程或いはコスト上可能な膜厚、目標とする皮膜寿命等
によって、調整しなければならないが、モル比で（２０
≧ｎ≧７の化合物）／（１≦ｎ≦６の化合物）＝９９．
９９／０．０１〜０．０１／９９．９９が好ましく、９
９．９／０．１〜０．１／９９．９がより好ましい。
≦ｎ≦６の化合物の割合は、目的とする基材の屈折率、
工程或いはコスト上可能な膜厚、目標とする皮膜寿命等
によって、調整しなければならないが、モル比で（２０
≧ｎ≧７の化合物）／（１≦ｎ≦６の化合物）＝９９．
９９／０．０１〜０．０１／９９．９９が好ましく、９
９．９／０．１〜０．１／９９．９がより好ましい。
【００２２】２０≧ｎ≧７の化合物、１≦ｎ≦６の化合
物は１種類ずつ用いても、２種類以上を同時に用いても
構わない。本発明の第２の発明は、上記一般式（Ａ−
１）又は一般式（Ａ−２）で示された化合物のうち、特
定のＸがカルボン酸基のアミン塩、又はスルホン酸基の
アミン塩を含有した反射膜防止用組成物である。
物は１種類ずつ用いても、２種類以上を同時に用いても
構わない。本発明の第２の発明は、上記一般式（Ａ−
１）又は一般式（Ａ−２）で示された化合物のうち、特
定のＸがカルボン酸基のアミン塩、又はスルホン酸基の
アミン塩を含有した反射膜防止用組成物である。
【００２３】すなわち、上記一般式（Ａ−１）および一
般式（Ａ−２）において、Ｘが
般式（Ａ−２）において、Ｘが
【００２４】
【化９】
【００２５】又は
【００２６】
【化１０】
【００２７】［Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はＨ，又はＣqＨ2q+1（q
は１〜２０の整数）である。］であるか、Ｙが
は１〜２０の整数）である。］であるか、Ｙが
【００２８】
【化１１】
【００２９】又は
【００３０】
【化１２】
【００３１】である。上記式において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3
がすべてＨの場合、およびＲ1、Ｒ2、Ｒ3の中いずれか
２つがＨで１つがＣＨ3の場合は、低屈折率にならず、
本発明の反射防止膜用組成物としての性能を発揮するこ
とができないので、本発明の範囲には含まれない。
がすべてＨの場合、およびＲ1、Ｒ2、Ｒ3の中いずれか
２つがＨで１つがＣＨ3の場合は、低屈折率にならず、
本発明の反射防止膜用組成物としての性能を発揮するこ
とができないので、本発明の範囲には含まれない。
【００３２】上記のＸおよびＹのうち、Ｘが−ＣＯＯＮ
Ｈ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、−ＳＯ3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9であるもの
が好ましく、Ｙが−ＰＯ（ＯＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9）2、−
ＰＯ（ＯＨ）（ＯＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9）であるものが好ま
しい。
Ｈ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、−ＳＯ3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9であるもの
が好ましく、Ｙが−ＰＯ（ＯＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9）2、−
ＰＯ（ＯＨ）（ＯＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9）であるものが好ま
しい。
【００３３】さらにこれらの化合物のうち、Ｃ4Ｆ9ＳＯ
3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ5Ｆ11ＳＯ3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、
Ｃ6Ｆ13ＳＯ3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ7Ｆ15ＳＯ3ＮＨ3 ｔ
−Ｃ 4Ｈ9、Ｃ8Ｆ17ＳＯ3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ4Ｆ9ＣＯ
ＯＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ5Ｆ1 1ＣＯＯＮＨ3 ｔ−Ｃ
4Ｈ9、Ｃ6Ｆ13ＣＯＯＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ7Ｆ15ＣＯＯ
ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ8Ｆ17ＣＯＯＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9で
示される構造を有するｔ-ブチルアミン塩化合物がより
好ましい。
3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ5Ｆ11ＳＯ3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、
Ｃ6Ｆ13ＳＯ3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ7Ｆ15ＳＯ3ＮＨ3 ｔ
−Ｃ 4Ｈ9、Ｃ8Ｆ17ＳＯ3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ4Ｆ9ＣＯ
ＯＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ5Ｆ1 1ＣＯＯＮＨ3 ｔ−Ｃ
4Ｈ9、Ｃ6Ｆ13ＣＯＯＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ7Ｆ15ＣＯＯ
ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ8Ｆ17ＣＯＯＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9で
示される構造を有するｔ-ブチルアミン塩化合物がより
好ましい。
【００３４】これらのｔ−ブチルアミン塩を用いること
によりＲｆ基中の炭素数に拘らず結晶性を低下させるこ
とが可能であり、２０≧ｎ≧７の化合物と１≦ｎ≦６の
化合物とを併用しなくともＲｆ基の結晶化の進行による
皮膜の濁り、割れを生じることなく、且つ低屈折率を有
する優れた反射防止性を発揮することができる。
によりＲｆ基中の炭素数に拘らず結晶性を低下させるこ
とが可能であり、２０≧ｎ≧７の化合物と１≦ｎ≦６の
化合物とを併用しなくともＲｆ基の結晶化の進行による
皮膜の濁り、割れを生じることなく、且つ低屈折率を有
する優れた反射防止性を発揮することができる。
【００３５】尚、本化合物Ｂは単独で用いても効果を発
揮するが、反射防止膜成膜時の塗布溶液の水素イオン濃
度調整等の目的で他の化合物Ａを１種類または２種類以
上用いても何等問題がないことは勿論である。ここで、
一般式（Ａ−１）及び（Ａ−２）中におけるパーフルオ
ロアルキル基の構造は、ｎが１〜２０の整数であれば制
限はなく、直鎖状或いは分岐状のいずれであっても構わ
ない。
揮するが、反射防止膜成膜時の塗布溶液の水素イオン濃
度調整等の目的で他の化合物Ａを１種類または２種類以
上用いても何等問題がないことは勿論である。ここで、
一般式（Ａ−１）及び（Ａ−２）中におけるパーフルオ
ロアルキル基の構造は、ｎが１〜２０の整数であれば制
限はなく、直鎖状或いは分岐状のいずれであっても構わ
ない。
【００３６】化合物Ｂの具体例としては、以下のような
ものが挙げられる。 B-1: C5F11SO3NH3 t-C4H9 B-2: C6F13SO3NH3 t-C4H9 B-3: C7F15SO3NH3 t-C4H9 B-4: C8F17SO3NH3 t-C4H9 B-5: C5F11COONH3 t-C4H9 B-6: C6F13COONH3 t-C4H9 B-7: C7F15COONH3 t-C4H9 B-8: C8F17COONH3 t-C4H9 B-9: C6F13CH2CH20PO(OH)(ONH3 t-C4H9) B-10: C8F17CH2CH20PO(OH)(ONH3 t-C4H9) B-11: C6F13CH2CH20PO(ONH3 t-C4H9)2 B-12: C8F17CH2CH20PO(ONH3 t-C4H9)2 さらに、パーフルオロアルキル（Ｒｆ）基含有アルコー
ル化合物、Ｒｆ基含有アミン化合物、Ｒｆ基含有スルホ
ニルアミド化合物（以下、これらを化合物Ｃと称する）
を、化合物Ａ及び／またはＢと共に用いることができ
る。化合物Ｃを併用することによって、いわゆる共界面
活性剤効果が起こり、パーフルオロアルキル基部分の配
向性を増加させ、皮膜形成性を向上させ得る。従って、
化合物Ａ及び／またはＢのみでは反射防止性並びに皮膜
形成性が不十分な場合には、化合物Ｃを用いることは有
効である。
ものが挙げられる。 B-1: C5F11SO3NH3 t-C4H9 B-2: C6F13SO3NH3 t-C4H9 B-3: C7F15SO3NH3 t-C4H9 B-4: C8F17SO3NH3 t-C4H9 B-5: C5F11COONH3 t-C4H9 B-6: C6F13COONH3 t-C4H9 B-7: C7F15COONH3 t-C4H9 B-8: C8F17COONH3 t-C4H9 B-9: C6F13CH2CH20PO(OH)(ONH3 t-C4H9) B-10: C8F17CH2CH20PO(OH)(ONH3 t-C4H9) B-11: C6F13CH2CH20PO(ONH3 t-C4H9)2 B-12: C8F17CH2CH20PO(ONH3 t-C4H9)2 さらに、パーフルオロアルキル（Ｒｆ）基含有アルコー
ル化合物、Ｒｆ基含有アミン化合物、Ｒｆ基含有スルホ
ニルアミド化合物（以下、これらを化合物Ｃと称する）
を、化合物Ａ及び／またはＢと共に用いることができ
る。化合物Ｃを併用することによって、いわゆる共界面
活性剤効果が起こり、パーフルオロアルキル基部分の配
向性を増加させ、皮膜形成性を向上させ得る。従って、
化合物Ａ及び／またはＢのみでは反射防止性並びに皮膜
形成性が不十分な場合には、化合物Ｃを用いることは有
効である。
【００３７】これら化合物Ｃは、化合物Ａ及び／または
Ｂ或いは後述する化合物Ｄとの組み合わせと、皮膜に要
求される反射防止性、即ち化合物Ｃとしては屈折率によ
って、目的とする系に合致した化合物が選択される。そ
の際、化合物Ｃは１種類であっても２種類以上を同時に
用いても構わない。
Ｂ或いは後述する化合物Ｄとの組み合わせと、皮膜に要
求される反射防止性、即ち化合物Ｃとしては屈折率によ
って、目的とする系に合致した化合物が選択される。そ
の際、化合物Ｃは１種類であっても２種類以上を同時に
用いても構わない。
【００３８】化合物Ｃとしては上記範囲内で特に制限は
ないが、その具体例としては、次のような化合物が挙げ
られる。尚、これらの具体例によって本発明が何ら限定
されるものでないことは勿論である。
ないが、その具体例としては、次のような化合物が挙げ
られる。尚、これらの具体例によって本発明が何ら限定
されるものでないことは勿論である。
【００３９】C-1 :C8F17CH2CH2OH C-2 :C8F17CH2CH2(CH2O)10H C-3 :HOCH2CH2(CF2)4CH2CH2OH C-4 :C8F17SO2NHCH2CH2OH C-5 :C6F13SO2NHCH2CH2OH C-6 :C8F17SO2N(CH2CH2OH)2 C-7 :C8F17SO2NH(CH2O)20H C-8 :C8F17SO2NHCH2CH2COOC2H5 C-9 :C8F17SO2NHCH2CH2CH2N(CH3)2 C-10:C4F9SO2NH2 C-11:C6F13SO2NH2 C-12:C8F17SO2NH2 C-13:C10F21SO2NH2 化合物Ｃを用いる場合の導入量は、目的とする反射防止
膜の皮膜寿命、屈折率等により異なるが、化合物Ａ及び
／またはＢ／化合物Ｃ＝９９．９９／０．０１〜０．０
１／９９．９９（モル比）であり、好ましくは９９．９
／０．１〜０．１／９９．９（モル比）である。
膜の皮膜寿命、屈折率等により異なるが、化合物Ａ及び
／またはＢ／化合物Ｃ＝９９．９９／０．０１〜０．０
１／９９．９９（モル比）であり、好ましくは９９．９
／０．１〜０．１／９９．９（モル比）である。
【００４０】化合物Ｃは、反射防止性を持たせるために
は、上述したようなパーフルオロ化合物が好ましいが、
屈折率の調整、化合物Ａ及び／またはＢ、Ｃとの相溶性
による皮膜の形成性により、系によっては非フッ素系の
化合物を併用することも可能である。
は、上述したようなパーフルオロ化合物が好ましいが、
屈折率の調整、化合物Ａ及び／またはＢ、Ｃとの相溶性
による皮膜の形成性により、系によっては非フッ素系の
化合物を併用することも可能である。
【００４１】また、本発明者等の知見によれば、優れた
経時的な皮膜形成安定性能を得たい場合には、目的とす
る反射防止性を損なわない範囲で、水に可溶或いは分散
する皮膜形成性バインダー樹脂（以下、化合物Ｄと称す
る）を併用することが有効である。反射防止膜をフォト
レジスト用に用いる場合、フォトレジスト工程終了後、
反射防止膜を容易に除去、即ち水で除去できることが必
要である。従って、バインダー樹脂としては、水に可溶
或いは分散するものが好ましい。化合物Ｄとしては、構
成モノマー単位中にビニルアルコール、（メタ）アクリ
ル酸、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４
−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリコシロ
キシエチル（メタ）アクリレート、ビニルメチルエーテ
ル、ビニルピロリドン、エチレングリコール等の親水性
単位を含む単独重合体若しくは共重合体が好ましい。
経時的な皮膜形成安定性能を得たい場合には、目的とす
る反射防止性を損なわない範囲で、水に可溶或いは分散
する皮膜形成性バインダー樹脂（以下、化合物Ｄと称す
る）を併用することが有効である。反射防止膜をフォト
レジスト用に用いる場合、フォトレジスト工程終了後、
反射防止膜を容易に除去、即ち水で除去できることが必
要である。従って、バインダー樹脂としては、水に可溶
或いは分散するものが好ましい。化合物Ｄとしては、構
成モノマー単位中にビニルアルコール、（メタ）アクリ
ル酸、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４
−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリコシロ
キシエチル（メタ）アクリレート、ビニルメチルエーテ
ル、ビニルピロリドン、エチレングリコール等の親水性
単位を含む単独重合体若しくは共重合体が好ましい。
【００４２】これらの中で、皮膜の形成性、原料の入手
性等を考慮すると、化合物Ｄとしては、構成モノマー単
位がビニルアルコール、（メタ）アクリル酸、ビニルメ
チルエーテル、ビニルピロリドン、エチレングリコール
の群から選ばれる少なくとも一つを必須成分として含有
する単独重合体或いは共重合体であることがより好まし
い。
性等を考慮すると、化合物Ｄとしては、構成モノマー単
位がビニルアルコール、（メタ）アクリル酸、ビニルメ
チルエーテル、ビニルピロリドン、エチレングリコール
の群から選ばれる少なくとも一つを必須成分として含有
する単独重合体或いは共重合体であることがより好まし
い。
【００４３】化合物Ｄの具体的化合物としては、例えば
次のような化合物が挙げられるが、これらによって本発
明が何ら限定されるものでないことは勿論である。 D-1 :ポリビニルアルコール D-2 :ポリ（メタ）アクリル酸 D-3 :ポリビニルメチルエーテル D-4 :ポリエチレングリコール D-5 :ポリビニルピロリドン D-6 :ポリビニルスルホン酸ナトリウム D-7 :ポリ-α-トリフルオロメチルアクリル酸 D-8 :ポリ-β-ヒドロキシルエチル（メタ）アクリレー
ト D-9 :エチレン-ビニルアルコール共重合体 D-10:酢酸ビニル-ビニルアルコール共重合体 D-11:エチレン-酢酸ビニル-ビニルアルコール共重合体 D-12:エチル（メタ）アクリレート-（メタ）アクリル酸
共重合体 D-13:メチル（メタ）アクリレート-β-ヒドロキシルエ
チル（メタ）アクリレート共重合体 D-14:エチレングリコール-プロピレングリコール共重合
体 このような親水性単位の導入の仕方は、親水性モノマー
単位そのものの重合により得ても構わないし、重合後に
親水性単位に置換するような反応によって得ても構わな
い。
次のような化合物が挙げられるが、これらによって本発
明が何ら限定されるものでないことは勿論である。 D-1 :ポリビニルアルコール D-2 :ポリ（メタ）アクリル酸 D-3 :ポリビニルメチルエーテル D-4 :ポリエチレングリコール D-5 :ポリビニルピロリドン D-6 :ポリビニルスルホン酸ナトリウム D-7 :ポリ-α-トリフルオロメチルアクリル酸 D-8 :ポリ-β-ヒドロキシルエチル（メタ）アクリレー
ト D-9 :エチレン-ビニルアルコール共重合体 D-10:酢酸ビニル-ビニルアルコール共重合体 D-11:エチレン-酢酸ビニル-ビニルアルコール共重合体 D-12:エチル（メタ）アクリレート-（メタ）アクリル酸
共重合体 D-13:メチル（メタ）アクリレート-β-ヒドロキシルエ
チル（メタ）アクリレート共重合体 D-14:エチレングリコール-プロピレングリコール共重合
体 このような親水性単位の導入の仕方は、親水性モノマー
単位そのものの重合により得ても構わないし、重合後に
親水性単位に置換するような反応によって得ても構わな
い。
【００４４】本発明者らの知見によれば、化合物Ｄの分
子量は、目的とする皮膜の伸度、強度等の力学特性、膜
厚、化合物Ａ及び／またはＢ、Ｃとの相溶性、塗工方法
により適当なものを選択され特に制限されないが、数平
均分子量で１００〜１００００が好ましく、５００〜２
００００のものがより好ましい。
子量は、目的とする皮膜の伸度、強度等の力学特性、膜
厚、化合物Ａ及び／またはＢ、Ｃとの相溶性、塗工方法
により適当なものを選択され特に制限されないが、数平
均分子量で１００〜１００００が好ましく、５００〜２
００００のものがより好ましい。
【００４５】上述のように、化合物Ｄは水に溶解あるい
は分散し易い親水性単位の単独重合体であっても、他の
成分との共重合体であってもよいが、共重合体である場
合、皮膜の強度、化合物Ａ及び／またはＢ，化合物Ｃと
の相溶性等によって、共重合する成分を選択できる。ま
た、単独重合体、共重合体何れの場合もその製造方法
は、従来公知の方法であれば特に制限はない。
は分散し易い親水性単位の単独重合体であっても、他の
成分との共重合体であってもよいが、共重合体である場
合、皮膜の強度、化合物Ａ及び／またはＢ，化合物Ｃと
の相溶性等によって、共重合する成分を選択できる。ま
た、単独重合体、共重合体何れの場合もその製造方法
は、従来公知の方法であれば特に制限はない。
【００４６】化合物Ｄを用いる場合の導入量は、目的と
する反射防止膜の皮膜寿命、屈折率等により異なるが、
化合物Ａ及び／またはＢ／化合物Ｄ＝９９．９９／０．
０１〜０．０１／９９．９９（重量比）が好ましく、９
９．９／０．１〜０．１／９９．９（重量比）がより好
ましい。
する反射防止膜の皮膜寿命、屈折率等により異なるが、
化合物Ａ及び／またはＢ／化合物Ｄ＝９９．９９／０．
０１〜０．０１／９９．９９（重量比）が好ましく、９
９．９／０．１〜０．１／９９．９（重量比）がより好
ましい。
【００４７】本発明に係わる基材としては特に制限はな
いが、例えばガラス、石英、シリコン等の無機物、鉄、
銅、フェライト、コバルト、ニッケル、アルミニウム等
の金属及びそれらの合金、ポリエチレン、ポリスチレ
ン、ポリメタアクリル酸メチル、ポリ塩化ビニル等に代
表される熱可塑性樹脂、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレン２，６ナフタレート等のポリエステル類、
ポリパラフェニレンサルファイト、ポリアミド樹脂、ポ
リイミド樹脂等のエンジニアリングプラスチック、ＮＢ
Ｒ、ＳＢＲ、ＥＰＤＭ、シリコーンゴム、フッ素ゴム等
の各種ゴム類、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、フェノ
ール樹脂、ＡＢＳ樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、
ポリカーボネート樹脂、紙、木材等が挙げられる。これ
ら基材は、密着性良く被覆する場合、必要に応じて従来
公知のプライマー処理、プラズマ処理等の前処理を施す
ことが可能である。尚、本発明が上記具体例によって何
等限定されるものでないことは勿論である。
いが、例えばガラス、石英、シリコン等の無機物、鉄、
銅、フェライト、コバルト、ニッケル、アルミニウム等
の金属及びそれらの合金、ポリエチレン、ポリスチレ
ン、ポリメタアクリル酸メチル、ポリ塩化ビニル等に代
表される熱可塑性樹脂、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレン２，６ナフタレート等のポリエステル類、
ポリパラフェニレンサルファイト、ポリアミド樹脂、ポ
リイミド樹脂等のエンジニアリングプラスチック、ＮＢ
Ｒ、ＳＢＲ、ＥＰＤＭ、シリコーンゴム、フッ素ゴム等
の各種ゴム類、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、フェノ
ール樹脂、ＡＢＳ樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、
ポリカーボネート樹脂、紙、木材等が挙げられる。これ
ら基材は、密着性良く被覆する場合、必要に応じて従来
公知のプライマー処理、プラズマ処理等の前処理を施す
ことが可能である。尚、本発明が上記具体例によって何
等限定されるものでないことは勿論である。
【００４８】また塗布方法に関しても特に制限はなく、
必要に応じて水あるいは溶剤で適当な濃度または粘度に
調整した後、例えばグラビアコーター、リバースコータ
ー、スピンコーター、刷毛塗り、デイッピング塗布、ス
プレー塗布等の方法により各種基材上に塗布することが
できる。尚、本発明が上記具体例によって何等限定され
るものでないことは勿論である。
必要に応じて水あるいは溶剤で適当な濃度または粘度に
調整した後、例えばグラビアコーター、リバースコータ
ー、スピンコーター、刷毛塗り、デイッピング塗布、ス
プレー塗布等の方法により各種基材上に塗布することが
できる。尚、本発明が上記具体例によって何等限定され
るものでないことは勿論である。
【００４９】このような反射防止膜用組成物を基材上に
塗布する際のレベリング性は、作業性、膜厚の制御ひい
ては反射防止膜としての性能発現の観点から極めて重要
である。レベリング性向上のためには、目的とする膜厚
の精度、基材、塗布方法等によっても異なるが、必要に
応じて炭化水素系、シリコン系、フッ素系等の公知慣用
のレベリング剤を添加することは有効な手段である。中
でも表面張力低下能、本組成物に対する相溶性等の観点
からフッ素系レベリング剤の添加が有効である。この様
なフッ素系レベリング剤としては特に制限はないが、具
体的化合物としては、３Ｍ社製フロラードＦＣ−４３
０、ＦＣ−１７０、ＦＣ−１７０Ｃ大日本インキ化学工
業社製メガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７
７、Ｆ−１４２Ｄ、Ｆ−１４４Ｄ、Ｆ−１４０ＮＫ等が
挙げられる。このようなレベリング剤の添加量として
は、反射防止膜組成物に対して０．０００１〜７％が適
当であり、好ましくは０．０１〜５％、より好ましくは
０．０５〜３％が好適である。
塗布する際のレベリング性は、作業性、膜厚の制御ひい
ては反射防止膜としての性能発現の観点から極めて重要
である。レベリング性向上のためには、目的とする膜厚
の精度、基材、塗布方法等によっても異なるが、必要に
応じて炭化水素系、シリコン系、フッ素系等の公知慣用
のレベリング剤を添加することは有効な手段である。中
でも表面張力低下能、本組成物に対する相溶性等の観点
からフッ素系レベリング剤の添加が有効である。この様
なフッ素系レベリング剤としては特に制限はないが、具
体的化合物としては、３Ｍ社製フロラードＦＣ−４３
０、ＦＣ−１７０、ＦＣ−１７０Ｃ大日本インキ化学工
業社製メガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７
７、Ｆ−１４２Ｄ、Ｆ−１４４Ｄ、Ｆ−１４０ＮＫ等が
挙げられる。このようなレベリング剤の添加量として
は、反射防止膜組成物に対して０．０００１〜７％が適
当であり、好ましくは０．０１〜５％、より好ましくは
０．０５〜３％が好適である。
【００５０】さらに、本発明に係わる組成物を目的とす
る基材上に塗布し、形成した反射防止膜は、種々の用途
に用いることができる。例えばフォトレジスト用の様に
加工工程上必要とされる一時的なものから、テレビ、パ
ソコン、屋外大型掲示板等のディスプレイ、携帯電話、
電子手帳、電卓、オーディオ等各種電子・電気機器の表
示部分等の様に、それぞれの機器を使用する上で半永久
的なものまで何れの用途にも用いることができる。尚、
本発明がこれら具体例によって何等限定されるものでな
いことは勿論である。
る基材上に塗布し、形成した反射防止膜は、種々の用途
に用いることができる。例えばフォトレジスト用の様に
加工工程上必要とされる一時的なものから、テレビ、パ
ソコン、屋外大型掲示板等のディスプレイ、携帯電話、
電子手帳、電卓、オーディオ等各種電子・電気機器の表
示部分等の様に、それぞれの機器を使用する上で半永久
的なものまで何れの用途にも用いることができる。尚、
本発明がこれら具体例によって何等限定されるものでな
いことは勿論である。
【００５１】
【実施例】次に本発明をより詳細に説明するために実施
例及び比較例を掲げるが、これらの説明によって本発明
が何等限定されるものでないことは勿論である。文中の
「部」は、断わりのない限り重量基準である。
例及び比較例を掲げるが、これらの説明によって本発明
が何等限定されるものでないことは勿論である。文中の
「部」は、断わりのない限り重量基準である。
【００５２】実施例１ 化合物Ａ及び／または化合物Ｂとして、Ｒｆ基が１≦ｎ
≦６のものにはA-1-13、２０≧ｎ≧７のものにはA-1-14
を用い、それぞれ１０重量％の水溶液を調整した。ま
た、化合物ＣとしてはC-12、化合物Ｄとしては数分子量
１０００のD-2を用い、各々１０重量％の水溶液とし
た。次に、これら４種類の溶液を固形分比でA-1-13/A-1
-14/C-12/D-2=3/7/60/30（重量比）となる様に混合し、
５重量％の水溶液を調整した。調整した水溶液はシリコ
ン基盤上にスピンコートし、透明且つ均質なフィルムを
得た。
≦６のものにはA-1-13、２０≧ｎ≧７のものにはA-1-14
を用い、それぞれ１０重量％の水溶液を調整した。ま
た、化合物ＣとしてはC-12、化合物Ｄとしては数分子量
１０００のD-2を用い、各々１０重量％の水溶液とし
た。次に、これら４種類の溶液を固形分比でA-1-13/A-1
-14/C-12/D-2=3/7/60/30（重量比）となる様に混合し、
５重量％の水溶液を調整した。調整した水溶液はシリコ
ン基盤上にスピンコートし、透明且つ均質なフィルムを
得た。
【００５３】実施例２〜９，比較例１，２ 表１の配合組成で実施例１と同様にしてフィルムを作製
した。表１には、実施例１〜９，比較例１，２の各組成
の配合と化合物Ｄを用いた場合の分子量をまとめて示し
た。尚、表中（）内の数字は各成分の固形分比を、化合
物Ｄの分子量は数平均分子量を示している。
した。表１には、実施例１〜９，比較例１，２の各組成
の配合と化合物Ｄを用いた場合の分子量をまとめて示し
た。尚、表中（）内の数字は各成分の固形分比を、化合
物Ｄの分子量は数平均分子量を示している。
【００５４】
【表１】
【００５５】このようにして調整した各試料は、それぞ
れ４０℃乾燥機中で所定時間放置し、皮膜の経時的変化
を、透明性、皮膜の剥がれ・割れについて目視にて５段
階で評価した。また、フォトレジストでオーバーコート
した際の３６５nmでのレジスト加工適性を５段階で評価
し。表２には、それらの結果をまとめて示した。尚、表
中、５段階評価の数字は、数字が大きいほど各性能が優
れていること示している。
れ４０℃乾燥機中で所定時間放置し、皮膜の経時的変化
を、透明性、皮膜の剥がれ・割れについて目視にて５段
階で評価した。また、フォトレジストでオーバーコート
した際の３６５nmでのレジスト加工適性を５段階で評価
し。表２には、それらの結果をまとめて示した。尚、表
中、５段階評価の数字は、数字が大きいほど各性能が優
れていること示している。
【００５６】
【表２】
【００５７】
【発明の効果】本発明の組成物は、皮膜の経時的な安定
性を維持し、光の反射防止性を実現できる皮膜を形成さ
せ得る。
性を維持し、光の反射防止性を実現できる皮膜を形成さ
せ得る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/11 ５０３ Ｇ０３Ｆ 7/11 ５０３ Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５７４
Claims (7)
- 【請求項１】一般式（Ａ−１）又は一般式（Ａ−２）で
表される化合物において、ｎが１〜６の整数である化合
物とｎが７〜２０の整数である化合物とを含有してなる
反射防止膜用組成物。 ＣnＦ2n+1（ＣＨ2）mＸ （Ａ−１） （但し、Ｘは−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈ、又はそれらの各
種アミン塩であり、ｍは０〜２０の整数である。） （ＣnＦ2n+1（ＣＨ2）mＯ）lＹp （Ａ−２） ［但し、ｍは０〜２０の整数であり、Ｙは−ＰＯ（Ｏ
Ｈ）2又はその各種アミン塩であり、ｌ＋ｐ＝３で、か
つｌは１または２である。］ - 【請求項２】一般式（Ａ−１）又は一般式（Ａ−２）で
表される化合物を含有してなる反射防止膜用組成物。 ＣnＦ2n+1（ＣＨ2）mＸ （Ａ−１） ［但し、ｎは１〜２０の整数であり、ｍは０〜２０の整
数である。Ｘは 【化１】 又は 【化２】 （Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はＨ，又はＣqＨ2q+1（qは１〜２０の
整数）である。但し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3がすべてＨの場
合、およびＲ1、Ｒ2、Ｒ3の中いずれか２つがＨで１つ
がＣＨ3の場合を除く。）］ （ＣnＦ2n+1（ＣＨ2）mＯ）lＹp （Ａ−２） ［ｎは１〜２０の整数であり、ｍは０〜２０の整数であ
り、ｌ＋ｐ＝３で、かつｌは１または２である。Ｙは 【化３】 【化４】 である。（Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はＨ，又はＣrＨ2r+1（rは１
〜２０の整数）である。但し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3がすべて
Ｈの場合、および、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3の中いずれか２つが
Ｈで１つがＣＨ3の場合を除く。）］ - 【請求項３】一般式（Ａ−１）又は一般式（Ａ−２）で
表される化合物が、下記の構造を有する化合物のいずれ
か一つであることを特徴とする請求項２記載の組成物。 ＣnＦ2n+1（ＣＨ2）mＸ （Ａ−１） （但し、ｎは１〜２０の整数であり、Ｘは−ＣＯＯＮＨ
3 ｔ−Ｃ4Ｈ9又は−ＳＯ 3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、ｍは０〜
２０の整数である。） （ＣnＦ2n+1（ＣＨ2）mＯ）lＹp （Ａ−２） ［但し、ｎは１〜２０の整数であり、Ｙは−ＰＯ（ＯＮ
Ｈ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9）2又は−ＰＯ（ＯＨ）（ＯＮＨ3 ｔ−
Ｃ4Ｈ9）であり、ｍは０〜２０の整数であり、ｌ＋ｐ＝
３で、かつｌは１または２である。］ - 【請求項４】一般式（Ａ−１）又は一般式（Ａ−２）で
表される化合物が、Ｃ4Ｆ9ＳＯ3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ5
Ｆ11ＳＯ3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ6Ｆ13ＳＯ3ＮＨ3 ｔ−
Ｃ4Ｈ9、Ｃ7Ｆ15ＳＯ3ＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ8Ｆ17ＳＯ3
ＮＨ3 ｔ−Ｃ 4Ｈ9、Ｃ4Ｆ9ＣＯＯＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ
5Ｆ11ＣＯＯＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ6Ｆ 13ＣＯＯＮＨ3 ｔ
−Ｃ4Ｈ9、Ｃ7Ｆ15ＣＯＯＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9、Ｃ8Ｆ17Ｃ
ＯＯＮＨ3 ｔ−Ｃ4Ｈ9で示される構造を有する化合物の
いずれか一つであることを特徴とする請求項２又は３記
載の組成物。 - 【請求項５】さらにパーフルオロアルキル基含有アルコ
ール化合物、パーフルオロアルキル基含有アミン化合物
及びパーフルオロアルキル基含有スルホニルアミド化合
物からなる群から選ばれる少なくとも一つの化合物を含
むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項記載の
組成物。 - 【請求項６】さらに水可溶性或いは水分散性の皮膜形成
性バインダー樹脂を含むことを特徴とする請求項１〜５
のいずれか１項記載の組成物。 - 【請求項７】水可溶性或いは水分散性の皮膜形成性バイ
ンダー樹脂が、単量体単位として、ビニルアルコール、
（メタ）アクリル酸、ビニルメチルエーテル、ビニルピ
ロリドン及びエチレングリコールからなる群から選ばれ
る少なくとも一つの単量体を必須構成成分として含有す
る単独重合体又は共重合体であることを特徴とする請求
項６記載の組成物。
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1997
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| EP1775633A4 (en) * | 2004-06-30 | 2010-07-28 | Dainippon Ink & Chemicals | COMPOSITION FOR AN ANTIREFLEX COATING AND METHOD FOR FORMING A STRUCTURE THEREWITH |
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