JPH10294396A - 薄膜多層基板及び電子装置 - Google Patents
薄膜多層基板及び電子装置Info
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Abstract
子として使用されるピンの接合部分の強度を確保できる
ようにすることを目的とする。 【解決手段】 絶縁性の基板母材12と、該基板母材上
に設けられた複数の導体層18b〜18fと複数の絶縁
体層20a〜20eとからなる薄膜構造14と、該薄膜
構造内に設けられ、該薄膜構造の複数の導体層の一つに
接続されるビア構造22と、該ビア構造に接続されるピ
ン16とを備え、該ビア構造の底部は該基板母材上に直
接積層された複数の導体層24a〜24fからなるとと
もに該ビア構造上に該ピンが固着される構成とする。
Description
して利用している薄膜多層基板及び電子装置に関する。
並びにLSIの多端子化や微細化に対応して、薄膜多層
基板が使用されている。薄膜多層基板は、絶縁性の基板
母材と、該基板母材に設けられた複数の導体層と複数の
絶縁体層とからなる薄膜構造とからなり、各導体層の層
間をビア構造(ビアホール)で接続することにより、微
細ピッチ配線を行うのに適している。
ナやムライト等の無機材料が使用される。あるいは、そ
のような基板母材として、FR4などの有機材料を使用
することもできる。薄膜構造は銅やアルミニウムなどの
導体層と、ポリイミドやエポキシなどの絶縁層を積層し
て作られており、導体層は電源供給や信号配線のための
パターンとして形成され、異なった導体層はビア構造で
接続される。
SIチップ等の電子部品や抵抗やキャパシタ等がパッド
に接続される。さらに、薄膜多層基板は入出力端子とし
てピンを含む。ピンもLSIチップと同様に、薄膜構造
の表面のパッドに接続される。例えば、図5は薄膜構造
にピンを設ける従来技術を示す図である。図5におい
て、薄膜多層基板110の基板母材112上の薄膜構造
114は、複数の導体層118b〜118fと複数の絶
縁体層120a〜120eとからなる。入出力端子とし
てのピン116は薄膜構造114の表面のパッド124
に搭載され、薄膜構造114に設けたビア構造122に
よって複数の導体層の一つに接続される。ビア構造12
2は表面にある絶縁層から接続すべき導体層まで掘り下
げることによって形成される。ビア構造122の下に
は、導体層118e,118fが信号配線等として形成
されている。こうして、薄膜多層基板は、LSI等の電
子部品とともにマルチチップモジュール等の電子装置と
して使用される。このような電子装置は、入出力端子と
してのピンによってプリント基板やマザーボートに取り
付けて使用される。LSIチップと入出力ピンは同一面
に搭載されるものと別々(両面)に実装されるものとが
ある。
て、特開平5−283557号公報、特開平6−137
55号公報、特開平7−79078号公報、特開平7−
86737号公報等がある。ただし、これらの従来技術
は本発明に特に参考になるものとは言えない。
ンは薄膜構造の表面のパッドに取り付けられ、薄膜構造
に設けたビア構造によって複数の導体層の一つに接続さ
れる。薄膜構造の表面のパッドの面積はピンの下端部の
面積よりもわずかに大きく、ピンはパッドにはんだ付け
されることができる。一方、ビア構造は通常層間の接続
を行うのに用いる微細な構造であり、薄膜構造の表面に
パッドを有するような広い面積を確保できる場合には複
数層間を接続するような多層のビア構造とすることがで
きる。しかし、薄膜構造の表面から所望の導体層まで接
続するビア構造は、パッドの面積に対して非常に微細な
構造であり、パッドとビア構造との面積差が非常に大き
い。
く、薄膜構造の導体層及び絶縁層が配置されている。ま
た、ビア構造は接続すべき導体層までしか延びておら
ず、その導体層の下には絶縁層を介して別の導体層、す
なわち多数の信号配線が配置される。薄膜多層基板を含
む電子装置をプリント基板等に取り付ける場合、ピンの
他端部をプリント基板にはんだ付けで接続する方法があ
る。この場合、はんだを溶かさない限り電子装置をプリ
ント基板から取り外したり交換したりすることはできな
い。一方、顧客の機器使用頻度は非常に高くなってお
り、修理や高性能品との交換に要する時間もできるだけ
短いことが望ましい。また、交換も特殊工具や特殊技術
を必要としないことがよい。
多層基板を含む電子装置をソケットやコネクタに装着で
きる構造が望まれる。この場合ピンとプリント基板との
導通を、ソケットのコンタクトをピンに圧接することの
みではんだ付けするのと同程度確保しなければならな
い。そのために、こじるような力が常時ピンへ付与され
るようになり、はんだ付けにより接続する場合に比べて
数十倍の力が加わることになってしまう。薄膜多層基板
では、高温高湿の悪環境下で荷重を受けると、絶縁層材
料の吸湿により絶縁層と導体層との間の界面で密着力が
低下し、長期信頼度を満足できる強度を保持できなかっ
た。しかしながら、従来の薄膜多層基板では微細な多端
子配線を得るための工夫が優先され、ピン及びビア構造
において生じる強度の問題には工夫がなかった。
れるピンの接合部分の強度を確保できるようにした薄膜
多層基板及びそれを含む電子装置を提供することであ
る。
板は、絶縁性の基板母材と、該基板母材に設けられた複
数の導体層と複数の絶縁体層とからなる薄膜構造と、該
薄膜構造内に設けられ、該薄膜構造の複数の導体層の一
つに接続されるビア構造と、該ビア構造に接続されるピ
ンとを備え、該ビア構造の底部は該基板母材上に直接積
層されるとともに該ビア構造上に該ピンが固着されるこ
とを特徴とするものである。
な薄膜多層基板とともに、薄膜構造の表面に配置される
少なくとも一つの電子部材を含むことを特徴とするもの
である。上記構成においては、ビア構造は該基板母材上
に積層された複数の導体層からなるものであり、ピンは
基板母材に直接に支持されているのと同等の剛性で支持
される。また、入出力端子としてのピンの下方でビア構
造の部分には絶縁層がない。絶縁層が吸湿する材料で作
られる場合には、ピンからそのような部位へ力がかかる
と、絶縁層と導体層との間の界面での密着力が低下する
問題があるが、本発明ではピンから力がかかるような部
位に絶縁層と導体層との間の界面がないので、そのよう
な密着力の低下がなく、十分な強度を長期間保持するこ
とができる。よって、ピンが常時力を受けるような環境
においても、十分な強度を有する薄膜多層基板及び電子
装置を提供できる。
のとすることができる。該ビア構造の複数の導体層は、
該薄膜構造の導体層はそれぞれが直接に積層される。す
なわち、該ビア構造は絶縁層を含まない。該ビア構造の
複数の導体層の各々の面積は該ピンの端部の面積と同じ
かそれよりも大きい。
母材に近い導体層から該基板母材から遠ざかる導体層へ
順に大きくなる。該ビア構造の複数の導体層の該基板母
材から最も遠い導体層は、ニッケルメッキ及び金メッキ
を施されている。該薄膜構造の複数の導体層は、該ビア
構造の該基板母材に最も近い導体層並びに該ビア構造に
接続される導体層を除いて、該ビア構造の複数の導体層
の該基板母材から最も遠い導体層の投影面の外側に配置
される。
の導体層の一つは、該ビア構造の複数の導体層の該基板
母材から最も遠い導体層の投影面内では、薄膜構造鉛直
する方向に移動することなく同一層内でビア構造に接続
される。特に、ピンの接続されるパッドから下部のビア
構造へ序序に面積を変化させているため、ピン接合時の
熱応力やコネクタ保持力が負荷されている状態でも、ビ
ア構造に応力の局所集中が発生しない。また、パッド下
に湿度によって大きな物性変化を生じさせる材料(絶縁
層)も存在しないため、強度の著しい経年変化は発生し
ない。従って、高温高湿下といった劣悪環境下でもピン
接合強度は長期的に劣化し続けることはなく、ソケット
やコネクタ挿抜が可能な構造を実現する。さらに、強靱
な耐久力を確保したい場合には、ピン接合後にピン根元
部及び薄膜表面をエポキシやシリコンを主剤とした材料
でコーティングしてもよい。
板10、並びに薄膜多層基板10を含む電子装置30を
示す図である。薄膜多層基板10は絶縁性の基板母材1
2と、基板母材12上に設けられた薄膜構造14と、入
出力端子としてのピン16とを備える。電子装置30
は、薄膜多層基板10及び薄膜多層基板10に搭載され
たLSI等の電子部品32並びに抵抗やキャパシタ等か
らなり、マルチチップモジュールを構成する。電子部品
32は例えばはんだバンプ34により薄膜多層基板10
の表面の導体層(パッド)に接合される。
ピュータのマザーボード40に取り付けられることがで
きる。その際、ピン16がマザーボード40のコネクタ
42、又はプリント基板のスルーホールに挿入され、そ
れによってピン16を介して電子装置30とコンピュー
タとの間で信号等の伝達を行うことができる。また、図
4に示されるように、ピン16がマザーボード40のパ
ッド44にはんだ付けされ、それによってピン16を介
して電子装置30とコンピュータとの間で信号等の伝達
を行うことができる。図3の構成及び図4の構成のいず
れにおいても、ピン16には荷重がかかり、薄膜多層基
板10の薄膜構造14の強度が低下しやすくなるという
問題がある。本発明は以下に述べる構成によってそのよ
うな問題点を解決するものである。
の薄膜構造14は、複数の導体層18b〜18fと複数
の絶縁体層20a〜20eとからなる。絶縁体層20a
〜20eは隣接する2つの導体層18b〜18fを分離
しており、導体層18b〜18fのないところでは絶縁
体層20a〜20eは互いに連続する。図1及び図2は
ピン16の設置部分を拡大して示しており、図3及び図
4に示される電子部品32等の搭載部分は示されていな
い。最上層の絶縁体層20aの上には、電子部品32の
取り付けのためのパッドとなるもう一つの導体層18a
(図1及び図2にはあらわれない)がある。導体層18
a〜18fは、電源供給やグランド及び信号配線のため
のパターンとして形成され、層間のパターンを接続する
ために異なった導体層18a〜18fは絶縁体層20a
〜20eを貫通するビア構造で接続される。
は、アルミナやムライト等の無機材料、あるいは、FR
4などの有機材料を使用することができる。導体層18
a〜18fは銅やアルミニウムなどの金属でつくられ、
パッドとなる導体層18aははんだ濡れ性を改善するた
めにニッケルメッキ及び金メッキを施される。絶縁体層
20a〜20eはポリイミドやエポキシなどの樹脂でつ
くられる。
14の複数の導体層18b〜18fの一つに接続され
る。図1においては、ビア構造22は薄膜構造14の導
体層18cに接続される。図2においては、ビア構造2
2は薄膜構造14の導体層18eに接続される。接続さ
れるべき導体層18b〜18fは電源供給端子やグラン
ド端子及び信号端子のいずれかとなる。
れた複数の導体層24a〜24fからなる。これらの導
体層24a〜24fは、薄膜構造14の導体層18a〜
18fと同時に形成されたものであり、薄膜構造14の
底部にある導体層24fは基板母材12に直接積層され
る。ビア構造22は導体層24a〜24fのうちの階段
状の部分であり、導体層24a〜24fの中央の平坦部
分はピン16の取りつけのためのパッドとなる。ビア構
造22の方がパッドよりも大きい。最上層の導体層24
aは、はんだ濡れ性を改善するためにニッケルメッキ及
び金メッキを施される。薄膜構造14の導体層18a〜
18fは例えばフォトリソグラフィープロセスによりパ
ターニングされるとともに、ビア構造22の導体層24
a〜24fから分離されている。
a〜24fは、薄膜構造14の複数の導体層18a〜1
8fと対応してそれぞれの導体層と同時に形成され、ビ
ア構造22の各導体層24a〜24fはそれぞれが直接
に積層される。ビア構造22は最上方の導体層24aと
基板母材12との間で絶縁層を含まない。ピン16はそ
の下端部に取り付け座部16aを有し、取り付け座部1
6aが最上方の導体層24aにはんだ26によってはん
だ付けされる。
母材12から直に積層された複数の導体層24a〜24
fからなるものであり、ピン16は基板母材12に直接
に支持されているのと同等の剛性で支持される。また、
絶縁層が吸湿する材料で作られる場合には、ピン16か
ら力を受けると絶縁層と導体層との間の界面での密着力
が低下するが、本発明ではピン16の下方のビア構造2
2の部分には絶縁層がないのでそのような密着力の低下
がなく、高温高湿の劣悪条件下でもピン接合強度が劣化
することがなく、十分な強度を長期間保持することがで
きる。
もピン16の下方において薄膜多層基板10の強度の著
しい経年劣化は生じなく、ピン16を図3のコネクタ3
2やスルーホールに挿抜する構造を実現することができ
る。つまり、ピン16をコネクタ32やスルーホールに
挿抜する際には、ピン16に横方向の力がかかるが、本
発明ではピン16に横方向の力がかかっても十分な耐久
性を保持することができる。さらに強靱な耐久構造とす
るためには、ピン16をはんだ付け後にピン16の根元
部及び薄膜表面をエポキシやシリコンを主剤とした材料
でコーティングしてもよい。よって、ピンが常時力を受
けるような環境においても、十分な強度を有する薄膜多
層基板及び電子装置を提供できる。
の複数の導体層24a〜24fの各々の面積はピン16
の下端部の取り付け座部16aの面積と同じかそれより
も大きい。ピン16が最上方の導体層24aにはんだ付
けされるときに、はんだが再凝固するときの引っ張り熱
応力が問題となる。ビア構造の面積が小さいと、引っ張
り応力が絶縁層にまで及び、ポリイミド等の絶縁層で応
力集中が起こり、クラック等を発生する。この実施例の
ように、ビア構造22の面積をピン16の下端部の取り
付け座部16aの面積と同じかそれよりも大きくするこ
とにより、絶縁層にかかる応力集中を緩和させることが
できる。
a〜24fの面積は基板母材12に近い導体層24fか
ら基板母材12から遠ざかる導体層へ順に大きくなって
いる。こうすることによって、ピン16の接合時の熱応
力やコネクタ保持力が負荷されている状態でも、ビア構
造22に応力の局所集中は発生しない。例えば、ピン1
6の直径Dは0.2mm、ピン16の取り付け座部16a
の直径dは0.4mmであるのに対して、最上層の導体層
(パッド)24aの直径Eは0.9mm、最下層の導体層
24fの直径下は0.7mmである。ピン16は一つの薄
膜多層基板10に数千個設けられる。
〜18fは、ビア構造22の基板母材12に最も近い導
体層24f並びにビア構造22に接続される導体層を除
いて、ビア構造22の複数の導体層24a〜24fの基
板母材12から最も遠い導体層24aの投影面の外側に
配置される。つまり、パッドとなる最上方の導体層24
aの下には、接続すべき配線以外の配線を置かなくする
ことにより、ピン16からの力がかかると考えられる範
囲内において絶縁層と導体層との間の界面ができないよ
うにし、応力の集中が生じる可能性を極力低減する。
14の複数の導体層18b〜18fの一つは、ビア構造
22の複数の導体層24a〜24fの基板母材12から
最も遠い導体層24aの投影面内では、薄膜構造22に
鉛直する方向に移動することなく同一層内でビア構造2
2に接続される。つまり、ビア構造22の近傍では信号
の乗り換えを禁止することにより、パターンへの応力集
中も回避可能となる。
薄膜構造上に接続されるピンであっても高温高湿環境に
耐えうる薄膜多層基板及び電子装置を提供できる。
す図である。
す図である。
取り付けたところを示す図である。
取り付けたところを示す図である。
Claims (8)
- 【請求項1】 絶縁性の基板母材と、該基板母材に設け
られた複数の導体層と複数の絶縁体層とからなる薄膜構
造と、該薄膜構造内に設けられ、該薄膜構造の複数の導
体層の一つに接続されるビア構造と、該ビア構造に接続
されるピンとを備え、該ビア構造の底部は該基板母材上
に直接積層されるとともに該ビア構造上に該ピンが固着
されることを特徴とする薄膜多層基板。 - 【請求項2】 該ビア構造の複数の導体層は、該薄膜構
造の複数の導体層と対応し、該ビア構造の該導体層はそ
れぞれが直接積層されることを特徴とする請求項1に記
載の薄膜多層基板。 - 【請求項3】 該ビア構造の複数の導体層の各々の面積
は該ピンの端部の面積と同じかそれよりも大きいことを
特徴とする請求項2に記載の薄膜多層基板。 - 【請求項4】 該ビア構造の複数の導体層の面積は該基
板母材に近い導体層から該基板母材から遠ざかる導体層
へ順に大きくなることを特徴とする請求項3に記載の薄
膜多層基板。 - 【請求項5】 該ビア構造の複数の導体層の該基板母材
から最も遠い導体層は、ニッケルメッキ及び金メッキを
施されていることを特徴とする請求項4に記載の薄膜多
層基板。 - 【請求項6】 該薄膜構造の複数の導体層は、該ビア構
造の該基板母材に最も近い導体層並びに該ビア構造に接
続される導体層を除いて、該ビア構造の複数の導体層の
該基板母材から最も遠い導体層の投影面の外側に配置さ
れることを特徴とする請求項4に記載の薄膜多層基板。 - 【請求項7】 該ビア構造に接続される該薄膜構造の複
数の導体層の一つは、該ビア構造の複数の導体層の該基
板母材から最も遠い導体層の投影面内では、薄膜構造鉛
直する方向に移動することなく同一層内でビア構造に接
続されることを特徴とする請求項4に記載の薄膜多層基
板。 - 【請求項8】 絶縁性の基板母材と、該基板母材に設け
られた複数の導体層と複数の絶縁体層とからなる薄膜構
造と、該薄膜構造の表面に配置される少なくとも一つの
電子部材と、該薄膜構造内に設けられ、該複数の導体層
の一つに接続されるビア構造と、該ビア構造に接続され
るピンとを備え、該ビア構造は該基板母材上に積層され
た複数の導体層からなることを特徴とする電子装置。
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