JPH10289669A

JPH10289669A - カラー陰極線管

Info

Publication number: JPH10289669A
Application number: JP9393197A
Authority: JP
Inventors: Fumio Takahashi; 文雄高橋; Hisamitsu Watanabe; 尚光渡辺
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1997-04-11
Filing date: 1997-04-11
Publication date: 1998-10-27

Abstract

(57)【要約】【課題】フェースプレート１Ａ内面に３色螢光膜４Ｃ
と反射膜４Ｒとからなる螢光面４を形成し、３色螢光膜
４Ｃを透過した電子ビームの多くを反射膜４Ｒで反射さ
せて３色螢光膜４Ｃに再投射し、表示画像の明るさを大
幅に向上させたカラー陰極線管を提供する。【解決手段】パネル部フェースプレート１Ａ内面に形
成される螢光面４と、パネル部内に設けられ、螢光面４
に離間状態で対向配置されるシャドウマスクと、ネック
部内に収納され、電子ビームを放射する電子銃と、ファ
ンネル部外周に装着される偏向ヨークとを有するカラー
陰極線管であって、螢光面４は、少なくとも、緑色、青
色、赤色の３色螢光膜４Ｃと、３色螢光膜４Ｃとフェー
スプレート１Ａ内面との間に設けられる、平均粒径が
０．１乃至１．０μｍの範囲内の金属微粒子を含有し、
投射される電子ビームに対して高い反射特性を有する反
射膜４Ｒとからなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー陰極線管に
係わり、特に、フェースプレート内面に形成した螢光面
を、少なくとも、緑色、青色、赤色の３色螢光膜と電子
ビームに対して高い反射特性の示す反射膜との２重構造
にし、高輝度の表示画像を実現したカラー陰極線管に関
する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、カラー陰極線管においては、フ
ェースパネル内面に螢光面を形成する場合、次のような
工程を経ることによって形成している。

【０００３】まず、カラー陰極線管のフェースプレート
内面に、周知の手段によって黒色カーボン被膜、いわゆ
る、ブラックマトリクス（ＢＭ）を形成する。

【０００４】次に、ブラックマトリクスを形成したフェ
ースプレート内面に、第１色、例えば緑色の螢光体スラ
リーを塗布し、緑色塗布膜を形成する。この緑色塗布膜
上にシャドウマスク（露光マスク）を装着し、緑色塗布
膜にシャドウマスクを通して露光用光を照射し、露光す
る。その後、シャドウマスクを取り除き、露光した緑色
塗布膜を純水を用いて現像し、露光部分を残して未露光
部分を除去する。さらに、残った露光部分を乾燥し、ス
トライプ状またはドット状の緑色螢光膜を形成する。

【０００５】次に、緑色螢光膜を形成したカラー陰極線
管のフェースプレート内面に、第２色、例えば、青色の
螢光体スラリーを塗布し、青色塗布膜を形成する。この
青色塗布膜上にシャドウマスク（露光マスク）を装着
し、青色塗布膜にシャドウマスクを通して露光用光を照
射し、露光する。その後、シャドウマスクを取り除き、
露光した青色塗布膜を純水を用いて現像し、露光部分を
残して未露光部分を除去する。さらに、残った露光部分
を乾燥し、ストライプ状またはドット状の青色螢光膜を
形成する。

【０００６】続いて、緑色螢光膜及び青色螢光膜を形成
したカラー陰極線管のフェースプレート内面に、第３
色、例えば、赤色の螢光体スラリーを塗布し、赤色塗布
膜を形成する。この赤色塗布膜上にシャドウマスク（露
光マスク）を装着し、赤色塗布膜にシャドウマスクを通
して露光用光を照射し、露光する。その後、シャドウマ
スクを取り除き、露光した赤色塗布膜を純水を用いて現
像し、露光部分を残して未露光部分を除去する。さら
に、残った露光部分を乾燥し、ストライプ状またはドッ
ト状の赤色螢光膜を形成する。

【０００７】これらの工程を経て、フェースプレート内
面に、ブラックマトリクスと緑色、青色、赤色の３色螢
光膜とからなる螢光面が形成される。

【０００８】ところで、前記既知のカラー陰極線管にお
いては、フェースプレート内面に、緑色、青色、赤色の
３色螢光膜を形成する場合、螢光面の輝度特性及び螢光
面のフェースプレート内面への被着状態の２つの観点か
ら、３色螢光膜に使用される螢光体粒子の粒子径や３色
螢光膜の膜厚が規定される。即ち、螢光面の輝度特性を
満足する螢光体粒子としてはその平均粒子径が５乃至１
０μｍ程度のものであり、また、３色螢光膜の剥離が生
じない３色螢光膜の膜厚については厚みが螢光体粒子の
２層分程度である１０乃至２０μｍ程度のものになる。
このように、前記既知のカラー陰極線管に用いられてい
る緑色、青色、赤色の３色螢光膜は、膜厚がきわめて薄
いものであることから、３色螢光膜（螢光体粒子）によ
るフェースプレート内面の被覆率は、約９０％程度であ
る。

【０００９】ところで、前記既知のカラー陰極線管は、
電子ビームが緑色、青色、赤色の３色螢光膜に投射され
たとき、３色螢光膜の約９０％程度の被覆率により、投
射された電子ビーム中、３色螢光膜を構成する螢光体粒
子に当たらず、それら螢光体粒子の隙間を通して直接フ
ェースプレート内面に到達するものの割合が５乃至１０
％程度になり、その他にも、３色螢光膜の螢光体粒子間
を散乱しながら透過してしまうものの割合が１０％程度
あって、全電子ビーム中で螢光体粒子の発光に寄与しな
いものの割合は、１５乃至２０％程度にも達する。

【００１０】このように、前記既知のカラー陰極線管
は、３色螢光膜に投射される電子ビームの８０乃至８５
％程度が３色螢光膜を構成する螢光体粒子に当たって、
螢光体粒子の発光に寄与しているもので、螢光体粒子の
発光に寄与しない電子ビームがある分、明るい表示画像
を得ることが難しいものである。

【００１１】このような難点を克服するために、フェー
スプレート内面に形成する螢光面として、フェースプレ
ート内面側に高反射粒子層を形成し、その高反射粒子層
上に緑色、青色、赤色の３色螢光膜を形成した２層構造
のものを用いるカラー陰極線管が特開平６−７６７５４
号によって提案されている。

【００１２】この特開平６−７６７５４号に開示のカラ
ー陰極線管は、フェースプレート内面に螢光面を形成す
る際に、始めに、平均粒径が８．０μｍ程度の緑色螢光
体粒子と平均粒径２．０μｍ程度の酸化ビスマス（Ｂｉ
₂Ｏ₃）微粒子とを含有した緑色螢光体スラリーをフェー
スプレート内面に回転塗布し、フェースプレート内面に
緑色塗布膜を形成し、この緑色塗布膜をシャドウマスク
を用いて露光した後、純水によって現像し、残留した露
光部分を乾燥する際に、比重の大きい酸化ビスマス（Ｂ
ｉ₂Ｏ₃）微粒子をフェースプレート内面に最初に沈着さ
せ、酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）微粒子を主成分とする高
反射粒子層と緑色螢光膜とからなる２層構造のものを形
成し、次に、平均粒径が８．５μｍ程度の青色螢光体粒
子と平均粒径２．０μｍ程度の酸化ビスマス（Ｂｉ
₂Ｏ₃）微粒子とを含有した青色螢光体スラリーをフェー
スプレート内面に回転塗布し、フェースプレート内面に
青色塗布膜を形成し、この青色塗布膜をシャドウマスク
を用いて露光した後、純水によって現像し、残留した露
光部分を乾燥する際に、比重の大きい酸化ビスマス（Ｂ
ｉ₂Ｏ₃）微粒子をフェースプレート内面に最初に沈着さ
せて、酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）微粒子を主成分とする
高反射粒子層と青色螢光膜とからなる２層構造のものを
形成し、次いで、平均粒径が８．７μｍ程度の赤色螢光
体粒子と平均粒径２．０μｍ程度の酸化ビスマス（Ｂｉ
₂Ｏ₃）微粒子とを含有した赤色螢光体スラリーをフェー
スプレート内面に回転塗布し、フェースプレート内面に
赤色塗布膜を形成し、この赤色塗布膜をシャドウマスク
を用いて露光した後、純水によって現像し、残留した露
光部分を乾燥する際に、比重の大きい酸化ビスマス（Ｂ
ｉ₂Ｏ₃）微粒子をフェースプレート内面に最初に沈着さ
せて、酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）微粒子を主成分とする
高反射粒子層と赤色螢光膜とからなる２層構造のものを
形成している。

【００１３】かかる構成を有するカラー陰極線管は、螢
光面を、高反射粒子層と３色の螢光膜とからなる２層構
造にしたことにより、電子銃から放射された電子ビーム
が３色螢光膜に投射された際に、３色螢光膜を構成する
螢光体粒子の間隙を透過した電子ビームの一部が高反射
粒子層で反射され、反射した電子ビームの一部が螢光体
粒子に当たり、その螢光体粒子を発光させるので、高反
射粒子層を有しない螢光面を有するカラー陰極線管に比
べて、螢光面の明るさを向上させることができる。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】前記特開平６−７６７
５４号に開示のカラー陰極線管は、螢光面を、高反射粒
子層と３色の螢光膜とからなる２層構造にしたため、一
応、螢光面の明るさを向上させることができるものの、
高反射粒子層に用いられている酸化ビスマス（Ｂｉ
₂Ｏ₃）微粒子の平均粒径は２．０μｍ程度の比較的大き
な粒径のものであり、しかも、高反射粒子層は３色螢光
膜と同時形成されるものであることから、高反射粒子層
と３色螢光膜との境界が明白でなくなり、高反射粒子層
において３色螢光膜を透過した電子ビームの多くを３色
螢光膜方向に反射させることが難しく、十分な明るさを
備えた表示画像が得られないという問題を有している。

【００１５】本発明は、かかる問題点を解決するもの
で、その目的は、フェースプレート内面に３色螢光膜と
反射膜とからなる螢光面を形成し、３色螢光膜を透過し
た電子ビームの多くを反射膜で反射させて３色螢光膜に
再投射し、表示画像の明るさを大幅に向上させたカラー
陰極線管を提供することにある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明のカラー陰極線管は、フェースプレート内面
に形成される螢光面を、少なくとも、３色螢光膜と、３
色螢光膜とフェースプレート内面との間にあって、平均
粒径が０．１乃至１．０μｍの範囲内の金属微粒子を含
有し、投射される電子ビームに対して高い反射特性を有
する反射膜とによって構成した手段を具備する。

【００１７】かかる手段によれば、フェースプレート内
面と３色螢光膜との間に、平均粒径が０．１乃至１．０
μｍの範囲内にある非常に細かい金属微粒子を含有した
反射膜を設けているので、３色螢光膜に投射され、３色
螢光膜を透過した電子ビームの多くがこの反射膜によっ
て反射され、反射した電子ビームが、再度３色螢光膜に
投射される。このとき、３色螢光膜からは、直接投射さ
れた電子ビームによる発光と、反射膜による反射によっ
て投射された電子ビームによる発光とが得られるので、
３色螢光膜の発光量が増大し、かつ、反射膜の光透過率
が増大して、表示画像の明るさが大幅に向上する。

【００１８】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態において、カ
ラー陰極線管は、パネル部フェースプレート内面に形成
される螢光面と、パネル部内に設けられ、螢光面に離間
状態で対向配置されるシャドウマスクと、ネック部内に
収納され、電子ビームを放射する電子銃と、ファンネル
部外周に装着される偏向ヨークとを有するものであっ
て、螢光面は、少なくとも、緑色、青色、赤色の３色螢
光膜と、３色螢光膜とフェースプレート内面との間に設
けられる、平均粒径が０．１乃至１．０μｍの範囲内の
金属微粒子を含有し、投射される電子ビームに対して高
い反射特性を有する反射膜とからなるものである。

【００１９】本発明の実施の形態の具体例によれば、金
属微粒子は原子番号が７０を超える金属元素の化合物か
らなり、好ましくは、酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）からな
るものである。

【００２０】本発明の実施の形態における特性例によれ
ば、反射膜は光透過率が９０％以上のものである。

【００２１】これら本発明の実施の形態によれば、フェ
ースプレート内面と３色螢光膜との間に、平均粒径が
０．１乃至１．０μｍの範囲内の非常に細かく粉砕した
金属微粒子、具体的に原子番号が７０を超える金属元素
の化合物からなる金属微粒子、好ましくは酸化ビスマス
（Ｂｉ₂Ｏ₃）超微粒子を含有した反射膜を有するので、
３色螢光膜を透過した電子ビームの多くが反射膜によっ
て反射され、反射された電子ビームが、再度３色螢光膜
に投射されるようになる。このとき、３色螢光膜から
は、直接投射された電子ビームによって得られる発光
と、反射膜で反射し、再度投射された電子ビームによっ
て得られる発光とが得られるので、３色螢光膜からの発
光量は前記既知のカラー陰極線管、即ち、前記特開平６
−７６７５４号に開示のカラー陰極線管の３色螢光膜か
らの発光量に比べて増大し、反射膜の光透過率の増大と
相俟って、表示画像の明るさを大幅に向上させることが
できる。

【００２２】この場合、金属微粒子として酸化ビスマス
（Ｂｉ₂Ｏ₃）の超微粒子を用いるようにすれば、超微粒
子化することが容易であって、比較的安価に反射膜を形
成することが可能になる。

【００２３】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。

【００２４】図１は、本発明によるカラー陰極線管の一
実施例の構成の概略を示す断面図である。

【００２５】図１において、１はパネル部、１Ａはフェ
ースプレート、２はネック部、３はファンネル部、４は
螢光面、４Ｃは緑色、青色、赤色の３色螢光膜、４Ｒは
反射膜、５はシャドウマスク、６は内部磁気シールド、
７は偏向ヨーク、８はピュリテイ調整マグネット、９は
センタービームスタティックコンバーゼンス調整用マグ
ネット、１０はサイドビームスタティックコンバーゼン
ス調整用マグネット、１１は電子銃、１２は電子ビーム
である。

【００２６】カラー陰極線管を構成するガラス製の真空
外囲器（バルブ）は、大径のフェースプレート１Ａを有
するパネル部１と、内部に電子銃１１を収納した細長い
円筒状のネック部２と、パネル部１及びネック部２を連
接する略漏斗形状のファンネル部３とからなる。パネル
部１は、フェースプレート１Ａ内面に螢光面４が形成さ
れ、内部に螢光面４に離間状態で対向し、多くの電子ビ
ーム通過孔を有するシャドウマスク５が配置される。螢
光面４は、フェースプレート１Ａ内面側に設けられ、電
子銃１１から投射される電子ビーム１２に対して高い反
射特性を示す反射膜４Ｒと、反射膜４Ｒ上に設けられた
３色螢光膜４Ｃとからなっている。パネル部１とファン
ネル部３の連接部分の内側には内部磁気シールド６が配
置され、ファンネル部３とネック部２の連接部分の外側
に偏向ヨーク７が装着される。電子銃１１から放射され
た３本の電子ビーム１２（図１においては１本だけが図
示されている）が、偏向ヨーク７で所定方向に偏向され
た後、シャドウマスク５の電子ビーム通過孔を通して３
色螢光膜４Ｃに投射される。ネック部２の外側には、ピ
ュリテイ調整マグネット８、センタービームスタティッ
クコンバーゼンス調整用マグネット９、サイドビームス
タティックコンバーゼンス調整用マグネット１０が並設
配置される。

【００２７】前記構成によるカラー陰極線管における動
作、即ち、画像表示動作は、既知のカラー陰極線管にお
ける画像表示動作と全く同じであるので、このカラー陰
極線管における画像表示動作については、その説明を省
略する。

【００２８】次に、図２は、図１に図示されたカラー陰
極線管のフェースプレート１Ａ及び螢光面４の一部Ａの
具体的構成を拡大して示した断面図である。

【００２９】図２において、１３Ｇは緑色螢光膜、１３
Ｂは青色螢光膜、１３Ｒは赤色螢光膜であり、その他、
図１に図示された構成要素と同じ構成要素については同
じ符号を付けている。

【００３０】そして、フェースプレート１Ａ内面には、
フェースプレート１Ａ内面側に設けられた反射膜４Ｒ
と、反射膜４Ｒ上に設けられた３色螢光膜４Ｃとにより
形成された螢光面４が配置される。この場合、反射膜４
Ｒは、平均粒径が０．２μｍの酸化ビスマス（Ｂｉ
₂Ｏ₃）を主成分とするものであり、３色螢光膜４Ｃは、
緑色螢光膜１３Ｇ、青色螢光膜１３Ｂ、赤色螢光膜１３
Ｒを備えるものである。

【００３１】前記構成による螢光面４は、次のような工
程を経ることにより形成される。

【００３２】最初に、３００ｇの市販の酸化ビスマス
（Ｂｉ₂Ｏ₃）粒子と、７１ｇの２８％ケイ酸カリウム
（水ガラス）とを６２９ｇの純水中に加えて混合し、そ
の混合液を粉砕用ボール（φ３ｍｍ、３Ｋｇ）とともに
ボールミルポットに入れ、６日間にわたるボールミルを
行い、平均粒径０．２μｍの酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）
の超微粒子を含有した酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）のスラ
リーを準備する。

【００３３】次に、高圧空気を利用して、この酸化ビス
マス（Ｂｉ₂Ｏ₃）のスラリーをフェースプレート１Ａ内
面にスプレー塗布し、例えば、膜厚０．４μｍ程度（粒
子層で２層程度）の酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）の超微粒
子膜を形成する。この場合、酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）
の超微粒子膜は、白色光による光透過率が、例えば、約
９５％になる。

【００３４】ここで、第１色、例えば緑色螢光体粒子を
含有する緑色螢光体スラリー、第２色、例えば青色螢光
体粒子を含有する青色螢光体スラリー、及び、第３色、
例えば赤色螢光体粒子を含有する赤色螢光体スラリーを
準備する。これら緑色螢光体スラリー、青色螢光体スラ
リー及び赤色螢光体スラリーは、それぞれ既知の組成の
ものでよい。

【００３５】次いで、緑色螢光体スラリーをフェースプ
レート１Ａ内に流し込み、パネル部１を高速回転させ、
フェースプレート１Ａ内面全体に比較的薄い緑色螢光体
層を形成し、形成した緑色螢光体層を乾燥させる。

【００３６】次に、乾燥させた緑色螢光体層上に所定の
パターン形状を持ったシャドウマスク（露光マスク）を
取り付け、シャドウマスクを通して緑色螢光体層に紫外
線を照射し、緑色螢光体層を露光する。

【００３７】次いで、シャドウマスクを取り除き、露光
した緑色螢光体層を温水によって水洗現像する。このと
き、緑色螢光体層の露光部分が残留し、未露光部分が除
去される。その後、残留した露光部分が乾燥され、図２
に示されるような所定のパターンを持った緑色螢光膜１
３Ｇが形成される。

【００３８】続いて、緑色螢光膜１３Ｇが形成されたフ
ェースプレート１Ａ内に青色螢光体スラリーを流し込
み、パネル部１を高速回転させ、フェースプレート１Ａ
内面全体に比較的薄い青色螢光体層を形成し、形成した
青色螢光体層を乾燥させる。

【００３９】次に、乾燥させた青色螢光体層上に所定の
パターン形状を持ったシャドウマスク（露光マスク）を
取り付け、シャドウマスクを通して青色螢光体層に紫外
線を照射し、青色螢光体層を露光する。

【００４０】次いで、シャドウマスクを取り除き、露光
した青色螢光体層を温水によって水洗現像する。このと
き、青色螢光体層の露光部分が残留し、未露光部分が除
去される。その後、残留した露光部分が乾燥され、図２
に示されるような所定のパターンを持った青色螢光膜１
３Ｂが形成される。

【００４１】同様に、緑色螢光膜１３Ｇ及び青色螢光膜
１３Ｂが形成されたフェースプレート１Ａ内に赤色螢光
体スラリーを流し込み、パネル部１を高速回転させ、フ
ェースプレート１Ａ内面全体に比較的薄い赤色螢光体層
を形成し、形成した赤色螢光体層を乾燥させる。

【００４２】次に、乾燥させた赤色螢光体層上に所定の
パターン形状を持ったシャドウマスク（露光マスク）を
取り付け、シャドウマスクを通して赤色螢光体層に紫外
線を照射し、赤色螢光体層を露光する。

【００４３】次いで、シャドウマスクを取り除き、露光
した赤色螢光体層を温水によって水洗現像する。このと
き、赤色螢光体層の露光部分が残留し、未露光部分が除
去される。その後、残留した露光部分が乾燥され、図２
に示されるような所定のパターンを持った赤色螢光膜１
３Ｒが形成される。

【００４４】このような工程を経て、フェースプレート
１Ａ内面に、反射膜４Ｒとその上に設けられた３色螢光
膜４Ｃとからなる螢光面４が形成され、その後で、螢光
面４上には、既知のようにアルミニウム膜が蒸着され
る。

【００４５】前記構成による本実施例のカラー陰極線管
は、螢光面４を形成する際に、反射膜４Ｒを平均粒径が
０．２μｍの酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）超微粒子によっ
て構成したので、３色螢光膜４Ｃを透過した電子ビーム
の多くを反射膜４Ｒによって反射させ、反射した電子ビ
ームを３色螢光膜４Ｃに再投射させて、３色螢光膜４Ｃ
を構成する３色螢光体粒子に当てることができるので、
３色螢光膜４Ｃを構成する３色螢光体粒子からの発光量
を、既知のこの種のカラー陰極線管、即ち、特開平６−
７６７５４号に開示のカラー陰極線管における３色螢光
体粒子からの発光量に比べて、増大させることができ
る。

【００４６】また、本実施例のカラー陰極線管は、平均
粒径が０．２μｍの酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）超微粒子
によって構成し、電子ビームの反射率を高めたことによ
って、反射膜４Ｒの膜厚を既知のこの種のカラー陰極線
管、即ち、特開平６−７６７５４号に開示のカラー陰極
線管における高反射粒子層の膜厚に比べて薄くすること
ができるので、反射膜４Ｒの光透過率が９０％以上とい
うように、前記高反射粒子層の光透過率に比べて大きく
なり、３色螢光体粒子からの発光量の増大と相俟って、
表示画像の明るさを、特開平６−７６７５４号に開示の
カラー陰極線管における表示画像の明るさに比べて大幅
に向上させることができる。

【００４７】なお、前記実施例においては、反射膜４Ｒ
を構成する酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）超微粒子として、
平均粒径が０．２μｍのものを用いた例を挙げて説明し
たが、本発明に用いられる酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）超
微粒子は平均粒径が０．２μｍのものに限られず、平均
粒径が０．１乃至１．０μｍの範囲内であれば、ほぼ同
様の効果を達成させることができる。

【００４８】即ち、本発明において使用可能な酸化ビス
マス（Ｂｉ₂Ｏ₃）超微粒子の平均粒径は、小さいものほ
どよいが、通常の粒子粉砕手段であるボールミルによる
粉砕手段を用いた場合、平均粒径が０．１μｍ以下の酸
化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）超微粒子を得ることは難しいこ
とから、平均粒径の下限値は０．１μｍであり、一方、
平均粒径が１．０μｍを超えると、反射膜４Ｒにおける
電子ビームの反射率が低下し、薄膜化することが難しく
なることから、平均粒径の上限値は１．０μｍである。

【００４９】また、前記実施例においては、反射膜４Ｒ
を構成する金属微粒子が酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）であ
る例を挙げて説明したが、本発明による金属微粒子は酸
化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）に限られるものではなく、ビス
マス（Ｂｉ）の他に、電子ビームに対する反射率の大き
な金属、即ち、元素番号が７０以上の金属の化合物を用
いることができ、例えば、その例として、タングステン
（Ｗ）、鉛（Ｐｂ）等の金属化合物を用いることができ
る。

【００５０】この場合、反射膜４Ｒを構成する金属微粒
子として、酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）は、安価であっ
て、粒子を粉砕することが容易であることから最も適し
た材料であり、一方、タングステン（Ｗ）の化合物は黒
色であることから、光透過率を大きくすることが難し
く、また、鉛（Ｐｂ）の化合物は人体に悪影響を与える
ことから、使用上制限が生じる。

【００５１】さらに、前記実施例においては、フェース
プレート１Ａ内面にブラックマトリクス（ＢＭ）の形成
する工程を省略して説明したが、勿論、反射膜４Ｒを形
成する前に、通常の手法によってブラックマトリクスを
形成するようにしてもよい。

【００５２】また、前記実施例においては、反射膜４Ｒ
を形成する手段として、水ガラスを用いたビスマス（Ｂ
ｉ₂Ｏ₃）のスラリーのスプレー塗布法を例に挙げて説明
したが、本発明による反射膜４Ｒの形成手段は前述の手
段に限られるものでなく、他の形成手段、例えば、高分
子樹脂や界面活性剤、感光剤等を含有させたビスマス
（Ｂｉ₂Ｏ₃）のスラリーを用いても良く、ビスマス（Ｂ
ｉ₂Ｏ₃）のスラリーをスピン塗布法で形成しても良い。

【００５３】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、フェー
スプレート内面と３色螢光膜との間に、平均粒径が０．
１乃至１．０μｍの範囲内の金属微粒子を含有した反射
膜を設けたことにより、３色螢光膜を透過した電子ビー
ムの多くが反射膜により反射され、反射された電子ビー
ムが再度３色螢光膜に投射されるようになり、３色螢光
膜からは、直接投射された電子ビームによって得られる
発光と、反射膜で反射し、再度投射された電子ビームに
よって得られる発光とが得られるので、３色螢光膜から
の発光量は既知のカラー陰極線管（特開平６−７６７５
４号に開示のカラー陰極線管）の３色螢光膜からの発光
量に比べて増大し、反射膜の光透過率の増大と相俟っ
て、表示画像の明るさを大幅に向上させたカラー陰極線
管が得られるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明によるカラー陰極線管の一実施例の構成
の概略を示す断面図である。

【図２】図１に図示されたカラー陰極線管のフェースプ
レート及び螢光面の一部分Ａの具体的構成を拡大して示
した断面図である。

【符号の説明】

１パネル部１Ａフェースプレート２ネック部３ファンネル部４螢光面４Ｃ緑色、青色、赤色の３色螢光膜４Ｒ反射膜５シャドウマスク６内部磁気シールド７偏向ヨーク８ピュリテイ調整マグネット９センタービームスタティックコンバーゼンス調整用
マグネット１０サイドビームスタティックコンバーゼンス調整用
マグネット１１電子銃１２電子ビーム１３Ｇ緑色螢光膜１３Ｂ青色螢光膜１３Ｒ赤色螢光膜

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】パネル部フェースプレート内面に形成さ
れる螢光面と、前記パネル部内に設けられ、前記螢光面
に離間状態で対向配置されるシャドウマスクと、ネック
部内に収納され、電子ビームを放射する電子銃と、ファ
ンネル部外周に装着される偏向ヨークとを有するカラー
陰極線管において、前記螢光面は、少なくとも、緑色、
青色、赤色の３色螢光膜と、前記３色螢光膜と前記フェ
ースプレート内面との間に設けられる、平均粒径が０．
１乃至１．０μｍの範囲内の金属微粒子を含有し、投射
される電子ビームに対して高い反射特性を有する反射膜
とからなっていることを特徴とするカラー陰極線管。
【請求項２】前記金属微粒子は、原子番号が７０を超
える金属元素の化合物であることを特徴とする請求項１
に記載のカラー陰極線管。
【請求項３】前記金属微粒子は、酸化ビスマス（Ｂｉ
₂Ｏ₃）であることを特徴とする請求項１乃至２に記載の
カラー陰極線管。
【請求項４】前記反射膜は、光透過率が９０％以上の
ものであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか
に記載のカラー陰極線管。