JPH10274708A

JPH10274708A - カラーフィルター形成方法

Info

Publication number: JPH10274708A
Application number: JP8010297A
Authority: JP
Inventors: Tsuyoshi Nakano; 強中野; Reiko Sasaki; 玲子笹木; Yoshikatsu Okada; 良克岡田
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 1997-03-31
Filing date: 1997-03-31
Publication date: 1998-10-13

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】カラーフィルターの製造方法（「先付けＢＭ
法」）において、遮光層の部分の上にも着色層が形成さ
れて、カラーフィルターの平坦性が損なわれるというこ
とがない高品位のカラーフィルターを提供する。【解決手段】導電層を有する透明基板上に所定のパター
ン着色層と遮光層を有してなるカラーフィルターを、該
着色層を電着法により形成する際に、遮光層材料を用い
て、透明基板上にあらかじめ遮光層パターンを形成して
おき、その後、着色層を形成する製造方法において、該
遮光層の単位平方センチメートル当たりの電着時抵抗が
１０⁵Ω以上となり、かつ、抵抗測定時の電流値が１ｍ
Ａ以下となるように、焼成温度を下げること、または焼
成時間を短くすること、または遮光層膜厚を大きくする
ことにより、着色層を電着法によって形成する際に、遮
光層の上に着色層が重なって形成されるのを防ぐことを
特徴とするカラーフィルター及びそれを用いた多色表示
装置の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルター
の製造方法、およびそのカラーフィルターを用いる多色
表示装置の製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明
は電着法によってカラーフィルターを製造する方法およ
びそのカラーフィルターを用いて多色表示装置、たとえ
ばカラー液晶表示装置（ＬＣＤ）を製造する方法に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、液晶を利用したＬＣＤは、所謂ポ
ケットテレビ等に使われてきたが、近年大型化、大画面
化が急速に進められている。画質もＴＮ（ｔｗｉｓｔ
ｎｅｍａｔｉｃ）液晶からＳＴＮ（ｓｕｐｅｒ−ｔｗｉ
ｓｔｎｅｍａｔｉｃ）液晶やＴＦＴ（ｔｈｉｎｆｉ
ｌｍｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）に代表されるアクティブ
駆動素子の開発でＣＲＴ（ｃａｔｈｏｄｅ−ｒａｙｔ
ｕｂｅ）に迫るものが商品化されている。ＬＣＤの多色
化に使用されるカラーフィルターは、染色法、顔料分散
法、電着法、印刷法などの方法で製造されることが知ら
れている。これらの方法のうち、特に、電着法によるカ
ラーフィルター製造方法は、導電層を有する基板と対向
電極を電着液槽に浸漬させ、電圧を印加し、熱処理する
だけで精度良く着色層を形成することができる。そのた
め、工程が簡単で、歩留まりが良く、安価にカラーフィ
ルターを製造できるという特長があり、注目されてい
る。

【０００３】電着法を用いたカラーフィルターの製造技
術は、例えば、特開昭５９−１１４５７２号公報に記載
されているように、まず、透明基板上の透明導電層パタ
ーンに、電着現象によって着色層を形成する。必要によ
り、この電着操作を複数回繰り返すことによって多色の
着色層を形成する。次いで、着色層が形成された基板上
に、光硬化性を持った遮光層を基板全面に形成する。該
着色層をフォトマスクとして基板の反対側の裏面から露
光することにより、着色層上以外の部分の遮光層膜を光
硬化させ、着色層以外の間隙部分のみに遮光層を形成す
る。最後に、２００℃〜３００℃の温度で焼成すること
により所望のカラーフィルターを製造することができ
る。

【０００４】しかしながら、このような方法では、遮光
層を格子状などのような複雑な形状にすることが難し
く、また、露光に対して感度の高い遮光層材料や、遮光
性の高い遮光層材料を用いることが難しかった。そのた
め、特開平０７−３５９２０号公報に記載されているよ
うに、感光性を持った遮光層材料を用いて、透明基板上
にあらかじめ遮光層パターンを形成しておき、その後、
着色層を電着法によって形成するというカラーフィルタ
ーの製造方法も行なわれてきた。このような電着法カラ
ーフィルターの製造方法を以下「先付けＢＭ法」と呼ぶ
ことにする。先付けＢＭ法による電着法カラーフィルタ
ーの製造方法を、もう少し詳しく説明する。

【０００５】まず、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の
透明導電層と、その上に、黒色レジスト等の遮光層を有
する、ガラス等の透明基板を準備する。このとき、遮光
層としては従来からよく知られた黒色顔料を高分子材料
に分散させたもの等を用い、所定のパターニングを行な
い、画素部分が窓開けされ、２００℃〜３００℃の温度
で焼成されている。この基板を、所定の温度に保持した
電着液槽内に浸漬する。電着液としては、着色顔料と高
分子材料、有機溶剤等を所定の割合で配合、分散させた
ものを用いる。このとき、電着液槽内には、着色層が形
成される基板と対向して、対向電極が所定の間隔を持っ
て平行に設置される。この対向電極としては、ステンレ
ス板等の導電性プレートが多用されている。

【０００６】基板を電着液槽内に浸漬、固定後、アニオ
ン電着の場合には、基板の導電層側を陽極、対向電極側
を陰極として１０Ｖ〜３００Ｖの電圧を、１秒〜３分間
印加することにより、基板の導電層上に選択的に着色層
が形成される。その後、電着液槽から基板を引き上げ、
洗浄して余分な電着液を洗い流した後、所定の温度で熱
処理する。必要により、この電着操作を複数回繰り返す
ことによって所望の多色カラーフィルターを製造するこ
とができる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の先付け
ＢＭ法に用いられるような、感光性を持った遮光層材料
には、カーボンブラックや金属酸化物系黒色顔料等が主
に使用されており、このような遮光層材料は導電性が高
い傾向にある。そのため、例えば、上記特開平０７−３
５９２０号公報に記載される方法に従って、まず、透明
基板上に、感光性の遮光層を所定のパターンで形成し、
次いで、電着法により着色層を形成する際、先に形成さ
れている遮光層上、すなわち、下に電着用の導電層が存
在するような遮光層の部分の上にも電着による着色層が
形成されて、カラーフィルターの平坦性が損なわれると
いう問題が生じる場合がある。

【０００８】従って、本発明の目的は以上のような課題
を解決することであり、平坦性の優れた、高品質のカラ
ーフィルターを安価に作成できる方法を提供するもので
ある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、導電層を有す
る透明基板上に所定のパターン着色層と遮光層を有して
なるカラーフィルターの該遮光層を形成する際、ある種
の形成条件において、遮光層の上には電着による着色層
が形成されずに平坦性を保ったまま作製されることを見
出し、本発明を完成するに至った。すなわち、下記の
（１）〜（６）に関する。（１）導電層を有する透明基板上に所定のパターン着色
層と遮光層を有してなるカラーフィルターを、該着色層
を電着法により形成する際に、遮光層材料を用いて、透
明基板上にあらかじめ遮光層パターンを形成しておき、
その後、着色層を形成する製造方法において、該遮光層
の単位平方センチメートル当たりの電着時抵抗が１０⁵
Ω以上となり、かつ、抵抗測定時の電流値が１ｍＡ以下
となるように、焼成温度を下げること、または焼成時間
を短くすること、または遮光層膜厚を大きくすることに
より、着色層を電着法によって形成する際に、遮光層の
上に着色層が重なって形成されるのを防ぐことを特徴と
するカラーフィルターの製造方法。（２）着色層を電着法により形成して製造する方法が、
一方の電極として表面に導電層を有し、さらには所定の
パターンの遮光層を有する基板を用い、対向電極として
プレート状導電体を用いて、基板の導電層上に選択的に
着色層を形成する方法であるカラーフィルターの製造方
法。（３）所定のパターンがストライプ状の着色層とそれら
の間隙を埋める遮光層である上記（１）乃至（２）のカ
ラーフィルターの製造方法。（４）所定のパターンが複数の窓状の着色層とそれらの
間隙を埋める窓枠状の遮光層である上記（１）乃至
（２）のカラーフィルターの製造方法。（５）基板上に窓枠状に形成される遮光層の焼成温度
が、２００℃よりも低い温度で、かつ、焼成時間が３０
分以下である上記（１）乃至（４）カラーフィルターの
製造方法。（６）上記（１）乃至（５）に記載の方法により製造さ
れるカラーフィルターを用いる多色表示装置の製造方
法。

【００１０】以下に、本発明を詳細に説明する。

【発明の実施の形態】本発明において、一方の電極とし
て用いる基板は、公知の方法によって作製することがで
きる。例えば、ガラス板あるいはプラスチック板などの
透明基板上に、常法によってＩＴＯ膜（錫をドープした
酸化インジウム膜）あるいはネサ膜（アンチモンドープ
した酸化錫膜）などの透明導電層を形成することによっ
て作製することができる。必要により、透明基板上の透
明導電層はエッチングなどの方法によって、互いに絶縁
された、所望の形状を有する複数の透明導電性回路に形
成することもできる（図１）。

【００１１】このような導電層の抵抗率は特に制限され
ないが低いほどよく、電着層の平坦性を向上するために
は、３０Ω／□以下、好ましくは２０Ω／□、さらに好
ましくは１５Ω／□以下であることが望まれる。また、
基板内での抵抗率分布も均一であるほど好ましい。さら
に、基板の平坦性についても、膜厚分布の良い均一な電
着層を形成するために平坦なほどよい。これらの条件を
満たせば、基板の大きさは制限を受けず、いくらでも大
きな基板のカラーフィルターを作成できる。

【００１２】さらに、基板上の導電層の上および間隙に
遮光層を形成する（図２）。遮光層に用いられる材料と
しては、耐熱性、耐溶剤性等の特性をもった適当な樹
脂、たとえばアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイ
ミド樹脂等に、遮光性のある顔料、たとえばカーボンブ
ラックまたはチタンブラック等を分散させたものを使用
するが、もちろんこれらのものに限定されるものではな
く、遮光性があり、一定のパターニング特性を満たす材
料であれば何でもよい。たとえば、一般に市販されてい
る感光性樹脂ブラック材料でもかまわず、具体的な品名
としては、富士ハントエレクトロニクステクノロジー社
製ＣＫ−２０００（商品名）、東京応化工業社製ＣＦＰ
Ｒ−ＢＫ−５５０Ｓ（商品名）などが挙げられる。

【００１３】遮光層用塗料の塗布方法としては、均一に
塗膜が形成できる方法であれば、特に限定されず、たと
えばスピンコーティング法、ロールコーティング法、、
スクリーン印刷法、バーコーティング法、カーテンコー
ティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。塗布
膜厚の均一性を上げて塗膜を形成する目的からは、好ま
しくは、スピンコーティング法、ロールコーティング法
が用いられる。

【００１４】基板上に形成される遮光層塗膜の膜厚とし
ては、用途によって異なるが、おおよそ０.１〜１０μ
ｍ程度で、着色層との関係から好ましくは１〜３μｍ程
度である。基板上に形成された塗布膜は、必要に応じて
乾燥のため焼成される（プリベーキングと呼ぶ）。この
プリベーキングの条件としては、材料によって異なり、
６０〜９０℃、５〜６０分程度で行なわれる。熱処理を
行なうことにより、顔料分散感光性樹脂に含まれる溶剤
が蒸発し、樹脂が予備硬化され、塗布膜と基板の密着性
が向上する。

【００１５】透明基板上に形成された顔料分散感光性樹
脂膜に対し、基板の膜面からフォトマスクを通して露光
し、フォトマスクに描かれている所定のパターンを感光
性樹脂膜に転写して形成させる。このフォトマスクのパ
ターンとしては、たとえばネガ型の感光性樹脂を露光す
る場合には、塗膜が形成される予定の部分は覆わずそれ
以外の部分を覆うようになっている。そのため、光の当
たった部分が硬化し、それ以外の部分は現像液に溶解し
て除去され、パターンが形成される。また、所定のパタ
ーンとしては、ストライプ状、複数の窓状等が挙げられ
る。

【００１６】さらには、必要であれば、露光後に塗布膜
を熱処理する工程をいれる。これは、露光によって引き
起こされた反応を熱によって促進させ、光が照射された
部分を完全に硬化（または溶解）させる意味がある。こ
の熱処理のことを、ポストエクスポージャーベーク（Ｐ
ＥＢ）というが、ＰＥＢの条件としては、材料によって
も異なるが、６０〜９０℃、５〜６０分程度で行なわれ
る。このＰＥＢプロセスは通常ネガ型感光性樹脂の場合
によく行なわれるが、熱処理を行なうことにより、顔料
分散感光性樹脂が完全に硬化し、塗布膜と基板の密着性
も向上する。

【００１７】露光後の顔料分散感光性樹脂塗膜を現像工
程によりパターンを出現させる（図３）。ネガ型の感光
性樹脂塗膜について説明すると、フォトマスクを通して
光が照射された部分は硬化し、フォトマスクによって光
がさえぎられた部分は硬化反応を起こさない。従って、
光が照射されなかった部分は、適当な溶解力を有する薬
剤、例えば現像液に接触させることにより、溶出し、硬
化した部分だけが残り、塗布膜にパターンが形成され
る。

【００１８】最後に、現像して形成された塗布膜のパタ
ーンを固定させるために、熱処理を行なう。この熱処理
をポストベーキングというが、プリベーキング、ＰＥ
Ｂ、よりも通常、高い温度で焼成を行ない、顔料分散樹
脂膜パターンを固化させ、基板との密着性を上げる目的
がある。

【００１９】しかしながら、本発明では、後の工程での
電着による着色層形成の際、下に導電層が存在する遮光
層部分の上に図５に示されるように着色層が形成される
のを防ぐため、ポストベーキングの条件の温度を低く抑
える。ポストベーキング温度としては、材料によっても
異なるが、通常、２００℃〜２４０℃、５分〜１２０分
程度で行なわれるが、本発明では、これらの温度よりも
低い温度でポストベーキングを行ない、温度としては、
２００℃よりも低い温度、好ましくは、１２０℃よりも
低い温度でポストベーキングを行なう。また、焼成時間
についても短い方が好ましい。さらには、ポストベーキ
ングの焼成条件を変えずに遮光層の膜厚を厚くすること
も可能である。

【００２０】このような高抵抗化した遮光層に対して、
電着法により着色層を形成すると、遮光層上には、まっ
たく着色層が形成されず、平坦性の優れたカラーフィル
ターが得られる。電着法以外のＬＣＤの多色化に使用さ
れるカラーフィルターの製造法である、染色法、顔料分
散法、印刷法等の方法で遮光層を形成しても同様に遮光
層上には、まったく着色層が形成されず、平坦性の優れ
たカラーフィルターが得られる。ここで、基板とブラッ
クマトリックスとの密着性については、後の電着工程後
に、高温での焼成を行なうため、問題は生じない。

【００２１】引き続いて、遮光層パターンに電着法によ
って着色層を形成するが、電着塗膜強度、ブラックマト
リックス密着強度を高めるために、通常２４０〜２８０
℃、１０〜１２０分間の条件で熱処理を行なう。

【００２２】以上のようにして、平坦性の優れたカラー
フィルターが形成される（図４）。また、本発明の方法
によって製造されるカラーフィルターを用い、公知の方
法によって高画質カラーＬＣＤなどの多色表示装置を製
造することができる。

【００２３】

【実施例】以下に本発明を実施例によってさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。

【００２４】実施例１表面に７０μｍ幅のＩＴＯ膜（１５Ω／□）回路が３０
μｍの間隔をおいて（１００μｍピッチ）短冊状に形成
された、縦３４２ｍｍ、横３００ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ
のガラス基板を準備した。

【００２５】この基板の上に、ブラックマトリックス用
の黒色顔料を分散したネガ型レジスト（商品名ＣＦＰＲ
−ＢＫ−７０３Ｓ、東京応化工業社製）をスピンコーテ
ィング法により塗布した。スピンコーターは、共和理研
製、回転数は、１００ｒｐｍ／１０秒、６００ｒｐｍ／
３０秒のシーケンスで行なった。その後、ホットプレー
ト（ＩＵＣＨＩ社製、ＨＩ−２０Ｇ型）で９０℃、３分
乾燥を行なった。

【００２６】この遮光層にフォトマスクを通して露光を
行なった。フォトマスクは、７０μm幅のＩＴＯ回路上
に、窓開け部が形成されるようなパターンを用い、基板
と、フォトマスクの位置合わせを行なって露光した。露
光量は、４００ｍＪ／ｃｍ²とした。

【００２７】露光した遮光層基板を、現像液（東京応化
工業社製Ｎ−Ａ３Ｋ液を５０倍に薄めたもの）に５０秒
間、浸漬、揺動し、未硬化部分を溶出させ、水洗、乾燥
し、窓開け状パターンを出現させた。

【００２８】現像後の遮光層基板を、オーブン（中央理
研製、ＣＳ−８０Ｈ型）で、１５０℃、３０分間熱処理
し、導電層上およびそれ以外の部分に膜厚約１．２μｍ
の遮光層を形成した。

【００２９】公知の方法により、赤、緑、青の顔料をエ
スビアＥＤ−３０００（アニオン性ポリエステル樹脂系
電着用塗料、神東塗料社製）に分散させて、電着用の赤
色、緑色、青色の各電着液を調製した。

【００３０】上記電着液中に、遮光層の窓開けパターン
が形成された基板を設置し、各色電着液で電着を行なっ
た。条件としては、３０℃、４０Ｖ、１０秒間で行な
い、基板を電着液から取り出した後は、十分に水洗し
た。赤、緑、青の各電着液で電着を行ない、ＩＴＯ回路
上に３色の着色層を形成した。この基板を２６０℃、６
０分間焼成、硬化を行ない、膜厚１．１μｍの、３色の
窓状の着色層と、その間隙を埋めるパターンの遮光層を
形成した。

【００３１】また、このとき、遮光層の抵抗値測定用
に、ベタＩＴＯ基板に全面遮光層を同様の条件で形成し
た基板を用意し、電着液中で上記と同様に電圧を印加し
た。このときに流れた電流値（１ｍＡを下回っていた）
から、遮光層の電着時の単位平方センチメートル当たり
の抵抗値を測定すると、１．５×１０⁵（Ω）であっ
た。

【００３２】完成したカラーフィルター基板を触針式膜
厚計（Ｄｅｋｔａｋ１６０００型）で測定したところ、
遮光層の下にＩＴＯ回路が存在する部分の遮光層上に
は、電着による着色層がまったく形成されず、膜厚値の
ピーク・トゥー・ピーク値が、０．１μm以下におさま
るような非常に平坦性のよいカラーフィルターが得られ
ていた。

【００３３】実施例２表面に７０μｍ幅のＩＴＯ膜（１５Ω／□）回路が３０
μｍの間隔をおいて（１００μｍピッチ）短冊状に形成
された、縦３４２ｍｍ、横３００ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ
のガラス基板を準備した。

【００３４】この基板の上に、ブラックマトリックス用
の黒色顔料を分散したネガ型レジスト（商品名ＣＦＰＲ
−ＢＫ−５５０Ｓ、東京応化工業社製）をスピンコーテ
ィング法により塗布した。スピンコーターは、共和理研
製、回転数は、１００ｒｐｍ／１０秒、４００ｒｐｍ／
３０秒のシーケンスで行なった。その後、ホットプレー
ト（ＩＵＣＨＩ社製、ＨＩ−２０Ｇ型）で９０℃、３分
乾燥を行なった。

【００３５】この遮光層にフォトマスクを通して露光を
行なった。フォトマスクは、７０μm幅のＩＴＯ回路上
に、窓開け部が形成されるようなパターンを用い、基板
と、フォトマスクの位置合わせを行なって露光した。露
光量は、５００ｍＪ／ｃｍ²とした。

【００３６】露光した遮光層基板を、現像液（東京応化
工業社製Ｎ−Ａ３Ｋ液を５０倍に薄めたもの）に５０秒
間、浸漬、揺動し、未硬化部分を溶出させ、水洗、乾燥
し、窓開け状パターンを出現させた。

【００３７】現像後の遮光層基板を、オーブン（中央理
研製、ＣＳ−８０Ｈ型）で、１２０℃、２０分間熱処理
し、導電層上およびそれ以外の部分に膜厚約１．６μｍ
の遮光層を形成した。

【００３８】公知の方法により、赤、緑、青の顔料をエ
スビアＥＤ−３０００（アニオン性ポリエステル樹脂系
電着用塗料、神東塗料社製）に分散させて、電着用の赤
色、緑色、青色の各電着液を調製した。

【００３９】上記電着液中に、遮光層の窓開けパターン
が形成された基板を設置し、各色電着液で電着を行なっ
た。条件としては、３０℃、６０Ｖ、１０秒間で行な
い、基板を電着液から取り出した後は、十分に水洗し
た。赤、緑、青の各電着液で電着を行ない、ＩＴＯ回路
上に３色の着色層を形成した。この基板を２６０℃、６
０分間焼成、硬化を行ない、膜厚１．１μｍの、３色の
窓状の着色層と、その間隙を埋めるパターンの遮光層を
形成した。

【００４０】また、このとき、遮光層の抵抗値測定用
に、ベタＩＴＯ基板に全面遮光層を同様の条件で形成し
た基板を用意し、電着液中で上記と同様に電圧を印加し
た。このときに流れた電流値（１ｍＡを下回っていた）
から、遮光層の電着時の単位平方センチメートル当たり
の抵抗値を測定すると、２．２×１０⁵（Ω／ｃｍ²）で
あった。

【００４１】完成したカラーフィルター基板を触針式膜
厚計（Ｄｅｋｔａｋ１６０００型）で測定したところ、
遮光層の下にＩＴＯ回路が存在する部分の遮光層上に
は、電着による着色層がまったく形成されず、膜厚値の
ピーク・トゥ−・ピーク値が、０．１μｍ以下におさま
るような非常に平坦性のよいカラーフィルターが得られ
ていた。

【００４２】比較例露光、現像後の遮光層パターンの熱処理温度を２４０
℃、６０分とする以外は、上記実施例２と同様に、カラ
ーフィルター基板を作成した。

【００４３】また、上記実施例と同様に、ベタＩＴＯ基
板に全面遮光層を形成した基板を用い、同様に遮光層の
電着時の単位平方センチメートル当たりの抵抗値を測定
すると、１．９×１０⁴（Ω）であった。

【００４４】完成したカラーフィルター基板を同様に触
針式膜厚計で測定したところ、遮光層の下にＩＴＯ回路
が存在する部分の遮光層上には、電着による着色層が
０．８μｍ程度形成され、膜厚値のピーク・トゥー・ピ
ーク値が、１．０μｍ以上あり、平坦性が悪かった。

【００４５】

【発明の効果】本発明の方法は、膜の平坦性が良く、画
面のコントラストが良好な、高品質のカラーフィルター
を、高い歩留まりで安価に製造することができ、特に、
遮光層材料や電着条件の変動が、膜の平坦性に影響を及
ぼした場合に有用である。また、本発明の方法によって
製造されるカラーフィルターを用いて、高精彩なカラー
ＬＣＤなどの多色表示装置を製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】複数の透明導電性回路が形成された基板を説明
する断面の模式図である。

【図２】複数の透明導電性回路上に遮光層が塗布された
基板を説明する断面の模式図である。

【図３】複数の透明導電性回路上に遮光層パターンが形
成された基板を説明する断面の模式図である。

【図４】本発明の方法によって作成されたカラーフィル
ター基板を説明する断面の模式図である。

【図５】下に導電性回路が存在する遮光層部分の上に、
着色層が重なって形成されたカラーフィルター基板を説
明する断面の模式図である。

【符号の説明】

１．透明基板２．透明導電性回路３．遮光層４．着色層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】導電層を有する透明基板上に所定のパター
ン着色層と遮光層を有してなるカラーフィルターを、該
着色層を電着法により形成する際に、遮光層材料を用い
て、透明基板上にあらかじめ遮光層パターンを形成して
おき、その後、着色層を形成する製造方法において、該
遮光層の単位平方センチメートル当たりの電着時抵抗が
１０⁵Ω以上となり、かつ、抵抗測定時の電流値が１ｍ
Ａ以下となるように、焼成温度を下げること、または焼
成時間を短くすること、または遮光層膜厚を大きくする
ことにより、着色層を電着法によって形成する際に、遮
光層の上に着色層が重なって形成されるのを防ぐことを
特徴とするカラーフィルターの製造方法。
【請求項２】着色層を電着法により形成して製造する方
法が、一方の電極として表面に導電層を有し、さらには
所定のパターンの遮光層を有する基板を用い、対向電極
としてプレート状導電体を用いて、基板の導電層上に選
択的に着色層を形成する方法である請求項１記載の製造
方法。
【請求項３】所定のパターンがストライプ状の着色層と
それらの間隙を埋める遮光層である請求項１乃至２に記
載の製造方法。
【請求項４】所定のパターンが複数の窓状の着色層とそ
れらの間隙を埋める窓枠状の遮光層である請求項１乃至
２に記載の製造方法。
【請求項５】基板上に窓枠状に形成される遮光層の焼成
温度が、２００℃よりも低い温度で、かつ、焼成時間が
３０分以下である請求項１乃至４記載の製造方法。
【請求項６】請求項１乃至５に記載の方法により製造さ
れるカラーフィルターを用いることを特徴とする多色表
示装置の製造方法。