JPH10281313A - 薬液切り替え弁及びウエハ洗浄装置 - Google Patents

薬液切り替え弁及びウエハ洗浄装置

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JPH10281313A
JPH10281313A JP8858597A JP8858597A JPH10281313A JP H10281313 A JPH10281313 A JP H10281313A JP 8858597 A JP8858597 A JP 8858597A JP 8858597 A JP8858597 A JP 8858597A JP H10281313 A JPH10281313 A JP H10281313A
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Takuo Matsuda
卓夫 松田
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Miyazaki Oki Electric Co Ltd
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Oki Electric Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数の薬液による洗浄を連続して行うウエハ
洗浄処理において、薬液の置換に要する時間を短縮しス
ループットの向上を計る。 【解決手段】 薬液切り替え弁1は、直管形状の薬液導
入路11と、薬液導入路11の周壁に接続された複数の
開閉弁42a,42b…と、各開閉弁42a,42b…
を介して薬液導入路11に接続された薬液供給管43
a,43b…とを備えている。そして、薬液導入路11
は、薬液の流通方向下流に向かって開口径が狭く形成さ
れ、最も広い開口径を有する一端側が閉じられている。
これによって、薬液導入路11内に死水領域を形成する
ことなく、薬液導入路11内からの薬液の流出速度を向
上させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、薬液切り替え装置
及びウエハ洗浄装置に関し、特には半導体装置の製造工
程でウエハを洗浄する際に用いられるウエハ洗浄装置と
これに備えられた薬液切り替え弁に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造工程で用いられるウエ
ハ洗浄装置の中には、薬液切り替え弁を介して複数の薬
液供給手段を洗浄処理室に接続させたものがある。この
ようなウエハ洗浄処理装置によれば、洗浄処理室内にお
いて複数種類の異なる薬液を用いた各洗浄を行うことが
できる。
【0003】図4(1)は、上記ウエハ洗浄装置に設け
られた薬液切り替え弁の一例を示す側断面図であり、図
4(2)にはこの薬液切り替え弁の平断面図(すなわち
図4(1)におけるA−A’断面)である。これらの図
に示すように、薬液切り替え弁4は、薬液導入路41
と、この薬液導入路41の側壁に接続された複数の開閉
弁42a,42b…と、各開閉弁42a,42b…を介
して薬液導入路41に接続された薬液供給管43a,4
3b…とを備えたものである。
【0004】上記薬液導入路41は、上記各開閉弁42
a,42b…が接続される供給部411と、各供給部4
11間を接続する接続管412とで構成されている。こ
の薬液導入路41の一方の端部は閉じられており、もう
一方の端部は上記洗浄処理室(図示省略)に接続されて
いる。そして、開閉弁42a,42b…は、例えばエア
シリンダーからなるものである。これらの開閉弁42
a,42b…は、エアの導入によって押し下げられたシ
リンダー421によって薬液供給管43a,43b…と
薬液導入路41との連通状態が遮断され、エアの導入を
停止して押し戻されたシリンダー421によって薬液導
入路41と薬液供給管43a,43b…とが連通するよ
うに構成されている。
【0005】上記構成の薬液切り替え弁4では、所望の
薬液を供給する薬液供給管(例えば薬液供給管43a)
が接続された開閉弁(例えば開閉弁42a)を開くこと
によって、薬液導入路41に上記所望の薬液が供給され
る。そして、この薬液はウエハ洗浄装置の洗浄処理室に
導入される。
【0006】しかし、上記構成の薬液切り替え弁4で
は、薬液導入路41を構成する供給部411と接続管4
12との開口形状が必ずしも同一ではないことから、薬
液導入路41内に死水領域が形成される。
【0007】そこで、薬液導入路を均一な開口径を有す
る一本の管体で構成し、この薬液導入路の側壁に薬液供
給管が接続された開閉弁を設けた構成の薬液切り替え弁
が考えられた。この薬液切り替え弁では、開閉弁を閉じ
た状態においては、シリンダーの底面と薬液供給管の側
壁とが同一高さに配置されるようになっている。このよ
うな構成の薬液切り替え弁では、薬液導入路内に死水領
域が形成されることはない。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記構成の切
り替え弁は、1本の薬液導入路を複数の薬液供給管で共
有した構成になっている。このため、この切り替え弁を
備えたウエハ洗浄装置を用いたウエハの洗浄処理におい
て、混ぜ合わせることができない第1の薬液と第2の薬
液とを用いた洗浄工程を連続して行う場合には、先の洗
浄工程で用いた第1の薬液を無害な第3の薬液に置換す
る置換工程を行った後に第2の薬液を用いた洗浄工程を
行う必要がある。この置換工程は、ウエハの洗浄処理全
体のスループットを低下させる要因になる。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の薬液切り替え弁は、直管形状の薬液導入路
と、この薬液導入路に接続された開閉弁と、開閉弁を介
して薬液導入路に接続された薬液供給管とを備えた薬液
切り替え弁であり、上記薬液導入路が薬液の流通方向下
流に向かって開口径が狭く形成されていることを特徴と
している。また、本発明のウエハ洗浄装置は、上記構成
の薬液切り替え弁を介して洗浄処理室に薬液供給手段を
接続してなるウエハ洗浄装置である。
【0010】上記薬液切り替え弁は、直管形状の薬液導
入路の下流程開口径が狭くなっていることから、当該薬
液導入路から排出される薬液の流速が速くなりしかも薬
液導入路内に死水領域が形成されることもない。このた
め、薬液導入路内において薬液の置換が効率良く行わ
れ、置換速度が速くなる。
【0011】したがって、上記ウエハ洗浄装置によるウ
エハの洗浄処理において、ウエハ洗浄を行う場合に薬液
導入路内における薬液の置換工程が短縮される。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した薬液切り
替え弁とウエハ洗浄装置の実施の形態を図面に基づいて
説明する。以下の実施形態においては、上記従来の技術
と同様の構成部分に同一の符号を付し、重複する説明は
省略する。
【0013】(第1実施形態)図1(1)は、第1実施
形態の薬液切り替え弁の側断面図であり、図1(2)は
この薬液切り替え弁の平断面図(すなわち図1(1)に
おけるA−A’断面)である。
【0014】これらの図に示す薬液切り替え弁1は、薬
液導入路11の形状に特徴を有する。すなわち薬液導入
路11は、薬液の流通方向下流に向かってその開口径が
狭くなるように形成されている。この薬液導入路11
は、開口径の異なる配管11a,11b…を開口径の大
きさ順に接続した直管形状に形成されている。そして、
最も大きい開口径を有する管体11fは、隣接する管体
11eとの接続端と反対側の端部が塞がれている。
【0015】また、各配管11a,11bには、開閉弁
42a,42b…を介して薬液供給管43a,43b…
が接続されている。そして、上記薬液導入路11の開口
径は、この薬液供給管43a,43b…の径に対して薬
液導入路11からの薬液の排出が妨げられない程度の大
きさであることとする。上記開閉弁42a,42b…
は、例えばエアシリンダーからなるものである。
【0016】次に、上記薬液切り替え弁1の動作手順
は、上記従来の技術で示した薬液切り替え弁と同様であ
る。すなわち、所望の薬液を供給する薬液供給管(例え
ば薬液供給管43a)に接続された開閉弁(例えば開閉
弁42a)を開き、その他の開閉弁42b,42c…を
閉じることによって薬液導入路11に上記所望の薬液の
みが供給される。
【0017】上記構成の薬液切り替え弁1は、直管形状
の薬液導入路11の下流程開口径が狭くなっていること
から、薬液導入路11から排出される薬液の流速が速く
なり、しかも薬液導入路11内に死水領域が形成される
こともない。また、この切り替え弁1では、各薬液供給
管43a,43b…から供給された薬液が薬液導入路1
1の上流側にも供給され易くなる。このため、薬液供給
管43a,43b…の開閉状態を切り換えることによっ
て薬液導入路11内に異なる薬液を供給した場合に、薬
液導入路11内における薬液の置換が効率良く行われ、
置換速度を速めることができる。供給された薬液が供給
部分よりも上流側で循環し易くなる。
【0018】図2には、この薬液切り替え弁を用いたウ
エハ洗浄装置の構成図を示す。このウエハ洗浄装置は、
半導体基板や液晶ガラス基板等の薄板状のウエハの表面
を洗浄するための装置である。以下に、図2と上記図1
とを用いてウエハ洗浄装置の構成を説明する。このウエ
ハ洗浄装置2は、上記構成の薬液切り替え弁1を介し
て、洗浄処理室22に複数の薬液供給手段21a,21
b…やN2 供給手段21fを接続させてなるものであ
る。
【0019】薬液供給手段21a,21b…のうち、薬
液供給手段21aは薬液Aを供給するものであり、薬液
供給手段21bは薬液Bを、薬液供給手段21cは薬液
Cを、薬液供給手段21dは薬液Dを、さらに薬液供給
手段21eは純水を供給するためのものである。そし
て、薬液供給手段21a,21b…は、薬液タンク21
1a,211b…とこれらに接続された供給ポンプ21
2及び各供給ポンプ212の下流側に配置されたフィル
タ213で構成されている。そして、薬液切り替え弁1
の各薬液供給管(43a,43b…)には、その上流側
から順にN2 供給手段21f,純水を供給する薬液供給
手段21d,薬液Dを供給する薬液供給手段21c,薬
液Cを供給する薬液供給手段21c…が接続されてい
る。
【0020】また、薬液切り替え弁1の薬液導入路11
は、洗浄処理室22の薬液吐出ブロック221に接続さ
れている。
【0021】上記構成のウエハ洗浄装置2を用いたウエ
ハの洗浄の動作手順の一例を説明する。先ず、開閉弁4
2aのシリンダー421を上昇させて薬液供給管43a
と薬液導入路11を連通させる。この際、その他の開閉
弁42b,42c…のシリンダー421を下降させ、各
薬液供給管43b,43c…を閉じた状態にしておく。
そして、薬液供給管43aから薬液導入路11内に薬液
Aを導入する。これによって、洗浄処理室22内に薬液
Aを供給し、薬液Aによるウエハ洗浄を行う。ウエハ洗
浄が終了した後、薬液供給管43aからの薬液の供給を
停止し、開閉弁42aのシリンダー421を降下させて
薬液供給管43aを閉じる。
【0022】次に、純水によるウエハ洗浄工程(すなわ
ちリンス工程)を行う。ここで、上記薬液Aは、純水と
混ぜ合わされることによって強アルカリになりウエハへ
悪影響を及ぼすものであることとする。そこで、上記リ
ンス工程を行う前に、薬液導入路11内の薬液Aを薬液
Aや純水と混ぜ合わせても無害な薬液Bに置換する置換
工程を行う。
【0023】この際、先ず、開閉弁42bのシリンダー
421を上昇させて薬液供給管43bと薬液導入路11
を連通させる。そして、薬液供給管43bから薬液導入
路11内に薬液Bを導入する。これによって、薬液導入
路11内、洗浄処理室22内及びこれらを接続する配管
の内部の薬液Aを薬液Bに置換する。
【0024】上記置換工程が終了した後、薬液供給間4
3bからの薬液Bの供給を停止し、開閉弁42bのシリ
ンダー421を降下させて薬液供給管43bを閉じる。
次いで、開閉弁42fのシリンダー421を上昇させて
薬液供給管43fと薬液導入路11を連通させる。そし
て、薬液供給管43fから薬液導入路11内にN2 を導
入する。これによって、薬液導入路11内の薬液Bを除
去する。
【0025】しかる後、薬液供給管43fからのN2
供給を停止し、開閉弁42fのシリンダー421を降下
させて薬液供給管43fを閉じる。次いで、開閉弁42
eのシリンダー421を上昇させて薬液供給管43eと
薬液導入路11を連通させる。そして、薬液供給管43
eから薬液導入路11内に純水を導入する。そして、洗
浄処理室22内に純水を供給し、ウエハのリンス工程を
行う。
【0026】上記ウエハ洗浄装置2では、上記構成の薬
液切り替え弁1を備えたことによって薬液導入路11内
における薬液の置換効速度を速くすることができるた
め、薬液Aを用いたウエハの洗浄工程と純水を用いたウ
エハのリンス工程との間に行われる薬液Bによる薬液A
の置換工程が短縮される。したがって、複数の薬液を用
いた洗浄工程を連続して行うウエハの洗浄処理におい
て、そのスループットを向上させることが可能になる。
【0027】(第2実施形態)図3(1)は、第2実施
形態の薬液切り替え弁の側断面図であり、図3(2)は
この薬液切り替え弁の平断面図(すなわち図3(1)に
おけるA−A’断面)である。
【0028】これらの図に示す薬液切り替え弁1と上記
第1実施形態で説明した薬液切り替え弁(1)との異な
るところは、薬液の流通方向下流に向かって開口径が狭
く形成されている薬液導入路31の内壁がテーパー状に
なっているところにあり、その他の部分は上記薬液切り
替え弁(1)同様である。そして、この薬液切り替え弁
3の動作手順も、上記薬液切り替え弁(1)と同様であ
る。
【0029】上記構成の薬液切り替え弁3であっても、
上記薬液切り替え弁(1)と同様の効果が得られる。こ
の薬液切り替え弁3では、薬液導入路31の内周壁がテ
ーパー状であるため、上記第1実施形態の薬液切り替え
弁(1)よりもさらに薬液の置換が効率良く行われる。
そして、上記薬液切り替え弁3を用いたウエハ洗浄装置
の構成は、図2の構成図に示したウエハ洗浄装置と同様
である。この薬液切り替え弁1を用いたウエハ洗浄装置
2’であっても、ウエハ洗浄装置(2)と同様の効果が
得られる。
【0030】尚、上記各実施形態で説明した上記各薬液
切り替え弁は、開閉弁を介して配管に薬液供給管を接続
させてなるユニットを繋ぎあわせて構成したものでも良
い。また、各開閉弁は、エアシリンダーからなるものに
限定されるものではなく、電磁弁のようなその他の開閉
弁でも良い。
【0031】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の薬液切り
替え弁によれば、開閉弁を介して薬液供給管が接続され
た直管形状の薬液導入路の開口径を下流程狭くすること
で、薬液導入路内における薬液の置換効率を向上させ、
薬液切り替えに伴う置換工程を短縮することができる。
そして、本発明のウエハ洗浄装置によれば、上記薬液切
り替え弁を設けたことで、異なる薬液を用いた洗浄を連
続して行う場合に薬液の置換工程を短縮し、ウエハの洗
浄処理におけるスループットを向上させることが可能に
なる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用した第1実施形態の薬液切り替え
弁の構成図である。
【図2】本発明のウエハ洗浄装置の構成図である。
【図3】本発明を適用した第2実施形態の薬液切り替え
弁の構成図である。
【図4】従来の薬液切り替え弁の構成図である。
【符号の説明】
1,3 薬液切り替え弁 2 ウエハ洗浄装置 11,31 薬液導入管 21a,21b… 薬液供給手段 22 洗浄処理室 42a,42b… 開閉弁 43a,43b… 薬液供給管

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 直管形状の薬液導入路と、前記薬液導入
    路に接続された開閉弁と、前記開閉弁を介して当該薬液
    導入路に接続された薬液供給管とを備えた薬液切り替え
    弁において、 前記薬液導入路は、薬液の流通方向下流に向かって開口
    径が狭く形成されていること、 を特徴とする薬液切り替え弁。
  2. 【請求項2】 薬液切り替え弁を介して洗浄処理室に薬
    液供給手段を接続してなるウエハ洗浄装置において、 前記薬液切り替え弁は、直管形状の薬液導入路と、前記
    薬液導入路に接続された複数の開閉弁と、前記開閉弁を
    介して当該薬液導入路に接続された薬液供給管とを備え
    た薬液切り替え弁において、 前記薬液導入路は、薬液の流通方向下流に向かって開口
    径が狭く形成されていること、 を特徴とするウエハ洗浄装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2006214494A (ja) * 2005-02-02 2006-08-17 Sekisui Chem Co Ltd マイクロバルブの流量調節方法
CN117090974A (zh) * 2023-10-18 2023-11-21 海普瑞(常州)洁净系统科技有限公司 用于12英寸晶圆半导体制造的清洗配液阀

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006214494A (ja) * 2005-02-02 2006-08-17 Sekisui Chem Co Ltd マイクロバルブの流量調節方法
CN117090974A (zh) * 2023-10-18 2023-11-21 海普瑞(常州)洁净系统科技有限公司 用于12英寸晶圆半导体制造的清洗配液阀
CN117090974B (zh) * 2023-10-18 2024-01-30 海普瑞(常州)洁净系统科技有限公司 用于12英寸晶圆半导体制造的清洗配液阀

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