JPH10289488A

JPH10289488A - 円盤状光記録媒体の製造装置及び製造方法

Info

Publication number: JPH10289488A
Application number: JP9245097A
Authority: JP
Inventors: Katsuyuki Itami; 克幸伊丹
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1997-04-10
Filing date: 1997-04-10
Publication date: 1998-10-27

Abstract

(57)【要約】【課題】成形された円盤状光記録媒体基板を良好な状
態で成膜機へと供給して歩留り率を向上させる。【解決手段】各円盤状光記録媒体基板１について、制
御部１２によって成型機３から成膜機５に供給されるま
での時間を計時するとともに、この計時時間を基準時間
と比較する。基準時間を超えた円盤状光記録媒体基板１
は、基板搬送機構１１から取り出されて高温アニール槽
１６においてアニール処理が施された後、基板搬送機構
１１に供給されて成膜機５へと送られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクや光磁
気ディスク等の円盤状光記録媒体（以下、光ディスクと
総称する。）の製造装置及び製造方法の改良に関し、特
に成型機によって成形された光ディスク基板を反射層等
を成膜する成膜装置に対して良好な状態で搬送供給する
ようにした円盤状光記録媒体の製造装置及び製造方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスクは、例えばＰＣ（ポリカーボ
ネート樹脂）、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル樹脂）或いはＰ
ＭＭＡ（ポリメチルメタアクリレート樹脂）等の透明な
合成樹脂を材料とし、成型金型を用いてディスク基板が
成形される。このディスク基板の成形方法としては、合
成樹脂材料を成形金型中に射出して成形する射出成形法
や、成形金型中に充填された樹脂材料を圧縮して成形す
る圧縮成型法或いはこれら射出成形法と圧縮成型法との
複合方法である射出圧縮成型法等の適宜の方法が知られ
ている。

【０００３】成形金型には、そのキャビティ内にマスタ
リング工程、電鋳工程等を経て形成された金属スタンパ
が組み込まれている。ディスク基板には、このスタンパ
の主面に形成されたピットやグルーブに対応した微細な
凹凸が転写形成される。ディスク基板は、成膜機へと供
給されて、そのピット形成面に反射層や記録層等が成膜
形成された後、さらにこれら反射層等を保護層によって
被覆して光ディスクを形成する。成膜機は、例えばピッ
ト形成面に反射特性の優れたアルミ薄膜層を真空蒸着等
によって成膜する。

【０００４】図６は、上述した成形工程から成膜工程へ
とディスク基板１を搬送する従来の光ディスク製造装置
２の搬送工程を説明する概略構成図である。光ディスク
製造装置２においては、成型機３によって成形されたデ
ィスク基板１が、供給機構８によって基板搬送機構４へ
と順次供給され、この基板搬送機構４を介して成膜機５
へと搬送されて供給される。基板搬送機構４は、常温／
常湿環境に保持されたクリーンルーム６内に設置されて
おり、供給機構８により供給されたディスク基板１を載
置する多数個のステーション７と、成型機３側の第１の
ステーション７ａから成膜機５側の第ｎのステーション
７ｎへと載置されたディスク基板１を一定のピッチで順
次搬送する図示しない搬送機構が付設されている。

【０００５】ディスク基板１は、成型機３から基板搬送
機構４の第１のステーション７ａに排出され、以下第２
のステーション７ｂから第ｎのステーション７ｎへと順
次搬送されてこの第ｎのステーション７ｎに付設された
詳細を省略する供給機構９によって成膜機５へと供給さ
れる。基板搬送機構４は、各ステーション７に載置され
たディスク基板１を例えばバキューム吸引によって取り
上げて、次のステーション７へと一定のピッチで送り込
む。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ディスク基板１は、上
述した合成樹脂を材料として成形されることからある程
度の吸湿性や透湿性を有しており、外気に含まれる水分
を吸収する。ディスク基板１は、一定量の水分を吸収し
た場合に膨張して変形や反りが生じて光ディスクのＣ／
Ｎ値を低下させたりエラーレートを増加させる等の問題
を生じさせる。また、ディスク基板１は、一定量の水分
が吸収されて吸湿膨張が生じることにより反射層や記録
層に大きなストレスをかけ、これによって反射層や記録
層の密着性を低下させたりクラックを発生させるといっ
た問題が生じさせる。さらに、ディスク基板１は、吸収
された水分によって反射層や記録層が腐蝕されるといっ
た問題を生じさせる。

【０００７】したがって、光ディスク製造装置２におい
ては、基板搬送機構４によって成型機３から排出された
ディスク基板１を、一定の時間内で成膜機５へと搬送す
るようにしている。ところが、光ディスク製造装置２に
おいては、例えば基板搬送機構４や成膜機５の故障等の
原因によって、成型機３から排出されたディスク基板１
を各ステーション７上に載置して搬送している途中で、
基板搬送機構４が一時的に停止されることがあった。デ
ィスク基板１は、故障の修理を終えて基板搬送機構４が
再起動されるまでの間に、各ステーション７上に放置さ
れることにより外気から一定量以上の水分を吸収してし
まう。

【０００８】光ディスク製造装置２は、基板搬送機構４
の再起動によって、一定量以上の水分を吸収したディス
ク基板１を成膜機５へと供給することから検査工程にお
いて不良判定となる光ディスクを大量に製造してしま
う。このため、光ディスク製造装置２においては、光デ
ィスクの歩留りを低下させて製造コストを上昇させると
いった問題があった。

【０００９】したがって、本発明は、成形されたディス
ク基板を良好な状態で成膜機へと供給することによって
歩留り率を向上させる円盤状光記録媒体の製造装置及び
製造方法を提供することを目的に提案されたものであ
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】この目的を達成する本発
明に係る円盤状光記録媒体の製造装置は、透明な合成樹
脂を材料として円盤状光記録媒体基板を成形する成型機
と、成形された円盤状光記録媒体基板の主面に反射層等
を成膜形成する成膜機と、成型機と成膜機との間に配設
されて成型機から排出された円盤状光記録媒体基板を各
ステーションに載置してそれぞれ一定のピッチで順次搬
送して供給機構を介して成膜機へと供給する基板搬送機
構とを備える。また、円盤状光記録媒体の製造装置は、
各円盤状光記録媒体基板について、成型機から成膜機に
供給されるまでの時間をそれぞれ計時するとともにこの
計時時間が基準の時間を超えた場合に当該円盤状光記録
媒体基板に対応して判定出力を送出する制御部を備え
る。さらに、円盤状光記録媒体の製造装置は、制御部か
ら送出された判定出力に基づいて基準時間を超えた円盤
状光記録媒体基板を基板搬送機構から取り出す基板取出
機構を備えて構成される。

【００１１】また、円盤状光記録媒体の製造装置は、取
出機構により基板搬送機構から取り出した基準時間を超
える円盤状光記録媒体基板にアニール処理を施す高温ア
ニール槽を備えて構成される。

【００１２】以上のように構成された本発明に係る円盤
状光記録媒体の製造装置によれば、成膜機や基板搬送機
構の故障等の原因によって基板搬送機構が停止された場
合において、ステーション上に一定時間を超えて放置さ
れた円盤状光記録媒体基板が自動的に判別されて基板取
出機構により基板搬送機構から取り出される。基準時間
を超える円盤状光記録媒体基板は、高温アニール槽にお
いてアニール処理を施された後再び基板搬送機構に供給
される。したがって、円盤状光記録媒体の製造装置によ
れば、良好な状態の円盤状光記録媒体のみを成膜機へと
供給することから、良品円盤状光記録媒体の製造が行わ
れ歩留り率の向上とコストの低減を達成する。

【００１３】また、上述した目的を達成する本発明に係
る円盤状光記録媒体の製造方法は、透明な合成樹脂を材
料として成型機により成形された円盤状光記録媒体基板
を基板搬送機構によって一定のピッチで順次搬送し、供
給機構を介して成膜機に供給して反射層等を成膜形成す
る。円盤状光記録媒体の製造方法においては、各円盤状
光記録媒体基板について、成型機から排出されて基板搬
送機構により成膜機に供給されるまでの時間をそれぞれ
計時するとともにこの計時時間と基準時間とを比較し、
計時時間が基準時間よりも小さい場合には当該円盤状光
記録媒体基板をそのまま成膜機へ供給して反射層等の成
膜形成を行う。また、円盤状光記録媒体の製造方法にお
いては、計時時間が基準時間よりも大きい場合には当該
円盤状光記録媒体基板を基板搬送機構から取り出して高
温アニール槽に供給してアニール処理を行った後に成膜
機へと供給して反射層等の成膜形成を行う。

【００１４】したがって、本発明に係る円盤状光記録媒
体の製造方法によれば、成型機から排出されて成膜機に
供給されるまでの間において基準時間を超えることによ
って一定量以上の水分を吸湿したいわゆる不良円盤状光
記録媒体基板の成膜機への供給が防止される。したがっ
て、円盤状光記録媒体の製造方法によれば、良好な状態
の円盤状光記録媒体のみを成膜機へと供給して、良品円
盤状光記録媒体の製造が行われ、歩留り率の向上とコス
トの低減が達成される。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施の形
態を図面を参照して詳細に説明する。本発明の実施の形
態として図１に示した光ディスク製造装置１０は、基板
搬送機構１１とその制御部１２の構成並びに制御動作に
特徴を有している。光ディスク製造装置１０は、成型機
３によって成形されたディスク基板１を供給機構８によ
って基板搬送機構１１の第１のステーション７ａへと順
次供給する。光ディスク製造装置１０は、第１のステー
ション７ａに載置されたディスク基板１ａを、詳細を省
略するバキューム吸着・搬送機構によって第２のステー
ション７ｂへと一定の搬送ピッチＰｔによって搬送す
る。

【００１６】光ディスク製造装置１０は、以下この供給
・搬送動作を繰り返して、第ｎのステーション７ｎに載
置されたディスク基板１ｎを供給機構９を介して成膜機
５へと供給する。なお、光ディスク製造装置１０は、成
型機３によって成形したディスク基板１を第１のステー
ション７ａに供給する供給ピッチに対して、基板搬送機
構１１の各ステーション７間の搬送ピッチＰｔが同等若
しくはやや速く設定されることによって、基板搬送機構
１１中でディスク基板１が滞留しないように構成されて
いる。

【００１７】光ディスク製造装置１０には、基板搬送機
構１１の第１のステーション７ａに配設され、成型機３
から供給機構８を介してこの第１のステーション７ａに
ディスク基板１が供給されたことを検知する検出器１３
が備えられている。また、光ディスク製造装置１０に
は、成膜機５に供給される第ｎのディスク基板１ｎを載
置した第ｎのステーション７ｎの直前に位置する第ｍの
ステーション７ｍに対応位置して基板取出機構１４が配
設されている。さらに、光ディスク製造装置１０には、
基板取出機構１４によって取り出された不良品ディスク
基板１７を一時的にストックするストッカ１５と、高温
アニール槽１６とを備えている。

【００１８】基板搬送機構１１は、上述した従来の光デ
ィスク製造装置２と同様に、常温／常湿のクリーンルー
ム６内に設置されている。また、基板搬送機構１１は、
上述したようにディスク基板１を載置する多数個のステ
ーション７ａ乃至７ｎを備えている。第１のステーショ
ン７ａは、供給機構８を介して成型機３によって成形さ
れた第１番目のディスク基板１ａが載置される基板受入
ステーションを構成している。第ｎのステーション７ｎ
は、供給機構９によって載置した第ｎ番目のディスク基
板１ｎが取り出されて成膜機５へと供給される基板供給
ステーションを構成している。なお、基板搬送機構１１
には、後述するように不良品ディスク基板１７をアニー
ル処理した処理済ディスク基板２１を第ｍのステーショ
ン７ｍに供給するたの独立の処理済ディスク基板用ステ
ーション７ｒが設けられている。

【００１９】光ディスク製造装置１０は、例えば成型機
３によって成形されて成膜機５へ供給されるディスク基
板１の基板搬送機構１１内における最大積算滞留時間Ｔ
ｍａｘが１００秒とされる。光ディスク製造装置１０
は、ディスク基板１の基板搬送機構１１内における積算
滞留時間Ｔｎが、この最大積算滞留時間Ｔｍａｘを超え
ない範囲で基板搬送機構１１によって搬送された場合に
おいて、後述するように「良品ディスク基板」と判定す
る。良品ディスク基板１は、良品判定出力Ａが供給機構
９に送出されることによって、成膜機５へと供給され
る。

【００２０】また、光ディスク製造装置１０は、最大積
算滞留時間Ｔｍａｘを超えて基板搬送機構１１中に滞留
されたディスク基板１７について、後述するように「不
良品ディスク基板」と判定する。不良品ディスク基板１
７は、不良判定出力Ｂが基板取出機構１４に送出される
ことにより、この取出機構１４によって基板搬送機構１
１の第ｍのステーション７ｍから取り出される。不良品
ディスク基板１７は、ストッカ１５に一時ストックされ
た後に高温アニール槽１６へと搬送される。

【００２１】不良品ディスク基板１７は、高温アニール
槽１６においてアニール処理が施された後にこの高温ア
ニール槽１６内から取り出され、再び基板搬送機構１１
へと戻されて供給機構９を介して成膜機５へと供給され
る。高温アニール槽１６によるアニール処理は、例えば
槽内の温度条件を５０°乃至１００°、湿度条件を露点
−５°乃至−１５°、所要時間を６０分乃至１２０分の
範囲で設定する。

【００２２】光ディスク製造装置１０は、上述したディ
スク基板１を対象とした判定動作及び各機構の制御動作
が、制御部１２によってシーケンス制御される。制御部
１２は、後述するようにシーケンスデバイスとタイマ１
８とを有するいわゆるプログラマブルシーケンサによっ
て構成されている。シーケンスデバイスは、詳細を図３
を参照して後述するが、基板搬送機構１１の各ステーシ
ョン７にそれぞれ対応したデータレジスタＤ及びフラッ
グレジスタＭとを有している。制御部１２は、検出器１
３から基板検出出力が入力されるとともに、判定動作に
基づいて供給機構９及び基板取出機構１４に対して良品
判定出力Ａ或いは不良品判定出力Ｂを送出する。

【００２３】基板取出機構１４は、基板搬送機構１１の
第ｍのステーション７ｍに対応して配設されている。基
板取出機構１４は、第ｍのステーション７ｍに載置され
た第ｍのディスク基板１ｍが基板搬送機構１１内で最大
積算滞留時間Ｔｍａｘを超えて滞留していることによっ
て不良品ディスク基板１７と判定され、制御部１２から
不良品判定出力Ｂが供給された場合において、この第ｍ
のディスク基板１ｍを基板搬送機構１１から取り出す操
作を行う。基板取出機構１４は、詳細を省略するが、第
ｍのステーション７ｍに載置された不良品ディスク基板
１７を真空吸引するとともに第ｍのステーション７ｍの
側方へと搬送する搬送ロボットによって構成される。不
良品ディスク基板１７は、ストッカ１５に順次ストック
される。

【００２４】ストッカ１５は、図２に示すように、台座
１９と、マウントバー２０等の部材によって構成されて
おり、数百枚の不良品ディスク基板１７をマウントバー
２０に順次嵌合することによってこれらを一時的に蓄積
する。ストッカ１５は、所定枚数の不良品ディスク基板
１７が蓄積されると自動的に図示しない搬送コンベアへ
と押し出されて高温アニール槽１６へと搬送される。な
お、光ディスク製造装置１０は、不良品ディスク基板１
７がこのストッカ１５に蓄積されている間における時間
管理を特に行っていない。

【００２５】不良品ディスク基板１７は、作業者によっ
てストッカ１５が搬送コンベアから取り出されて、この
ストッカ１５を高温アニール槽１６内に搬入されること
により所定のアニール処理が施される。不良品ディスク
基板１７は、このアニール処理より、内部に吸収した余
剰の水分が除湿されることによって良品ディスク基板１
と同等の処理済ディスク基板２１とされる。ストッカ１
５は、高温アニール槽１６から取り出されて基板搬送機
構１１の処理済ディスク基板用ステーション７ｒに供給
される。処理済ディスク基板２１は、処理済ディスク基
板用ステーション７ｒから図示しない取出機構により搬
送ピッチＰｔに対応して取り出されて、第ｍのステーシ
ョン７ｍに順次載置される。なお、光ディスク製造装置
１０は、処理済ディスク基板２１を基板搬送機構１１に
供給するに際して、運転モードの切り換えが行われる。

【００２６】以上のように構成された光ディスク製造装
置１０について、以下、制御部１２によるシーケンス制
御動作を図３乃至図５を参照して説明する。制御部１２
は、上述したように基板搬送機構１１の各ステーション
７に対応してシーケンスデバイスのデータレジスタＤ及
びフラッグレジスタＭが割り振られている。制御部１２
は、ディスク基板１が各ステーション７を順次搬送され
るにしたがって、これらデータレジスタＤとフラッグレ
ジスタＭの値をそれぞれ更新する管理情報シフト動作を
行う。また、制御部１２は、基板搬送機構１１の運転状
態に係わらず、例えば１秒毎のタイミングでデータレジ
スタＤの値を「１」ずつ増加させる方法で更新する管理
情報シフト動作を行う。

【００２７】制御部１２は、図３に示すように第ｎステ
ーション７ｎにおいて、供給機構９がディスク基板１を
成膜機４へと供給するタイミングで積算滞留時間Ｔｎと
最大積算滞留時間Ｔｍａｘとの比較を行う。そして、制
御部１２は、積算滞留時間Ｔｎが最大積算滞留時間Ｔｍ
ａｘを超えないディスク基板１に対して良品判定を行
い、上述したように基板取出機構１４に対して良品判定
出力Ａを送出する。また、制御部１２は、積算滞留時間
Ｔｎが最大積算滞留時間Ｔｍａｘを超えるディスク基板
１７に対して不良品判定を行って基板取出機構１４に対
して不良品判定出力Ｂを送出する。さらに、制御部１２
は、アニール処理が施されて基板搬送機構１１に再供給
される処理済ディスク基板２１に対しても再供給後の積
算滞留時間Ｔｎと最大積算滞留時間Ｔｍａｘとの比較を
行って良否を判定する。

【００２８】上述した制御部１２を構成するシーケンス
デバイスのデータレジスタＤ及びフラッグレジスタＭの
シフト動作について、図４のフローチャートを参照して
説明する。全てのデータレジスタＤ及びフラッグレジス
タＭは、初期値としてその値がそれぞれ０リセットされ
ているものとする（Ｓ−１）。制御部１２は、基板搬送
機構１１が運転状態又は停止状態に係わらず、タイマ１
８から１秒毎のクロック信号Ｔｃを送出している（Ｓ−
２）。制御部１２は、このクロック信号をカウントして
１秒の経過の有無を検出し（Ｓ−３）、１秒が経過する
毎に各フラッグレジスタＭの値が「１」か「０」かの検
出を行う（Ｓ−４）。

【００２９】制御部１２は、フラッグレジスタＭの値が
「１」に対応するデータレジスタＤに対して、それぞれ
の値に「１」を加算する（Ｓ−５）。また、制御部１２
は、フラッグレジスタＭの値が「０」に対応するデータ
レジスタＤについては、それぞれの値を強制的に「０」
にリセットする。制御部１２は、基板搬送機構１１が所
定の搬送ピッチＰｔによって運転されているか否かの検
出を行う（Ｓ−６）。制御部１２は、基板搬送機構１１
が運転されていない場合には、上述した各ステップ動作
がフィードバックして行われる。

【００３０】制御部１２は、成型機３においてディスク
基板１の成形が行われるとともに基板搬送機構１１が所
定の搬送ピッチＰｔで運転された状態（Ｓ−７）におい
て、基板搬送機構１１の所定の搬送ピッチＰｔの間隔
で、各データレジスタＤ及びフラッグレジスタＭのそれ
ぞれの管理情報シフト動作を行う。この場合、第ｉのス
テーション７ｉに対応する第ｉのデータレジスタＤｉ及
びフラッグレジスタＭｉの値は、それぞれＤ_(i+1)、Ｍ
_(i+1)に代入される（Ｓ−８）。

【００３１】制御部１２は、成型機３から基板搬出機構
１１の第ａのステーション７ａに成形されたディスク基
板１が供給されてこれを検出器１３が検出すると、この
検出器１３から基板検出出力が供給される（Ｓ−９）。
制御部１２は、これによって基板搬出機構１１の第ａの
ステーション７ａに対応する第ａのデータレジスタＤａ
の値を「０」リセットするとともに、ディスク基板１の
有無シフト情報として、フラッグレジスタＭを用いて、
第ａのステーション７ａに対応するフラッグレジスタＭ
ａの値を「１」にセットする（Ｓ−１０）。

【００３２】この管理情報のシフト動作において、個別
のディスク基板１に対しては、図４鎖線で示すように第
ａのステーション７ａに供給された後、第ｍのステーシ
ョン７ｍまでのｍ回の搬送動作の間においてそれぞれ行
われている（Ｓ−１１）。また、制御部１２は、検出器
１３から基板検出出力が無い場合には、上述した各ステ
ップ動作のフィードバック動作を行う。

【００３３】制御部１２は、第ｎのステーション７ｎか
ら供給機構９によって第ｎのディスク基板１ｎが成膜機
５へと供給されるタイミングＴｋ（Ｔｋ＝Ｐｔ）で、図
５に示したブロック図による第ｍのステーション７ｍに
載置された第ｍのディスク基板１ｍの判定動作を行う。
なお、制御部１２は、第ｍのステーション７ｍに対応し
たフラッグレジスタＭｍが「０」値に設定されている場
合には、判定動作を省略するようにしてもよい。

【００３４】制御部１２には、シーケンスデバイスの判
定対象となる第ｍのディスク基板１ｍに対応した第ｍの
データレジスタＤｍの値が「Ｍ」に設定され、また第ｍ
のフラッグレジスタＭｍの値が「１」に設定されてい
る。そして、制御部１２においては、この第ｍのデータ
レジスタＤｍの値「Ｍ」について、基準値Ｄｍａｘとの
比較を行う（Ｓ−１２）。基準値Ｄｍａｘは、第ｍのス
テーション７ｍに載置されたディスク基板７ｍを判定対
象とすることから、最大積算滞留時間Ｔｍａｘ＝１００
秒から１搬送ピッチＰｔを引いた値に設定されている。
なお、最大積算滞留時間Ｔｍａｘは、光ディスクの仕様
によって適宜設定される。

【００３５】制御部１２は、データレジスタＤｍの値
「Ｍ」が基準値Ｄｍａｘ値よりも小さいと判定した場合
には、供給機構９に対して良品判定出力Ａを供給する
（Ｓ−１３）。供給機構９は、これによって第ｎのステ
ーション７ｎに載置された第ｎのディスク基板１ｎを成
膜機５へと供給する。光ディスク製造装置１０は、成膜
機５内において供給されたしてディスク基板１に対して
反射層等の成膜を行い（Ｓ−１４）、光ディスク１を完
成する。

【００３６】一方、制御部１２は、データレジスタＤｍ
の値「ｍ」が基準値Ｄｍａｘの値を超えていると判定し
た場合には、基板取出機構１４に対して不良品判定出力
Ｂを供給する。基板取出機構１４は、これによって第ｍ
のディスク基板１ｍを不良品ディスク基板１７として第
ｍのステーション７ｍからストッカ１５へと取り出す
（Ｓ−１５）。不良品ディスク基板１７は、ストッカ１
５に一時的にストックされた後（Ｓ−１６）、高温アニ
ール槽１６へと搬送される。不良品ディスク基板１７
は、高温アニール槽１６内においてアニール処理が施さ
れることにより、この高温アニール槽１６から処理済デ
ィスク基板２１として取り出される（Ｓ−１７）。

【００３７】処理済ディスク基板２１は、処理済ディス
ク基板用ステーション７ｒから第ｍのステーション７ｍ
へと順次搬送される。この場合、制御部１２は、運転モ
ードの切り換えが行われる（Ｓ−１８）。処理済ディス
ク基板２１は、詳細を省略するが、アニール処理を行っ
た後、第ｍのステーション７ｍに供給されるまでの累計
時間が制御部１２によって計時されている。したがっ
て、制御部１２は、この処理済ディスク基板２１につい
ても上述した判定動作を行う。

【００３８】光ディスク製造装置１０は、このために図
示を省略するが、ストッカ１５から取り出された処理済
ディスク基板２１を載置する処理済ディスク基板用ステ
ーション７ｒが多数個によって構成されるとともに、こ
れら各処理済ディスク基板用ステーション７ｒに対応し
て制御部１２のシーケンスデバイスのデータレジスタＤ
及びフラッグレジスタＭが割り振られている。そして、
制御部１２は、処理済ディスク基板２１が処理済ディス
ク基板用ステーション７ｒに供給載置された時点から、
上述したディスク基板１に対するシーケンス制御動作と
同様のシーケンス制御動作を行う。

【００３９】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、設備故障等によって基板搬送機構が停止されてこ
の基板搬送機構内に所定の時間以上に亘って円盤状光記
録媒体基板が滞留されるとともにこれら円盤状光記録媒
体基板が外気から一定量以上の水分を吸湿してしまう事
態が発生した場合においても、これら円盤状光記録媒体
基板が自動的に判別されて基板搬送機構から取り出され
る。したがって、本発明によれば、不良円盤状光記録媒
体基板の成膜機への供給を防止して、良品の円盤状光記
録媒体基板についてのみ成膜機によって成膜処理を行う
ことから良品の円盤状光記録媒体の製造が行われ、歩留
り率の向上とコストの低減が達成される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態として示す光ディスク製造
装置の基本構成図である。

【図２】同光ディスク製造装置に備えられて不良品ディ
スク基板を一時的にストックするストッカを説明する要
部正面図である。

【図３】同光ディスク製造装置において、制御部による
シーケンス制御動作の説明図である。

【図４】同制御部によるシーケンス動作における管理情
報シフト動作を説明するフローチャート図である。

【図５】良品ディスク基板と不良品ディスク基板との判
定動作の説明図である。

【図６】従来の光ディスク製造装置の基本構成図であ
る。

【符号の説明】

１ディスク基板、３成型機、５成膜機、６クリー
ンルーム、７ステーション、８供給機構、９供給
機構、１０光ディスク製造装置、１１基板搬送機
構、１２制御部、１３検出器、１４基板取出機
構、１５ストッカ、１６高温アニール槽、１７不
良品ディスク基板、２１処理済ディスク基板

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成９年８月１５日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１８

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１８】基板搬送機構１１は、上述した従来の光デ
ィスク製造装置２と同様に、常温／常湿のクリーンルー
ム６内に設置されている。また、基板搬送機構１１は、
上述したようにディスク基板１を載置する多数個のステ
ーション７ａ乃至７ｎを備えている。第１のステーショ
ン７ａは、供給機構８を介して成型機３によって成形さ
れた第１番目のディスク基板１ａが載置される基板受入
ステーションを構成している。第ｎのステーション７ｎ
は、供給機構９によって載置した第ｎ番目のディスク基
板１ｎが取り出されて成膜機５へと供給される基板供給
ステーションを構成している。なお、基板搬送機構１１
には、後述するように不良品ディスク基板１７をアニー
ル処理した処理済みディスク基板２１を第ｍのステーシ
ョン７ｍに供給するための独立の処理済ディスク基板用
ステーション７ｒが設けられている。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２１

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２１】不良品ディスク基板１７は、高温アニール
槽１６においてアニール処理が施された後にこの高温ア
ニール槽１６内から取り出され、再び基板搬送機構１１
へと戻されて供給機構９を介して成膜機５へと供給され
る。高温アニール層１６によるアニール処理は、例えば
槽内の温度条件を５０℃乃至１００℃、湿度条件を露点
−５℃乃至−１５℃、所要時間を６０分乃至１２０分の
範囲で設定する。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２７

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２７】制御部１２は、図１及び図３に示すよう
に、第ｎステーション７ｎにおいて、供給機構９がディ
スク基板１を成膜機５へと供給するタイミングで積算滞
留時間Ｔｎと最大積算滞留時間Ｔｍａｘとの比較を行
う。そして、制御部１２は、積算滞留時間Ｔｎが最大積
算滞留時間Ｔｍａｘを超えないディスク基板１に対して
良品判定を行い、上述したように基板取出機構１４に対
して良品判定出力Ａを送出する。また、制御部１２は、
積算滞留時間Ｔｎが最大積算滞留時間Ｔｍａｘを超える
ディスク基板１７に対して不良品判定を行って基板取出
機構１４に対して不良品判定出力Ｂを送出する。さら
に、制御部１２は、アニール処理が施されて基板搬送機
構１１に再供給される処理済ディスク基板２１に対して
も再供給後の積算滞留時間Ｔｎと最大積算滞留時間Ｔｍ
ａｘとの比較を行って良否を判定する。

【手続補正４】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図３

【補正方法】変更

【補正内容】

【図３】

【手続補正５】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図４

【補正方法】変更

【補正内容】

【図４】

【手続補正６】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図６

【補正方法】変更

【補正内容】

【図６】

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明な合成樹脂を材料として円盤状光記
録媒体基板を成形する成型機と、上記円盤状光記録媒体基板に対して反射層等を成膜形成
する成膜機と、上記成型機と成膜機との間に配設され、上記成型機から
排出された上記円盤状光記録媒体基板を各ステーション
に載置してそれぞれ一定のピッチで順次搬送して供給機
構を介して上記成膜機へと供給する基板搬送機構と、上記各円盤状光記録媒体基板について、上記成型機から
成膜機に供給されるまでの時間をそれぞれ計時するとと
もに、この計時時間が基準の時間を超えた場合に当該円
盤状光記録媒体基板に対応して判定出力を送出する制御
部と、上記制御部から送出された判定出力に基づいて上記基準
時間を超えた円盤状光記録媒体基板を上記基板搬送機構
から取り出す基板取出機構とを備えることをことを特徴
とする円盤状光記録媒体の製造装置。
【請求項２】高温アニール槽を備え、上記基準時間を超えた円盤状光記録媒体基板は、上記取
出機構によって上記基板搬送機構から取り出されて上記
高温アニール槽に供給されてアニール処理が施された
後、上記基板搬送機構を介して上記成膜機へと供給され
ることを特徴とする請求項１に記載の円盤状光記録媒体
の製造装置。
【請求項３】上記制御部は、シーケンスデバイスを備
え、上記成型機から上記基板搬送機構の第１のステーション
に上記円盤状光記録媒体基板が排出されることによっ
て、第１のデータレジスタの値を「０」リセットすると
ともに第１のフラッグレジスタの値を円盤状光記録媒体
基板の存在を示すフラッグ「１」をセットし、上記基板搬送機構の運転状態にかかわらず一定の時間で
各ステーションにおける円盤状光記録媒体基板の存在の
有無を確認し、フラッグ「１」がセットされた各ステー
ションに対応するデータレジスタの値を加算更新し、上記基板搬送機構の運転状態において、搬送ピッチ毎に
上記フラッグレジスタの値がフラッグ「１」にセットさ
れていたら上記データレジスタの値を加算更新し、上記成膜機に供給される前に、当該ステーションに対応
する当該データレジスタの値と基準データレジスタの値
とを比較し、上記データレジスタの値が上記基準時間よりも小さい場
合には上記供給機構に対して当該ステーションに載置さ
れた当該円盤状光記録媒体基板を上記成膜機への供給を
許可する判定出力を送出し、上記データレジスタの値が上記基準時間よりも大きい場
合には上記基板取出機構に対して当該ステーションに載
置された当該円盤状光記録媒体基板を上記基板搬送機構
から取り出させる判定出力を送出するシーケンス制御を
行うことを特徴とする請求項１に記載の円盤状光記録媒
体の製造装置。
【請求項４】上記制御部のシーケンス動作は、上記基
準時間を超えて上記取出機構により取り出された後に上
記高温アニール槽に供給されてアニール処理が施された
上記円盤状光記録媒体基板が、上記基板搬送機構を介し
て上記成膜機へと供給される間においても行われること
を特徴とする請求項３に記載の円盤状光記録媒体の製造
装置。
【請求項５】上記基準時間を超えて上記取出機構によ
り順次取り出された上記円盤状光記録媒体基板は、スト
ッカに蓄積された後、上記高温アニール槽に一括して供
給されてアニール処理が施されることを特徴とする請求
項２に記載の円盤状光記録媒体の製造装置。
【請求項６】透明な合成樹脂を材料として成型機によ
り成形された円盤状光記録媒体基板を、基板搬送機構に
よって一定のピッチで順次搬送して供給機構を介して成
膜機に供給し、反射層等を成膜形成する円盤状光記録媒
体の製造方法において、上記各円盤状光記録媒体基板について、上記成型機から
排出されて上記基板搬送機構によって上記成膜機に供給
されるまでの時間をそれぞれ計時するとともにこの計時
時間と基準時間とを比較し、上記計時時間が上記基準時間よりも小さい場合には当該
円盤状光記録媒体基板をそのまま成膜機へ供給し、上記計時時間が上記基準時間よりも大きい場合には当該
円盤状光記録媒体基板を上記基板搬送機構から取り出し
て高温アニール槽に供給してアニール処理を行った後に
成膜機へと供給することを特徴とする円盤状光記録媒体
の製造方法。
【請求項７】上記成型機から上記基板搬送機構の第１
のステーションに上記円盤状光記録媒体基板が排出され
ることによって、第１のデータレジスタの値を「０」リ
セットするとともに第１のフラッグレジスタの値を円盤
状光記録媒体基板の存在を示すフラッグ「１」をセット
し、上記基板搬送機構の運転状態にかかわらず一定の時間で
各ステーションにおける円盤状光記録媒体基板の存在の
有無を確認し、フラッグ「１」がセットされた各ステー
ションに対応するデータレジスタの値を加算更新し、上記基板搬送機構の運転状態において、搬送ピッチ毎に
上記フラッグレジスタの値がフラッグ「１」にセットさ
れていたら上記データレジスタの値を加算更新し、上記成膜機に供給される前に、当該ステーションに対応
する当該データレジスタの値と基準データレジスタの値
とを比較し、上記データレジスタの値が上記基準時間よりも小さい場
合には上記供給機構に対して当該ステーションに載置さ
れた当該円盤状光記録媒体基板を上記成膜機への供給を
許可する判定出力を送出し、上記データレジスタの値が上記基準時間よりも大きい場
合には上記基板取出機構に対して当該ステーションに載
置された当該円盤状光記録媒体基板を上記基板搬送機構
から取り出させる判定出力を送出するシーケンス制御を
行うことを特徴とする請求項６に記載の円盤状光記録媒
体の製造方法。
【請求項８】上記シーケンス制御は、上記基準時間を
超えて上記取出機構により取り出された後に上記高温ア
ニール槽に供給されてアニール処理が施された上記円盤
状光記録媒体基板が、上記基板搬送機構を介して上記成
膜機へと供給される間においても行うことを特徴とする
請求項７に記載の円盤状光記録媒体の製造方法。