JPH10282521A - Reflection type liquid crystal display device - Google Patents

Reflection type liquid crystal display device

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JPH10282521A
JPH10282521A JP9085453A JP8545397A JPH10282521A JP H10282521 A JPH10282521 A JP H10282521A JP 9085453 A JP9085453 A JP 9085453A JP 8545397 A JP8545397 A JP 8545397A JP H10282521 A JPH10282521 A JP H10282521A
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JP
Japan
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layer
film
liquid crystal
display device
crystal display
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Application number
JP9085453A
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Japanese (ja)
Inventor
Masataka Matsute
Takuji Yoshida
卓司 吉田
雅隆 松手
Original Assignee
Sony Corp
ソニー株式会社
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reflection type liquid crystal display device having high reflection factor on a reflection layer and capable of displaying a bright and highly quality image. SOLUTION: Relating to the liquid crystal display device 1, a transparent substrate 2 provided with a transparent electrode 5 is opposed to a counter substrate 3 provided with plural pixel electrodes 7, switching elements 8 for driving these pixel electrodes 7, a reflection layer 10 for reflecting incident light, and a 1/4 wavelength layer 18 through a prescribed gap and a liquid crystal layer 27 including a dichroic coloring matter is formed in the gap. The reflection layer 10 is constituted of a metallic film 12 having a rugged surface and a laminated film 13 formed by laminating plural kinds of dielectric thin films having respectively different refractive indexes on the surface of the film 12.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、反射層による反射率を高めて光の利用効率の向上を図った反射型液晶表示装置に関する。 The present invention relates to relates to a reflective liquid crystal display device having improved light use efficiency by increasing the reflectance by the reflection layer.

【0002】 [0002]

【従来の技術】液晶カラーディスプレイ等の液晶表示装置は、軽量、薄型といった優れた特徴があることから、 The liquid crystal display device such as the Prior Art Liquid crystal color display, light weight, since it is excellent features such as thinness,
小型テレビ、ビデオカメラ、デジタルカメラ等のAV機器や、ワープロ、パソコン等のOA機器のためのディスプレイとして現在広く用いられている。 Small TV, a video camera, and AV equipment such as digital cameras, word processors, have been used widely as a display for OA equipment such as personal computers. ところが、従来の液晶表示装置では、光の利用効率が数%と低いことからバックライトが必要となり、消費電力が高くなってしまうといった改善すべき課題があった。 However, in the conventional liquid crystal display device, a backlight since the light utilization efficiency and low number% is required, power consumption is a problem to be solved, such increases. このような課題に対し、自然光を利用する反射型の液晶表示装置が提案され、実用に供されている。 For such problems, the proposed reflective type liquid crystal display device utilizing a natural light, have been put to practical use.

【0003】このような反射型液晶表示装置においては、表示面を構成するパネルの透過率を高め、かつ反射層の反射率を高めることが明るさを確保するための重要な技術となっており、例えば透明電極の透過率を高めるといった試みがなされている。 In such a reflective liquid crystal display device is an important technique for to increase the reflectivity of increasing the transmittance of the panel constituting the display surface, and the reflective layer to secure the brightness , attempts have been made such as increasing the transmittance of a transparent electrode. また、入射光を反射するための反射層については、反射特性的には銀(Ag)が優れているものの、劣化や経済的考慮から一般的にはアルミニウム(Al)が用いられている。 Further, the reflective layer for reflecting incident light, the reflection characteristic though silver (Ag) is excellent, generally from deterioration and economic considerations have been used aluminum (Al) is. ところが、このようなAlなどからなる金属反射層は傷が付きやすく酸化も起こるので、通常はシリコン酸化膜などの保護膜が必要となる。 However, since such a metal reflective layer made of Al is also occur oxidation easily scratched, usually requires a protective film such as a silicon oxide film.

【0004】また、反射型液晶表示装置として、二色性色素を含有する液晶層を用いたゲストホストモードの装置が知られている。 Further, as a reflection type liquid crystal display device, apparatus of the guest-host mode using a liquid crystal layer containing a dichroic dye are known. この反射型ゲストホスト液晶表示装置は、偏光子を用いないことによって透過率を高め、明るさを高めるようにしたものである。 The reflective guest-host liquid-crystal display device, the transmittance increased by not using the polarizer, is obtained so as to increase the brightness.

【0005】 [0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、反射型液晶表示装置では、前述したように明るさを高めるべく反射率向上が望まれているものの、その反射層上には、 [SUMMARY OF THE INVENTION However, in the reflective type liquid crystal display device, although improved reflectivity to increase the so brightness as described above is desired, in that the reflective layer is
保護膜の形成以外には反射率を上げる目的での成膜はなされておらず、したがって明るさを十分に確保するまでには至っていないのが実状である。 Besides formation of the protective film is actual circumstances that have yet before sufficient not made the film formation for the purpose of increasing the reflectance, thus the brightness of. また、反射型ゲストホスト液晶表示装置においても、装置の構成要素となる各層毎に吸収が起こるため、結果として光の利用効率、 The reflection type guest-host in the liquid crystal display device, since the occurring absorption for each layer as a component of the device, resulting in light utilization efficiency,
すなわち反射率が低くなるといった課題がある。 That there is a problem that the reflectivity decreases. 具体的には、界面での反射やITO電極、液晶層、反射層などで吸収が起こるのである。 Specifically, reflection and ITO electrodes on the interface, the liquid crystal layer, the reflective layer is absorbed happens like. 特に、反射層としては前述したように通常Alを用いているが、これの反射率は90 In particular, although using conventional Al as described above as the reflective layer, the reflectivity of this 90
%程度であり、より高度な明るさを得るためには十分な反射率とはいえないのである。 Is about%, in order to obtain a higher brightness is not said to be sufficient reflectance.

【0006】本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、反射層による反射率を向上し、明るく高画質な表示を可能にする反射型液晶表示装置を提供することにある。 [0006] The present invention has been made in view of the above circumstances, it is an object to provide a reflective liquid crystal display device which improves the reflectance by the reflection layer, enabling bright and high quality display It is in.

【0007】 [0007]

【課題を解決するための手段】本発明者は、前記課題を解決するため鋭意研究を進めた結果、反射型液晶表示装置における反射層に応用した例は知られていないものの、反射率を上げる目的で誘電体膜をオーバーコートする技術があることに考え到り、この技術を反射層に応用するようにして本発明を完成した。 The present inventors SUMMARY OF THE INVENTION, the assignment result of intensive studying to solve, but the reflection type liquid crystal display example of applying the reflective layer in the device is not known, increase the reflectivity Italy believed that there is a technique for overcoating dielectric film for the purpose, and completed the present invention so as to apply this technique to the reflection layer.

【0008】すなわち、本発明における請求項1記載の反射型液晶表示装置では、透明電極を備えた透明基板と、複数の画素電極およびこれら画素電極を駆動するスイッチング素子を備えるとともに入射光を反射させる反射層および1/4波長層を形成した対向基板とを所定の間隙を介して対向させ、該間隙に二色性色素を含有する液晶層を形成してなり、前記反射層が、凸凹面を有して形成された金属膜と、屈折率の異なる複数種の誘電体薄膜が前記金属膜の上に積層されて形成された積層膜と、 Namely, in the reflection type liquid crystal display device according to claim 1, wherein in the present invention reflects the incident light with comprising transparent and the substrate having a transparent electrode, a switching element for driving a plurality of pixel electrodes and the pixel electrodes and a counter substrate provided with the reflective layer and the 1/4 wavelength layer is opposed via a predetermined gap, it forms a liquid crystal layer containing a dichroic dye in the gap, wherein the reflective layer is an irregular surface a metal film formed has a laminated film in which a plurality of kinds of dielectric thin films having different refractive index is formed by laminating on the metal film,
から構成されたことを前記課題の解決手段とした。 That it is constituted from a solution of the above problems.

【0009】この反射型液晶表示装置によれば、反射層が、凸凹面を有して形成された金属膜と、屈折率の異なる複数種の誘電体薄膜からなる積層膜とによって構成されているので、例えば以下に述べる原理に基づいて積層膜の構成を設定することにより、金属膜単層による反射層の場合に比べ、その反射率を高めることが可能になる。 According to the reflection type liquid crystal display device, the reflective layer is constituted with a metal film that is formed with an uneven surface, by a laminated film composed of a plurality of kinds of dielectric thin films having different refractive index since, by setting the structure of the multilayer film based on the principle described below, for example, compared with the case of the reflective layer by the metal film monolayer, it is possible to increase its reflectivity.

【0010】一般に、薄膜により反射率Rを高めるためには、以下に示す式(1)、式(2)を満足させるようにすればよいことが知られている。 [0010] Generally, in order to increase the reflectance R by a thin film is given by the following Expression (1), it is known that it suffices to satisfy the equation (2). すなわち、図5に示すように屈折率がn 0の薄膜T 0 、屈折率がn 1の薄膜T That is, the thin film T 0 of the refractive index n 0 as shown in FIG. 5, the thin film T of the refractive index n 1 1 、屈折率がn 2の薄膜T 2が入射側と反対の側からこの順に積層されている場合、 R=(n 1 2 −n 02 /n 1 2 +n 022 …(1) n 11 =(λ/4)(2k+1) …(2) (ただし、d 1は薄膜T 1の厚さ、λは入射光の波長、 1, when the refractive index of the thin film T 2 of the n 2 are laminated in this order from the side opposite to the incident side, R = (n 1 2 -n 0 n 2 / n 1 2 + n 0 n 2) 2 ... ( 1) n 1 d 1 = ( λ / 4) (2k + 1) ... (2) ( provided that, d 1 is the thickness of the film T 1, lambda is the wavelength of the incident light,
kは0または正の整数である。 k is 0 or a positive integer. ) ここで、T 0を金属膜とし、T 2が空気層(すなわちn ) Here, the T 0 as a metal film, T 2 is an air layer (i.e. n
2 =1)であると考えた場合に、n 1 >n 0であれば、 When considered with 2 = 1) is, if n 1> n 0,
金属膜T 0と薄膜T 1とからなる積層膜の反射率Rは、 The reflectance of the laminated film made of a metal film T 0 and the thin film T 1 Tokyo R is
薄膜T 1がなく金属膜T 0単層の場合の反射率より高くなる。 Higher than the reflectance in the case of the metal film T 0 monolayer without film T 1.

【0011】また、T 0が金属膜である場合、この膜において吸収が起こるので、その屈折率は複素数で表され、n−ikとして扱われる。 Further, if T 0 is a metal film, since the absorption in this layer occurs, the refractive index is represented by a complex number, it is treated as n-ik. 例えば金属膜T 0の上に、屈折率がn 1の誘電体膜T 1と屈折率がn 2の誘電体膜T 2とをそれぞれの膜厚が(λ/4)の厚さとなるように二層コーティングしたとき、その反射率は、 R=〔{1−(n 1 /n 22 (n−ik)}/{1+ For example on the metal film T 0, as the dielectric film T 1 and the refractive index of the refractive index n 1, each of the film thickness and the dielectric film T 2 of the n 2 is the thickness of (λ / 4) when two-layer coating, the reflectivity, R = [{1- (n 1 / n 2 ) 2 (n-ik)} / {1+
(n 1 /n 22 (n−ik)}〕 2となる。 (N 1 / n 2) 2 (n-ik)} ] 2 become.

【0012】本発明における請求項2記載の反射型液晶表示装置では、透明電極を備えた透明基板と、複数の画素電極およびこれら画素電極を駆動するスイッチング素子を備えるとともに入射光を反射させる反射層および1 [0012] In the reflection type liquid crystal display device according to claim 2 of the present invention, the transparent and the substrate having a transparent electrode, the reflective layer for reflecting incident light provided with a switching element for driving a plurality of pixel electrodes and the pixel electrodes and 1
/4波長層を形成した対向基板とを所定の間隙を介して対向させ、該間隙に二色性色素を含有する液晶層を形成してなり、前記反射層が、凸凹面を有して形成された凸凹層と、屈折率の異なる複数種の誘電体薄膜が前記凸凹層の上に多層積層されて形成された多層積層膜と、から構成された前記課題の解決手段とした。 / 4 was an opposing substrate provided with the wavelength layer are opposed to each other via a predetermined gap, it forms a liquid crystal layer containing a dichroic dye in the gap, wherein the reflective layer has an irregular surface formed and uneven layers, plural kinds of dielectric thin films having different refractive index is a solution of the above problems, which is composed of a multilayer laminated film that is formed by multi-layer stack on the uneven layer.

【0013】この反射型液晶表示装置によれば、反射層が、凸凹面を有して形成された凸凹層と、屈折率の異なる複数種の誘電体薄膜が前記凸凹層の上に多層積層されて形成された多層積層膜とによって構成されているので、例えば以下に述べる原理に基づいて多層積層膜の構成を設定することにより、反射層の反射率を高めることが可能になる。 According to the reflection type liquid crystal display device, the reflective layer, and the uneven layer that is formed with an uneven surface, a plurality of kinds of dielectric thin films having different refractive index is a multilayer laminated on the uneven layer which is configured by a multi-layered film formed Te, by setting the configuration of a multilayer laminated film based on the principles discussed below, for example, it is possible to increase the reflectance of the reflective layer.

【0014】誘電体薄膜を、屈折率が高い薄膜T H (屈折率;n H )と、屈折率が低い薄膜T L (屈折率; [0014] The dielectric thin film, a high refractive index thin film T H (refractive index: n H) and has a low refractive index thin film T L (refractive index;
L )との二種類(すなわち、n H >n L )とし、これら二種類の薄膜を、 T a /T H (T LHq /T 0 {ただし、T aは薄膜T Hと薄膜T Lとからなる多層積層膜(T H (T LH n L) two kinds of (i.e., n H> n L) and then, these two types of thin film, T a / T H (T L T H) q / T 0 { However, T a is a thin T H multilayered film comprising a thin T L (T H (T L T H) q )の上の層となる膜を表し、 It represents a film becomes a layer on top of q),
0は前記多層積層膜の下地となる凸凹層(屈折率;n T 0 is the base of the multilayer laminated film uneven layer (refractive index; n
0 )を表し、qは薄膜T Hと薄膜T Lとの積層数、すなわち正の整数を表す。 Represents 0), q denotes the number of laminated layers, namely a positive integer with the thin T H and the thin film T L. )となるように交互に多層積層した場合に、反射率は、以下に示す式(3)で表される。 When to have multilayer laminated alternately so), the reflectivity is represented by the formula (3) below. R=〔{1−(n H /n L2q (n H /n 0 )}/{1+(n H /n L2q (n H /n 0 )}〕 2 …(3) したがって、このような式から求められる反射率が高い値となるよう、前記多層積層膜の構成を適宜に設定して作製することにより、反射率を向上させることができるのである。 R = [{1- (n H / n L ) 2q (n H / n 0)} / {1+ (n H / n L) 2q (n H / n 0)} ] 2 ... (3) Therefore, this so that the expression value is high reflectance which can be determined from such, by manufacturing by setting the appropriate configuration of the multi-layered film, it is possible to improve the reflectance.

【0015】なお、前記多層膜(T H (T LHq [0015] Incidentally, the multilayer film (T H (T L T H ) q)
中における繰り返し単位である(T It is a repeating unit in the middle (T LH )の膜厚を該繰り返し単位毎に変化させ、各繰り返し単位毎にねらいとする光の波長を変えることにより、広い波長域に亘って高反射率を得ることができる。 L T H) thickness is changed for each said repeating unit of, by changing the wavelength of the light to be aimed at each repeat unit, it is possible to obtain a high reflectivity over a wide wavelength range. すなわち、中心波長をずらした1/4波長型交互多層膜を重ねることにより、 That is, by superimposing the quarter-wave type alternating multilayer film shifted center wavelengths,
広い波長域に亘って高反射率を得ることができるのである。 It is possible to obtain a high reflectivity over a wide wavelength range.

【0016】 [0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の反射型液晶表示装置を詳しく説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The following describes the reflection type liquid crystal display device of the present invention in detail. 図1は、本発明の反射型液晶表示装置の第1実施形態例を示す図であり、図1において符号1はゲストホストモードの反射型液晶表示装置である。 Figure 1 is a diagram showing a first embodiment of the reflection type liquid crystal display device of the present invention, reference numeral 1 in FIG. 1 is a reflective type liquid crystal display device of a guest-host mode. この反射型液晶表示装置1は、アクティブマトリックス方式を採用しマイクロカラーフィルターを内蔵したフルカラー表示の装置であって、透明基板2と対向基板3とが所定の間隙(例えば5μm)を介して互いに対向した状態に配置され、構成されたものである。 The reflective liquid crystal display device 1, a full color display device with a built-in micro color filter employs an active matrix type, opposite to each other and the transparent substrate 2 and the opposing substrate 3 via a predetermined gap (e.g., 5 [mu] m) disposed state, those that are configured.

【0017】透明基板2は、ガラス等の透明基材からなり、光の入射側に配置されるもので、その内面(対向基板3側の面)側にはマイクロカラーフィルタ4、ITO The transparent substrate 2 is made of a transparent substrate such as glass, intended to be arranged on the light incident side, the inner surface of the micro color filter 4 side (the surface of the opposing substrate 3 side), ITO
等の透明導電性膜からなる透明電極5、ポリイミド等からなる配向膜6がこの順に形成配置されている。 Transparent electrode 5 made of a transparent conductive film etc., orientation films 6 made of polyimide or the like is formed in this order. ここで、マイクロカラーフィルタ4は、各画素毎に分割化され異なる色に着色されて形成されている。 Here, the micro color filter 4 is formed by differently colored is divided into each pixel.

【0018】対向基板3は、ITO等の透明導電性膜からなる複数の画素電極7…、およびこれら画素電極7… [0018] The counter substrate 3, a plurality of pixel electrodes 7 made of a transparent conductive film such as ITO ..., and the pixel electrodes 7 ...
を駆動するスイッチング素子8…を備えたものである。 Driving the those having a switching element 8 ....
また、この対向基板3には、スイッチング素子8を覆う層間絶縁膜9の上に反射層10が形成されている。 Moreover, this counter substrate 3, the reflective layer 10 on the interlayer insulating film 9 covering the switching element 8 is formed. この反射層10は、個々の画素電極7に対応して細分化されたもので、図2に示すように上面を凸凹面とした樹脂からなる凸凹層11の上のAlからなる金属膜12と、該金属膜12の上に形成された積層膜13とから構成されたものである。 The reflective layer 10 has been subdivided in correspondence to each pixel electrode 7, a metal film 12 made of Al on the uneven layer 11 made of resin in which the upper surface and uneven surface, as shown in FIG. 2 are those constructed from laminated film 13 formed on the metal film 12.

【0019】凸凹層11は、樹脂膜の表層部が公知のリソグラフィー技術により露光・現像処理されて所定形状、例えば正方形状に分割され、さらに加熱されてこの分割された表層部がリフロー処理されて形成されたものであり、図2に示したように凸部が略球面状に形成されたものである。 The uneven layer 11 has a predetermined shape surface portion of the resin film is exposed and developed by a known lithography technique, for example, is divided into a square shape, it is further heated to be the divided surface layer portion reflow treatment It has been formed, in which the convex portions as shown in FIG. 2 is formed in a substantially spherical shape. 金属膜12は、この凸凹層11の表面にAlが蒸着せしめられて形成されたものであり、このようにして形成されたことによってその表面が凸凹面を有したものとなっている。 Metal film 12, the Al in the surface irregularities layer 11 are those formed are caused to deposition, its surface by being formed in this manner has a one having an uneven surface. 積層膜13は、この例では図2 Laminate film 13, in this example 2
に示すように誘電薄膜としてMgF 2膜14(屈折率; MgF 2 film 14 (refractive index as the dielectric thin film as shown in;
1.38)とZnS膜15(屈折率;2.35)とが用いられ、これらがこの順に、すなわち屈折率の大きいZ 1.38) and ZnS film 15 (refractive index: 2.35) and are used, they are in this order, i.e. a large Z refractive index
nS膜15が上になるようにして蒸着され、積層されて構成されたものである。 nS film 15 is deposited so as to become the top, in which are stacked.

【0020】この積層膜13において、各誘電薄膜(M [0020] In the laminated film 13, the dielectric thin film (M
gF 2膜14、ZnS膜15)は、その厚さが100〜 gF 2 film 14, ZnS layer 15) has a thickness of 100
350nm程度とされる。 It is about 350nm. すなわち、一般に光の可視領域の波長は400〜700nm程度であることから、その下限である400nmの1/4波長である100nm That is, generally the wavelength of the visible region of light is a quarter wavelength of 400nm because it is about 400 to 700 nm, which is the lower limit 100nm
から、上限である700nmの1/2波長である350 From a half wavelength of 700nm which is the upper limit 350
nmの範囲に誘電体薄膜の厚さを設定することにより、 By setting the thickness of the dielectric thin film in the range of nm,
先に示した式(2)を光の可視領域内で満足させることができ、これにより反射率を高めることができるからである。 Equation (2) shown above can be satisfied with light in the visible region, thereby it is possible to increase the reflectivity. そして、このような構成のもとに反射層10は、 Then, the reflective layer 10 on the basis of this configuration,
金属膜12が凸凹面を有していることによって散乱特性を備え、これにより入射光の鏡面反射を防止して画質を改善しているともに、金属膜12上に積層膜13が形成されていることにより、金属膜12単層での反射率より高い反射率を有するものとなっている。 With scattering properties by the metal film 12 has an irregular surface, thereby both have improved image quality by preventing specular reflection of the incident light, the multilayer film 13 on the metal film 12 is formed by, it has to have a higher reflectance than at the metal film 12 monolayers.

【0021】この反射層10の上には、該反射層10、 [0021] On this reflective layer 10, the reflective layer 10,
前記スイッチング素子8を覆って平坦化層16が形成され、この平坦化層16の上にはポリイミド等からなる下地配向層17が形成され、さらにこの下地配向層17の上には1/4波長層18が形成されている。 The planarization layer 16 to cover the switching element 8 is formed, this on the planarizing layer 16 is formed underlying alignment layer 17 made of polyimide or the like, 1/4 wavelength on this underlying orientation layer 17 layer 18 is formed. 1/4波長層18は、高分子液晶膜からなるもので、これの下層に形成された前記下地配向層17によって一軸配向させられたものである。 1/4 wavelength layer 18 is made of a polymer liquid crystal film, in which is uniaxially oriented by the underlying alignment layer 17 formed on the lower layer of this. 1/4波長層18の上には、前記画素電極7…が形成されており、この画素電極7…の上には、これを覆ってポリイミド等からなる配向膜19が形成されている。 On the 1/4 wavelength layer 18, the pixel electrode 7 ... are formed, on the pixel electrode 7 ... of the alignment film 19 made of polyimide or the like covering it are formed.

【0022】前記スイッチング素子8は、ボトムゲート構造の薄膜トランジスタによって形成されたもので、下から順にゲート電極20、ゲート絶縁膜21、半導体薄膜22を重ねた積層構造のものである。 [0022] The switching element 8 has been formed by a bottom-gate thin film transistor, the gate electrode 20 in this order from the bottom, the gate insulating film 21 is of a laminated structure of repeated semiconductor thin film 22. 半導体薄膜22 Semiconductor thin film 22
は、例えば多結晶シリコンから形成されたものであり、 Is intended is formed from, for example, polycrystalline silicon,
ゲート電極20と整合するチャネル領域は上側からストッパ23によって保護されている。 Channel region aligned with the gate electrode 20 is protected by the stopper 23 from the upper side.

【0023】また、このスイッチング素子7を覆う層間絶縁膜9には、一対のコンタクトホール(図示略)が形成されており、これらコンタクトホール内を埋め込んだ状態でソース電極24、ドレイン電極25が形成されている。 Further, the interlayer insulating film 9 covering the switching element 7 is formed a pair of contact holes (not shown), a source electrode 24 by embedding these contact holes state, the drain electrode 25 is formed It is. これらソース電極24、ドレイン電極25は、アルミニウムがパターニングされて形成されたものである。 These source electrode 24, drain electrode 25 is one in which the aluminum has been formed by patterning. 特にドレイン電極25は、前記反射層10の金属膜12に連続した状態に形成されており、これによって該ドレイン電極25と金属膜12とは同電位になっている。 In particular the drain electrode 25, the is formed in a continuous state in the metal film 12 of the reflective layer 10, it is thereby with the drain electrode 25 and the metal film 12 has the same potential. また、前記画素電極7は、平坦化層16、1/4波長層18を貫通して形成されたコンタクトホール26を通じて、ドレイン電極25と電気接続している。 Further, the pixel electrode 7, through a contact hole 26 formed through the planarizing layer 16, 1/4 wavelength layer 18 is electrically connected to the drain electrode 25. したがって、前記反射層10の金属膜12と画素電極7とは、 Thus, the metal film 12 and the pixel electrode 7 of the reflective layer 10,
ドレイン電極25を介して同電位になっており、これによって反射層10と画素電極7との間に位置する平坦化層16や1/4波長層18には、不要な電界が加わらないようになっている。 Has become the same potential via the drain electrode 25, whereby as the planarizing layer 16 and the 1/4 wavelength layer 18 located between the reflective layer 10 and the pixel electrode 7, unnecessary electric field is not applied going on. 一方、ソース電極24には、ビデオ信号等の信号電圧が供給されるようになっている。 On the other hand, the source electrode 24, the signal voltage, such as video signals are supplied.

【0024】前記透明基板2と対向基板3との間隙には、ゲストホスト液晶層27が設けられている。 [0024] gap between the transparent substrate 2 and the opposing substrate 3, the guest host liquid crystal layer 27 is provided. このゲストホスト液晶層27は、負の誘電異方性を有するネマチック液晶28を主体とし、複合型の二色性色素29を所定の割合で含有して構成されたものである。 The guest host liquid crystal layer 27, a nematic liquid crystal 28 having a negative dielectric anisotropy mainly, those constructed to contain a dichroic dye 29 of the composite at a predetermined rate. ここで、 here,
このゲストホスト液晶層27は、透明基板2の配向膜6、対向基板3の配向膜19の間に配置され、これら配向膜6、19により、本例においては電圧無印加状態で垂直配向させられ、電圧印加状態で水平配向に移行するようになっている。 The guest host liquid crystal layer 27, an alignment film 6 of the transparent substrate 2, is disposed between the orientation film 19 of the counter substrate 3, the alignment films 6 and 19 are brought into vertical alignment with no voltage applied state in this example , and procedure proceeds to a horizontal orientation in a voltage applied state.

【0025】このような構成の反射型液晶表示装置1にあっては、反射層10が、凸凹面を有して形成された金属膜12と、屈折率の異なる二種の誘電体薄膜(MgF [0025] In the reflection type liquid crystal display device 1 having such a configuration, the reflective layer 10, a metal film 12 that is formed with an uneven surface, two kinds of dielectric thin film (MgF having different refractive index
2膜14とZnS膜15)からなる積層膜13とによって構成されているので、金属膜12の単層で形成された反射層に比べ、その反射率が高いものとなる。 Which is configured by a 2 layer 14 and the ZnS laminated film 13 consisting of film 15), compared with a reflective layer formed of a single layer of metal film 12, it becomes its reflectivity is high. また、金属膜12が凸凹面を有していることにより散乱特性を備えているので、入射光の鏡面反射を防止して画質を改善することができる。 Further, since the metal film 12 is provided with scattering properties by having an uneven surface, it is possible to improve the image quality by preventing specular reflection of incident light. よって、この反射型液晶表示装置1 Thus, the reflection type liquid crystal display device 1
では、その表示を明るく高画質にすることができる。 In, it can be bright and high-quality the display.

【0026】なお、前記実施形態例では、ゲストホスト液晶層27の配向状態を、電圧無印加状態で垂直配向し、電圧印加状態で水平配向するように構成したが、本発明はこれに限定されることなく、逆に、電圧無印加状態で水平配向し、電圧印加状態で垂直配向するように構成してもよい。 [0026] In the above embodiment, the alignment state of the guest host liquid crystal layer 27, vertically aligned with no voltage applied state, is configured so as to horizontally oriented with a voltage applied state, the present invention is not limited thereto Rukoto no, on the contrary, horizontally oriented when no voltage is applied, it may be configured to vertically aligned with a voltage applied state. また、前記実施形態例では、反射層10 In the above embodiment, the reflective layer 10
における金属膜12の凸凹面を、該金属膜12を凸凹層11の上に成膜することによって形成したが、他に例えば、平坦面に金属膜を形成した後、該金属膜の表層部を酸あるいはアルカリで粗し、該金属膜の表面を凸凹面としてもよい。 The uneven surface of the metal film 12 in, was formed by depositing on the metal film 12 unevenness layer 11, other example, after forming a metal film on a flat surface, the surface portion of the metal film roughening with an acid or alkali, the surface of the metal film may be uneven surface.

【0027】さらに、前記実施形態例では、積層膜13 Furthermore, in the above embodiment, the laminated film 13
をMgF 2膜14とZnS膜15とから形成したが、本発明はこれに限定されることなく、誘電体薄膜として、 The was formed from MgF 2 film 14 and the ZnS layer 15., but the present invention is not limited thereto, as a dielectric thin film,
Al Al 23 (屈折率;1.62)、TiO 2 (屈折率; 2 O 3 (refractive index; 1.62), TiO 2 (refractive index;
2.2〜2.7)、CdS(屈折率;2.6)、SiO 2.2 to 2.7), CdS (refractive index; 2.6), SiO
2 (屈折率;1.46)、CaF 2 (屈折率;1.2 2 (refractive index: 1.46), CaF 2 (index of refraction; 1.2
3)、MgO(屈折率;1.75)、ZrO 2 (屈折率;2.05)などを用いることもでき、また、これら誘電体薄膜を二種でなく三種以上積層することもでき、 3), MgO (refractive index: 1.75), ZrO 2 (refractive index: 2.05) or the like may be used, also, can be laminated three or more rather than two or these dielectric films,
さらには、これら誘電体薄膜をそれぞれ複層ずつ積層することもできる。 Furthermore, it is also possible to stack these dielectric thin films by each double layer.

【0028】次に、本発明の反射型液晶表示装置の第2 Next, a second reflective liquid crystal display device of the present invention
実施形態例について説明する。 For example embodiments will be described. この第2実施形態例が先の第1実施形態例と異なるところは、反射層の構成にある。 The second embodiment is different from the first embodiment previously lies in the structure of the reflective layer. すなわち、この第2実施形態例においては、図3に示すように反射層30が、凸凹面を有して形成された凸凹層31と、屈折率の異なる複数種の誘電体薄膜が前記凸凹層31の上に多層積層されて形成された多層積層膜32とから構成されたものとなっている。 That, in the second embodiment, the reflective layer 30 as shown in FIG. 3, the uneven layer 31 that is formed with an uneven surface, a plurality of kinds of dielectric thin films is the unevenness layer having different refractive index It has become one configured from multi-layered film 32 formed is a multilayer laminated on 31.

【0029】凸凹層31は、先の第1実施形態例における凸凹層11と同じもので、樹脂膜の表層部が露光・現像処理され、さらに加熱によるリフロー処理がなされて、その凸部が略球面状に形成されたものである。 The uneven layer 31 is the same as the concavo-convex layer 11 in the first embodiment of the above, the exposed and developed surface layer portion of the resin film, have been made reflow process by further heating, substantially its protrusion and it is formed in a spherical shape. 多層積層膜32は、この例では誘電薄膜としてAl 23膜(屈折率;1.62)とTiO 2膜(屈折率;2.2〜 Multilayer laminated film 32, Al 2 O 3 film (refractive index: 1.62) as a dielectric thin film in this example and the TiO 2 film (refractive index: 2.2
2.7)とが、互いに交互に蒸着され、それぞれが多層となるようにして積層され、構成されたものである。 2.7), but is deposited alternately with each other, it is laminated such each is a multilayer, in which are configured.

【0030】ここで、この多層積層膜32においても、 [0030] In this case, even in this multi-layer laminate film 32,
各誘電薄膜(Al 23膜、TiO Each dielectric thin film (Al 2 O 3 film, TiO 2膜)は、先の例と同じ理由により、その厚さが100〜350nm程度とされる。 2 film) is the same reason as the previous example, the thickness is about 100 to 350 nm. また、各誘電体薄膜の積層回数、すなわち前記式(3)のqについては、該式(3)から得られる反射率Rが所望する値以上の大きい値となるように設定すればよい。 Further, the number lamination of the dielectric thin films, that is, the q of the formula (3), the formula (3) reflectance R obtained from may be set to be a larger value than a desired value. さらに、多層積層膜32における繰り返し単位となる、一組の誘電体薄膜からなる積層膜(Al 23 Furthermore, the repeating units in the multi-layered film 32, the laminated film (Al 2 O 3 consisting of a pair of dielectric films
膜、TiO 2膜)について、その膜厚を該繰り返し単位毎に変化させ、すなわち、中心波長をずらした1/4波長型交互多層膜を重ね、各繰り返し単位毎にねらいとする光の波長を変えるようにしてもよく、その場合に、広い波長域に亘って高反射率を得ることができる。 Film, the TiO 2 film), the film thickness is changed for each said repeating units, i.e., overlapping quarter-wave type alternating multilayer film shifting a center wavelength, the wavelength of light aimed at each repeat unit It may be changed, in which case, it is possible to obtain a high reflectivity over a wide wavelength range.

【0031】この第2実施形態例の反射型液晶表示装置1にあっては、反射層30が、凸凹面を有して形成された凸凹層31と、屈折率の異なる複数種の誘電体薄膜が多層積層されて形成された多層積層膜32とによって構成されているので、従来のごとく金属膜の単層で形成された反射層に比べ、その反射率が高いものとなる。 [0031] The second In the reflection type liquid crystal display device 1 of the embodiment, the reflective layer 30 is uneven layer 31 that is formed with an uneven surface, a plurality of kinds having different refractive index dielectric thin film There therefore is constituted by a multilayer laminate film 32 is formed by a multilayer laminated, compared with the reflective layer formed of a single layer of conventional as metal film, becomes its reflectivity is high. また、反射層30が凸凹面を有した凸凹層31を下層に配していることにより散乱特性を備えているので、入射光の鏡面反射を防止して画質を改善することができる。 Further, is provided with the scattering characteristic by that arranged uneven layer 31 reflective layer 30 had an uneven surface to the lower layer, thereby improving image quality by preventing specular reflection of incident light. よって、この反射型液晶表示装置では、その表示を明るく高画質にすることができる。 Therefore, in the reflection type liquid crystal display device can be made brighter image quality of the display.

【0032】なお、この第2実施形態例においても、多層積層膜32を構成する誘電体薄膜として、前記のMg [0032] Also in the second embodiment, as the dielectric thin film constituting the multilayer laminated film 32, the above Mg
2やZnS、さらにはCdS、SiO 2 、CaF 2 F 2 and ZnS, further CdS, SiO 2, CaF 2,
MgO、ZrO 2などを用いることもでき、また、これら誘電体薄膜を二種でなく三種以上積層することもできる。 MgO, can also be used as ZrO 2, it may be laminated three or more rather than two or these dielectric films.

【0033】(実験例)前記第1実施形態例の反射層1 The reflective layer (Experimental Example) The first embodiment 1
0における各誘電体薄膜(MgF 2膜14、ZnS膜1 Each dielectric thin film in 0 (MgF 2 film 14, ZnS film 1
5)の厚さを以下のように変えて形成し、試料1〜4を作製した。 The thickness of 5) formed changed as follows, to form Sample 1-4. また、該誘電体薄膜を、MgF 2膜14に代えてAl 23膜とし、ZnS膜15に代えてTiO 2 Further, the dielectric thin film, and the Al 2 O 3 film in place of the MgF 2 film 14, TiO 2 instead of the ZnS film 15
として、試料5を形成した。 As to form sample 5. なお、これら試料1〜試料5については、金属膜13上に各誘電体薄膜を形成し、 Note that these samples 1 to 5, forming each dielectric film on the metal film 13,
該各誘電体薄膜についてはそれぞれ一層ずつ形成した。 Each For respective dielectric thin film was formed by layer.
また、前記第2実施形態例における、反射層30の多層積層膜を構成する各誘電体薄膜(Al 23膜、TiO Further, the in the second embodiment, each of the dielectric thin film (Al 2 O 3 film constituting the multilayer laminated film of the reflective layer 30, TiO
2膜)の厚さを以下のように変えて形成し、試料1〜4 The thickness of 2 film) is formed by changing as follows, Samples 1-4
を作製した。 It was produced. 試料1 膜種;MgF 2膜とZnS膜 厚さ;各120nm 試料2 膜種;MgF 2膜とZnS膜 厚さ;各140nm 試料3 膜種;MgF 2膜とZnS膜 厚さ;各160nm 試料4 膜種;MgF 2膜とZnS膜 厚さ;各180nm 試料5 膜種;Al 23膜とTiO 2膜 厚さ;各140nm 試料6 膜種;Al 23膜とTiO 2膜 厚さ;各140nm 繰り返し積層数;7回 試料7 膜種;Al 23膜とTiO 2膜 厚さ;各140nm 繰り返し積層数;9回 試料8 膜種;Al 23膜とTiO 2膜 厚さ;各140nm 繰り返し積層数;11回 Sample 1 film type; MgF 2 film and ZnS film thickness; the 120nm Sample 2 film type; MgF 2 film and ZnS film thickness; the 140nm Sample 3 film species; MgF 2 film and ZnS film thickness; the 160nm Sample 4 film type; MgF 2 film and ZnS film thickness; the 180nm sample 5 film type; Al 2 O 3 film and the TiO 2 film thickness; the 140nm sample 6 film type; Al 2 O 3 film and the TiO 2 film thickness; each 140nm repeatedly stacking number; seven samples 7 film type; Al 2 O 3 film and the TiO 2 film thickness; the 140nm repeatedly stacking number; 9th sample 8 film type; Al 2 O 3 film and the TiO 2 film thickness; each 140nm repetition number of stacked layers; 11 times

【0034】このようにして作製した試料1〜8について、分光器(大塚電子株式会社製;瞬間マルチ測定システム)によりその反射率を調べた。 [0034] Thus for samples 1-8 were prepared, the spectrometer; was examined reflectance by (manufactured by Otsuka Electronics Co. instantaneous multi measurement system). なお、この反射率の測定については、分光測色法によりXYZ(Yxy)表示系に基づいて行った。 Incidentally, the measurement of the reflectance was based on XYZ (Yxy) display system by spectrophotometry. すなわち、複数のセンサで試料から反射された光を分光し、各波長ごとの反射率を測定する。 That is, the spectral light reflected from the sample at a plurality of sensors, measuring the reflectance of each wavelength. そして、得られたデータをもとに積分計算を行って三刺激値X、Y、Zの三つの値を算出し、これから反射率を求めた。 Then, the tristimulus values ​​obtained data by integrating calculated based on X, Y, and calculates the three values ​​of Z, was calculated therefrom reflectance.

【0035】また、比較のため、図1に示した反射型液晶表示装置1における反射層10の構成から、積層膜1 Further, for comparison, the structure of the reflective layer 10 in the reflection type liquid crystal display device 1 shown in FIG. 1, the laminated film 1
3を除いた構成、すなわち凸凹層11およびAlからなる金属膜12のみから構成された反射層についてもその反射率を調べた。 3 except the structure, i.e. also examine the reflectivity for the reflection layer composed of only the metal film 12 made of uneven layer 11 and Al. 得られた結果を以下に示す。 The results obtained are shown below. 以上の結果より、本発明の反射型液晶表示装置における反射層は、従来のものに比べ反射率が高くなっていることが確認された。 These results, the reflective layer in the reflection type liquid crystal display device of the present invention, it was confirmed that the reflectance over the prior art is high.

【0036】また、試料2の反射層と比較例の反射層について、光の波長ごとの反射率を調べ、得られた結果を図4に示す。 Further, the reflective layer of the comparative example and the reflective layer of the sample 2, examine the reflectance of each wavelength of light, Figure 4 shows the results obtained. 図4に示すように、試料2の反射層は40 As shown in FIG. 4, the reflective layer of the sample 2 40
0〜700nmの可視光領域全域に亘って、比較例のものより高い反射率を有していることが分かった。 Over the entire visible light region of 0~700Nm, it was found to have a higher reflectivity than that of the comparative example. さらに、このような試料1〜試料8の反射層を備えた反射型液晶表示装置に、ビデオ信号を入力して映像を表示させたところ、比較例のものを備えた液晶表示装置に比べ、 Furthermore, the reflective liquid crystal display device having a reflective layer of such samples 1 to 8, was allowed to display an image by inputting a video signal, compared with a liquid crystal display device equipped with that of Comparative Example,
鮮やかなフルカラーの動画を表示させることができ、コントラストの高い画像を得ることができた。 It is possible to display a moving bright full color, it was possible to obtain an image with high contrast.

【0037】 [0037]

【発明の効果】以上説明したように本発明における請求項1記載の反射型液晶表示装置は、反射層を、凸凹面を有して形成された金属膜と、屈折率の異なる複数種の誘電体薄膜からなる積層膜とによって構成したものであるから、金属膜単層による反射層の場合に比べてその反射率を高めることができ、これにより優れた階調表現を可能にすることができる。 Reflection type liquid crystal display device according to claim 1, wherein in the present invention as described in the foregoing, the reflective layer, and a metal film that is formed with an uneven surface, a plurality of kinds having different refractive index dielectric since those constituted by a laminated film composed of the body thin film, it is possible to increase its reflectivity than that of the reflective layer by the metal film monolayer can allow this by excellent gradation expression . また、金属膜が凸凹面を有していることにより散乱特性を備えているので、入射光の鏡面反射を防止して画質を改善することができる。 Further, since the metal film is provided with the scattering characteristic by having an uneven surface, it is possible to improve the image quality by preventing specular reflection of incident light. よって、この反射型液晶表示装置では、その表示を明るく高画質にすることができる。 Therefore, in the reflection type liquid crystal display device can be made brighter image quality of the display.

【0038】請求項2記載の反射型液晶表示装置は、反射層を、凸凹面を有して形成された凸凹層と、屈折率の異なる複数種の誘電体薄膜が前記凸凹層の上に多層積層されて形成された多層積層膜とによって構成したものであるから、従来のごとく金属膜の単層で形成された反射層に比べ、反射層の反射率を高めることができ、これにより優れた階調表現を可能にすることができる。 The reflection type liquid crystal display device according to claim 2, wherein a multilayer reflective layer, and the uneven layer that is formed with an uneven surface, a plurality of kinds of dielectric thin films having different refractive indices on the uneven layer since those constituted by the formed by stacking multilayer laminated film, compared with a reflective layer formed of a single layer of conventional as the metal film, it is possible to increase the reflectance of the reflective layer was thereby excellent It may enable gradation expression. また、 Also,
反射層が凸凹面を有した凸凹層を下層に配していることにより散乱特性を備えているので、入射光の鏡面反射を防止して画質を改善することができる。 Is provided with the scattering characteristic by the reflective layer is disposed on the lower unevenness layer having an uneven surface, it is possible to improve the image quality by preventing specular reflection of incident light. よって、この反射型液晶表示装置では、その表示を明るく高画質にすることができる。 Therefore, in the reflection type liquid crystal display device can be made brighter image quality of the display.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明の反射型液晶表示装置の第1実施形態例の、概略構成を示す要部側断面図である。 [1] of the first embodiment of the reflection type liquid crystal display device of the present invention, it is a side cross-sectional view showing a schematic configuration.

【図2】図1に示した反射型液晶表示装置の反射層を説明するための要部側断面図である。 It is a main portion side sectional view for explaining a reflection layer of the reflection type liquid crystal display device shown in FIG. 1. FIG.

【図3】本発明の反射型液晶表示装置の第2実施形態例における、反射層を説明するための要部側断面図である。 In a second embodiment of the reflection type liquid crystal display device of the present invention; FIG is a main portion side sectional view for explaining the reflecting layer.

【図4】本発明の反射層と比較例の反射層との、可視光領域における反射率を示すグラフ図である。 [4] the reflective layer of the comparative example and the reflection layer of the present invention, is a graph illustrating the reflectance in the visible light region.

【図5】本発明の作用を説明するための図である。 5 is a diagram for explaining the operation of the present invention.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 反射型液晶表示装置 2 透明基板 3 対向基板 5 透明電極 7 画素電極 8 スイッチング素子 10、30 1 reflective type liquid crystal display device 2 transparent substrate 3 facing the substrate 5 a transparent electrode 7 pixel electrode 8 switching elements 10, 30
反射層 11、31 凸凹層 12 金属膜 13 積層膜 14 MgF 2膜 15 ZnS膜 18 1/4波長層 27 ゲストホスト液晶層 29 二色性色素 32 多層積層膜 Reflective layer 11 and 31 uneven layer 12 metal film 13 laminated film 14 MgF 2 film 15 ZnS film 18 1/4 wavelength layer 27 guest-host liquid crystal layer 29 dichroic dye 32 multilayer laminated film

───────────────────────────────────────────────────── ────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】 [Procedure amendment]

【提出日】平成9年6月23日 [Filing date], 1997 June 23,

【手続補正1】 [Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書 [Correction target document name] specification

【補正対象項目名】0014 [Correction target item name] 0014

【補正方法】変更 [Correction method] change

【補正内容】 [Correction contents]

【0014】誘電体薄膜を、屈折率が高い薄膜T H (屈折率;n H )と、屈折率が低い薄膜T L (屈折率; [0014] The dielectric thin film, a high refractive index thin film T H (refractive index: n H) and has a low refractive index thin film T L (refractive index;
L )との二種類(すなわち、n H >n L )とし、これら二種類の薄膜を、 T a /T H (T LHq /T 0 {ただし、T aは薄膜T Hと薄膜T Lとからなる多層積層膜(T H (T LH n L) two kinds of (i.e., n H> n L) and then, these two types of thin film, T a / T H (T L T H) q / T 0 { However, T a is a thin T H multilayered film comprising a thin T L (T H (T L T H) q )の上の層となる膜を表し、 It represents a film becomes a layer on top of q),
0は前記多層積層膜の下地となる凸凹層(屈折率;n T 0 is the base of the multilayer laminated film uneven layer (refractive index; n
0 )を表し、qは薄膜T Hと薄膜T Lとの積層数、すなわち正の整数を表す。 Represents 0), q denotes the number of laminated layers, namely a positive integer with the thin T H and the thin film T L. )となるように交互に多層積層した場合に、反射率は、以下に示す式(3)で表される。 When to have multilayer laminated alternately so), the reflectivity is represented by the formula (3) below. R=〔{1−(n H /n L2q (n H 2 /n 0 )}/{1+(n H /n L R = [{1- (n H / n L ) 2q (n H 2 / n 0)} / {1+ (n H / n L) 2q (n H 2 /n 0 )}〕 2 …(3) したがって、このような式から求められる反射率が高い値となるよう、前記多層積層膜の構成を適宜に設定して作製することにより、反射率を向上させることができるのである。 2q (n H 2 / n 0 )} ] 2 ... (3) Therefore, as the reflectance which can be determined from such expression is a high value, by manufacturing by setting the appropriate configuration of the multi-layered film , it is possible to improve the reflectance.

【手続補正2】 [Amendment 2]

【補正対象書類名】図面 [Correction target document name] drawings

【補正対象項目名】図1 [Correction target item name] FIG. 1

【補正方法】変更 [Correction method] change

【補正内容】 [Correction contents]

【図1】 [Figure 1]

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl. 6識別記号 FI G02F 1/1343 G02F 1/1343 1/137 500 1/137 500 ────────────────────────────────────────────────── ─── front page continued (51) Int.Cl. 6 identifications FI G02F 1/1343 G02F 1/1343 1/137 500 1/137 500

Claims (2)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 透明電極を備えた透明基板と、複数の画素電極およびこれら画素電極を駆動するスイッチング素子を備えるとともに入射光を反射させる反射層および1 1. A transparent substrate having a transparent electrode, the reflective layer reflecting incident light provided with a switching element for driving a plurality of pixel electrodes and the pixel electrodes and one
    /4波長層を形成した対向基板とを所定の間隙を介して対向させ、該間隙に二色性色素を含有する液晶層を形成した反射型液晶表示装置であって、 前記反射層が、凸凹面を有して形成された金属膜と、屈折率の異なる複数種の誘電体薄膜が前記金属膜の上に積層されて形成された積層膜と、から構成されたことを特徴とする反射型液晶表示装置。 / 4 and a counter substrate provided with the wavelength layer is opposed via a predetermined gap, a reflective type liquid crystal display device forming a liquid crystal layer containing a dichroic dye in the gap, wherein the reflective layer is uneven a metal film formed has a surface, the reflection type, wherein a plurality of kinds of dielectric thin films having different refractive index is composed of a multilayer film formed by laminating on the metal film The liquid crystal display device.
  2. 【請求項2】 透明電極を備えた透明基板と、複数の画素電極およびこれら画素電極を駆動するスイッチング素子を備えるとともに入射光を反射させる反射層および1 Wherein the transparent substrate having a transparent electrode, the reflective layer reflecting incident light provided with a switching element for driving a plurality of pixel electrodes and the pixel electrodes and one
    /4波長層を形成した対向基板とを所定の間隙を介して対向させ、該間隙に二色性色素を含有する液晶層を形成した反射型液晶表示装置であって、 前記反射層が、凸凹面を有して形成された凸凹層と、屈折率の異なる複数種の誘電体薄膜が前記凸凹層の上に多層積層されて形成された多層積層膜と、から構成されたことを特徴とする反射型液晶表示装置。 / 4 and a counter substrate provided with the wavelength layer is opposed via a predetermined gap, a reflective type liquid crystal display device forming a liquid crystal layer containing a dichroic dye in the gap, wherein the reflective layer is uneven and uneven layer formed has a surface, and a plurality of kinds of dielectric thin films having different refractive index is composed of a multilayer laminated film that is formed by multi-layer stack on the uneven layer the reflection type liquid crystal display device.
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